JP2015034959A - 偏光板、及び偏光板の製造方法 - Google Patents
偏光板、及び偏光板の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015034959A JP2015034959A JP2013191345A JP2013191345A JP2015034959A JP 2015034959 A JP2015034959 A JP 2015034959A JP 2013191345 A JP2013191345 A JP 2013191345A JP 2013191345 A JP2013191345 A JP 2013191345A JP 2015034959 A JP2015034959 A JP 2015034959A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- polarizing plate
- metal
- light
- absorption
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 20
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 94
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 94
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims abstract description 89
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 67
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 61
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 46
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 29
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 18
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N zinc oxide Inorganic materials [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 42
- 239000011295 pitch Substances 0.000 abstract 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 223
- 239000010408 film Substances 0.000 description 42
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 33
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 description 26
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 23
- 239000000463 material Substances 0.000 description 19
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 18
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 17
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 15
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 15
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 14
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 13
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 12
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 12
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 12
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 7
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 6
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 5
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 5
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 4
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 4
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000789 Aluminium-silicon alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 2
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052774 Proactinium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 238000004380 ashing Methods 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000005329 float glass Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 229920001477 hydrophilic polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
- G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
- G02B5/3058—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state comprising electrically conductive elements, e.g. wire grids, conductive particles
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
Description
に示されているように400nm付近でも偏光板として機能はしているが消光比が小さくかつ吸収できる帯域が非常に狭いので、仮にPolarcorと特許文献1の技術を組み合わせたとしても可視光全域をカバーできる偏光板にはならない。
1.偏光板の構成
2.偏光板の製造方法
3.実施例
本実施の形態に係る偏光板は、使用帯域の光を透過する透光基板と、金属を含有する金属含有半導体層を少なくとも有し、使用帯域の光の波長よりも小さいピッチで一次元格子状に配列された吸収層と、使用帯域の光の波長よりも小さいピッチで一次元格子状に配列された反射層とを備え、透光基板側から吸収層と反射層とがこの順に積層されてなる、又は透光基板側から反射層と吸収層とがこの順に積層されてなる。すなわち、本実施の形態に係る偏光板は、入射光に対して吸収層と反射層とがこの順に形成されてなるものである。また、吸収層と反射層との間に、使用帯域の光の波長よりも小さいピッチで一次元格子状に配列された誘電体層を備えても構わない。
0.05μm<ピッチ<0.8μm
0.1<(ライン幅/ピッチ)<0.9
0.01μm<薄膜高さ<1μm
0.05μm<薄膜長さ
次に、偏光板の製造方法について説明する。本実施の形態に係る偏光板の製造方法は、使用帯域の光を透過する透光基板上に、金属を含有する金属含有半導体層を少なくとも有する吸収層と、反射層とを、この順又は逆の順に積層し、エッチングにより、使用帯域の光の波長よりも小さいピッチで一次元格子状に配列されたグリッド構造を形成するものである。
以下、本発明の実施例について説明する。ここでは、吸収層として、金属を含有する金属含有半導体層を用いた偏光板を作製し、光学特性について評価した。なお、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
図3は、従来の偏光板を示す概略断面図である。透光基板上にTaを20nm、SiOxを50nm、及びAlを60nm、順次、スパッタリング法により成膜し、ドライエッチングを行い、ピッチが140nmのグリッド構造を形成した。
図5は、実施例1の偏光板を示す概略断面図である。透光基板上にTaを10nm、(Fe5%)Siを15nm、SiOxを30nm、及びAlを60nm、順次、スパッタリング法により成膜し、ドライエッチングを行い、ピッチが140nmのグリッド構造を形成した。(Fe5%)Siは、Feを5atm%含有するシリコンターゲットを用いて成膜した。
次に、金属含有半導体層の反射率低減の効果をRCWA(Rigorous Coupled Wave Analysis)法によりシミュレーションで検証した。
次に、実際の作製プロセスにおけるFe含有量の影響について検証した。ここでは、エッチングガスにCF4を用いた場合のFe含有Siのエッチングレートを測定した。CF系のエッチングガスは、MEMS、半導体などの微細エッチングに広く用いられているガスである。個片ガラス基板上にそれぞれ(Fe5%)Si、(Fe10%)Si、及び(Fe15%)Siを成膜し、これらを一括してエッチング処理を行った。
吸収層にFeを含有するSiを用いた構造においても、反射層、誘電体層、吸収層の間の干渉効果があるので、誘電体層の膜厚によっても反射率は変化する。そこで、実施例4では、誘電体層の膜厚による反射率について、RCWA法によりシミュレーションで検証した。
次に、吸収層としてTa含有Siを用いた偏光板のTa含有量について、実際にサンプルを作製して検証した。
実施例3において、誘電体層の膜厚による反射率について説明したが、実施例6では、誘電体層の膜厚による反射率の最小値の波長について、実際にサンプルを作製して検証した。
Claims (21)
- 使用帯域の光を透過する透光基板と、
金属を含有する金属含有半導体層を少なくとも有し、使用帯域の光の波長よりも小さいピッチで一次元格子状に配列された吸収層と、
使用帯域の光の波長よりも小さいピッチで一次元格子状に配列された反射層とを備え、
前記透光基板側から前記吸収層と前記反射層とがこの順に積層されてなる、又は前記透光基板側から前記反射層と前記吸収層とがこの順に積層されてなる偏光板。 - 前記吸収層と前記反射層との間に、使用帯域の光の波長よりも小さいピッチで一次元格子状に配列された誘電体層を備える請求項1記載の偏光板。
- 前記金属含有半導体層の半導体が、Si、Ge、Te、ZnOのうちいずれか1種であり、
前記金属含有半導体層の金属が、Ta、Al、Ag、Cu、Au、Mo、Cr、Ti、W、Ni、Fe、Sn、Nbのうち1種以上の純金属又は合金であり、
前記金属含有半導体層の金属含有量が、50atm%以下である請求項1又は2に記載の偏光板。 - 前記吸収層又は前記誘電体層の少なくとも一部の幅が、前記反射層の幅よりも狭い請求項1乃至3のいずれか1項に記載の偏光板。
- 前記吸収層が、金属層をさらに有し、該金属層の幅が、前記反射層の幅よりも狭い請求項4記載の偏光板。
- 前記吸収層が、光入射方向に対し、前記金属層、前記金属含有半導体層の順に形成されてなる請求項5記載の偏光板。
- 前記金属層が、Ta層である請求項5又は6に記載の偏光板。
- 前記金属含有半導体層の金属が、Feである請求項5乃至7のいずれか1項に記載の偏光板。
- 前記吸収層が、金属層又は半導体層をさらに有する請求項1乃至3のいずれか1項に記載の偏光板。
- 前記金属含有半導体層の半導体が、Siである請求項1又は2に記載の偏光板。
- 前記金属含有半導体層の金属が、Feである請求項10記載の偏光板。
- 前記金属含有半導体層のFe含有量が、50atm%以下である請求項11記載の偏光板。
- 前記吸収層が、Ta層をさらに有する請求項11又は12記載の偏光板。
- 前記吸収層が、光入射方向に対し、前記Ta層、前記金属含有半導体層の順に形成されてなる請求項13記載の偏光板。
- 前記金属含有半導体層の膜厚が、前記Ta層よりも厚い請求項14記載の偏光板。
- 前記金属含有半導体層の金属が、Taである請求項9記載の偏光板。
- 前記金属含有半導体層のTa含有量が、40atm%以下である請求項16記載の偏光板。
- 前記吸収層が、Ta層をさらに有する請求項16又は17記載の偏光板。
- 前記吸収層が、光入射方向に対し、前記Ta層、前記金属含有半導体層の順に形成されてなる請求項18記載の偏光板。
- 前記金属含有半導体層の膜厚が、前記Ta層よりも厚い請求項19記載の偏光板。
- 使用帯域の光を透過する透光基板上に、金属を含有する金属含有半導体層を少なくとも有する吸収層と、反射層とを、この順又は逆の順に積層し、
エッチングにより、使用帯域の光の波長よりも小さいピッチで一次元格子状に配列されたグリッド構造を形成する偏光板の製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013191345A JP6285131B2 (ja) | 2013-07-10 | 2013-09-17 | 偏光板、及び偏光板の製造方法 |
