JP2015029922A - Transparent plate cleaning system - Google Patents

Transparent plate cleaning system Download PDF

Info

Publication number
JP2015029922A
JP2015029922A JP2013158753A JP2013158753A JP2015029922A JP 2015029922 A JP2015029922 A JP 2015029922A JP 2013158753 A JP2013158753 A JP 2013158753A JP 2013158753 A JP2013158753 A JP 2013158753A JP 2015029922 A JP2015029922 A JP 2015029922A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transparent plate
cleaning
arm
delivery area
unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013158753A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6005007B2 (en
Inventor
萩原 靖久
Yasuhisa Hagiwara
靖久 萩原
勝也 蛭子
Katsuya Ebisu
勝也 蛭子
博司 青山
Hiroshi Aoyama
博司 青山
徹 林田
Toru Hayashida
徹 林田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hallys Corp
Original Assignee
Hallys Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hallys Corp filed Critical Hallys Corp
Priority to JP2013158753A priority Critical patent/JP6005007B2/en
Priority to CN201410371557.6A priority patent/CN104340730B/en
Publication of JP2015029922A publication Critical patent/JP2015029922A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6005007B2 publication Critical patent/JP6005007B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Cleaning In General (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transparent plate cleaning system which can completely clean both surfaces of a transparent plate.SOLUTION: A transparent plate cleaning system includes a first cleaning device for cleaning one surface of a transparent plate, a second cleaning device for cleaning the other surface of the transparent plate, and a transfer device for transferring the transparent plate from the first cleaning device to the second cleaning device. The transfer device inverts the transparent plate during transfer. The transfer device may include a holding part for holding the transparent plate by contacting with the other surface of the transparent plate. The first cleaning device includes a first conveying part for conveying the transparent plate from a first cleaning region to a first delivering region. The second cleaning device includes a second conveying part for conveying the transparent plate from a second delivering region to a second cleaning region. The holding part sucks the other surface of the transparent plate in the first delivering region. The transfer device preferably includes a rotating part which rotates around a predetermined rotation axis so that the transparent plate is inverted while the holding part is transferred from the first delivering region to a second delivering region side.

Description

本発明は、透明板清掃システムに関する。   The present invention relates to a transparent plate cleaning system.

液晶表示装置等に使用されるガラスのような透明板の表裏面には、光学被膜等が形成される。透明板が汚れていると電気回路や光学被膜が適切に形成できない場合があるため、透明板を清掃するシステムが必要とされている。   An optical coating or the like is formed on the front and back surfaces of a transparent plate such as glass used for a liquid crystal display device or the like. When the transparent plate is dirty, an electric circuit or an optical coating may not be formed properly. Therefore, a system for cleaning the transparent plate is required.

透明板の両端を把持してブラシによって透明板の両面を清掃する装置が提案されている(特開平8−89910号公報)。しかしながら、そのような構成では、把持している透明板両端を清掃できない。また、透明板の両端を把持する構成では、多様なサイズの透明板に対応することが困難である。   An apparatus for gripping both ends of a transparent plate and cleaning both surfaces of the transparent plate with a brush has been proposed (Japanese Patent Laid-Open No. 8-89910). However, in such a configuration, both ends of the transparent plate being gripped cannot be cleaned. Moreover, it is difficult to deal with transparent plates of various sizes in the configuration in which both ends of the transparent plate are gripped.

また、ベルトコンベア上に敷いた清浄な布の上に透明板を載置して、アルコールを散布した無塵の布で透明板の上面全体の汚れを払拭する清掃装置も提案されている(中国特許出願公開第102698988号)。しかしながら、そのような構成では、透明板の片面しか清掃できないため、片面が清掃された透明板を裏返して同じ清掃装置に供給する作業が必要になる。また、そのような作業を人が行うと、その際に人が先に清掃した面を汚してしまう危険性もある。   A cleaning device has also been proposed in which a transparent plate is placed on a clean cloth laid on a belt conveyor, and the entire upper surface of the transparent plate is wiped with a dust-free cloth sprayed with alcohol (China). Patent Application Publication No. 102698988). However, in such a configuration, since only one side of the transparent plate can be cleaned, it is necessary to turn the transparent plate whose one side is cleaned and supply it to the same cleaning device. In addition, when such a work is performed by a person, there is a risk that the surface cleaned by the person at that time may be soiled.

特開平8−89910号公報JP-A-8-89910 中国特許出願公開第102698988号Chinese Patent Application No. 102688988

そこで、本発明は、透明板の両面を容易かつ確実に清掃できる透明板清掃システムを提供することを課題とする。   Then, this invention makes it a subject to provide the transparent plate cleaning system which can clean both surfaces of a transparent plate easily and reliably.

上記課題を解決するためになされた発明は、透明板の一方の面を清掃する第1クリーニング装置、上記透明板の他方の面を清掃する第2クリーニング装置、及び上記透明板を上記第1クリーニング装置から上記第2クリーニング装置に移送する移送装置を備え、上記移送装置が、上記透明板を移送中に反転する透明板清掃システムである。   The invention made to solve the above-described problems includes a first cleaning device for cleaning one surface of a transparent plate, a second cleaning device for cleaning the other surface of the transparent plate, and the first cleaning device for the transparent plate. A transparent plate cleaning system comprising a transfer device for transferring from the device to the second cleaning device, wherein the transfer device reverses the transparent plate during transfer.

当該透明板清掃システムによれば、第1クリーニング装置により一方の面全体が清掃された透明板を反転しつつ第2クリーニング装置に移送する。当該透明板清掃システムでは、第2クリーニング装置が透明板を清掃する際に透明板の端部を把持する必要がないため、第2クリーニング装置は、透明板の他方の面全体を清掃できる。当該透明板清掃システムは、人が介在することなく透明板の両面を短時間で完全に清掃できる。   According to the transparent plate cleaning system, the transparent plate whose one surface is entirely cleaned by the first cleaning device is transferred to the second cleaning device while being inverted. In the transparent plate cleaning system, since the second cleaning device does not need to hold the end of the transparent plate when cleaning the transparent plate, the second cleaning device can clean the entire other surface of the transparent plate. The transparent plate cleaning system can completely clean both surfaces of the transparent plate in a short time without human intervention.

当該透明板清掃システムにおいて、上記移送装置が、上記透明板の他方の面に接触して上記透明板を保持する保持部を有するとよい。この構成によれば、移送装置が第1クリーニング装置により清掃された透明板の他方の面に触れることなく、一方の面を保持して第2クリーニング装置に移送するので、透明板の清掃された面が汚される危険がない。   In the transparent plate cleaning system, the transfer device may include a holding unit that holds the transparent plate in contact with the other surface of the transparent plate. According to this configuration, since the transfer device does not touch the other surface of the transparent plate cleaned by the first cleaning device and transfers one of the surfaces to the second cleaning device, the transparent plate is cleaned. There is no danger of the face being soiled.

当該透明板清掃システムにおいて、上記第1クリーニング装置が、上記透明板を第1清掃領域から第1受渡領域まで搬送する第1搬送部を有し、上記第2クリーニング装置が、上記透明板を第2受渡領域から第2清掃領域まで搬送する第2搬送部を有し、上記保持部が、上記第1受渡領域で上記透明板の他方の面を吸着し、上記移送装置が、上記保持部を上記第1受渡領域から上記第2受渡領域側に移動させつつ上記透明板を反転させるよう、所定の回転軸を中心に回転する回転部をさらに有するとよい。この構成によれば、保持部が透明板を吸着するので、透明板の清掃された面が汚される危険がない。また、移送装置は、回転運動により透明板の移送及び反転を効率よく行える。   In the transparent plate cleaning system, the first cleaning device includes a first transport unit that transports the transparent plate from the first cleaning region to the first delivery region, and the second cleaning device transfers the transparent plate to the first cleaning region. 2 having a second transport section that transports from the delivery area to the second cleaning area, the holding section adsorbs the other surface of the transparent plate in the first delivery area, and the transfer device holds the holding section. It is good to further have a rotation part which rotates centering on a predetermined axis of rotation so that the transparent plate may be reversed while moving from the first delivery area to the second delivery area side. According to this structure, since a holding | maintenance part adsorb | sucks a transparent plate, there is no danger that the cleaned surface of a transparent plate will be soiled. Further, the transfer device can efficiently transfer and invert the transparent plate by a rotational motion.

当該透明板清掃システムにおいて、上記移送装置が、一端側に上記保持部が付設され、他端側が上記回転部に支持されているアームと、上記回転部と上記アームとの間に設けられ、上記保持部の吸引方向に上記アームを突出又は後退させる突出機構とを有するとよい。第1受渡領域において保持部が透明板を吸着する際に透明板を持ち上げるように突出するアームを有することで、回転部を回転することなく透明板を吸着できる。つまり、この構成により、第2受渡領域にある保持部が透明板を解放する前に第1受渡領域にある保持部が透明板を吸着できるため、第1クリーニング装置と第2クリーニング装置とが互いを待たずに動作できる。   In the transparent plate cleaning system, the transfer device is provided between the rotating unit and the arm, the holding unit being attached to one end side and the other end being supported by the rotating unit, It is preferable to have a projecting mechanism that projects or retracts the arm in the suction direction of the holding unit. By having an arm that protrudes to lift the transparent plate when the holding unit sucks the transparent plate in the first delivery area, the transparent plate can be sucked without rotating the rotating unit. That is, with this configuration, the holding unit in the first delivery area can adsorb the transparent plate before the holding unit in the second delivery area releases the transparent plate. It can work without waiting.

当該透明板清掃システムにおいて、上記第2搬送部が上記透明板に接触する高さが、上記第1搬送部が上記透明板に接触する高さ未満であるとよい。第1搬送部の接面高さと第2搬送部の接面高さとの間に回転部を配置して、保持部が透明板を平面視で回転部と部分的に重なるように吸着するよう構成すれば、移送装置の設置面積を小さくでき、ひいては当該透明板清掃システムの省スペース化が可能である。   In the transparent plate cleaning system, the height at which the second transport unit contacts the transparent plate may be less than the height at which the first transport unit contacts the transparent plate. A rotating unit is arranged between the contact surface height of the first transport unit and the contact surface height of the second transport unit, and the holding unit sucks the transparent plate so as to partially overlap the rotating unit in plan view. By doing so, the installation area of the transfer device can be reduced, and consequently the space for the transparent plate cleaning system can be saved.

