JP2015014012A - Epoxy compound composition - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To heighten fire retardant of a resin molding without deteriorating heat resistance and high-temperature reliability.SOLUTION: A resin composition comprises: an epoxy compound composition comprising at least two kinds of epoxy compounds having a phosphazene ring and an epoxy group which are produced by the reaction of a polyfunctional glycidyl compound, such as glycidyl ether of bisphenol A, with a hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound such as a cyclic phosphazene compound in which an aryloxy group and a hydroxyaryloxy group are mixed and substituted; and at least one kind of resin component selected from the group consisting of a thermoplastic resin and a thermosetting resin. The resin composition is excellent in heat resistance, high-temperature reliability and flame retardancy, and can form a resin molding having properties inherent to the resin component. The resin molding can be used as a sealing agent for an electronic component, such as an LSI, and a substrate.

Description

本発明は、組成物、特に、エポキシ化合物の組成物に関する。   The present invention relates to a composition, particularly a composition of an epoxy compound.

産業用および民生用の機器並びに電気製品などの分野において、合成樹脂は、その加工性、耐薬品性、耐候性、電気的特性および機械的強度等の点で他の材料に比べて優位性を有するため多用されており、また、その使用量が増加している。しかし、合成樹脂は、燃焼し易い性質を有するため、難燃性の付与が求められており、近年その要求性能が次第に高まっている。このため、LSI等の電子部品の封止剤や基板等に使用されている樹脂組成物、例えばエポキシ樹脂組成物は、難燃化するために、ハロゲン含有化合物や、ハロゲン含有化合物と酸化アンチモンなどのアンチモン化合物との混合物が一般的な難燃剤として添加されている。ところが、このような難燃剤を配合した樹脂組成物は、燃焼時や成形時等において、環境汚染のおそれがあるハロゲン系ガスを発生する可能性がある。また、ハロゲン系ガスは、電子部品の電気的特性や機械的特性を阻害する可能性がある。そこで、最近では、合成樹脂用の難燃剤として、燃焼時や成形時等においてハロゲン系ガスが発生しにくい非ハロゲン系のもの、例えば、水酸化アルミニウムや水酸化マグネシウムなどの金属水和物系難燃剤やリン酸エステル系、縮合リン酸エステル系、リン酸アミド系、ポリリン酸アンモニウム系およびホスファゼン系などのリン系難燃剤が多用されるようになっている。   In the fields of industrial and consumer equipment and electrical products, synthetic resins have advantages over other materials in terms of processability, chemical resistance, weather resistance, electrical properties and mechanical strength. It has been used extensively because of its use, and its usage is increasing. However, since synthetic resins have the property of being easily combusted, they are required to be provided with flame retardancy, and in recent years, the required performance is gradually increasing. For this reason, resin compositions used for encapsulants and substrates for electronic components such as LSIs, such as epoxy resin compositions, are flame retardant and contain halogen-containing compounds, halogen-containing compounds and antimony oxide, etc. A mixture with an antimony compound is added as a general flame retardant. However, a resin composition containing such a flame retardant may generate a halogen-based gas that may cause environmental pollution during combustion or molding. In addition, the halogen-based gas may hinder the electrical characteristics and mechanical characteristics of the electronic component. Therefore, recently, as flame retardants for synthetic resins, non-halogen-based flame retardants that do not easily generate halogen-based gases during combustion or molding, for example, metal hydrates such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide are difficult. Phosphorous flame retardants such as flame retardants, phosphoric acid esters, condensed phosphoric acid esters, phosphoric acid amides, ammonium polyphosphates, and phosphazenes are widely used.

このうち、金属水和物系難燃剤は、脱水熱分解の吸熱反応とそれに伴う水の放出が合成樹脂の熱分解や燃焼開始温度と重複した温度領域で起こることで難燃化効果を発揮するが、その効果を高めるためには樹脂組成物に対して多量に配合する必要がある。このため、この種の難燃剤を含む樹脂組成物の成形品は、機械的強度が損なわれるという欠点がある。一方、リン系難燃剤のうち、リン酸エステル系および縮合リン酸エステル系のものは、可塑効果を有するため、難燃性を高めるために樹脂組成物に対して多量に添加すると、樹脂成形品の機械的強度が低下するなどの欠点が生じる。また、リン酸エステル系、リン酸アミド系およびポリリン酸アンモニウム系のものは、容易に加水分解することから、機械的および電気的な長期信頼性が要求される樹脂成形品の製造用材料においては実質的に使用が困難である。これらに対し、ホスファゼン系の難燃剤は、他のリン系難燃剤に比べて可塑効果および加水分解性が小さく、樹脂組成物に対する添加量を大きくすることができるため、下記の特許文献1〜5に記載のように、合成樹脂用の有効な難燃剤として多用されつつある。しかし、ホスファゼン系の難燃剤は、樹脂組成物に対する添加量を増やすと、高温下における樹脂成形品の信頼性を損なう可能性がある。具体的には、熱可塑性樹脂系の樹脂組成物の場合は、高温下においてその樹脂成形体からホスファゼン系の難燃剤がブリードアウト(溶出)し易く、また、熱硬化性樹脂系の樹脂組成物の場合は、高温下においてその樹脂成形品にフクレ等の変形が発生し、当該樹脂成形品が積層基板等の電気・電子分野において用いられる場合は変形によるショートを引き起こす可能性がある。 Among these, metal hydrate flame retardants exhibit a flame retardant effect because the endothermic reaction of dehydration pyrolysis and the accompanying water release occur in a temperature range that overlaps the thermal decomposition and combustion start temperature of the synthetic resin. However, in order to enhance the effect, it is necessary to add a large amount to the resin composition. For this reason, the molded article of the resin composition containing this type of flame retardant has a drawback that the mechanical strength is impaired. On the other hand, among phosphoric flame retardants, phosphoric acid ester and condensed phosphoric acid ester types have a plastic effect, so if they are added in a large amount to the resin composition in order to increase flame retardancy, resin molded products There are disadvantages such as a decrease in mechanical strength. In addition, phosphate ester-based, phosphate amide-based, and ammonium polyphosphate-based materials are easily hydrolyzed. Therefore, in materials for manufacturing resin molded products that require mechanical and electrical long-term reliability. It is practically difficult to use. For these, flame retardants phosphazene has a small plasticizing effect and hydrolysis resistance as compared with other phosphorus-based flame retardant, it is possible to increase the addition amount to the resin composition, Patent Documents 1 to 5 below As described in the above, they are frequently used as effective flame retardants for synthetic resins. However, if the amount of the phosphazene-based flame retardant added to the resin composition is increased, the reliability of the resin molded product at high temperatures may be impaired. Specifically, in the case of a thermoplastic resin-based resin composition, the phosphazene-based flame retardant is likely to bleed out (elution) from the resin molded body at a high temperature, and the thermosetting resin-based resin composition. In this case, deformation such as blistering occurs in the resin molded product at a high temperature, and when the resin molded product is used in the electric / electronic field such as a laminated substrate, a short circuit due to deformation may occur.

そこで、ホスファゼン系の難燃剤は、高温下での樹脂成形品の信頼性(高温信頼性)を高めるための改良が検討されており、その例として下記の特許文献6〜10には、反応性基を有するホスファゼン系の難燃剤およびそれを用いたエポキシ樹脂組成物またはポリイミド樹脂組成物が開示されている。この種のホスファゼン系難燃剤は、樹脂組成物に対して多量に添加した場合であっても樹脂成形品の高温信頼性を損ないにくいが、添加量を増しても樹脂成形品の難燃性を効果的に高めるのが困難という、それに要求される本質的効果の点で不十分であり、また、樹脂成形品の耐熱性(主にガラス転移温度で評価される)を損なうこともある。 Therefore, flame retardants phosphazene, the resin molded article of reliability at elevated temperature has been considered improvement in order to increase (high temperature reliability), Patent Document 6 to 10 below as an example, reactive A phosphazene-based flame retardant having a group and an epoxy resin composition or a polyimide resin composition using the same are disclosed. This type of phosphazene-based flame retardant is unlikely to impair the high temperature reliability of the resin molded product even when added in a large amount to the resin composition. It is not sufficient in terms of the essential effect required for it, which is difficult to increase effectively, and it may impair the heat resistance of the resin molded product (mainly evaluated by the glass transition temperature).

一方、エポキシ樹脂組成物においては、樹脂成形品の耐熱性、機械特性(強靱性)および高温信頼性(耐水性を高めることで改善できる)を高めるための改良が検討されており、その例として下記の特許文献11〜14には、オキサゾリドン環を有する難燃性エポキシ樹脂組成物が開示されている。この難燃性エポキシ樹脂組成物は、要求されている耐熱性および機械特性(強靱性)、並びに高温信頼性(耐水性)をほぼ達成した樹脂成形品を実現することができるが、当該樹脂成形品は難燃性が不十分である。ところが、当該樹脂成形品の難燃性を高めるため、上記難燃性エポキシ樹脂組成物にリン酸エステル系、縮合リン酸エステル系、ホスファフェナンスレン系、ホスファゼン系若しくはポリフェニレンエーテル系等の難燃剤または難燃助剤を加えると、その樹脂成形品は、耐熱性または高温信頼性のいずれかに不具合が発生する。 On the other hand, in the epoxy resin composition, improvements to enhance the heat resistance, mechanical properties (toughness) and high temperature reliability (which can be improved by increasing water resistance) of resin molded products are being studied. The following Patent Documents 11 to 14 disclose flame retardant epoxy resin compositions having an oxazolidone ring. This flame-retardant epoxy resin composition can realize a resin molded product that has almost achieved the required heat resistance and mechanical properties (toughness) and high-temperature reliability (water resistance). The product has insufficient flame retardancy. However, in order to increase the flame retardancy of the resin molded product, the flame retardant epoxy resin composition is not suitable for phosphoric ester, condensed phosphate ester, phosphaphenanthrene, phosphazene or polyphenylene ether. When a flame retardant or a flame retardant aid is added, the resin molded product has a defect in either heat resistance or high temperature reliability.

特開2000−103939号公報JP 2000-103939 A 特開2004−83671号公報JP 2004-83671 A 特開2004−210849号公報JP 2004-210849 A 特開2005−8835号公報JP 2005-8835 A 特開2005−248134号公報JP 2005-248134 A 特開平6−247989号公報Japanese Patent Laid-Open No. 6-247989 特開平10−259292号公報JP-A-10-259292 特開2003−302751号公報JP 2003-302751 A 特開2003−342339号公報JP 2003-342339 A 特開2004−143465号公報JP 2004-143465 A 特開平8−127635号公報JP-A-8-127635 特開2002−308965号公報JP 2002-308965 A 特開2003−119253号公報JP 2003-119253 A WO2006/001445号公報WO2006 / 001445

本発明の目的は、耐熱性および高温信頼性を損なわずに、樹脂成形体の難燃性を高めることにある。   An object of the present invention is to increase the flame retardancy of a resin molded article without impairing heat resistance and high temperature reliability.

本発明者らは、上述の課題を解決すべく研究を重ねた結果、樹脂成形体用の材料においてホスファゼン環とエポキシ基とを同時に有するエポキシ化合物を用いた場合、優れた耐熱性(高いガラス転移温度)および高温信頼性(耐水性)を示し、同時に難燃性に優れていることを見出した。   As a result of repeated studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have achieved excellent heat resistance (high glass transition) when an epoxy compound having a phosphazene ring and an epoxy group at the same time is used in a resin molding material. Temperature) and high temperature reliability (water resistance), and at the same time, found to be excellent in flame retardancy.

本発明は、エポキシ化合物組成物に関するものであり、このエポキシ化合物組成物は、多官能性グリシジル化合物とヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物との反応により得られる、ホスファゼン環とエポキシ基とを有するエポキシ化合物を少なくとも二種類含んでいる。   The present invention relates to an epoxy compound composition, and this epoxy compound composition comprises an epoxy compound having a phosphazene ring and an epoxy group, which is obtained by a reaction between a polyfunctional glycidyl compound and a hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound. Contains at least two types.

ここで用いられる多官能性グリシジル化合物は、例えば、グリシジルエーテル類、グリシジルエステル類、グリシジルアミン類、脂肪族エポキシド類および脂環式エポキシド類からなる群から選ばれる少なくとも一つである。また、ヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、下記の式(1)で示されるものである。   The polyfunctional glycidyl compound used here is at least one selected from the group consisting of glycidyl ethers, glycidyl esters, glycidyl amines, aliphatic epoxides and alicyclic epoxides, for example. The hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound is represented by the following formula (1).

Figure 2015014012
Figure 2015014012

式(1)中、nは1〜6の整数を示し、Aは次のA1基、A2基およびA3基からなる群から選ばれる基を示し、かつ、少なくとも一つがA3基である。
A1基:炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよい、炭素数が1〜8のアルコキシ基。
A2基:炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよい、炭素数6〜20のアリールオキシ基。
A3基:下記の式(2)で示されるヒドロキシアリールオキシ基および下記の式(3)で示されるヒドロキシフェニル置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
In the formula (1), n represents an integer of 1 to 6, A represents a group selected from the group consisting of the following A1, A2, and A3 groups, and at least one is an A3 group.
A1 group: an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms which may be substituted with at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group and an aryl group.
A2 group: an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group and an aryl group.
A3 group: a group selected from the group consisting of a hydroxyaryloxy group represented by the following formula (2) and a hydroxyphenyl-substituted phenyloxy group represented by the following formula (3).

Figure 2015014012
Figure 2015014012

式(2)中、Yはビフェニレンを示す。   In formula (2), Y represents biphenylene.

Figure 2015014012
Figure 2015014012

式(3)中、Zは、O、S、SO、CH、CHCH、C(CH、C(CF、C(CH)CHCH若しくはCOを示す。 In the formula (3), Z represents O, S, SO 2 , CH 2 , CHCH 3 , C (CH 3 ) 2 , C (CF 3 ) 2 , C (CH 3 ) CH 2 CH 3 or CO.

式(1)で示されるヒドロキシ基を有する環状ホスファゼン化合物は、(2n+4)個のAの内の1〜(2n+2)個がA3基であるものが好ましい。また、式(1)のnは、1若しくは2が好ましい。或いは、式(1)のヒドロキシ基を有する環状ホスファゼン化合物は、式(1)のnが異なる二種以上のものを含むものが好ましい。   The cyclic phosphazene compound having a hydroxy group represented by the formula (1) is preferably one in which 1 to (2n + 2) of (2n + 4) A are A3 groups. Moreover, n of Formula (1) is preferably 1 or 2. Alternatively, the cyclic phosphazene compound having a hydroxy group of the formula (1) preferably includes two or more types having different n in the formula (1).

本発明のエポキシ化合物組成物は、特有の構造を有するエポキシ化合物、すなわち、ホスファゼン環とエポキシ基とを同時に有するエポキシ化合物を少なくとも二種類含むものであるため、目的に応じた所望の形状等にそれ自体を硬化させるか、或いは、樹脂材料と混合してこの混合物を硬化させると、耐熱性および高温信頼性とともに難燃性に優れた樹脂成形体を製造することができる。   The epoxy compound composition of the present invention includes at least two types of epoxy compounds having a specific structure, that is, epoxy compounds having a phosphazene ring and an epoxy group at the same time. When it is cured or mixed with a resin material to cure this mixture, a resin molded article having excellent heat resistance and high temperature reliability and flame retardancy can be produced.

本発明の樹脂成形体用組成物は、本発明のエポキシ化合物組成物と、熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂からなる群から選ばれる少なくとも一種の樹脂成分とを含んでいる。この樹脂成形体用組成物は、耐熱性および高温信頼性とともに難燃性に優れ、他の樹脂成分により得られる特性を備えた樹脂成形体を形成することができる。   The composition for resin moldings of the present invention includes the epoxy compound composition of the present invention and at least one resin component selected from the group consisting of thermoplastic resins and thermosetting resins. This composition for resin moldings is excellent in heat resistance and high temperature reliability as well as flame retardancy, and can form a resin molding having characteristics obtained from other resin components.

本発明の樹脂成形体は、本発明のエポキシ化合物組成物を硬化させて得られるもの、或いは、本発明の樹脂成形体用組成物を硬化させて得られるものである。この樹脂成形体は、耐熱性および高温信頼性とともに難燃性に優れている。   The resin molded body of the present invention is obtained by curing the epoxy compound composition of the present invention, or obtained by curing the composition for resin molded body of the present invention. This resin molding is excellent in heat resistance and high temperature reliability as well as flame retardancy.

本発明の電子部品は、本発明の樹脂成形体を用いたものである。この電子部品は、耐熱性および高温信頼性とともに難燃性に優れている。   The electronic component of the present invention uses the resin molded body of the present invention. This electronic component is excellent in flame resistance as well as heat resistance and high temperature reliability.

本発明の他の目的および効果は、以下の詳細な説明において触れる。   Other objects and advantages of the present invention are mentioned in the detailed description below.

エポキシ化合物組成物
本発明のエポキシ化合物組成物は、ホスファゼン環とエポキシ基とを有する化合物、すなわち、ホスファゼン環とエポキシ基とを同時に有するエポキシ化合物を少なくとも二種類含むものである。この組成物に含まれるエポキシ化合物において、エポキシ基は、通常、グリシジル基として含まれる。また、この組成物に含まれるエポキシ化合物は、低分子のものであってもよいし、高分子のものであってもよい。
Epoxy Compound Composition The epoxy compound composition of the present invention contains at least two types of compounds having a phosphazene ring and an epoxy group, that is, an epoxy compound having a phosphazene ring and an epoxy group at the same time. In the epoxy compound contained in the composition, the epoxy group is usually contained as a glycidyl group. In addition, the epoxy compound contained in the composition may be a low molecular compound or a high molecular compound.

本発明のエポキシ化合物組成物において、エポキシ当量は、200〜10,000g/eq.が好ましく、250〜2,000g/eq.がより好ましい。エポキシ当量が200g/eq.未満の場合は、高温信頼性(耐水性)の良好な樹脂成形体が得られにくくなる可能性がある。逆に、10,000g/eq.を超える場合は、耐熱性および難燃性の良好な樹脂成形体が得られにくくなる。   In the epoxy compound composition of the present invention, the epoxy equivalent is 200 to 10,000 g / eq. Is preferred, 250-2,000 g / eq. Is more preferable. Epoxy equivalent is 200 g / eq. If it is less than the range, it may be difficult to obtain a resin molded article having high temperature reliability (water resistance). Conversely, 10,000 g / eq. If it exceeds 1, it becomes difficult to obtain a resin molded article having good heat resistance and flame retardancy.

ここで、エポキシ化合物組成物のエポキシ当量は、JIS K−7236「エポキシ樹脂のエポキシ当量の求め方」において規定された方法により求めることができる。   Here, the epoxy equivalent of an epoxy compound composition can be calculated | required by the method prescribed | regulated in JISK-7236 "how to obtain | require the epoxy equivalent of an epoxy resin".

本発明のエポキシ化合物組成物に含まれるエポキシ化合物は、1分子当たりにおけるエポキシ基の平均官能数が1以上であるが、当該平均官能数は1.2〜5が好ましく、1.2〜3がより好ましい。この平均官能数が1.2未満の場合は、耐熱性の良好な樹脂成形体が得られにくくなる可能性がある。逆に、5を超える場合は、耐熱性の良好な樹脂成形体を得ることはできるが、樹脂成形体の高温信頼性が低下する可能性がある。   The epoxy compound contained in the epoxy compound composition of the present invention has an average functional number of epoxy groups per molecule of 1 or more, but the average functional number is preferably 1.2-5, and 1.2-3. More preferred. When this average functional number is less than 1.2, it may be difficult to obtain a resin molded article having good heat resistance. Conversely, when it exceeds 5, a resin molded article having good heat resistance can be obtained, but the high temperature reliability of the resin molded article may be lowered.

エポキシ化合物組成物の製造方法
本発明のエポキシ化合物組成物は、通常、多官能性グリシジル化合物と、ヒドロキシ基を有する環状ホスファゼン化合物、すなわち、ヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物とを反応させることで製造することができる。この反応では、多官能性グリシジル化合物のグリシジル基の一部とヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物のヒドロキシ基とが反応して両化合物が結合し、ヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物に由来のホスファゼン環および多官能性グリシジル化合物に由来のエポキシ基を有するエポキシ化合物になる。そして、ヒドロキシ基含有ホスファゼン化合物は、通常、構造が異なる複数種類のものの混合物であるため、上述のような反応により、二種類以上の上記エポキシ化合物を含むエポキシ化合物組成物が得られる。
Method for Producing Epoxy Compound Composition The epoxy compound composition of the present invention is usually produced by reacting a polyfunctional glycidyl compound with a cyclic phosphazene compound having a hydroxy group, that is, a hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound. Can do. In this reaction, a part of the glycidyl group of the polyfunctional glycidyl compound reacts with the hydroxy group of the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound to bond both compounds, and the phosphazene ring derived from the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound and the polyfunctional It becomes an epoxy compound having an epoxy group derived from a soluble glycidyl compound. And since a hydroxyl-group containing phosphazene compound is a mixture of the multiple types of thing from which a structure differs normally, the epoxy compound composition containing two or more types of the said epoxy compounds is obtained by the above reactions.

この製造方法において用いられる多官能性グリシジル化合物は、1分子中に2個以上のエポキシ基を有する化合物であれば特に限定されるものではないが、好ましいものとしてはグリシジルエーテル類、グリシジルエステル類、グリシジルアミン類、脂肪族エポキシド類、脂環式エポキシド類およびトリグリシジルイソシアヌレートを例示することができる。   The polyfunctional glycidyl compound used in this production method is not particularly limited as long as it is a compound having two or more epoxy groups in one molecule, but preferred are glycidyl ethers, glycidyl esters, Examples thereof include glycidylamines, aliphatic epoxides, alicyclic epoxides, and triglycidyl isocyanurate.

グリシジルエーテル類としては、例えば、フェノールのグリシジルエーテル類、ノボラックのポリグリシジルエーテル類およびアルキルグリシジルエーテル類等が挙げられる。フェノールのグリシジルエーテル類としては、例えば、ビスフェノール−A、ビスフェノール−F、ビスフェノール−AD、ビスフェノール−S、テトラメチルビスフェノール−A、テトラメチルビスフェノール−F、テトラメチルビスフェノール−AD、テトラメチルビスフェノール−S、ビフェノールおよびジヒドロキシナフタレン等の2価フェノール類をグリシジル化した化合物を挙げることができるが、1,1,1−トリス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,1−(4−ヒドロキシフェニル)エタンおよび4,4−(1−{4−〔1−(4−ヒドロキシフェニル)−1−メチルエチル〕フェニル}エチリデン)ビスフェノール等のトリス(グリシジルオキシフェニル)アルカン類やアミノフェノール等をグリシジル化した化合物も挙げることができる。ノボラックのポリグリシジルエーテル類としては、例えば、フェノールノボラック、オルソクレゾールノボラック、ビフェニルノボラック、ビスフェノール−Aノボラックおよびナフトールノボラック等のノボラックをグリシジル化した化合物が挙げられる。アルキルグリシジルエーテル類としては、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、グリセリンポリグリシジルエーテルおよびネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル等を挙げることができる。
グリシジルエステル類としては、例えば、ヘキサヒドロフタル酸のジグリシジルエステルやダイマー酸のジグリシジルエステル等が挙げられる。グリシジルアミン類としては、例えば、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジル−パラ−アミノフェノールおよびトリグリシジル−メタ−アミノフェノール等が挙げられる。脂肪族エポキシド類としては、例えば、エポキシ化ポリブタジエンおよびエポキシ化大豆油等が挙げられる。脂環式エポキシド類としては、例えば、3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルカルボキシレートおよび3,4−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート等が挙げられる。
Examples of glycidyl ethers include phenol glycidyl ethers, novolac polyglycidyl ethers, and alkyl glycidyl ethers. Examples of phenol glycidyl ethers include bisphenol-A, bisphenol-F, bisphenol-AD, bisphenol-S, tetramethylbisphenol-A, tetramethylbisphenol-F, tetramethylbisphenol-AD, tetramethylbisphenol-S, Examples thereof include compounds obtained by glycidylation of dihydric phenols such as biphenol and dihydroxynaphthalene. 1,1,1-tris (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1,1- (4-hydroxyphenyl) ethane And glycidylation of tris (glycidyloxyphenyl) alkanes such as 4,4- (1- {4- [1- (4-hydroxyphenyl) -1-methylethyl] phenyl} ethylidene) bisphenol and aminophenol A compound can also be mentioned. Examples of the polyglycidyl ethers of novolak include compounds obtained by glycidylating novolak such as phenol novolak, orthocresol novolak, biphenyl novolak, bisphenol-A novolak, and naphthol novolak. Examples of alkyl glycidyl ethers include ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, trimethylolpropane polyglycidyl ether, glycerin polyglycidyl ether, and neopentyl glycol diglycidyl ether.
Examples of glycidyl esters include diglycidyl ester of hexahydrophthalic acid and diglycidyl ester of dimer acid. Examples of glycidylamines include tetraglycidyldiaminodiphenylmethane, triglycidyl-para-aminophenol, and triglycidyl-meta-aminophenol. Examples of the aliphatic epoxides include epoxidized polybutadiene and epoxidized soybean oil. Examples of the alicyclic epoxides include 3,4-epoxy-6-methylcyclohexyl carboxylate and 3,4-epoxycyclohexyl carboxylate.

