JP2015075506A - Optical scanner, manufacturing method therefor, image display device, and head-mounted display - Google Patents

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JP2015075506A JP2013209607A JP2013209607A JP2015075506A JP 2015075506 A JP2015075506 A JP 2015075506A JP 2013209607 A JP2013209607 A JP 2013209607A JP 2013209607 A JP2013209607 A JP 2013209607A JP 2015075506 A JP2015075506 A JP 2015075506A
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Japan
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underlayer
permanent magnet
brazing material
axis
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幸秀 山野
Yukihide Yamano
幸秀 山野
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical scanner and a manufacturing method therefor which facilitate a process of bonding a permanent magnet and a frame body portion together with less man-hour and fewer costs, and to provide an image display device and head-mounted display.SOLUTION: A scanner 4 has a frame body portion 43 whose bottom surface has a base layer 432 having better wettability to a metallic brazing material 47a than the frame body portion 43. A permanent magnet 48 is covered with a base layer 481 having better wettability to the metallic brazing material 47a than the permanent magnet 48, and the base layer 481 is provided on top thereof with a cover layer 482 having less wettability to the metallic brazing material 47a than the base layer 481. Portions of the base layer 481 are exposed from the cover layer 482, and the exposed portions 481a and the base layer 432 are bonded together by a bonding layer 47.

Description

本発明は、光スキャナー、光スキャナーの製造方法、画像表示装置およびヘッドマウントディスプレイに関するものである。   The present invention relates to an optical scanner, an optical scanner manufacturing method, an image display device, and a head mounted display.

例えば、スクリーンに画像を表示する画像表示装置として、光源と、光源からの光を走査する光スキャナーとを有する構成が知られている(例えば、特許文献1参照)。特許文献1に記載の画像表示装置は、3つのレーザー光源と、3つのレーザー光源からのレーザー光を合成する合成部と、合成部により合成されたレーザー光を走査する光スキャナーとを有している。   For example, as an image display device that displays an image on a screen, a configuration having a light source and an optical scanner that scans light from the light source is known (see, for example, Patent Document 1). The image display device described in Patent Literature 1 includes three laser light sources, a combining unit that combines laser beams from the three laser light sources, and an optical scanner that scans the laser beams combined by the combining unit. Yes.

また、引用文献1に記載の光スキャナーは、光反射部を有する可動部と、可動部の周囲に設けられた枠状の枠体部と、枠体部の周囲に設けられた枠状の支持部と、可動部と枠体部とを接続し、可動部を枠体部に対して第1の軸まわりに揺動可能に支持する第1の軸部と、枠体部と支持部とを接続し、枠体部を支持部に対して第1の軸に交差する第2の軸まわりに揺動可能に支持する第2の軸部と、半田によって枠体部に固定され、S極とN極とを結ぶ線分が第1、第2の軸の両軸に対して傾斜している永久磁石とを有している。また、枠体部と半田との間(枠体部の永久磁石側の面)には、半田に対する濡れ性が枠体部よりも高い第1の下地層が形成され、半田と永久磁石との間(永久磁石の枠体部側の面)には、半田に対する濡れ性が永久磁石よりも高い第2の下地層が形成されており、これら第1の下地層および第2の下地層は、互いに同じ形状をなしている。そのため、半田を用いて、永久磁石と枠体部とを高い位置精度で接合することができる。   Further, the optical scanner described in the cited document 1 includes a movable part having a light reflecting part, a frame-like frame part provided around the movable part, and a frame-like support provided around the frame part. A first shaft portion that connects the movable portion to the frame body portion so as to be swingable about the first axis, and the frame body portion and the support portion. A second shaft portion connected to the support portion so as to be swingable about a second axis intersecting the first axis with respect to the support portion, and fixed to the frame portion by solder, A line segment connecting the N poles has a permanent magnet inclined with respect to both the first and second axes. In addition, a first ground layer having higher wettability with respect to the solder than the frame body portion is formed between the frame body portion and the solder (the surface of the frame body portion on the permanent magnet side). A second underlayer having higher wettability with respect to solder than the permanent magnet is formed in the space (the surface on the frame side of the permanent magnet). These first underlayer and second underlayer are: They have the same shape. Therefore, it is possible to join the permanent magnet and the frame portion with high positional accuracy using solder.

しかしながら、本技術分野に用いられる一般的な永久磁石には、その表面に予め防錆めっきが施されており、この防錆めっきは、一般的に半田に対する濡れ性が永久磁石よりも高い。そのため、このような永久磁石を特許文献1の光スキャナーに適用しようとすると、防錆めっき上に、半田に対する濡れ性が防錆めっきよりも低い下地層を形成し、その上に、上述した第2の下地層を形成しなければならず、製造工程の増加、煩雑化を招いてしまう。   However, a general permanent magnet used in this technical field has a rust preventive plating on the surface in advance, and this rust preventive plating generally has higher wettability to solder than a permanent magnet. Therefore, when trying to apply such a permanent magnet to the optical scanner of Patent Document 1, a base layer having lower wettability with respect to solder than rust-proof plating is formed on the rust-proof plating. 2 underlayers must be formed, resulting in increased manufacturing steps and complications.

特開2013−104880号公報JP 2013-104880 A

本発明の目的は、製造工数や製造コストを低減しつつ、永久磁石と枠体部とを容易に接合することのできる光スキャナー、光スキャナーの製造方法、画像表示装置およびヘッドマウントディスプレイを提供することにある。   An object of the present invention is to provide an optical scanner, an optical scanner manufacturing method, an image display device, and a head-mounted display that can easily join a permanent magnet and a frame body portion while reducing manufacturing man-hours and manufacturing costs. There is.

このような目的は、下記の適用例により達成される。
本発明の光スキャナーは、光を反射する光反射部を備える可動部と、
枠体部と、
前記可動部と前記枠体部とを接続し、前記可動部を前記枠体部に対して第1の軸まわりに揺動可能に支持する第1の軸部と、
前記枠体部を前記第1の軸に交差する第2の軸まわりに揺動可動に支持する第2の軸部と、
金属ろう材からなる接合層を介して前記枠体部に固定され、一方の磁極と他方の磁極とを結ぶ線分が前記第1の軸および前記第2の軸に対して傾斜している永久磁石と、
前記枠体部の前記永久磁石と対向する面上に設けられ、前記枠体部よりも前記金属ろう材に対する濡れ性が高い第1の下地層と、
前記永久磁石の前記枠体部と対向する面上に設けられ、前記永久磁石よりも前記金属ろう材に対する濡れ性が高い第2の下地層と、
前記第2の下地層上に、前記第2の下地層の前記第1の下地層と対向する部分を露出させるようにして設けられ、前記第2の下地層よりも前記金属ろう材に対する濡れ性が低い被覆層と、を有し、
前記接合層は、前記第1の下地層と、前記第2の下地層の前記被覆層から露出した露出部と、を接合していることを特徴とする。
これにより、例えば、永久磁石に予め施されている防錆めっきを第2の下地層として用いることができるので、製造工数や製造コストを低減しつつ、永久磁石と枠体部とを容易に接合することのできる光スキャナーとなる。
Such an object is achieved by the following application examples.
The optical scanner of the present invention includes a movable part including a light reflecting part that reflects light,
A frame part;
A first shaft portion that connects the movable portion and the frame body portion, and supports the movable portion so as to be swingable about a first axis with respect to the frame body portion;
A second shaft portion that slidably supports the frame body portion around a second axis that intersects the first axis;
Permanently fixed to the frame body through a bonding layer made of a metal brazing material, and a line segment connecting one magnetic pole and the other magnetic pole is inclined with respect to the first axis and the second axis. Magnets,
A first base layer provided on a surface of the frame body portion facing the permanent magnet, and having higher wettability to the metal brazing material than the frame body portion;
A second underlayer provided on a surface of the permanent magnet facing the frame portion, and having higher wettability to the metal brazing material than the permanent magnet;
Provided on the second underlayer so as to expose a portion of the second underlayer facing the first underlayer, and wettability to the metal brazing material more than the second underlayer. And a low coating layer,
The bonding layer is characterized in that the first base layer and an exposed portion of the second base layer exposed from the coating layer are bonded.
Thereby, for example, the rust-proof plating previously applied to the permanent magnet can be used as the second underlayer, so that the permanent magnet and the frame body portion can be easily joined while reducing the number of manufacturing steps and the manufacturing cost. It becomes an optical scanner that can do.

本発明の光スキャナーでは、前記第1の下地層と前記露出部とが同じ平面視形状をなしていることが好ましい。
これにより、金属ろう材のセルフアライメント効果によって、枠体部と永久磁石とを高い精度で位置決めすることができる。
本発明の光スキャナーでは、前記枠体部は、前記枠体部の前記永久磁石に対向する面上にリブを有し、
前記リブの前記永久磁石と対向する面上に前記第1の下地層が設けられていることが好ましい。
これにより、リブが枠体部の剛性を高める補強材として機能するとともに、可動部と永久磁石との接触を防止するスペーサーとしても機能するため、優れた振動特性を発揮する光スキャナーとなる。
In the optical scanner according to the aspect of the invention, it is preferable that the first base layer and the exposed portion have the same planar view shape.
Thereby, a frame part and a permanent magnet can be positioned with high precision by the self-alignment effect of a metal brazing material.
In the optical scanner of the present invention, the frame body portion has a rib on a surface of the frame body portion facing the permanent magnet,
It is preferable that the first underlayer is provided on a surface of the rib facing the permanent magnet.
Accordingly, the rib functions as a reinforcing material that increases the rigidity of the frame body portion, and also functions as a spacer that prevents contact between the movable portion and the permanent magnet. Therefore, the optical scanner exhibits excellent vibration characteristics.

本発明の光スキャナーでは、前記被覆層は、前記リブの側面に当接していることが好ましい。
これにより、枠体部と永久磁石との位置決めをさらに精度よく行うことができる。
本発明の光スキャナーでは、前記金属ろう材は、半田であることが好ましい。
これにより、取扱いが容易な接合層となる。
In the optical scanner according to the aspect of the invention, it is preferable that the coating layer is in contact with a side surface of the rib.
Thereby, positioning with a frame part and a permanent magnet can be performed still more accurately.
In the optical scanner of the present invention, it is preferable that the metal brazing material is solder.
Thereby, it becomes a joining layer with easy handling.

本発明の光スキャナーでは、前記被覆層は、前記第2の下地層よりも光の反射率が低いことが好ましい。
これにより、迷光の発生を抑制することができる。
本発明の光スキャナーでは、前記被覆層は、クロムで構成されていることが好ましい。
これにより、簡単な構成で迷光の発生を抑制することができる。
本発明の光スキャナーでは、前記被覆層は、アルミニウムまたはチタンで構成されていることが好ましい。
これにより、簡単な構成の被覆層が得られる。
In the optical scanner according to the aspect of the invention, it is preferable that the coating layer has a light reflectance lower than that of the second underlayer.
Thereby, generation | occurrence | production of a stray light can be suppressed.
In the optical scanner of the present invention, it is preferable that the coating layer is made of chromium.
Thereby, generation | occurrence | production of a stray light can be suppressed with a simple structure.
In the optical scanner of the present invention, it is preferable that the coating layer is made of aluminum or titanium.
Thereby, the coating layer of a simple structure is obtained.

本発明の光スキャナーでは、前記第2の下地層は、さらに前記永久磁石の側面上に設けられ、
前記被覆層は、前記永久磁石の側面上に設けられた前記第2の下地層の、前記露出部の外縁と接続されている部分上に設けられていることが好ましい。
これにより、金属ろう材が永久磁石の側面にまで濡れ広がってしまうことを防止できるため、枠体部と永久磁石との位置決めをより精度よく行うことができる。
In the optical scanner of the present invention, the second underlayer is further provided on a side surface of the permanent magnet,
The covering layer is preferably provided on a portion of the second underlayer provided on the side surface of the permanent magnet that is connected to the outer edge of the exposed portion.
Thereby, since it can prevent that a metal brazing material spreads to the side surface of a permanent magnet, positioning of a frame part and a permanent magnet can be performed more accurately.