US14/317,232 US9703026B2 (en) | 2013-07-10 | 2014-06-27 | Polarizing plate having a transparent substrate, an absorbing layer and a reflective layer and method of manufacturing the same |
KR1020140085902A KR102364526B1 (ko) | 2013-07-10 | 2014-07-09 | 편광판, 및 편광판의 제조 방법 |
US15/613,824 US10185067B2 (en) | 2013-07-10 | 2017-06-05 | Method of manufacturing polarizing plate |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013145034 | 2013-07-10 | ||
JP2013145034 | 2013-07-10 | ||
JP2013191345A JP6285131B2 (ja) | 2013-07-10 | 2013-09-17 | 偏光板、及び偏光板の製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017224798A Division JP6527211B2 (ja) | 2013-07-10 | 2017-11-22 | 偏光板、及び偏光板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015034959A true JP2015034959A (ja) | 2015-02-19 |
JP6285131B2 JP6285131B2 (ja) | 2018-02-28 |
Family
ID=52276875
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013191345A Active JP6285131B2 (ja) | 2013-07-10 | 2013-09-17 | 偏光板、及び偏光板の製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US9703026B2 (ja) |
JP (1) | JP6285131B2 (ja) |
KR (1) | KR102364526B1 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019009151A1 (ja) * | 2017-07-03 | 2019-01-10 | Scivax株式会社 | 光学部材およびこれを用いた光学系装置 |
JP2019061218A (ja) * | 2018-04-12 | 2019-04-18 | デクセリアルズ株式会社 | 偏光素子及びその製造方法、並びに光学機器 |
JP2019061226A (ja) * | 2018-08-03 | 2019-04-18 | デクセリアルズ株式会社 | 偏光板及びその製造方法、並びに光学機器 |
US10436964B2 (en) | 2017-02-07 | 2019-10-08 | Dexerials Corporation | Inorganic polarizing plate, method of manufacturing the same, and optical instrument |
JP2020042083A (ja) * | 2018-09-07 | 2020-03-19 | デクセリアルズ株式会社 | 光学素子、液晶表示装置および投射型画像表示装置 |
US10698148B2 (en) | 2015-10-28 | 2020-06-30 | Dexerials Corporation | Polarizing element and method of producing same |
US11249233B2 (en) | 2019-04-10 | 2022-02-15 | Dexerials Corporation | Thin film for optical element, method of manufacturing thin film for optical element, inorganic polarizing plate, method of manufacturing inorganic polarizing plate, optical element, and optical device |
US11754766B2 (en) | 2017-09-26 | 2023-09-12 | Dexerials Corporation | Polarizing element, polarizing element manufacturing method, and optical device |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6285131B2 (ja) * | 2013-07-10 | 2018-02-28 | デクセリアルズ株式会社 | 偏光板、及び偏光板の製造方法 |
US10088616B2 (en) * | 2014-09-19 | 2018-10-02 | Toyota Motor Engineering & Manufacturing North America, Inc. | Panel with reduced glare |
US10344597B2 (en) * | 2015-08-17 | 2019-07-09 | United Technologies Corporation | Cupped contour for gas turbine engine blade assembly |
JP6836360B2 (ja) * | 2016-09-06 | 2021-03-03 | デクセリアルズ株式会社 | 無機偏光板及びその製造方法 |
JP6302040B1 (ja) * | 2016-12-28 | 2018-03-28 | デクセリアルズ株式会社 | 偏光板及びその製造方法、並びに光学機器 |
JP6230689B1 (ja) * | 2016-12-28 | 2017-11-15 | デクセリアルズ株式会社 | 偏光板及びその製造方法、並びに光学機器 |
CN109581568B (zh) * | 2017-09-28 | 2022-05-24 | 迪睿合株式会社 | 偏振光板及具备该偏振光板的光学设备 |
JP2019144334A (ja) * | 2018-02-19 | 2019-08-29 | デクセリアルズ株式会社 | 偏光板及びその製造方法、並びに光学機器 |
CN110308507B (zh) * | 2018-03-20 | 2021-12-03 | 海信视像科技股份有限公司 | 一种金属线栅偏振片及其制造方法、显示面板及显示装置 |