多官能性グリシジル化合物のうち、好ましいものはグリシジルエーテル類である。特に、2価のフェノール類のグリシジルエーテル類が好ましく、ビスフェノール−Aのグリシジルエーテル若しくはビスフェノール−Fのグリシジルエーテルが特に好ましい。多官能性グリシジル化合物は、二種以上のものが併用されてもよい。   Of the polyfunctional glycidyl compounds, preferred are glycidyl ethers. In particular, glycidyl ethers of divalent phenols are preferable, and glycidyl ether of bisphenol-A or glycidyl ether of bisphenol-F is particularly preferable. Two or more polyfunctional glycidyl compounds may be used in combination.

多官能性グリシジル化合物のエポキシ当量は、260g/eq.以下が好ましい。特に、160〜220g/eq.が好ましく、170〜200g/eq.がより好ましい。多官能性グリシジル化合物のエポキシ当量が260g/eq.を超えると、本発明のエポキシ化合物組成物は、溶融粘度が高くなって流動性が低下し、取扱いが困難になる可能性がある。また、多官能性グリシジル化合物のアルコール性ヒドロキシ基は1.0eq./kg以下が好ましい。特に、0.05〜0.7eq./kgが好ましく、0.1〜0.5eq./kgがより好ましい。多官能性グリシジル化合物のアルコール性ヒドロキシ基が多くなりすぎると、本発明のエポキシ化合物組成物の製造時において、反応安定性が低下する可能性がある。   The epoxy equivalent of the polyfunctional glycidyl compound is 260 g / eq. The following is preferred. In particular, 160 to 220 g / eq. Is preferred, 170-200 g / eq. Is more preferable. The epoxy equivalent of the polyfunctional glycidyl compound is 260 g / eq. If it exceeds 1, the epoxy compound composition of the present invention may have a high melt viscosity and low fluidity, making it difficult to handle. In addition, the alcoholic hydroxy group of the polyfunctional glycidyl compound is 1.0 eq. / Kg or less is preferable. In particular, 0.05 to 0.7 eq. / Kg is preferred, 0.1 to 0.5 eq. / Kg is more preferable. When the alcoholic hydroxy group of the polyfunctional glycidyl compound is excessive, the reaction stability may be lowered during the production of the epoxy compound composition of the present invention.

一方、この製造方法において用いられるヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、例えば下記の式(1)で表されるものである。   On the other hand, the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound used in this production method is represented, for example, by the following formula (1).

Figure 2015014012
Figure 2015014012

式(1)において、nは、1から6の整数を示しているが、1から4の整数が好ましく、1若しくは2が特に好ましい。すなわち、式(1)で表わされるヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物として特に好ましいものは、nが1のヒドロキシ基を有するシクロトリホスファゼン(3量体)およびnが2のヒドロキシ基を有するシクロテトラホスファゼン(4量体)である。ヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、nが異なる二種以上のものの混合物であってもよい。   In the formula (1), n represents an integer of 1 to 6, preferably an integer of 1 to 4, particularly preferably 1 or 2. That is, particularly preferred as the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound represented by the formula (1) is cyclotriphosphazene (trimer) having a hydroxy group with n being 1 and cyclotetraphosphazene having a hydroxy group with n being 2 ( Tetramer). The hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound may be a mixture of two or more different n.

また、式(1)において、Aは、下記のA1基、A2基およびA3基からなる群から選ばれた基を示している。但し、Aのうちの少なくとも一つはA3基である。   In Formula (1), A represents a group selected from the group consisting of the following A1, A2, and A3 groups. However, at least one of A is an A3 group.

[A1基]
炭素数が1〜8のアルコキシ基。このアルコキシ基は、炭素数が1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよい。
このようなアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、エテニルオキシ基、1−プロペニルオキシ基、2−プロペニルオキシ基、イソプロペニルオキシ基、3−ブテニルオキシ基、2−メチル−2−プロペニルオキシ基、4−ペンテニルオキシ基、2−ヘキセニルオキシ基、1−プロピル−2−ブテニルオキシ基、5−オクテニルオキシ基、ベンジルオキシ基および2−フェニルエトキシ基等を挙げることができる。このうち、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、2−プロペニルオキシ基およびベンジルオキシ基が好ましく、エトキシ基およびn−プロポキシ基が特に好ましい。
[A1 group]
An alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms; This alkoxy group may be substituted with at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group.
Examples of such alkoxy groups include methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, n-butoxy, sec-butoxy, tert-butoxy, n-pentyloxy, and n-hexyloxy. Group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, ethenyloxy group, 1-propenyloxy group, 2-propenyloxy group, isopropenyloxy group, 3-butenyloxy group, 2-methyl-2-propenyloxy group, 4 -Pentenyloxy group, 2-hexenyloxy group, 1-propyl-2-butenyloxy group, 5-octenyloxy group, benzyloxy group, 2-phenylethoxy group and the like can be mentioned. Of these, a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, a 2-propenyloxy group, and a benzyloxy group are preferable, and an ethoxy group and an n-propoxy group are particularly preferable.

[A2基]
炭素数が6〜20のアリールオキシ基。このアリールオキシ基は、炭素数が1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよい。
[Group A2]
An aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms; This aryloxy group may be substituted with at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group.

このようなアリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、エチルメチルフェノキシ基、ジエチルフェノキシ基、n−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、イソプロピルメチルフェノキシ基、イソプロピルエチルフェノキシ基、ジイソプロピルフェノキシ基、n−ブチルフェノキシ基、sec−ブチルフェノキシ基、tert−ブチルフェノキシ基、n−ペンチルフェノキシ基、n−ヘキシルフェノキシ基、エテニルフェノキシ基、1−プロペニルフェノキシ基、2−プロペニルフェノキシ基、イソプロペニルフェノキシ基、1−ブテニルフェノキシ基、sec−ブテニルフェノキシ基、1−ペンテニルフェノキシ基、1−ヘキセニルフェノキシ基、フェニルフェノキシ基、ナフチルオキシ基、アントリルオキシ基およびフェナントリルオキシ基等を挙げることができる。このうち、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基、ジエチルフェノキシ基、2−プロペニルフェノキシ基、フェニルフェノキシ基およびナフチルオキシ基が好ましく、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基およびナフチルオキシ基が特に好ましい。   Examples of such aryloxy groups include phenoxy group, methylphenoxy group, dimethylphenoxy group, ethylphenoxy group, ethylmethylphenoxy group, diethylphenoxy group, n-propylphenoxy group, isopropylphenoxy group, isopropylmethylphenoxy group, Isopropylethylphenoxy group, diisopropylphenoxy group, n-butylphenoxy group, sec-butylphenoxy group, tert-butylphenoxy group, n-pentylphenoxy group, n-hexylphenoxy group, ethenylphenoxy group, 1-propenylphenoxy group, 2-propenylphenoxy group, isopropenylphenoxy group, 1-butenylphenoxy group, sec-butenylphenoxy group, 1-pentenylphenoxy group, 1-hexenylphenoxy group, Nirufenokishi group, naphthyloxy group, and an anthryl group and phenanthryloxy groups and the like. Of these, phenoxy group, methylphenoxy group, dimethylphenoxy group, diethylphenoxy group, 2-propenylphenoxy group, phenylphenoxy group and naphthyloxy group are preferable, and phenoxy group, methylphenoxy group, dimethylphenoxy group and naphthyloxy group are particularly preferable. preferable.

[A3基]
下記の式(2)で示されるヒドロキシアリールオキシ基、下記の式(3)で示されるヒドロキシフェニル置換フェニルオキシ基および下記の式(4)で示されるヒドロキシ基置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
[Group A3]
Selected from the group consisting of a hydroxyaryloxy group represented by the following formula (2), a hydroxyphenyl-substituted phenyloxy group represented by the following formula (3), and a hydroxy-substituted phenyloxy group represented by the following formula (4) Group.

Figure 2015014012
Figure 2015014012

式(2)中、Yは、フェニレン、ビフェニレン若しくはナフチレンを示す。
式(2)で示されるヒドロキシアリールオキシ基は、具体的には、2−ヒドロキシルフェニルオキシ基、3−ヒドロキシルフェニルオキシ基、4−ヒドロキシルフェニルオキシ基、3’−ヒドロキシルフェニル−4−フェニルオキシ基、4’−ヒドロキシルフェニル−4−フェニルオキシ基、4−ヒドロキシルナフチル−1−オキシ基、5−ヒドロキシルナフチル−1−オキシ基および6−ヒドロキシルナフチル−2−オキシ基である。
In formula (2), Y represents phenylene, biphenylene or naphthylene.
Specific examples of the hydroxyaryloxy group represented by the formula (2) include a 2-hydroxylphenyloxy group, a 3-hydroxylphenyloxy group, a 4-hydroxylphenyloxy group, and a 3′-hydroxylphenyl-4-phenyloxy group. 4'-hydroxylphenyl-4-phenyloxy group, 4-hydroxylnaphthyl-1-oxy group, 5-hydroxylnaphthyl-1-oxy group and 6-hydroxylnaphthyl-2-oxy group.

Figure 2015014012
Figure 2015014012

式(3)において、Zは、O、S、SO、CH、CHCH、C(CH、C(CF、C(CH)CHCH若しくはCOを示す。したがって、式(3)で示されるヒドロキシフェニル置換フェニルオキシ基は、具体的には、4’−ヒドロキシフェニルオキシ−4−フェニルオキシ基、4’−ヒドロキシフェニルチオ−4−フェニルオキシ基、4’−ヒドロキシフェニルスルホニル−4−フェニルオキシ基、4’−ヒドロキシベンジル−4−フェニルオキシ基、4’−ヒドロキシフェニルエチリデン−4−フェニルオキシ基、4’−ヒドロキシフェニルイソプロピリデン−4−フェニルオキシ基、4’−ヒドロキシフェニルヘキサフルオロイソプロピリデン−4−フェニルオキシ基、4’−ヒドロキシフェニル(1’−メチルプロピリデン)−4−フェニルオキシ基および4’−ヒドロキシベンゾイル−4−フェニルオキシ基である。 In the formula (3), Z represents O, S, SO 2 , CH 2 , CHCH 3 , C (CH 3 ) 2 , C (CF 3 ) 2 , C (CH 3 ) CH 2 CH 3 or CO. Accordingly, the hydroxyphenyl-substituted phenyloxy group represented by the formula (3) is specifically 4′-hydroxyphenyloxy-4-phenyloxy group, 4′-hydroxyphenylthio-4-phenyloxy group, 4 ′ -Hydroxyphenylsulfonyl-4-phenyloxy group, 4'-hydroxybenzyl-4-phenyloxy group, 4'-hydroxyphenylethylidene-4-phenyloxy group, 4'-hydroxyphenylisopropylidene-4-phenyloxy group, 4'-hydroxyphenylhexafluoroisopropylidene-4-phenyloxy group, 4'-hydroxyphenyl (1'-methylpropylidene) -4-phenyloxy group and 4'-hydroxybenzoyl-4-phenyloxy group.

Figure 2015014012
Figure 2015014012

式(4)中、E〜Eは、少なくとも一つがヒドロキシ基でありかつ少なくとも一つが炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる基であり、残りが水素原子である。 In formula (4), E 1 to E 5 are groups in which at least one is a hydroxy group and at least one is selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group, and the remainder is a hydrogen atom. is there.

式(4)で示されるヒドロキシ基置換フェニルオキシ基は、例えば、2−ヒドロキシ−3−メチル−フェニルオキシ基、2−ヒドロキシ−4−メチル−フェニルオキシ基、2−ヒドロキシ−5−メチル−フェニルオキシ基、2−ヒドロキシ−6−メチル−フェニルオキシ基、2−メチル−3−ヒドロキシ−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−4−メチル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−5−メチル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−6−メチル−フェニルオキシ基、2−メチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基、3−メチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基、2−ヒドロキシ−3,4−ジメチル−フェニルオキシ基、2−ヒドロキシ−3,5−ジメチル−フェニルオキシ基、2−ヒドロキシ−3,6−ジメチル−フェニルオキシ基、2−ヒドロキシ−4,5−ジメチル−フェニルオキシ基、2−ヒドロキシ−4,6−ジメチル−フェニルオキシ基、2−ヒドロキシ−5,6−ジメチル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−2,4−ジメチル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−2,5−ジメチル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−2,6−ジメチル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−4,5−ジメチル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−4,6−ジメチル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−5,6−ジメチル−フェニルオキシ基、4−ヒドロキシ−2,3−ジメチル−フェニルオキシ基、4−ヒドロキシ−2,5−ジメチル−フェニルオキシ基、4−ヒドロキシ−2,6−ジメチル−フェニルオキシ基、4−ヒドロキシ−3,5−ジメチル−フェニルオキシ基、4−ヒドロキシ−3,6−ジメチル−フェニルオキシ基、2−ヒドロキシ−3,4,5−トリメチル−フェニルオキシ基、2−ヒドロキシ−3,4,6−トリメチル−フェニルオキシ基、2−ヒドロキシ−3,5,6−トリメチル−フェニルオキシ基、2−ヒドロキシ−4,5,6−トリメチル−フェニルオキシ基、2,4,5−トリメチル−3−ヒドロキシ−フェニルオキシ基、2,5,6−トリメチル−3−ヒドロキシ−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−4,5,6−トリメチル−フェニルオキシ基、2,3,5−トリメチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基、2,3,6−トリメチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基、2−ヒドロキシ−3,4,5,6−テトラメチル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−2,4,5,6−テトラメチル−フェニルオキシ基、4−ヒドロキシ−2,3,5,6−テトラメチル−フェニルオキシ基、2,3−ジヒドロキシ−4−メチル−フェニルオキシ基、2,3−ジヒドロキシ−5−メチル−フェニルオキシ基、2,3−ジヒドロキシ−6−メチル−フェニルオキシ基、2,4−ジヒドロキシ−3−メチル−フェニルオキシ基、2,4−ジヒドロキシ−5−メチル−フェニルオキシ基、2,4−ジヒドロキシ−6−メチル−フェニルオキシ基、2,5−ジヒドロキシ−3−メチル−フェニルオキシ基、2,5−ジヒドロキシ−4−メチル−フェニルオキシ基、2,5−ジヒドロキシ−6−メチル−フェニルオキシ基、2,6−ジヒドロキシ−3−メチル−フェニルオキシ基、2,6−ジヒドロキシ−4−メチル−フェニルオキシ基、2,6−ジヒドロキシ−5−メチル−フェニルオキシ基、2−ヒドロキシ−3−エチル−フェニルオキシ基、2−ヒドロキシ−4−エチル−フェニルオキシ基、2−ヒドロキシ−5−エチル−フェニルオキシ基、2−ヒドロキシ−6−エチル−フェニルオキシ基、2−エチル−3−ヒドロキシ−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−4−エチル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−5−エチル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−6−エチル−フェニルオキシ基、2−エチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基、3−エチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基、2−ヒドロキシ−3−アリル−フェニルオキシ基、2−ヒドロキシ−4−アリル−フェニルオキシ基、2−ヒドロキシ−5−アリル−フェニルオキシ基、2−ヒドロキシ−6−アリル−フェニルオキシ基、2−アリル−3−ヒドロキシ−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−4−アリル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−5−アリル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−6−アリル−フェニルオキシ基、2−アリル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基、3−アリル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基、2−ヒドロキシ−3−フェニル−フェニルオキシ基、2−ヒドロキシ−4−フェニル−フェニルオキシ基、2−ヒドロキシ−5−フェニル−フェニルオキシ基、2−ヒドロキシ−6−フェニル−フェニルオキシ基、2−フェニル−3−ヒドロキシ−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−4−フェニル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−5−フェニル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−6−フェニル−フェニルオキシ基、2−フェニル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基、3−フェニル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基、2−メチル−3−エチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基、2−メチル−4−ヒドロキシ−5−エチル−フェニルオキシ基、2−メチル−4−ヒドロキシ−6−エチル−フェニルオキシ基、2−エチル−3−メチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基、2−エチル−4−ヒドロキシ−5−メチル−フェニルオキシ基および2−エチル−4−ヒドロキシ−6−メチル−フェニルオキシ基である。   Examples of the hydroxy group-substituted phenyloxy group represented by the formula (4) include 2-hydroxy-3-methyl-phenyloxy group, 2-hydroxy-4-methyl-phenyloxy group, and 2-hydroxy-5-methyl-phenyl. Oxy group, 2-hydroxy-6-methyl-phenyloxy group, 2-methyl-3-hydroxy-phenyloxy group, 3-hydroxy-4-methyl-phenyloxy group, 3-hydroxy-5-methyl-phenyloxy group 3-hydroxy-6-methyl-phenyloxy group, 2-methyl-4-hydroxy-phenyloxy group, 3-methyl-4-hydroxy-phenyloxy group, 2-hydroxy-3,4-dimethyl-phenyloxy group 2-hydroxy-3,5-dimethyl-phenyloxy group, 2-hydroxy-3,6-dimethyl-pheny Oxy group, 2-hydroxy-4,5-dimethyl-phenyloxy group, 2-hydroxy-4,6-dimethyl-phenyloxy group, 2-hydroxy-5,6-dimethyl-phenyloxy group, 3-hydroxy-2 , 4-Dimethyl-phenyloxy group, 3-hydroxy-2,5-dimethyl-phenyloxy group, 3-hydroxy-2,6-dimethyl-phenyloxy group, 3-hydroxy-4,5-dimethyl-phenyloxy group 3-hydroxy-4,6-dimethyl-phenyloxy group, 3-hydroxy-5,6-dimethyl-phenyloxy group, 4-hydroxy-2,3-dimethyl-phenyloxy group, 4-hydroxy-2,5 -Dimethyl-phenyloxy group, 4-hydroxy-2,6-dimethyl-phenyloxy group, 4-hydroxy-3,5-dimethyl -Phenyloxy group, 4-hydroxy-3,6-dimethyl-phenyloxy group, 2-hydroxy-3,4,5-trimethyl-phenyloxy group, 2-hydroxy-3,4,6-trimethyl-phenyloxy group 2-hydroxy-3,5,6-trimethyl-phenyloxy group, 2-hydroxy-4,5,6-trimethyl-phenyloxy group, 2,4,5-trimethyl-3-hydroxy-phenyloxy group, 2 , 5,6-trimethyl-3-hydroxy-phenyloxy group, 3-hydroxy-4,5,6-trimethyl-phenyloxy group, 2,3,5-trimethyl-4-hydroxy-phenyloxy group, 2,3 , 6-trimethyl-4-hydroxy-phenyloxy group, 2-hydroxy-3,4,5,6-tetramethyl-phenyloxy group, 3-hydride Roxy-2,4,5,6-tetramethyl-phenyloxy group, 4-hydroxy-2,3,5,6-tetramethyl-phenyloxy group, 2,3-dihydroxy-4-methyl-phenyloxy group, 2,3-dihydroxy-5-methyl-phenyloxy group, 2,3-dihydroxy-6-methyl-phenyloxy group, 2,4-dihydroxy-3-methyl-phenyloxy group, 2,4-dihydroxy-5- Methyl-phenyloxy group, 2,4-dihydroxy-6-methyl-phenyloxy group, 2,5-dihydroxy-3-methyl-phenyloxy group, 2,5-dihydroxy-4-methyl-phenyloxy group, 2, 5-dihydroxy-6-methyl-phenyloxy group, 2,6-dihydroxy-3-methyl-phenyloxy group, 2,6-dihydroxy-4- Til-phenyloxy group, 2,6-dihydroxy-5-methyl-phenyloxy group, 2-hydroxy-3-ethyl-phenyloxy group, 2-hydroxy-4-ethyl-phenyloxy group, 2-hydroxy-5- Ethyl-phenyloxy group, 2-hydroxy-6-ethyl-phenyloxy group, 2-ethyl-3-hydroxy-phenyloxy group, 3-hydroxy-4-ethyl-phenyloxy group, 3-hydroxy-5-ethyl- Phenyloxy group, 3-hydroxy-6-ethyl-phenyloxy group, 2-ethyl-4-hydroxy-phenyloxy group, 3-ethyl-4-hydroxy-phenyloxy group, 2-hydroxy-3-allyl-phenyloxy Group, 2-hydroxy-4-allyl-phenyloxy group, 2-hydroxy-5-allyl-phenyl Xyl group, 2-hydroxy-6-allyl-phenyloxy group, 2-allyl-3-hydroxy-phenyloxy group, 3-hydroxy-4-allyl-phenyloxy group, 3-hydroxy-5-allyl-phenyloxy group 3-hydroxy-6-allyl-phenyloxy group, 2-allyl-4-hydroxy-phenyloxy group, 3-allyl-4-hydroxy-phenyloxy group, 2-hydroxy-3-phenyl-phenyloxy group, 2 -Hydroxy-4-phenyl-phenyloxy group, 2-hydroxy-5-phenyl-phenyloxy group, 2-hydroxy-6-phenyl-phenyloxy group, 2-phenyl-3-hydroxy-phenyloxy group, 3-hydroxy -4-phenyl-phenyloxy group, 3-hydroxy-5-phenyl-phenyloxy group, 3-hydroxy-6-phenyl-phenyloxy group, 2-phenyl-4-hydroxy-phenyloxy group, 3-phenyl-4-hydroxy-phenyloxy group, 2-methyl-3-ethyl-4-hydroxy-phenyloxy Group, 2-methyl-4-hydroxy-5-ethyl-phenyloxy group, 2-methyl-4-hydroxy-6-ethyl-phenyloxy group, 2-ethyl-3-methyl-4-hydroxy-phenyloxy group, 2-ethyl-4-hydroxy-5-methyl-phenyloxy group and 2-ethyl-4-hydroxy-6-methyl-phenyloxy group.

このうちで好ましいものは、2−ヒドロキシ−3−メチル−フェニルオキシ基、2−ヒドロキシ−4−メチル−フェニルオキシ基、2−ヒドロキシ−5−メチル−フェニルオキシ基、2−ヒドロキシ−6−メチル−フェニルオキシ基、2−メチル−3−ヒドロキシ−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−4−メチル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−5−メチル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−6−メチル−フェニルオキシ基、2−メチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基、3−メチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−2,4−ジメチル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−2,5−ジメチル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−4,5−ジメチル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−4,6−ジメチル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−5,6−ジメチル−フェニルオキシ基、4−ヒドロキシ−2,3−ジメチル−フェニルオキシ基、4−ヒドロキシ−2,5−ジメチル−フェニルオキシ基、4−ヒドロキシ−3,5−ジメチル−フェニルオキシ基、4−ヒドロキシ−3,6−ジメチル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−4−エチル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−5−エチル−フェニルオキシ基、3−エチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基、2−アリル−3−ヒドロキシ−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−4−アリル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−5−アリル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−6−アリル−フェニルオキシ基、2−アリル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基、3−アリル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基、2−フェニル−3−ヒドロキシ−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−4−フェニル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−5−フェニル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−6−フェニル−フェニルオキシ基、2−フェニル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基および3−フェニル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基である。   Of these, 2-hydroxy-3-methyl-phenyloxy group, 2-hydroxy-4-methyl-phenyloxy group, 2-hydroxy-5-methyl-phenyloxy group, 2-hydroxy-6-methyl are preferable. -Phenyloxy group, 2-methyl-3-hydroxy-phenyloxy group, 3-hydroxy-4-methyl-phenyloxy group, 3-hydroxy-5-methyl-phenyloxy group, 3-hydroxy-6-methyl-phenyl Oxy group, 2-methyl-4-hydroxy-phenyloxy group, 3-methyl-4-hydroxy-phenyloxy group, 3-hydroxy-2,4-dimethyl-phenyloxy group, 3-hydroxy-2,5-dimethyl -Phenyloxy group, 3-hydroxy-4,5-dimethyl-phenyloxy group, 3-hydroxy-4,6- Methyl-phenyloxy group, 3-hydroxy-5,6-dimethyl-phenyloxy group, 4-hydroxy-2,3-dimethyl-phenyloxy group, 4-hydroxy-2,5-dimethyl-phenyloxy group, 4- Hydroxy-3,5-dimethyl-phenyloxy group, 4-hydroxy-3,6-dimethyl-phenyloxy group, 3-hydroxy-4-ethyl-phenyloxy group, 3-hydroxy-5-ethyl-phenyloxy group, 3-ethyl-4-hydroxy-phenyloxy group, 2-allyl-3-hydroxy-phenyloxy group, 3-hydroxy-4-allyl-phenyloxy group, 3-hydroxy-5-allyl-phenyloxy group, 3- Hydroxy-6-allyl-phenyloxy group, 2-allyl-4-hydroxy-phenyloxy group, 3-allyl 4-hydroxy-phenyloxy group, 2-phenyl-3-hydroxy-phenyloxy group, 3-hydroxy-4-phenyl-phenyloxy group, 3-hydroxy-5-phenyl-phenyloxy group, 3-hydroxy-6- A phenyl-phenyloxy group, a 2-phenyl-4-hydroxy-phenyloxy group and a 3-phenyl-4-hydroxy-phenyloxy group.