本発明の光スキャナーの製造方法は、光を反射する光反射部を備える可動部、枠体部、前記可動部と前記枠体部とを接続し、前記可動部を前記枠体部に対して第1の軸まわりに揺動可能に支持する第1の軸部、前記枠体部を前記第1の軸に交差する第2の軸まわりに揺動可動に支持する第2の軸部、金属ろう材からなる接合層を介して前記枠体部に固定され、一方の磁極と他方の磁極とを結ぶ線分が前記第1の軸および前記第2の軸に対して傾斜している永久磁石、を有する光スキャナーの製造方法であって、
前記可動部、前記枠体部、前記第1の軸部、前記第2の軸部、前記枠体部に設けられ、前記枠体部よりも前記金属ろう材に対する濡れ性が高い第1の下地層、を有するミラー構造体を得るとともに、
前記永久磁石、前記永久磁石よりも前記金属ろう材に対する濡れ性が高い第2の下地層、前記第2の下地層の一部を露出させるようにして設けられ、前記第2の下地層よりも前記金属ろう材に対する濡れ性が低い被覆層、を有する磁石構造体を得る工程と、
前記第1の下地層と前記第2の下地層の前記被覆部から露出している露出部とが対向し、かつ、前記第1の下地層と前記露出部との間に前記金属ろう材が配置された状態で前記ミラー構造体と前記磁石構造体とを重ね合わせ、前記金属ろう材を溶融させることで前記ミラー構造体と前記磁石構造体とを接合する工程とを有することを特徴とする。
これにより、例えば、永久磁石に予め施されている防錆めっきを第2の下地層として用いることができるので、製造工数や製造コストを低減しつつ、永久磁石と枠体部とを容易に接合することができる。
The method of manufacturing an optical scanner according to the present invention includes a movable part having a light reflecting part that reflects light, a frame part, the movable part and the frame part being connected, and the movable part being connected to the frame part. A first shaft portion that is swingably supported around a first axis, a second shaft portion that is swingably supported around a second axis that intersects the first axis, and a metal; A permanent magnet fixed to the frame body part via a bonding layer made of brazing material, and a line segment connecting one magnetic pole and the other magnetic pole is inclined with respect to the first axis and the second axis A method for manufacturing an optical scanner, comprising:
A first lower portion that is provided on the movable portion, the frame body portion, the first shaft portion, the second shaft portion, and the frame body portion and has higher wettability with respect to the metal brazing material than the frame body portion. While obtaining a mirror structure having a formation,
The permanent magnet, the second underlayer having higher wettability with respect to the metal brazing material than the permanent magnet, and a part of the second underlayer are provided to be exposed, than the second underlayer. Obtaining a magnet structure having a coating layer with low wettability to the metal brazing material;
The exposed portion exposed from the covering portion of the first underlayer and the second underlayer faces each other, and the metal brazing material is interposed between the first underlayer and the exposed portion. The mirror structure and the magnet structure are superposed in an arranged state, and the metal brazing material is melted to join the mirror structure and the magnet structure. .
Thereby, for example, the rust-proof plating previously applied to the permanent magnet can be used as the second underlayer, so that the permanent magnet and the frame body portion can be easily joined while reducing the number of manufacturing steps and the manufacturing cost. can do.

本発明の画像表示装置は、光を反射する光反射部を備える可動部と、
枠体部と、
前記可動部と前記枠体部とを接続し、前記可動部を前記枠体部に対して第1の軸まわりに揺動可能に支持する第1の軸部と、
前記枠体部を前記第1の軸に交差する第2の軸まわりに揺動可動に支持する第2の軸部と、
金属ろう材からなる接合層を介して前記枠体部に固定され、一方の磁極と他方の磁極とを結ぶ線分が前記第1の軸および前記第2の軸に対して傾斜している永久磁石と、
前記枠体部の前記永久磁石と対向する面上に設けられ、前記枠体部よりも前記金属ろう材に対する濡れ性が高い第1の下地層と、
前記永久磁石の前記枠体部と対向する面上に設けられ、前記永久磁石よりも前記金属ろう材に対する濡れ性が高い第2の下地層と、
前記第2の下地層上に、前記第2の下地層の前記第1の下地層と対向する部分を露出させるようにして設けられ、前記第2の下地層よりも前記金属ろう材に対する濡れ性が低い被覆層と、を有し、
前記接合層は、前記第1の下地層と前記第2の下地層の前記被覆層から露出した露出部とを接合していることを特徴とする。
これにより、例えば、永久磁石に予め施されている防錆めっきを第2の下地層として用いることができるので、製造工数や製造コストを低減しつつ、永久磁石と枠体部とを容易に接合することのできる画像表示装置となる。
The image display device of the present invention includes a movable part including a light reflecting part that reflects light,
A frame part;
A first shaft portion that connects the movable portion and the frame body portion, and supports the movable portion so as to be swingable about a first axis with respect to the frame body portion;
A second shaft portion that slidably supports the frame body portion around a second axis that intersects the first axis;
Permanently fixed to the frame body through a bonding layer made of a metal brazing material, and a line segment connecting one magnetic pole and the other magnetic pole is inclined with respect to the first axis and the second axis. A magnet,
A first base layer provided on a surface of the frame body portion facing the permanent magnet, and having higher wettability to the metal brazing material than the frame body portion;
A second underlayer provided on a surface of the permanent magnet facing the frame portion, and having higher wettability to the metal brazing material than the permanent magnet;
Provided on the second underlayer so as to expose a portion of the second underlayer facing the first underlayer, and wettability to the metal brazing material more than the second underlayer. And a low coating layer,
The bonding layer bonds the first underlayer and the exposed portion of the second underlayer exposed from the coating layer.
Thereby, for example, the rust-proof plating previously applied to the permanent magnet can be used as the second underlayer, so that the permanent magnet and the frame body portion can be easily joined while reducing the number of manufacturing steps and the manufacturing cost. It becomes an image display device that can do.

本発明のヘッドマウントディスプレイは、観察者の頭部に装着されるフレームと、
前記フレームに設けられた光スキャナーと、を備えたヘッドマウントディスプレイであって、
前記光スキャナーは、光を反射する光反射部を備える可動部と、
枠体部と、
前記可動部と前記枠体部とを接続し、前記可動部を前記枠体部に対して第1の軸まわりに揺動可能に支持する第1の軸部と、
前記枠体部を前記第1の軸に交差する第2の軸まわりに揺動可動に支持する第2の軸部と、
金属ろう材からなる接合層を介して前記枠体部に固定され、一方の磁極と他方の磁極とを結ぶ線分が前記第1の軸および前記第2の軸に対して傾斜している永久磁石と、
前記枠体部の前記永久磁石と対向する面上に設けられ、前記枠体部よりも前記金属ろう材に対する濡れ性が高い第1の下地層と、
前記永久磁石の前記枠体部と対向する面上に設けられ、前記永久磁石よりも前記金属ろう材に対する濡れ性が高い第2の下地層と、
前記第2の下地層上に、前記第2の下地層の前記第1の下地層と対向する部分を露出させるようにして設けられ、前記第2の下地層よりも前記金属ろう材に対する濡れ性が低い被覆層と、を有し、
前記接合層は、前記第1の下地層と前記第2の下地層の前記被覆層から露出した露出部とを接合していることを特徴とする。
これにより、信頼性の高いヘッドマウントディスプレイが得られる。
The head-mounted display of the present invention includes a frame attached to the observer's head,
A head-mounted display comprising an optical scanner provided on the frame,
The optical scanner includes a movable part including a light reflecting part that reflects light;
A frame part;
A first shaft portion that connects the movable portion and the frame body portion, and supports the movable portion so as to be swingable about a first axis with respect to the frame body portion;
A second shaft portion that slidably supports the frame body portion around a second axis that intersects the first axis;
Permanently fixed to the frame body through a bonding layer made of a metal brazing material, and a line segment connecting one magnetic pole and the other magnetic pole is inclined with respect to the first axis and the second axis. A magnet,
A first base layer provided on a surface of the frame body portion facing the permanent magnet, and having higher wettability to the metal brazing material than the frame body portion;
A second underlayer provided on a surface of the permanent magnet facing the frame portion, and having higher wettability to the metal brazing material than the permanent magnet;
Provided on the second underlayer so as to expose a portion of the second underlayer facing the first underlayer, and wettability to the metal brazing material more than the second underlayer. And a low coating layer,
The bonding layer bonds the first underlayer and the exposed portion of the second underlayer exposed from the coating layer.
Thereby, a highly reliable head mounted display is obtained.

本発明の画像表示装置の第1実施形態を示す構成図である。It is a block diagram which shows 1st Embodiment of the image display apparatus of this invention. 図1に示す画像表示装置が備える光スキャナーの上面図である。It is a top view of the optical scanner with which the image display apparatus shown in FIG. 1 is provided. 図2中のA−A線断面図である。It is the sectional view on the AA line in FIG. 図2中のB−B線断面図である。It is the BB sectional view taken on the line in FIG. 図2に示す光スキャナーが有する枠体部の下面図と永久磁石の上面図である。FIG. 3 is a bottom view of a frame body part and a top view of a permanent magnet included in the optical scanner shown in FIG. 2. 図2に示す光スキャナーの変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the modification of the optical scanner shown in FIG. 図2に示す光スキャナーが有する電圧印加手段のブロック図である。It is a block diagram of the voltage application means which the optical scanner shown in FIG. 2 has. 図7に示す第1の電圧発生部および第2の電圧発生部での発生電圧の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the voltage generated in the 1st voltage generation part shown in FIG. 7, and a 2nd voltage generation part. 本発明の第2実施形態にかかる画像表示装置が備える光スキャナーの断面図である。It is sectional drawing of the optical scanner with which the image display apparatus concerning 2nd Embodiment of this invention is provided. 本発明の第3実施形態にかかる画像表示装置が備える光スキャナーの断面図である。It is sectional drawing of the optical scanner with which the image display apparatus concerning 3rd Embodiment of this invention is provided. 図2に示す光スキャナーの製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the optical scanner shown in FIG. 図2に示す光スキャナーの製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the optical scanner shown in FIG. 図2に示す光スキャナーの製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the optical scanner shown in FIG. 本発明の画像表示装置を応用したヘッドアップディスプレイを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the head-up display which applied the image display apparatus of this invention. 本発明のヘッドマウントディスプレイを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the head mounted display of this invention.

以下、本発明の光スキャナー、光スキャナーの製造方法、画像表示装置およびヘッドマウントディスプレイの好適な実施形態について、添付図面を参照しつつ説明する。
1.画像表示装置
<第1実施形態>
まず、本発明の光スキャナーを適用した画像表示装置(本発明の画像表示装置)の第1実施形態について説明する。
DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of an optical scanner, a manufacturing method of an optical scanner, an image display device, and a head mounted display of the invention will be described with reference to the accompanying drawings.
1. Image Display Device <First Embodiment>
First, a first embodiment of an image display device (an image display device of the present invention) to which an optical scanner of the present invention is applied will be described.

図1は、本発明の画像表示装置の第1実施形態を示す構成図である。図2は、図1に示す画像表示装置が備える光スキャナーの上面図である。図3は、図2中のA−A線断面図である。図4は、図2中のB−B線断面図である。図5は、図2に示す光スキャナーが有する枠体部の下面図と永久磁石の上面図である。図6は、図2に示す光スキャナーの変形例を示す断面図である。図7は、図2に示す光スキャナーが有する電圧印加手段のブロック図である。図8は、図7に示す第1の電圧発生部および第2の電圧発生部での発生電圧の一例を示す図である。なお、以下では、説明の便宜上、図2の紙面手前側および図3の上側を「上」と言い、図2の紙面奥側および図3の下側を「下」と言う。   FIG. 1 is a configuration diagram showing a first embodiment of an image display device of the present invention. FIG. 2 is a top view of the optical scanner provided in the image display apparatus shown in FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line BB in FIG. FIG. 5 is a bottom view of a frame body part and a top view of a permanent magnet included in the optical scanner shown in FIG. 6 is a cross-sectional view showing a modification of the optical scanner shown in FIG. FIG. 7 is a block diagram of voltage applying means included in the optical scanner shown in FIG. FIG. 8 is a diagram illustrating an example of a voltage generated in the first voltage generation unit and the second voltage generation unit illustrated in FIG. 7. In the following, for convenience of explanation, the front side of the sheet of FIG. 2 and the upper side of FIG. 3 are referred to as “up”, and the back side of the sheet of FIG. 2 and the lower side of FIG.

図1に示す画像表示装置1は、スクリーン、壁面などの対象物10に描画用レーザー光LLを2次元的に走査することにより画像を表示する装置である。
図1および図4に示すように、画像表示装置1は、描画用レーザー光LLを出射する描画用光源ユニット2と、描画用レーザー光LLを走査する光スキャナー4と、光スキャナー4で走査した描画用レーザー光LLを反射させるミラー11とを有している。なお、ミラー11は、必要に応じて設ければよく、省略してもよい。
An image display apparatus 1 shown in FIG. 1 is an apparatus that displays an image by two-dimensionally scanning a drawing laser beam LL on an object 10 such as a screen or a wall surface.
As shown in FIGS. 1 and 4, the image display apparatus 1 scans with a drawing light source unit 2 that emits a drawing laser beam LL, an optical scanner 4 that scans the drawing laser beam LL, and the optical scanner 4. And a mirror 11 that reflects the drawing laser beam LL. The mirror 11 may be provided as necessary and may be omitted.

≪描画用光源ユニット≫
図1に示すように、描画用光源ユニット2は、赤色、緑色、青色、各色のレーザー光源(光源部)21R、21G、21Bと、レーザー光源21R、21G、21Bに対応して設けられたコリメーターレンズ22R、22G、22Bおよびダイクロイックミラー23R、23G、23Bと、を備えている。
≪Light source unit for drawing≫
As shown in FIG. 1, the drawing light source unit 2 includes red, green, blue, and laser light sources (light source units) 21R, 21G, and 21B for each color and collimators provided corresponding to the laser light sources 21R, 21G, and 21B. Meter lenses 22R, 22G, and 22B and dichroic mirrors 23R, 23G, and 23B.