当該透明板清掃システムにおいて、複数の上記保持部及び上記アームが、上記回転軸を中心に対称に配設されており、上記第1受渡領域及び上記第2受渡領域が上記回転軸を中心に対称に配設されているとよい。この構成によれば、第1受渡領域において一方の保持部が透明板を吸着するとき、他方の保持部が第2受渡領域に配置されるため、第1受渡領域における透明板の吸着と同時に第2受渡領域における透明板の解放が可能である。このため、当該透明板移送装置は、多くの透明板を移送できる。   In the transparent plate cleaning system, the plurality of holding portions and the arms are arranged symmetrically about the rotation axis, and the first delivery area and the second delivery area are symmetrical about the rotation axis. It is good to be arranged in. According to this configuration, when one holding part sucks the transparent plate in the first delivery area, the other holding part is arranged in the second delivery area. 2. The transparent plate can be released in the delivery area. For this reason, the said transparent plate transfer apparatus can transfer many transparent plates.

当該透明板清掃システムにおいて、上記保持部、上記突出機構及び上記回転部の動作を制御する制御装置を備え、上記制御装置が、上記第1受渡領域において、上記透明板が供給され、上記透明板が移動している状態で上記突出機構が上記アームを突出させると共に上記保持部が上記透明板を吸着するよう制御する吸着制御要素と、上記第2受渡領域において、確認信号に応じて上記保持部が上記透明板を解放するよう制御する解放制御要素と、上記第1受渡領域における上記透明板の吸着と、上記第2受渡領域における上記透明板の解放とが共に完了した後、上記回転部が回転するよう制御する回転制御要素とを有するとよい。このように、吸着制御要素、解放制御要素及び回転制御要素を有することにより、第1受渡領域における透明板の吸着と、第2受渡領域における透明板の解放と、第1受渡領域から第2受渡領域への透明板の移送とを効率よく行える。   The transparent plate cleaning system includes a control device that controls operations of the holding portion, the protruding mechanism, and the rotating portion, and the control device is supplied with the transparent plate in the first delivery region, and the transparent plate In the state where the protrusion is moving, the protrusion mechanism causes the arm to protrude and the holding portion controls the suction portion to adsorb the transparent plate, and the holding portion according to a confirmation signal in the second delivery area. After the release control element that controls to release the transparent plate, the adsorption of the transparent plate in the first delivery region, and the release of the transparent plate in the second delivery region are completed, It is good to have a rotation control element which controls to rotate. Thus, by having the suction control element, the release control element, and the rotation control element, the suction of the transparent plate in the first delivery area, the release of the transparent board in the second delivery area, and the second delivery from the first delivery area. The transparent plate can be efficiently transferred to the area.

当該透明板清掃システムにおいて、上記吸着制御要素が、一方の上記アームに設けられた上記保持部が上記透明板を解放するよう上記解放制御要素が制御するのと同時に、他方の上記アームに設けられた上記保持部が上記透明板を吸着するよう制御するとよい。このように制御すれば待ち時間が少ないので効率を高められる。   In the transparent plate cleaning system, the suction control element is provided on the other arm at the same time as the release control element controls the holding portion provided on one arm to release the transparent plate. The holding unit may be controlled to adsorb the transparent plate. By controlling in this way, the waiting time is small and the efficiency can be increased.

当該透明板清掃システムにおいて、上記アームが伸縮可能であり、上記解放制御要素が、上記アームが伸長した状態で上記保持部が上記透明板を吸着するよう制御し、上記解放制御要素又は上記回転制御要素が、上記保持部が上記透明板を解放した後であって上記回転体が回転する前に、上記第2受渡領域の上記アームを収縮するよう制御するとよい。第2受渡領域において透明板を解放した後にアームを収縮すれば、回転時にアームが透明板を受け取る部材と干渉しない。   In the transparent plate cleaning system, the arm can be expanded and contracted, and the release control element controls the holding unit to adsorb the transparent plate with the arm extended, and the release control element or the rotation control. The element may be controlled to contract the arm of the second delivery area after the holding part releases the transparent plate and before the rotating body rotates. If the arm is contracted after releasing the transparent plate in the second delivery area, the arm does not interfere with the member that receives the transparent plate during rotation.

本発明の透明板清掃システムは、人が介在することなく、透明板の両面を完全に清掃できる。また、本発明の透明板清掃システムでは、人が介在する場合と比べて、透明板の搬送等の工程が必要ないため、短時間で透明板の両面を清掃できる。   The transparent plate cleaning system of the present invention can completely clean both surfaces of a transparent plate without human intervention. Moreover, in the transparent plate cleaning system of this invention, since processes, such as conveyance of a transparent plate, are unnecessary compared with the case where a person intervenes, both surfaces of a transparent plate can be cleaned in a short time.

本発明の一実施形態の透明板清掃システムを示す模式的側面図である。It is a typical side view showing the transparent board cleaning system of one embodiment of the present invention. 図1の透明板清掃システムの透明板移送装置を示す模式的平面図である。It is a typical top view which shows the transparent plate transfer apparatus of the transparent plate cleaning system of FIG. 図2の透明板移送装置の模式的側面図である。It is a typical side view of the transparent plate transfer apparatus of FIG. 透明板移送装置の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of a transparent plate transfer apparatus. 短い透明板を移送する場合の透明板移送装置の待機状態を例示する模式的側面図である。It is a typical side view which illustrates the standby state of the transparent plate transfer apparatus in the case of transferring a short transparent plate. 図5の次の状態における透明板移送装置を例示する模式的側面図である。It is a typical side view which illustrates the transparent plate transfer apparatus in the next state of FIG. 図6の次の状態における透明板移送装置を例示する模式的側面図である。It is a typical side view which illustrates the transparent plate transfer apparatus in the next state of FIG. 図7の次の状態における透明板移送装置を例示する模式的側面図である。It is a typical side view which illustrates the transparent plate transfer apparatus in the next state of FIG. 長い透明板を移送する場合の透明板移送装置の待機状態を例示する模式的側面図である。It is a typical side view which illustrates the standby state of the transparent plate transfer apparatus in the case of transferring a long transparent plate. 図9の次の状態における透明板移送装置を例示する模式的側面図である。FIG. 10 is a schematic side view illustrating the transparent plate transfer device in the next state of FIG. 9. 図10の次の状態における透明板移送装置の待機状態を例示する模式的側面図である。It is a typical side view which illustrates the standby state of the transparent plate transfer apparatus in the next state of FIG. 図1とは異なる実施形態の透明板清掃システムに係る透明板移送装置の模式的平面図である。It is a schematic plan view of the transparent plate transfer apparatus which concerns on the transparent plate cleaning system of embodiment different from FIG.

以下、適宜図面を参照しつつ、本発明の実施の形態を詳説する。先ず、図1から図11を参照しながら、本発明の第一実施形態の透明板清掃システムについて説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings as appropriate. First, the transparent plate cleaning system according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 11.

[第一実施形態]
図1の透明板清掃システム1は、透明な薄板状の透明板Pの一方の面(第1面)を清掃する第1クリーニング装置10と、透明板Pの他方の面(第2面)を清掃する第2クリーニング装置20と、透明板Pを第1クリーニング装置10から第2クリーニング装置20に移送する透明板移送装置30とを備える。ここで、透明板Pには、例えば、液晶表示装置等に用いられるガラスや樹脂素材の基板が含まれる。
[First embodiment]
A transparent plate cleaning system 1 in FIG. 1 includes a first cleaning device 10 that cleans one surface (first surface) of a transparent thin plate-like transparent plate P, and the other surface (second surface) of the transparent plate P. A second cleaning device 20 for cleaning and a transparent plate transfer device 30 for transferring the transparent plate P from the first cleaning device 10 to the second cleaning device 20 are provided. Here, the transparent plate P includes, for example, a glass or resin substrate used in a liquid crystal display device or the like.

<第1クリーニング装置>
第1クリーニング装置10は、第1搬送部11と、第1清掃部12とを有する。第1搬送部11は、透明板Pが第2面と接触した状態で載置される透明板供給領域A1から、透明板Pが清掃される第1清掃領域A2を介して、透明板Pを透明板移送装置30に受け渡す第1受渡領域A3まで透明板Pを搬送するベルトコンベアからなる。第1清掃部12は、第1清掃領域A2において第1搬送部11上に載置されている透明板Pの第1面を清掃する。
<First cleaning device>
The first cleaning device 10 includes a first transport unit 11 and a first cleaning unit 12. The first transport unit 11 removes the transparent plate P from the transparent plate supply region A1 placed in a state where the transparent plate P is in contact with the second surface via the first cleaning region A2 where the transparent plate P is cleaned. It consists of the belt conveyor which conveys the transparent board P to 1st delivery area | region A3 delivered to the transparent board transfer apparatus 30. FIG. The first cleaning unit 12 cleans the first surface of the transparent plate P placed on the first transport unit 11 in the first cleaning region A2.

第1清掃部12は、以下のようにして透明板Pの第1面に付着している汚れを払拭するよう構成されている。まず、塵埃を生じないように形成された清浄な長尺布13に不図示の散布装置によってアルコールが散布される。そして、鉛直な偏心軸を中心に回転する円盤14によって、第1搬送部11上に載置されている透明板Pに長尺布13が押し当てられる。これにより、長尺布13は、透明板Pの上で円を描くように動かされ、透明板Pの第1面の汚れを払拭する。   The 1st cleaning part 12 is constituted so that the dirt adhering to the 1st surface of transparent board P may be wiped off as follows. First, alcohol is sprayed on a clean long cloth 13 formed so as not to generate dust by a spraying device (not shown). Then, the long cloth 13 is pressed against the transparent plate P placed on the first transport unit 11 by the disk 14 rotating around the vertical eccentric shaft. Thereby, the long cloth 13 is moved to draw a circle on the transparent plate P, and the dirt on the first surface of the transparent plate P is wiped off.

<第2クリーニング装置>
第2クリーニング装置20は、第2搬送部21と、第2清掃部22とを有する。第2搬送部21は、透明板移送装置30より透明板Pを受け取る第2受渡領域A4から透明板Pが清掃される第2清掃領域A5を介して透明板Pを排出する透明板排出領域A6まで透明板Pを搬送する。第2清掃部22は、第2清掃領域A5において透明板Pの第2面を清掃する。
<Second cleaning device>
The second cleaning device 20 includes a second transport unit 21 and a second cleaning unit 22. The second transport unit 21 discharges the transparent plate P via the second cleaning region A5 where the transparent plate P is cleaned from the second delivery region A4 that receives the transparent plate P from the transparent plate transfer device 30. The transparent plate P is conveyed up to. The second cleaning unit 22 cleans the second surface of the transparent plate P in the second cleaning region A5.