特に、2−メチル−3−ヒドロキシ−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−4−メチル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−5−メチル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−6−メチル−フェニルオキシ基、2−メチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基、3−メチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基、4−ヒドロキシ−3,5−ジメチル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−4−エチル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−5−エチル−フェニルオキシ基および3−エチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基が好ましい。   In particular, 2-methyl-3-hydroxy-phenyloxy group, 3-hydroxy-4-methyl-phenyloxy group, 3-hydroxy-5-methyl-phenyloxy group, 3-hydroxy-6-methyl-phenyloxy group, 2-methyl-4-hydroxy-phenyloxy group, 3-methyl-4-hydroxy-phenyloxy group, 4-hydroxy-3,5-dimethyl-phenyloxy group, 3-hydroxy-4-ethyl-phenyloxy group, A 3-hydroxy-5-ethyl-phenyloxy group and a 3-ethyl-4-hydroxy-phenyloxy group are preferred.

式(1)において、Aは、(2n+4)個含まれており、このうちの少なくとも一つがA3基である。したがって、本発明において用いられる式(1)で表されるヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、次の形態に大別することができる。   In formula (1), A includes (2n + 4) A, and at least one of them is an A3 group. Therefore, the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound represented by the formula (1) used in the present invention can be roughly classified into the following forms.

[形態1]
(2n+4)個の全てのAがA3基のものである。この場合、Aは、全てが同じA3基であってもよいし、二種以上のA3基であってもよい。
[Form 1]
All (2n + 4) A's are A3 groups. In this case, all of A may be the same A3 group, or two or more A3 groups may be used.

このような形態のヒドロキシ基を有する環状ホスファゼン化合物の具体例としては、式(1)のnが1であるヒドロキシ基を有するシクロトリホスファゼン化合物、式(1)のnが2であるヒドロキシ基を有するシクロテトラホスファゼン化合物、式(1)のnが3であるヒドロキシ基を有するシクロペンタホスファゼン化合物および式(1)のnが4であるヒドロキシ基を有するシクロヘキサホスファゼン化合物であって、Aの全てが、4−ヒドロキシフェニルオキシ基、4’−ヒドロキシフェニル−4−フェニルオキシ基、4−ヒドロキシルナフチル−1−オキシ基、5−ヒドロキシルナフチル−1−オキシ基、6−ヒドロキシルナフチル−2−オキシ基、4’−ヒドロキシフェニルオキシ−4−フェニルオキシ基、4’−ヒドロキシフェニルチオ−4−フェニルオキシ基、4’−ヒドロキシフェニルスルホニル−4−フェニルオキシ基、4’−ヒドロキシフェニルイソプロピリデン−4−フェニルオキシ基、2−メチル−3−ヒドロキシ−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−4−メチル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−5−メチル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−6−メチル−フェニルオキシ基、2−メチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基、3−メチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基、4−ヒドロキシ−3,5−ジメチル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−4−エチル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−5−エチル−フェニルオキシ基および3−エチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基からなるA3基群から選ばれた一種のA3基であるもの並びにAの全てが当該A3基群から選ばれた二種以上のA3基であるもの並びにこれらの任意の混合物を挙げることができる。   Specific examples of the cyclic phosphazene compound having a hydroxy group in such a form include a cyclotriphosphazene compound having a hydroxy group in which n is 1 in formula (1), and a hydroxy group in which n is 2 in formula (1). A cyclotetraphosphazene compound having a hydroxy group in which n in formula (1) is 3 and a cyclohexaphosphazene compound having a hydroxy group in which n is 4 in formula (1), all of A 4-hydroxyphenyloxy group, 4′-hydroxyphenyl-4-phenyloxy group, 4-hydroxylnaphthyl-1-oxy group, 5-hydroxylnaphthyl-1-oxy group, 6-hydroxylnaphthyl-2-oxy group 4′-hydroxyphenyloxy-4-phenyloxy group, 4′-hydroxyphenyl Nylthio-4-phenyloxy group, 4′-hydroxyphenylsulfonyl-4-phenyloxy group, 4′-hydroxyphenylisopropylidene-4-phenyloxy group, 2-methyl-3-hydroxy-phenyloxy group, 3-hydroxy -4-methyl-phenyloxy group, 3-hydroxy-5-methyl-phenyloxy group, 3-hydroxy-6-methyl-phenyloxy group, 2-methyl-4-hydroxy-phenyloxy group, 3-methyl-4 -Hydroxy-phenyloxy group, 4-hydroxy-3,5-dimethyl-phenyloxy group, 3-hydroxy-4-ethyl-phenyloxy group, 3-hydroxy-5-ethyl-phenyloxy group and 3-ethyl-4 A kind of A3 group selected from the group of A3 groups consisting of -hydroxy-phenyloxy groups All things shall and A is two or more A3 groups selected from the A3 group group and can be exemplified any mixture thereof.

[形態2]
(2n+4)個のAのうちの一部(すなわち、少なくとも一つ)がA3基であり、他のAがA1基およびA2基から選ばれた基のものである。この場合、A3基以外の他のAは、全てが同じA1基若しくはA2基であってもよいし、二種以上のA1基若しくはA2基または一種若しくは二種以上のA1基とA2基とが混在した状態であってもよい。
[Form 2]
A part (that is, at least one) of the (2n + 4) A is an A3 group, and the other A is a group selected from the A1 group and the A2 group. In this case, A other than the A3 group may all be the same A1 group or A2 group, or two or more kinds of A1 groups or A2 groups or one kind or two or more kinds of A1 groups and A2 groups may be It may be in a mixed state.

この形態のヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物として好ましいものは、(2n+4)個のAのうちの1〜(2n+2)個がA3基のものである。特に、式(1)のnが1であるヒドロキシ基を有するシクロトリホスファゼン化合物、式(1)のnが2であるヒドロキシ基を有するシクロテトラホスファゼン化合物、式(1)のnが3であるヒドロキシ基を有するシクロペンタホスファゼン化合物および式(1)のnが4であるヒドロキシ基を有するシクロヘキサホスファゼン化合物であって、(2n+4)個のAのうちの1〜(2n+2)個がA3基のもの並びにこれらの任意の混合物が好ましい。ヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物としてこの種のものを用いると、他のヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物を用いる場合に比べ、耐熱性(特に、ガラス転移温度が高い)および高温信頼性により優れた樹脂成形体を実現可能な点において有利である。   Preferred as the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound of this form is one in which 1 to (2n + 2) out of (2n + 4) A are A3 groups. In particular, a cyclotriphosphazene compound having a hydroxy group in which n is 1 in formula (1), a cyclotetraphosphazene compound having a hydroxy group in which n is 2 in formula (1), and n in formula (1) is 3. A cyclopentaphosphazene compound having a hydroxy group and a cyclohexaphosphazene compound having a hydroxy group in which n in formula (1) is 4, wherein 1 to (2n + 2) of (2n + 4) A are A3 groups And any mixtures thereof are preferred. When using this kind of hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound, compared to the case of using other hydroxy group-containing cyclic phosphazene compounds, the resin molded product is superior in heat resistance (particularly high glass transition temperature) and high temperature reliability. This is advantageous in that it can be realized.

なお、(2n+4)個のAのうちの1〜(2n+2)個がA3基であるか否かは、ヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物またはその製造過程における中間体のTOF−MS分析により確認することができる。   Whether 1 to (2n + 2) of (2n + 4) A are A3 groups can be confirmed by TOF-MS analysis of a hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound or an intermediate in its production process. it can.

このような形態のヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物の具体例としては、式(1)のnが1であるヒドロキシ基を有するシクロトリホスファゼン化合物、式(1)のnが2であるヒドロキシ基を有するシクロテトラホスファゼン化合物、式(1)のnが3であるヒドロキシ基を有するシクロペンタホスファゼン化合物または式(1)のnが4であるヒドロキシ基を有するシクロヘキサホスファゼン化合物であって、Aが、A3基である4−ヒドロキシフェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、A3基である4−ヒドロキシフェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である4−ヒドロキシフェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基である4’−ヒドロキシフェニル−4−フェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、A3基である4’−ヒドロキシフェニル−4−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である4’−ヒドロキシフェニル−4−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基である4−ヒドロキシルナフチル−1−オキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、A3基である4−ヒドロキシルナフチル−1−オキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である4−ヒドロキシルナフチル−1−オキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基である5−ヒドロキシルナフチル−1−オキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、A3基である5−ヒドロキシルナフチル−1−オキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である5−ヒドロキシルナフチル−1−オキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基である4’−ヒドロキシフェニルスルホニル−4−フェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、A3基である4’−ヒドロキシフェニルスルホニル−4−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である4’−ヒドロキシフェニルスルホニル−4−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基である4’−ヒドロキシフェニルイソプロピリデン−4−フェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、A3基である4’−ヒドロキシフェニルイソプロピリデン−4−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である4’−ヒドロキシフェニルイソプロピリデン−4−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基である2−メチル−3−ヒドロキシ−フェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、A3基である2−メチル−3−ヒドロキシ−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である2−メチル−3−ヒドロキシ−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基である3−ヒドロキシ−4−メチル−フェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、A3基である3−ヒドロキシ−4−メチル−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である3−ヒドロキシ−4−メチル−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基である3−ヒドロキシ−5−メチル−フェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、A3基である3−ヒドロキシ−5−メチル−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である3−ヒドロキシ−5−メチル−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基である3−ヒドロキシ−6−メチル−フェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、A3基である3−ヒドロキシ−6−メチル−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である3−ヒドロキシ−6−メチル−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基である2−メチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、A3基である2−メチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である2−メチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基である3−メチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、A3基である3−メチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である3−メチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基である4−ヒドロキシ−3,5−ジメチル−フェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、A3基である4−ヒドロキシ−3,5−ジメチル−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である4−ヒドロキシ−3,5−ジメチル−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基である3−ヒドロキシ−4−エチル−フェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、A3基である3−ヒドロキシ−4−エチル−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である3−ヒドロキシ−4−エチル−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基である3−ヒドロキシ−5−エチル−フェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、A3基である3−ヒドロキシ−5−エチル−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である3−ヒドロキシ−5−エチル−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基である3−エチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、A3基である3−エチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのものおよびA3基である3−エチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの並びにこれらの任意の混合物を挙げることができる。   Specific examples of the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound having such a form include a cyclotriphosphazene compound having a hydroxy group in which n is 1 in the formula (1), and a hydroxy group in which n is 2 in the formula (1). A cyclotetraphosphazene compound, a cyclopentaphosphazene compound having a hydroxy group in which n in formula (1) is 3 or a cyclohexaphosphazene compound having a hydroxy group in which n is 4 in formula (1), wherein A is A3 A combination of a 4-hydroxyphenyloxy group as a group and an n-propoxy group as an A1, a combination of a 4-hydroxyphenyloxy group as an A3 group and a phenoxy group as an A2, a group of A3 A combination of a 4-hydroxyphenyloxy group and a methylphenoxy group that is A2 group, 4 that is A3 group -A combination of hydroxyphenyl-4-phenyloxy group and n-propoxy group which is A1 group, a combination of 4'-hydroxyphenyl-4-phenyloxy group which is A3 group and phenoxy group which is A2 group A combination of a 4′-hydroxyphenyl-4-phenyloxy group that is an A3 group and a methylphenoxy group that is an A2 group, an n that is a 4-hydroxylnaphthyl-1-oxy group that is an A3 group, and an A1 group -In combination with propoxy group, in combination with 4-hydroxynaphthyl-1-oxy group which is A3 group and phenoxy group which is A2 group, 4-hydroxylnaphthyl-1-oxy group which is A3 group and A2 In combination with a methylphenoxy group which is a group, 5-hydroxylnaphthyl-1-oxy group which is an A3 group and n-pro which is an A1 group In combination with a xy group, in combination with a 5-hydroxylnaphthyl-1-oxy group as an A3 group and a phenoxy group as an A2 group, a 5-hydroxylnaphthyl-1-oxy group and an A2 group as an A3 group In combination with a methylphenoxy group that is A4, in combination with 4'-hydroxyphenylsulfonyl-4-phenyloxy group that is A3 group and n-propoxy group that is A1 group, 4'-hydroxy that is A3 group Combination of phenylsulfonyl-4-phenyloxy group and phenoxy group which is A2 group, combination of 4'-hydroxyphenylsulfonyl-4-phenyloxy group which is A3 group and methylphenoxy group which is A2 group 4′-hydroxyphenylisopropylidene-4-phenyloxy group which is A3 group and n-propoxy which is A1 group In combination with a group, 4'-hydroxyphenylisopropylidene-4-phenyloxy group as an A3 group and a phenoxy group as an A2 group, 4'-hydroxyphenylisopropylidene-4 as an A3 group A combination of a phenyloxy group and a methylphenoxy group which is an A2 group, a combination of a 2-methyl-3-hydroxy-phenyloxy group which is an A3 group and an n-propoxy group which is an A1 group, an A3 group A combination of 2-methyl-3-hydroxy-phenyloxy group which is A2 group and a phenoxy group which is A2 group, 2-methyl-3-hydroxy-phenyloxy group which is A3 group and methylphenoxy group which is A2 group A combination of 3-hydroxy-4-methyl-phenyloxy group which is A3 group and n-propoxy group which is A1 group A combination of 3-hydroxy-4-methyl-phenyloxy group which is A3 group and phenoxy group which is A2 group, 3-hydroxy-4-methyl-phenyloxy group which is A3 group and A2 group A combination with a certain methylphenoxy group, a combination of a 3-hydroxy-5-methyl-phenyloxy group which is an A3 group with an n-propoxy group which is an A1 group, a 3-hydroxy-5 which is an A3 group Combination of methyl-phenyloxy group and phenoxy group which is A2 group, combination of 3-hydroxy-5-methyl-phenyloxy group which is A3 group and methylphenoxy group which is A2 group, Combination of certain 3-hydroxy-6-methyl-phenyloxy group and n-propoxy group which is A1 group, 3-hydroxy-6-methyl which is A3 group A combination of a phenyloxy group and a phenoxy group which is an A2 group, a combination of a 3-hydroxy-6-methyl-phenyloxy group which is an A3 group and a methylphenoxy group which is an A2 group, an A3 group Combination of 2-methyl-4-hydroxy-phenyloxy group and n-propoxy group which is A1 group, 2-methyl-4-hydroxy-phenyloxy group which is A3 group and phenoxy group which is A2 group Combination, A3 group 2-methyl-4-hydroxy-phenyloxy group and A2 group methylphenoxy group, A3 group 3-methyl-4-hydroxy-phenyloxy group and A1 In combination with an n-propoxy group which is a group, a 3-methyl-4-hydroxy-phenyloxy group which is an A3 group and a phenoxy group which is an A2 group A combination of 3-methyl-4-hydroxy-phenyloxy group which is A3 group and methylphenoxy group which is A2 group, 4-hydroxy-3,5-dimethyl-phenyloxy which is A3 group A combination of a group with an n-propoxy group which is an A1 group, a combination of a 4-hydroxy-3,5-dimethyl-phenyloxy group which is an A3 group and a phenoxy group which is an A2 group, an A3 group Combination of 4-hydroxy-3,5-dimethyl-phenyloxy group and methylphenoxy group which is A2 group, 3-hydroxy-4-ethyl-phenyloxy group which is A3 group and n-propoxy which is A1 group A combination with a group, a combination of a 3-hydroxy-4-ethyl-phenyloxy group which is an A3 group and a phenoxy group which is an A2 group, an A3 group A combination of a hydroxy-4-ethyl-phenyloxy group and a methylphenoxy group that is an A2 group, a 3-hydroxy-5-ethyl-phenyloxy group that is an A3 group, and an n-propoxy group that is an A1 group Combination, A3 group 3-hydroxy-5-ethyl-phenyloxy group and A2 group phenoxy group, A3 group 3-hydroxy-5-ethyl-phenyloxy group and A2 group In combination with a methylphenoxy group which is A3, 3-ethyl-4-hydroxy-phenyloxy group which is an A3 group and an n-propoxy group which is an A1 group, 3-ethyl-4 which is an A3 group -Hydroxy-phenyloxy group in combination with A2 group phenoxy group and A3 group 3-ethyl-4-hydroxy-phenyloxy If well as those of the combination of methylphenoxy group is A2 groups may be mentioned any mixture thereof.

このうち、式(1)のnが1であるヒドロキシ基を有するシクロトリホスファゼン化合物、式(1)のnが2であるヒドロキシ基を有するシクロテトラホスファゼン化合物、式(1)のnが3であるヒドロキシ基を有するシクロペンタホスファゼン化合物、式(1)のnが4であるヒドロキシ基を有するシクロヘキサホスファゼン化合物であって、Aが、A3基である4−ヒドロキシフェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である4’−ヒドロキシフェニル−4−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である4−ヒドロキシルナフチル−1−オキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である5−ヒドロキシルナフチル−1−オキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である4’−ヒドロキシフェニルスルホニル−4−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である4’−ヒドロキシフェニルスルホニル−4−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基である4’−ヒドロキシフェニルイソプロピリデン−4−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である4’−ヒドロキシフェニルイソプロピリデン−4−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基である3−ヒドロキシ−4−メチル−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である3−ヒドロキシ−4−メチル−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基である3−ヒドロキシ−5−メチル−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である3−ヒドロキシ−5−メチル−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基である2−メチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である2−メチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基である3−メチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である3−メチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基である4−ヒドロキシ−3,5−ジメチル−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である4−ヒドロキシ−3,5−ジメチル−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基である3−エチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのものおよびA3基である3−エチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの並びにこれらの任意の混合物が好ましい。   Of these, a cyclotriphosphazene compound having a hydroxy group in which n is 1 in formula (1), a cyclotetraphosphazene compound having a hydroxy group in which n is 2 in formula (1), and n in formula (1) being 3. A cyclopentaphosphazene compound having a certain hydroxy group, and a cyclohexaphosphazene compound having a hydroxy group in which n in formula (1) is 4, wherein A is a 4-hydroxyphenyloxy group that is an A3 group and an A2 group A combination with a phenoxy group, a combination of a 4′-hydroxyphenyl-4-phenyloxy group which is an A3 group and a phenoxy group which is an A2 group, a 4-hydroxylnaphthyl-1-oxy group which is an A3 group and In combination with a phenoxy group that is an A2 group, a 5-hydroxylnaphthyl-1-oxy group that is an A3 group, and a fluorine that is an A2 group A combination with a nonoxy group, a combination of 4'-hydroxyphenylsulfonyl-4-phenyloxy group which is an A3 group and a phenoxy group which is an A2 group, 4'-hydroxyphenylsulfonyl-4- which is an A3 group Combination of phenyloxy group and methylphenoxy group which is A2 group, combination of 4'-hydroxyphenylisopropylidene-4-phenyloxy group which is A3 group and phenoxy group which is A2 group, Combination of 4′-hydroxyphenylisopropylidene-4-phenyloxy group and methylphenoxy group which is A2 group, 3-hydroxy-4-methyl-phenyloxy group which is A3 group and phenoxy group which is A2 group In combination with the A3 group 3-hydroxy-4-methyl-phenyloxy group and the A2 group In combination with a methylphenoxy group, A3 group 3-hydroxy-5-methyl-phenyloxy group in combination with an A2 group phenoxy group, A3 group 3-hydroxy-5-methyl- Combination of phenyloxy group and methylphenoxy group which is A2 group, combination of 2-methyl-4-hydroxy-phenyloxy group which is A3 group and phenoxy group which is A2 group, 2 which is A3 group -A combination of a methyl-4-hydroxy-phenyloxy group and a methylphenoxy group which is an A2 group, a combination of a 3-methyl-4-hydroxy-phenyloxy group which is an A3 group and a phenoxy group which is an A2 group A combination of 3-methyl-4-hydroxy-phenyloxy group which is A3 group and methylphenoxy group which is A2 group, A3 group 4-hydroxy-3,5-dimethyl-phenyloxy group and A2 group phenoxy group, A3 group 4-hydroxy-3,5-dimethyl-phenyloxy group and A2 group methyl Combination with phenoxy group, combination of 3-ethyl-4-hydroxy-phenyloxy group which is A3 group and phenoxy group which is A2 group, and 3-ethyl-4-hydroxy-phenyloxy which is A3 group Preferred are combinations of the groups with the methylphenoxy group which is the A2 group and any mixtures thereof.

特に、式(1)のnが1であるヒドロキシ基を有するシクロトリホスファゼン化合物若しくは式(1)のnが2であるヒドロキシ基を有するシクロテトラホスファゼン化合物であって、Aが、A3基である4−ヒドロキシフェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である4’−ヒドロキシフェニル−4−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である5−ヒドロキシルナフチル−1−オキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である4’−ヒドロキシフェニルスルホニル−4−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である4’−ヒドロキシフェニルスルホニル−4−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基である4’−ヒドロキシフェニルイソプロピリデン−4−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である3−ヒドロキシ−4−メチル−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である3−ヒドロキシ−4−メチル−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基である3−ヒドロキシ−5−メチル−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である3−ヒドロキシ−5−メチル−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基である2−メチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である2−メチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基である3−メチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である3−メチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基である4−ヒドロキシ−3,5−ジメチル−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である4−ヒドロキシ−3,5−ジメチル−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基である3−エチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのものおよびA3基である3−エチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの並びにこれらの任意の混合物が好ましい。   In particular, a cyclotriphosphazene compound having a hydroxy group in which n in formula (1) is 1 or a cyclotetraphosphazene compound having a hydroxy group in which n is 2 in formula (1), wherein A is an A3 group Combination of 4-hydroxyphenyloxy group and phenoxy group which is A2 group, combination of 4'-hydroxyphenyl-4-phenyloxy group which is A3 group and phenoxy group which is A2 group, A combination of a certain 5-hydroxylnaphthyl-1-oxy group and a phenoxy group that is an A2 group, a combination of a 4′-hydroxyphenylsulfonyl-4-phenyloxy group that is an A3 group and a phenoxy group that is an A2 group 4'-hydroxyphenylsulfonyl-4-phenyloxy group which is A3 group and methylphenoxy group which is A2 group A combination of 4'-hydroxyphenylisopropylidene-4-phenyloxy group as the A3 group and a phenoxy group as the A2 group, a 3-hydroxy-4-methyl-phenyloxy group as the A3 group In combination with a phenoxy group which is A2 group, a combination of 3-hydroxy-4-methyl-phenyloxy group which is A3 group and methylphenoxy group which is A2 group, 3-hydroxy- which is A3 group A combination of a 5-methyl-phenyloxy group and a phenoxy group which is an A2 group, a combination of a 3-hydroxy-5-methyl-phenyloxy group which is an A3 group and a methylphenoxy group which is an A2 group, A3 A combination of a 2-methyl-4-hydroxy-phenyloxy group as a group and a phenoxy group as an A2 group, a 2-methyl group as an A3 group Combination of ru-4-hydroxy-phenyloxy group and methylphenoxy group which is A2 group, combination of 3-methyl-4-hydroxyphenyloxy group which is A3 group and phenoxy group which is A2 group A combination of 3-methyl-4-hydroxy-phenyloxy group as A3 group and methylphenoxy group as A2 group, 4-hydroxy-3,5-dimethyl-phenyloxy group as A3 group and A2 group In combination with a phenoxy group which is A3, 4-hydroxy-3,5-dimethyl-phenyloxy group which is an A3 group and a methylphenoxy group which is an A2 group, 3-ethyl-4 which is an A3 group -A combination of hydroxy-phenyloxy group and phenoxy group which is A2 group and 3-ethyl-4-hydroxy-phenyloxy which is A3 group A combination of a cis group and a methylphenoxy group which is an A2 group, and any mixture thereof are preferred.

ヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物としては、ヒドロキシ基に加え、グリシジル基を同時に有するものを用いることもできる。このような化合物としては、例えば、式(1)のnが1であるヒドロキシ基を有するシクロトリホスファゼン化合物または式(1)のnが2であるヒドロキシ基を有するシクロテトラホスファゼン化合物であって、Aの全てが、4−ヒドロキシフェニルオキシ基、4’−ヒドロキシフェニル−4−フェニルオキシ基、4−ヒドロキシナフチル−1−オキシ基、5−ヒドロキシルナフチル−1−オキシ基、6−ヒドロキシルナフチル−2−オキシ基、4’−ヒドロキシフェニルオキシ−4−フェニルオキシ基、4’−ヒドロキシフェニルチオ−4−フェニルオキシ基、4’−ヒドロキシフェニルスルホニル−4−フェニルオキシ基、4’−ヒドロキシフェニルイソプロピリデン−4−フェニルオキシ基、2−メチル−3−ヒドロキシ−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−4−メチル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−5−メチル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−6−メチル−フェニルオキシ基、2−メチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基、3−メチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基、4−ヒドロキシ−3,5−ジメチル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−4−エチル−フェニルオキシ基、3−ヒドロキシ−5−エチル−フェニルオキシ基および3−エチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基からなるA3基群から選ばれた一種のA3基であるもの、Aの全てが、当該A3基群から選ばれた二種以上のA3基であるもの、Aが、A3基である4−ヒドロキシフェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、Aが、A3基である4’−ヒドロキシフェニル−4−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、Aが、A3基である5−ヒドロキシルナフチル−1−オキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、Aが、A3基である4’−ヒドロキシフェニルスルホニル−4−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、Aが、A3基である4’−ヒドロキシフェニルスルホニル−4−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Aが、A3基である4’−ヒドロキシフェニルイソプロピリデン−4−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、Aが、A3基である3−ヒドロキシ−4−メチル−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、Aが、A3基である3−ヒドロキシ−4−メチル−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Aが、A3基である3−ヒドロキシ−5−メチル−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、Aが、A3基である3−ヒドロキシ−5−メチル−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Aが、A3基である2−メチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、Aが、A3基である2−メチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Aが、A3基である3−メチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、Aが、A3基である3−メチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Aが、A3基である4−ヒドロキシ−3,5−ジメチル−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、Aが、A3基である4−ヒドロキシ−3,5−ジメチル−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、Aが、A3基である3−エチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、並びに、Aが、A3基である3−エチル−4−ヒドロキシ−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのものからなる群から選ばれた同種または異種のヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物の混合物であって、当該混合物に含まれるヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物の一部において、そのヒドロキシ基がグリシジルオキシ基に変換されているものを挙げることができる。   As the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound, those having a glycidyl group in addition to the hydroxy group can also be used. Examples of such a compound include a cyclotriphosphazene compound having a hydroxy group in which n is 1 in the formula (1) or a cyclotetraphosphazene compound having a hydroxy group in which n is 2 in the formula (1), All of A are 4-hydroxyphenyloxy group, 4′-hydroxyphenyl-4-phenyloxy group, 4-hydroxynaphthyl-1-oxy group, 5-hydroxylnaphthyl-1-oxy group, 6-hydroxylnaphthyl-2 -Oxy group, 4'-hydroxyphenyloxy-4-phenyloxy group, 4'-hydroxyphenylthio-4-phenyloxy group, 4'-hydroxyphenylsulfonyl-4-phenyloxy group, 4'-hydroxyphenylisopropylidene -4-phenyloxy group, 2-methyl-3-hydroxy-phenyl Xoxy group, 3-hydroxy-4-methyl-phenyloxy group, 3-hydroxy-5-methyl-phenyloxy group, 3-hydroxy-6-methyl-phenyloxy group, 2-methyl-4-hydroxy-phenyloxy group 3-methyl-4-hydroxy-phenyloxy group, 4-hydroxy-3,5-dimethyl-phenyloxy group, 3-hydroxy-4-ethyl-phenyloxy group, 3-hydroxy-5-ethyl-phenyloxy group And A is a kind of A3 group selected from the A3 group consisting of 3-ethyl-4-hydroxy-phenyloxy groups, and all of A are two or more A3 groups selected from the A3 group A combination of a 4-hydroxyphenyloxy group that is an A3 group and a phenoxy group that is an A2 group; A combination of a loxyphenyl-4-phenyloxy group and a phenoxy group that is an A2 group, a combination of a 5-hydroxylnaphthyl-1-oxy group that is an A3 group and a phenoxy group that is an A2 group, A is a combination of a 4′-hydroxyphenylsulfonyl-4-phenyloxy group which is an A3 group and a phenoxy group which is an A2 group, and 4′-hydroxyphenylsulfonyl-4-phenyloxy where A is an A3 group A combination of a group and a methylphenoxy group which is an A2 group, A is a combination of a 4′-hydroxyphenylisopropylidene-4-phenyloxy group which is an A3 group and a phenoxy group which is an A2 group, A combination of a 3-hydroxy-4-methyl-phenyloxy group that is an A3 group and a phenoxy group that is an A2 group, and A is an A3 group A combination of a certain 3-hydroxy-4-methyl-phenyloxy group and a methylphenoxy group that is an A2 group, and a phenoxy in which A is a 3-hydroxy-5-methyl-phenyloxy group that is an A3 group and an A2 group In combination with a group, A in combination with a 3-hydroxy-5-methyl-phenyloxy group which is an A3 group and a methylphenoxy group which is an A2 group, 2-methyl- in which A is an A3 group Combination of 4-hydroxy-phenyloxy group and phenoxy group which is A2 group, A is combination of 2-methyl-4-hydroxy-phenyloxy group which is A3 group and methylphenoxy group which is A2 group A combination of a 3-methyl-4-hydroxy-phenyloxy group which is an A3 group and a phenoxy group which is an A2 group, and 3-methyl wherein A is an A3 group A combination of a -4-hydroxy-phenyloxy group and a methylphenoxy group that is an A2 group, and A is a 4-hydroxy-3,5-dimethyl-phenyloxy group that is an A3 group and a phenoxy group that is an A2 group; A combination of 4-hydroxy-3,5-dimethyl-phenyloxy group, which is an A3 group, and a methylphenoxy group, which is an A2 group, and 3-ethyl-, wherein A is an A3 group A combination of a 4-hydroxy-phenyloxy group and a phenoxy group which is an A2 group, and a combination of a 3-ethyl-4-hydroxy-phenyloxy group where A is an A3 group and a methylphenoxy group which is an A2 group A mixture of the same or different hydroxy group-containing cyclic phosphazene compounds selected from the group consisting of combinations, wherein the hydroxy group contained in the mixture In some organic cyclic phosphazene compounds include those in which the hydroxy group is converted into a glycidyl group.

A3基として式(2)で示されるヒドロキシアリールオキシ基を有するヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物およびA3基として式(3)で示されるヒドロキシフェニル置換フェニルオキシ基を有するヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、下記の文献15〜19に記載された方法を参照して製造することができる。   The hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound having a hydroxyaryloxy group represented by the formula (2) as the A3 group and the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound having a hydroxyphenyl-substituted phenyloxy group represented by the formula (3) as the A3 group are as follows: It can manufacture with reference to the method described in the literature 15-19.

文献15
特開昭58−219190号公報
文献16
特開2007−153747号公報
文献17
PHOSPHORUS−NITROGEN COMPOUNDS,H.R.ALLCOCK著,1972年刊,ACADEMIC PRESS社
文献18
Alessandro Medici,et.al., Macromolecules, Vol.25,No.10,p.2569(1992)
文献19
PHOSPHAZENES、A WORLDWIDE INSIGHT、M.GLERIA、R.DE JAEGER著、2004年刊、NOVA SCIENCE PUBLISHERS INC.社
Reference 15
JP 58-219190 A
Reference 16
JP 2007-153747 A
Reference 17
PHOSPHORUS-NITROGEN COMPOUNDS, H.P. R. By ALLCOCK, published in 1972, ACADEMI PRES
Reference 18
Alessandro Medici, et. al. , Macromolecules, Vol. 25, no. 10, p. 2569 (1992)
Reference 19
PHOSPHAZENES, A WORLDWIDE INSIGHT, M.C. GLERIA, R.A. DE JAEGER, 2004, NOVA SCIENCE PUBLISHERS INC. Company

一方、A3基として式(4)で示されるヒドロキシ基置換フェニルオキシ基を有するヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物(以下、「式(4)置換基含有環状ホスファゼン化合物」という場合がある)は、次のような方法により製造することができる。
先ず、下記の式(5)で表される環状ホスホニトリルジハライドを用意する。
On the other hand, a hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound having a hydroxy group-substituted phenyloxy group represented by formula (4) as the A3 group (hereinafter sometimes referred to as “formula (4) substituent-containing cyclic phosphazene compound”) It can manufacture by such a method.
First, a cyclic phosphonitrile dihalide represented by the following formula (5) is prepared.

Figure 2015014012
Figure 2015014012

式(5)において、nは、3から8の整数を示している。また、Xは、ハロゲン原子を示し、好ましくはフッ素原子若しくは塩素原子である。因みに、ここで用意する環状ホスホニトリルジハライドは、nが異なる数種類のものの混合物であってもよい。
このような環状ホスホニトリルジハライドの製造方法その他は、各種の文献、例えば、下記のような文献20、21に記載されている。
In the formula (5), n represents an integer of 3 to 8. X represents a halogen atom, preferably a fluorine atom or a chlorine atom. Incidentally, the cyclic phosphonitrile dihalide prepared here may be a mixture of several kinds having different n.
The production method of such a cyclic phosphonitrile dihalide and others are described in various documents, for example, the following documents 20 and 21.

文献20
PHOSPHORUS−NITROGEN COMPOUNDS,H.R.ALLCOCK著,1972年刊,ACADEMIC PRESS社
文献21
PHOSPHAZENES,A WORLDWIDE INSIGHT,M.GLERIA,R.DE JAEGER著,2004年刊,NOVA SCIENCE PUBLISHERS INC.社
Reference 20
PHOSPHORUS-NITROGEN COMPOUNDS, H.P. R. By ALLCOCK, published in 1972, ACADEMI PRES
Reference 21
PHOSPHAZENES, A WORLDWIDE INSIGHT, M.C. GLERIA, R.M. DE JAEGER, 2004, NOVA SCIENCE PUBLISHERS INC. Company

これらの文献に記載されているように、式(5)で表される環状ホスホニトリルジハライドは、通常、重合度が3から8程度の環状ホスホニトリルジハライドと鎖状ホスホニトリルジハライドとの混合物として得られる。このため、式(5)で表される環状ホスホニトリルジハライドは、上記各文献に記載されているように、当該混合物から溶媒への溶解度の差を利用して鎖状ホスホニトリルジハライドを取り除いて入手するか、或いは、当該混合物から環状ホスホニトリルジハライドを蒸留または再結晶によって分離して入手する必要がある。   As described in these documents, the cyclic phosphonitrile dihalide represented by the formula (5) is usually composed of a cyclic phosphonitrile dihalide having a degree of polymerization of about 3 to 8 and a chain phosphonitrile dihalide. Obtained as a mixture. For this reason, the cyclic phosphonitrile dihalide represented by the formula (5) removes the chain phosphonitrile dihalide by utilizing the difference in solubility in the solvent from the mixture as described in the above-mentioned documents. Or the cyclic phosphonitrile dihalide must be obtained from the mixture by distillation or recrystallization.

この製造方法において用いる環状ホスホニトリルジハライドとして好ましいものは、例えば、ヘキサフルオロシクロトリホスファゼン(nが3のもの)、オクタフルオロシクロテトラホスファゼン(nが4のもの)、デカフルオロシクロペンタホスファゼン(nが5のもの)、ドデカフルオロシクロヘキサホスファゼン(nが6のもの)、ヘキサフルオロシクロトリホスファゼンとオクタフルオロシクロテトラホスファゼンとの混合物、nが3から8の環状ホスホニトリルジフルオリドの混合物、ヘキサクロロシクロトリホスファゼン(nが3のもの)、オクタクロロシクロテトラホスファゼン(nが4のもの)、デカクロロシクロペンタホスファゼン(nが5のもの)、ドデカクロロシクロヘキサホスファゼン(nが6のもの)、ヘキサクロロシクロトリホスファゼンとオクタクロロシクロテトラホスファゼンとの混合物およびnが3から8の環状ホスホニトリルジクロリドの混合物等である。このうち、ヘキサクロロシクロトリホスファゼン、オクタクロロシクロテトラホスファゼン、ヘキサクロロシクロトリホスファゼンとオクタクロロシクロテトラホスファゼンとの混合物およびnが3から8の環状ホスホニトリルジクロリドの混合物がより好ましく、ヘキサクロロシクロトリホスファゼン、ヘキサクロロシクロトリホスファゼンとオクタクロロシクロテトラホスファゼンとの混合物およびnが3から8の環状ホスホニトリルジクロリドの混合物が特に好ましい。   Preferred examples of the cyclic phosphonitrile dihalide used in this production method include hexafluorocyclotriphosphazene (where n is 3), octafluorocyclotetraphosphazene (where n is 4), decafluorocyclopentaphosphazene (n 5), dodecafluorocyclohexaphosphazene (where n is 6), a mixture of hexafluorocyclotriphosphazene and octafluorocyclotetraphosphazene, a mixture of cyclic phosphonitrile difluorides where n is 3 to 8, hexachlorocyclo Triphosphazene (n is 3), octachlorocyclotetraphosphazene (n is 4), decachlorocyclopentaphosphazene (n is 5), dodecachlorocyclohexaphosphazene (n is 6), hexac B is a cyclotriphosphazene and mixtures cyclic phosphonate nitrile dichloride mixtures and n is 3 to 8 of the octa-chloro cyclotetrasiloxane phosphazene like. Of these, hexachlorocyclotriphosphazene, octachlorocyclotetraphosphazene, a mixture of hexachlorocyclotriphosphazene and octachlorocyclotetraphosphazene, and a mixture of cyclic phosphonitrile dichloride having n of 3 to 8 are more preferable, hexachlorocyclotriphosphazene, hexachloro Particular preference is given to mixtures of cyclotriphosphazene and octachlorocyclotetraphosphazene and mixtures of cyclic phosphonitrile dichlorides with n of 3 to 8.

また、上述の環状ホスホニトリルジハライドと反応させる化合物として、次の化合物B1、化合物B2および化合物B3を用意する。   Moreover, the following compound B1, compound B2, and compound B3 are prepared as a compound made to react with the above-mentioned cyclic phosphonitrile dihalide.

[化合物B1]
炭素数が1〜8のアルコール類。
このアルコール類は、炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよい。
このようなアルコール類としては、例えば、メタノール、エタノ−ル、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタノール、n−ペンタノール、n−ヘキサノール、n−ヘプタノール、n−オクタノール、ビニルアルコール、1−プロペン−1−オール、2−プロペン−1−オール(アリルアルコール)、1−メチル−1−エテン−1−オール、3−ブテン−1−オール、2−メチル−2−プロペン−1−オール、4−ペンテン−1−オール、2−ヘキセン−1−オール、2−ヘプテン−4−オール、5−オクテン−1−オール、ベンジルアルコールおよびフェネチルアルコール等を挙げることができる。このうち、メタノール、エタノール、n−プロパノール、アリルアルコールおよびベンジルアルコールが好ましく、エタノールおよびn−プロパノールが特に好ましい。
[Compound B1]
Alcohols having 1 to 8 carbon atoms.
These alcohols may be substituted with at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group.
Examples of such alcohols include methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, sec-butanol, tert-butanol, n-pentanol, n-hexanol, n-heptanol, and n-octanol. , Vinyl alcohol, 1-propen-1-ol, 2-propen-1-ol (allyl alcohol), 1-methyl-1-ethen-1-ol, 3-buten-1-ol, 2-methyl-2- Examples include propen-1-ol, 4-penten-1-ol, 2-hexen-1-ol, 2-hepten-4-ol, 5-octen-1-ol, benzyl alcohol, and phenethyl alcohol. Among these, methanol, ethanol, n-propanol, allyl alcohol and benzyl alcohol are preferable, and ethanol and n-propanol are particularly preferable.

[化合物B2]
炭素数が6〜20のフェノール類。
このフェノール類は、炭素数が1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよい。
このようなフェノール類としては、例えば、フェノール、クレゾール、ジメチルフェノール、エチルフェノール、エチルメチルフェノール、ジエチルフェノール、n−プロピルフェノール、イソプロピルフェノール、イソプロピルメチルフェノール、イソプロピルエチルフェノール、ジイソプロピルフェノール、n−ブチルフェノール、sec−ブチルフェノール、tert−ブチルフェノール、n−ペンチルフェノール、n−ヘキシルフェノール、ビニルフェノール、1−プロペニルフェノール、2−プロペニルフェノール、イソプロペニルフェノール、1−ブテニルフェノール、sec−ブテニルフェノール、1−ペンテニルフェノール、1−ヘキセニルフェノール、フェニルフェノール、ナフトール、アントラノールおよびフェナントラノール等を挙げることができる。このうち、フェノール、クレゾール、ジメチルフェノール、ジエチルフェノール、2−プロペニルフェノール、フェニルフェノールおよびナフトールが好ましく、フェノール、クレゾール、ジメチルフェノールおよびナフトールが特に好ましい。
[Compound B2]
Phenols having 6 to 20 carbon atoms.
These phenols may be substituted with at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group.
Examples of such phenols include phenol, cresol, dimethylphenol, ethylphenol, ethylmethylphenol, diethylphenol, n-propylphenol, isopropylphenol, isopropylmethylphenol, isopropylethylphenol, diisopropylphenol, n-butylphenol, sec-butylphenol, tert-butylphenol, n-pentylphenol, n-hexylphenol, vinylphenol, 1-propenylphenol, 2-propenylphenol, isopropenylphenol, 1-butenylphenol, sec-butenylphenol, 1-pentenyl Phenol, 1-hexenylphenol, phenylphenol, naphthol, anthranol and phenanthate Mention may be made of the Nord and the like. Among these, phenol, cresol, dimethylphenol, diethylphenol, 2-propenylphenol, phenylphenol and naphthol are preferable, and phenol, cresol, dimethylphenol and naphthol are particularly preferable.

[化合物B3]
下記の式(6)で表されるアシル基置換フェノール類。
[Compound B3]
Acyl group-substituted phenols represented by the following formula (6).

Figure 2015014012
Figure 2015014012

式(6)において、L〜Lは、少なくとも一つがアシル基でありかつ少なくとも一つが炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる基であり、残りが水素原子である。 In Formula (6), at least one of L 1 to L 5 is an acyl group, and at least one is a group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group, and the remainder is a hydrogen atom. is there.

アシル基は、種類が限定されるものではなく、例えば、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、ラウロイル基、ミリストイル基、ステアロイル基、オキサリル基、スクシニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、ベンゾイル基、フタロイル基、テレフタロイル基、ナフトイル基、トルオイル基、フロイル基、テノイル基、ニコチノイル基およびアニソイル基等を挙げることができる。但し、化合物B3は、入手しやすく、また、式(4)置換基含有環状ホスファゼン化合物を製造するための合成操作を簡便に実施することができることから、アシル基としてアセチル基を有するものを用いるのが好ましい。   The acyl group is not limited in type, for example, formyl group, acetyl group, propionyl group, butyryl group, isobutyryl group, valeryl group, isovaleryl group, pivaloyl group, lauroyl group, myristoyl group, stearoyl group, oxalyl group Succinyl group, acryloyl group, methacryloyl group, benzoyl group, phthaloyl group, terephthaloyl group, naphthoyl group, toluoyl group, furoyl group, thenoyl group, nicotinoyl group and anisoyl group. However, since compound B3 is easily available and the synthesis operation for producing the formula (4) substituent-containing cyclic phosphazene compound can be easily carried out, a compound having an acetyl group as an acyl group is used. Is preferred.

化合物B3として用いられるアセチル基置換フェノール類としては、例えば、2−メチル−3−アセチルフェノール、3−アセチル−4−メチルフェノール、3−アセチル−5−メチルフェノール、3−アセチル−6−メチルフェノール、2−メチル−4−アセチルフェノール、3−メチル−4−アセチルフェノール、4−アセチル−3,5−ジメチルフェノール、3−アセチル−4−エチルフェノール、3−アセチル−5−エチルフェノールおよび3−エチル−4−アセチルフェノール等を挙げることができる。このうち、3−アセチル−4−メチルフェノール、3−アセチル−5−メチルフェノール、2−メチル−4−アセチルフェノール、3−メチル−4−アセチルフェノール、4−アセチル−3,5−ジメチルフェノールおよび3−エチル−4−アセチルフェノールが好ましく、3−アセチル−4−メチルフェノール、2−メチル−4−アセチルフェノール、3−メチル−4−アセチルフェノールおよび4−アセチル−3,5−ジメチルフェノールが特に好ましい。   Examples of the acetyl group-substituted phenols used as the compound B3 include 2-methyl-3-acetylphenol, 3-acetyl-4-methylphenol, 3-acetyl-5-methylphenol, and 3-acetyl-6-methylphenol. 2-methyl-4-acetylphenol, 3-methyl-4-acetylphenol, 4-acetyl-3,5-dimethylphenol, 3-acetyl-4-ethylphenol, 3-acetyl-5-ethylphenol and 3- Examples thereof include ethyl-4-acetylphenol. Of these, 3-acetyl-4-methylphenol, 3-acetyl-5-methylphenol, 2-methyl-4-acetylphenol, 3-methyl-4-acetylphenol, 4-acetyl-3,5-dimethylphenol and 3-ethyl-4-acetylphenol is preferred, especially 3-acetyl-4-methylphenol, 2-methyl-4-acetylphenol, 3-methyl-4-acetylphenol and 4-acetyl-3,5-dimethylphenol. preferable.

式(4)置換基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法では、上述の式(3)で表される環状ホスホニトリルジハライドと上述の化合物B1〜B3とを反応させることにより、環状ホスホニトリルジハライドの全ハロゲン原子を、少なくとも一つが下記のG3基により置換されるよう下記のG1基、G2基およびG3基からなる群から選ばれた基により置換し、環状ホスホニトリル置換体を製造する(工程1)。   In the production method of the formula (4) substituent-containing cyclic phosphazene compound, the cyclic phosphonitrile dihalide is reacted by reacting the cyclic phosphonitrile dihalide represented by the above formula (3) with the above-mentioned compounds B1 to B3. All halogen atoms are substituted with a group selected from the group consisting of the following G1, G2, and G3 groups so that at least one is substituted with the following G3 group to produce a cyclic phosphonitrile substituted product (Step 1). ).

[G1基]
炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも1種の基で置換されていてもよい、炭素数が1〜8のアルコキシ基。
この基は、化合物B1によりハロゲン原子と置換されるものであり、既述のA1基に該当する。
[G1 group]
An alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, which may be substituted with at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group.
This group is substituted with a halogen atom by the compound B1, and corresponds to the A1 group described above.

[G2基]
炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも1種の基で置換されていてもよい、炭素数6〜20のアリールオキシ基。
この基は、化合物B2によりハロゲン原子と置換されるものであり、既述のA2基に該当する。
[G2 group]
An aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms, which may be substituted with at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group.
This group is substituted with a halogen atom by the compound B2, and corresponds to the A2 group described above.

[G3基]
下記の式(7)で示されるアシル基置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。

Figure 2015014012
[G3 group]
A group selected from the group consisting of acyl group-substituted phenyloxy groups represented by the following formula (7).
Figure 2015014012

この基は、化合物B3によりハロゲン原子と置換されるものである。
式(7)において、L〜Lは、少なくとも一つがアシル基でありかつ少なくとも一つが炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基であり、残りが水素原子である。
This group is substituted with a halogen atom by the compound B3.
In Formula (7), at least one of L 1 to L 5 is an acyl group and at least one is at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group, and the rest It is a hydrogen atom.

この製造工程では、製造する式(4)置換基含有環状ホスファゼン化合物の種類に応じて、すなわち、上述の形態1に係る式(4)置換基含有環状ホスファゼン化合物を製造する場合と、上述の形態2に係る式(4)置換基含有環状ホスファゼン化合物を製造する場合とに応じて、化合物B1〜B3を適宜選択して使用する。具体的には次の通りである。   In this production process, according to the type of the formula (4) substituent-containing cyclic phosphazene compound to be produced, that is, when the formula (4) substituent-containing cyclic phosphazene compound according to the above-described form 1 is produced, the above-mentioned form According to the formula (4) substituent-containing cyclic phosphazene compound according to 2, the compounds B1 to B3 are appropriately selected and used. Specifically, it is as follows.

[形態1の式(4)置換基含有環状ホスファゼン化合物を製造する場合]
この場合は、環状ホスホニトリルジハライドと化合物B3とを反応させ、環状ホスホニトリルジハライドのハロゲン原子(以下、活性ハロゲン原子という場合がある)の全てを化合物B3に由来のG3基で置換する。ここで用いられる化合物B3は、上述のアシル基置換フェノール類のうちの一種若しくは二種以上である。環状ホスホニトリルジハライドと化合物B3とを反応させ、環状ホスホニトリルジハライドの全ての活性ハロゲン原子をG3基で置換する方法としては、次のいずれかの方法を採用することができる。
[In the case of producing the formula (4) substituent-containing cyclic phosphazene compound of Form 1]
In this case, the cyclic phosphonitrile dihalide is reacted with the compound B3, and all the halogen atoms (hereinafter sometimes referred to as active halogen atoms) of the cyclic phosphonitrile dihalide are substituted with the G3 group derived from the compound B3. The compound B3 used here is one or more of the acyl group-substituted phenols described above. As a method of reacting the cyclic phosphonitrile dihalide with the compound B3 and substituting all the active halogen atoms of the cyclic phosphonitrile dihalide with the G3 group, any of the following methods can be employed.

<方法A−a>
環状ホスホニトリルジハライドと化合物B3のアルカリ金属塩とを反応させる。
この方法による場合、化合物B3のアルカリ金属塩の使用量は、通常、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の量の1.0〜2.0当量に設定するのが好ましく、1.05〜1.3当量に設定するのがより好ましい。当該使用量が1.0当量未満の場合は、活性ハロゲン原子の一部が残留し、得られた式(4)置換基含有環状ホスファゼン化合物を用いたエポキシ化合物組成物が所要の効果を示さない可能性がある。一方、当該使用量が2.0当量を超える場合は、反応生成物の分離・精製が困難になるおそれがあり、また、不経済である。
<Method Aa>
A cyclic phosphonitrile dihalide is reacted with an alkali metal salt of compound B3.
In the case of this method, the amount of the alkali metal salt of compound B3 is usually preferably set to 1.0 to 2.0 equivalents of the amount of active halogen atom of cyclic phosphonitrile dihalide, and 1.05 to 1 More preferably, it is set to 3 equivalents. When the amount used is less than 1.0 equivalent, part of the active halogen atom remains, and the resulting epoxy compound composition using the formula (4) substituent-containing cyclic phosphazene compound does not exhibit the required effect. there is a possibility. On the other hand, if the amount used exceeds 2.0 equivalents, it may be difficult to separate and purify the reaction product, which is uneconomical.