レーザー光源21R、21G、21Bは、それぞれ、図示しない光源と駆動回路とを有している。そして、レーザー光源21Rは、赤色のレーザー光RRを射出し、レーザー光源21Gは、緑色のレーザー光GGを出射し、レーザー光源21Bは、青色のレーザー光BBを出射する。レーザー光RR、GG、BBは、それぞれ、図示しない制御部から送信される駆動信号に対応して出射され、コリメーターレンズ22R、22G、22Bによって平行光または略平行光にされる。レーザー光源21R、21G、21Bとしては、例えば、端面発光半導体レーザー、面発光半導体レーザーなどの半導体レーザーを用いることができる。半導体レーザーを用いることにより、レーザー光源21R、21G、21Bの小型化を図ることができる。   Each of the laser light sources 21R, 21G, and 21B has a light source and a drive circuit (not shown). The laser light source 21R emits red laser light RR, the laser light source 21G emits green laser light GG, and the laser light source 21B emits blue laser light BB. The laser beams RR, GG, and BB are emitted in response to drive signals transmitted from a control unit (not shown), and are converted into parallel light or substantially parallel light by the collimator lenses 22R, 22G, and 22B. As the laser light sources 21R, 21G, and 21B, for example, a semiconductor laser such as an edge emitting semiconductor laser or a surface emitting semiconductor laser can be used. By using a semiconductor laser, the laser light sources 21R, 21G, and 21B can be downsized.

このようなレーザー光源21R、21G、21Bの配置に倣って、ダイクロイックミラー23R、23G、23Bが配置されている。ダイクロイックミラー23Rは、レーザー光RRを反射する特性を有している。ダイクロイックミラー23Gは、レーザー光GGを反射するとともに、レーザー光RRを透過する特性を有している。ダイクロイックミラー23Bは、レーザー光BBを反射するとともに、レーザー光RR、GGを透過する特性を有している。これらダイクロイックミラー23R、23G、23Bによって、各色のレーザー光RR、GG、BBが合成されて描画用レーザー光LLとなる。   Dichroic mirrors 23R, 23G, and 23B are arranged following the arrangement of the laser light sources 21R, 21G, and 21B. The dichroic mirror 23R has a characteristic of reflecting the laser light RR. The dichroic mirror 23G has a characteristic of reflecting the laser beam GG and transmitting the laser beam RR. The dichroic mirror 23B has a characteristic of reflecting the laser beam BB and transmitting the laser beams RR and GG. By these dichroic mirrors 23R, 23G, and 23B, the laser beams RR, GG, and BB of the respective colors are combined to become a drawing laser beam LL.

≪光スキャナー≫
光スキャナー4は、描画用光源ユニット2から出射された描画用レーザー光LLを2次元走査する機能を有している。
図2ないし図5に示すように、光スキャナー4は、構造体40と、永久磁石48と、コイル491と、電圧印加部492とを備えている。
≪Optical scanner≫
The optical scanner 4 has a function of two-dimensionally scanning the drawing laser beam LL emitted from the drawing light source unit 2.
As shown in FIGS. 2 to 5, the optical scanner 4 includes a structure 40, a permanent magnet 48, a coil 491, and a voltage application unit 492.

また、構造体40は、可動部41と、1対の第1の軸部421、422と、枠体部43と、1対の第2の軸部441、442と、支持部45とを有している。これら部位のうち、可動部41、第1の軸部421、422は、第1の軸部421、422を軸として第1の軸J1まわりに揺動する第1の振動系を構成する。また、可動部41、第1の軸部421、422、枠体部43、第2の軸部441、442および永久磁石48は、第1の軸J1に直交(交差)する第2の軸J2まわりに揺動する第2の振動系を構成する。また、永久磁石48、コイル491および電圧印加部492は、第1、第2の振動系を駆動させる駆動手段を構成する。   The structure 40 includes a movable portion 41, a pair of first shaft portions 421 and 422, a frame body portion 43, a pair of second shaft portions 441 and 442, and a support portion 45. doing. Among these portions, the movable portion 41 and the first shaft portions 421 and 422 constitute a first vibration system that swings around the first axis J1 about the first shaft portions 421 and 422. In addition, the movable portion 41, the first shaft portions 421 and 422, the frame body portion 43, the second shaft portions 441 and 442, and the permanent magnet 48 are the second axis J2 that is orthogonal to (intersects) the first axis J1. A second vibration system that swings around is configured. In addition, the permanent magnet 48, the coil 491, and the voltage application unit 492 constitute a driving unit that drives the first and second vibration systems.

可動部41は、基部411と、基部411の上面に設けられたスペーサー412と、スペーサー412の上面に設けられた光反射性を有する光反射部413とを有している。このような可動部41には、描画用レーザー光LLが入射し、入射した描画用レーザー光LLは、光反射部413で反射され、光反射部413の姿勢に応じた方向へ走査される。光反射部413は、例えば、アルミニウム等の金属材料をスペーサー412の上面へ成膜することにより形成することができる。   The movable portion 41 includes a base 411, a spacer 412 provided on the upper surface of the base 411, and a light reflecting portion 413 having light reflectivity provided on the upper surface of the spacer 412. The drawing laser beam LL is incident on the movable unit 41, and the incident drawing laser beam LL is reflected by the light reflecting unit 413 and scanned in a direction according to the posture of the light reflecting unit 413. The light reflecting portion 413 can be formed, for example, by depositing a metal material such as aluminum on the upper surface of the spacer 412.

スペーサー412は、第1の軸部421、422に対して板厚方向に離間するとともに、図2および図3に示すように、構造体40の平面視(支持部45や光反射部413の板厚方向から見た方向。以下、単に平面視という)にて、第1の軸部421、422の全域と重なって設けられている。そのため、第1の軸部421、422の間の距離を短くしつつ、スペーサー412の上面の面積(光反射部413の面積)を大きくすることができる。また、第1の軸部421、422の間の距離を短くすることできることから、枠体部43の小型化を図ることができる。さらに、枠体部43の小型化を図ることができることから、第2の軸部441、442の間の距離を短くすることできる。このようなことから、光反射部413の板面の面積を大きくしても、光スキャナー4の小型化を図ることができる。   The spacer 412 is separated from the first shaft portions 421 and 422 in the plate thickness direction, and as shown in FIGS. 2 and 3, the structure 40 is viewed in plan (the plate of the support portion 45 and the light reflecting portion 413. In the direction viewed from the thickness direction (hereinafter simply referred to as a plan view), the first shaft portions 421 and 422 are provided so as to overlap the entire region. Therefore, the area of the upper surface of the spacer 412 (the area of the light reflecting portion 413) can be increased while shortening the distance between the first shaft portions 421 and 422. In addition, since the distance between the first shaft portions 421 and 422 can be shortened, the size of the frame body portion 43 can be reduced. Furthermore, since the size of the frame body portion 43 can be reduced, the distance between the second shaft portions 441 and 442 can be shortened. For this reason, the optical scanner 4 can be downsized even if the area of the plate surface of the light reflecting portion 413 is increased.

枠体部43は、枠状をなし、構造体40の平面視にて、可動部41の基部411を囲んで設けられている。すなわち、枠体部43の内側に基部411が位置している。
支持部45は、枠状をなし、枠体部43を囲んで設けられている。すなわち、支持部45の内側に枠体部43が位置している。
第1の軸部421、422は、可動部41の基部411を介して互いに対向するように配置されている。また、第1の軸部421、422は、それぞれ、第1の軸J1に沿った方向に延在する長手形状をなす。そして、第1の軸部421、422は、それぞれ、一端部が基部411に接続され、他端部が枠体部43に接続されている。また、第1の軸部421、422は、それぞれ、中心軸が第1の軸J1に一致するように配置されている。このような第1の軸部421、422は、それぞれ、可動部41の第1の軸J1まわりの揺動に伴ってねじれ変形する。
The frame body portion 43 has a frame shape and is provided so as to surround the base portion 411 of the movable portion 41 in a plan view of the structure body 40. That is, the base portion 411 is located inside the frame body portion 43.
The support portion 45 has a frame shape and is provided so as to surround the frame body portion 43. That is, the frame part 43 is located inside the support part 45.
The first shaft portions 421 and 422 are disposed so as to face each other via the base portion 411 of the movable portion 41. Further, the first shaft portions 421 and 422 each have a longitudinal shape extending in a direction along the first axis J1. Each of the first shaft portions 421 and 422 has one end connected to the base 411 and the other end connected to the frame body 43. In addition, the first shaft portions 421 and 422 are arranged so that the central axis coincides with the first axis J1. Such first shaft portions 421 and 422 are torsionally deformed as the movable portion 41 swings around the first axis J1.

一方、第2の軸部441、442は、枠体部43を介して互いに対向するように配置されている。また、第2の軸部441、442は、それぞれ、第2の軸J2に沿った方向に延在する長手形状をなす。そして、第2の軸部441、442は、それぞれ、一端部が枠体部43に接続され、他端部が支持部45に接続されている。また、第2の軸部441、442は、それぞれ、中心軸が第2の軸J2に一致するように配置されている。このような第2の軸部441、442は、枠体部43の第2の軸J2まわりの揺動に伴ってねじれ変形する。   On the other hand, the second shaft portions 441 and 442 are arranged to face each other with the frame body portion 43 interposed therebetween. The second shaft portions 441 and 442 each have a longitudinal shape extending in the direction along the second axis J2. Each of the second shaft portions 441 and 442 has one end connected to the frame body portion 43 and the other end connected to the support portion 45. The second shaft portions 441 and 442 are arranged so that the central axis thereof coincides with the second axis J2. Such second shaft portions 441 and 442 are torsionally deformed as the frame body portion 43 swings around the second axis J2.

なお、第1の軸部421、422および第2の軸部441、442の形状は、それぞれ、前述したものに限定されず、例えば、途中の少なくとも1箇所に屈曲または湾曲した部分や分岐した部分を有していてもよい。また、第1の軸部421、422および第2の軸部441、442は、2本の軸部に分割されていてもよい。
このような構造体40では、可動部41を第1の軸J1まわりに揺動可能とするとともに、枠体部43を第2の軸J2まわりに揺動可能とすることにより、可動部41(光反射部413)を互いに直交する第1、第2の軸J1、J2の2軸まわりに揺動させることができる。
Note that the shapes of the first shaft portions 421 and 422 and the second shaft portions 441 and 442 are not limited to those described above, for example, a bent or bent portion or a branched portion at at least one place in the middle. You may have. Further, the first shaft portions 421 and 422 and the second shaft portions 441 and 442 may be divided into two shaft portions.
In such a structure 40, the movable part 41 can be swung around the first axis J1, and the frame part 43 can be swung around the second axis J2. The light reflecting portion 413) can be swung around the two axes of the first and second axes J1 and J2 orthogonal to each other.

以上のような構成の構造体40では、基部411、第1の軸部421、422、枠体部43、第2の軸部441、442および支持部45が、第1のSi層(デバイス層)と、SiO層(ボックス層)と、第2のSi層(ハンドル層)とがこの順に積層したSOI基板をエッチングすることで一体的に形成されている。これにより、第1の振動系および第2の振動系の振動特性を優れたものとすることができる。また、SOI基板は、エッチングにより微細な加工が可能であるため、SOI基板を用いて基部411、第1の軸部421、422、枠体部43、第2の軸部441、442および支持部45を形成することにより、これらの寸法精度を優れたものとすることができ、また、光スキャナー4の小型化を図ることができる。 In the structure 40 configured as described above, the base 411, the first shaft portions 421 and 422, the frame body portion 43, the second shaft portions 441 and 442, and the support portion 45 include the first Si layer (device layer). ), An SiO 2 layer (box layer), and a second Si layer (handle layer) are integrally formed by etching an SOI substrate laminated in this order. Thereby, the vibration characteristics of the first vibration system and the second vibration system can be made excellent. Further, since the SOI substrate can be finely processed by etching, the base 411, the first shaft portions 421 and 422, the frame body portion 43, the second shaft portions 441 and 442, and the support portion are used by using the SOI substrate. By forming 45, these dimensional accuracy can be made excellent, and the size of the optical scanner 4 can be reduced.

基部411、第1の軸部421、422および第2の軸部441、442は、それぞれ、SOI基板の第1のSi層で構成されている。これにより、第1の軸部421、422および第2の軸部441、442の弾性を優れたものとすることができる。また、基部411の厚みを薄くすることができ、基部411が第1の軸J1まわりに揺動する際に枠体部43に接触するのを防止することができる。また、枠体部43および支持部45は、それぞれ、SOI基板の第1のSi層、SiO層および第2のSi層からなる積層体で構成されている。これにより、枠体部43および支持部45の剛性を優れたものとすることができる。また、枠体部43のSiO層および第2のSi層は、枠体部43の剛性を高めるリブ431としての機能だけでなく、基部411が永久磁石48に接触するのを防止するスペーサーとしての機能も有する。なお、リブ431は、枠体部43の永久磁石48に対向する面上に設けられているということもできる。
同様に、可動部41のスペーサー412もSOI基板をエッチングすることで形成されている。そして、スペーサー412は、例えば、エポキシ系、アクリル系、シリコーン系の各種接着剤で接合されている。ただし、スペーサー412は、例えば、ガラス基板をエッチングすることで形成することもできる。
The base 411, the first shaft portions 421 and 422, and the second shaft portions 441 and 442 are each configured by a first Si layer of an SOI substrate. Thereby, the elasticity of the first shaft portions 421 and 422 and the second shaft portions 441 and 442 can be made excellent. Further, the thickness of the base portion 411 can be reduced, and the base portion 411 can be prevented from coming into contact with the frame body portion 43 when swinging around the first axis J1. Further, frame 43 and the support portion 45, respectively, a first Si layer of the SOI substrate, and a stack of the SiO 2 layer and the second Si layer. Thereby, the rigidity of the frame part 43 and the support part 45 can be made excellent. Further, the SiO 2 layer and the second Si layer of the frame part 43 not only function as ribs 431 that increase the rigidity of the frame part 43, but also serve as spacers that prevent the base part 411 from contacting the permanent magnet 48. It also has the function. It can also be said that the rib 431 is provided on a surface of the frame body portion 43 that faces the permanent magnet 48.
Similarly, the spacer 412 of the movable portion 41 is also formed by etching the SOI substrate. The spacer 412 is bonded with, for example, various epoxy, acrylic, and silicone adhesives. However, the spacer 412 can also be formed by etching a glass substrate, for example.