第2搬送部21は、ベルトコンベア23と、ベルトコンベア23上に供給され、ベルトコンベア23と同じ速度で移動する清浄な載置用長尺布24とを有する。透明板Pは、常に新しく供給される載置用長尺布24の上に、第1クリーニング装置10によって清掃された第1面に接触した状態で載置される。また、第2クリーニング装置20の第2搬送部21が透明板Pに接触する高さは、第1クリーニング装置10の第1搬送部11が透明板Pに接面する高さ未満である。   The second transport unit 21 includes a belt conveyor 23 and a clean long elongate cloth 24 that is supplied onto the belt conveyor 23 and moves at the same speed as the belt conveyor 23. The transparent plate P is placed in a state where it is in contact with the first surface cleaned by the first cleaning device 10 on the long fabric 24 for placement that is always newly supplied. The height at which the second transport unit 21 of the second cleaning device 20 contacts the transparent plate P is less than the height at which the first transport unit 11 of the first cleaning device 10 contacts the transparent plate P.

第2清掃部22は、以下のようにして透明板Pの第1面の汚れを払拭するよう構成されている。まず、塵埃を生じないように形成された清浄な長尺布25に不図示の散布装置によってアルコールが散布される。そして、鉛直な偏心軸を中心に回転する円盤26によって、第2搬送部21上に載置されている透明板Pに長尺布25が押し当てられる。これにより、長尺布25は、透明板Pの上で円を描くように動かされ、透明板Pの第2面の汚れを払拭する。   The 2nd cleaning part 22 is comprised so that the stain | pollution | contamination of the 1st surface of the transparent plate P may be wiped off as follows. First, alcohol is sprayed on a clean long cloth 25 formed so as not to generate dust by a spraying device (not shown). Then, the long cloth 25 is pressed against the transparent plate P placed on the second transport unit 21 by the disk 26 that rotates about the vertical eccentric shaft. Thereby, the long cloth 25 is moved to draw a circle on the transparent plate P, and wipes off the dirt on the second surface of the transparent plate P.

<透明板移送装置>
図2は、透明板移送装置30の平面を図示し、図3は、透明板移送装置30の平面を図示する。透明板移送装置30は、図2及び図3に詳しく示すように、仮受部材31と、保持部32と、アーム33と、突出機構34と、回転部35とを備える。仮受部材31は、第1受渡領域A3において第1クリーニング装置10(図1参照)から排出された透明板Pの第2面を一時的に支持する。保持部32は、仮受部材31に支持されている透明板Pの第2面を吸着する。アーム33は、保持部32が一端側に付設されており、伸縮可能である。突出機構34は、アーム33の他端側を支持するエアシリンダからなる。回転部35は、突出機構34が固定され、保持部32に吸着される透明板Pと実質的に平行(第1搬送部11が透明板Pを搬送する方向に垂直かつ水平な方向)に延びる回転軸を中心に回転可能である。保持部32、アーム33及び突出機構34は、回転部35の回転軸を中心に対称に二組配設されている。
<Transparent plate transfer device>
FIG. 2 illustrates a plan view of the transparent plate transfer device 30, and FIG. 3 illustrates a plan view of the transparent plate transfer device 30. As shown in detail in FIGS. 2 and 3, the transparent plate transfer device 30 includes a provisional receiving member 31, a holding portion 32, an arm 33, a protruding mechanism 34, and a rotating portion 35. The temporary receiving member 31 temporarily supports the second surface of the transparent plate P discharged from the first cleaning device 10 (see FIG. 1) in the first delivery area A3. The holding part 32 sucks the second surface of the transparent plate P supported by the provisional receiving member 31. The arm 33 is provided with a holding portion 32 on one end side and can be expanded and contracted. The protruding mechanism 34 is composed of an air cylinder that supports the other end of the arm 33. The rotating part 35 extends substantially parallel to the transparent plate P to which the protruding mechanism 34 is fixed and is attracted to the holding part 32 (a direction perpendicular and horizontal to the direction in which the first transport unit 11 transports the transparent plate P). It can rotate around the rotation axis. Two sets of the holding portion 32, the arm 33, and the protruding mechanism 34 are arranged symmetrically about the rotation axis of the rotating portion 35.

仮受部材31は、第1搬送部11の搬送方向に並んで配置された複数列のプーリーからなる。仮受部材31は、上流側(図1における第1クリーニング装置10側)の方が下流側よりも、第1搬送部11の搬送方向に小さい間隔で配置されている。また、仮受部材31は、アーム33が通過できるように、第1搬送部11の搬送方向に直交する横断方向においてアーム33の幅より広い間隔で配列されている。そして、仮受部材31は、上流側では幅の小さい透明板Pを支持できるように第1搬送部11の搬送方向に直交する横断方向に小さい間隔で配列され、下流側では幅の大きい透明板Pを支持できるように横断方向に大きい間隔で配列されている。   The temporary receiving member 31 includes a plurality of rows of pulleys arranged side by side in the transport direction of the first transport unit 11. The provisional receiving members 31 are arranged on the upstream side (the first cleaning device 10 side in FIG. 1) at smaller intervals in the transport direction of the first transport unit 11 than on the downstream side. Further, the provisional receiving members 31 are arranged at intervals wider than the width of the arms 33 in the transverse direction orthogonal to the conveying direction of the first conveying unit 11 so that the arms 33 can pass through. The provisional receiving members 31 are arranged at small intervals in the transverse direction orthogonal to the conveying direction of the first conveying unit 11 so that the transparent plate P having a small width can be supported on the upstream side, and the transparent plate having a large width on the downstream side. They are arranged at large intervals in the transverse direction so that P can be supported.

保持部32は、アーム33に取り付けられた複数のバキュームパッド36を有する。アーム33には、不図示の真空源に接続された流路に連通し、バキュームパッド36を取り付け可能な複数の吸引穴37が形成されている。バキュームパッド36は、透明板Pを吸着して支持する。これらのバキュームパッド36は、吸着すべき透明板Pの大きさに応じて適当な位置に取り付けられる。バキュームパッド36を取り付けない吸引穴37はプラグで封止される。   The holding part 32 has a plurality of vacuum pads 36 attached to the arm 33. The arm 33 is formed with a plurality of suction holes 37 that communicate with a flow path connected to a vacuum source (not shown) and to which a vacuum pad 36 can be attached. The vacuum pad 36 sucks and supports the transparent plate P. These vacuum pads 36 are attached at appropriate positions according to the size of the transparent plate P to be sucked. The suction hole 37 to which the vacuum pad 36 is not attached is sealed with a plug.

アーム33は、保持部32の吸引方向と垂直な方向(図3に示すように保持部32に吸着した透明板Pに平行な方向)であって、保持部32を第1受渡領域A3に配置したときに第1搬送部11の搬送方向Dと平行な水平方向に伸縮可能である。このため、アーム33は、突出機構34に支持された固定部材38と、固定部材38に対してスライド可能に設けられたスライド部材39とを有する。具体的に説明すると、固定部材38は、ロッドレスシリンダのスライドチューブ38a及びハウジング38bを含み、スライド部材39は、ロッドレスシリンダのスライドテーブル39aと、このスライドテーブル39aからロッドレスシリンダの動作方向に延設され、スライドテーブル39aと反対側に保持部32が付設される細長い厚板状の部材39bとを含む。   The arm 33 is in a direction perpendicular to the suction direction of the holding part 32 (a direction parallel to the transparent plate P adsorbed to the holding part 32 as shown in FIG. 3), and the holding part 32 is arranged in the first delivery area A3. When this is done, it can expand and contract in the horizontal direction parallel to the transport direction D of the first transport unit 11. Therefore, the arm 33 includes a fixing member 38 supported by the protruding mechanism 34 and a slide member 39 provided so as to be slidable with respect to the fixing member 38. More specifically, the fixing member 38 includes a slide tube 38a of a rodless cylinder and a housing 38b. The slide member 39 includes a slide table 39a of the rodless cylinder and an operation direction of the rodless cylinder from the slide table 39a. It includes an elongated plate-like member 39b that is extended and is provided with a holding portion 32 on the opposite side to the slide table 39a.

突出機構34は、アーム33を保持部32の吸引方向と平行に、突出(回転部35から離間)又は後退(回転部35に接近)させる。保持部32を第1受渡領域A3において支持するようにアーム33が水平に配置された状態で、突出機構34がアーム33を後退させると仮受部材31が透明板Pを支持する高さよりも下方に保持部32のバキュームパッド36全体が位置し、突出機構34がアーム33を突出させると仮受部材31が透明板Pを支持する高さより上方にバキュームパッド36の吸着面が位置する。   The protrusion mechanism 34 causes the arm 33 to protrude (separate from the rotating part 35) or retract (close to the rotating part 35) in parallel with the suction direction of the holding part 32. When the protruding mechanism 34 retracts the arm 33 in a state where the arm 33 is horizontally disposed so as to support the holding portion 32 in the first delivery area A3, the temporary receiving member 31 is lower than the height at which the temporary receiving member 31 supports the transparent plate P. When the entire vacuum pad 36 of the holding portion 32 is positioned and the protruding mechanism 34 protrudes the arm 33, the suction surface of the vacuum pad 36 is positioned above the height at which the temporary receiving member 31 supports the transparent plate P.

回転部35は、モータ40によって回転軸を中心に回転させられる。この回転部35の回転軸は、第1搬送部11が透明板Pと接触する部分と第2搬送部21が透明板Pと接触する部分との間の高さに配設されている。回転部35が回転すると、アーム33は、仮受部材31の間を通過して旋回するように移動する。   The rotating unit 35 is rotated around the rotation axis by the motor 40. The rotation axis of the rotation unit 35 is disposed at a height between a portion where the first conveyance unit 11 is in contact with the transparent plate P and a portion where the second conveyance unit 21 is in contact with the transparent plate P. When the rotating part 35 rotates, the arm 33 moves so as to turn between the provisional receiving members 31.

また、透明板移送装置30は、上流側センサ41、下流側センサ42及び解放側センサ43とを備える。上流側センサ41は、第1受渡領域A3においてアーム33を伸長した際の保持部32よりも伸長側(上流側)で透明板Pの有無を検出する。下流側センサ42は、第1受渡領域A3においてアーム33を収縮した際の保持部32よりも収縮側(下流側)で透明板Pの有無を検出する。解放側センサ43は、第2受渡領域A4においてアーム33を伸長した際の保持部32よりも伸長側(下流側)で透明板Pの有無を検出する。上流側センサ41、下流側センサ42及び解放側センサ43は、好ましくは光電センサ等の非接触型のセンサであり、回転部35の回転によって他の構成要素と干渉しない位置に固定される。   In addition, the transparent plate transfer device 30 includes an upstream sensor 41, a downstream sensor 42, and a release sensor 43. The upstream sensor 41 detects the presence or absence of the transparent plate P on the extension side (upstream side) of the holding portion 32 when the arm 33 is extended in the first delivery area A3. The downstream sensor 42 detects the presence or absence of the transparent plate P on the contraction side (downstream side) of the holding portion 32 when the arm 33 is contracted in the first delivery region A3. The release side sensor 43 detects the presence or absence of the transparent plate P on the extension side (downstream side) of the holding portion 32 when the arm 33 is extended in the second delivery area A4. The upstream sensor 41, the downstream sensor 42, and the release sensor 43 are preferably non-contact type sensors such as photoelectric sensors, and are fixed at positions that do not interfere with other components by the rotation of the rotating unit 35.

