JP2015042199A - シワ分析方法及びシワ分析装置 - Google Patents
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Abstract
Description
〔ハードウェア構成〕
図1は、第1実施形態におけるシワ分析装置10のハードウェア構成例を概念的に示す図である。第1実施形態におけるシワ分析装置10は、いわゆるコンピュータであり、CPU(Central Processing Unit)2、メモリ3、入出力インタフェース(I/F)4等を有する。メモリ3は、RAM(Random Access Memory)、ROM(Read Only Memory)、ハードディスク、可搬型記憶媒体等である。
図2は、第1実施形態におけるシワ分析装置10の動作例を示すフローチャートである。以下、図2を用いて、第1実施形態におけるシワ分析方法を説明する。
シワ分析装置10により実行されるシワ分析方法は、図2に示されるように、画像取得工程(S21)、分布算出工程(S22)及びエントロピー算出工程(S23)を含む。以下、これら各工程について詳述する。
図4は、第1実施形態におけるシワ分析装置10の処理構成例を概念的に示す図である。第1実施形態におけるシワ分析装置10は、画像取得部11、分布算出部12、エントロピー算出部13、出力処理部14等を有する。これら各処理部は、例えば、CPU2によりメモリ3に格納されるプログラムが実行されることにより実現される。また、当該プログラムは、例えば、CD(Compact Disc)、メモリカード等のような可搬型記録媒体やネットワーク上の他のコンピュータから入出力I/F4を介してインストールされ、メモリ3に格納されてもよい。
上述のように、第1実施形態では、分析対象部位が写る肌輝度画像に対してフーリエ変換が適用されることで、角度毎のパワースペクトルの分布情報が算出され、この分布情報の方向性エントロピーが算出される。角度毎のパワースペクトルの分布は、肌輝度画像に写る肌(分析対象部位)のテクスチャの方向性を示す。強い方向性を持つテクスチャが存在する場合、そのテクスチャの方向と直交する特定方向に偏って高周波成分が表われる。一方、肌のテクスチャが方向性を持たない場合、或る特定方向に高周波成分が偏ることはなく、高周波成分は分散する。よって、角度毎のパワースペクトルの分布の偏りの大きさを示す方向性エントロピーは、肌輝度画像に写る肌のテクスチャの方向性の強さを示すと言える。
以下、第2実施形態におけるシワ分析装置10及びシワ分析方法について、第1実施形態と異なる内容を中心に説明する。第2実施形態では、シワの分析精度を上げ得る画像の平滑化処理及び差分画像の算出処理が新たに追加される。以下、第1実施形態と同じ内容の説明は、適宜省略される。第2実施形態におけるシワ分析装置10のハードウェア構成は、図1に示される第1実施形態と同じである。
以下、第2実施形態におけるシワ分析方法を図5を用いて説明する。図5は、第2実施形態におけるシワ分析装置10の動作例を示すフローチャートである。図5では、図2と同じ工程については同じ符号が付されている。
シワ分析装置10により実行される第2実施形態におけるシワ分析方法は、図2に示される第1実施形態の方法に加えて、平滑化工程(S51)及び差分画像算出工程(S52)を更に含む。以下、第1実施形態と異なる内容の工程を中心に、各工程について詳述する。
図6は、第2実施形態におけるシワ分析装置10の処理構成例を概念的に示す図である。第2実施形態におけるシワ分析装置10は、第1実施形態の構成に加えて、平滑化処理部15及び差分算出部16を更に有する。平滑化処理部15及び差分算出部16についても、他の処理部と同様に、CPU2によりメモリ3に格納されるプログラムが実行されることにより実現される。
上述のように、第2実施形態では、肌輝度画像に対して平滑化フィルタが適用され、平滑化された肌輝度画像と元の肌輝度画像との差分画像が算出される。平滑化フィルタを適用することにより、肌輝度画像から、肌表面の凹凸形状以外に由来する肌テクスチャ(ノイズテクスチャ)を抽出することができる。抽出されるノイズテクスチャには、例えば、シミ、ソバカス、ホクロ等の色ムラ成分、及び、光源ムラ成分等が存在する。そして、上記差分画像の算出により、元の肌輝度画像からこのようなノイズテクスチャを除去することができ、結果として、肌表面の凹凸形状に由来する肌テクスチャを差分画像として高純度に抽出することができる。第2実施形態では、その差分画像に対してフーリエ変換が適用されることで、角度毎のパワースペクトルの分布情報が算出される。
以下、第3実施形態におけるシワ分析装置10及びシワ分析方法について、第1実施形態及び第2実施形態と異なる内容を中心に説明する。第3実施形態では、方向性エントロピーに対応するシワ指標値が算出される点において、第1実施形態及び第2実施形態と異なる。以下、第1実施形態及び第2実施形態と同じ内容の説明は、適宜省略される。第3実施形態におけるシワ分析装置10のハードウェア構成は、図1に示される第1実施形態と同じである。
以下、第3実施形態におけるシワ分析方法を図7を用いて説明する。図7は、第3実施形態におけるシワ分析装置10の動作例を示すフローチャートである。