図3に示すように、枠体部43(リブ431)には永久磁石48が接合されている。永久磁石48は、平面視にて、S極(一方の磁極)とN極(他方の磁極)とを結ぶ線分が第1、第2の軸J1、J2に対して傾斜して配置されている。また、本実施形態の永久磁石48は、前記線分に沿って延在する棒状をなしている。なお、第2の軸J2に対する永久磁石48(前記線分)の傾斜角θは、特に限定されないが、30°以上60°以下であるのが好ましく、45°以上60°以下であることがより好ましく、45°であるのがさらに好ましい。これにより、円滑かつ確実に、可動部41を第1、第2の軸J1、J2まわりに揺動させることができる。
永久磁石48としては、例えば、ネオジム磁石、フェライト磁石、サマリウムコバルト磁石、アルニコ磁石、ボンド磁石等を好適に用いることができる。
As shown in FIG. 3, a permanent magnet 48 is joined to the frame body portion 43 (rib 431). The permanent magnet 48 is arranged such that a line segment connecting the S pole (one magnetic pole) and the N pole (the other magnetic pole) is inclined with respect to the first and second axes J1 and J2 in plan view. Yes. In addition, the permanent magnet 48 of the present embodiment has a rod shape extending along the line segment. The inclination angle θ of the permanent magnet 48 (the line segment) with respect to the second axis J2 is not particularly limited, but is preferably 30 ° or more and 60 ° or less, and more preferably 45 ° or more and 60 ° or less. Preferably, it is 45 °. Thereby, the movable part 41 can be rock | fluctuated around the 1st, 2nd axis | shafts J1 and J2 smoothly and reliably.
As the permanent magnet 48, for example, a neodymium magnet, a ferrite magnet, a samarium cobalt magnet, an alnico magnet, a bond magnet, or the like can be suitably used.

このような永久磁石48は、金属ろう材47aからなる接合層47によって枠体部43に接合されている。金属ろう材47aとしては、永久磁石48と枠体部43とを接合することができれば、特に限定されず、例えば、Au、Cuのような金属、銀ろう、銅ろう、燐銅ろう、半田等が挙げられ、さらに、半田としては、Sn−Pb系の鉛ハンダ、Au−Sn系、Sn−Ag−Cu系、Sn−Zn−Bi系、Sn−Cu系、Sn−Ag−In−Bi系、Sn−Zn−Al系の各種鉛フリーハンダ等が挙げられる。これらの中でも、金属ろう材47aとしては、取扱い性や接合性の観点から、半田を用いるのが好ましい。なお、接合層47には、前述した金属ろう材47aの他、例えば、フラックス活性を有する化合物が含まれていてもよい。   Such a permanent magnet 48 is joined to the frame part 43 by a joining layer 47 made of a metal brazing material 47a. The metal brazing material 47a is not particularly limited as long as the permanent magnet 48 and the frame body portion 43 can be joined. For example, a metal such as Au or Cu, silver brazing, copper brazing, phosphor copper brazing, solder or the like Furthermore, as solder, Sn-Pb-based lead solder, Au-Sn-based, Sn-Ag-Cu-based, Sn-Zn-Bi-based, Sn-Cu-based, Sn-Ag-In-Bi-based Sn-Zn-Al-based various lead-free solders. Among these, as the metal brazing material 47a, it is preferable to use solder from the viewpoint of handleability and bondability. Note that the bonding layer 47 may contain, for example, a compound having flux activity in addition to the metal brazing material 47a described above.

また、図4に示すように、永久磁石48の表面(枠体部43またはリブ431と対向する面)には下地層(第2の下地層)481が設けられており、この下地層481によって永久磁石48の全域が覆われている。下地層481は、金属ろう材47aに対する濡れ性が永久磁石48よりも高くなるように構成されている。
さらに、この下地層481上には被覆層482が設けられている。被覆層482は、金属ろう材47aに対する濡れ性が下地層481よりも低くなるように構成されている。また、被覆層482は、下地層481上の一部に設けられており、そのため、被覆層482から下地層481の一部が外部へ露出している。被覆層482は、下地層481の後述の下地層432と対向する部分を露出させるように設けられている。具体的には、被覆層482は、永久磁石48の上面上に位置する下地層481(481’)の両端部を除く中央部に設けられており、永久磁石48の上面上に位置する下地層481(481’)の両端部が被覆層482から露出している。そして、この露出した部分である露出部481aが永久磁石48と接合層47との間に位置し、永久磁石48は、露出部481aにて接合層47に接合されている。
Further, as shown in FIG. 4, a base layer (second base layer) 481 is provided on the surface of the permanent magnet 48 (the surface facing the frame body portion 43 or the rib 431). The entire area of the permanent magnet 48 is covered. The underlayer 481 is configured so that the wettability with respect to the metal brazing material 47 a is higher than that of the permanent magnet 48.
Further, a coating layer 482 is provided on the base layer 481. The covering layer 482 is configured such that the wettability with respect to the metal brazing material 47a is lower than that of the base layer 481. Further, the coating layer 482 is provided on a part of the base layer 481, and thus a part of the base layer 481 is exposed from the coating layer 482 to the outside. The covering layer 482 is provided so as to expose a portion of the base layer 481 that faces a base layer 432 described later. Specifically, the covering layer 482 is provided in the central portion excluding both ends of the base layer 481 (481 ′) located on the upper surface of the permanent magnet 48, and the base layer located on the upper surface of the permanent magnet 48. Both end portions of 481 (481 ′) are exposed from the coating layer 482. The exposed portion 481a, which is the exposed portion, is located between the permanent magnet 48 and the bonding layer 47, and the permanent magnet 48 is bonded to the bonding layer 47 at the exposed portion 481a.

前述したように、露出部481aは、金属ろう材47aに対する高い濡れ性を有しているため、露出部481aと金属ろう材47aとの密着力が高い。そのため、接合層47と永久磁石48とをより強固に接合することができる。また、被覆層482の金属ろう材47aに対する濡れ性が低く設定されているため、金属ろう材47aの溶融時に、金属ろう材47aが被覆層482上まで濡れ広がることを防止することができ、金属ろう材47aを露出部481a上に留めることができる。すなわち、金属ろう材47aの濡れ広がり領域を精度よく制御することができる。   As described above, the exposed portion 481a has high wettability with respect to the metal brazing material 47a, and therefore the adhesion between the exposed portion 481a and the metal brazing material 47a is high. Therefore, the bonding layer 47 and the permanent magnet 48 can be bonded more firmly. In addition, since the wettability of the coating layer 482 to the metal brazing material 47a is set low, it is possible to prevent the metal brazing material 47a from spreading over the coating layer 482 when the metal brazing material 47a is melted. The brazing material 47a can be fastened on the exposed portion 481a. That is, the wet spreading area of the metal brazing material 47a can be accurately controlled.

ここで、被覆層482の厚みとしては、特に限定されないが、5μm以上であるのが好ましい。これにより、露出部481aの上面と被覆層482の上面との間に十分な高さの段差を形成することができ、この段差が溶融時に濡れ広がる金属ろう材47aのストッパーとして効果的に機能する。そのため、上述したような金属ろう材47aの濡れ広がり領域の制御をより精度よく行うことができる。   Here, the thickness of the coating layer 482 is not particularly limited, but is preferably 5 μm or more. Thereby, a sufficiently high step can be formed between the upper surface of the exposed portion 481a and the upper surface of the coating layer 482, and this step effectively functions as a stopper for the metal brazing material 47a spreading when wet. . Therefore, the control of the wet spreading area of the metal brazing material 47a as described above can be performed with higher accuracy.

下地層481の構成材料としては、金属ろう材47aに対する濡れ性が永久磁石48よりも高ければ特に限定されず、例えば、金属ろう材47aが半田の場合には、Au、Pd等の金属や、Ni−Cr−Au系合金、Cr−Ni系合金、Ti−Ni系合金等の合金を用いることができる。下地層481の構成材料としては、これらの中でも、防錆めっきとして広く用いられているNi−Cr−Au系合金、Cr−Ni系合金、Ti−Ni系合金等の合金を用いるのが好ましい。これにより、永久磁石48に予め被覆されている防錆めっき層を下地層481として有効に利用することができる。そのため、光スキャナー4の製造の簡易化を図ることができる。   The constituent material of the underlayer 481 is not particularly limited as long as the wettability to the metal brazing material 47a is higher than that of the permanent magnet 48. For example, when the metal brazing material 47a is solder, a metal such as Au or Pd, An alloy such as a Ni—Cr—Au alloy, a Cr—Ni alloy, a Ti—Ni alloy can be used. Among these, it is preferable to use an alloy such as a Ni—Cr—Au alloy, a Cr—Ni alloy, or a Ti—Ni alloy that is widely used for rust prevention plating as the constituent material of the base layer 481. Thereby, the antirust plating layer previously coated on the permanent magnet 48 can be effectively used as the base layer 481. Therefore, the manufacture of the optical scanner 4 can be simplified.

なお、下地層481は、単層構造でもよいが積層構造であってもよい。下地層481を3層の積層構造とした場合は、例えば、永久磁石48側からCrで構成されたCr層、Niで構成されたNi層、Auで構成されたAu層が順に積層された構成とすることができる。Cr層は、Ni層と永久磁石48との密着性を高める層であり、Ni層は、Cr層とAu層の密着性を高めつつ、金属ろう材47aの拡散を防止する層であり、Au層は、金属ろう材47aの濡れ性を高めて金属ろう材47aとの密着性を高めつつ、Ni層、Cr層の酸化を防止する層である。ただし、Cr層に代えて、Ti、Ta、Ni−Cr系合金で構成された層を用いてもよく、Ni層に代えて、Ni−Cr系合金、Cr、Ti、Ta等で構成された層を用いてもよく、Au層に代えて、Pdで構成された層を用いてもよい。   Note that the base layer 481 may have a single-layer structure or a stacked structure. When the base layer 481 has a three-layer structure, for example, a structure in which a Cr layer composed of Cr, a Ni layer composed of Ni, and an Au layer composed of Au are sequentially stacked from the permanent magnet 48 side. It can be. The Cr layer is a layer that improves the adhesion between the Ni layer and the permanent magnet 48. The Ni layer is a layer that prevents the diffusion of the metal brazing material 47a while enhancing the adhesion between the Cr layer and the Au layer. The layer is a layer that prevents the oxidation of the Ni layer and the Cr layer while improving the wettability of the metal brazing material 47a and improving the adhesion to the metal brazing material 47a. However, instead of the Cr layer, a layer made of Ti, Ta, or a Ni—Cr alloy may be used. Instead of the Ni layer, it may be made of a Ni—Cr alloy, Cr, Ti, Ta, or the like. A layer may be used, and a layer made of Pd may be used instead of the Au layer.

また、下地層481を2層の積層構造とした場合は、例えば、永久磁石48側から、Crで構成されたCr層、Auで構成されたAu層が順に積層された構成や、Crで構成されたCr層と、Niで構成されたNi層が順に積層された構成や、Niで構成されたNi層、Auで構成されたAu層が順に積層された構成や、Tiで構成されたTi層、Auで構成されたAu層が順に積層された構成や、Wで構成されたW層、Auで構成されたAu層が順に積層された構成とすることができる。
また、被覆層482の構成材料としては、金属ろう材47aに対する濡れ性が下地層481よりも低ければ特に限定されず、例えば、金属ろう材47aが半田の場合には、Al、Ti、Cr等の金属を用いることができる。これら金属によれば、金属ろう材47aに対する濡れ性が下地層481よりも十分に低い被覆層となる。
In addition, when the underlayer 481 has a two-layer structure, for example, a structure in which a Cr layer composed of Cr and an Au layer composed of Au are sequentially stacked from the permanent magnet 48 side, or a structure composed of Cr Cr layer and Ni layer composed of Ni are sequentially laminated, Ni layer composed of Ni, Au layer composed of Au, or Ti layer composed of Ti A structure in which an Au layer composed of layers and Au are sequentially stacked, or a structure in which a W layer composed of W and an Au layer composed of Au are sequentially stacked can be employed.
The constituent material of the coating layer 482 is not particularly limited as long as the wettability to the metal brazing material 47a is lower than that of the base layer 481. For example, when the metal brazing material 47a is solder, Al, Ti, Cr, etc. These metals can be used. According to these metals, the coating layer is sufficiently lower in wettability to the metal brazing material 47a than the base layer 481.

