JP2015042931A

JP2015042931A - 熱処理炉

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Publication number: JP2015042931A
Application number: JP2013174886A
Authority: JP
Inventors: 青木　道郎; Michiro Aoki; 道郎青木; 健太中島; Kenta Nakajima; 孝彦橋本; Takahiko Hashimoto
Original assignee: NGK Insulators Ltd; NGK Kilntech Corp
Current assignee: NGK Insulators Ltd; NGK Kilntech Corp
Priority date: 2013-08-26
Filing date: 2013-08-26
Publication date: 2015-03-05
Anticipated expiration: 2033-08-26
Also published as: KR101835922B1; CN104422277A; JP6109684B2; TWI606223B; KR20150024250A; CN104422277B; TW201525394A

Abstract

【課題】炉体への外気の流入や外部への雰囲気ガスの流出を十分抑制する。【解決手段】熱処理炉１０は、内部で被処理物９６の熱処理を行う炉体１１と、被処理物９６が載置されたセッター９５を、外部と炉体１１との間で搬送するための第１搬送路３０と、炉体１１内部に雰囲気ガスとして不活性ガスを供給するガス供給装置２２と、前記炉体１１内部の雰囲気を外気より高い温度にするガス供給装置２２及びヒーター２０と、第１搬送路３０の鉛直上側に設けられ、鉛直下側に開口して第１搬送路３０内に連通する上方空間６３を形成する上方空間形成部６０と、第１搬送路３０の鉛直下側に設けられ、鉛直上側に開口して第１搬送路３０内に連通する下方空間７３を形成する下方空間形成部７０と、前記下方空間７３を吸引する吸引装置７７と、を備える。【選択図】図１

Description

本発明は、熱処理炉に関する。

従来、被処理物を熱処理する熱処理炉として、熱処理を行う炉体と、炉体へ又は炉体から被処理物を搬送する搬送路と、を備えたものが知られている。例えば特許文献１には、被加熱物を加熱する加熱本体部と、加熱本体部へ又は加熱本体部から被加熱物を搬送する搬送路と、を備えた加熱装置が記載されている。この加熱装置では、加熱本体部に対して上部が遠ざかる方向に傾斜し内部に空洞が形成されている外気流入阻止部を搬送路に設けている。この外気流入阻止部を設けることで、外気より温度の高い加熱本体部内の気体が速やかに外気流入阻止部の隔壁に沿って流れ、外気の流入を抑制することができるとしている。また、外気への気体の流出を抑制する効果もあるとされている。

特開２００８−１２８５４４号公報

しかしながら、特許文献１に記載の外気流入阻止部は外気の流入を阻止することが主目的であり、外部への雰囲気ガスの流出を抑制する効果は十分ではなかった。また、外気の流入を抑制する効果をさらに高めることも望まれていた。

本発明はこのような課題を解決するためになされたものであり、炉体への外気の流入や外部への雰囲気ガスの流出を十分抑制することを主目的とする。

本発明の熱処理炉は、
セッターに載置された被処理物の熱処理を行う熱処理炉であって、
内部で前記被処理物の熱処理を行う炉体と、
前記被処理物が載置された前記セッターを、外部と前記炉体との間で搬送するための第１搬送路と、
前記炉体内部に雰囲気ガスとして不活性ガスを供給するガス供給手段と、
前記炉体内部の雰囲気を外気より高い温度にする加熱手段と、
前記第１搬送路の鉛直上側に設けられ、鉛直下側に開口して該第１搬送路内に連通する上方空間を形成する上方空間形成部と、
前記第１搬送路の鉛直下側に設けられ、鉛直上側に開口して該第１搬送路内に連通する下方空間を形成する下方空間形成部と、
前記下方空間を吸引する下方空間吸引手段と、
を備えたものである。

この本発明の熱処理炉では、炉体に不活性ガスが供給され、炉体の雰囲気ガスが外気より高い温度に加熱されている。そのため、炉体から第１搬送路に流出する雰囲気ガスがある場合に、その雰囲気ガスは第１搬送路の鉛直上側に設けられた上方空間に溜まりやすい。これにより、第１搬送路を通過して雰囲気ガスが外部へ流出することが抑制される。また、雰囲気ガスが溜まることで上方空間は炉体内部よりも高圧の状態になりやすい。これにより、炉体内部から流出する雰囲気ガスを炉体内部へ押し戻そうとする力が働き、雰囲気ガスの流出が抑制される。さらに、第１搬送路の鉛直下側に設けられた下方空間を吸引することで、上方空間から第１搬送路を経由して下方空間に向かうガスの流れができる。そのため、この流れがエアカーテンとして働いて外部と炉体内部との間の第１搬送路でガスの流出入を抑制できる。以上により、炉体への外気の流入や外部への雰囲気ガスの流出を十分抑制することができる。ここで、第１搬送路は、セッターを外部から炉体に搬入するためのものであってもよいし、セッターを炉体から外部に搬出するためのものであってもよい。また、前記ガス供給手段が前記加熱手段を兼ねるものとしてもよい。例えば、前記ガス供給手段が外気より高い温度の不活性ガスを供給するものとしてもよい。さらに、前記下方空間吸引手段及び前記ガス供給手段は、前記上方空間が前記炉体内部よりも高圧に保たれるように、前記下方空間の吸引及び前記不活性ガスの供給をそれぞれ行うものとしてもよい。こうすれば、炉体内部から流出する雰囲気ガスを炉体内部へ押し戻そうとする力が働きやすくなる。

本発明の熱処理炉は、前記被処理物が載置された前記セッターを、前記第１搬送路と前記炉体との間で搬送するための搬送路であり、搬送方向長さＬが１００ｍｍ以上１０００ｍｍ以下である第２搬送路、を備えていてもよい。第２搬送路の搬送方向長さＬを１００ｍｍ以上とすることで、炉体の雰囲気ガスの流出をより抑制できる。

本発明の熱処理炉において、前記被処理物が載置された前記セッターを、外部と前記第１搬送路との間で搬送するための第３搬送路、を備え、前記セッターが前記第３搬送路を搬送される際の、該第３搬送路内における前記セッターの鉛直上方向の隙間の大きさを隙間高さＨとしたときに、該隙間高さＨの最小値Ｈｍｉｎが０ｍｍ超過５０ｍｍ以下としてもよい。この最小値Ｈｍｉｎを小さくするほど、第３搬送路をガスが通過しにくくなるため、炉体への外気の流入や外部への雰囲気ガスの流出をより抑制できる。

