JP2015055818A - 赤外線遮蔽フィルム、及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
1回の塗工で、可視光領域での透過率を高く保ちながらも、近赤外領域の波長の光を効果的に遮蔽する機能を有した層を薄膜で形成した赤外線遮蔽フィルム及びその製造方法を提供する。
【解決手段】
基材の少なくとも片面に、微粒子を含まない樹脂層と微粒子層とが順に積層されている赤外線遮蔽フィルムであって、前記微粒子層の膜厚が0.25μmから2.1μmであり、かつ赤外線遮蔽効果を有することを特徴とする赤外線遮蔽フィルム。
【選択図】図1
Description
態およびその大きさなどに制約があることが多かった。
金属酸化物としては、例えば、酸化タングステン系化合物、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化亜鉛、酸化ルテニウム、酸化インジウム、錫ドープ酸化インジウム(ITO)、酸化錫、アンチモンドープ酸化錫(ATO)、酸化セシウムなどが挙げられる。
金属ホウ(硼)化物としては、多ホウ化金属化合物が好ましく、具体的には、ホウ化ランタン(LaB6)、ホウ化プラセオジウム(PrB6)、ホウ化ネオジウム(NdB6)、ホウ化セリウム(CeB6)、ホウ化イットリウム(YB6)、ホウ化チタン(TiB6)、ホウ化ジルコニウム(ZrB6)、ホウ化ハフニウム(HfB6)、ホウ化バナジウム(VB6)、ホウ化タンタル(TaB6)、ホウ化クロム(CrB、CrB6)、ホウ化モリブデン(MoB6、Mo2B5、MoB)、ホウ化タングステン(W2B5)などが挙げられる。
また金属窒化物としては、窒化チタン、窒化ニオブ、窒化タンタル、窒化ジルコニウム、窒化ハフニウム、窒化バナジウムなどが挙げられる。好ましくは、アンチモン含有酸化錫(ATO)粒子であり、これらの金属酸化物粒子を本発明の塗液中に含有し塗工すると微粒子層を含まない樹脂層の上層に均一な微粒子層が形成され、可視光領域での透過率を保ちながら、赤外領域の透過率が低下させるなどの機能性向上が可能となる。これら金属酸化物粒子は、一種単独又は二種以上の組み合わせで使用することができる。また屈折率を低下させるためにシリカ微粒子等を配合することもできる。
まず、微粒子と、電離放射線硬化型材料とを溶媒に分散させ、基材を溶解・膨潤させる成分を含む塗液を調製する。
基材を溶解・膨潤させない成分としても、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような多官能または多官能の(メタ)アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン(メタ)アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線硬化型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。
次に、前記塗液を基材上に塗布する。
次に、前記基材上に塗布された前記塗液を乾燥させ、塗液内の溶媒を除去し、基材上に塗膜を形成する。乾燥は、適宜公知の乾燥手段を用いて行ってよい。例えば、乾燥手段として、加熱、送風、熱風、などを用いることができる。
次に、前記塗膜に電離放射線を照射し、塗膜を硬化することで樹脂層の表面に表面硬度を付与することができ、耐擦傷性に優れた赤外線遮蔽効果を示すことができる。
また、この粘着剤層の上に設けられる剥離シートとしては、例えばグラシン紙、コート紙、ラミネート紙などの紙及び各種プラスチックフィルムに、シリコーン樹脂などの剥離剤を塗付したものなどが挙げられる。この剥離シートの厚さについては特に制限はないが、通常20〜150μm程度である。なお、上記粘着剤層には、必要に応じ、紫外線吸収剤や光安定剤を含有させることができる。