なお、被覆層482は、下地層481よりも光の反射率が低いことが好ましい。これにより、上記効果に加えて、迷光(光反射部413以外で反射された不要な光)の発生を低減することができる。そのため、より優れた反射特性を有する光スキャナー4を得られる。下地層481よりも光の反射率が低い被覆層482を得る場合には、被覆層482の構成材料としてCrを用いることが好ましい。これにより、上記効果を有する被覆層482を容易に得ることができる。
また、被覆層482の構成材料としては、上述した金属材料の他にも、樹脂材料を用いてもよい。
なお、被覆層482は、単層構造に限定されず、複数の層を積層してなる積層構造であってもよい。
Note that the covering layer 482 preferably has a lower light reflectance than the base layer 481. Thereby, in addition to the above effects, the generation of stray light (unnecessary light reflected by other than the light reflecting portion 413) can be reduced. Therefore, the optical scanner 4 having more excellent reflection characteristics can be obtained. In the case where the coating layer 482 having a lower light reflectance than the base layer 481 is obtained, Cr is preferably used as a constituent material of the coating layer 482. Thereby, the coating layer 482 which has the said effect can be obtained easily.
In addition to the metal material described above, a resin material may be used as a constituent material of the covering layer 482.
Note that the cover layer 482 is not limited to a single layer structure, and may have a stacked structure in which a plurality of layers are stacked.

一方で、枠体部43と接合層47との間、具体的には枠体部43の下面(リブ431の下面、すなわち枠体部43またはリブ431の永久磁石48と対向する面)には、下地層(第1の下地層)432が設けられている。下地層432は、金属ろう材47aに対する濡れ性が枠体部43よりも高くなるように構成されている。そのため、下地層432と金属ろう材47aとの密着力が高く、接合層47と枠体部43とをより強固に接合することができる。   On the other hand, between the frame body portion 43 and the bonding layer 47, specifically, on the lower surface of the frame body portion 43 (the lower surface of the rib 431, that is, the surface facing the permanent magnet 48 of the frame body portion 43 or the rib 431). A base layer (first base layer) 432 is provided. The foundation layer 432 is configured so that the wettability with respect to the metal brazing material 47 a is higher than that of the frame body portion 43. Therefore, the adhesive force between the base layer 432 and the metal brazing material 47a is high, and the bonding layer 47 and the frame body portion 43 can be bonded more firmly.

下地層432の構成材料としては、金属ろう材47aに対する濡れ性が枠体部43(リブ431)よりも高ければ特に限定されず、例えば、金属ろう材47aが半田の場合には、Au、Pd等の金属や、Ni−Cr−Au系合金、Cr−Ni系合金、Ti−Ni系合金等の合金を用いることができる。
なお、下地層432は、単層構造でもよいが積層構造であってもよい。下地層432を積層構造とした場合は、例えば、前述した下地層481と同様の構成とすることができる。
The constituent material of the base layer 432 is not particularly limited as long as the wettability to the metal brazing material 47a is higher than that of the frame body portion 43 (rib 431). For example, when the metal brazing material 47a is solder, Au, Pd Or a metal such as Ni—Cr—Au alloy, Cr—Ni alloy, Ti—Ni alloy or the like can be used.
Note that the base layer 432 may have a single-layer structure or a stacked structure. In the case where the base layer 432 has a stacked structure, for example, a structure similar to that of the base layer 481 described above can be employed.

以上、下地層432、481について説明したが、下地層432と下地層481の露出部481aとは構造体40の板厚方向に対向し、これらが接合層47によって接合されている。ここで、本実施形態では、図5に示すように、下地層432と露出部481aのそれぞれが対向したときの平面視形状(大きさを含む)が同じであり、構造体40の平面視にて、下地層432と露出部481aの輪郭同士が実質的に重なり合っている。下地層432と露出部481aの形状を同じとすることで、溶融時の金属ろう材47aに発生する表面張力によるセルフアライメント効果が発揮され、枠体部43と永久磁石48とが、下地層432と露出部481aの輪郭同士が重なり合うように自然に位置決めされる。すなわち、下地層432と露出部481aの平面視形状を同じとすることで、枠体部43と永久磁石48との位置決めを高精度に行うことができ、所望の振動特性を発揮することのできる光スキャナー4が得られる。   Although the underlayers 432 and 481 have been described above, the underlayer 432 and the exposed portion 481a of the underlayer 481 are opposed to each other in the plate thickness direction of the structure 40 and are bonded by the bonding layer 47. Here, in this embodiment, as shown in FIG. 5, the shape in plan view (including the size) when the base layer 432 and the exposed portion 481 a face each other is the same. Thus, the contours of the base layer 432 and the exposed portion 481a substantially overlap each other. By making the shape of the underlayer 432 and the exposed portion 481a the same, the self-alignment effect due to the surface tension generated in the metal brazing material 47a at the time of melting is exhibited. Are naturally positioned so that the contours of the exposed portion 481a overlap each other. That is, by making the ground layer 432 and the exposed portion 481a have the same shape in plan view, the frame body portion 43 and the permanent magnet 48 can be positioned with high accuracy, and desired vibration characteristics can be exhibited. An optical scanner 4 is obtained.

なお、本実施形態の変形例として、図6に示すように、接合層47(金属ろう材47a)が永久磁石48の側面上(すなわち、枠体部43に対向する面に接続される面上)に位置する下地層481まで濡れ広がっていてもよい。この構成によれば、本実施形態と比較して、接合層47と下地層481との接触面積が広くなるため、より強固に、接合層47と永久磁石48とを接合することができる。   As a modification of this embodiment, as shown in FIG. 6, the bonding layer 47 (metal brazing material 47 a) is on the side surface of the permanent magnet 48 (that is, on the surface connected to the surface facing the frame body portion 43). The base layer 481 positioned at () may be spread. According to this configuration, since the contact area between the bonding layer 47 and the base layer 481 is increased as compared with the present embodiment, the bonding layer 47 and the permanent magnet 48 can be bonded more firmly.

永久磁石48の直下には、コイル491が設けられている。これにより、コイル491から発生する磁界を効率的に永久磁石48に作用させることができる。これにより、光スキャナー4の省電力化および小型化を図ることができる。コイル491は、磁心493に巻回されて設けられている。これにより、コイル491で発生した磁界を効率的に永久磁石48に作用させることができる。なお、磁心493は、省略してもよい。
このようなコイル491は、電圧印加部492に電気的に接続されている。そして、電圧印加部492によりコイル491に電圧が印加されることで、コイル491から第1、第2の軸J1、J2に直交する磁束を有する磁界が発生する。
A coil 491 is provided immediately below the permanent magnet 48. Thereby, the magnetic field generated from the coil 491 can be efficiently applied to the permanent magnet 48. Thereby, power saving and size reduction of the optical scanner 4 can be achieved. The coil 491 is provided by being wound around a magnetic core 493. Thereby, the magnetic field generated by the coil 491 can be efficiently applied to the permanent magnet 48. Note that the magnetic core 493 may be omitted.
Such a coil 491 is electrically connected to the voltage application unit 492. Then, when a voltage is applied to the coil 491 by the voltage application unit 492, a magnetic field having a magnetic flux perpendicular to the first and second axes J1 and J2 is generated from the coil 491.

電圧印加部492は、図7に示すように、可動部41を第1の軸J1まわりに揺動させるための第1の電圧V1を発生させる第1の電圧発生部492aと、可動部41を第2の軸J2まわりに揺動させるための第2の電圧V2を発生させる第2の電圧発生部492bと、第1の電圧V1と第2の電圧V2とを重畳する電圧重畳部492cとを備え、電圧重畳部492cで重畳した電圧をコイル491に印加する。   As shown in FIG. 7, the voltage application unit 492 includes a first voltage generation unit 492a that generates a first voltage V1 for swinging the movable unit 41 around the first axis J1, and a movable unit 41. A second voltage generator 492b for generating a second voltage V2 for swinging around the second axis J2, and a voltage superimposing unit 492c for superimposing the first voltage V1 and the second voltage V2. The voltage superimposed by the voltage superimposing unit 492c is applied to the coil 491.

第1の電圧発生部492aは、図8(a)に示すように、周期T1で周期的に変化する第1の電圧V1(主走査用電圧)を発生させるものである。第1の電圧V1は、正弦波のような波形をなしている。第1の電圧V1の周波数(1/T1)は、例えば、10〜40kHzであるのが好ましい。第1の電圧V1の周波数は、第1の振動系のねじり共振周波数と等しくなるように設定されている。これにより、可動部41の第1の軸J1まわりの揺動角を大きくすることができる。   As shown in FIG. 8A, the first voltage generator 492a generates a first voltage V1 (main scanning voltage) that periodically changes at a cycle T1. The first voltage V1 has a waveform like a sine wave. The frequency (1 / T1) of the first voltage V1 is preferably 10 to 40 kHz, for example. The frequency of the first voltage V1 is set to be equal to the torsional resonance frequency of the first vibration system. Thereby, the rocking | swiveling angle around the 1st axis | shaft J1 of the movable part 41 can be enlarged.

一方、第2の電圧発生部492bは、図8(b)に示すように、周期T1と異なる周期T2で周期的に変化する第2の電圧V2(副走査用電圧)を発生させるものである。第2の電圧V2は、鋸波のような波形をなしている。第2の電圧V2の周波数(1/T2)は、第1の電圧V1の周波数(1/T1)と異なっていればよく、例えば、30〜120Hz(60Hz程度)であるのが好ましい。第2の電圧V2の周波数は、第2の振動系のねじり共振周波数と異なる周波数となるように調整されている。
このような第2の電圧V2の周波数は、第1の電圧V1の周波数よりも小さいことが好ましい。これにより、より確実かつより円滑に、可動部41を第1の軸J1まわりに第1の電圧V1の周波数で揺動させつつ、第2の軸J2まわりに第2の電圧V2の周波数で揺動させることができる。
On the other hand, as shown in FIG. 8B, the second voltage generator 492b generates a second voltage V2 (sub-scanning voltage) that periodically changes at a period T2 different from the period T1. . The second voltage V2 has a sawtooth waveform. The frequency (1 / T2) of the second voltage V2 may be different from the frequency (1 / T1) of the first voltage V1, and is preferably 30 to 120 Hz (about 60 Hz), for example. The frequency of the second voltage V2 is adjusted to be different from the torsional resonance frequency of the second vibration system.
The frequency of the second voltage V2 is preferably smaller than the frequency of the first voltage V1. As a result, the movable part 41 is swung around the first axis J1 at the frequency of the first voltage V1, while swinging around the second axis J2 at the frequency of the second voltage V2, more reliably and smoothly. Can be moved.

また、第1の振動系のねじり共振周波数をf1[Hz]とし、第2の振動系のねじり共振周波数をf2[Hz]としたとき、f1とf2とが、f2<f1の関係を満たすことが好ましく、10f2≦f1の関係を満たすことがより好ましい。これにより、より円滑に、可動部41を、第1の軸J1まわりに第1の電圧V1の周波数で揺動させつつ、第2の軸J2まわりに第2の電圧V2の周波数で揺動させることができる。これに対し、f1≦f2とした場合は、第2の電圧V2の周波数による第1の振動系の振動が発生する可能性がある。   Further, when the torsional resonance frequency of the first vibration system is f1 [Hz] and the torsional resonance frequency of the second vibration system is f2 [Hz], f1 and f2 satisfy the relationship of f2 <f1. Is preferable, and it is more preferable to satisfy the relationship of 10f2 ≦ f1. As a result, the movable portion 41 is more smoothly swung around the first axis J1 at the frequency of the first voltage V1, while being swung around the second axis J2 at the frequency of the second voltage V2. be able to. On the other hand, if f1 ≦ f2, the vibration of the first vibration system may occur due to the frequency of the second voltage V2.

第1の電圧発生部492aおよび第2の電圧発生部492bは、それぞれ、制御部6に接続され、この制御部6からの信号に基づき駆動する。そして、このような第1の電圧発生部492aおよび第2の電圧発生部492bには、電圧重畳部492cが接続されている。
電圧重畳部492cは、コイル491に電圧を印加するための加算器492dを備えている。加算器492dは、第1の電圧発生部492aから第1の電圧V1を受けるとともに、第2の電圧発生部492bから第2の電圧V2を受け、これらの電圧を重畳しコイル491に印加するようになっている。
The first voltage generation unit 492a and the second voltage generation unit 492b are each connected to the control unit 6 and driven based on a signal from the control unit 6. The voltage superimposing unit 492c is connected to the first voltage generating unit 492a and the second voltage generating unit 492b.
The voltage superimposing unit 492c includes an adder 492d for applying a voltage to the coil 491. The adder 492d receives the first voltage V1 from the first voltage generator 492a and receives the second voltage V2 from the second voltage generator 492b, and superimposes these voltages and applies them to the coil 491. It has become.