さらに、透明板移送装置30は、上述の各構成要素の動作を制御する制御装置44を備える。制御装置44は、好ましくはプログラム可能なマイクロコンピュータ等によって構成される。   Further, the transparent plate transfer device 30 includes a control device 44 that controls the operation of each of the above-described components. The control device 44 is preferably constituted by a programmable microcomputer or the like.

図4のブロック図に、透明板移送装置30の制御に係る各構成要素の関係を示す。制御装置44には、設定入力部45を介して移送する透明板Pのサイズ等の条件設定が予め入力される。また、制御装置44には、上流側センサ41、下流側センサ42及び解放側センサ43の検出信号が入力される。制御装置44は、これらの入力に基づいて、保持部32の吸引動作、アーム33の伸縮動作、突出機構34の突出後退動作、及び回転部35の回転動作を制御する。透明板移送装置30は、二組の保持部32、アーム33及び突出機構34が回転部35の回転軸を中心に対称に配置されている。各構成要素が個別に制御されるため、必要に応じてそれらの構成要素に「第1」又は「第2」の番号を冠して区別する。   The block diagram of FIG. 4 shows the relationship among the components related to the control of the transparent plate transfer device 30. Condition settings such as the size of the transparent plate P to be transferred are input in advance to the control device 44 via the setting input unit 45. In addition, detection signals from the upstream sensor 41, the downstream sensor 42, and the release sensor 43 are input to the control device 44. Based on these inputs, the control device 44 controls the suction operation of the holding portion 32, the expansion / contraction operation of the arm 33, the protrusion / retraction operation of the protrusion mechanism 34, and the rotation operation of the rotation portion 35. In the transparent plate transfer device 30, two sets of holding portions 32, arms 33, and protruding mechanisms 34 are arranged symmetrically about the rotation axis of the rotating portion 35. Since each component is individually controlled, the components are distinguished from each other by adding a “first” or “second” number as necessary.

制御装置44は、吸着制御要素46と、解放制御要素47と、回転制御要素48とを有する。吸着制御要素46は、第1受渡領域A3において保持部32が透明板Pを吸着するための動作を制御する。解放制御要素47は、第2受渡領域A4において保持部32が透明板Pを解放して第2クリーニング装置20に受け渡すための動作を制御する。回転制御要素48は、回転部35を回転して透明板Pを第1受渡領域A3から第2受渡領域A4に移送するための動作を制御する。これらの吸着制御要素46、解放制御要素47及び回転制御要素48は、制御装置44の回路又はプログラムの一部であり、回路モジュール又はサブルーチンのように他の部分と区別可能に構成されることが好ましい。   The control device 44 includes an adsorption control element 46, a release control element 47, and a rotation control element 48. The adsorption control element 46 controls the operation for the holding unit 32 to adsorb the transparent plate P in the first delivery area A3. The release control element 47 controls an operation for the holding unit 32 to release the transparent plate P and deliver it to the second cleaning device 20 in the second delivery area A4. The rotation control element 48 controls the operation for rotating the rotating unit 35 to transfer the transparent plate P from the first delivery area A3 to the second delivery area A4. The suction control element 46, the release control element 47, and the rotation control element 48 are part of the circuit or program of the control device 44, and can be configured to be distinguishable from other parts such as a circuit module or a subroutine. preferable.

吸着制御要素46は、予め設定入力部45において設定された透明板Pのアーム33の伸縮方向(第1搬送部11の搬送方向D)の長さが所定の基準長さL以下である場合には、第1受渡領域A3においてアーム33が伸長し、かつ突出機構34がアーム33を下方に後退させた状態で待機し、上流側センサ41が透明板Pを検出しなくなったときに突出機構34がアーム33を上方に突出させると共に保持部32が透明板Pを吸着するよう制御する。吸着制御要素46は、設定された透明板Pの長さが基準長さLを超える場合には、第1受渡領域A3においてアーム33が収縮した状態で待機し、下流側センサ42が透明板Pを検出したときに突出機構34がアーム33を上方に突出させると共に保持部32が透明板Pを吸着するよう制御する。   The suction control element 46 is set when the length of the arm 33 of the transparent plate P set in the setting input unit 45 in the expansion / contraction direction (the conveyance direction D of the first conveyance unit 11) is equal to or less than a predetermined reference length L. Is in a state where the arm 33 extends in the first delivery area A3 and the protruding mechanism 34 retracts the arm 33 downward, and when the upstream sensor 41 no longer detects the transparent plate P, the protruding mechanism 34 Controls the arm 33 to protrude upward and the holding portion 32 to adsorb the transparent plate P. When the length of the set transparent plate P exceeds the reference length L, the suction control element 46 stands by with the arm 33 contracted in the first delivery area A3, and the downstream sensor 42 is moved to the transparent plate P. Is detected, the protrusion mechanism 34 controls the arm 33 to protrude upward, and the holding part 32 controls the suction of the transparent plate P.

解放制御要素47は、第2受渡領域A4において突出機構34がアーム33を下方に突出させた状態で待機し、解放側センサ43の検出信号(確認信号)に応じて、保持部32の吸引を停止して吸着している透明板Pを解放し、第2クリーニング装置20の第2搬送部21の上に透明板Pを載置するよう保持部32を制御する。より詳しくは、解放制御要素47は、先の制御サイクルにおいて保持部32が透明板Pを解放した後、一度解放側センサ43が透明板Pを検出してから、再度透明板Pを検出しなくなったときに、透明板Pが第2受渡領域A4から第2清掃領域A5に移送され、第2受渡領域A4に透明板Pがないと判断する。また、解放制御要素47は、保持部32が透明板Pを解放した後、第2受渡領域A4側の突出機構34にアーム33を上方に後退させると共にこの第2受渡領域A4側のアーム33を収縮させる。   In the second delivery area A4, the release control element 47 waits in a state where the protruding mechanism 34 protrudes the arm 33 downward, and sucks the holding portion 32 in accordance with the detection signal (confirmation signal) of the release side sensor 43. The holding plate 32 is controlled so as to stop and release the adsorbing transparent plate P and place the transparent plate P on the second transport unit 21 of the second cleaning device 20. More specifically, the release control element 47 does not detect the transparent plate P again after the release side sensor 43 detects the transparent plate P once after the holding unit 32 releases the transparent plate P in the previous control cycle. The transparent plate P is transferred from the second delivery area A4 to the second cleaning area A5, and it is determined that there is no transparent plate P in the second delivery area A4. Further, after the holding part 32 releases the transparent plate P, the release control element 47 causes the protruding mechanism 34 on the second delivery area A4 side to retract the arm 33 upward, and the arm 33 on the second delivery area A4 side is moved back. Shrink.

回転制御要素48は、第1受渡領域A3における透明板Pの吸着と、第2受渡領域A4における透明板Pの解放及びアーム33の収縮とが共に完了した後に、上記回転部35が回転するよう制御する。   The rotation control element 48 causes the rotating part 35 to rotate after the adsorption of the transparent plate P in the first delivery area A3 and the release of the transparent plate P and the contraction of the arm 33 in the second delivery area A4 are completed. Control.

<動作>
これより、透明板移送装置30の状態変化を順番に示す主に図5から図11を参照しながら、順を追って当該透明板清掃システムの動作を説明する。
<Operation>
Hereafter, the operation | movement of the said transparent plate cleaning system is demonstrated in order, referring mainly to FIGS. 5-11 which show the state change of the transparent plate transfer apparatus 30 in order.

透明板清掃システムが動作を開始する前に、ユーザーがガラス板の大きさを予め操作パネルで入力する。上述のように、第1クリーニング装置10(図1参照)は、第1搬送部11の上に透明板Pを載置して搬送しながら、第1清掃部12によって第1搬送部11上に載置されている透明板Pの第1面を清掃する。そして、図5に示すように、第1搬送部11は、第1受渡領域A3において透明板Pを透明板移送装置30の仮受部材31の上に排出する。   Before the transparent plate cleaning system starts operation, the user inputs the size of the glass plate in advance on the operation panel. As described above, the first cleaning device 10 (see FIG. 1) places the transparent plate P on the first transport unit 11 and transports it on the first transport unit 11 by the first cleaning unit 12. The first surface of the placed transparent plate P is cleaned. And as shown in FIG. 5, the 1st conveyance part 11 discharges | emits the transparent plate P on the temporary receiving member 31 of the transparent plate transfer apparatus 30 in 1st delivery area | region A3.

このとき、透明板移送装置30は、突出機構34によってアーム33を後退させて保持部32を仮受部材31の下に退避させた状態で、仮受部材31の上に透明板Pが供給されるのを待つ。図5は、透明板Pの搬送方向における長さが基準長さL以下であり、アーム33を伸長した状態で透明板Pの供給を待つ様子を示す。   At this time, the transparent plate transfer device 30 is supplied with the transparent plate P on the temporary receiving member 31 in a state where the arm 33 is moved backward by the protruding mechanism 34 and the holding portion 32 is retracted below the temporary receiving member 31. Wait for it. FIG. 5 shows a state in which the length of the transparent plate P in the transport direction is equal to or less than the reference length L, and the supply of the transparent plate P is waited with the arm 33 extended.

第1搬送部11によって第1受渡領域A3に透明板Pが搬入され始めると、上流側センサ41が透明板Pを検出する。そして、透明板Pの全体が第1搬送部11から仮受部材31に受け渡された直後に、透明板Pの後端縁が上流側センサ41を通過するので上流側センサ41が再び透明板Pを検出できなくなる。この瞬間に、図6に示すように、第1受渡領域A3側の突出機構34がアーム33を突出させて保持部32のバキュームパッド36を仮受部材31よりも上方に突出させる。そして、これと共に、第1受渡領域A3にある保持部32が真空源に接続されて吸引力を発生する。これにより、第1受渡領域A3にある保持部32は、透明板Pを仮受部材31から持ち上げると同時に第2面を吸着して保持する。ここで、バキュームパッド36が透明板Pを吸着する直前には、透明板Pは移動している。このため、透明板Pが移動している状態でバキュームパッド36は透明板Pに吸着する。   When the transparent plate P starts to be carried into the first delivery area A3 by the first transport unit 11, the upstream sensor 41 detects the transparent plate P. Immediately after the entire transparent plate P is transferred from the first transport unit 11 to the temporary receiving member 31, the rear edge of the transparent plate P passes through the upstream sensor 41, so that the upstream sensor 41 is again the transparent plate. P cannot be detected. At this moment, as shown in FIG. 6, the protrusion mechanism 34 on the first delivery area A <b> 3 side causes the arm 33 to protrude and causes the vacuum pad 36 of the holding portion 32 to protrude above the temporary receiving member 31. Along with this, the holding portion 32 in the first delivery area A3 is connected to a vacuum source to generate a suction force. Thereby, the holding | maintenance part 32 in 1st delivery area | region A3 adsorb | sucks and hold | maintains a 2nd surface simultaneously with lifting the transparent plate P from the temporary receiving member 31. FIG. Here, immediately before the vacuum pad 36 adsorbs the transparent plate P, the transparent plate P has moved. For this reason, the vacuum pad 36 is attracted to the transparent plate P while the transparent plate P is moving.

第1受渡領域A3において保持部32が透明板Pを吸着保持してから、図7に示すように回転部35が図7において反時計回りに180°回転する。すなわち、回転部35は、第1受渡領域A3側のアーム33の上流側先端が上方に移動し、第2受渡領域A4側のアーム33の下流側先端が下方に移動するように回転する。   After the holding part 32 sucks and holds the transparent plate P in the first delivery area A3, the rotating part 35 rotates 180 ° counterclockwise in FIG. 7 as shown in FIG. That is, the rotating unit 35 rotates so that the upstream tip of the arm 33 on the first delivery region A3 side moves upward and the downstream tip of the arm 33 on the second delivery region A4 side moves downward.

回転部35を回転した後には、図7に示すように、アーム33が保持している透明板Pは第2クリーニング装置20の第2搬送部21の上に配置されている。このため、アーム33は、第2クリーニング装置20からの要求があれば直ちに第2搬送部21の上に透明板Pを載置できる状態となっている。一方、第1受渡領域A3側のアーム33が伸長されて、図5について説明したように第1受渡領域A3において透明板Pを吸着できる状態とされる。   After the rotating unit 35 is rotated, as shown in FIG. 7, the transparent plate P held by the arm 33 is disposed on the second transport unit 21 of the second cleaning device 20. For this reason, the arm 33 is in a state in which the transparent plate P can be immediately placed on the second transport unit 21 if there is a request from the second cleaning device 20. On the other hand, the arm 33 on the first delivery area A3 side is extended so that the transparent plate P can be adsorbed in the first delivery area A3 as described with reference to FIG.

この状態で、先に第1受渡領域A3に次の透明板Pが供給された場合、図8に示すように、第1受渡領域A3側の突出機構34がアーム33を突出させると共に保持部32が透明板Pを吸着する。そして、第2受渡領域A4側のアーム33は伸長したまま第2搬送部21の上に透明板Pを載置できる状態を維持する。   In this state, when the next transparent plate P is first supplied to the first delivery area A3, the projecting mechanism 34 on the first delivery area A3 side projects the arm 33 and the holding portion 32 as shown in FIG. Adsorbs the transparent plate P. And the arm 33 by the side of 2nd delivery area A4 maintains the state which can mount the transparent plate P on the 2nd conveyance part 21, with extending | stretching.

解放側センサ43によって、前回の制御サイクルにおいて第2受渡領域A4に供給された透明板Pを第2搬送部21が第2清掃部A5に移送したことを確認できたとき、言い換えると、第2供給領域A4に透明板Pを供給可能な状態となったとき、第2受渡領域A4側の保持部32が真空源から隔離され、吸着力を喪失することにより透明板Pを解放する。第2受渡領域A4側の保持部32が透明板Pを解放した後には、第2受渡領域A4側の突出機構34がアーム33を後退させ、このアーム33が収縮して回転部35の回転の際に第2搬送部21と干渉しないようにする。   When the release side sensor 43 can confirm that the second transport unit 21 has transferred the transparent plate P supplied to the second delivery area A4 in the previous control cycle to the second cleaning unit A5, in other words, the second When the transparent plate P can be supplied to the supply region A4, the holding part 32 on the second delivery region A4 side is isolated from the vacuum source, and the transparent plate P is released by losing the suction force. After the holding part 32 on the second delivery area A4 side releases the transparent plate P, the protruding mechanism 34 on the second delivery area A4 side retracts the arm 33, and the arm 33 contracts to rotate the rotating part 35. At this time, the second conveying unit 21 is not interfered with.

図7の状態において、第1受渡領域A3に次の透明板Pが供給される前に解放側センサ43により第2受渡領域A4に透明板Pがないことが確認されたときには、すぐに第2受渡領域A4側の保持部32が透明板Pを解放し、第2受渡領域A4側のアーム33の収縮及び突出機構34による後退(上昇)が行われ、図5に示した状態で、第1受渡領域A3への透明板Pの供給を待つ。電源投入された後に行われる透明板Pの清掃や、搬送等にトラブルがない場合には、第1受渡領域A3における透明板Pの吸着と、第2受渡領域における透明板Pの解放は同時に行われるよう設定されている。   In the state of FIG. 7, when the release side sensor 43 confirms that there is no transparent plate P in the second delivery region A4 before the next transparent plate P is supplied to the first delivery region A3, the second delivery The holding portion 32 on the delivery area A4 side releases the transparent plate P, and the arm 33 on the second delivery area A4 side contracts and retracts (rises) by the protruding mechanism 34. In the state shown in FIG. Wait for the supply of the transparent plate P to the delivery area A3. When there is no problem in cleaning or transporting of the transparent plate P performed after the power is turned on, the suction of the transparent plate P in the first delivery area A3 and the release of the transparent plate P in the second delivery area are performed simultaneously. It is set to be.

このように、回転部35の回転は、第1受渡領域A3における透明板Pの吸着と、第2受渡領域A4における透明板Pの解放及びアーム33の収縮とが共に完了した後に行われる。   As described above, the rotation of the rotating unit 35 is performed after the adsorption of the transparent plate P in the first delivery region A3, the release of the transparent plate P in the second delivery region A4, and the contraction of the arm 33 are completed.

以上の図5から図8の動作は、透明板Pの長さが基準長さL以下の場合である。透明板Pの長さが基準長さLをこえる場合、図9〜図11に示すような動作となる。   5 to 8 described above is a case where the length of the transparent plate P is equal to or less than the reference length L. When the length of the transparent plate P exceeds the reference length L, the operation is as shown in FIGS.

透明板Pの長さが基準長さLをこえる場合、第1受渡領域A3における透明板Pの吸着は、図9に示すように、アーム33を収縮した状態で、透明板Pの供給を待ち、下流側センサ42が透明板Pの前端縁を検出したときにアーム33を上方に突出させると共に保持部32で透明板Pを吸着する。ここで、バキュームパッド36が透明板Pを吸着する直前には、透明板Pは移動している。このため、透明板Pが移動している状態でバキュームパッド36は透明板Pに吸着する。   When the length of the transparent plate P exceeds the reference length L, the suction of the transparent plate P in the first delivery area A3 waits for the supply of the transparent plate P with the arm 33 contracted as shown in FIG. When the downstream sensor 42 detects the front edge of the transparent plate P, the arm 33 is protruded upward and the holding plate 32 sucks the transparent plate P. Here, immediately before the vacuum pad 36 adsorbs the transparent plate P, the transparent plate P has moved. For this reason, the vacuum pad 36 is attracted to the transparent plate P while the transparent plate P is moving.

透明板移送装置30において、透明板Pが長い場合には、透明板Pが保持部32から上流側にはみ出した状態で吸着保持される。仮に、アーム33を伸長した状態で長い透明板Pを保持部32によって吸着するとすれば、透明板Pの上流側の部分が未だ第1搬送部11上に位置している間に保持部32によって透明板Pを持ち上げる必要がある。しかしながら、第1搬送部11と透明板Pとは当接面積が大きいので、第1搬送部11上にある透明板Pをその面に垂直に持ち上げようとすると第1搬送部11と透明板Pとの間に真空(気圧低下)が生じて大きな抵抗となる。よって、アーム33を収縮した状態とすることで、透明板Pが完全に第1搬送部11から離脱してから保持部32が透明板Pを持ち上げつつ吸着するようにできる。   In the transparent plate transfer device 30, when the transparent plate P is long, the transparent plate P is sucked and held in a state of protruding from the holding portion 32 to the upstream side. Assuming that the long transparent plate P is attracted by the holding unit 32 with the arm 33 extended, the holding unit 32 can remove the upstream portion of the transparent plate P while it is still on the first transport unit 11. It is necessary to lift the transparent plate P. However, since the contact area between the first transport unit 11 and the transparent plate P is large, if the transparent plate P on the first transport unit 11 is lifted perpendicular to the surface, the first transport unit 11 and the transparent plate P are used. A vacuum (atmospheric pressure drop) occurs between the two and becomes a large resistance. Therefore, by setting the arm 33 in the contracted state, it is possible to cause the holding unit 32 to adsorb while lifting the transparent plate P after the transparent plate P is completely detached from the first transport unit 11.

保持部32が透明板Pを吸着した後、図10に示すように、回転部35が回転する。その後、突出機構34がアーム33を退避させる。そして、図11に示すように、アーム33が伸張して、透明板Pが第2受渡領域A4に配置される。さらにその後、解放側センサ43により第2受渡領域A4に透明板Pがないことが確認されると、突出機構34がアーム33を突出させ、保持部32が透明板Pを解放する。この後、突出機構34がアーム33を退避させるとともにアーム32が収縮してから、回転部35が回転する。   After the holding unit 32 sucks the transparent plate P, the rotating unit 35 rotates as shown in FIG. Thereafter, the protruding mechanism 34 retracts the arm 33. And as shown in FIG. 11, the arm 33 expand | extends and the transparent plate P is arrange | positioned in 2nd delivery area | region A4. Thereafter, when the release side sensor 43 confirms that the transparent plate P is not present in the second delivery area A4, the protruding mechanism 34 causes the arm 33 to protrude, and the holding portion 32 releases the transparent plate P. Thereafter, after the protruding mechanism 34 retracts the arm 33 and the arm 32 contracts, the rotating portion 35 rotates.

<利点>
当該透明板清掃システムは、第1クリーニング装置10により透明板Pの第1面全体を清掃し、透明板移送装置30により透明板Pを第1面に触れることなく移送及び反転し、第2クリーニング装置20により透明板Pの第2面全体を清掃する。このため、当該透明板清掃システムは、人が介在することなく透明板Pの両面を短時間で容易かつ確実に清掃できる。
<Advantages>
In the transparent plate cleaning system, the first cleaning device 10 cleans the entire first surface of the transparent plate P, and the transparent plate transfer device 30 transfers and inverts the transparent plate P without touching the first surface. The entire second surface of the transparent plate P is cleaned by the device 20. For this reason, the said transparent plate cleaning system can clean both surfaces of the transparent plate P easily and reliably in a short time without a person intervening.

例えば、清掃する対象物が透明板Pではなく金属板や木板等の場合には、少しの埃や傷が板面に残っていても、製品上大きな問題とはならない可能性がある。しかしながら、本件のように透明板を清掃する場合には、小さな傷や微少な埃であっても目立つため、問題となる。   For example, when the object to be cleaned is not a transparent plate P but a metal plate, a wooden plate, or the like, even if a small amount of dust or scratches remain on the plate surface, there is a possibility that it will not be a big problem on the product. However, when the transparent plate is cleaned as in the present case, even a small scratch or minute dust is noticeable, which is a problem.

当該透明板清掃システムにおいて、透明板移送装置30は、透明板Pの板面に吸着して透明板Pを反転させるため、透明板Pが傷つくことがない。また、透明板移送装置30は、清掃済みの面に接触せずに、第2クリーニング装置20に透明板Pを移送するため、清掃済みの板面に埃や汚れ等が付着するのを防止できる。   In the transparent plate cleaning system, since the transparent plate transfer device 30 is attracted to the plate surface of the transparent plate P and reverses the transparent plate P, the transparent plate P is not damaged. Further, since the transparent plate transfer device 30 transfers the transparent plate P to the second cleaning device 20 without contacting the cleaned surface, it is possible to prevent dust and dirt from adhering to the cleaned plate surface. .

当該透明板清掃システムにおいて、透明板移送装置30は、第1受渡領域A3において一方のアーム33に取り付けられた保持部32が透明板Pを吸着するとき、回転軸を中心に対称位置に配置された他方のアーム33に取り付けられた保持部32が第2受渡領域A4に配置される。このため、第1受渡領域A3における透明板Pの吸着と同時に第2受渡領域A4における透明板Pの解放が可能である。したがって、第1受渡領域A3における透明板Pの吸着と第2受渡領域A4における透明板Pの解放のタイミングが異なる場合よりも、効率が良い。   In the transparent plate cleaning system, the transparent plate transfer device 30 is arranged at a symmetrical position around the rotation axis when the holding portion 32 attached to one arm 33 in the first delivery area A3 sucks the transparent plate P. The holding portion 32 attached to the other arm 33 is disposed in the second delivery area A4. For this reason, it is possible to release the transparent plate P in the second delivery area A4 simultaneously with the adsorption of the transparent plate P in the first delivery area A3. Therefore, the efficiency is better than when the suction timing of the transparent plate P in the first delivery area A3 and the release timing of the transparent board P in the second delivery area A4 are different.

当該透明板清掃システムにおいて、透明板移送装置30は、保持部32によって透明板Pを吸着する際、回転部35を回転させずに突出機構34を用いてアーム33を突出させて透明板Pを持ち上げる。このため、第1受渡領域A3における第1クリーニング装置10からの透明板Pの受け取りと、第2受渡領域A4における第2クリーニング装置20への透明板Pの受け渡しとを同期せずに異なるタイミングで行える。つまり、当該透明板清掃システムは、第1クリーニング装置10及び第2クリーニング装置20が互いの動作を待たずに独立して稼働できるので、処理能力が高い。   In the transparent plate cleaning system, when the transparent plate transfer device 30 sucks the transparent plate P by the holding unit 32, the transparent plate P is moved by protruding the arm 33 using the protruding mechanism 34 without rotating the rotating unit 35. lift. Therefore, the reception of the transparent plate P from the first cleaning device 10 in the first delivery area A3 and the delivery of the transparent plate P to the second cleaning device 20 in the second delivery area A4 are not synchronized but at different timings. Yes. That is, the transparent plate cleaning system has a high processing capability because the first cleaning device 10 and the second cleaning device 20 can operate independently without waiting for each other's operation.

当該透明板清掃システムにおいて、第1搬送部11が透明板Pと接触する高さ位置が回転部35の高さ以上であり、第2搬送部21が透明板Pと接触する高さ位置が回転部35の高さ以下である。これにより、透明板移送装置30は、平面視で回転部35に重なるように透明板Pを保持できるので、第1受渡領域A3と第2受渡領域A4とを近く設定でき、当該透明板清掃システムの専有面積を小さくできる。   In the transparent plate cleaning system, the height position at which the first transport unit 11 contacts the transparent plate P is greater than or equal to the height of the rotating unit 35, and the height position at which the second transport unit 21 contacts the transparent plate P rotates. It is below the height of the part 35. Thereby, since the transparent plate transfer apparatus 30 can hold | maintain the transparent plate P so that it may overlap with the rotation part 35 by planar view, the 1st delivery area | region A3 and 2nd delivery area | region A4 can be set near, The said transparent board cleaning system Can be reduced.

透明板移送装置30において、制御装置44の解放制御要素47は、第2受渡領域A4において保持部32が透明板Pを解放した後にアーム33を収縮させる。これにより、回転部35の回転時にアーム33が第2搬送部21と干渉しない。   In the transparent plate transfer device 30, the release control element 47 of the control device 44 contracts the arm 33 after the holding portion 32 releases the transparent plate P in the second delivery area A4. Thus, the arm 33 does not interfere with the second transport unit 21 when the rotating unit 35 rotates.

透明板移送装置30において、搬送方向において透明板Pが長い場合にはアーム33を収縮した状態で透明板Pを受け取るので、透明板Pは、完全に第1搬送部11から離脱した後に、保持部32により持ち上げつつ吸着される。これにより、第1搬送部11と透明板Pが接触した状態で透明板Pを持ち上げる場合と比べて、保持部32の吸引負荷を低減することができる。このため、透明板移送装置30では、多様なサイズの透明板Pを確実に搬送しつつ反転できる。さらに、第1受渡領域A3においてアーム33を収縮した状態で透明板Pを受け取り、回転した後に、アーム33を伸長させて、透明板Pを解放するため、第1受渡領域A3において、アーム33を伸長して透明板A3を受け取る場合と比べて、透明板A3を第2清掃領域に近い位置まで搬送することができる。このため、搬送速度を速めることができる。   In the transparent plate transfer device 30, when the transparent plate P is long in the conveyance direction, the transparent plate P is received in a state where the arm 33 is contracted. Therefore, the transparent plate P is held after being completely detached from the first conveyance unit 11. It is adsorbed while being lifted by the part 32. Thereby, compared with the case where the transparent plate P is lifted in a state where the first transport unit 11 and the transparent plate P are in contact with each other, the suction load of the holding unit 32 can be reduced. For this reason, in the transparent plate transfer apparatus 30, it can reverse | invert, conveying the transparent plate P of various sizes reliably. Furthermore, in order to release the transparent plate P by receiving the transparent plate P with the arm 33 contracted in the first delivery region A3 and rotating it, the arm 33 is released in the first delivery region A3. Compared to the case where the transparent plate A3 is received by extension, the transparent plate A3 can be transported to a position close to the second cleaning region. For this reason, the conveyance speed can be increased.

透明板移送装置30において、アーム33は、固定部材38及びスライド部材39からなり、保持部32が吸着している透明板Pと平行に伸縮する。このため、第2受渡領域A4において、透明板Pを第2搬送部21上に解放する位置を選択できる。   In the transparent plate transfer device 30, the arm 33 includes a fixing member 38 and a slide member 39, and expands and contracts in parallel with the transparent plate P to which the holding unit 32 is adsorbed. For this reason, in the 2nd delivery area A4, the position which releases transparent board P on the 2nd conveyance part 21 can be chosen.

透明板移送装置30において、制御装置44の吸着制御要素46は、第1受渡領域における透明板Pの吸着のタイミングを、透明板Pの搬送方向長さが基準長さLを超える場合には上流側センサ41のみによって決定し、透明板Pの搬送方向長さが基準長さL以下の場合には下流側センサ42のみによって決定する。よって、簡単な制御で多様なサイズの透明板Pを吸着できる。   In the transparent plate transfer device 30, the suction control element 46 of the control device 44 determines the timing of suction of the transparent plate P in the first delivery area, when the length of the transparent plate P in the transport direction exceeds the reference length L. It is determined only by the side sensor 41, and when the transport direction length of the transparent plate P is equal to or less than the reference length L, it is determined only by the downstream sensor 42. Therefore, the transparent plate P of various sizes can be adsorbed with simple control.

透明板移送装置30は、仮受部材31を備えるので、完全に第1搬送部11から離間するまで透明板Pを支持できる。つまり、保持部32で透明板Pを吸着するために突出機構34がアーム33を突出させるときに透明板Pを第1搬送部11から無理矢理引き剥がす必要がない。このため、保持部32に過大な負荷がかからず、透明板Pの確実な吸着が可能である。   Since the transparent plate transfer device 30 includes the provisional receiving member 31, it can support the transparent plate P until it is completely separated from the first transport unit 11. That is, it is not necessary to forcibly peel the transparent plate P from the first transport unit 11 when the protruding mechanism 34 causes the arm 33 to protrude in order to suck the transparent plate P with the holding unit 32. For this reason, an excessive load is not applied to the holding portion 32, and the transparent plate P can be reliably adsorbed.

[第二実施形態]
本発明の第二実施形態の透明板清掃システムは、第一実施形態と同じ第1クリーニング装置10及び第2クリーニング装置20と、図12に示す透明板移送装置30aとを有する。本実施形態について、第一実施形態と同じ構成要素には同じ符号を付して重複する説明を省略する。
[Second Embodiment]
The transparent plate cleaning system according to the second embodiment of the present invention includes the same first cleaning device 10 and second cleaning device 20 as those in the first embodiment, and a transparent plate transfer device 30a shown in FIG. About this embodiment, the same code | symbol is attached | subjected to the same component as 1st embodiment, and the overlapping description is abbreviate | omitted.