図8は、第3実施形態におけるシワ分析装置10の処理構成例を概念的に示す図である。第3実施形態におけるシワ分析装置10は、第1実施形態及び第2実施形態の構成に加えて、指標値算出部17を更に有する。指標値算出部17についても、他の処理部と同様に、CPU2によりメモリ3に格納されるプログラムが実行されることにより実現される。但し、図8は、第1実施形態の処理構成に、指標値算出部17が新たに追加された処理構成の例を示す。
第3実施形態では、方向性エントロピーから変換されるシワ指標値が算出される。従って、第3実施形態によれば、方向性エントロピーよりも、被評価者にとって把握し易いシワ状態の定量値を算出し、出力することができる。
前記肌輝度画像に対してフーリエ変換を適用することにより、角度毎のパワースペクトルの分布情報を算出し、
前記分布情報から、角度毎のパワースペクトルの分布の偏りの大きさを示す方向性エントロピーを算出する、
ことを含むシワ分析方法。
<3> 方向性エントロピーとシワ状態が定量化されたシワ指標値との相関関係に基づいて、前記算出された方向性エントロピーに対応するシワ指標値を算出する、
ことを更に含む<1>又は<2>に記載のシワ分析方法。
<4> 前記肌輝度画像に対して平滑化フィルタを適用し、
前記平滑化フィルタ適用後の肌輝度画像と前記肌輝度画像との差分画像を算出する、
ことを更に含み、
前記分布情報の算出は、前記差分画像に対してフーリエ変換を実行する<1>から<3>のいずれか1つに記載のシワ分析方法。
<5> 分析対象部位の肌輝度画像を取得する画像取得部と、
前記肌輝度画像に対してフーリエ変換を適用することにより、角度毎のパワースペクトルの分布情報を算出する分布算出部と、
前記分布情報から、角度毎のパワースペクトルの分布の偏りの大きさを示す方向性エントロピーを算出するエントロピー算出部と、
前記方向性エントロピーの出力処理を行う出力処理部と、
を備えるシワ分析装置。
<6> 前記分布算出部は、0度方向及び90度方向の成分が除去された前記分布情報を算出する<5>に記載のシワ分析装置。
<7> 方向性エントロピーとシワ状態が定量化されたシワ指標値との相関関係に基づいて、前記算出された方向性エントロピーに対応するシワ指標値を算出する指標値算出部を更に備える<5>又は<6>に記載のシワ分析装置。
<8>前記肌輝度画像に対して平滑化フィルタを適用する平滑化処理部と、
前記平滑化フィルタ適用後の肌輝度画像と前記肌輝度画像との差分画像を算出する差分算出部と、
を更に備え、
前記分布算出部は、前記差分画像に対してフーリエ変換を実行する<5>から<7>のいずれか1つに記載のシワ分析装置。
<9> <1>から<4>のいずれか1つに記載のシワ分析方法を少なくとも1つのコンピュータに実行させるプログラム。
<10> <9>に記載のプログラムをコンピュータが読み取り可能に記録する記録媒体。
3 メモリ
4 入出力I/F
7 入力部
9 出力部
10 シワ分析装置
11 画像取得部
12 分布算出部
13 エントロピー算出部
14 出力処理部
15 平滑化処理部
16 差分算出部
17 指標値算出部
Claims (6)
- 分析対象部位の肌輝度画像を取得し、
前記肌輝度画像に対してフーリエ変換を適用することにより、角度毎のパワースペクトルの分布情報を算出し、
前記分布情報から、角度毎のパワースペクトルの分布の偏りの大きさを示す方向性エントロピーを算出する、
ことを含むシワ分析方法。 - 前記分布情報の算出は、0度方向及び90度方向の成分が除去された前記分布情報を算出する、
請求項1に記載のシワ分析方法。 - 方向性エントロピーとシワ状態が定量化されたシワ指標値との相関関係に基づいて、前記算出された方向性エントロピーに対応するシワ指標値を算出する、
ことを更に含む請求項1又は2に記載のシワ分析方法。 - 前記肌輝度画像に対して平滑化フィルタを適用し、
前記平滑化フィルタ適用後の肌輝度画像と前記肌輝度画像との差分画像を算出する、
ことを更に含み、
前記分布情報の算出は、前記差分画像に対してフーリエ変換を実行する、
請求項1から3のいずれか1項に記載のシワ分析方法。 - 分析対象部位の肌輝度画像を取得する画像取得部と、
前記肌輝度画像に対してフーリエ変換を適用することにより、角度毎のパワースペクトルの分布情報を算出する分布算出部と、
前記分布情報から、角度毎のパワースペクトルの分布の偏りの大きさを示す方向性エントロピーを算出するエントロピー算出部と、
前記方向性エントロピーの出力処理を行う出力処理部と、
を備えるシワ分析装置。 - 請求項1から4のいずれか1項に記載のシワ分析方法を少なくとも1つのコンピュータに実行させるプログラム。
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JPH0282947A (ja) * | 1988-09-20 | 1990-03-23 | Kanebo Ltd | 皮表形態の検出,解析方法 |
JP2009082338A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-23 | Masahiro Nakagawa | エントロピーを用いた肌の鑑別方法 |
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