次に、光スキャナー4の駆動方法について説明する。なお、第1の電圧V1の周波数は、第1の振動系のねじり共振周波数と等しく設定されており、第2の電圧V2の周波数は、第2の振動系のねじり共振周波数と異なる値に、かつ、第1の電圧V1の周波数よりも小さくなるように設定されている(例えば、第1の電圧V1の周波数が18kHz、第2の電圧V2の周波数が60Hzに設定されている)ものとする。   Next, a method for driving the optical scanner 4 will be described. The frequency of the first voltage V1 is set equal to the torsional resonance frequency of the first vibration system, and the frequency of the second voltage V2 is different from the torsional resonance frequency of the second vibration system. In addition, the frequency is set to be lower than the frequency of the first voltage V1 (for example, the frequency of the first voltage V1 is set to 18 kHz and the frequency of the second voltage V2 is set to 60 Hz). .

例えば、図8(a)に示す第1の電圧V1と、図8(b)に示す第2の電圧V2とを電圧重畳部492cにて重畳し、重畳した電圧をコイル491に印加する。すると、第1の電圧V1によって、永久磁石48の一端部(N極)をコイル491に引き付けようとするとともに、永久磁石48の他端部(S極)をコイル491から離間させようとする磁界(この磁界を「磁界A1」という)と、永久磁石48の一端部(N極)をコイル491から離間させようとするとともに、永久磁石48の他端部(S極)をコイル491に引き付けようとする磁界(この磁界を「磁界A2」という)とが交互に切り換わる。   For example, the first voltage V1 illustrated in FIG. 8A and the second voltage V2 illustrated in FIG. 8B are superimposed by the voltage superimposing unit 492c, and the superimposed voltage is applied to the coil 491. Then, the first voltage V <b> 1 tries to attract one end (N pole) of the permanent magnet 48 to the coil 491, and the magnetic field tries to separate the other end (S pole) of the permanent magnet 48 from the coil 491. (This magnetic field is referred to as “magnetic field A1”) and one end (N pole) of the permanent magnet 48 is to be separated from the coil 491, and the other end (S pole) of the permanent magnet 48 is attracted to the coil 491. (The magnetic field is referred to as “magnetic field A2”) alternately.

磁界A1、A2が交互に切り換わることで、枠体部43に第1の軸J1まわりのねじり振動成分を有する振動が励振され、その振動に伴って、第1の軸部421、422を捩れ変形させつつ、可動部41が第1の電圧V1の周波数で第1の軸J1まわりに揺動する。なお、第1の電圧V1の周波数は、第1の振動系のねじり共振周波数と等しいため、共振振動によって、可動部41を大きく揺動させることができる。   By alternately switching the magnetic fields A1 and A2, vibration having a torsional vibration component around the first axis J1 is excited in the frame part 43, and the first shaft parts 421 and 422 are twisted along with the vibration. While being deformed, the movable portion 41 swings around the first axis J1 at the frequency of the first voltage V1. Since the frequency of the first voltage V1 is equal to the torsional resonance frequency of the first vibration system, the movable portion 41 can be largely swung by resonance vibration.

一方、第2の電圧V2によって、永久磁石48の一端部(N極)をコイル491に引き付けようとするとともに、永久磁石48の他端部(S極)をコイル491から離間させようとする磁界(この磁界を「磁界B1」という)と、永久磁石48の一端部(N極)をコイル491から離間させようとするとともに、永久磁石48の他端部(S極)をコイル491に引き付けようとする磁界(この磁界を「磁界B2」という)とが交互に切り換わる。   On the other hand, the second voltage V <b> 2 attempts to attract one end (N pole) of the permanent magnet 48 to the coil 491 and to magnetically separate the other end (S pole) of the permanent magnet 48 from the coil 491. (This magnetic field is referred to as “magnetic field B1”) and one end (N pole) of the permanent magnet 48 is to be separated from the coil 491, and the other end (S pole) of the permanent magnet 48 is attracted to the coil 491. (The magnetic field is referred to as “magnetic field B2”) alternately.

磁界B1、B2が交互に切り換わることで、第2の軸部441、442を捩れ変形させつつ、枠体部43が可動部41とともに、第2の電圧V2の周波数で第2の軸J2まわりに揺動する。なお、前述のように、第2の電圧V2の周波数が第1の電圧V1の周波数に比べて極めて低く設定され、第2の振動系のねじり共振周波数が第1の振動系のねじり共振周波数よりも低く設計されているため、可動部41が第2の電圧V2の周波数で第1の軸J1まわりに揺動してしまうことを防止することができる。   By alternately switching the magnetic fields B1 and B2, the frame portion 43 together with the movable portion 41 is rotated around the second axis J2 at the frequency of the second voltage V2 while the second shaft portions 441 and 442 are torsionally deformed. Rocks. As described above, the frequency of the second voltage V2 is set to be extremely lower than the frequency of the first voltage V1, and the torsional resonance frequency of the second vibration system is higher than the torsional resonance frequency of the first vibration system. Therefore, the movable portion 41 can be prevented from swinging around the first axis J1 at the frequency of the second voltage V2.

このように、光スキャナー4では、第1の電圧V1と第2の電圧V2とを重畳させた電圧をコイル491に印加することで、可動部41を、第1の軸J1まわりに第1の電圧V1の周波数で揺動させつつ、第2の軸J2まわりに第2の電圧V2の周波数で揺動させることができる。これにより、1つの光スキャナーで2次元に光を走査することができるため、装置の低コスト化および小型化を図ることができる。また、電磁駆動方式(ムービングマグネット方式)を採用することによって、効率的に、可動部41を第1、第2の軸J1、J2のそれぞれの軸まわりに揺動させ、光反射部413で反射した描画用レーザー光LLを2次元走査することができる。また、駆動源を構成する部品(永久磁石およびコイル)の数を少なくすることができるため、簡単かつ小型な構成とすることができる。また、コイル491が光スキャナー4の振動系と離間しているので、かかる振動系に対するコイル491の発熱による悪影響を防止することができる。   As described above, in the optical scanner 4, by applying a voltage obtained by superimposing the first voltage V <b> 1 and the second voltage V <b> 2 to the coil 491, the movable portion 41 is moved around the first axis J <b> 1 in the first direction. While oscillating at the frequency of the voltage V1, it is possible to oscillate at the frequency of the second voltage V2 around the second axis J2. Thereby, since light can be scanned two-dimensionally with one optical scanner, the cost and size of the apparatus can be reduced. Further, by adopting an electromagnetic drive system (moving magnet system), the movable part 41 is efficiently swung around the first and second axes J1 and J2, and reflected by the light reflecting part 413. The drawing laser beam LL can be scanned two-dimensionally. In addition, since the number of parts (permanent magnets and coils) constituting the drive source can be reduced, a simple and small configuration can be achieved. Further, since the coil 491 is separated from the vibration system of the optical scanner 4, it is possible to prevent an adverse effect of the heat generated by the coil 491 on the vibration system.

以上、光スキャナー4について詳細に説明した。本実施形態のようなジンバル型をなす2次元走査型の光スキャナー4によれば、1つの装置で描画用レーザー光LLを2次元走査することができるため、例えば、1次元走査型の光スキャナーを2つ組み合わせて描画用レーザー光LLを2次元走査させる構成と比較して、装置の小型化を図ることができるとともに、アライメントの調整も容易となる。   The optical scanner 4 has been described in detail above. According to the two-dimensional scanning type optical scanner 4 having a gimbal type as in the present embodiment, the drawing laser beam LL can be two-dimensionally scanned with one apparatus, and thus, for example, a one-dimensional scanning type optical scanner. Compared with a configuration in which two of these are combined and the drawing laser beam LL is two-dimensionally scanned, the apparatus can be reduced in size and alignment can be easily adjusted.

<第2実施形態>
次に、本発明の画像表示装置の第2実施形態について説明する。
図9は、本発明の第2実施形態にかかる画像表示装置が備える光スキャナーの断面図である。
以下、第2実施形態の画像表示装置について、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
本発明の第2実施形態にかかる画像表示装置は、永久磁石上に設けられた被覆層の構成が異なる以外は、前述した第1実施形態と同様である。なお、前述した第1実施形態と同様の構成には、同一符号を付してある。
Second Embodiment
Next, a second embodiment of the image display device of the present invention will be described.
FIG. 9 is a cross-sectional view of an optical scanner provided in the image display apparatus according to the second embodiment of the present invention.
Hereinafter, the image display apparatus according to the second embodiment will be described focusing on the differences from the above-described embodiment, and description of similar matters will be omitted.
The image display apparatus according to the second embodiment of the present invention is the same as that of the first embodiment described above except that the configuration of the coating layer provided on the permanent magnet is different. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the structure similar to 1st Embodiment mentioned above.

≪光スキャナー≫
図9に示すように、本実施形態の光スキャナー4Aでは、永久磁石48の全域を覆うように下地層481が設けられており、さらに、下地層481を覆うように被覆層482が設けられている。また、被覆層482は、下地層481の下地層432と対面する部分を露出させるようにして、残りの全域を覆うようにして設けられている。このような構成とすることによって、溶融した金属ろう材47aが下地層481の側面まで濡れ広がることを防止することができる。そのため、枠体部43と永久磁石48との位置決めをより精度よく行うことができる。なお、被覆層482は、少なくとも、永久磁石48の側面上に設けられた下地層481の、露出部481aの外縁と接続している部分上に設けられていれば、言い換えれば、露出部481aから下地層481の側面に金属ろう材47aが濡れ広がらないように設けられていれば、その他の部分(例えば、下地層481の下面上や、下地層481の側面の中央部)上への配置を省略してもよい。これにより、上記効果を発揮することができるとともに、第2の振動系の重量を低減することができる。
このような第2実施形態によっても、前述した第1実施形態と同様の効果を奏することができる。
≪Optical scanner≫
As shown in FIG. 9, in the optical scanner 4 </ b> A of the present embodiment, a base layer 481 is provided so as to cover the entire area of the permanent magnet 48, and further, a coating layer 482 is provided so as to cover the base layer 481. Yes. In addition, the covering layer 482 is provided so as to cover the remaining entire area so as to expose a portion of the base layer 481 that faces the base layer 432. With such a configuration, it is possible to prevent the molten metal brazing material 47a from spreading to the side surface of the base layer 481. Therefore, the positioning of the frame body portion 43 and the permanent magnet 48 can be performed with higher accuracy. The covering layer 482 is provided at least on a portion of the base layer 481 provided on the side surface of the permanent magnet 48 and connected to the outer edge of the exposed portion 481a, in other words, from the exposed portion 481a. If the metal brazing material 47a is provided on the side surface of the base layer 481 so as not to get wet and spread, the arrangement on the other part (for example, the lower surface of the base layer 481 or the central portion of the side surface of the base layer 481) may be performed. It may be omitted. As a result, the above effects can be exhibited, and the weight of the second vibration system can be reduced.
Also according to the second embodiment, the same effects as those of the first embodiment described above can be obtained.

<第3実施形態>
次に、本発明の画像表示装置の第3実施形態について説明する。
図10は、本発明の第3実施形態にかかる画像表示装置が備える光スキャナーの断面図である。
以下、第3実施形態の画像表示装置について、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
本発明の第3実施形態にかかる画像表示装置は、永久磁石上に設けられた被覆層の構成が異なる以外は、前述した第1実施形態と同様である。なお、前述した第1実施形態と同様の構成には、同一符号を付してある。
<Third Embodiment>
Next, a third embodiment of the image display device of the present invention will be described.
FIG. 10 is a cross-sectional view of an optical scanner provided in an image display apparatus according to the third embodiment of the present invention.
Hereinafter, the image display apparatus according to the third embodiment will be described focusing on the differences from the above-described embodiment, and description of similar matters will be omitted.
The image display apparatus according to the third embodiment of the present invention is the same as that of the above-described first embodiment except that the configuration of the coating layer provided on the permanent magnet is different. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the structure similar to 1st Embodiment mentioned above.

≪光スキャナー≫
図10に示すように、本実施形態の光スキャナー4Bでは、永久磁石48に設けられた被覆層482がリブ431の側面(すなわち、リブ431の永久磁石48と対向する面に接続する面)に当接している。すなわち、被覆層482が枠状のリブ431内に挿入され、さらに、その両端部がリブ431の内周面に当接している。このような構成とすることによって、前述したような金属ろう材47aのセルフアライメント効果に加えて、被覆層482とリブ431との当接によっても、永久磁石48と枠体部43との位置決めを行うことができる。そのため、より精度よく、永久磁石48と枠体部43との位置決めを行うことができる。
このような第3実施形態によっても、前述した第1実施形態と同様の効果を奏することができる。
≪Optical scanner≫
As shown in FIG. 10, in the optical scanner 4B of the present embodiment, the coating layer 482 provided on the permanent magnet 48 is on the side surface of the rib 431 (that is, the surface connected to the surface of the rib 431 facing the permanent magnet 48). It is in contact. That is, the coating layer 482 is inserted into the frame-shaped rib 431, and both end portions thereof are in contact with the inner peripheral surface of the rib 431. By adopting such a configuration, in addition to the self-alignment effect of the metal brazing material 47a as described above, the permanent magnet 48 and the frame body portion 43 can be positioned by the contact between the coating layer 482 and the rib 431. It can be carried out. Therefore, the permanent magnet 48 and the frame body portion 43 can be positioned with higher accuracy.
According to the third embodiment, the same effect as that of the first embodiment described above can be obtained.