図12の透明板清掃システムでは、第1クリーニング装置10と第2クリーニング装置20とが平面視で平行に並んで配置されている。詳しくは、第1クリーニング装置10及び第2クリーニング装置20は、第1クリーニング装置10の第1搬送部11による透明板Pの搬送方向D1と第2クリーニング装置20の第2搬送部21による透明板Pの搬送方向D2とが反対向きになるように配置されている。   In the transparent plate cleaning system of FIG. 12, the first cleaning device 10 and the second cleaning device 20 are arranged in parallel in a plan view. Specifically, the first cleaning device 10 and the second cleaning device 20 include a transparent plate P in the transport direction D1 of the transparent plate P by the first transport unit 11 of the first cleaning device 10 and a second transport unit 21 of the second cleaning device 20. It is arranged so that the conveyance direction D2 of P is opposite.

<透明板移送装置>
透明板移送装置30aは、水平かつ第1搬送部11の搬送方向D1及び第2搬送部21の搬送方向D2と平行な回転軸を中心に回転する回転部35aを有する。回転部35aの回転軸は、第1クリーニング装置10と第2クリーニング装置20との間に配置されている。この回転部35aは、回転軸と垂直に延伸する腕状の部材であり、第1受渡領域A3よりも第1搬送部11の搬送方向D1の下流側、かつ第2受渡領域A4よりも第2搬送部21の搬送方向D2の上流側に配置されている。そして、回転部35aは、両端部の第1クリーニング装置10及び第2クリーニング装置20側の側部に突出機構34を支持している。
<Transparent plate transfer device>
The transparent plate transfer device 30a includes a rotating unit 35a that rotates about a rotation axis that is horizontal and parallel to the conveying direction D1 of the first conveying unit 11 and the conveying direction D2 of the second conveying unit 21. The rotation shaft of the rotation unit 35 a is disposed between the first cleaning device 10 and the second cleaning device 20. The rotating portion 35a is an arm-like member extending perpendicularly to the rotation axis, and is downstream from the first delivery area A3 in the transport direction D1 of the first transport section 11 and second from the second delivery area A4. It arrange | positions in the upstream of the conveyance direction D2 of the conveyance part 21. FIG. The rotating portion 35a supports the protruding mechanism 34 on the side of the first cleaning device 10 and the second cleaning device 20 on both ends.

このような構成を有する当該透明板清掃システムは、全長が短いので、設置場所の確保が容易である。   Since the transparent plate cleaning system having such a configuration has a short overall length, it is easy to secure an installation location.

[その他の実施形態]
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記実施形態の構成に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内での全ての変更(構成の置換、付加及び削除)が含まれることが意図される。
[Other Embodiments]
The embodiment disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is not limited to the configuration of the embodiment described above, but is defined by the scope of the claims, and all modifications within the meaning and scope equivalent to the scope of the claims (substitutions, additions, and Deletion) is intended to be included.

例えば、吸着制御要素及び解放制御要素がアームの収縮を行わず、回転制御要素が回転部の回転前にアームの収縮を行ってもよい。また、本発明は、必ずしもアーム33が伸縮可能な構成である必要はない。   For example, the adsorption control element and the release control element may not contract the arm, and the rotation control element may contract the arm before the rotation unit rotates. In the present invention, the arm 33 is not necessarily configured to be extendable and contractible.

また、第2受渡領域に透明板を受け渡す別の機構を設ければ、例えば第2搬送部をスライドエッジ型のコンベアとすれば、透明板移送装置は、アームを収縮した状態で透明板を第2クリーニング装置に受け渡すことができる。   In addition, if another mechanism for delivering the transparent plate is provided in the second delivery area, for example, if the second transport unit is a slide-edge type conveyor, the transparent plate transfer device moves the transparent plate with the arm contracted. It can be delivered to the second cleaning device.

上記の実施形態では、第1クリーニング装置10及び第2クリーニング装置20は、それぞれ第1清掃部12及び第2清掃部22を有する構成について説明したが、本発明はこれに限らず、例えば、第1クリーニング装置10が2つの第1清掃部12を有し、第2クリーニング装置20が2つの第2清掃部22を有する構成であってもよい。また、第1清掃部12や第2清掃部22とは異なる清掃機構を備えた装置であってもよい。   In the above embodiment, the first cleaning device 10 and the second cleaning device 20 have been described as having the first cleaning unit 12 and the second cleaning unit 22, respectively. However, the present invention is not limited to this, for example, The 1 cleaning device 10 may include two first cleaning units 12 and the second cleaning device 20 may include two second cleaning units 22. Moreover, the apparatus provided with the cleaning mechanism different from the 1st cleaning part 12 or the 2nd cleaning part 22 may be sufficient.

上記の実施形態では、アーム33を突出機構34によって突出又は後退させる構成としたが、本発明はこれに限らず、突出機構34を有していない構成であってもよい。   In the above embodiment, the arm 33 is protruded or retracted by the protrusion mechanism 34. However, the present invention is not limited to this, and the structure without the protrusion mechanism 34 may be used.

上記の実施形態では、アーム33は伸長及び収縮の2つの状態にのみ変化し得る構成について説明したが、本発明はこれに限らず、3段階又はそれ以上の段階に変化し得るアームを備えた構成であっても良い。この場合には、上記の実施形態よりもさらに、様々なサイズの透明板に対応することができる。   In the above-described embodiment, the configuration in which the arm 33 can change only in two states of extension and contraction has been described, but the present invention is not limited to this, and the arm 33 includes an arm that can change in three or more stages. It may be a configuration. In this case, it can respond to the transparent plate of various sizes further than said embodiment.

上記の実施形態では、第1クリーニング装置10には、第2クリーニング装置20の載置用長尺布24に相当する構成は配置されていないが、本発明はこれに限らず、第1クリーニング装置10にも第2クリーニング装置20の載置用長尺布24に相当する構成を設けてもよい。   In the above embodiment, the first cleaning device 10 is not provided with a configuration corresponding to the placing long cloth 24 of the second cleaning device 20, but the present invention is not limited to this, and the first cleaning device is not limited thereto. 10 may be provided with a configuration corresponding to the placing long cloth 24 of the second cleaning device 20.

上記の実施形態では、透明板Pを保持部32により吸着することで保持する構成を用いたが、本発明はこれに限らず、透明板Pを粘着力等、他の方法で保持する構成であってもよい。   In the above-described embodiment, the configuration in which the transparent plate P is held by being sucked by the holding unit 32 is used. However, the present invention is not limited to this, and the transparent plate P is held by other methods such as adhesive force. There may be.

また、第2受渡領域における透明板Pの解放のタイミングを定める確認信号としては、第2クリーニング装置20から透明板移送装置30に入力される透明板Pの供給を求める外部信号を用いてもよい。   Further, as a confirmation signal for determining the release timing of the transparent plate P in the second delivery area, an external signal for requesting the supply of the transparent plate P input from the second cleaning device 20 to the transparent plate transfer device 30 may be used. .

また、上記第二実施形態では、回転体35aが回転軸と平行にアーム33を支持しているが、アーム33を異なる角度に支持することで、第1クリーニング装置10の第1搬送部11による透明板Pの搬送方向D1と第2クリーニング装置20の第2搬送部21による透明板Pの搬送方向D2とが所望の角度になるように配置できる。   In the second embodiment, the rotator 35a supports the arm 33 in parallel with the rotation axis. However, by supporting the arm 33 at a different angle, the first transport unit 11 of the first cleaning device 10 performs the operation. It can arrange | position so that the conveyance direction D1 of the transparent plate P and the conveyance direction D2 of the transparent plate P by the 2nd conveyance part 21 of the 2nd cleaning apparatus 20 may become a desired angle.

本発明の透明板清掃システムは、携帯機器の表示装置に用いられるガラス基板等の透明板の清掃に好適に利用できる。   The transparent plate cleaning system of the present invention can be suitably used for cleaning a transparent plate such as a glass substrate used in a display device of a portable device.

10 第1クリーニング装置
11 第1搬送部
12 第1清掃部
20 第2クリーニング装置
21 第2搬送部
22 第2清掃部
23 ベルトコンベア
30 透明板移送装置
31 仮受部材
32 保持部
33 アーム
34 突出機構
35 回転部
38 固定部材
39 スライド部材
41 上流側センサ
42 下流側センサ
44 制御装置
46 吸着制御要素
47 解放制御要素
48 回転制御要素
A1 透明板供給領域
A2 第1清掃領域
A3 第1受渡領域
A4 第2受渡領域
A5 第2清掃領域
A6 透明板排出領域
P 透明板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 1st cleaning apparatus 11 1st conveyance part 12 1st cleaning part 20 2nd cleaning apparatus 21 2nd conveyance part 22 2nd cleaning part 23 Belt conveyor 30 Transparent board transfer apparatus 31 Temporary receiving member 32 Holding part 33 Arm 34 Projection mechanism 35 Rotating part 38 Fixed member 39 Slide member 41 Upstream sensor 42 Downstream sensor 44 Controller 46 Adsorption control element 47 Release control element 48 Rotation control element A1 Transparent plate supply area A2 First cleaning area A3 First delivery area A4 Second Delivery area A5 Second cleaning area A6 Transparent plate discharge area P Transparent plate

Claims (9)