<方法A−b>
環状ホスホニトリルジハライドと化合物B3とを、ハロゲン化水素を捕捉可能な塩基の存在下で反応させる。
この方法による場合、化合物B3の使用量は、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の量の1.0〜2.0当量に設定するのが好ましく、1.05〜1.3当量に設定するのがより好ましい。当該使用量が1.0当量未満の場合は、活性ハロゲン原子の一部が残留し、得られた式(4)置換基含有環状ホスファゼン化合物を用いたエポキシ化合物組成物が所要の効果を示さない可能性がある。一方、当該使用量が2.0当量を超える場合は、反応生成物の分離・精製が困難になるおそれがあり、また、不経済である。また、塩基の使用量は、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の量の1.1〜2.1当量に設定するのが好ましく、1.1〜1.4当量に設定するのがより好ましい。当該使用量が1.1当量未満の場合は、活性ハロゲン原子の一部が残留し、式(4)置換基ヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物を用いたエポキシ化合物組成物が所要の効果を示さない可能性がある。一方、当該使用量が2.1当量を超える場合は、反応生成物の分離・精製が困難になるおそれがあり、また、不経済である。
<Method Ab>
Cyclic phosphonitrile dihalide and compound B3 are reacted in the presence of a base capable of capturing hydrogen halide.
In the case of this method, the amount of compound B3 used is preferably set to 1.0 to 2.0 equivalents, preferably 1.05 to 1.3 equivalents, of the amount of the active halogen atom of the cyclic phosphonitrile dihalide. Is more preferable. When the amount used is less than 1.0 equivalent, part of the active halogen atom remains, and the resulting epoxy compound composition using the formula (4) substituent-containing cyclic phosphazene compound does not exhibit the required effect. there is a possibility. On the other hand, if the amount used exceeds 2.0 equivalents, it may be difficult to separate and purify the reaction product, which is uneconomical. The amount of the base used is preferably set to 1.1 to 2.1 equivalents, more preferably 1.1 to 1.4 equivalents, of the amount of active halogen atoms in the cyclic phosphonitrile dihalide. . When the amount used is less than 1.1 equivalents, some of the active halogen atoms remain, and the epoxy compound composition using the formula (4) substituted hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound may not exhibit the required effect. There is sex. On the other hand, if the amount used exceeds 2.1 equivalents, it may be difficult to separate and purify the reaction product, which is uneconomical.

[形態2の式(4)置換基含有環状ホスファゼン化合物を製造する場合]
この場合は、環状ホスホニトリルジハライドに対し、化合物B3のうちの少なくとも一種と、化合物B1および化合物B2のうちの少なくとも一つの化合物とを反応させ、環状ホスホニトリルジハライドの一部の活性ハロゲン原子を化合物B3に由来のG3基で置換し、残りの活性ハロゲン原子の全てを化合物B1に由来のG1基および化合物B2に由来のG2基のうちの少なくとも一つの基で置換する。このための方法としては、次のいずれかの方法を採用することができる。
[In the case of producing the formula (4) substituent-containing cyclic phosphazene compound of Form 2]
In this case, at least one of compound B3 and at least one compound of compound B1 and compound B2 are reacted with cyclic phosphonitrile dihalide, and a part of the active halogen atoms of cyclic phosphonitrile dihalide is reacted. Is substituted with the G3 group derived from the compound B3, and all of the remaining active halogen atoms are replaced with at least one group selected from the G1 group derived from the compound B1 and the G2 group derived from the compound B2. As a method for this, any of the following methods can be adopted.

<方法B−a>
環状ホスホニトリルジハライドに対し、化合物B3のアルカリ金属塩と、化合物B1および化合物B2のうちの少なくとも一つの化合物のアルカリ金属塩との混合物を反応させ、活性ハロゲン原子の全てを置換する。当該混合物において、化合物B3のアルカリ金属塩の割合は、製造する式(4)置換基含有環状ホスファゼン化合物の種類に応じて適宜設定することができる。
この方法による場合、上述の混合物の使用量は、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の量の1.0〜2.0当量に設定するのが好ましく、1.05〜1.3当量に設定するのがより好ましい。当該使用量が1.0当量未満の場合は、活性ハロゲン原子の一部が残留し、得られた式(4)置換基含有環状ホスファゼン化合物を用いたエポキシ化合物組成物が所要の効果を示さない可能性がある。一方、当該使用量が2.0当量を超える場合は、反応生成物の分離・精製が困難になるおそれがあり、また、不経済である。
<Method Ba>
The cyclic phosphonitrile dihalide is reacted with a mixture of an alkali metal salt of compound B3 and an alkali metal salt of at least one of compound B1 and compound B2 to replace all active halogen atoms. In the said mixture, the ratio of the alkali metal salt of compound B3 can be suitably set according to the kind of formula (4) substituent containing cyclic phosphazene compound to manufacture.
In the case of this method, the amount of the above mixture used is preferably set to 1.0 to 2.0 equivalents of the amount of active halogen atoms of the cyclic phosphonitrile dihalide, and is set to 1.05 to 1.3 equivalents. More preferably. When the amount used is less than 1.0 equivalent, part of the active halogen atom remains, and the resulting epoxy compound composition using the formula (4) substituent-containing cyclic phosphazene compound does not exhibit the required effect. there is a possibility. On the other hand, if the amount used exceeds 2.0 equivalents, it may be difficult to separate and purify the reaction product, which is uneconomical.

<方法B−b>
環状ホスホニトリルジハライドに対し、化合物B3と、化合物B1および化合物B2のうちの少なくとも一つの化合物との混合物を、ハロゲン化水素を捕捉可能な塩基の存在下で反応させ、活性ハロゲン原子の全てを置換する。当該混合物において、化合物B3の割合は、製造する式(4)置換基含有環状ホスファゼン化合物の種類に応じて適宜設定することができる。
この方法による場合、上述の混合物の使用量は、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の量の1.0〜2.0当量に設定するのが好ましく、1.05〜1.3当量に設定するのがより好ましい。当該使用量が1.0当量未満の場合は、活性ハロゲン原子の一部が残留し、得られた式(4)置換基含有環状ホスファゼン化合物を用いたエポキシ化合物組成物が所要の効果を示さない可能性がある。一方、当該使用量が2.0当量を超える場合は、反応生成物の分離・精製が困難になるおそれがあり、また、不経済である。また、塩基の使用量は、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の量の1.1〜2.1当量に設定するのが好ましく、1.1〜1.4当量に設定するのがより好ましい。当該使用量が1.1当量未満の場合は、活性ハロゲン原子の一部が残留し、式(4)置換基含有環状ホスファゼン化合物を用いたエポキシ化合物組成物が所要の効果を示さない可能性がある。一方、当該使用量が2.1当量を超える場合は、反応生成物の分離・精製が困難になるおそれがあり、また、不経済である。
<Method B-b>
A cyclic phosphonitrile dihalide is reacted with a mixture of compound B3 and at least one of compound B1 and compound B2 in the presence of a base capable of capturing hydrogen halide, and all of the active halogen atoms are reacted. Replace. In the said mixture, the ratio of compound B3 can be suitably set according to the kind of formula (4) substituent containing cyclic phosphazene compound to manufacture.
In the case of this method, the amount of the above mixture used is preferably set to 1.0 to 2.0 equivalents of the amount of active halogen atoms of the cyclic phosphonitrile dihalide, and is set to 1.05 to 1.3 equivalents. More preferably. When the amount used is less than 1.0 equivalent, part of the active halogen atom remains, and the resulting epoxy compound composition using the formula (4) substituent-containing cyclic phosphazene compound does not exhibit the required effect. there is a possibility. On the other hand, if the amount used exceeds 2.0 equivalents, it may be difficult to separate and purify the reaction product, which is uneconomical. The amount of the base used is preferably set to 1.1 to 2.1 equivalents, more preferably 1.1 to 1.4 equivalents, of the amount of active halogen atoms in the cyclic phosphonitrile dihalide. . If the amount used is less than 1.1 equivalents, a part of the active halogen atoms may remain and the epoxy compound composition using the formula (4) substituent-containing cyclic phosphazene compound may not exhibit the required effect. is there. On the other hand, if the amount used exceeds 2.1 equivalents, it may be difficult to separate and purify the reaction product, which is uneconomical.

<方法B−c>
先ず、環状ホスホニトリルジハライドに対して化合物B3を反応させ、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の一部を化合物B3に由来のG3基により置換した部分置換体を得る(第一工程)。次に、得られた部分置換体に対して化合物B1および化合物B2のうちの少なくとも一つの化合物を反応させ、残りの活性ハロゲン原子の全てを化合物B1に由来のG1基および化合物B2に由来のG2基のうちの少なくとも一つにより置換する(第二工程)。
この方法の第一工程は、環状ホスホニトリルジハライドに対して化合物B3のアルカリ金属塩を反応させて実施してもよいし、環状ホスホニトリルジハライドに対し、化合物B3をハロゲン化水素を捕捉可能な塩基の存在下で反応させてもよい。また、第二工程は、第一工程で得た部分置換体に対して化合物B1および化合物B2のうちの少なくとも一つの化合物のアルカリ金属塩を反応させて実施してもよいし、第一工程で得た部分置換体に対し、化合物B1および化合物B2のうちの少なくとも一つの化合物をハロゲン化水素を捕捉可能な塩基の存在下で反応させてもよい。
<Method Bc>
First, compound B3 is reacted with cyclic phosphonitrile dihalide to obtain a partially substituted product in which a part of the active halogen atom of cyclic phosphonitrile dihalide is substituted with G3 group derived from compound B3 (first step). Next, at least one of compound B1 and compound B2 is reacted with the obtained partially substituted product, and all of the remaining active halogen atoms are converted to G1 group derived from compound B1 and G2 derived from compound B2. Substitution with at least one of the groups (second step).
The first step of this method may be carried out by reacting an alkali metal salt of compound B3 with a cyclic phosphonitrile dihalide, or the compound B3 can capture hydrogen halide with respect to the cyclic phosphonitrile dihalide. The reaction may be carried out in the presence of a simple base. Further, the second step may be carried out by reacting the partially substituted product obtained in the first step with an alkali metal salt of at least one of the compounds B1 and B2, or in the first step. The obtained partially substituted product may be reacted with at least one of compound B1 and compound B2 in the presence of a base capable of capturing hydrogen halide.

<方法B−d>
先ず、環状ホスホニトリルジハライドに対して化合物B1および化合物B2のうちの少なくとも一つの化合物を反応させ、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の一部を化合物B1に由来のG1基および化合物B2に由来のG2基のうちの少なくとも一つにより置換した部分置換体を得る(第一工程)。次に、得られた部分置換体に対して化合物B3を反応させ、残りの活性ハロゲン原子の全てを化合物B3に由来のG3基により置換する(第二工程)。
この方法の第一工程は、環状ホスホニトリルジハライドに対して化合物B1および化合物B2のうちの少なくとも一つの化合物のアルカリ金属塩を反応させて実施してもよいし、環状ホスホニトリルジハライドに対し、化合物B1および化合物B2のうちの少なくとも一つの化合物をハロゲン化水素を捕捉可能な塩基の存在下で反応させてもよい。また、第二工程は、第一工程で得た部分置換体に対して化合物B3のアルカリ金属塩を反応させて実施してもよいし、第一工程で得た部分置換体に対し、化合物B3をハロゲン化水素を捕捉可能な塩基の存在下で反応させてもよい。
<Method Bd>
First, at least one of compound B1 and compound B2 is reacted with cyclic phosphonitrile dihalide, and a part of the active halogen atom of cyclic phosphonitrile dihalide is converted to G1 group derived from compound B1 and compound B2. A partially substituted product substituted with at least one of the derived G2 groups is obtained (first step). Next, compound B3 is reacted with the obtained partially substituted product, and all remaining active halogen atoms are substituted with G3 groups derived from compound B3 (second step).
The first step of this method may be carried out by reacting cyclic phosphonitrile dihalide with an alkali metal salt of at least one of compound B1 and compound B2, or for cyclic phosphonitrile dihalide. Alternatively, at least one of compound B1 and compound B2 may be reacted in the presence of a base capable of capturing hydrogen halide. In addition, the second step may be carried out by reacting the alkali metal salt of compound B3 with the partial substituent obtained in the first step, or compound B3 with respect to the partial substituent obtained in the first step. May be reacted in the presence of a base capable of capturing hydrogen halide.

上述の各方法において用いられるアルカリ金属塩は、通常、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩およびセシウム塩が好ましい。特に、ナトリウム塩およびカリウム塩が好ましい。このようなアルカリ金属塩は、化合物B1〜B3と、金属リチウム、金属ナトリウム若しくは金属カリウム等との脱水素反応、または、化合物B1〜B3と、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物との混合物からの脱水反応によって得ることができる。   In general, the alkali metal salt used in each of the above methods is preferably a lithium salt, a sodium salt, a potassium salt, or a cesium salt. In particular, sodium salt and potassium salt are preferable. Such an alkali metal salt is a dehydrogenation reaction between the compounds B1 to B3 and metal lithium, metal sodium or metal potassium, or the compounds B1 to B3 and lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide or the like. It can be obtained by a dehydration reaction from a mixture with an alkali metal hydroxide.

また、上述の各方法において用いられる、ハロゲン化水素を捕捉可能な塩基は、特に限定されるものではないが、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジメチルアニリン、ジエチルアニリン、ジイソプロピルアニリン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、4−ジエチルアミノピリジンおよび4−ジイソプロピルアミノピリジン等の脂肪族若しくは芳香族アミン類、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウムおよび炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸塩並びに水酸化ナトリウム、水酸化カリウムおよび水酸化リチウム等のアルカリ金属水酸化物等を用いるのが好ましい。特に、トリエチルアミン、ピリジン若しくは水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物を用いるのが好ましい。   In addition, the base capable of capturing hydrogen halide used in each of the above-mentioned methods is not particularly limited. For example, trimethylamine, triethylamine, diisopropylethylamine, dimethylaniline, diethylaniline, diisopropylaniline, pyridine, 4 -Aliphatic or aromatic amines such as dimethylaminopyridine, 4-diethylaminopyridine and 4-diisopropylaminopyridine, alkali metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate, sodium bicarbonate and potassium bicarbonate, and sodium hydroxide, water It is preferable to use alkali metal hydroxides such as potassium oxide and lithium hydroxide. In particular, it is preferable to use an alkali metal hydroxide such as triethylamine, pyridine, or sodium hydroxide.

上述の環状ホスホニトリルジハライドと化合物B1〜B3との反応は、上述のいずれの方法についても、無溶媒で実施することができ、また、溶媒を使用して実施することもできる。溶媒を使用する場合、溶媒の種類は、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されるものではないが、通常、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)、1,4−ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン、ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、1,2−ジエトキシエタンおよびジフェニルエーテル等のエーテル系、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン、キシレン、エチルベンゼンおよびイソプロピルベンゼン等の芳香族炭化水素系、クロロホルムおよび塩化メチレン等のハロゲン化炭化水素系、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、ウンデカンおよびドデカン等の脂肪族炭化水素系、ピリジン等の複素環式芳香族炭化水素系、第三級アミン系並びにシアン化合物系等の有機溶媒を用いるのが好ましい。このうち、分子内にエーテル結合を有し、かつ、化合物B1〜B3およびそれらのアルカリ金属塩の溶解度が高いエーテル系の有機溶媒および水との分離が容易である芳香族炭化水素系の有機溶媒を用いるのが特に好ましい。   The reaction of the above-mentioned cyclic phosphonitrile dihalide and the compounds B1 to B3 can be carried out without solvent for any of the above-mentioned methods, and can also be carried out using a solvent. When a solvent is used, the type of the solvent is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction. Usually, diethyl ether, tetrahydrofuran (THF), 1,4-dioxane, 1,2- Ethers such as dimethoxyethane, butyl methyl ether, diisopropyl ether, 1,2-diethoxyethane and diphenyl ether, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, chlorobenzene, nitrobenzene, xylene, ethylbenzene and isopropylbenzene, chloroform and methylene chloride Halogenated hydrocarbons such as pentane, hexane, cyclohexane, heptane, octane, nonane, undecane and dodecane, etc., heterocyclic aromatic hydrocarbons such as pyridine, tertiary amines and cyanide Conversion Is preferably used an organic solvent -based like. Of these, ether-based organic solvents having an ether bond in the molecule and high solubility of the compounds B1 to B3 and their alkali metal salts, and aromatic hydrocarbon-based organic solvents that are easily separated from water It is particularly preferable to use

上述の環状ホスホニトリルジハライドと化合物B1〜B3とを反応させる際の反応温度は、上述のいずれの方法によるか、或いは、反応生成物の熱安定性等を考慮して適宜設定することができる。但し、溶媒を用いて当該反応を実施する場合は、通常、−20℃から溶媒の沸点までの温度範囲に反応温度を設定するのが好ましい。一方、無溶媒で当該反応を実施する場合、反応温度は、通常、40〜200℃の範囲に設定するのが好ましい。
なお、式(4)置換基含有環状ホスファゼン化合物として上述の形態2に係るもの、特に、式(1)における(2n+4)個のAの内の1〜(2n+2)個がA3基のものを製造する場合は、上述の方法B−c若しくは方法B−dを採用するのが好ましい。
The reaction temperature at the time of reacting the above-mentioned cyclic phosphonitrile dihalide and the compounds B1 to B3 can be set as appropriate depending on any of the above-mentioned methods or considering the thermal stability of the reaction product. . However, when the reaction is carried out using a solvent, it is usually preferable to set the reaction temperature in a temperature range from −20 ° C. to the boiling point of the solvent. On the other hand, when carrying out the reaction without solvent, the reaction temperature is usually preferably set in the range of 40 to 200 ° C.
In addition, as the formula (4) substituent-containing cyclic phosphazene compound according to the above-described form 2, in particular, 1 to (2n + 2) of (2n + 4) A in the formula (1) is A3. In this case, it is preferable to adopt the above-mentioned method Bc or Method Bd.

ここで、方法B−cを採用する場合は、先ず、環状ホスホニトリルジハライドのエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液を調製する。そして、この溶媒溶液に対し、化合物B3のアルカリ金属塩のエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液または化合物B3とハロゲン化水素を捕捉可能な塩基とのエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液を、通常、−20〜50℃の温度で3〜24時間かけて添加し、また、同温度範囲で1〜24時間反応させ、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の一部を化合物B3に由来のG3基により置換した部分置換体を製造する。次に、得られた部分置換体のエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液に対し、化合物B1および化合物B2から選ばれた少なくとも一つの化合物のアルカリ金属塩のエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液または化合物B1および化合物B2から選ばれた少なくとも一つの化合物とハロゲン化水素を捕捉可能な塩基とのエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液を、通常、0〜50℃の温度で3〜24時間かけて添加し、また、0℃から溶媒の沸点までの温度で反応させ、残りの活性ハロゲン原子の全てを化合物B1に由来のG1基および化合物B2に由来のG2基のうちの少なくとも一つにより置換する。   Here, when the method Bc is employed, first, an ether solvent solution or an aromatic hydrocarbon solvent solution of cyclic phosphonitrile dihalide is prepared. Then, an ether solvent solution or an aromatic hydrocarbon solvent solution of an alkali metal salt of compound B3 or an ether solvent solution or an aromatic hydrocarbon of compound B3 and a base capable of trapping hydrogen halide is added to this solvent solution. The system solvent solution is usually added at a temperature of −20 to 50 ° C. over 3 to 24 hours, and is allowed to react in the same temperature range for 1 to 24 hours. A partially substituted product substituted with a G3 group derived from compound B3 is produced. Next, an ether solvent solution or an aromatic solvent of an alkali metal salt of at least one compound selected from the compound B1 and the compound B2 is added to the ether solvent solution or aromatic hydrocarbon solvent solution of the partially substituted product obtained. A hydrocarbon solvent solution or an ether solvent solution or an aromatic hydrocarbon solvent solution of at least one compound selected from Compound B1 and Compound B2 and a base capable of trapping hydrogen halide is usually used at 0 to 50 ° C. And the reaction is carried out at a temperature from 0 ° C. to the boiling point of the solvent, and all of the remaining active halogen atoms are G1 group derived from Compound B1 and G2 group derived from Compound B2 Substitution with at least one of

一方、方法B−dを採用する場合は、先ず、環状ホスホニトリルジハライドのエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液を調製する。そして、この溶媒溶液に対し、化合物B1および化合物B2から選ばれた少なくとも一つの化合物のアルカリ金属塩のエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液または化合物B1および化合物B2から選ばれた少なくとも一つの化合物とハロゲン化水素を捕捉可能な塩基とのエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液を、通常、−20〜50℃の温度で3〜24時間かけて添加し、また、同温度範囲で1〜24時間反応させ、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の一部を化合物B1に由来のG1基および化合物B2に由来のG2基のうちの少なくとも一つにより置換した部分置換体を製造する。次に、得られた部分置換体のエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液に対し、化合物B3のアルカリ金属塩のエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液または化合物B3とハロゲン化水素を捕捉可能な塩基とのエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液を、通常、0〜50℃の温度で3〜24時間かけて添加し、また、0℃から溶媒の沸点までの温度で反応させ、残りの活性ハロゲン原子の全てを化合物B3に由来のG3基により置換する。   On the other hand, when adopting Method Bd, first, an ether solvent solution or an aromatic hydrocarbon solvent solution of cyclic phosphonitrile dihalide is prepared. Then, with respect to this solvent solution, at least one selected from an ether solvent solution or an aromatic hydrocarbon solvent solution of an alkali metal salt of at least one compound selected from Compound B1 and Compound B2 or from Compound B1 and Compound B2 An ether solvent solution or an aromatic hydrocarbon solvent solution of one compound and a base capable of capturing hydrogen halide is usually added at a temperature of −20 to 50 ° C. over 3 to 24 hours. A partially substituted product obtained by reacting for 1 to 24 hours in a range and substituting a part of the active halogen atom of the cyclic phosphonitrile dihalide with at least one of G1 group derived from Compound B1 and G2 group derived from Compound B2 To manufacture. Next, the ether solvent solution or aromatic hydrocarbon solvent solution of the partially substituted product thus obtained is subjected to halogenation with an ether solvent solution or aromatic hydrocarbon solvent solution of compound B3 or compound B3. An ether solvent solution or an aromatic hydrocarbon solvent solution with a base capable of capturing hydrogen is usually added at a temperature of 0 to 50 ° C. over 3 to 24 hours, and from 0 ° C. to the boiling point of the solvent. Reaction at temperature replaces all remaining active halogen atoms with G3 groups derived from compound B3.

次に、上述の工程1において得た環状ホスホニトリル置換体、すなわち、アシル基含有環状ホスホニトリル置換体を酸化し、アシルオキシ基含有環状ホスホニトリル置換体を製造する(工程2)。より具体的には、アシル基含有環状ホスホニトリル置換体のアシル基を酸化してアシルオキシ基含有環状ホスホニトリル置換体を製造する。
アシル基含有環状ホスホニトリル置換体の酸化方法は、アシルオキシ基含有環状ホスホニトリル置換体を得ることができる方法であれば特に限定されるものではないが、通常はバイヤー−ビリガー酸化によるのが好ましい。アシル基含有環状ホスホニトリル置換体の酸化のためのバイヤー−ビリガー酸化において用いることができる酸化剤は、特に制限されるものではなく、各種の公知の過酸化物である。具体的には、無機過酸化物、有機過酸化物、過酸化水素、過酸化尿素、遷移金属のペルオキソ錯体並びに有機酸、無機酸、ルイス酸、有機過酸、無機過酸およびジオキシランからなる群から選ばれた少なくとも一つとペルオキソ化合物との混合物を挙げることができる。これらの酸化剤は、適宜混合して用いることもできる。また、バイヤー−ビリヤー型モノオキシゲナーゼ(酸素添加酵素)を用いることもできる。
Next, the cyclic phosphonitrile substitution product obtained in the above-mentioned step 1, that is, the acyl group-containing cyclic phosphonitrile substitution product is oxidized to produce an acyloxy group-containing cyclic phosphonitrile substitution product (step 2). More specifically, the acyl group-containing cyclic phosphonitrile substitution product is oxidized to produce an acyloxy group-containing cyclic phosphonitrile substitution product.
The method for oxidizing the acyl group-containing cyclic phosphonitrile substitution product is not particularly limited as long as it is a method capable of obtaining the acyloxy group-containing cyclic phosphonitrile substitution product, but it is usually preferable to use the Buyer-Billiger oxidation method. The oxidizing agent that can be used in the Buyer-Billiger oxidation for the oxidation of the acyl group-containing cyclic phosphonitrile substituent is not particularly limited, and various known peroxides. Specifically, inorganic peroxides, organic peroxides, hydrogen peroxide, urea peroxide, transition metal peroxo complexes and the group consisting of organic acids, inorganic acids, Lewis acids, organic peracids, inorganic peracids and dioxiranes And a mixture of at least one selected from the group and a peroxo compound. These oxidizing agents can also be used by mixing as appropriate. A buyer-biller monooxygenase (oxygenase) can also be used.

無機過酸化物の例としては、過酸化アンモニウム、アルカリ金属過酸化物、過硫酸アンモニウム、アルカリ金属過硫酸塩、過ホウ酸アンモニウム、アルカリ金属過ホウ酸塩、過炭酸アンモニウム、アルカリ金属過炭酸塩、アルカリ土類金属過酸化物、過酸化亜鉛およびこれらの化合物の任意の組合わせによる混合物を挙げることができる。アルカリ金属過酸化物として好ましいものは、過酸化ナトリウムである。   Examples of inorganic peroxides include ammonium peroxide, alkali metal peroxide, ammonium persulfate, alkali metal persulfate, ammonium perborate, alkali metal perborate, ammonium percarbonate, alkali metal percarbonate, Mention may be made of mixtures of alkaline earth metal peroxides, zinc peroxides and any combination of these compounds. A preferred alkali metal peroxide is sodium peroxide.