2.光スキャナーの製造方法
次に、図11ないし図13に基づいて、前述した光スキャナー4の製造方法について説明する。なお、図11ないし図13は、それぞれ、図4に示す断面に相当する断面図である。また、図11ないし図13では、断面の関係上、第1の軸部421、422および第2の軸部441、442の図示を省略している。
光スキャナー4の製造方法は、構造体(ミラー構造体)40を得る工程と、構造体40に永久磁石(磁石構造体)48を接合する工程と、コイル491を配置する工程を有している。
2. Manufacturing Method of Optical Scanner Next, a manufacturing method of the above-described optical scanner 4 will be described with reference to FIGS. 11 to 13 are cross-sectional views corresponding to the cross section shown in FIG. In addition, in FIGS. 11 to 13, the first shaft portions 421 and 422 and the second shaft portions 441 and 442 are not shown because of the cross section.
The manufacturing method of the optical scanner 4 includes a step of obtaining a structure (mirror structure) 40, a step of bonding a permanent magnet (magnet structure) 48 to the structure 40, and a step of arranging a coil 491. .

[1]構造体40を得る工程
まず、図11(a)に示すように、SOI基板400を用意する。次に、SOI基板400をフォトリソグラフィー技法およびエッチング技法を用いてパターニングすることによって、図11(b)に示すように、基部411、第1の軸部421、422、枠体部43、第2の軸部441、442および支持部45を一体形成する。
[1] Step of Obtaining Structure 40 First, as shown in FIG. 11A, an SOI substrate 400 is prepared. Next, by patterning the SOI substrate 400 using a photolithography technique and an etching technique, as shown in FIG. 11B, the base 411, the first shaft parts 421 and 422, the frame body part 43, the second The shaft portions 441 and 442 and the support portion 45 are integrally formed.

一方で、図11(c)に示すように、SOI基板410を用意する。次に、SOI基板410をフォトリソグラフィー技法およびエッチング技法を用いてパターニングすることによって、スペーサー412を形成する。次に、スペーサー412の上面に、例えばアルミニウムの膜を成膜することによって、図11(d)に示すように、スペーサー412に光反射部413を形成する。
次に、図12(a)に示すように、スペーサー412を基部411に接合することによって、構造体40が得られる。
On the other hand, an SOI substrate 410 is prepared as shown in FIG. Next, the spacer 412 is formed by patterning the SOI substrate 410 using a photolithography technique and an etching technique. Next, for example, an aluminum film is formed on the upper surface of the spacer 412, thereby forming a light reflecting portion 413 on the spacer 412 as shown in FIG.
Next, as shown in FIG. 12A, the structure 40 is obtained by joining the spacer 412 to the base 411.

[2]永久磁石48の接合工程
まず、図12(b)に示すように、リブ431の下面であって、永久磁石48と重なる部分に、下地層432を形成する。下地層の形成は、例えば、リブ431の下面に蒸着等によって金属膜を製膜し、この金属膜をフォトリソグラフィー技法およびエッチング技法を用いてパターニングすることによって得られる。
[2] Joining Step of Permanent Magnet 48 First, as shown in FIG. 12B, the base layer 432 is formed on the lower surface of the rib 431 and on the portion overlapping the permanent magnet 48. The formation of the underlayer is obtained, for example, by forming a metal film on the lower surface of the rib 431 by vapor deposition or the like, and patterning the metal film using a photolithography technique and an etching technique.

次に、図12(c)に示すように、予め、下地層481としての防錆めっきが施されている永久磁石48を用意する。次に、図13(a)に示すように、永久磁石48の上面に位置する下地層481上に被覆層482を成膜する。次に、図13(b)に示すように、フォトリソグラフィー技法およびエッチング技法を用いてパターニングすることで、被覆層482の両端を除去し、除去した部分から下地層481を露出させて露出部481aを形成する。露出部481aは、下地層432と同じ形状とする。
なお、予め、永久磁石48に下地層481としての防錆めっきが施されていない場合には、蒸着等によって、永久磁石48の表面に下地層481を形成すればよい。
Next, as shown in FIG. 12 (c), a permanent magnet 48 that has been subjected to rust prevention plating as an underlayer 481 is prepared in advance. Next, as shown in FIG. 13A, a coating layer 482 is formed on the base layer 481 located on the upper surface of the permanent magnet 48. Next, as shown in FIG. 13B, by patterning using a photolithography technique and an etching technique, both ends of the covering layer 482 are removed, and the base layer 481 is exposed from the removed portion to expose the exposed portion 481a. Form. The exposed portion 481 a has the same shape as the base layer 432.
In addition, when the rust preventive plating as the base layer 481 is not performed on the permanent magnet 48 in advance, the base layer 481 may be formed on the surface of the permanent magnet 48 by vapor deposition or the like.

次に、露出部481a上に金属ろう材47aで構成された半田ボール(または半田ペースト)を乗せ、この半田ボールをリフローさせることで、図13(c)に示すように、露出部481a上に接合層47を設ける。次に、下地層432と露出部481aとを対面(対向)させ、これらの間に接合層47が位置するようにして、構造体40と永久磁石48とを重ね合わせ、この状態で、接合層47を溶融させる。溶融した接合層47(金属ろう材47a)は、下地層432上に濡れ広がり、これにより、図13(d)に示すように、リブ431に永久磁石48が接合される。この際、溶融した接合層47(金属ろう材47a)の表面張力によるセルフアライメント効果によって、下地層432と露出部481aの輪郭が一致するように、枠体部43に対して永久磁石48が自然にかつ高精度に位置決めされる。   Next, by placing a solder ball (or solder paste) made of the metal brazing material 47a on the exposed portion 481a and reflowing the solder ball, as shown in FIG. 13C, the exposed portion 481a is placed on the exposed portion 481a. A bonding layer 47 is provided. Next, the base layer 432 and the exposed portion 481a are faced (opposed), and the structure 40 and the permanent magnet 48 are overlaid so that the bonding layer 47 is positioned therebetween, and in this state, the bonding layer 47 is melted. The melted bonding layer 47 (metal brazing material 47a) spreads on the base layer 432, whereby the permanent magnet 48 is bonded to the rib 431 as shown in FIG. 13 (d). At this time, the permanent magnet 48 is naturally attached to the frame body portion 43 so that the contours of the base layer 432 and the exposed portion 481a coincide with each other due to the self-alignment effect due to the surface tension of the molten bonding layer 47 (metal brazing material 47a). And positioning with high accuracy.

[3]コイル491の配置工程
最後に、永久磁石48と対向するようにコイル491を配置することで、光スキャナー4が得られる。
このような光スキャナーの製造方法によれば、下地層481として、予め施されている防錆めっきを用いることができるため、光スキャナーの製造工程を簡略化することができる。また、金属ろう材47aのセルフアライメント効果によって、枠体部43と永久磁石48との位置決めを高精度に行うことができるため、簡単に、振動特性の高い光スキャナー4を製造することができる。
[3] Arrangement Step of Coil 491 Finally, the optical scanner 4 is obtained by arranging the coil 491 so as to face the permanent magnet 48.
According to such a method for manufacturing an optical scanner, it is possible to use rust-proof plating applied in advance as the base layer 481, so that the manufacturing process of the optical scanner can be simplified. Moreover, since the frame body portion 43 and the permanent magnet 48 can be positioned with high accuracy by the self-alignment effect of the metal brazing material 47a, the optical scanner 4 having high vibration characteristics can be easily manufactured.

3.ヘッドアップディスプレイ
次に、本発明の画像表示装置の一例であるヘッドアップディスプレイについて説明する。
図14は、本発明の画像表示装置を応用したヘッドアップディスプレイを示す斜視図である。
3. Head-up Display Next, a head-up display that is an example of the image display device of the present invention will be described.
FIG. 14 is a perspective view showing a head-up display to which the image display device of the present invention is applied.

図14に示すように、ヘッドアップディスプレイシステム200では、画像表示装置1は、自動車のダッシュボードに、ヘッドアップディスプレイ210を構成するよう搭載されている。このヘッドアップディスプレイ210により、フロントガラス220に、例えば、目的地までの案内表示等の所定の画像を表示することができる。なお、ヘッドアップディスプレイシステム200は、自動車に限らず、例えば、航空機、船舶等にも適用することができる。   As shown in FIG. 14, in the head-up display system 200, the image display device 1 is mounted on the dashboard of the automobile so as to constitute a head-up display 210. With this head-up display 210, a predetermined image such as a guidance display to the destination can be displayed on the windshield 220, for example. Note that the head-up display system 200 can be applied not only to automobiles but also to aircrafts, ships, and the like.

4.ヘッドマウントディスプレイ
次に、本発明のヘッドマウントディスプレイについて説明する。
図15は、本発明のヘッドマウントディスプレイを示す斜視図である。
図15に示すように、ヘッドマウントディスプレイ300は、観察者の頭部に装着されるフレーム310と、フレーム310に搭載された画像表示装置1とを有している。そして、画像表示装置1により、フレーム310の本来レンズである部位に設けられた表示部(光反射層材)320に、一方の目で視認される所定の画像を表示する。
4). Next, the head mounted display of the present invention will be described.
FIG. 15 is a perspective view showing the head mounted display of the present invention.
As shown in FIG. 15, the head-mounted display 300 includes a frame 310 that is mounted on the observer's head and the image display device 1 that is mounted on the frame 310. Then, the image display device 1 displays a predetermined image visually recognized by one eye on a display unit (light reflecting layer material) 320 provided in a portion that is originally a lens of the frame 310.

表示部320は、透明であってもよく、また、不透明であってもよい。表示部320が透明な場合は、現実世界からの情報に画像表示装置1からの情報を重ねて使用することができる。また、表示部320は、入射した光の少なくとも一部を反射すればよく、例えば、ハーフミラーなどを用いることができる。
なお、ヘッドマウントディスプレイ300に、2つ画像表示装置1を設け、両方の目で視認される画像を、2つの表示部に表示するようにしてもよい。
The display unit 320 may be transparent or opaque. When the display unit 320 is transparent, information from the image display device 1 can be used by being superimposed on information from the real world. The display unit 320 only needs to reflect at least part of the incident light, and for example, a half mirror can be used.
Note that the head-mounted display 300 may be provided with two image display devices 1 so that images viewed with both eyes may be displayed on the two display units.

以上、本発明の光スキャナー、光スキャナーの製造方法、画像表示装置およびヘッドマウントディスプレイを、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、各部の構成は、同様の機能を有する任意の構成のものに置換することができる。また、本発明に他の任意の構成物が付加されていてもよい。
また、前述した実施形態では、可動部が、基部と、基部に設けられたスペーサーと、スペーサーの上面に設けられた光反射部とで構成されているが、可動部の構成としては、これに限定されず、例えば、スペーサーを省略して、基部と、基部の上面に設けられた光反射部とで構成されていてもよい。
また、前述した実施形態では、リブの下面に直接、下地層(第1の下地層)が設けられているが、リブの下面と下地層との間には、中間層が介在していてもよい。同様に、前述した実施形態では、下地層(第2の下地層)上に直接、被覆層が設けられているが、下地層と被覆層との間には中間層が介在していてもよい。
As described above, the optical scanner, the manufacturing method of the optical scanner, the image display device, and the head mounted display of the present invention have been described based on the illustrated embodiment, but the present invention is not limited to this, and the configuration of each part is It can be replaced with any configuration having a similar function. In addition, any other component may be added to the present invention.
Further, in the above-described embodiment, the movable part is composed of the base, the spacer provided on the base, and the light reflecting part provided on the upper surface of the spacer. For example, the spacer may be omitted, and the base portion and a light reflecting portion provided on the upper surface of the base portion may be included.
In the above-described embodiment, the underlayer (first underlayer) is provided directly on the lower surface of the rib. However, even if an intermediate layer is interposed between the lower surface of the rib and the underlayer. Good. Similarly, in the embodiment described above, the coating layer is provided directly on the foundation layer (second foundation layer), but an intermediate layer may be interposed between the foundation layer and the coating layer. .

1……画像表示装置 10……対象物 11……ミラー 2……描画用光源ユニット 21B、21G、21R……レーザー光源 22R、22G、22B……コリメーターレンズ 23B、23G、23R……ダイクロイックミラー 4、4A、4B……光スキャナー 40……構造体 400、410……SOI基板 41……可動部 411……基部 412……スペーサー 413……光反射部 421、422……第1の軸部 43……枠体部 431……リブ 432……下地層 441、442……第2の軸部 45……支持部 47……接合層 47a……金属ろう材 48……永久磁石 481……下地層 481’……下地層 481a……露出部 482……被覆層 491……コイル 492……電圧印加部 492a……第1の電圧発生部 492b……第2の電圧発生部 492c……電圧重畳部 492d……加算器 493……磁心 6……制御部 200……ヘッドアップディスプレイシステム 210……ヘッドアップディスプレイ 220……フロントガラス 300……ヘッドマウントディスプレイ 310……フレーム 320……表示部 RR、BB、GG……レーザー光 LL……描画用レーザー光 J1……第1の軸 J2……第2の軸 T1、T2……周期 V1……第1の電圧 V2……第2の電圧 θ……傾斜角   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Image display apparatus 10 ... Object 11 ... Mirror 2 ... Drawing light source unit 21B, 21G, 21R ... Laser light source 22R, 22G, 22B ... Collimator lens 23B, 23G, 23R ... Dichroic mirror 4, 4A, 4B ... Optical scanner 40 ... Structure 400, 410 ... SOI substrate 41 ... Movable part 411 ... Base part 412 ... Spacer 413 ... Light reflecting part 421, 422 ... First shaft part 43 …… Frame body portion 431 …… Rib 432 …… Underlayer 441, 442 …… Second shaft portion 45 …… Supporting portion 47 …… Junction layer 47a …… Metal brazing material 48 …… Permanent magnet 481 …… Bottom Base layer 481 ′ …… Underlayer 481a …… Exposed portion 482 …… Coating layer 491 …… Coil 492 …… Voltage applying portion 492a …… First voltage generation Raw part 492b …… Second voltage generation part 492c …… Voltage superposition part 492d …… Adder 493 …… Magnetic core 6 …… Control part 200 …… Head-up display system 210 …… Head-up display 220 …… Front glass 300 …… Head mounted display 310 …… Frame 320 …… Display unit RR, BB, GG …… Laser beam LL …… Drawing laser beam J1 …… First axis J2 …… Second axis T1, T2 …… Period V1 …… First voltage V2 …… Second voltage θ …… Inclination angle

Claims (12)

光を反射する光反射部を備える可動部と、
枠体部と、
前記可動部と前記枠体部とを接続し、前記可動部を前記枠体部に対して第1の軸まわりに揺動可能に支持する第1の軸部と、
前記枠体部を前記第1の軸に交差する第2の軸まわりに揺動可動に支持する第2の軸部と、
金属ろう材からなる接合層を介して前記枠体部に固定され、一方の磁極と他方の磁極とを結ぶ線分が前記第1の軸および前記第2の軸に対して傾斜している永久磁石と、
前記枠体部の前記永久磁石と対向する面上に設けられ、前記枠体部よりも前記金属ろう材に対する濡れ性が高い第1の下地層と、
前記永久磁石の前記枠体部と対向する面上に設けられ、前記永久磁石よりも前記金属ろう材に対する濡れ性が高い第2の下地層と、
前記第2の下地層上に、前記第2の下地層の前記第1の下地層と対向する部分を露出させるようにして設けられ、前記第2の下地層よりも前記金属ろう材に対する濡れ性が低い被覆層と、を有し、
前記接合層は、前記第1の下地層と、前記第2の下地層の前記被覆層から露出した露出部と、を接合していることを特徴とする光スキャナー。
A movable part including a light reflecting part for reflecting light;
A frame part;
A first shaft portion that connects the movable portion and the frame body portion, and supports the movable portion so as to be swingable about a first axis with respect to the frame body portion;
A second shaft portion that slidably supports the frame body portion around a second axis that intersects the first axis;
Permanently fixed to the frame body through a bonding layer made of a metal brazing material, and a line segment connecting one magnetic pole and the other magnetic pole is inclined with respect to the first axis and the second axis. A magnet,
A first base layer provided on a surface of the frame body portion facing the permanent magnet, and having higher wettability to the metal brazing material than the frame body portion;
A second underlayer provided on a surface of the permanent magnet facing the frame portion, and having higher wettability to the metal brazing material than the permanent magnet;
Provided on the second underlayer so as to expose a portion of the second underlayer facing the first underlayer, and wettability to the metal brazing material more than the second underlayer. And a low coating layer,
The optical scanner according to claim 1, wherein the bonding layer bonds the first underlayer and the exposed portion of the second underlayer exposed from the coating layer.
前記第1の下地層と前記露出部とが同じ平面視形状をなしている請求項1に記載の光スキャナー。   The optical scanner according to claim 1, wherein the first base layer and the exposed portion have the same planar view shape. 前記枠体部は、前記枠体部の前記永久磁石に対向する面上にリブを有し、
前記リブの前記永久磁石と対向する面上に前記第1の下地層が設けられている請求項1または2に記載の光スキャナー。
The frame body portion has a rib on the surface of the frame body portion facing the permanent magnet,
The optical scanner according to claim 1, wherein the first underlayer is provided on a surface of the rib facing the permanent magnet.
前記被覆層は、前記リブの側面に当接している請求項3に記載の光スキャナー。   The optical scanner according to claim 3, wherein the coating layer is in contact with a side surface of the rib. 前記金属ろう材は、半田である請求項1ないし4のいずれか1項に記載の光スキャナー。   The optical scanner according to claim 1, wherein the metal brazing material is solder. 前記被覆層は、前記第2の下地層よりも光の反射率が低い請求項1ないし5のいずれか1項に記載の光スキャナー。   The optical scanner according to claim 1, wherein the coating layer has a light reflectance lower than that of the second base layer. 前記被覆層は、クロムで構成されている請求項6に記載の光スキャナー。   The optical scanner according to claim 6, wherein the coating layer is made of chromium. 前記被覆層は、アルミニウムまたはチタンで構成されている請求項1ないし5のいずれか1項に記載の光スキャナー。   The optical scanner according to claim 1, wherein the coating layer is made of aluminum or titanium. 前記第2の下地層は、さらに前記永久磁石の側面上に設けられ、
前記被覆層は、前記永久磁石の側面上に設けられた前記第2の下地層の、前記露出部の外縁と接続されている部分上に設けられている請求項1ないし8のいずれか1項に記載の光スキャナー。
The second underlayer is further provided on a side surface of the permanent magnet,
The said coating layer is provided on the part connected with the outer edge of the said exposed part of the said 2nd foundation | substrate layer provided on the side surface of the said permanent magnet. The optical scanner described in 1.
光を反射する光反射部を備える可動部、枠体部、前記可動部と前記枠体部とを接続し、前記可動部を前記枠体部に対して第1の軸まわりに揺動可能に支持する第1の軸部、前記枠体部を前記第1の軸に交差する第2の軸まわりに揺動可動に支持する第2の軸部、金属ろう材からなる接合層を介して前記枠体部に固定され、一方の磁極と他方の磁極とを結ぶ線分が前記第1の軸および前記第2の軸に対して傾斜している永久磁石、を有する光スキャナーの製造方法であって、
前記可動部、前記枠体部、前記第1の軸部、前記第2の軸部、前記枠体部に設けられ、前記枠体部よりも前記金属ろう材に対する濡れ性が高い第1の下地層、を有するミラー構造体を得るとともに、
前記永久磁石、前記永久磁石よりも前記金属ろう材に対する濡れ性が高い第2の下地層、前記第2の下地層の一部を露出させるようにして設けられ、前記第2の下地層よりも前記金属ろう材に対する濡れ性が低い被覆層、を有する磁石構造体を得る工程と、
前記第1の下地層と前記第2の下地層の前記被覆部から露出している露出部とが対向し、かつ、前記第1の下地層と前記露出部との間に前記金属ろう材が配置された状態で前記ミラー構造体と前記磁石構造体とを重ね合わせ、前記金属ろう材を溶融させることで前記ミラー構造体と前記磁石構造体とを接合する工程とを有することを特徴とする光スキャナーの製造方法。
A movable part having a light reflecting part for reflecting light, a frame body part, the movable part and the frame body part are connected, and the movable part can swing around a first axis with respect to the frame body part. A first shaft portion to be supported, a second shaft portion to swingably support the frame body portion around a second shaft intersecting the first axis, and the bonding layer made of a metal brazing material A method of manufacturing an optical scanner having a permanent magnet fixed to a frame body and having a line segment connecting one magnetic pole and the other magnetic pole inclined with respect to the first axis and the second axis. And
A first lower portion that is provided on the movable portion, the frame body portion, the first shaft portion, the second shaft portion, and the frame body portion and has higher wettability with respect to the metal brazing material than the frame body portion. While obtaining a mirror structure having a formation,
The permanent magnet, the second underlayer having higher wettability with respect to the metal brazing material than the permanent magnet, and a part of the second underlayer are provided to be exposed, than the second underlayer. Obtaining a magnet structure having a coating layer with low wettability to the metal brazing material;
The exposed portion exposed from the covering portion of the first underlayer and the second underlayer faces each other, and the metal brazing material is interposed between the first underlayer and the exposed portion. The mirror structure and the magnet structure are superposed in an arranged state, and the metal brazing material is melted to join the mirror structure and the magnet structure. Manufacturing method of optical scanner.
光を反射する光反射部を備える可動部と、
枠体部と、
前記可動部と前記枠体部とを接続し、前記可動部を前記枠体部に対して第1の軸まわりに揺動可能に支持する第1の軸部と、
前記枠体部を前記第1の軸に交差する第2の軸まわりに揺動可動に支持する第2の軸部と、
金属ろう材からなる接合層を介して前記枠体部に固定され、一方の磁極と他方の磁極とを結ぶ線分が前記第1の軸および前記第2の軸に対して傾斜している永久磁石と、
前記枠体部の前記永久磁石と対向する面上に設けられ、前記枠体部よりも前記金属ろう材に対する濡れ性が高い第1の下地層と、
前記永久磁石の前記枠体部と対向する面上に設けられ、前記永久磁石よりも前記金属ろう材に対する濡れ性が高い第2の下地層と、
前記第2の下地層上に、前記第2の下地層の前記第1の下地層と対向する部分を露出させるようにして設けられ、前記第2の下地層よりも前記金属ろう材に対する濡れ性が低い被覆層と、を有し、
前記接合層は、前記第1の下地層と前記第2の下地層の前記被覆層から露出した露出部とを接合していることを特徴とする画像表示装置。
A movable part including a light reflecting part for reflecting light;
A frame part;
A first shaft portion that connects the movable portion and the frame body portion, and supports the movable portion so as to be swingable about a first axis with respect to the frame body portion;
A second shaft portion that slidably supports the frame body portion around a second axis that intersects the first axis;
Permanently fixed to the frame body through a bonding layer made of a metal brazing material, and a line segment connecting one magnetic pole and the other magnetic pole is inclined with respect to the first axis and the second axis. Magnets,
A first base layer provided on a surface of the frame body portion facing the permanent magnet, and having higher wettability to the metal brazing material than the frame body portion;
A second underlayer provided on a surface of the permanent magnet facing the frame portion, and having higher wettability to the metal brazing material than the permanent magnet;
Provided on the second underlayer so as to expose a portion of the second underlayer facing the first underlayer, and wettability to the metal brazing material more than the second underlayer. And a low coating layer,
The image display apparatus, wherein the bonding layer bonds the first underlayer and the exposed portion of the second underlayer exposed from the coating layer.
観察者の頭部に装着されるフレームと、
前記フレームに設けられた光スキャナーと、を備えたヘッドマウントディスプレイであって、
前記光スキャナーは、光を反射する光反射部を備える可動部と、
枠体部と、
前記可動部と前記枠体部とを接続し、前記可動部を前記枠体部に対して第1の軸まわりに揺動可能に支持する第1の軸部と、
前記枠体部を前記第1の軸に交差する第2の軸まわりに揺動可動に支持する第2の軸部と、
金属ろう材からなる接合層を介して前記枠体部に固定され、一方の磁極と他方の磁極とを結ぶ線分が前記第1の軸および前記第2の軸に対して傾斜している永久磁石と、
前記枠体部の前記永久磁石と対向する面上に設けられ、前記枠体部よりも前記金属ろう材に対する濡れ性が高い第1の下地層と、
前記永久磁石の前記枠体部と対向する面上に設けられ、前記永久磁石よりも前記金属ろう材に対する濡れ性が高い第2の下地層と、
前記第2の下地層上に、前記第2の下地層の前記第1の下地層と対向する部分を露出させるようにして設けられ、前記第2の下地層よりも前記金属ろう材に対する濡れ性が低い被覆層と、を有し、
前記接合層は、前記第1の下地層と前記第2の下地層の前記被覆層から露出した露出部とを接合していることを特徴とするヘッドマウントディスプレイ。
A frame attached to the observer's head;
A head-mounted display comprising an optical scanner provided on the frame,
The optical scanner includes a movable part including a light reflecting part that reflects light;
A frame part;
A first shaft portion that connects the movable portion and the frame body portion, and supports the movable portion so as to be swingable about a first axis with respect to the frame body portion;
A second shaft portion that slidably supports the frame body portion around a second axis that intersects the first axis;
Permanently fixed to the frame body through a bonding layer made of a metal brazing material, and a line segment connecting one magnetic pole and the other magnetic pole is inclined with respect to the first axis and the second axis. Magnets,
A first base layer provided on a surface of the frame body portion facing the permanent magnet, and having higher wettability to the metal brazing material than the frame body portion;
A second underlayer provided on a surface of the permanent magnet facing the frame portion, and having higher wettability to the metal brazing material than the permanent magnet;
Provided on the second underlayer so as to expose a portion of the second underlayer facing the first underlayer, and wettability to the metal brazing material more than the second underlayer. And a low coating layer,
The head-mounted display, wherein the bonding layer bonds the first underlayer and the exposed portion of the second underlayer exposed from the coating layer.
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