本発明の熱処理炉において、前記セッターの搬送方向に垂直且つ水平方向に平行な方向を左右方向として、前記セッターが前記第１搬送路を搬送される際の該第１搬送路の左端から前記セッターまでの前記左右方向の隙間の大きさを左隙間幅Ｗ_Lとし、前記セッターが前記第１搬送路を搬送される際の該第１搬送路の右端から前記セッターまでの前記左右方向の隙間の大きさを右隙間幅Ｗ_Rとしたときに、前記左隙間幅Ｗ_L及び前記右隙間幅Ｗ_Rがいずれも１０ｍｍ以上１５０ｍｍ以下の範囲としてもよい。左隙間幅Ｗ_L及び右隙間幅Ｗ_Rをいずれも１０ｍｍ以上とすることで、上方空間から第１搬送路を経由して下方空間に向かうガスの流量が大きくなる。そのため、この流れがエアカーテンとして働きやすくなり、ガスの流出入をより抑制できる。また、左隙間幅Ｗ_L及び右隙間幅Ｗ_Rをいずれも１５０ｍｍ以下とすることで、第１搬送路において搬送路に沿った方向にガスが流れるのを抑制できるため、ガスの流出入をより抑制できる。

本発明の熱処理炉は、前記被処理物が載置された前記セッターを、前記第１搬送路と前記炉体との間で搬送するための第２搬送路と、前記第２搬送路に配置された複数の第２搬送ローラーを有し、該第２搬送ローラーにより前記セッターを所定の搬送方向に搬送する第２搬送手段と、前記搬送方向に隣接する前記第２搬送ローラー同士の隙間を鉛直方向に気体が流通することを抑制する流通抑制部材と、を備えていてもよい。こうすれば、炉体からの雰囲気ガスが第２搬送路を通過する際に第２搬送ローラーより下側を流れにくくなり、炉体からの雰囲気ガスが上方空間に導かれやすくなる。そのため、雰囲気ガスの外部への流出をより抑制できる。

本発明の熱処理炉は、前記被処理物が載置された前記セッターを、前記第１搬送路と前記炉体との間で搬送するための第２搬送路と、前記第１搬送路に配置された複数の第１搬送ローラーを有し、該第１搬送ローラーにより前記セッターを所定の搬送方向に搬送する第１搬送手段と、前記第１搬送ローラーよりも小さい間隔で前記第２搬送路に配置された複数の第２搬送ローラーを有し、該第２搬送ローラーにより前記セッターを前記搬送方向に搬送する第２搬送手段と、を備えていてもよい。こうすれば、炉体からの雰囲気ガスが第２搬送路を通過する際に第２搬送ローラーより下側を流れにくくなり、炉体からの雰囲気ガスが上方空間に導かれやすくなる。そのため、雰囲気ガスの外部への流出をより抑制できる。

本発明の熱処理炉は、前記被処理物が載置された前記セッターを、外部と前記第１搬送路との間で搬送するための第３搬送路と、前記第３搬送路に配置された複数の第３搬送ローラーを有し、該第３搬送ローラーにより前記セッターを所定の搬送方向に搬送する第３搬送手段と、前記搬送方向に隣接する前記第３搬送ローラー同士の隙間を鉛直方向に気体が流通することを抑制する流通抑制部材と、を備えていてもよい。

本発明の熱処理炉は、前記被処理物が載置された前記セッターを、外部と前記第１搬送路との間で搬送するための第３搬送路と、前記第１搬送路に配置された複数の第１搬送ローラーを有し、該第１搬送ローラーにより前記セッターを所定の搬送方向に搬送する第１搬送手段と、前記第１搬送ローラーよりも小さい間隔で前記第３搬送路に配置された複数の第３搬送ローラーを有し、該第３搬送ローラーにより前記セッターを前記搬送方向に搬送する第３搬送手段と、を備えていてもよい。

本発明の熱処理炉において、前記上方空間形成部は、前記炉体に対して上部が遠ざかる方向に傾斜した前記上方空間を形成していてもよい。外気より高い温度の雰囲気ガスが炉体から流出したときには、この雰囲気ガスの流れる向きは炉体に対して遠ざかるほど上昇する向きとなる。そのため、上方空間が炉体に対して上部が遠ざかる方向に傾斜していることで、炉体からの雰囲気ガスが上方空間に導かれやすくなり、外部への流出をより抑制できる。

この場合において、前記上方空間形成部は、前記炉体に対して上部が遠ざかる方向に傾斜した部材であり前記上方空間を前記セッターの搬送方向に沿って複数の区画空間に区画する区画部材を有していてもよい。こうすれば、複数の区画部材が前記炉体に対して上部が遠ざかる方向に傾斜していることで、炉体からの雰囲気ガスが上方空間に導かれやすくなる。この場合において、前記複数の区画空間は、前記上方空間のうち上方で互いに連通していてもよい。こうすれば、炉体からの雰囲気ガスが第１搬送路に流れたときに、雰囲気ガスが複数の区画空間のうちいずれかを通って上方空間のうち上方に流れ、そこから他の区画空間を流れて炉体に戻る、という流れが生じやすくなり、雰囲気ガスを炉体に戻して外部への流出を抑制する効果が高まる。

本発明の熱処理炉において、前記下方空間形成部は、前記炉体に対して下部が近づく方向に傾斜した前記下方空間を形成していてもよい。外気が第１搬送路に流れたとき、炉体の雰囲気ガスの方が温度が高いため、この外気の流れる向きは炉体に対して近づくほど下降する向きとなる。そのため、下方空間が炉体に対して下部が近づく方向に傾斜していることで、外気が下方空間に導かれやすくなり、炉体への流入をより抑制できる。

熱処理炉１０の縦断面図である。図１のＡ視図である。図２のＢ−Ｂ断面図である。流通抑制部材８０の斜視図である。試験炉１１０の縦断面図である。

次に、本発明の実施形態について、図面を用いて説明する。図１は、本発明の一実施形態である熱処理炉１０の縦断面図である。図２は、図１のＡ視図である。図３は、図２のＢ−Ｂ断面図である。なお、図２，３では、セッター９５に載置された被処理物９６は図示を省略している。熱処理炉１０は、炉体１１と、第１搬送路３０と、第２搬送路４０と、第３搬送路５０と、上方空間形成部６０と、下方空間形成部７０と、コントローラー９０と、を備えている。この熱処理炉１０は、炉体１１の処理空間１１ａ内で複数の被処理物９６を載置したセッター９５を搬送しながら被処理物９６に対する熱処理を行うローラーハースキルンとして構成されている。