有機過酸化物の例としては、tert−ブチルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、メンチルヒドロペルオキシド、1−メチルシクロヘキサンヒドロペルオキシドおよびこれらの化合物の任意の組合わせによる混合物を挙げることができる。   Examples of organic peroxides include tert-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, menthyl hydroperoxide, 1-methylcyclohexane hydroperoxide and mixtures of any combination of these compounds.

遷移金属のペルオキソ錯体の例としては、遷移金属である鉄、マンガン、バナジウムまたはモリブデンのペルオキソ錯体およびこれらのペルオキソ錯体の任意の組合わせによる混合物を挙げることができる。このペルオキソ錯体は、2種または3種以上の遷移金属を含んでいてもよい。   Examples of transition metal peroxo complexes include peroxo complexes of the transition metals iron, manganese, vanadium or molybdenum and mixtures of any combination of these peroxo complexes. This peroxo complex may contain two or more transition metals.

無機酸とペルオキソ化合物との混合物の例としては、硫酸とペルオキソ二硫酸カリウムとの混合物を挙げることができ、また、ルイス酸とペルオキソ化合物との混合物の例としては、三フッ化ホウ素と過酸化水素との混合物を挙げることができる。   An example of a mixture of an inorganic acid and a peroxo compound can include a mixture of sulfuric acid and potassium peroxodisulfate, and an example of a mixture of a Lewis acid and a peroxo compound includes boron trifluoride and peroxidation. Mention may be made of mixtures with hydrogen.

有機過酸の例としては、過蟻酸、過酢酸、トリフルオロ過酢酸、過安息香酸、m−クロロ過安息香酸、モノ過フタル酸マグネシウムおよびこれらの任意の組合わせによる混合物を挙げることができる。   Examples of organic peracids include performic acid, peracetic acid, trifluoroperacetic acid, perbenzoic acid, m-chloroperbenzoic acid, magnesium monoperphthalate, and mixtures of any combination thereof.

無機過酸の例としては、過硫酸、過炭酸、過モノ燐酸およびこれらの混合物を挙げることができる。   Examples of inorganic peracids include persulfuric acid, percarbonate, permonophosphoric acid, and mixtures thereof.

なお、上述の酸化剤は、純粋な形態または各種の酸化剤の混合物の形態のいずれの形態で用いてもよいが、純粋な形態で用いるのが好ましい。   The oxidant described above may be used in a pure form or a mixture of various oxidants, but is preferably used in a pure form.

この工程において用いられる酸化剤の必要量、特に、アシル基含有環状ホスホニトリル置換体のアシル基に対する酸化剤の当量は、アシル基含有環状ホスホニトリル置換体と酸化剤との反応性に依存するが、通常は、アシル基含有環状ホスホニトリル置換体のアセチル基に対する酸化剤の当量を1〜10の範囲に設定するのが好ましく、1.05〜1.5の範囲に設定するのがより好ましく、1.1〜1.3の範囲に設定するのが特に好ましい。   The required amount of the oxidizing agent used in this step, particularly the equivalent amount of the oxidizing agent to the acyl group of the acyl group-containing cyclic phosphonitrile substituent, depends on the reactivity of the acyl group-containing cyclic phosphonitrile substituent with the oxidizing agent. In general, the equivalent of the oxidizing agent to the acetyl group of the acyl group-containing cyclic phosphonitrile substituted product is preferably set in the range of 1 to 10, more preferably in the range of 1.05 to 1.5, It is particularly preferable to set it in the range of 1.1 to 1.3.

この工程は、無溶媒で実施してもよいし、溶媒を使用して実施してもよい。溶媒を使用する場合、溶媒の種類は、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されるものではないが、例えば、ハロゲン化炭化水素系化合物(例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタンまたは1,1,2,2−テトラクロロエタン)、パラフィン系化合物(例えば、ヘキサン、ペンタンまたはリグロイン)、エーテル系化合物(例えば、ジエチルエーテル)、酸アミド系化合物(例えば、N,N−ジメチルホルムアミド)、ニトリル系化合物(例えば、アセトニトリル)、二硫化炭素、ニトロ脂肪族化合物(例えば、ニトロメタン)若しくはニトロ芳香族化合物(例えば、ニトロベンゼン)またはこれらの溶媒の混合物を使用することができる。このうち、ハロゲン化炭化水素系化合物を用いるのが好ましい。   This step may be performed without a solvent or may be performed using a solvent. When a solvent is used, the type of the solvent is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction. For example, a halogenated hydrocarbon compound (for example, dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane) is used. Or 1,1,2,2-tetrachloroethane), paraffinic compounds (eg, hexane, pentane or ligroin), ether compounds (eg, diethyl ether), acid amide compounds (eg, N, N-dimethylformamide) Nitrile compounds (eg acetonitrile), carbon disulfide, nitroaliphatic compounds (eg nitromethane) or nitroaromatic compounds (eg nitrobenzene) or mixtures of these solvents can be used. Among these, it is preferable to use a halogenated hydrocarbon-based compound.

次に、工程2において得たアシルオキシ基含有環状ホスホニトリル置換体を脱アシル化し、アシルオキシ基をヒドロキシ基に変換する(工程3)。これにより、目的の式(4)置換基含有環状ホスファゼン化合物が得られる。   Next, the acyloxy group-containing cyclic phosphonitrile substitution product obtained in Step 2 is deacylated to convert the acyloxy group into a hydroxy group (Step 3). Thereby, the objective formula (4) substituent-containing cyclic phosphazene compound is obtained.

この工程での脱アシル化は、無溶媒で実施してもよいし、溶媒を使用して実施してもよい。溶媒を使用する場合、溶媒の種類は、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されるものではないが、通常は工程2において使用可能なものと同様のものを用いることができる。   The deacylation in this step may be performed without a solvent or may be performed using a solvent. When a solvent is used, the type of the solvent is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction, but the same solvents that can be used in Step 2 can be usually used.

この工程での脱アシル化は、酸性またはアルカリ性条件下で実施するか、或いは、酵素を用いて実施するのが好ましい。これらの脱アシル化の方法は公知であり、その条件は公知の方法に基づいて適宜設定することが出来る。例えば、酸性またはアルカリ性条件下で加水分解することで脱アシル化する場合は、有機溶媒(例えば、エタノール、THFまたはジオキサン等)中において、酸(例えば、鉱酸や有機酸等)またはアルカリ(例えば、水酸化ナトリウムや水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物または炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩等)の水溶液を用いて−10〜90℃で行うことができる。一方、酵素を用いて加水分解することで脱アシル化する場合は、有機溶媒(例えば、エタノールやジメチルスルフォキシド等)と水との混合溶液中において、エステル分解酵素(例えば、エステラーゼやリパーゼ等)を用いて0〜50℃で行うことができる。この際、有機溶媒と水との混合溶液に緩衝液を存在させてもよい。   The deacylation in this step is preferably carried out under acidic or alkaline conditions or using an enzyme. These deacylation methods are known, and the conditions can be appropriately set based on the known methods. For example, in the case of deacylation by hydrolysis under acidic or alkaline conditions, an acid (for example, a mineral acid or an organic acid) or an alkali (for example, a mineral acid or an organic acid) or the like in an organic solvent (for example, ethanol, THF or dioxane). , Using an aqueous solution of an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide or an alkali metal carbonate such as potassium carbonate). On the other hand, in the case of deacylation by hydrolysis using an enzyme, an esterolytic enzyme (for example, esterase or lipase) in a mixed solution of an organic solvent (for example, ethanol or dimethyl sulfoxide) and water. ) At 0 to 50 ° C. At this time, a buffer solution may be present in a mixed solution of an organic solvent and water.

工程3は、工程2で得られたアシルオキシ基含有環状ホスホニトリル置換体を反応液から単離し、それに対して適用することで実施することができるが、工程2で得られたアシルオキシ基含有環状ホスホニトリル置換体を含む反応液に対してそのまま適用することで実施することもできる。   Step 3 can be carried out by isolating the acyloxy group-containing cyclic phosphonitrile substitution product obtained in Step 2 from the reaction solution and applying it to the reaction solution, but the acyloxy group-containing cyclic phosphonitrile obtained in Step 2 can be used. It can also carry out by applying as it is with respect to the reaction liquid containing a nitrile substitution product.

なお、工程2で得られたアシルオキシ基含有環状ホスホニトリル置換体を反応液から単離する方法および工程3で得られた式(4)置換基含有環状ホスファゼン化合物を反応液から単離する方法としては、濾過、溶媒抽出、カラムクロマトグラフィーおよび再結晶等の通常の分離方法を採用することができる。また、工程2で得られたアシルオキシ基含有環状ホスホニトリル置換体および工程3で得られた式(4)置換基含有環状ホスファゼン化合物は、同様の方法で精製することができる。   As a method for isolating the acyloxy group-containing cyclic phosphonitrile substituted product obtained in Step 2 from the reaction solution and a method for isolating the formula (4) substituent-containing cyclic phosphazene compound obtained in Step 3 from the reaction solution. In general, conventional separation methods such as filtration, solvent extraction, column chromatography, and recrystallization can be employed. In addition, the acyloxy group-containing cyclic phosphonitrile substituent obtained in step 2 and the formula (4) substituent-containing cyclic phosphazene compound obtained in step 3 can be purified by the same method.

工程2、3における反応条件は、工程2で酸化するアシル基含有環状ホスホニトリル置換体の種類、酸化剤の種類および使用量、反応溶媒の有無および目的とする式(4)置換基含有環状ホスファゼン化合物の物性や用途等に応じて広い範囲から適宜選択することができる。   The reaction conditions in Steps 2 and 3 are as follows: the type of acyl group-containing cyclic phosphonitrile to be oxidized in Step 2, the type and amount of the oxidizing agent, the presence or absence of the reaction solvent, and the desired formula (4) substituent-containing cyclic phosphazene It can be appropriately selected from a wide range according to the physical properties and use of the compound.

因みに、工程2におけるアシル基含有環状ホスホニトリル置換体の酸化および工程3におけるアシルオキシ基含有環状ホスホニトリル置換体の加水分解は、各種の文献、特に、下記の文献22〜24記載の方法を参照して実施することができる。   Incidentally, the oxidation of the acyl group-containing cyclic phosphonitrile substitution product in Step 2 and the hydrolysis of the acyloxy group-containing cyclic phosphonitrile substitution product in Step 3 refer to various literatures, particularly the methods described in the following literatures 22 to 24. Can be implemented.

文献22
HASSALL,C.H.著,IN: ADAMS,R.(ED.),ORGANIC REACTIONS,WEILY社,NEW YORK,1957年刊,VOL.9,73−106.
文献23
KROW,G.R.著,IN: PAQUETTE,L.A.(ED.),ORGANIC REACTIONS,WEILY社,NEW YORK,1993年刊,VOL.43,251−798.
文献24
KYTE,B.G.,ROUVIERE,P.,CHENG,Q.,STEWART,J.D.,J.ORG.CHEM.,2004年刊,VOL.69(1),12−17.
Reference 22
HASSALL, C.I. H. Author, IN: ADAMS, R.D. (ED.), ORGANIC REACTIONS, WELY, NEW YORK, 1957, VOL. 9, 73-106.
Reference 23
KROW, G.K. R. Written by IN: PAQUETTE, L. A. (ED.), ORGANIC REACTIONS, WELY, NEW YORK, 1993, VOL. 43, 251-798.
Reference 24
KYTE, B.M. G. , ROUVIERE, P.M. , CHENG, Q. , STEWART, J.M. D. , J .; ORG. CHEM. , 2004, VOL. 69 (1), 12-17.

式(4)置換基含有環状ホスファゼン化合物は、上述の製造方法により製造することができるが、他の方法で製造することもできる。例えば、保護基を脱離させることでヒドロキシ基となる部位を有する所定構造の置換環状ホスファゼン化合物から、その保護基を脱離することで製造することもできる。より具体的には、式(4)置換基含有環状ホスファゼン化合物のヒドロキシ基が保護基により保護された化合物に相当するものを合成し、この化合物から保護基を脱離させることで目的の式(4)置換基含有環状ホスファゼン化合物を製造することもできる。   The formula (4) substituent-containing cyclic phosphazene compound can be produced by the production method described above, but can also be produced by other methods. For example, it can also be produced by removing a protecting group from a substituted cyclic phosphazene compound having a predetermined structure having a site that becomes a hydroxy group by removing the protecting group. More specifically, a compound corresponding to a compound in which the hydroxy group of the formula (4) substituent-containing cyclic phosphazene compound is protected by a protecting group is synthesized, and the protecting group is removed from this compound to remove the target formula 4) A substituent-containing cyclic phosphazene compound can also be produced.

ここで、ヒドロキシ基の保護基としては、例えば、メチル基、メトキシメチル基、メチルチオメチル基、2−メトキシエトキシメチル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロチオピラニル基、4−メトキシテトラヒドロピラニル基、4−メトキシテトラヒドロチオピラニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロチオフラニル基、1−エトキシエチル基、tert−ブチル基、アリル基、ベンジル基、o−ニトロベンジル基、トリフェニルメチル基、トリメチルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基、tert−ブチルジフェニルシリル基、トリベンジルシリル基およびトリイソプロピルシリル基等を挙げることができる。これらの保護基のうち、メチル基、メトキシメチル基、テトラヒドロピラニル基、4−メトキシテトラヒドロピラニル基、tert−ブチル基、アリル基、ベンジル基およびtert−ブチルジメチルシリル基が好ましく、メチル基、メトキシメチル基、tert−ブチル基、アリル基およびベンジル基が特に好ましい。   Here, examples of the protective group for the hydroxy group include a methyl group, a methoxymethyl group, a methylthiomethyl group, a 2-methoxyethoxymethyl group, a tetrahydropyranyl group, a tetrahydrothiopyranyl group, a 4-methoxytetrahydropyranyl group, 4-methoxytetrahydrothiopyranyl group, tetrahydrofuranyl group, tetrahydrofuranyl group, 1-ethoxyethyl group, tert-butyl group, allyl group, benzyl group, o-nitrobenzyl group, triphenylmethyl group, trimethylsilyl group, Examples thereof include a tert-butyldimethylsilyl group, a tert-butyldiphenylsilyl group, a tribenzylsilyl group, and a triisopropylsilyl group. Of these protecting groups, methyl group, methoxymethyl group, tetrahydropyranyl group, 4-methoxytetrahydropyranyl group, tert-butyl group, allyl group, benzyl group and tert-butyldimethylsilyl group are preferred, methyl group, A methoxymethyl group, a tert-butyl group, an allyl group and a benzyl group are particularly preferred.

これらの保護基を脱離させるための方法は、多数の公知文献に記載されており、保護基の種類および保護基の安定性等に応じて各種の脱保護反応から選択することができる。例えば、保護基がメチル基の場合、環状ホスホニトリル置換体を三フッ化ホウ素、ヨウ化トリメチルシラン若しくはピリジン塩酸塩と反応させるのが好ましい。また、保護基がtert−ブチル基の場合、環状ホスホニトリル置換体をトリフルオロ酢酸、臭化水素若しくはヨウ化トリメチルシランと反応させるのが好ましい。さらに、保護基がベンジル基の場合、環状ホスホニトリル置換体を水素/Pd−C、金属ナトリウム/アンモニア、ヨウ化トリメチルシラン、水素化リチウムアルミニウム、三臭化ホウ素若しくは三フッ化ホウ素と反応させるのが好ましい。   Methods for removing these protecting groups are described in many known literatures, and can be selected from various deprotecting reactions depending on the type of protecting group, the stability of the protecting group, and the like. For example, when the protecting group is a methyl group, the cyclic phosphonitrile substituent is preferably reacted with boron trifluoride, trimethylsilane iodide or pyridine hydrochloride. When the protecting group is a tert-butyl group, the cyclic phosphonitrile substituent is preferably reacted with trifluoroacetic acid, hydrogen bromide or trimethylsilane iodide. Furthermore, when the protecting group is a benzyl group, the cyclic phosphonitrile substituent is reacted with hydrogen / Pd-C, metallic sodium / ammonia, trimethylsilane iodide, lithium aluminum hydride, boron tribromide or boron trifluoride. Is preferred.

このような保護基の脱離により得られる、目的とする式(4)置換基含有環状ホスファゼン化合物は、濾過、溶媒抽出、カラムクロマトグラフィーおよび再結晶等の通常の分離精製方法により、反応系から単離精製することができる。   The desired cyclic phosphazene compound having the formula (4) substituent group obtained by such elimination of the protecting group is removed from the reaction system by a usual separation and purification method such as filtration, solvent extraction, column chromatography and recrystallization. It can be isolated and purified.

ヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物において、水酸基当量(1当量の水酸基を含む環状ホスファゼン化合物の質量g)は、100〜5,000g/eq.が好ましく、130〜1,000g/eq.がより好ましい。水酸基当量が100g/eq.未満の場合は、高温信頼性(耐水性)の良好な樹脂成形体が得られにくくなる可能性がある。逆に、5,000g/eq.を超える場合は、耐熱性(ガラス転移温度)の良好な樹脂成形体が得られにくくなる可能性がある。   In the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound, the hydroxyl group equivalent (mass g of the cyclic phosphazene compound containing 1 equivalent of hydroxyl group) is 100 to 5,000 g / eq. Is preferred, 130-1,000 g / eq. Is more preferable. Hydroxyl equivalent weight is 100 g / eq. If it is less than the range, it may be difficult to obtain a resin molded article having high temperature reliability (water resistance). Conversely, 5,000 g / eq. If it exceeds 1, it may be difficult to obtain a resin molded article having good heat resistance (glass transition temperature).

上述の多官能性グリシジル化合物とヒドロキシ基を有する環状ホスファゼン化合物との反応において、ヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物の使用量は、通常、そのヒドロキシ基が、多官能性グリシジル化合物中のエポキシ基に対し、10〜60当量%になるよう設定するのが好ましく、15〜50当量%になるよう設定するのがより好ましい。10当量%未満の場合は、難燃性の良好な樹脂成形体が得られにくくなる可能性がある。逆に、60当量%を超える場合、エポキシ化合物組成物は、エポキシ当量が大きくなって溶融粘度が高くなるため、流動性が低下し、取扱いが困難になる可能性がある。   In the reaction of the polyfunctional glycidyl compound and the cyclic phosphazene compound having a hydroxy group, the amount of the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound used is usually such that the hydroxy group is an epoxy group in the polyfunctional glycidyl compound. It is preferably set to be 10 to 60 equivalent%, and more preferably set to be 15 to 50 equivalent%. If it is less than 10 equivalent%, it may be difficult to obtain a resin molded article having good flame retardancy. On the other hand, when the amount exceeds 60 equivalent%, the epoxy compound composition has a large epoxy equivalent and a high melt viscosity, so that the fluidity is lowered and the handling may be difficult.

因みに、本発明のエポキシ化合物組成物におけるエポキシ当量は、多官能性グリシジル化合物とヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物との使用量を上記範囲において調整することで、既述の好ましい範囲に設定することができる。   Incidentally, the epoxy equivalent in the epoxy compound composition of the present invention can be set to the above-mentioned preferable range by adjusting the amount of the polyfunctional glycidyl compound and the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound in the above range. .

多官能性グリシジル化合物とヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物との反応は、これら自体では反応が遅いために高温で反応させる必要があり、その結果、反応を制御するのが困難になることから、触媒を用いるのが好ましい。触媒を用いることで、多官能性グリシジル化合物のエポキシ基とヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物のヒドロキシ基とを比較的低温で速やかに反応させることができるようになるため、反応を制御しやすくなり、目的のエポキシ化合物組成物を容易に製造することができる。   Since the reaction between the polyfunctional glycidyl compound and the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound is slow in itself, it is necessary to react at a high temperature, and as a result, it becomes difficult to control the reaction. It is preferable to use it. By using a catalyst, the epoxy group of the polyfunctional glycidyl compound and the hydroxy group of the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound can be reacted quickly at a relatively low temperature, making it easier to control the reaction. The epoxy compound composition can be easily produced.

ここで用いられる触媒は、例えば、第四級アンモニウム塩類、第四級ホスホニウム塩類およびこれらの混合物である。第四級アンモニウム塩類としては、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムクロライド、トリオクチルメチルアンモニウムクロライドおよびベンジルトリエチルアンモニウムクロライド等を例示することができる。これらは二種以上のものが併用されてもよい。また、第四級ホスホニウム塩類としては、テトラフェニルホスホニウムクロライド、テトラブチルホスホニウムクロライドおよびトリオクチルエチルホスホニウムブロマイド等を例示することができる。これらは二種以上のものが併用されてもよい。また、触媒は、第四級アンモニウム塩類と第四級ホスホニウム塩類四級ホスホニウム塩とを併用したものであってもよい。   The catalysts used here are, for example, quaternary ammonium salts, quaternary phosphonium salts and mixtures thereof. Examples of quaternary ammonium salts include tetramethylammonium chloride, tetraethylammonium bromide, tetrabutylammonium bromide, tetrabutylammonium chloride, trioctylmethylammonium chloride, and benzyltriethylammonium chloride. Two or more of these may be used in combination. Examples of quaternary phosphonium salts include tetraphenylphosphonium chloride, tetrabutylphosphonium chloride, and trioctylethylphosphonium bromide. Two or more of these may be used in combination. The catalyst may be a combination of a quaternary ammonium salt and a quaternary phosphonium salt.

触媒は、通常、多官能性グリシジル化合物の0.01〜10重量%の範囲で使用するのが好ましく、0.1〜5重量%の範囲で使用するのがより好ましい。   In general, the catalyst is preferably used in the range of 0.01 to 10% by weight of the polyfunctional glycidyl compound, and more preferably in the range of 0.1 to 5% by weight.

多官能性グリシジル化合物とヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物との反応においては、ヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物とは別の他のヒドロキシ基を有する化合物を併用することもできる。このようなヒドロキシ基を有する他の化合物を用いることで、後述する樹脂成形体の耐熱性(ガラス転移温度)および難燃性を調整することができる。   In the reaction of the polyfunctional glycidyl compound and the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound, a compound having another hydroxy group other than the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound can be used in combination. By using such other compounds having a hydroxy group, the heat resistance (glass transition temperature) and flame retardancy of the resin molded body described later can be adjusted.

ヒドロキシ基を有する他の化合物としては、例えば、ビスフェノール−A、ビスフェノール−F、ビスフェノール−AD、ビスフェノール−S、テトラメチルビスフェノール−A、テトラメチルビスフェノール−F、テトラメチルビスフェノール−AD、テトラメチルビスフェノール−S、ビフェノールおよびジヒドロキシナフタレン等の2価フェノール類、1,1,1−トリス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,1−(4−ヒドロキシフェニル)エタンおよび4,4−[1−〔4−〔1−(4−ヒドロキシフェニル)−1−メチルエチル〕フェニル〕エチリデン]ビスフェノール等のトリス(ヒドロキシフェニル)アルカン類が挙げられる。ヒドロキシ基を有するこれらの化合物は、二種以上のものを併用することもできる。   Examples of other compounds having a hydroxy group include bisphenol-A, bisphenol-F, bisphenol-AD, bisphenol-S, tetramethylbisphenol-A, tetramethylbisphenol-F, tetramethylbisphenol-AD, tetramethylbisphenol- S, dihydric phenols such as biphenol and dihydroxynaphthalene, 1,1,1-tris (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1,1- (4-hydroxyphenyl) ethane and 4,4- [1- [ And tris (hydroxyphenyl) alkanes such as 4- [1- (4-hydroxyphenyl) -1-methylethyl] phenyl] ethylidene] bisphenol. Two or more of these compounds having a hydroxy group can be used in combination.

ヒドロキシ基を有する他の化合物を使用する場合、その使用量は、ヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物に対して300当量%以下に設定するのが好ましく、100当量%以下に設定するのがより好ましい。この使用量が300当量%を超える場合は、難燃性の良好な樹脂成形体が得られにくくなる可能性がある。   When using the other compound which has a hydroxyl group, it is preferable to set the usage-amount to 300 equivalent% or less with respect to a hydroxy group containing cyclic phosphazene compound, and it is more preferable to set to 100 equivalent% or less. When this amount used exceeds 300 equivalent%, it may be difficult to obtain a resin molded article having good flame retardancy.

多官能性グリシジル化合物とヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物との反応は、無溶剤で行うこともできるし、適当な溶剤の存在下で行うこともできる。反応時に触媒を用いる場合は、前者においても、当該触媒を適用な溶剤で希釈して用いることができる。ここで用いる溶剤は、トルエン、キシレン、メチルセロソルブアセテート、テトラヒドロフラン(THF)、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシドおよびN,N−ジメチルアセトアミド等の活性水素を含まない溶剤が好ましい。   The reaction of the polyfunctional glycidyl compound and the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound can be carried out without a solvent or in the presence of a suitable solvent. When a catalyst is used during the reaction, the catalyst can be diluted with an appropriate solvent and used in the former case. Solvents used here are toluene, xylene, methyl cellosolve acetate, tetrahydrofuran (THF), methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, N, N-dimethylformamide, N, N-diethylformamide, N-methyl-2-pyrrolidone, dimethyl sulfoxide and A solvent containing no active hydrogen such as N, N-dimethylacetamide is preferred.