本発明の赤外線遮蔽フィルムは、特に窓ガラスや窓用プラスチックボードなどの内側表面貼付用として好適に用いられる。使用する場合は、剥離シートを剥がし、粘着剤層面が対象物に接するようにして貼付すればよい。
アンチモン含有酸化スズ(ATO)微粒子分散液20%溶液(日本触媒化成製)
12.5重量部。
電離放射線硬化型材料:
メチロールプロパントリアクリレート(TMPT)(新中村化学工業製)13.5重量部、2−ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)(新中村化学工業製)31.6重量部
光重合開始剤:イルガキュア184(BASFジャパン社製)2.4重量部。
溶媒:エタノール 40.0重量部。
固形分:50wt%
このとき、基材は、トリアセチルセルロースフィルム(屈折率1.49、厚さ60μm)とした。また、ワイヤーバーコーターを用いて塗布した。
このとき、一次乾燥し、二次乾燥し、2段階の乾燥を行った。一次乾燥および二次乾燥の乾燥条件を以下に示す。
一次乾燥:2vol%以上5vol%以下の溶媒雰囲気下の半密閉空間にて8秒25℃
で室温乾燥。
二次乾燥:オーブンで100℃1分乾燥。
このとき、電離放射線として紫外線を照射した。また、紫外線の照射は、コンベア式紫
外線硬化装置を用いて露光量400mJ/cm2とした。
アンチモン含有酸化スズ(ATO)微粒子分散液20%溶液(日本触媒化成製)
12.5重量部。
電離放射線硬化型材料:
メチロールプロパントリアクリレート(TMPT )(新中村化学工業製)27.1重量部、2−ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)(新中村化学工業製)18.1重量部
光重合開始剤:イルガキュア184(BASFジャパン社製)2.4重量部。
溶媒:エタノール 40.0重量部。
固形分:50wt%
アンチモン含有酸化スズ(ATO)微粒子分散液20%溶液(日本触媒化成製)
25.0重量部。
電離放射線硬化型材料:
メチロールプロパントリアクリレート(TMPT )(新中村化学工業製)42.8重量部、
光重合開始剤:イルガキュア184(BASFジャパン社製)2.3重量部。
溶媒:MEK 30.0重量部。
固形分:50wt%
このとき、基材は、ポリカーボネートフィルム(厚さ100μm)とした。また、ワイヤーバーコーターを用いて塗布した。
このとき、一次乾燥し、二次乾燥し、2段階の乾燥を行った。一次乾燥および二次乾燥の乾燥条件を以下に示す。
一次乾燥:2vol%以上5vol%以下の溶媒雰囲気下の半密閉空間にて8秒25℃
で室温乾燥。
二次乾燥:オーブンで100℃1分乾燥。
このとき、電離放射線として紫外線を照射した。また、紫外線の照射は、コンベア式紫
外線硬化装置を用いて露光量400mJ/cm2とした。
アンチモン含有酸化スズ(ATO)微粒子分散液20%溶液(日本触媒化成製)
25.0重量部。
電離放射線硬化型材料:
メチロールプロパントリアクリレート(TMPT )(新中村化学工業製)42.8重量部、
光重合開始剤:イルガキュア184(BASFジャパン社製)2.3重量部。
溶媒:MEK 30.0重量部。
固形分:50wt%
このとき、基材は、ポリカーボネートフィルム(厚さ100μm)とした。また、ワイヤーバーコーターを用いて塗布した。
このとき、一次乾燥し、二次乾燥し、2段階の乾燥を行った。一次乾燥および二次乾燥の乾燥条件を以下に示す。
一次乾燥:2vol%以上5vol%以下の溶媒雰囲気下の半密閉空間にて8秒25℃
で室温乾燥。
二次乾燥:オーブンで140℃1分乾燥。
このとき、電離放射線として紫外線を照射した。また、紫外線の照射は、コンベア式紫
外線硬化装置を用いて露光量400mJ/cm2とした。
アンチモン含有酸化スズ(ATO)微粒子分散液20%溶液(日本触媒化成製)
25.0重量部。
電離放射線硬化型材料:
1,4−ブタンジオールジアクリレート (巴工業製 製品名SR213)15.2重量部
光重合開始剤:イルガキュア184(BASFジャパン社製)2.3重量部。
溶媒:エタノール 30.0重量部。
固形分:50wt%
アンチモン含有酸化スズ(ATO)微粒子分散液20%溶液(日本触媒化成製)
12.5重量部。
電離放射線硬化型材料:
メチロールプロパントリアクリレート(TMPT )(新中村化学工業製)45.1重量部、
光重合開始剤:イルガキュア184(BASFジャパン社製)2.4重量部。
溶媒:エタノール 40.0重量部。
固形分:50wt%
(塗液:比較例2)
アンチモン含有酸化スズ(ATO)微粒子分散液20%溶液(日本触媒化成製)
25.0重量部。
電離放射線硬化型材料:
メチロールプロパントリアクリレート(TMPT )(新中村化学工業製)42.8重量部、
光重合開始剤:イルガキュア184(BASFジャパン社製)2.3重量部。
溶媒:エタノール 30.0重量部。
固形分:50wt%
赤外線遮断層を形成する前の基材のみ
得られた実施例1〜5、比較例1、2の赤外線遮蔽フィルムについて、(1)微粒子層の膜厚測定、樹脂層の有無の確認(2)分光透過率の測定をそれぞれ行い結果について表1、表2に示す。また、比較例3については、(2)分光透過率の測定を行い、表2に示す。
塗膜をミクロトームにより切削、断面について走査型透過電子顕微鏡を用いて観察した。(2)分光透過率の測定
自動分光光度計(日立製作所製、U−4000)を用いて分光透過率を測定した。このとき、測定条件は、C光源、2度視野、入射角5°とした。
粒子平均粒径15nmのATO粒子を使用し、塗液に基材膨潤、溶解成分を5wt%以上含む実施例1〜2は、樹脂層の上層に赤外線遮蔽効果を示す微粒子層が形成され、基材膨潤・溶解成分の量を調整することで、樹脂層上層に形成される赤外線遮蔽効果を示す微粒子層の膜厚を調整できることを確認した。また、実施例1と実施例2の可視光領域での透過率は、比較例1に示した微粒子層(赤外線遮蔽層)が樹脂層上層に形成されない、膜厚が厚い場合と同等であるが、赤外領域での透過率は下がることが分かった。
子平均粒径15nmのATO粒子を使用し、塗液に基材膨潤、溶解成分を5wt%以上含む実施例3〜5では、樹脂層の上層に微粒子層が形成され、乾燥温度を変えたり、基材膨潤・溶解成分の種類を変えることで、樹脂層上層に形成される赤外線遮蔽効果を示す微粒子層の膜厚を調整できることを確認した。また、実施例3〜5の赤外領域の透過率は、比較例2に示した、微粒子層(赤外線遮蔽層)が樹脂層上層に形成されずに膜厚が厚い場合よりも下がることが確認された。
2……樹脂層
3……基材
4……赤外線遮蔽フィルム
Claims (5)
- 基材の少なくとも片面に、微粒子を含まない樹脂層と微粒子層とが順に積層されている赤外線遮蔽フィルムであって、前記微粒子層の膜厚が0.25μmから2.1μmであり、かつ赤外線遮蔽効果を有することを特徴とする赤外線遮蔽フィルム。
- 微粒子層を形成する微粒子の平均粒径が1〜100nmであることを特徴とする請求項1に記載の赤外線遮蔽フィルム。
- 基材の少なくとも片面に、微粒子を含まない樹脂層と微粒子層とが順に積層される赤外線遮蔽フィルムの製造方法であって、
前記微粒子を含まない樹脂層と微粒子層を形成する微粒子含有塗液を基材に塗布する工程からなり、
前記微粒子含有塗液は、基材を溶解・膨潤させる成分が占める割合が5wt%以上90wt%以下の範囲内にあることを特徴とする赤外線遮蔽フィルムの製造方法。 - 請求項3に記載の製造方法により製造された赤外線遮蔽フィルム。
- 前記基材がトリアセチルセルロースフィルムまたは、ポリカーボネートフィルムからなることを特徴とする請求項1、2、4に記載の赤外線遮蔽フィルム。
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