炉体１１は、略直方体に形成された断熱構造体であり、内部の空間である処理空間１１ａと、炉体の前端面１２（図１の左端面）及び後端面１３（図１の右端面）にそれぞれ形成され外部から処理空間１１ａへの出入口となる開口１４，１５を有している。処理空間１１ａ内には、複数の炉内搬送ローラー２１が所定の搬送方向に沿って開口１４から開口１５に亘って配置されている。なお、本実施形態では、搬送方向は、前方から後方に向かう方向（図１の左から右に向かう方向）とした。この炉内搬送ローラー２１が回転することによって、複数の被処理物９６が載置されたセッター９５は、開口１４から処理空間１１ａ内を通過して開口１５まで搬送される。また、処理空間１１ａ内には、複数の炉内搬送ローラー２１を上下から挟むように、炉体１１の天井及び底部に複数のヒーター２０が配置されている。ヒーター２０は、長手方向が搬送方向に直交する方向（左右方向）となるように配置されており、搬送方向に沿って複数配置されている。ヒーター２０は、処理空間１１ａ内を通過する被処理物９６や処理空間１１ａの雰囲気を加熱するものであり、例えばＳｉＣヒーターなどのセラミックスヒーターとして構成されている。なお、ヒーター２０に限らず、ガスバーナーなど、被処理物９６の熱処理を行うことができる加熱装置であればよい。

また、炉体１１の底部のうち後端面１３側には、ガス供給装置２２と接続され処理空間１１ａに雰囲気ガスを供給可能なガス供給口１６が形成されている。炉体１１の底部の前端面１２側には、ガス供給装置２４と接続され処理空間１１ａに雰囲気ガスを供給可能なガス供給口１７が形成されている。なお、ガス供給装置２２，２４は、熱風発生炉として構成されており、雰囲気ガスとして例えば窒素などの不活性ガスを外気以上の温度に加熱した上で処理空間１１ａに供給する。炉体１１の天井部分のうち前端面１２側には、流量調整弁２６と接続され処理空間１１ａの雰囲気を流出可能な流出口１８が形成されている。流量調整弁２６は、配管を介してガス供給装置２２，２４に接続されており、処理空間１１ａの雰囲気をガス供給装置２２，２４の吸気として循環させる。なお、流量調整弁２６を通過したガスは、フィルターなどにより不活性ガス以外の不要成分（例えば酸素，水など）が除去された上でガス供給装置２２，２４に供給されてもよい。炉体１１の天井のうち流出口１８の後方には、排気弁２８と接続され処理空間１１ａの雰囲気を排気可能な排気口１９が形成されている。なお、流出口１８，排気口１９の配置はこれに限られない。例えば排気口１９を流出口１８よりも前端面１２側に配置してもよい。

第１搬送路３０，第２搬送路４０，第３搬送路５０は、外部から炉体１１の開口１４までのセッター９５及び被処理物９６の搬入路となるものである。これらは、外部から炉体１１に向かって、第３搬送路５０，第１搬送路３０，第２搬送路４０の順に並んでいる。以下、この順に説明する。

第３搬送路５０は、セッター９５及び被処理物９６を外部から第１搬送路３０まで搬送するための搬入路であり、管路として構成されている。この第３搬送路５０は、外部からの搬入口となる搬送口５２を有しており、セッター９５を搬送方向に搬送する第３搬送機構５４の第３搬送ローラー５５と、流通抑制部材８０と、が配置されている。第３搬送機構５４は、複数の第３搬送ローラー５５と、第３搬送ローラー５５を回転駆動する図示しないモーターなどを備えている。複数（本実施形態では３個）の第３搬送ローラー５５は、搬送方向に沿って第３搬送路５０内に等間隔に配置されている。流通抑制部材８０は、板状の部材であり、表面が搬送方向に平行になるように配置されている。図４は、流通抑制部材８０の斜視図である。この流通抑制部材８０は、隣接する第３搬送ローラー５５の搬送方向（前後方向）の隙間を埋めるように複数（本実施形態では２個）配置されている（図１，３，４参照）。また、流通抑制部材８０は、第３搬送路５０の底部を上下に貫通しつつ底部に固定されている２本の支柱８１により、左右方向の両側で支持されている（図４参照）。

第１搬送路３０は、セッター９５及び被処理物９６を第３搬送路５０から第２搬送路４０まで搬送するための搬入路であり、管路として構成されている。この第１搬送路３０には、セッター９５を搬送方向に搬送する第１搬送機構３４の第１搬送ローラー３５が配置されている。第１搬送機構３４は、複数の第１搬送ローラー３５と、第１搬送ローラー３５を回転駆動する図示しないモーターなどを備えている。複数（本実施形態では３個）の第１搬送ローラー３５は、搬送方向に沿って第１搬送路３０内に等間隔に配置されている。

この第１搬送路３０の鉛直上側には、上方空間形成部６０が設けられている。この上方空間形成部６０は、下方向が開口した箱状の外壁６２を有しており、この外壁６２の内部の空間として、鉛直下側に開口し第１搬送路３０内に連通する上方空間６３が形成されている。外壁６２は下方向の開口以外は気密な構造をしており、第１搬送路３０を介さない外部との気体の流出入がほとんど生じないようになっている。なお、外壁６２は、前方（図１の左方）の壁部及び後方（図１の右方）の壁部が、炉体１１に対して上部が遠ざかる方向に傾斜している。これにより、上方空間６３は炉体１１に対して上部が遠ざかる方向に傾斜した形状の空間となっている。また、上方空間形成部６０は、外壁６２の内部に、炉体１１に対して上部が遠ざかる方向に傾斜した区画部材６４ａ，６４ｂを備えている。この区画部材６４ａ，６４ｂは、前方から後方に向けてこの順に配置された平板状の部材であり、図示は省略するが左右方向の両端が外壁６２の左右の壁部に例えば溶接などにより取り付けられている。区画部材６４ａ，６４ｂ，外壁６２の前方の壁部及び後方の壁部は、いずれも前方から上方に向けて同じ角度θ１だけ傾斜している。傾斜の角度θ１は０°超過〜９０°未満であればよい。特に限定するものではないが、例えば角度θ１を３０〜６０°としてもよい。この区画部材６４ａ，６４ｂにより、上方空間６３の一部が区画空間６５ａ〜６５ｃに区画されている。区画空間６５ａは、外壁６２の前方の壁部と区画部材６４ａとで区画された空間である。区画空間６５ｂは、区画部材６４ａと区画部材６４ｂとで区画された空間である。区画空間６５ｃは、区画部材６４ｂと外壁６２の後方の壁部とで区画された空間である。これらの区画空間６５ａ〜６５ｃは、いずれも下方が第１搬送路３０内に開口している。また、区画部材６４ａ，６４ｂは、いずれも外壁６２の天井には接していない。そのため、区画空間６５ａ〜６５ｃは、上方空間６３のうち上方（外壁６２の天井付近）で互いに連通している。

また、第１搬送路３０の鉛直下側には、下方空間形成部７０が設けられている。この下方空間形成部７０は、上方向が開口した箱状の外壁７２を有しており、この外壁７２の内部の空間として、鉛直上側に開口し第１搬送路３０内に連通する下方空間７３が形成されている。外壁７２は上方向の開口以外は気密な構造をしており、第１搬送路３０を介さない外部との気体の流出入がほとんど生じないようになっている。なお、外壁７２は、前方（図１の左方）の壁部及び後方（図１の右方）の壁部が、炉体１１に対して下部が近づく（上部が遠ざかる）方向に傾斜している。これにより、下方空間７３は炉体１１に対して下部が近づく方向に傾斜した形状の空間となっている。また、下方空間形成部７０は、外壁７２の内部に、炉体１１に対して下部が近づく方向に傾斜した区画部材７４ａ，７４ｂを備えている。この区画部材７４ａ，７４ｂは、後方から前方に向けてこの順に配置された平板状の部材であり、図示は省略するが左右方向の両端が外壁７２の左右の壁部に例えば溶接などにより取り付けられている。区画部材７４ａ，７４ｂ，外壁７２の前方の壁部及び後方の壁部は、いずれも後方から下方に同じ角度θ２だけ傾斜している。傾斜の角度θ２は０°超過〜９０°未満であればよい。特に限定するものではないが、例えば角度θ２を３０〜６０°としてもよい。この区画部材７４ａ，７４ｂにより、下方空間７３の一部が区画空間７５ａ〜７５ｃに区画されている。区画空間７５ａは、外壁７２の後方の壁部と区画部材７４ａとで区画された空間である。区画空間７５ｂは、区画部材７４ａと区画部材７４ｂとで区画された空間である。区画空間７５ｃは、区画部材７４ｂと外壁７２の前方の壁部とで区画された空間である。これらの区画空間７５ａ〜７５ｃは、いずれも上方が第１搬送路３０内に開口している。また、区画部材７４ａ，７４ｂは、いずれも外壁７２の底部には接していない。そのため、区画空間７５ａ〜７５ｃは、下方空間７３のうち下方（外壁７２の底部付近）で互いに連通している。なお、区画空間７５ａ〜７５ｃの上方の開口部分には、第１搬送ローラー３５が１つずつ配置されている。また、外壁７２の底部には、吸引装置７７と接続され下方空間７３を吸引するための吸引口７６が形成されている。吸引装置７７は、吸引口７６を介して下方空間７３内のガスを吸引して排気する。

第２搬送路４０は、セッター９５及び被処理物９６を第１搬送路３０から炉体１１の開口１４まで搬送するための搬入路であり、管路として構成されている。この第２搬送路４０には、セッター９５を搬送方向に搬送する第２搬送機構４４の第２搬送ローラー４５と、流通抑制部材８０と、が配置されている。第２搬送機構４４は、複数の第２搬送ローラー４５と、第２搬送ローラー４５を回転駆動する図示しないモーターなどを備えている。複数（本実施形態では３個）の第２搬送ローラー４５は、搬送方向に沿って第２搬送路４０内に等間隔に配置されている。流通抑制部材８０は、第３搬送路５０に配置されているものと同じ部材である。流通抑制部材８０は、隣接する第２搬送ローラー４５の搬送方向（前後方向）の隙間を埋めるように複数（本実施形態では２個）配置されている。また、流通抑制部材８０は、第２搬送路４０の底部を上下に貫通しつつ底部に固定されている２本の支柱８１により、左右方向の両側で支持されている（図４参照）。

なお、第１搬送路３０と第３搬送路５０とは、連続した管路として構成されている。本実施形態では、上方空間形成部６０の開口の前端部と下方空間形成部７０の開口の前端部とを結んだ線分Ｄ１を、第１搬送路３０と第３搬送路５０との境界とした。同様に、第１搬送路３０と第２搬送路４０とは、連続した管路として構成されている。本実施形態では、上方空間形成部６０の開口の後端部と下方空間形成部７０の開口の後端部とを結んだ線分Ｄ２を、第１搬送路３０と第２搬送路４０との境界とした。また、第２搬送路４０は、搬送方向長さＬが、１００ｍｍ以上１０００ｍｍ以下になるように構成されている。搬送方向長さＬは、第２搬送路４０に隣接する開口１４と第１搬送路３０との間の距離である。本実施形態では、搬送方向長さＬは、図１に示すように、開口１４の開口端（＝前端面１２）から、外壁６２の傾斜が始まる部分（上方空間形成部６０の開口の後端部）までの搬送方向の長さとした。また、上述した第１〜第３搬送ローラー３５，４５，５５の上端は、いずれも搬送口５２の下端及び開口１４の下端と略同じ高さに位置している。

コントローラー９０は、ＣＰＵを中心とするマイクロプロセッサーとして構成されている。このコントローラー９０は、ガス供給装置２２，２４に制御信号を出力して、ガス供給口１６，ガス供給口１７を介した炉体１１への不活性ガスの供給量や供給温度を個別に制御する。コントローラー９０は、流量調整弁２６に制御信号を出力して流出口１８からガス供給装置２２，ガス供給装置２４へ循環させるガスの量を制御したり、排気弁２８に制御信号を出力して処理空間１１ａから排気する雰囲気ガスの量を制御したりする。また、コントローラー９０は、吸引装置７７に制御信号を出力して、吸引口７６を介した下方空間７３からのガスの吸引量（吸引速度）を制御する。さらに、コントローラー９０は、ヒーター２０に制御信号を出力して処理空間１１ａの温度を調整したり、炉内搬送ローラー２１，第１搬送機構３４，第２搬送機構４４，第３搬送機構５４の図示しないモーターに駆動信号を出力して、炉内搬送ローラー２１，第１搬送ローラー３５，第２搬送ローラー４５，第３搬送ローラー５５を回転させる。

セッター９５は、炉体１１での被処理物９６の熱処理に耐えられるよう、高い耐食性や耐熱性を有する材料（例えば、セラミックスなど）から構成されている。セッター９５は、被処理物９６を載置して搬送することができればよく、例えば平板状としてもよいし、メッシュ状としてもよい。

被処理物９６は、炉体１１内を通過する際にヒーター２０からの熱により例えば焼成などの熱処理を行うものである。特に限定するものではないが、本実施形態では、被処理物９６は、セラミックス製の誘電体と電極とを積層した積層体（寸法は例えば縦横が１ｍｍ以内）であり、焼成後にセラミックスコンデンサのチップとなるものとした。