透明板の一方の面を清掃する第1クリーニング装置、上記透明板の他方の面を清掃する第2クリーニング装置、及び上記透明板を上記第1クリーニング装置から上記第2クリーニング装置に移送する移送装置を備え、
上記移送装置が、上記透明板を移送中に反転する透明板清掃システム。
A first cleaning device for cleaning one surface of the transparent plate, a second cleaning device for cleaning the other surface of the transparent plate, and a transfer device for transferring the transparent plate from the first cleaning device to the second cleaning device With
The transparent plate cleaning system in which the transfer device reverses the transparent plate during transfer.
上記移送装置が、上記透明板の他方の面に接触して上記透明板を保持する保持部を有する請求項1に記載の透明板清掃システム。   The transparent plate cleaning system according to claim 1, wherein the transfer device has a holding portion that contacts the other surface of the transparent plate and holds the transparent plate. 上記第1クリーニング装置が、上記透明板を第1清掃領域から第1受渡領域まで搬送する第1搬送部を有し、
上記第2クリーニング装置が、上記透明板を第2受渡領域から第2清掃領域まで搬送する第2搬送部を有し、
上記保持部が、上記第1受渡領域で上記透明板の他方の面を吸着し、
上記移送装置が、上記保持部を上記第1受渡領域から上記第2受渡領域側に移動させつつ上記透明板を反転させるよう、所定の回転軸を中心に回転する回転部をさらに有する請求項2に記載の透明板清掃システム。
The first cleaning device includes a first transport unit that transports the transparent plate from a first cleaning region to a first delivery region,
The second cleaning device has a second transport unit that transports the transparent plate from the second delivery area to the second cleaning area,
The holding portion adsorbs the other surface of the transparent plate in the first delivery region;
The said transfer apparatus further has a rotation part rotated centering | focusing on a predetermined rotating shaft so that the said transparent plate may be reversed, moving the said holding | maintenance part from the said 1st delivery area to the said 2nd delivery area side. The transparent plate cleaning system described in 1.
上記移送装置が、一端側に上記保持部が付設され、他端側が上記回転部に支持されているアームと、上記回転部と上記アームとの間に設けられ、上記保持部の吸引方向に上記アームを突出又は後退させる突出機構とを有する請求項3に記載の透明板清掃システム。   The transfer device is provided between the rotating unit and the arm having the holding unit attached to one end side and the other end side supported by the rotating unit, and in the suction direction of the holding unit. The transparent plate cleaning system according to claim 3, further comprising a projecting mechanism for projecting or retracting the arm. 上記第2搬送部が上記透明板に接触する高さが、上記第1搬送部が上記透明板に接触する高さ未満である請求項3又は請求項4に記載の透明板搬送システム。   The transparent plate conveyance system according to claim 3 or 4, wherein a height at which the second conveyance unit contacts the transparent plate is less than a height at which the first conveyance unit contacts the transparent plate. 複数の上記保持部及び上記アームが、上記回転軸を中心に対称に配設されており、
上記第1受渡領域及び上記第2受渡領域が上記回転軸を中心に対称に配設されている請求項3から5のいずれか1項に記載の透明板清掃システム。
The plurality of holding portions and the arms are disposed symmetrically about the rotation axis,
The transparent plate cleaning system according to any one of claims 3 to 5, wherein the first delivery area and the second delivery area are arranged symmetrically about the rotation axis.
上記保持部、上記突出機構及び上記回転部の動作を制御する制御装置を備え、
上記制御装置が、
上記第1受渡領域において、上記透明板が供給され、上記透明板が移動している状態で上記突出機構が上記アームを突出させると共に上記保持部が上記透明板を吸着するよう制御する吸着制御要素と、
上記第2受渡領域において、確認信号に応じて上記保持部が上記透明板を解放するよう制御する解放制御要素と、
上記第1受渡領域における上記透明板の吸着と、上記第2受渡領域における上記透明板の解放とが共に完了した後、上記回転部が回転するよう制御する回転制御要素と
を有する請求項6に記載の透明板清掃システム。
A control device for controlling the operation of the holding unit, the protruding mechanism and the rotating unit;
The control device is
In the first delivery area, the transparent plate is supplied, and an adsorption control element that controls the protruding mechanism to protrude the arm and the holding unit to adsorb the transparent plate while the transparent plate is moving. When,
A release control element for controlling the holding unit to release the transparent plate in response to a confirmation signal in the second delivery area;
A rotation control element that controls the rotation unit to rotate after both the adsorption of the transparent plate in the first delivery region and the release of the transparent plate in the second delivery region are completed. The transparent plate cleaning system described.
上記吸着制御要素が、一方の上記アームに設けられた上記保持部が上記透明板を解放するよう上記解放制御要素が制御するのと同時に、他方の上記アームに設けられた上記保持部が上記透明板を吸着するよう制御する請求項7に記載の透明板清掃システム。   At the same time that the adsorption control element controls the release control element so that the holding part provided in one of the arms releases the transparent plate, the holding part provided in the other arm is the transparent 8. The transparent plate cleaning system according to claim 7, wherein the transparent plate cleaning system is controlled to adsorb the plate. 上記アームが伸縮可能であり、
上記解放制御要素が、上記アームが伸長した状態で上記保持部が上記透明板を吸着するよう制御し、
上記解放制御要素又は上記回転制御要素が、上記保持部が上記透明板を解放した後であって上記回転体が回転する前に、上記第2受渡領域の上記アームを収縮するよう制御する請求項7又は請求項8に記載の透明板清掃システム。
The arm is extendable,
The release control element controls the holding unit to adsorb the transparent plate in a state where the arm is extended;
The release control element or the rotation control element controls the arm of the second delivery area to contract after the holding part releases the transparent plate and before the rotating body rotates. The transparent plate cleaning system according to claim 7 or 8.
JP2013158753A 2013-07-31 2013-07-31 Transparent plate cleaning system Active JP6005007B2 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013158753A JP6005007B2 (en) 2013-07-31 2013-07-31 Transparent plate cleaning system
CN201410371557.6A CN104340730B (en) 2013-07-31 2014-07-30 Transparent panel cleaning system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013158753A JP6005007B2 (en) 2013-07-31 2013-07-31 Transparent plate cleaning system

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015029922A true JP2015029922A (en) 2015-02-16
JP6005007B2 JP6005007B2 (en) 2016-10-12

Family

ID=52497296

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013158753A Active JP6005007B2 (en) 2013-07-31 2013-07-31 Transparent plate cleaning system

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP6005007B2 (en)
CN (1) CN104340730B (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114405879A (en) * 2021-12-30 2022-04-29 凯盛信息显示材料(黄山)有限公司 Conductive glass cleaning device and conductive glass cleaning method

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106214078B (en) * 2016-07-26 2019-06-21 哈尔滨万洲焊接技术有限公司 A kind of monoblock type carpet cleaner
CN107971294A (en) * 2017-12-22 2018-05-01 湖北金成光电科技股份有限公司 A kind of two-sided dust removal system of plank
CN108974938A (en) * 2018-09-28 2018-12-11 苏州精创光学仪器有限公司 Inclined automatic turnover device
CN114308774A (en) * 2021-12-28 2022-04-12 深圳市华东兴科技有限公司 Cleaning device and cleaning method for liquid crystal panel
CN114834857A (en) * 2022-04-28 2022-08-02 安徽富乐德科技发展股份有限公司 Cleaning device for semiconductor panel equipment

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5567375A (en) * 1978-11-17 1980-05-21 Harunobu Miura Automatic washer
JPS62183624U (en) * 1986-01-16 1987-11-21
JPH01147344U (en) * 1988-03-30 1989-10-12
JPH0385791A (en) * 1989-08-29 1991-04-10 Fujitsu Ltd Reverse washing device for board
JPH06135549A (en) * 1992-10-26 1994-05-17 Omron Corp Tray separator
JPH08182972A (en) * 1994-12-30 1996-07-16 Mitsui Kikaku Kk Net body washing device
JPH11284045A (en) * 1998-03-30 1999-10-15 Shibaura Mechatronics Corp Substrate processing device and method therefor
JP2002126662A (en) * 2000-10-31 2002-05-08 Optrex Corp Device for cleaning liquid crystal cell
JP2002302248A (en) * 2001-03-30 2002-10-18 Shibaura Mechatronics Corp Substrate reversing device, and panel manufacturing device using it
JP2009249091A (en) * 2008-04-02 2009-10-29 Nippon Mektron Ltd Plate work reversing device
JP2012218844A (en) * 2011-04-05 2012-11-12 Kawasaki Heavy Ind Ltd Plate-like member inverting system, and inversion transfer method of the same

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3443398B2 (en) * 2000-11-08 2003-09-02 川崎重工業株式会社 Reverse stacking device
US8182009B2 (en) * 2008-03-13 2012-05-22 Xyratex Technology, Ltd. End effector
JP5107122B2 (en) * 2008-04-03 2012-12-26 大日本スクリーン製造株式会社 Substrate processing equipment
CN101814586B (en) * 2009-12-01 2011-09-28 东莞宏威数码机械有限公司 Clamping type substrate turnover device

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5567375A (en) * 1978-11-17 1980-05-21 Harunobu Miura Automatic washer
JPS62183624U (en) * 1986-01-16 1987-11-21
JPH01147344U (en) * 1988-03-30 1989-10-12
JPH0385791A (en) * 1989-08-29 1991-04-10 Fujitsu Ltd Reverse washing device for board
JPH06135549A (en) * 1992-10-26 1994-05-17 Omron Corp Tray separator
JPH08182972A (en) * 1994-12-30 1996-07-16 Mitsui Kikaku Kk Net body washing device
JPH11284045A (en) * 1998-03-30 1999-10-15 Shibaura Mechatronics Corp Substrate processing device and method therefor
JP2002126662A (en) * 2000-10-31 2002-05-08 Optrex Corp Device for cleaning liquid crystal cell
JP2002302248A (en) * 2001-03-30 2002-10-18 Shibaura Mechatronics Corp Substrate reversing device, and panel manufacturing device using it
JP2009249091A (en) * 2008-04-02 2009-10-29 Nippon Mektron Ltd Plate work reversing device
JP2012218844A (en) * 2011-04-05 2012-11-12 Kawasaki Heavy Ind Ltd Plate-like member inverting system, and inversion transfer method of the same

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114405879A (en) * 2021-12-30 2022-04-29 凯盛信息显示材料(黄山)有限公司 Conductive glass cleaning device and conductive glass cleaning method
CN114405879B (en) * 2021-12-30 2023-01-03 凯盛信息显示材料(洛阳)有限公司 Conductive glass cleaning device and conductive glass cleaning method

Also Published As

Publication number Publication date
CN104340730B (en) 2017-04-12
CN104340730A (en) 2015-02-11
JP6005007B2 (en) 2016-10-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6005007B2 (en) Transparent plate cleaning system
JP5799059B2 (en) Thin plate transfer device and thin plate cleaning system
TWI470729B (en) Broken substrate or wafer recovery system and method for removing broken wafer using the sysyem
JP5833959B2 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
CN104416565B (en) Turn-over system and the workbench of employing thereof
JP6842300B2 (en) Board position aligner
US20080156361A1 (en) Substrate processing apparatus
JP2008302487A5 (en)
JP2023055999A (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
CN103534184A (en) System for transferring plate-shaped member having slip sheet, and method for transferring same
JP6948860B2 (en) Board holding device
JP2013139071A (en) Transfer system
JP5449856B2 (en) Semiconductor wafer transfer method
KR101073546B1 (en) Stocker
US10871665B2 (en) Transfer plate pretreatment device and method, as well as transfer device and plate-hanging method
KR20150124375A (en) Apparatus for rotating brittle material substrate
JP2016140816A (en) Transparent plate cleaning system
KR20150068575A (en) Board grip and carrying device and method for using thereof
JP5563530B2 (en) Peeling apparatus, peeling system, peeling method, program, and computer storage medium
JP6517522B2 (en) Cleaning device and work cleaning system
KR20150124379A (en) Method and apparatus of transporting brittle material substrate
KR20160149706A (en) Multi substrate transfer robot
JP3990696B2 (en) Panel cleaning device
TW201930167A (en) Substrate sucking device capable of sucking substrate with less leakage
KR101577339B1 (en) The apparatus for transferring the wafers

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20150106

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150227

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20150908

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20151109

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20151222

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160218

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20160315

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160610

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20160620

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20160809

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20160906

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6005007

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250