PH12020050192A1 (en) * | 2019-07-17 | 2021-05-17 | Moxtek Inc | Reflective wire grid polarizer with transparent cap |
PH12020050239A1 (en) * | 2019-08-27 | 2021-05-17 | Moxtek Inc | Optical device with embedded organic moieties |
EP4182741A1 (en) * | 2020-07-06 | 2023-05-24 | Vision Ease, LP | Wire grid polarizer reflection control |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004335334A (ja) * | 2003-05-09 | 2004-11-25 | Mitsubishi Materials Corp | 非水電解液二次電池用負極材料及びその製造方法並びにこれを用いた非水電解液二次電池 |
JP2008216957A (ja) * | 2007-02-06 | 2008-09-18 | Sony Corp | 偏光素子及び液晶プロジェクター |
JP2008216956A (ja) * | 2006-07-07 | 2008-09-18 | Sony Corp | 偏光素子及び液晶プロジェクター |
JP2008249950A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Hoya Corp | フォトマスクブランク及びフォトマスク |
US20090140961A1 (en) * | 2007-11-30 | 2009-06-04 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Reflective Display |
US20100091236A1 (en) * | 2008-04-03 | 2010-04-15 | Pasquale Matera | Polarized eyewear |
JP2010530994A (ja) * | 2007-06-22 | 2010-09-16 | モックステック・インコーポレーテッド | 選択吸収性ワイヤーグリッド偏光素子 |
US20120206805A1 (en) * | 2009-08-18 | 2012-08-16 | Liquidia Technologies, Inc | Nanowire grid polarizers and methods for fabricating the same |
JP2012181420A (ja) * | 2011-03-02 | 2012-09-20 | Sony Chemical & Information Device Corp | 偏光素子 |
US20140254011A1 (en) * | 2013-03-08 | 2014-09-11 | Ravenbrick, Llc | Fabrication of coatable wire grid polarizers |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19829970C2 (de) | 1998-07-04 | 2000-07-13 | F O B Gmbh | Verfahren zur Herstellung von UV-Polarisatoren |
EP0999459A3 (en) | 1998-11-03 | 2001-12-05 | Corning Incorporated | UV-visible light polarizer and methods |
JP2002372620A (ja) | 2001-06-13 | 2002-12-26 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 偏光制御素子及びその製造方法 |
JP6285131B2 (ja) * | 2013-07-10 | 2018-02-28 | デクセリアルズ株式会社 | 偏光板、及び偏光板の製造方法 |
-
2013
- 2013-09-17 JP JP2013191345A patent/JP6285131B2/ja active Active
-
2014
- 2014-06-27 US US14/317,232 patent/US9703026B2/en active Active
- 2014-07-09 KR KR1020140085902A patent/KR102364526B1/ko active IP Right Grant
-
2017
- 2017-06-05 US US15/613,824 patent/US10185067B2/en active Active
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004335334A (ja) * | 2003-05-09 | 2004-11-25 | Mitsubishi Materials Corp | 非水電解液二次電池用負極材料及びその製造方法並びにこれを用いた非水電解液二次電池 |
JP2008216956A (ja) * | 2006-07-07 | 2008-09-18 | Sony Corp | 偏光素子及び液晶プロジェクター |
JP2008216957A (ja) * | 2007-02-06 | 2008-09-18 | Sony Corp | 偏光素子及び液晶プロジェクター |
JP2008249950A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Hoya Corp | フォトマスクブランク及びフォトマスク |
JP2010530994A (ja) * | 2007-06-22 | 2010-09-16 | モックステック・インコーポレーテッド | 選択吸収性ワイヤーグリッド偏光素子 |
US20090140961A1 (en) * | 2007-11-30 | 2009-06-04 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Reflective Display |
US20100091236A1 (en) * | 2008-04-03 | 2010-04-15 | Pasquale Matera | Polarized eyewear |
US20120206805A1 (en) * | 2009-08-18 | 2012-08-16 | Liquidia Technologies, Inc | Nanowire grid polarizers and methods for fabricating the same |
JP2012181420A (ja) * | 2011-03-02 | 2012-09-20 | Sony Chemical & Information Device Corp | 偏光素子 |