次に、こうして構成された熱処理炉１０を用いて被処理物９６の熱処理を行う様子について説明する。まず、コントローラー９０は、図示しないモーターを動作させて炉内搬送ローラー２１，第１搬送ローラー３５，第２搬送ローラー４５，第３搬送ローラー５５を回転させると共に、ヒーター２０に通電してヒーター２０を発熱させる。各搬送ローラーの回転速度は、被処理物９６の熱処理に要する時間に基づいて予め定められている。ヒーター２０の出力は、処理空間１１ａ内での被処理物９６の熱処理時の温度（例えば１０００℃前後など）に基づいて予め定められているものとした。続いて、複数の被処理物９６を載置したセッター９５を複数用意し、第３搬送路５０の搬送口５２側の第３搬送ローラー５５の上に順次載置していく。セッター９５は、本実施形態では、図２，３に示すように左右方向（搬送方向に垂直な方向）に互いに隙間なく複数枚（本実施形態では４枚）配置し、この４枚ずつのセッター９５を前後方向にも互いに隙間なく第３搬送ローラー５５上に順次載置していくものとした。第３搬送ローラー５５に載置されたセッター９５は、複数の搬送ローラーの回転により第３搬送路５０，第１搬送路３０，第２搬送路４０をこの順に搬送され、開口１４から炉体１１内に順次搬入されていく。図３では、このようにして左右４枚×前後３枚の計１２枚を順次搬送している様子を示している。そして、セッター９５が炉体１１内を通過している間に、被処理物９６に対する熱処理が行われ、その後被処理物９６はセッター９５と共に開口１５から搬出される。このように、熱処理炉１０では、被処理物９６を載置したセッター９５を順次搬送しながら、ヒーター２０により熱処理を行っていく。

なお、セッター９５を搬送している間、コントローラー９０は、ガス供給装置２２を制御して炉体１１内に不活性ガスを供給させると共に、流量調整弁２６及び排気弁２８を制御して炉体１１から雰囲気ガスを流出，排出させる。また、コントローラー９０は、吸引装置７７を制御して下方空間７３からガスを吸引させる。これらの供給や吸引等の量（速度）は、処理空間１１ａを所定の雰囲気に保つことができるよう例えば実験などにより予め定められているものとしてもよいし、例えば図示しない温度センサなどのセンサからの検出信号に基づいてコントローラー９０が処理空間１１ａの情報（温度など）を取得し、この情報に基づいてコントローラー９０が供給量等を調整してもよい。なお、ガス供給装置２４は、何らかの不具合によりセッター９５が連続的に供給されず、搬送路内でセッター９５の列が途切れてしまった場合などに使用される。セッター９５が存在しない場合には、第１搬送路３０，第２搬送路４０，第３搬送路５０の空間がその分広がることになるため、外気が炉体１１に流入しやすくなる。そこで、このような場合には、コントローラー９０はガス供給装置２４からも不活性ガスを供給させて、処理空間１１ａ内の雰囲気を保つようにする。なお、ガス供給装置２４を用いる代わりにガス供給装置２２からの供給量を増大させてもよい。

ここで、セッター９５が搬送されている際の、セッター９５と搬送路との隙間について説明する。本実施形態では、熱処理を行うためにセッター９５が搬送されている際における隙間高さＨの最小値Ｈｍｉｎ、左隙間幅Ｗ_L，右隙間幅Ｗ_Rがそれぞれ所定範囲になるように、第１搬送路３０，第２搬送路４０，第３搬送路５０の形状やセッター９５の形状及び配置の仕方が定められている。以下、これらの値について説明する。

隙間高さＨは、セッター９５が第３搬送路５０を搬送される際の、第３搬送路５０内におけるセッター９５の鉛直上方向の隙間の大きさである。そして、第３搬送路５０内におけるこの隙間高さＨの最小値が、最小値Ｈｍｉｎである。ここで、図１に示すように、本実施形態の第３搬送路５０は、前方（搬送口５２）から後方（線分Ｄ１の部分）までに亘って天井の高さが変化しない形状になっている。そのため、第３搬送路５０内をセッター９５が搬送されていく際の隙間高さＨは、第３搬送路５０のどの位置でも同じである。そのため、本実施形態では、最小値Ｈｍｉｎは隙間高さＨと同じ値となる（図１，２参照）。そして、このように定まる最小値Ｈｍｉｎは、０ｍｍ超過５０ｍｍ以下となることが好ましい。そのため、最小値Ｈｍｉｎがこの範囲になるように、第３搬送路５０の天井高さ（第３搬送ローラー５５の上端から天井までの高さ）やセッター９５の厚さを定めておくことが好ましい。なお、例えば第３搬送路５０の天井の一部が低くなっている場合や、第３搬送路５０の天井から下方に突き出た板状の部材が存在する場合などでは、その部分をセッター９５が通過する際は隙間高さＨが小さくなることになる。このように隙間高さＨが第３搬送路５０全体に亘って一定ではない場合には、最もセッター９５の鉛直上方向の隙間が小さくなる場所における隙間高さＨが、最小値Ｈｍｉｎとなる。

左隙間幅Ｗ_Lは、セッター９５が第１搬送路３０を搬送される際の第１搬送路３０の左端からセッター９５までの左右方向の隙間の大きさである。なお、セッター９５を左右方向に複数並べて搬送する場合には、第１搬送路３０の左端から最も近いセッター９５までの距離を左隙間幅Ｗ_Lとする。同様に、右隙間幅Ｗ_Rは、セッター９５が第１搬送路３０を搬送される際の第１搬送路３０の右端からセッター９５までの左右方向の隙間の大きさである。なお、セッター９５を左右方向に複数並べて搬送する場合には、第１搬送路３０の右端から最も近いセッター９５までの距離を右隙間幅Ｗ_Rとする。ここで、図３に示すように、本実施形態の第１搬送路３０は、前方（線分Ｄ１の部分）から後方（線分Ｄ２の部分）までに亘って左右方向の幅が変化しない形状になっている。そのため、第３搬送路５０内をセッター９５が搬送されていく際の左隙間幅Ｗ_L，右隙間幅Ｗ_Rは、第１搬送路３０のどの位置でも同じである。そして、このように定まる左隙間幅Ｗ_L，右隙間幅Ｗ_Rは、第１搬送路３０の全体に亘って１０ｍｍ以上１５０ｍｍ以下であることが好ましい。換言すると、第１搬送路３０の全体に亘って、セッター９５の搬送時に左隙間幅Ｗ_L，右隙間幅Ｗ_Rが１０ｍｍ以上１５０ｍｍ以下の範囲から外れる部分がないことが好ましい。そのため、左隙間幅Ｗ_L，右隙間幅Ｗ_Rがこの範囲になるように、第１搬送路３０の左右方向の幅やセッター９５の左右方向の幅、セッター９５の左右方向の配置数などを定めておくことが好ましい。なお、例えば第１搬送路３０の左右方向の幅が第１搬送路３０の全体に亘って一定でない場合や、セッター９５が第１搬送路３０内を蛇行する場合、あるいはセッター９５の配置が一定でない場合などには、第１搬送路３０内で部分的に左隙間幅Ｗ_L，右隙間幅Ｗ_Rが異なる値を取ることになる。このような場合でも、左隙間幅Ｗ_L，右隙間幅Ｗ_Rが、第１搬送路３０の全体に亘って１０ｍｍ以上１５０ｍｍ以下の範囲内にあることが好ましい。