また、反応温度は、通常、80〜220℃に設定するのが好ましく、100〜200℃に設定するのがより好ましい。反応温度がこの温度範囲外のときは、触媒の活性が高まりにくくなるため、反応が遅くなったり、反応の制御が困難になったりする可能性がある。   Moreover, it is preferable to set reaction temperature to 80-220 degreeC normally, and it is more preferable to set to 100-200 degreeC. When the reaction temperature is outside this temperature range, the activity of the catalyst is difficult to increase, so that there is a possibility that the reaction becomes slow or the control of the reaction becomes difficult.

多官能性グリシジル化合物とヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物との反応では、多官能性グリシジル化合物を加熱して乾燥空気や窒素を吹き込み、多官能性グリシジル化合物中の水分を極力除去した後、ヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物および触媒を投入するのが好ましい。ヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物および触媒の投入は、同時に一括して行ってもよいが、反応の進行を効果的に制御するために、それぞれ別々に若しくは同時に、数回に分けて(すなわち断続的に)または連続的に徐々に投入するのが好ましい。連続的に投入する場合、その投入時間は、1〜10時間に設定するのが好ましく、2〜5時間に設定するのがより好ましい。   In the reaction of the polyfunctional glycidyl compound and the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound, the polyfunctional glycidyl compound is heated and blown with dry air or nitrogen to remove moisture in the polyfunctional glycidyl compound as much as possible, and then contain the hydroxy group A cyclic phosphazene compound and a catalyst are preferably added. The introduction of the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound and the catalyst may be carried out all at once, but in order to effectively control the progress of the reaction, each separately or simultaneously, divided into several times (ie, intermittently). ) Or continuously gradually. When continuously charging, the charging time is preferably set to 1 to 10 hours, more preferably 2 to 5 hours.

上述の反応は、多官能性グリシジル化合物中のエポキシ基の10〜60当量%、好ましくは15〜50当量%がヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物と反応するよう制御するのが好ましい。エポキシ基の10当量%未満しか反応しない場合は、得られるエポキシ化合物組成物から高い耐熱性と難燃性とを兼ね備えた樹脂成形体を得るのが困難になる可能性がある。逆に、60当量%を超えると、得られるエポキシ化合物組成物を用いて満足な高温信頼性を有する樹脂成形体を形成するのが困難になる可能性がある。多官能性グリシジル化合物中のエポキシ基のうち、ヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物のヒドロキシ基との反応に関与するものの割合は、通常、赤外分光法や核磁気共鳴分光法等の機器分析で定量する方法などにより確認することができる。   The above-described reaction is preferably controlled so that 10 to 60 equivalent%, preferably 15 to 50 equivalent%, of the epoxy group in the polyfunctional glycidyl compound reacts with the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound. When less than 10 equivalent% of the epoxy group reacts, it may be difficult to obtain a resin molded article having both high heat resistance and flame retardancy from the resulting epoxy compound composition. On the other hand, if it exceeds 60 equivalent%, it may be difficult to form a resin molded product having satisfactory high temperature reliability using the resulting epoxy compound composition. The proportion of the epoxy group in the polyfunctional glycidyl compound that is involved in the reaction with the hydroxy group of the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound is usually determined by instrumental analysis such as infrared spectroscopy or nuclear magnetic resonance spectroscopy. It can be confirmed by a method or the like.

エポキシ化合物組成物の利用法
本発明のエポキシ化合物組成物は、樹脂成形体を製造するための材料として用いることができる。ここで、本発明のエポキシ化合物組成物は、それを単独で所望の形状に硬化させることで樹脂成形体を形成することができるが、樹脂成形体に所望の特性を付与するために、他の樹脂成分と混合して硬化させることで樹脂成形体を形成することもできる。以下、本発明のエポキシ化合物組成物および当該組成物と他のエポキシ樹脂とを混合した組成物を纏めて「樹脂成形体用組成物」という場合がある。
Use of Epoxy Compound Composition The epoxy compound composition of the present invention can be used as a material for producing a resin molded product. Here, the epoxy compound composition of the present invention can form a resin molded body by curing it alone in a desired shape, but in order to impart desired properties to the resin molded body, A resin molded body can also be formed by mixing with a resin component and curing. Hereinafter, the epoxy compound composition of the present invention and a composition obtained by mixing the composition and another epoxy resin may be collectively referred to as a “resin molded body composition”.

エポキシ化合物組成物と混合可能な樹脂成分は、各種の熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂である。これらの樹脂成分は、天然のものであってもよいし、合成のものであってもよい。使用可能な熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンエーテルの一部または全部にカルボキシル基、エポキシ基、アミノ基、水酸基、無水ジカルボキシル基などの反応性官能基をグラフト反応や共重合などの方法により導入した変性ポリフェニレンエーテル、脂肪族系ポリアミドおよび芳香族系ポリアミドなどを挙げることができる。また、熱硬化性樹脂としては、例えば、ポリウレタン、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、マレイミド樹脂、シアン酸エステル樹脂、マレイミド−シアン酸エステル樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、ポリベンズイミダゾール、ポリイミド系樹脂、ポリカルボジイミド樹脂およびエポキシ樹脂等を挙げることができる。これらの各種樹脂成分は、必要に応じて二種以上のものを併用することもできる。   Resin components that can be mixed with the epoxy compound composition are various thermoplastic resins and thermosetting resins. These resin components may be natural or synthetic. Usable thermoplastic resins include, for example, graft reaction or copolymerization of polyphenylene ether, reactive functional groups such as carboxyl group, epoxy group, amino group, hydroxyl group, and anhydrous dicarboxyl group on part or all of polyphenylene ether. Examples thereof include modified polyphenylene ether, aliphatic polyamide and aromatic polyamide introduced by the above method. Examples of the thermosetting resin include polyurethane, phenol resin, epoxy resin, maleimide resin, cyanate ester resin, maleimide-cyanate ester resin, benzoxazine resin, polybenzimidazole, polyimide resin, polycarbodiimide resin, and the like. An epoxy resin etc. can be mentioned. These various resin components can also use 2 or more types together as needed.

本発明のエポキシ化合物組成物を他の樹脂成分と混合して調製した樹脂成形体用組成物において、本発明のエポキシ化合物組成物の使用量は、混合する樹脂成分の種類やその用途(樹脂成形体の用途)等の各種条件に応じて適宜設定することができるが、通常、固形分換算での他の樹脂成分100重量部に対して0.1〜200重量部に設定するのが好ましく、0.5〜100重量部に設定するのがより好ましく、1〜50重量部に設定するのがさらに好ましい。本発明のエポキシ化合物組成物の使用量が0.1重量部未満の場合は、樹脂成形体用組成物を用いて形成した樹脂成形体が十分な難燃性を示さない可能性がある。逆に、200重量部を超えると、得られる樹脂成形体において、混合した樹脂成分により期待することができる特性が得られにくくなる可能性がある。   In the composition for a resin molded body prepared by mixing the epoxy compound composition of the present invention with other resin components, the amount of the epoxy compound composition of the present invention depends on the type of resin component to be mixed and its use (resin molding). It can be suitably set according to various conditions such as body use), but it is usually preferable to set it to 0.1 to 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the other resin component in terms of solid content, The amount is more preferably set to 0.5 to 100 parts by weight, and further preferably set to 1 to 50 parts by weight. When the usage-amount of the epoxy compound composition of this invention is less than 0.1 weight part, the resin molded object formed using the composition for resin molded objects may not show sufficient flame retardance. On the other hand, when the amount exceeds 200 parts by weight, it may be difficult to obtain characteristics that can be expected from the mixed resin component in the obtained resin molded body.

樹脂成形体用組成物を硬化させるためには、硬化剤や硬化促進剤を用いることができる。ここで使用可能な硬化剤は、樹脂成形体用組成物の硬化形態に応じて選択することができる。   In order to cure the resin molded body composition, a curing agent or a curing accelerator can be used. The hardening | curing agent which can be used here can be selected according to the hardening form of the composition for resin moldings.

例えば、エポキシ基を用いた硬化形態の場合、硬化剤としては、エチレンジアミン、トリエチレンペンタミン、テトラエチレンペンタミン、ジエチルアミノプロピルアミン、ヘキサメチレンジアミン、ダイマー酸変性エチレンジアミン、N−エチルアミノピペラジン等の脂肪族アミン類、メタフェニレンジアミン、パラフェニレンジアミン、2−(ジメチルアミノメチル)フェノール、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェノルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェノルエーテル等の芳香族アミン類、メルカプトプロピオン酸エステルやエポキシ樹脂の末端メルカプト化合物等のメルカプタン類、ビスフェノール−A、ビスフェノール−F、ビスフェノール−AD、ビスフェノール−S、テトラメチルビスフェノール−A、テトラメチルビスフェノール−F、テトラメチルビスフェノール−AD、テトラメチルビスフェノール−S、テトラブロモビスフェノール−A、テトラクロロビスフェノール−A、テトラフルオロビスフェノール−Aおよび4,4−(1−(4−(1−(4−ヒドロキシフェニル)−1−メチルエチル)フェニル)エチリデン)ビスフェノールなどのビスフェノール類、フェノールノボラック、クレゾールノボラック、ビスフェノール−Aノボラック、臭素化フェノールノボラックおよび臭素化ビスフェノール−Aノボラック等のフェノール樹脂類、ビフェノール、ジヒドロキシナフタレン、1,1,1−トリス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、水酸基を有するホスファゼン化合物類、ポリアゼライン酸無水物、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水メチルハイミック酸、無水フタル酸、無水トリメリット酸および無水ピロメリット酸等の酸無水物類、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾールおよび2−フェニルイミダゾール等のイミダゾール類、アジピン酸ジヒドラジド等のヒドラジン類、ジメチルベンジルアミンおよび1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7(DBU)等の第三級アミン類、三フッ化ホウ素等のルイス酸およびそれらの塩類、トリフェニルホスフィン化合物並びにジシアンジアミド等が挙げられる。これらは、二種以上のものが併用されてもよい。   For example, in the case of a cured form using an epoxy group, the curing agent includes fats such as ethylenediamine, triethylenepentamine, tetraethylenepentamine, diethylaminopropylamine, hexamethylenediamine, dimer acid-modified ethylenediamine, and N-ethylaminopiperazine. Group amines, metaphenylenediamine, paraphenylenediamine, 2- (dimethylaminomethyl) phenol, 3,3′-diaminodiphenylsulfone, 4,4′-diaminodiphenylsulfone, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4 Aromatic amines such as 4,4'-diaminodiphenol ether, mercaptans such as mercaptopropionic acid esters and terminal mercapto compounds of epoxy resins, bisphenol-A, bisphenol-F, bisphenol-AD, bis Enol-S, tetramethylbisphenol-A, tetramethylbisphenol-F, tetramethylbisphenol-AD, tetramethylbisphenol-S, tetrabromobisphenol-A, tetrachlorobisphenol-A, tetrafluorobisphenol-A and 4,4- Bisphenols such as (1- (4- (1- (4-hydroxyphenyl) -1-methylethyl) phenyl) ethylidene) bisphenol, phenol novolac, cresol novolac, bisphenol-A novolac, brominated phenol novolac and brominated bisphenol -A phenolic resins such as novolak, biphenol, dihydroxynaphthalene, 1,1,1-tris (4-hydroxyphenyl) methane, phosphazene compounds having a hydroxyl group Acid anhydrides such as polyazeline acid anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methyl hymic anhydride, phthalic anhydride, trimellitic anhydride and pyromellitic anhydride, 2- Imidazoles such as methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole and 2-phenylimidazole, hydrazines such as adipic acid dihydrazide, dimethylbenzylamine and 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 (DBU) ), Etc., Lewis acids such as boron trifluoride and their salts, triphenylphosphine compounds and dicyandiamide. Two or more of these may be used in combination.

エポキシ基の変性により組み込まれた架橋性基や、変性により生成した第二級ヒドロキシ基を用いた硬化形態の場合は、硬化剤として、メラミン樹脂、ポリイソシアネート化合物およびブロックイソシアネート化合物等が用いられる。メラミン樹脂としては、例えば、ヘキサメトキシメチロールメラミン、メチル・ブチル化メラミン、ブチル化メラミン等が挙げられる。ポリイソシアネート化合物としては、例えば、テトラメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、2,2,4(または2,4,4)−トリメチル−1,6−ジイソシアナトヘキサン、リジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、1,3−ビス(イソシアナトメチル)−シクロヘキサン、4,4’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、テトラメチルキシレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネートおよびノルボルナンジイソシアネート等のジイソシアネート並びにこれらのジイソシアネートより誘導されるポリイソシアネートが挙げられる。   In the case of a cured form using a crosslinkable group incorporated by modification of an epoxy group or a secondary hydroxy group generated by modification, a melamine resin, a polyisocyanate compound, a blocked isocyanate compound, or the like is used as a curing agent. Examples of the melamine resin include hexamethoxymethylol melamine, methyl butylated melamine, butylated melamine and the like. Examples of the polyisocyanate compound include tetramethylene diisocyanate, pentamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate (HDI), 2,2,4 (or 2,4,4) -trimethyl-1,6-diisocyanatohexane, lysine diisocyanate. , Isophorone diisocyanate, 1,3-bis (isocyanatomethyl) -cyclohexane, 4,4′-dicyclohexylmethane diisocyanate, tetramethylxylene diisocyanate, tolylene diisocyanate, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, Diisocyanates such as tolidine diisocyanate, xylylene diisocyanate and norbornane diisocyanate and their derivatives Polyisocyanates to be.

ジイソシアネートより誘導されるポリイソシアネートとしては、イソシアヌレート型ポリイソシアネート、ビュレット型ポリイソシアネート、ウレタン型ポリイソシアネートおよびアロファネート型ポリイソシアネート等が挙げられる。これらのポリイソシアネート化合物は二種以上のものが併用されてもよい。ブロックイソシアネート化合物としては、例えば、上述のジイソシアネートやポリイソシアネート化合物をブロック剤でブロックした化合物が用いられる。このブロックイソシアネート化合物を調製するためのブロック剤としては、例えば、アルコール類、フェノール類、オキシム類、ラクタム類および活性メチレン類等が挙げられる。これらのブロック剤は、二種以上のものが併用されても良い。   Examples of the polyisocyanate derived from diisocyanate include isocyanurate type polyisocyanate, burette type polyisocyanate, urethane type polyisocyanate, and allophanate type polyisocyanate. Two or more of these polyisocyanate compounds may be used in combination. As the blocked isocyanate compound, for example, a compound obtained by blocking the above-described diisocyanate or polyisocyanate compound with a blocking agent is used. Examples of the blocking agent for preparing the blocked isocyanate compound include alcohols, phenols, oximes, lactams, and active methylenes. Two or more of these blocking agents may be used in combination.

さらに、エポキシ基とシアナト基との反応を用いた硬化形態の場合は、硬化剤として、シアン酸エステル化合物を用いることができる。シアン酸エステル化合物としては、例えば、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−シアナトフェニル)ブタン、ノボラック樹脂およびハロゲン化シアンの反応により得られるもの並びにシアナト基を有するホスファゼン化合物を挙げることができる。シアン酸エステル化合物は、二種以上のものが併用されても良い。   Furthermore, in the case of a cured form using a reaction between an epoxy group and a cyanate group, a cyanate ester compound can be used as a curing agent. Examples of cyanate ester compounds include those obtained by the reaction of 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane, 1,1-bis (4-cyanatophenyl) butane, novolac resin and cyanogen halide, and Mention may be made of phosphazene compounds having a cyanato group. Two or more cyanate ester compounds may be used in combination.

硬化剤の使用量は、特に限定されるものではないが、通常、樹脂成形体用組成物に対し、0.1〜90重量%に設定するのが好ましく、0.1〜50重量%に設定するのがより好ましい。   Although the usage-amount of a hardening | curing agent is not specifically limited, Usually, it is preferable to set to 0.1 to 90 weight% with respect to the composition for resin moldings, and set to 0.1 to 50 weight% More preferably.

また、硬化剤としては、エポキシ化合物を用いることもできる。この場合に使用可能なエポキシ樹脂は、1分子中に2個以上のエポキシ基を有する化合物であれば特に限定されるものではなく、例えば、グリシジルエーテル類、グリシジルエステル類、グリシジルアミン類、脂肪族エポキシド類および脂環式エポキシド類およびトリグリシジルイソシアヌレートを挙げることができる。   Moreover, an epoxy compound can also be used as a hardening | curing agent. The epoxy resin usable in this case is not particularly limited as long as it is a compound having two or more epoxy groups in one molecule. For example, glycidyl ethers, glycidyl esters, glycidyl amines, aliphatic Mention may be made of epoxides and cycloaliphatic epoxides and triglycidyl isocyanurate.

グリシジルエーテル類としては、例えば、フェノールのグリシジルエーテル類、ノボラックのポリグリシジルエーテル類およびアルキルグリシジルエーテル類等が挙げられる。フェノールのグリシジルエーテル類の具体例としては、例えば、ビスフェノール−A、ビスフェノール−F、ビスフェノール−AD、ビスフェノール−S、テトラメチルビスフェノール−A、テトラメチルビスフェノール−F、テトラメチルビスフェノール−AD、テトラメチルビスフェノール−S、ビフェノールおよびジヒドロキシナフタレン等の2価フェノール類をグリシジル化した化合物を挙げることができるが、1,1,1−トリス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,1−(4−ヒドロキシフェニル)エタンおよび4,4−[1−〔4−〔1−(4−ヒドロキシフェニル)−1−メチルエチル〕フェニル〕エチリデン]ビスフェノール等のトリス(グリシジルオキシフェニル)アルカン類やアミノフェノール等をグリシジル化した化合物も挙げることができる。ノボラックのポリグリシジルエーテル類としては、例えば、フェノールノボラック、オルソクレゾールノボラック、ビフェニルノボラック、ビスフェノール−Aノボラックおよびナフトールノボラック等のノボラックをグリシジル化した化合物が挙げられる。アルキルグリシジルエーテル類としては、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、グリセリンポリグリシジルエーテルおよびネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル等を挙げることができる。   Examples of glycidyl ethers include phenol glycidyl ethers, novolac polyglycidyl ethers, and alkyl glycidyl ethers. Specific examples of phenol glycidyl ethers include, for example, bisphenol-A, bisphenol-F, bisphenol-AD, bisphenol-S, tetramethylbisphenol-A, tetramethylbisphenol-F, tetramethylbisphenol-AD, tetramethylbisphenol. Examples include compounds obtained by glycidylation of dihydric phenols such as -S, biphenol and dihydroxynaphthalene, but 1,1,1-tris (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1,1- (4-hydroxy Phenyl) ethane and tris (glycidyloxyphenyl) alkanes such as 4,4- [1- [4- [1- (4-hydroxyphenyl) -1-methylethyl] phenyl] ethylidene] bisphenol and aminophenols are glycidyl. Turned into Things can also be mentioned. Examples of the polyglycidyl ethers of novolak include compounds obtained by glycidylating novolak such as phenol novolak, orthocresol novolak, biphenyl novolak, bisphenol-A novolak, and naphthol novolak. Examples of alkyl glycidyl ethers include ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, trimethylolpropane polyglycidyl ether, glycerin polyglycidyl ether, and neopentyl glycol diglycidyl ether.

グリシジルエステル類としては、例えば、ヘキサヒドロフタル酸のジグリシジルエステルやダイマー酸のジグリシジルエステル等が挙げられる。グリシジルアミン類としては、例えば、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジル−パラ−アミノフェノールおよびトリグリシジル−メタ−アミノフェノール等が挙げられる。脂肪族エポキシド類としては、例えば、エポキシ化ポリブタジエンおよびエポキシ化大豆油等が挙げられる。脂環式エポキシド類としては、例えば、3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルカルボキシレートおよび3,4−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート等が挙げられる。   Examples of glycidyl esters include diglycidyl ester of hexahydrophthalic acid and diglycidyl ester of dimer acid. Examples of glycidylamines include tetraglycidyldiaminodiphenylmethane, triglycidyl-para-aminophenol, and triglycidyl-meta-aminophenol. Examples of the aliphatic epoxides include epoxidized polybutadiene and epoxidized soybean oil. Examples of the alicyclic epoxides include 3,4-epoxy-6-methylcyclohexyl carboxylate and 3,4-epoxycyclohexyl carboxylate.

これらのエポキシ化合物は、二種以上のものを併用することもできる。   Two or more of these epoxy compounds can be used in combination.

硬化促進剤としては、例えば、イミダゾール化合物、有機リン化合物(ホスフィン類)、第三級アミン類、第四級アンモニウム塩、アミノトリアゾール類および錫系や亜鉛系等の金属触媒類などが使用される。また、第二級アミノ基をアクリロニトリル、イソシアネート、メラミンまたはアクリレートなどでマスク化して潜在性を持たしたイミダゾール化合物を用いることもできる。ここで用いられるイミダゾール化合物は、例えば、イミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、4,5−ジフェニルイミダゾール、2−メチルイミダゾリン、2−エチル−4−メチルイミダゾリン、2−ウンデシルイミダゾリンおよび2−フェニル−4−メチルイミダゾリンなどである。硬化促進剤は、二種以上のものが併用されてもよい。   As the curing accelerator, for example, an imidazole compound, an organic phosphorus compound (phosphine), a tertiary amine, a quaternary ammonium salt, an aminotriazole, and a metal catalyst such as tin or zinc are used. . Further, it is also possible to use an imidazole compound having a potential by masking a secondary amino group with acrylonitrile, isocyanate, melamine or acrylate. Examples of the imidazole compound used here include imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, and 2-heptadecyl. Examples include imidazole, 4,5-diphenylimidazole, 2-methylimidazoline, 2-ethyl-4-methylimidazoline, 2-undecylimidazoline, and 2-phenyl-4-methylimidazoline. Two or more kinds of curing accelerators may be used in combination.

硬化促進剤の使用量は、特に限定されるものではないが、通常、樹脂成形体用組成物の100重量部に対し、0.01〜5重量部に設定するのが好ましい。この使用量が0.01重量部未満の場合は硬化促進剤を用いることによる効果が得られにくく、逆に、5重量部を超える場合は硬化促進剤を添加した樹脂成形体用組成物の保存性が悪化する可能性がある。   Although the usage-amount of a hardening accelerator is not specifically limited, Usually, it is preferable to set to 0.01-5 weight part with respect to 100 weight part of the composition for resin moldings. When the amount used is less than 0.01 parts by weight, it is difficult to obtain the effect of using a curing accelerator, and conversely, when it exceeds 5 parts by weight, the composition for a resin molded body to which a curing accelerator is added is stored. Sexuality may deteriorate.

樹脂成形体用組成物は、必要に応じて公知の反応性希釈剤が配合されていてもよい。利用可能な反応性希釈剤は、特に限定されるものではないが、例えば、ブチルグリシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエーテルおよびアリルグリシジルエーテル等の脂肪族アルキルグリシジルエーテル、グリシジルメタクリレートおよび第三級カルボン酸グリシジルエステル等のアルキルグリシジルエステル、スチレンオキサイド並びにフェニルグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテル、パラ−s−ブチルフェニルグリシジルエーテルおよびノニルフェニルグリシジルエーテル等の芳香族アルキルグリシジルエーテル等を挙げることができる。これらの反応性希釈剤は、二種以上のものが併用されてもよい。   The composition for resin moldings may be blended with a known reactive diluent as required. The reactive diluent that can be used is not particularly limited, but examples thereof include aliphatic alkyl glycidyl ethers such as butyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, and allyl glycidyl ether, glycidyl methacrylate, and glycidyl tertiary carboxylate. Examples include alkyl glycidyl esters such as esters, styrene oxide, and aromatic alkyl glycidyl ethers such as phenyl glycidyl ether, cresyl glycidyl ether, para-s-butylphenyl glycidyl ether, and nonylphenyl glycidyl ether. Two or more of these reactive diluents may be used in combination.

また、樹脂成形体用組成物は、必要に応じ、溶剤を含んでもよい。使用可能な溶剤は、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、ミネラルスピリットおよびナフサ等の炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸−n−ブチルおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル類、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、エチレングリコールモノエチルエーテル、ブチルセロソルブおよびブチルカルビトール等のアルコール類、N,N−ジメチルホルムアミドやN,N−ジメチルアセトアミドなどのアミド類並びに水などであり、目的および用途に応じて適宜選択して使用することが出来る。また、溶剤は、二種以上のものを併用することもできる。   Moreover, the composition for resin moldings may contain a solvent as needed. Usable solvents are, for example, hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, cyclohexane, mineral spirits and naphtha, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, n-butyl acetate and propylene glycol monomethyl. Esters such as ether acetate, alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, ethylene glycol monoethyl ether, butyl cellosolve and butyl carbitol, amides such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide In addition, it is water or the like, and can be appropriately selected and used according to the purpose and application. Two or more kinds of solvents can be used in combination.

樹脂成形体用組成物は、樹脂成分の種類や用途等に応じ、目的とする物性を損なわない範囲で、樹脂成形体の製造用材料において常用される各種の充填剤や添加剤等を配合することもできる。   The composition for resin moldings contains various fillers and additives that are commonly used in materials for the production of resin moldings, within a range that does not impair the intended physical properties, depending on the type and application of the resin component. You can also.

