JP2015046316A5 - - Google Patents

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上述した課題を解決するために、本発明に係る遮断素子は、絶縁基板と、上記絶縁基板に形成され、第1の回路を構成する第1及び第2の電極と、上記絶縁基板に形成され、第2の回路を構成する第3〜第5の電極と、上記第1及び第2の電極間にわたって搭載された第1の可溶導体と、上記第3及び第4の電極間に接続された発熱体と、上記第4及び第5の電極間にわたって搭載された第2の可溶導体とを備えものである。
また、本発明に係る遮断素子回路は、第1の可溶導体を有する第1の回路と、上記第1の回路と電気的に独立して形成され、発熱体と、上記発熱体の一端と接続された第2の可溶導体とを有する第2の回路とを備えものである。

Claims (25)

  1. 絶縁基板と、
    上記絶縁基板に形成され、第1の回路を構成する第1及び第2の電極と、
    上記絶縁基板に形成され、第2の回路を構成する第3〜第5の電極と、
    上記第1及び第2の電極間にわたって搭載された第1の可溶導体と、
    上記第3及び第4の電極間に接続された発熱体と、
    上記第4及び第5の電極間にわたって搭載された第2の可溶導体とを備え遮断素子。
  2. 上記第3〜第5の電極間に電流を流し上記発熱体が発熱した熱により、上記第1の可溶導体を溶断させた後に、上記第2の可溶導体を溶断させる請求項1記載の遮断素子。
  3. 上記第1の可溶導体は、上記第2の可溶導体よりも、上記発熱体の発熱中心に近い位置に搭載されている請求項1又は2に記載の遮断素子。
  4. 上記第1の可溶導体の断面積は、上記第2の可溶導体の断面積よりも小さい請求項1〜3のいずれか1項に記載の遮断素子。
  5. 上記第1の可溶導体の長さは、上記第2の可溶導体の長さよりも長い請求項1〜のいずれか1項に記載の遮断素子。
  6. 上記第1の可溶導体の融点が、上記第2の可溶導体の融点よりも低い請求項1〜のいずれか1項に記載の遮断素子。
  7. 上記絶縁基板の上記第1〜第5の電極が形成されている面の表面に絶縁層を備え、
    上記発熱体は、上記絶縁基板と上記絶縁層の間、又は上記絶縁層の内部に形成されている請求項1〜のいずれか1項に記載の遮断素子。
  8. 上記発熱体は、上記絶縁基板の上記表面と反対側の面に形成されている請求項1〜のいずれか1項に記載の遮断素子。
  9. 上記発熱体は、上記絶縁基板の内部に形成されている請求項請求項1〜のいずれか1項に記載の遮断素子。
  10. 上記発熱体は、上記第1及び第2の電極が重畳する請求項のいずれか1項に記載の遮断素子。
  11. 上記発熱体は、上記第4及び第5の電極が重畳する請求項10記載の遮断素子。
  12. 上記絶縁基板の上記第1〜第5の電極が形成されている面の表面に絶縁層を備え、
    上記発熱体は、上記絶縁基板と上記絶縁層の間に形成されるとともに、上記第1及び第2の電極、並びに上記第4及び第5の電極と並んで形成されている請求項1〜のいずれか1項に記載の遮断素子。
  13. 上記第1の可溶導体及び/又は上記第2の可溶導体は、Snを主成分とするPbフリーハンダである請求項1〜12のいずれか1項に記載の遮断素子。
  14. 上記第1の可溶導体及び/又は上記第2の可溶導体は、低融点金属と高融点金属とを含有し、
    上記低融点金属が上記発熱体からの加熱により溶融し、上記高融点金属を溶食する請求項1〜12のいずれか1項に記載の遮断素子。
  15. 上記低融点金属はハンダであり、
    上記高融点金属は、Ag、Cu又はAg若しくはCuを主成分とする合金である請求項14記載の遮断素子。
  16. 上記第1の可溶導体及び/又は上記第2の可溶導体は、内層が高融点金属であり、外層が低融点金属の被覆構造である請求項1〜1214又は15のいずれか1項に記載の遮断素子。
  17. 上記第1の可溶導体及び/又は上記第2の可溶導体は、内層が低融点金属であり、外層が高融点金属の被覆構造である請求項1〜1214又は15のいずれか1項に記載の遮断素子。
  18. 上記第1の可溶導体及び/又は上記第2の可溶導体は、低融点金属と、高融点金属とが積層された積層構造である請求項1〜1214又は15のいずれか1項に記載の遮断素子。
  19. 上記第1の可溶導体及び/又は上記第2の可溶導体は、低融点金属と、高融点金属とが交互に積層された4層以上の多層構造である請求項1〜1214又は15のいずれか1項に記載の遮断素子。
  20. 上記第1の可溶導体及び/又は上記第2の可溶導体は、内層を構成する低融点金属の表面に形成された高融点金属に、開口部が設けられている請求項1〜1214又は15のいずれか1項に記載の遮断素子。
  21. 上記第1の可溶導体及び/又は上記第2の可溶導体は、多数の開口部を有する高融点金属層と、上記高融点金属層上に形成された低融点金属層とを有し、上記開口部に低融点金属が充填されている請求項1〜1214又は15のいずれか1項に記載の遮断素子。
  22. 上記第1の可溶導体及び/又は上記第2の可溶導体は、低融点金属の体積が、高融点金属の体積よりも多い請求項1〜121421のいずれか1項に記載の遮断素子。
  23. 第1の可溶導体を有する第1の回路と、
    上記第1の回路と電気的に独立して形成され、発熱体と、上記発熱体の一端と接続された第2の可溶導体とを有する第2の回路とを備え遮断素子回路。
  24. 上記第2の回路に電流を流し上記発熱体が発熱した熱により、上記第1の可溶導体を溶断させて上記第1の回路を遮断した後に、上記第2の可溶導体を溶断させる請求項23記載の遮断素子回路。
  25. 上記第2の回路は、上記発熱体及び上記第2の可溶導体が電源及びスイッチ素子に接続され、上記スイッチ素子を駆動させることにより電流が流れる請求項23又は24に記載の遮断素子回路。
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