ここで、本実施形態の構成要素と本発明の構成要素との対応関係を明らかにする。本実施形態のセッター９５が本発明のセッターに相当し、被処理物９６が被処理物に相当し、炉体１１が炉体に相当し、第１搬送路３０が第１搬送路に相当し、ガス供給装置２２がガス供給手段に相当し、ヒーター２０及びガス供給装置２２が加熱手段に相当し、上方空間形成部６０が上方空間形成部に相当し、下方空間形成部７０が下方空間形成部に相当し、吸引装置７７が下方空間吸引手段に相当する。また、第２搬送機構４４が第２搬送手段に相当し、第３搬送機構５４が第３搬送手段に相当する。

以上説明した本実施形態の熱処理炉１０では、熱処理時において炉体１１にガス供給装置２２から不活性ガスが供給され、炉体１１の雰囲気ガスが外気より高い温度に加熱されている。そのため、炉体１１から開口１４を通って第１搬送路３０側に流出する雰囲気ガスがある場合に、その雰囲気ガスは第１搬送路３０の鉛直上側に設けられた上方空間６３に溜まりやすい。これにより、第１搬送路３０を通過して雰囲気ガスが外部へ流出することが抑制される。また、雰囲気ガスが溜まることで上方空間６３は炉体１１内部よりも高圧の状態になりやすい。これにより、炉体１１内部から流出する雰囲気ガスを炉体１１内部へ押し戻そうとする力が働き、雰囲気ガスの流出が抑制される。さらに、第１搬送路３０の鉛直下側に設けられた下方空間７３を吸引装置７７が吸引することで、上方空間６３から第１搬送路３０を経由して（セッター９５がある場合にはセッター９５の左右の隙間を経由して）下方空間７３に向かうガスの流れができる。そのため、この流れがエアカーテンとして働いて外部と炉体１１内部との間の第１搬送路３０でガスの流出入を抑制できる。以上により、炉体１１への外気の流入や外部への雰囲気ガスの流出を十分抑制することができる。なお、外気が流入すると、例えば炉体１１内に酸素，水，微粒子などの不要成分が流入して熱処理に悪影響を与える場合があるため、それを抑制したいという要望がある。また、炉体１１内部の雰囲気ガスには、例えば不活性ガスや被処理物９６から生じたガスなどが含まれるため、外部に流出させたくないという要望がある。本発明の熱処理炉では、ガスの流出入を抑制することから、これらの要望を満たしやすい。

また、熱処理炉１０は、被処理物９６が載置されたセッター９５を、第１搬送路３０炉体１１との間で搬送するための搬送路であり、搬送方向長さＬが１００ｍｍ以上１０００ｍｍ以下である第２搬送路４０、を備えている。第２搬送路４０の搬送方向長さＬを１００ｍｍ以上とすることで、炉体１１からの雰囲気ガスの流出をより抑制できる。

さらに、熱処理炉１０は、被処理物９６が載置されたセッター９５を、外部と第１搬送路３０との間で搬送するための第３搬送路５０、を備えている。このとき、上述した隙間高さＨの最小値Ｈｍｉｎが０ｍｍ超過５０ｍｍ以下とすることで、炉体１１への外気の流入や外部への雰囲気ガスの流出をより抑制できる。最小値Ｈｍｉｎが小さいほど、第３搬送路５０内においてガスが通過しにくい部分（セッター９５と第３搬送路５０との高さ方向の隙間が小さい部分）が存在することになるためである。

さらにまた、左隙間幅Ｗ_L及び右隙間幅Ｗ_Rをいずれも１０ｍｍ以上とすることで、セッター９５と第１搬送路３０との左右方向の隙間が十分なものとなり、上方空間６３から第１搬送路３０を経由して下方空間に向かうガスの流量が大きくなる。そのため、この流れがエアカーテンとして働きやすくなり、ガスの流出入をより抑制できる。また、左隙間幅Ｗ_L及び右隙間幅Ｗ_Rをいずれも１５０ｍｍ以下とすることで、第１搬送路３０において搬送路に沿った方向（前後方向）にガスが流れるのを抑制できるため、ガスの流出入をより抑制できる。

そしてまた、熱処理炉１０は、被処理物９６が載置されたセッター９５を、第１搬送路３０と炉体１１との間で搬送するための第２搬送路４０と、第２搬送路４０に配置された複数の第２搬送ローラー４５を有し、第２搬送ローラー４５によりセッター９５を所定の搬送方向に搬送する第２搬送機構４４と、搬送方向に隣接する第２搬送ローラー４４同士の鉛直方向に気体が流通することを抑制する流通抑制部材８０と、を備えている。そのため、炉体１１からの雰囲気ガスが第２搬送路４０を通過する際に第２搬送ローラー４５より下側を流れにくくなり、炉体１１からの雰囲気ガスが上方空間６３に導かれやすくなる。そのため、雰囲気ガスの外部への流出をより抑制できる。

そしてまた、上方空間形成部６０は、炉体１１に対して上部が遠ざかる方向に傾斜した上方空間６３を形成している。外気より高い温度の雰囲気ガスが炉体１１から流出したときには、この雰囲気ガスの流れる向きは炉体１１に対して遠ざかるほど上昇する向きとなる。そのため、上方空間６３が炉体１１に対して上部が遠ざかる方向に傾斜していることで、炉体１１からの雰囲気ガスが上方空間６３に導かれやすくなり、外部への流出をより抑制できる。

そしてまた、上方空間形成部６０は、炉体１１に対して上部が遠ざかる方向に傾斜した部材であり上方空間６３をセッターの搬送方向に沿って複数の区画空間６５ａ〜６５ｃに区画する区画部材６４ａ，６４ｂを有している。そのため、複数の区画部材６４ａ，６４ｂが炉体１１に対して上部が遠ざかる方向に傾斜していることで、炉体１１からの雰囲気ガスが上方空間６３に導かれやすくなる。しかも、複数の区画空間６５ａ〜６５ｃは、上方空間６３のうち上方で互いに連通している。そのため、炉体１１からの雰囲気ガスが第１搬送路３０に流れたときに、雰囲気ガスが複数の区画空間６５ａ〜６５ｃのうちいずれかを通って上方空間６３のうち上方に流れ、そこから他の区画空間を流れて炉体に戻る、という流れが生じやすくなる。例えば、第１搬送路３０から区画空間６５ａ，６５ｂを上方に流れていき、上方空間６３のうち上方を通って区画空間６５ｃを下方に流れ、炉体１１に戻ろうとする流れが生じる。これにより、雰囲気ガスを炉体１１に戻して外部への流出を抑制する効果が高まる。

そしてまた、下方空間形成部７０は、炉体１１に対して下部が近づく方向に傾斜した下方空間７３を形成している。外気が第１搬送路３０に流れたとき、炉体１１の雰囲気ガスの方が温度が高いため、この外気の流れる向きは炉体１１に対して近づくほど下降する向きとなる。そのため、下方空間７３が炉体１１に対して下部が近づく方向に傾斜していることで、外気が下方空間７３に導かれやすくなり、炉体１１への流入をより抑制できる。

なお、本発明は上述した実施形態に何ら限定されることはなく、本発明の技術的範囲に属する限り種々の態様で実施し得ることはいうまでもない。

例えば、上述した実施形態では、複数の第３搬送ローラー５５の間や複数の第２搬送ローラー４５の間に流通抑制部材８０が配置されているものとしたが、これに限られない。例えば、流通抑制部材８０の代わりに、第２搬送ローラー４５の搬送方向の間隔を、第１搬送ローラー３５よりも小さくしてもよい。こうすれば、流通抑制部材８０が配置されているときと同様に、第２搬送ローラー４５同士の隙間を鉛直方向に気体が流通しにくくなる。そのため、流通抑制部材８０と同様に雰囲気ガスの外部への流出をより抑制する効果が得られる。第３搬送ローラー５５についても、同様に第１搬送ローラー３５よりも搬送方向の間隔を小さくしてもよい。あるいは、流通抑制部材８０に代えて、複数の第２搬送ローラー４５にベルトを掛け渡して、セッター９５を搬送するベルトコンベアとしてもよい。この場合、ベルトが存在することにより複数の第２搬送ローラー４５の搬送方向の隙間を鉛直方向に気体が流通しにくくなる。すなわち、ベルトが流通抑制部材として働く。このようにしても、雰囲気ガスの外部への流出をより抑制する効果が得られる。第３搬送ローラー５５についても同様にベルトコンベアとしてもよい。

上述した実施形態では、第１搬送路３０，第２搬送路４０，第３搬送路５０は、外部から炉体１１の開口１４までのセッター９５及び被処理物９６の搬入路となるものとしたが、搬出路となるものとしてもよい。また、上述した実施形態では、開口１４側にのみ第１搬送路３０，第２搬送路４０，第３搬送路５０，上方空間形成部６０，下方空間形成部７０を備えるものとしたが、開口１５側にもこれらと同様の構成（前後方向に対称な構成）を備えるものとしてもよい。こうすれば、開口１５と外部とのガスの流出入も抑制することができる。

上述した実施形態では、流通抑制部材８０は２本の支柱８１により支持されているものとしたが、第２搬送路４０や第３搬送路５０の底部から上方に突き出た板状の支持部材により支持してもよい。例えば、上下及び左右に沿った表面を有する板状の支持部材で流通抑制部材８０を支持するようにすることで、流通抑制部材８０により鉛直方向のガスの流れを抑制するとともに、板状の支持部材で第２搬送ローラー４５や第３搬送ローラー５５の下側における前後方向のガスの流れを抑制できる。

［実施例１］
実施例１の熱処理炉として、図５に示す試験炉１１０を作製した。この試験炉１１０は、炉体１１内にヒーター２０，炉内搬送ローラー２１を備えない点、及び開口１５を有さない点、以外は上述した実施形態の熱処理炉１０と同様の構成をしている。この試験炉１１０は、搬送口５２の寸法が上下方向の高さが３０ｍｍ，左右方向の幅が１２７０ｍｍとした。また、第２搬送路４０の搬送方向長さＬを２００ｍｍ、第１搬送路３０と第３搬送路５０との搬送方向長さの合計（＝搬送口５２から第２搬送路４０までの長さ）を５００ｍｍとした。炉体１１の寸法は上下方向高さが３００ｍｍ、前後方向長さが５００ｍｍ，左右方向幅が１５００ｍｍとした。上方空間形成部６０の傾斜の角度θ１を４５°、下方空間形成部７０の傾斜の角度θ２を４５°とした。上方空間形成部６０の容積は０．０８ｍ³、下方空間形成部７０の容積は０．０４ｍ³とした。

この試験炉１１０において、以下の条件で試験を行った。まず、第１搬送路３０，第２搬送路４０，第３搬送路５０内にセッター９５を左右方向に４枚、前後方向に３枚の計１２枚を隙間なく配置した。セッター９５の左右方向の４枚の幅の合計値は１２１０ｍｍであった。これにより、左隙間幅Ｗ_L，右隙間幅Ｗ_Rは、第１搬送路３０の全体に亘っていずれも３０ｍｍとなった。また、セッター９５の前後方向の３枚の合計長さは９００ｍｍとなった。セッター９５の上下方向の厚さは１７ｍｍであった。これにより、最小値Ｈｍｉｎは１３ｍｍ（搬送口５２の開口高さ３０ｍｍ−セッター９５の厚さ１７ｍｍ）となった。この状態で、セッター９５の搬送は行わず、吸引装置７７の吸引力を５００Ｌ／ｍｉｎ、炉体１１内の温度を８０℃、ガス供給装置２２からの窒素ガスの供給量を１００Ｌ／ｍｉｎとして１〜２時間経過した後の、炉体１１内の酸素濃度及び、搬送口５２から外部への窒素の漏れ量を測定した。なお、ガス供給装置２２から供給される窒素ガスの酸素濃度は１ｐｐｍ以下とした。また、試験中は流量調整弁２６を開放とし排気弁２８を全閉として、流出口１８による雰囲気ガスの循環のみ行い排気口１９からの雰囲気ガスの排気はない状態とした。

上記と同じ条件で、セッター９５の厚みのみを変更して、複数の測定を行った。具体的には、セッター９５の厚みを１２ｍｍ，５ｍｍ，１ｍｍ，０ｍｍ（セッター９５を配置しない）としてそれぞれ測定を行った。なお、それぞれの場合の最小値Ｈｍｉｎは、１８ｍｍ，２５ｍｍ，２９ｍｍ，３０ｍｍとなる。