US20140254011A1 (en) * | 2013-03-08 | 2014-09-11 | Ravenbrick, Llc | Fabrication of coatable wire grid polarizers |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10698148B2 (en) | 2015-10-28 | 2020-06-30 | Dexerials Corporation | Polarizing element and method of producing same |
US10436964B2 (en) | 2017-02-07 | 2019-10-08 | Dexerials Corporation | Inorganic polarizing plate, method of manufacturing the same, and optical instrument |
WO2019009151A1 (ja) * | 2017-07-03 | 2019-01-10 | Scivax株式会社 | 光学部材およびこれを用いた光学系装置 |
JPWO2019009151A1 (ja) * | 2017-07-03 | 2020-06-18 | Scivax株式会社 | 光学部材およびこれを用いた光学系装置 |
US11754766B2 (en) | 2017-09-26 | 2023-09-12 | Dexerials Corporation | Polarizing element, polarizing element manufacturing method, and optical device |
JP2019061218A (ja) * | 2018-04-12 | 2019-04-18 | デクセリアルズ株式会社 | 偏光素子及びその製造方法、並びに光学機器 |
JP2019061226A (ja) * | 2018-08-03 | 2019-04-18 | デクセリアルズ株式会社 | 偏光板及びその製造方法、並びに光学機器 |
JP2020042083A (ja) * | 2018-09-07 | 2020-03-19 | デクセリアルズ株式会社 | 光学素子、液晶表示装置および投射型画像表示装置 |
US11537008B2 (en) | 2018-09-07 | 2022-12-27 | Dexerials Corporation | Optical element, liquid crystal display device, and projection-type image display device |
JP7236230B2 (ja) | 2018-09-07 | 2023-03-09 | デクセリアルズ株式会社 | 光学素子、液晶表示装置および投射型画像表示装置 |
US11249233B2 (en) | 2019-04-10 | 2022-02-15 | Dexerials Corporation | Thin film for optical element, method of manufacturing thin film for optical element, inorganic polarizing plate, method of manufacturing inorganic polarizing plate, optical element, and optical device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9703026B2 (en) | 2017-07-11 |
KR102364526B1 (ko) | 2022-02-17 |
US20150015948A1 (en) | 2015-01-15 |
JP6285131B2 (ja) | 2018-02-28 |
US10185067B2 (en) | 2019-01-22 |
KR20150007247A (ko) | 2015-01-20 |
US20170269275A1 (en) | 2017-09-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6285131B2 (ja) | 偏光板、及び偏光板の製造方法 | |
JP6580199B2 (ja) | バンドル構造の製造方法 | |
JP7237057B2 (ja) | 偏光素子 | |
US9360608B2 (en) | Polarizing element | |
JP2014052439A (ja) | 偏光素子、プロジェクター及び偏光素子の製造方法 | |
JP5936727B2 (ja) | 偏光素子 | |
JP6527211B2 (ja) | 偏光板、及び偏光板の製造方法 | |
US10527768B2 (en) | Inorganic polarizing plate and method for manufacturing same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160805 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20160805 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20161028 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20161101 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161226 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170307 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20170428 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170623 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20170829 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171122 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20171130 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180123 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180201 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6285131 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |