JP2015062944A - プラズマアーク溶接システム - Google Patents
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Abstract
Description
図1〜図6を用いて、本発明の第1実施形態について説明する。
時刻t10において、パイロットアーク用回路3にパイロットアーク電流通電開始信号(図示略)が送られることにより、非消耗電極121とプラズマノズル122との間に、パイロットアークPaが発生する。これにより、同図(a)に示すように、パイロットアーク電流Ipの通電が開始する。時刻t10から流れるパイロットアーク電流Ipの電流値は、たとえば1〜20Aであり、好ましくは5〜20Aである。なお、パイロットアークPaの発生(すなわちパイロットアーク電流Ipの通電の開始)は、非消耗電極121とプラズマノズル122との間に、高周波であり且つ非常に高い電圧を印加することにより行う。パイロットアークPaを発生させるための当該電圧の周波数は、数MHzである。パイロットアークPaを発生させるための当該電圧の電圧値は、数kVである。また、同図(e)に示すように、時刻t10以前に、プラズマガスPGが流れ始めている。
メインアーク電流Imの通電が開始すると、動作制御回路2は、時刻t13において、ロボット移動速度Vrを予め定められた速度とするための動作制御信号Msを溶接ロボット1に送る。これにより、同図(c)に示すように、時刻t13において、溶接進行方向Drにおける、非消耗電極121の母材Wに対する相対移動が開始する。このようにして、時刻t13から定常溶接が開始する。
定常溶接時において、母材Wと非消耗電極121の先端121Aとの距離LLは常に一定、ではない。定常溶接時には距離LLに変動が生じる。これは、母材Wの設置時に生じるずれや、薄い母材Wを用いる場合に生じる変形等が原因として考えられる。そして、図3(f)に示すように、時刻t14から、母材Wと非消耗電極121の先端121Aとの距離LLが、距離L3から増大する。すなわち、時刻t14から、スタンドオフが増大する。なお、スタンドオフとは、トーチ12と母材Wとの距離を意味する。メインアーク電流Imの電流値と、母材Wと非消耗電極121の先端121Aとの距離LLと、メインアーク電圧Vmの電圧値とは、以下の関係を満たす。
(メインアーク電圧Vm)∝(距離LL)×(メインアーク電流Im)・・・(式1)
すなわち、(式1)から理解できるように、同一電流値である場合、母材Wと非消耗電極121の先端121Aとの距離LLと、メインアーク電圧Vmの電圧値とは、比例関係にある。時刻t14前後において、メインアーク電流Imは、電流値im3のままであるから、図3(d)、(f)に示すように、母材Wと非消耗電極121の先端121Aとの距離LLの変化に比例して、メインアーク電圧Vmの電圧値が変化する。そして、母材Wと非消耗電極121の先端121Aとの距離LLが距離L4となったとき(図4(S−2))、メインアーク電圧Vmの電圧値は、電圧値vm41となる。
このように、電流値算出回路47が設定電流値Isを算出すると、図3(b)に示すように、時刻t16において、メインアーク電源回路41がメインアーク電流Imの電流値を電流値im4に変化(増加)させる。メインアーク電流Imの電流値の変化前から変化後までの間、非消耗電極121の延びる方向xにおける非消耗電極121の先端121Aの位置は、一定のままである。そして、時刻t16にてメインアーク電流Imの電流値を変化させる前後において、母材Wと非消耗電極121の先端121Aとの距離LLは距離L4のまま一定である。そのため、(式1)から理解できるように、図3(d)に示すように、メインアーク電流Imの電流値の増加とともに、メインアーク電圧Vmの電圧値が電圧値vm41から電圧値vm42に上昇する。
図3(f)に示すように、時刻t17から、母材Wと非消耗電極121の先端121Aとの距離LLが、距離L4から減少する。すなわち、時刻t17から、スタンドオフが減少する。時刻t17前後において、メインアーク電流Imは、電流値im4のままであるから、図3(d)、(f)に示すように、母材Wと非消耗電極121の先端121Aとの距離LLの変化に比例して、メインアーク電圧Vmの電圧値が変化する。そして、母材Wと非消耗電極121の先端121Aとの距離LLが距離L2となったとき(図4(S−3))、メインアーク電圧Vmの電圧値は、電圧値vm21となる。
このように、電流値算出回路47が設定電流値Isを算出すると、図3(b)に示すように、時刻t19において、メインアーク電源回路41がメインアーク電流Imの電流値を電流値im2に変化させる。時刻t19にてメインアーク電流Imの電流値を変化させる前後において、母材Wと非消耗電極121の先端121Aとの距離LLは距離L2のまま一定である。そのため、(式1)から理解できるように、図3(d)に示すように、メインアーク電流Imの電流値の減少とともに、メインアーク電圧Vmの電圧値が電圧値vm21から電圧値vm22に減少する。
11 マニピュレータ
12 トーチ
121 非消耗電極
121A 先端
122 プラズマノズル
123 シールドガスノズル
2 動作制御回路
3 パイロットアーク用回路
4 メインアーク用回路
41 メインアーク電源回路
46 メインアーク電圧検出回路
47 電流値算出回路
471 距離反映サンプル値生成部
474 演算部
48 電流値記憶部
491 プラズマガス流量制御回路
492 シールドガス流量制御回路
81 プラズマガス供給装置
82 シールドガス供給装置
C1 プラズマアーク溶接システム
Dr 溶接進行方向
G1,G2 グラフ
Im メインアーク電流
Ip パイロットアーク電流
Ma メインアーク
Ms 動作制御信号
Pa パイロットアーク
PG プラズマガス
SG シールドガス
Spg プラズマガス流量制御信号
Ssg シールドガス流量制御信号
t10,t11,t12,t13,t14,t15,t16,t17,t18,t19 時刻
VA 平均値
Vdm メインアーク電圧検出信号
Vm メインアーク電圧
Vp パイロットアーク電圧
Vr ロボット移動速度
Vth しきい値
V(k) サンプル電圧値
W 母材
Is 設定電流値
Ic 現状電流値
im1,im2,im3,im4,im5,im6 電流値
vm21,vm22,vm3,vm41,vm42 電圧値
LL,L2,L3,L4 距離
N 所定数
n1 通常値
n2 値
LIm 仮想直線
x 方向
Claims (12)
- 非消耗電極および前記非消耗電極を囲むプラズマノズルを含むトーチを用いる、プラズマアーク溶接方法のためのプラズマアーク溶接システムであって、
前記非消耗電極および母材の間にメインアーク電流を流すメインアーク電源回路と、
前記非消耗電極および前記母材の間に印加されたメインアーク電圧を検出するメインアーク電圧検出回路と、
前記メインアーク電圧検出回路によって検出されたメインアーク電圧の電圧値に基づき、設定電流値を算出する電流値算出回路と、を備え、
前記メインアーク電源回路は、前記メインアーク電流を、前記電流値算出回路によって算出された前記設定電流値で流す、プラズマアーク溶接システム。 - 前記電流値算出回路は、前記メインアーク電源回路によって流されているメインアーク電流の電流値と、前記メインアーク電圧検出回路によって検出されたメインアーク電圧の電圧値と、に基づき、前記設定電流値を算出する、請求項1に記載のプラズマアーク溶接システム。
- 前記電流値算出回路は、
前記メインアーク電圧の電圧値が増加すると、前記メインアーク電源回路が流しているメインアーク電流の電流値より大きい値を、前記設定電流値として算出し、
前記メインアーク電圧の電圧値が減少すると、前記メインアーク電源回路が流しているメインアーク電流の電流値より小さい値を、前記設定電流値として算出する、請求項1または請求項2に記載のプラズマアーク溶接システム。 - 前記メインアーク電源回路が流す前記メインアーク電流の電流値を増加させた場合、前記メインアーク電流の電流値の増加とともに、前記メインアーク電圧の電圧値が増加し、
前記メインアーク電源回路が流す前記メインアーク電流の電流値を減少させた場合、前記メインアーク電流の電流値の減少とともに、前記メインアーク電圧の電圧値が減少し、
前記メインアーク電流の電流値の変化前から変化後までの間、前記非消耗電極の延びる方向における、前記非消耗電極の先端の位置は一定のままである、請求項3に記載のプラズマアーク溶接システム。 - 前記トーチを含むロボットを更に備え、
前記ロボットは、前記非消耗電極の先端と前記母材との距離が変動した場合であっても、前記非消耗電極の先端を仮想直線に沿って前記母材に対し相対移動させる、請求項1ないし請求項4のいずれかに記載のプラズマアーク溶接システム。 - 前記電流値算出回路は、
前記メインアーク電圧検出回路によって検出されたメインアーク電圧に基づき、サンプリングを行うことにより、複数の距離反映サンプル値を生成する距離反映サンプル値生成部と、
所定数個の連続する前記距離反映サンプル値を用いて、前記設定電流値を算出する演算部と、を含み、
前記距離反映サンプル値は、前記非消耗電極の先端と前記母材との間の距離を反映している、請求項1ないし請求項5のいずれかに記載のプラズマアーク溶接システム。 - 前記電流値算出回路においてなされるサンプリングのサンプリング周期は、50〜200μSecである、請求項6に記載のプラズマアーク溶接システム。
- 前記演算部は、前記所定数個の連続する距離反映サンプル値の平均値に基づき、前記設定電流値を算出する、請求項7に記載のプラズマアーク溶接システム。
- 前記距離反映サンプル値の変化量が所定のしきい値以下である場合、前記所定数は、通常値であり、
前記距離反映サンプル値の変化量が前記所定のしきい値を超えた場合、前記所定数は、前記通常値より小さい値である、請求項8に記載のプラズマアーク溶接システム。 - 前記通常値は、300〜500である、請求項9に記載のプラズマアーク溶接システム。
- 前記非消耗電極および前記プラズマノズルの間にパイロットアーク電流を流すパイロットアーク用回路を更に備える、請求項1ないし請求項10のいずれかに記載のプラズマアーク溶接システム。
- 前記非消耗電極と前記プラズマノズルとの間にプラズマガスを流すプラズマガス供給装置を更に備える、請求項1ないし請求項11のいずれかに記載のプラズマアーク溶接システム。
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