上記のように最小値Ｈｍｉｎを１３ｍｍ，１８ｍｍ，２５ｍｍ，２９ｍｍ，３０ｍｍとした場合の試験後の炉体１１の酸素濃度は、１５ｐｐｍ，４０ｐｐｍ，４２１ｐｐｍ，０．３５１％，１．４２％であった。この結果からわかるように、最小値Ｈｍｉｎが小さいほど、酸素濃度は低下しており、外気の流入が抑制されていた。なお、外部への窒素ガスの漏れ量は、いずれの場合も検出されなかった。

１０熱処理炉、１１炉体、１１ａ処理空間、１２前端面、１３後端面、１４，１５開口、１６、１７ガス供給口、１８流出口、１９排気口、２０ヒーター、２１炉内搬送ローラー、２２，２４ガス供給装置、２６流量調整弁、２８排気弁、３０第１搬送路、３４第１搬送機構、３５第１搬送ローラー、４０第２搬送路、４４第２搬送機構、４５第２搬送ローラー、５０第３搬送路、５２搬送口、５４第３搬送機構、５５第３搬送ローラー、６０上方空間形成部、６２外壁、６３上方空間、６４ａ，６４ｂ区画部材、６５ａ〜６５ｃ区画空間、７０下方空間形成部、７２外壁、７３下方空間、７４ａ，７４ｂ区画部材、７５ａ〜７５ｃ区画空間、７６吸引口、７７吸引装置、８０流通抑制部材、８１支柱、９０コントローラー、９５セッター、９６被処理物、１１０試験炉、Ｄ１，Ｄ２線分。

Claims

セッターに載置された被処理物の熱処理を行う熱処理炉であって、
内部で前記被処理物の熱処理を行う炉体と、
前記被処理物が載置された前記セッターを、外部と前記炉体との間で搬送するための第１搬送路と、
前記炉体内部に雰囲気ガスとして不活性ガスを供給するガス供給手段と、
前記炉体内部の雰囲気を外気より高い温度にする加熱手段と、
前記第１搬送路の鉛直上側に設けられ、鉛直下側に開口して該第１搬送路内に連通する上方空間を形成する上方空間形成部と、
前記第１搬送路の鉛直下側に設けられ、鉛直上側に開口して該第１搬送路内に連通する下方空間を形成する下方空間形成部と、
前記下方空間を吸引する下方空間吸引手段と、
を備えた熱処理炉。
請求項１に記載の熱処理炉であって、
前記被処理物が載置された前記セッターを、前記第１搬送路と前記炉体との間で搬送するための搬送路であり、搬送方向長さＬが１００ｍｍ以上１０００ｍｍ以下である第２搬送路、
を備えた熱処理炉。
請求項１又は２に記載の熱処理炉であって、
前記被処理物が載置された前記セッターを、外部と前記第１搬送路との間で搬送するための第３搬送路、
を備え、
前記セッターが前記第３搬送路を搬送される際の、該第３搬送路内における前記セッターの鉛直上方向の隙間の大きさを隙間高さＨとしたときに、該隙間高さＨの最小値Ｈｍｉｎが０ｍｍ超過５０ｍｍ以下である、
熱処理炉。
前記セッターの搬送方向に垂直且つ水平方向に平行な方向を左右方向として、前記セッターが前記第１搬送路を搬送される際の該第１搬送路の左端から前記セッターまでの前記左右方向の隙間の大きさを左隙間幅Ｗ_Lとし、前記セッターが前記第１搬送路を搬送される際の該第１搬送路の右端から前記セッターまでの前記左右方向の隙間の大きさを右隙間幅Ｗ_Rとしたときに、前記左隙間幅Ｗ_L及び前記右隙間幅Ｗ_Rがいずれも１０ｍｍ以上１５０ｍｍ以下の範囲である、
請求項１〜３のいずれか１項に記載の熱処理炉。
請求項１〜４のいずれか１項に記載の熱処理炉であって、
前記被処理物が載置された前記セッターを、前記第１搬送路と前記炉体との間で搬送するための第２搬送路と、
前記第２搬送路に配置された複数の第２搬送ローラーを有し、該第２搬送ローラーにより前記セッターを所定の搬送方向に搬送する第２搬送手段と、
前記搬送方向に隣接する前記第２搬送ローラー同士の隙間を鉛直方向に気体が流通することを抑制する流通抑制部材と、
を備えた熱処理炉。
請求項１〜５のいずれか１項に記載の熱処理炉であって、
前記被処理物が載置された前記セッターを、前記第１搬送路と前記炉体との間で搬送するための第２搬送路と、
前記第１搬送路に配置された複数の第１搬送ローラーを有し、該第１搬送ローラーにより前記セッターを所定の搬送方向に搬送する第１搬送手段と、
前記第１搬送ローラーよりも小さい間隔で前記第２搬送路に配置された複数の第２搬送ローラーを有し、該第２搬送ローラーにより前記セッターを前記搬送方向に搬送する第２搬送手段と、
を備えた熱処理炉。
請求項１〜６のいずれか１項に記載の熱処理炉であって、
前記被処理物が載置された前記セッターを、外部と前記第１搬送路との間で搬送するための第３搬送路と、
前記第３搬送路に配置された複数の第３搬送ローラーを有し、該第３搬送ローラーにより前記セッターを所定の搬送方向に搬送する第３搬送手段と、
前記搬送方向に隣接する前記第３搬送ローラー同士の隙間を鉛直方向に気体が流通することを抑制する流通抑制部材と、
を備えた熱処理炉。
請求項１〜７のいずれか１項に記載の熱処理炉であって、
前記被処理物が載置された前記セッターを、外部と前記第１搬送路との間で搬送するための第３搬送路と、
前記第１搬送路に配置された複数の第１搬送ローラーを有し、該第１搬送ローラーにより前記セッターを所定の搬送方向に搬送する第１搬送手段と、
前記第１搬送ローラーよりも小さい間隔で前記第３搬送路に配置された複数の第３搬送ローラーを有し、該第３搬送ローラーにより前記セッターを前記搬送方向に搬送する第３搬送手段と、
を備えた熱処理炉。
前記上方空間形成部は、前記炉体に対して上部が遠ざかる方向に傾斜した前記上方空間を形成している、
請求項１〜８のいずれか１項に記載の熱処理炉。
前記上方空間形成部は、前記炉体に対して上部が遠ざかる方向に傾斜した部材であり前記上方空間を前記セッターの搬送方向に沿って複数の区画空間に区画する区画部材を有している、
請求項９に記載の熱処理炉。
前記複数の区画空間は、前記上方空間のうち上方で互いに連通している、
請求項１０に記載の熱処理炉。
前記下方空間形成部は、前記炉体に対して下部が近づく方向に傾斜した前記下方空間を形成している、
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の熱処理炉。