使用可能な充填剤は、公知の各種のものであり、例えば、粘土、クレー、カオリン、ベントナイト、長石およびマイカ等のケイ酸アルミナ、タルクおよび滑石等のケイ酸マグネシウム、ケイ酸カルシウム(ワラストナイト)、軽石粉等のケイ酸塩、天然シリカ、焼成シリカ、合成シリカ、アモルファスシリカ、ホワイトカーボン、アエロジル、ケイ砂、石英粉およびケイ藻土等の無水ケイ酸若しくはケイ酸、アルミナ、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化モリブデンおよび酸化亜鉛等の金属酸化物、炭酸カルシウム、炭酸バリウムおよび炭酸マグネシウム等の炭酸塩、硫酸バリウムおよび硫酸マグネシウム等の硫酸塩、チタン酸カリウムおよびチタン酸バリウム等のチタン酸塩、水酸化カルシウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム等の水酸化物、カーボンブラックおよびグラファイト等の炭素類、ホウ酸亜鉛およびモリブデン酸亜鉛等の亜鉛化合物、ガラスバルーン、シラスバルーンおよびフェノールバルーン等の無機若しくは有機のバルーン、ガラス繊維、ガラス布およびガラス微粉末等のガラス類、並びに、アルミナシリカ繊維、アルミナ繊維、アラミド繊維、ボロン繊維、炭素繊維、ポリビニルアルコール繊維、ポリエステル繊維、ポリテトラフルオロエチレン繊維、液晶繊維およびPBO(ポリパラフェニレンベンズビスオキサゾール)繊維等の繊維類を例示することができる。充填材は、二種以上のものを併用することもできる。   Usable fillers are various known ones, for example, clay, clay, kaolin, bentonite, alumina silicate such as feldspar and mica, magnesium silicate such as talc and talc, calcium silicate (walastite) ), Silicates such as pumice powder, natural silica, calcined silica, synthetic silica, amorphous silica, white carbon, aerosil, silica sand, quartz powder and diatomaceous earth, silicic acid or silicic acid, alumina, titanium oxide, Metal oxides such as magnesium oxide, molybdenum oxide and zinc oxide, carbonates such as calcium carbonate, barium carbonate and magnesium carbonate, sulfates such as barium sulfate and magnesium sulfate, titanates such as potassium titanate and barium titanate, Calcium hydroxide, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide Hydroxides such as carbon black and graphite, zinc compounds such as zinc borate and zinc molybdate, inorganic or organic balloons such as glass balloons, shirasu balloons and phenol balloons, glass fibers, glass cloth and glass Glasses such as fine powders, and alumina silica fibers, alumina fibers, aramid fibers, boron fibers, carbon fibers, polyvinyl alcohol fibers, polyester fibers, polytetrafluoroethylene fibers, liquid crystal fibers, and PBO (polyparaphenylene benzbisoxazole) Examples thereof include fibers such as fibers. Two or more kinds of fillers can be used in combination.

また、使用可能な添加剤としては、ヒンダードアミン系、ベンゾトリアゾール系およびベンゾフェノン系等の紫外線吸収剤、ヒンダードフェノール系、リン系、イオウ系およびヒドラジド系等の酸化防止剤、リン酸エステル、縮合リン酸エステル、リン酸アミド、リン酸アミドエステル、リン酸アンモニウムおよび赤リンなどのリン系、メラミン、メラミンシアヌレート、メラム、メレム、メロンおよびサクシノグアナミン等の窒素系、シリコーン系、臭素系並びに塩素化パラフィンなどの難燃剤、三酸化アンチモン等の難燃助剤、シラン系やチタン系等のカップリング剤、染料、顔料、着色剤、レベリング剤、レオロジーコントロール剤、顔料分散剤、重合禁止剤、ハジキ防止剤、消泡剤、離型剤並びに帯電防止剤等を例示することができる。添加剤は、二種以上のものを併用することもできる。   Further, usable additives include hindered amine-based, benzotriazole-based and benzophenone-based ultraviolet absorbers, hindered phenol-based, phosphorus-based, sulfur-based and hydrazide-based antioxidants, phosphate esters, condensed phosphorus, and the like. Phosphoric acid esters, phosphoric acid amides, phosphoric acid amide esters, phosphorous compounds such as ammonium phosphate and red phosphorus, nitrogen compounds such as melamine, melamine cyanurate, melam, melem, melon and succinoguanamine, silicone compounds, bromine compounds and chlorine Flame retardants such as paraffins, flame retardant aids such as antimony trioxide, coupling agents such as silanes and titanium, dyes, pigments, colorants, leveling agents, rheology control agents, pigment dispersants, polymerization inhibitors, Examples of repellency inhibitor, antifoaming agent, mold release agent, antistatic agent, etc. . Two or more additives can be used in combination.

樹脂成形体用組成物を硬化させて得られる硬化物、すなわち樹脂成形体は、実質的に、本発明のエポキシ化合物組成物に由来のホスファゼン環を有する重合体からなるため、耐熱性(高いガラス転移温度)および高温信頼性(耐水性)に優れ、同時に難燃性においても優れている。このため、樹脂成形体用組成物は、各種の分野において用いられる樹脂成形体の製造用材料として、広く用いることができる。   A cured product obtained by curing the composition for a resin molded body, that is, a resin molded body is substantially composed of a polymer having a phosphazene ring derived from the epoxy compound composition of the present invention, and therefore has high heat resistance (high glass Excellent transition temperature) and high temperature reliability (water resistance), and at the same time excellent flame retardancy. For this reason, the composition for resin moldings can be widely used as a material for producing resin moldings used in various fields.

例えば、樹脂成形体用組成物は、粉体塗料、電着塗料、PCM(プレコートメタル用)塗料等の塗料、接着剤、シーリング材、成型材料、複合材料、積層板および封止材等の材料として好適に使用される。特に、樹脂成形体用組成物は、電気・電子部品の製造用材料として好適であり、この組成物を用いて形成された半導体封止用材料や回路基板(特に、金属張り積層板、プリント配線板用基板、プリント配線板用接着剤、プリント配線板用接着剤シート、プリント配線板用絶縁性回路保護膜、プリント配線板用導電ペースト、多層プリント配線板用封止剤、層間絶縁材料、絶縁性接着材料、回路保護剤、カバーレイフィルムおよびカバーインクなど)を用いた電子部品は、耐熱性、機械特性、高温信頼性および難燃性に優れ、安定な作動を期待することができる。   For example, the composition for a resin molding is a material such as a powder paint, an electrodeposition paint, a paint such as a PCM (pre-coated metal) paint, an adhesive, a sealing material, a molding material, a composite material, a laminate, and a sealing material. Is preferably used. In particular, the resin molding composition is suitable as a material for manufacturing electrical and electronic parts, and a semiconductor sealing material or circuit board (particularly a metal-clad laminate, printed wiring) formed using this composition. Substrate for board, adhesive for printed wiring board, adhesive sheet for printed wiring board, insulating circuit protective film for printed wiring board, conductive paste for printed wiring board, sealing agent for multilayer printed wiring board, interlayer insulating material, insulation Electronic components using a conductive adhesive material, a circuit protective agent, a coverlay film, a cover ink, etc.) are excellent in heat resistance, mechanical properties, high temperature reliability and flame retardancy, and can be expected to operate stably.

樹脂成形体用組成物を電気・電子分野用の材料、特に、LSI等の電子部品の封止剤や基板等に用いる場合、本発明のエポキシ化合物組成物と混合する樹脂成分としては、エポキシ樹脂、シアン酸エステル樹脂、ポリイミド樹脂または変性ポリフェニレンエーテル樹脂を選択するのが好ましい。   As a resin component to be mixed with the epoxy compound composition of the present invention when the composition for a resin molding is used as a material for electrical and electronic fields, particularly as a sealant or substrate for electronic parts such as LSI, an epoxy resin It is preferable to select a cyanate ester resin, a polyimide resin or a modified polyphenylene ether resin.

以下に実施例等を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらにより何ら限定されるものではない。なお、以下において、「unit mol」の「unit」は、環状ホスファゼン化合物の最小構成単位、例えば、一般式(1)については(PNA)を意味する。また、以下においては、特に断りがない限り、「%」および「部」とあるのは、それぞれ「重量%」および「重量部」を意味する。 EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples and the like, but the present invention is not limited by these. In the following, “unit” in “unit mol” means the smallest structural unit of the cyclic phosphazene compound, for example, (PNA 2 ) for the general formula (1). In the following, unless otherwise specified, “%” and “parts” mean “% by weight” and “parts by weight”, respectively.

以下の合成例で得られた環状ホスファゼン化合物および実施例等で得られたエポキシ化合物組成物等は、H−NMRスペクトルおよび31P−NMRスペクトルの測定、CHNP元素分析、IRスペクトルの測定、アルカリ溶融後の硝酸銀を用いた電位差滴定法による塩素元素(残留塩素)の分析、マイクロウエーブ湿式分解後のICP−AESによるリン元素の分析並びにTOF−MS分析の結果に基づいて同定した。また、ヒドロキシ基を有する環状ホスファゼン化合物の水酸基当量は、JIS K 0070−1992「化学製品の酸価、けん化価、エステル価、よう素価、水酸基価及び不けん化物の試験方法」において規定された水酸基価測定方法の中和滴定法に従って水酸基価(mgKOH/g)を測定し、その値を水酸基当量(g/eq.)に変換した。 The cyclic phosphazene compounds obtained in the following synthesis examples and the epoxy compound compositions obtained in the examples, etc. are measured with 1 H-NMR spectrum and 31 P-NMR spectrum, CHNP elemental analysis, IR spectrum measurement, alkali It was identified based on the results of analysis of elemental chlorine (residual chlorine) by potentiometric titration using silver nitrate after melting, analysis of elemental phosphorus by ICP-AES after microwave wet decomposition, and TOF-MS analysis. Further, the hydroxyl equivalent of the cyclic phosphazene compound having a hydroxy group is defined in JIS K 0070-1992 “Testing methods for acid value, saponification value, ester value, iodine value, hydroxyl value and unsaponified product of chemical products”. The hydroxyl value (mgKOH / g) was measured according to the neutralization titration method of the hydroxyl value measuring method, and the value was converted into the hydroxyl equivalent (g / eq.).

また、実施例および比較例において得られた組成物のエポキシ当量は、JIS K−7236「エポキシ樹脂のエポキシ当量の求め方」において規定された方法に従い、1当量のエポキシ基を含む組成物の質量g(g/eq.)を測定したものである。   Moreover, the epoxy equivalent of the composition obtained in the Example and the comparative example is the mass of the composition containing 1 equivalent of epoxy groups according to the method specified in JIS K-7236 “How to determine the epoxy equivalent of epoxy resin”. g (g / eq.) was measured.

合成例1(形態2に係るヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
[工程1:置換シクロトリホスファゼンの製造工程]
撹拌機、温度計、還流冷却管、水分離用受器および窒素導入管を備えた5リットルの反応器中にトルエン3,550mL、98%フェノール591g(6.2mol)および44%NaOH水溶液549gを仕込んだ。これを窒素雰囲気下で還流加熱し、共沸脱水により反応器内の水分を除去(回収水:約470mL)した後、常圧濃縮(留出トルエン:1,056g)してフェノールのナトリウム塩を調製した。このスラリー溶液を25℃に冷却し、テトラヒドロフラン(THF)1,400gを仕込んで均一溶液とした。
Synthesis Example 1 (Production of hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound according to Form 2)
[Step 1: Process for producing substituted cyclotriphosphazene]
In a 5-liter reactor equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser, water separator and nitrogen inlet tube, 3,550 mL of toluene, 591 g (6.2 mol) of 98% phenol and 549 g of 44% aqueous NaOH solution were added. Prepared. This was heated under reflux in a nitrogen atmosphere, and water in the reactor was removed by azeotropic dehydration (recovered water: about 470 mL), and then concentrated under normal pressure (distilled toluene: 1,056 g) to obtain a sodium salt of phenol. Prepared. This slurry solution was cooled to 25 ° C., and 1,400 g of tetrahydrofuran (THF) was charged to obtain a uniform solution.

一方、撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた10リットルの反応器中にヘキサクロロシクロトリホスファゼンのトルエン溶液〔ヘキサクロロシクロトリホスファゼン700g(6.0unit mol)、トルエン3,516g〕を仕込んだ。そして、上記フェノールのナトリウム塩溶液を撹拌下5℃で6時間かけて滴下し、25℃で撹拌反応を2時間行ってフェノキシ部分置換クロロシクロトリホスファゼンを得た。   On the other hand, a toluene solution of hexachlorocyclotriphosphazene [700 g (6.0 unit mol) of hexachlorocyclotriphosphazene, 3,516 g of toluene] in a 10-liter reactor equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, and a nitrogen introduction tube. Was charged. And the sodium salt solution of the said phenol was dripped over 6 hours at 5 degreeC under stirring, and stirring reaction was performed at 25 degreeC for 2 hours, and the phenoxy partially substituted chlorocyclotriphosphazene was obtained.

続いて、撹拌機、温度計、還流冷却管、水分離用受器および窒素導入管を備えた20リットルの反応器中にトルエン6,600mL、99%p−メトキシフェノール978g(7.8mol)、85%KOH470gおよび水560mLを仕込んだ。これを窒素雰囲気下で還流加熱し、共沸脱水により反応器内の水分を除去(回収水:約760mL)した後、常圧濃縮(留出トルエン:1,577g)してメトキシフェノールのカリウム塩を調製した。この反応液に上記フェノキシ部分置換クロロシクロトリホスファゼンを添加し、常圧濃縮(留出トルエン:3,223g)して還流下(110℃)で撹拌反応を12時間行った。反応終了後、2%NaOH水溶液3,000mLを加えて内容物を溶解させた後、分液ロートにて有機層を分液した。この有機層を5%NaOH水溶液で洗浄し、更に水で洗浄した後、塩酸でpHを4に調整し、トルエン層を分液して濃縮したところ、淡黄色の生成物1,532g(収率:97%)が得られた。この生成物の分析結果は以下の通りであった。   Subsequently, in a 20 liter reactor equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, a water separation receiver and a nitrogen introduction tube, toluene 6,600 mL, 99% p-methoxyphenol 978 g (7.8 mol), 470 g of 85% KOH and 560 mL of water were charged. This was heated under reflux in a nitrogen atmosphere, water in the reactor was removed by azeotropic dehydration (recovered water: about 760 mL), and then concentrated at atmospheric pressure (distilled toluene: 1,577 g) to give potassium methoxyphenol Was prepared. The phenoxy partially substituted chlorocyclotriphosphazene was added to the reaction solution, concentrated under normal pressure (distilled toluene: 3,223 g), and stirred for 12 hours under reflux (110 ° C.). After completion of the reaction, 3,000 mL of 2% NaOH aqueous solution was added to dissolve the contents, and then the organic layer was separated using a separatory funnel. The organic layer was washed with 5% NaOH aqueous solution, further washed with water, adjusted to pH 4 with hydrochloric acid, and the toluene layer was separated and concentrated to obtain 1,532 g of a pale yellow product (yield). : 97%) was obtained. The analysis result of this product was as follows.

H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
−CH 3.8(9H),フェニルC−H 6.6〜6.7(6H),6.8〜6.9(6H),6.9〜7.0(6H),7.1〜7.3(9H)
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 10.5
◎TOF−MS(m/z)
755,785,815
◎残存塩素分析:
<0.01%
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
—CH 3 3.8 (9H), phenyl C—H 6.6 to 6.7 (6H), 6.8 to 6.9 (6H), 6.9 to 7.0 (6H), 7.1 ~ 7.3 (9H)
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 10.5
◎ TOF-MS (m / z)
755,785,815
◎ Residual chlorine analysis:
<0.01%

以上の分析結果から、この工程で得られた生成物は、[N(OCOCH(OC]、[N(OCOCH(OC]および[N(OCOCH(OC]の混合物であり、その平均組成が[NP(OCOCH1.01(OC0.99であることを確認した。 From the above analysis results, the products obtained in this step are [N 3 P 3 (OC 6 H 4 OCH 3 ) 2 (OC 6 H 5 ) 4 ], [N 3 P 3 (OC 6 H 4 OCH). 3 ) 3 (OC 6 H 5 ) 3 ] and [N 3 P 3 (OC 6 H 4 OCH 3 ) 4 (OC 6 H 5 ) 2 ], the average composition of which is [NP (OC 6 H 4 it was confirmed that OCH 3) 1.01 (OC 6 H 5) 0.99] 3.

[工程2:脱保護基工程]
撹拌機、温度計、還流冷却管、および窒素導入管を備えた5リットルの反応器中に上記生成物1,422g(5.4unit mol)、トルエン1,200mLおよびピリジン510g(6.4mol)を仕込んだ。これにHClガス300g(8.2mol)を吹き込んだ後、加熱濃縮(留出トルエン:1,373g)し、200℃で撹拌反応を8時間行った。反応終了後冷却し、メチルイソブチルケトン(MIBK)4,000mLおよび1M塩酸2,000mLを加えて内容物を溶解させた後、分液ロートにて有機層を分液した。この有機層を1M塩酸で洗浄した後に水で洗浄し、NaOH水溶液でpHを6に調整してから分液して有機層をさらに水で洗浄して濃縮したところ、ガラス状の生成物1,319g(収率:98%)が得られた。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
[Step 2: Deprotecting group step]
In a 5-liter reactor equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser, and nitrogen inlet tube, 1,422 g (5.4 unit mol) of the above product, 1,200 mL of toluene and 510 g (6.4 mol) of pyridine were added. Prepared. After bubbling 300 g (8.2 mol) of HCl gas into this, it was heated and concentrated (distilled toluene: 1,373 g), and stirred at 200 ° C. for 8 hours. After completion of the reaction, the mixture was cooled, 4,000 mL of methyl isobutyl ketone (MIBK) and 2,000 mL of 1M hydrochloric acid were added to dissolve the contents, and then the organic layer was separated with a separatory funnel. The organic layer was washed with 1M hydrochloric acid and then with water, and after adjusting the pH to 6 with an aqueous NaOH solution, liquid separation was performed, and the organic layer was further washed with water and concentrated to obtain a glassy product 1, 319 g (yield: 98%) was obtained. The analysis result of this product was as follows.

H−NMRスペクトル(重アセトン中、δ、ppm):
フェニルC−H 6.6〜7.3(27H),−OH 8.3〜8.4(3H)
31P−NMRスペクトル(重アセトン中、δ、ppm):
三量体(P=N) 10.7
◎水酸基当量:
244g/eq.(理論値245g/eq.)
以上の分析結果から、この工程で得られた生成物は、[N(OCOH)(OC]、[N(OCOH)(OC]および[N(OCOH)(OC]の混合物であり、その平均組成が[NP(OCOH)1.01(OC0.99であることを確認した。
1 H-NMR spectrum (in heavy acetone, δ, ppm):
Phenyl C—H 6.6 to 7.3 (27H), —OH 8.3 to 8.4 (3H)
31 P-NMR spectrum (in heavy acetone, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 10.7
◎ Hydroxyl equivalent:
244 g / eq. (Theoretical value 245 g / eq.)
From the above analysis results, the products obtained in this step are [N 3 P 3 (OC 6 H 4 OH) 2 (OC 6 H 5 ) 4 ], [N 3 P 3 (OC 6 H 4 OH)]. 3 (OC 6 H 5 ) 3 ] and [N 3 P 3 (OC 6 H 4 OH) 4 (OC 6 H 5 ) 2 ], the average composition of which is [NP (OC 6 H 4 OH) 1 .01 (OC 6 H 5 ) 0.99 ] 3 .

合成例2(形態2に係るヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
[工程1:置換シクロトリホスファゼンの製造]
撹拌機、温度計、還流冷却管、水分離用受器および窒素導入管を備えた3リットルのフラスコ中に48%NaOH水溶液41.7g(0.50mol)、トルエン1,200mLおよび4’−ベンジルオキシフェニルスルホニル−4−フェノール170.2g(0.50mol)を仕込んだ。これを窒素雰囲気下で撹拌加熱して共沸脱水によりフラスコ内の水分を除去(回収水:約30mL)し、4’−ベンジルオキシフェニルスルホニル−4−フェノールのナトリウム塩を調製した。このスラリー溶液を20℃に冷却し、THF600mLを仕込んで均一溶液とした。
Synthesis Example 2 (Production of hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound according to Form 2)
[Step 1: Production of substituted cyclotriphosphazene]
41.7 g (0.50 mol) of 48% NaOH aqueous solution, 1,200 mL of toluene and 4′-benzyl in a 3 liter flask equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser, water separator and nitrogen inlet tube 170.2 g (0.50 mol) of oxyphenylsulfonyl-4-phenol was charged. This was stirred and heated in a nitrogen atmosphere, and water in the flask was removed by azeotropic dehydration (recovered water: about 30 mL) to prepare a sodium salt of 4′-benzyloxyphenylsulfonyl-4-phenol. The slurry solution was cooled to 20 ° C., and 600 mL of THF was charged to make a uniform solution.

一方、撹拌機、温度計、還流冷却管、水分離用受器および窒素導入管を備えた1リットルのフラスコ中に48%KOH水溶液87.7g(0.75mol)、トルエン550mLおよびフェノール70.6g(0.75mol)を仕込んだ。これを窒素雰囲気下で撹拌加熱して共沸脱水によりフラスコ内の水分を除去(回収水:約58mL)し、フェノールのカリウム塩を調製した。このスラリー溶液を20℃に冷却し、THF200mLを仕込んで均一溶液とした。   On the other hand, in a 1 liter flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, a water separation receiver and a nitrogen introduction tube, 87.7 g (0.75 mol) of 48% aqueous KOH solution, 550 mL of toluene and 70.6 g of phenol (0.75 mol) was charged. This was stirred and heated in a nitrogen atmosphere, and water in the flask was removed by azeotropic dehydration (recovered water: about 58 mL) to prepare a potassium potassium salt. The slurry solution was cooled to 20 ° C., and 200 mL of THF was charged to make a uniform solution.

次に、撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた5リットルのフラスコ中にヘキサクロロシクロトリホスファゼンのTHF溶液〔ヘキサクロロシクロトリホスファゼン58.0g(0.50unit mol)、THF300mL〕を仕込んだ。これに上記4’−ベンジルオキシフェニルスルホニル−4−フェノールのナトリウム塩溶液を撹拌下5℃で6時間かけて滴下し、25℃で撹拌反応を4時間行った。続いて、この反応液に上記フェノールのカリウム塩溶液を撹拌下、25℃で1時間かけて滴下し、還流下(103℃)で撹拌反応を2時間行った。反応終了後、反応液を約1,000mLまで濃縮し、トルエン200mLと水400mLとを加えて内容物を溶解させた後、分液ロートにて有機層を分液した。この有機層を5%NaOH水溶液で2回洗浄した後に2%硫酸で中和し、更に水で3回洗浄してからトルエンを留去したところ、淡黄色固体の生成物201.1g(収率:87%)が得られた。この生成物はガラス状固体のため明確な融点を示さなかった。この生成物の分析結果は以下の通りであった。   Next, a THF solution of hexachlorocyclotriphosphazene [58.0 g (0.50 unit mol), THF 300 mL] of hexachlorocyclotriphosphazene was placed in a 5-liter flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, and a nitrogen introduction tube. Prepared. The above 4'-benzyloxyphenylsulfonyl-4-phenol sodium salt solution was added dropwise thereto at 5 ° C. over 6 hours with stirring, and the stirring reaction was carried out at 25 ° C. for 4 hours. Subsequently, the potassium salt solution of phenol was added dropwise to the reaction solution at 25 ° C. over 1 hour with stirring, and the stirring reaction was performed under reflux (103 ° C.) for 2 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was concentrated to about 1,000 mL, and after adding 200 mL of toluene and 400 mL of water to dissolve the contents, the organic layer was separated using a separatory funnel. This organic layer was washed twice with 5% NaOH aqueous solution, neutralized with 2% sulfuric acid, further washed with water three times, and then toluene was distilled off. As a result, 201.1 g (yield) : 87%) was obtained. This product did not show a clear melting point due to the glassy solid. The analysis result of this product was as follows.

H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
−CH− 5.1(2H),フェニルC−H 6.7〜7.0(4H),7.0〜7.2(5H),7.3〜7.4(5H),7.6〜7.9(4H)
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.3
◎CHNP元素分析:
理論値 C:62.9%,H:4.2%,N:3.0%,P:6.7%
実測値 C:62.9%,H:4.2%,N:3.1%,P:6.9%
◎残存塩素分析:
<0.01%
◎TOF−MS(m/z):
1187,1434,1680
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
-CH 2 - 5.1 (2H), phenyl C-H 6.7~7.0 (4H), 7.0~7.2 (5H), 7.3~7.4 (5H), 7. 6-7.9 (4H)
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.3
◎ CHNP elemental analysis:
Theoretical value C: 62.9%, H: 4.2%, N: 3.0%, P: 6.7%
Measured value C: 62.9%, H: 4.2%, N: 3.1%, P: 6.9%
◎ Residual chlorine analysis:
<0.01%
◎ TOF-MS (m / z):
1187, 1434, 1680

以上の分析結果から、この工程で得られた生成物は、[N(OC−SO−COCH(OC]、[N(OC−SO−COCH(OC]および[N(OC−SO−COCH(OC]の混合物であり、その平均組成が[NP(OC−SO−COCH0.95(OC1.05であることを確認した。 From the above analysis results, the product obtained in this step is [N 3 P 3 (OC 6 H 4 —SO 2 —C 6 H 4 OCH 2 C 6 H 5 ) 2 (OC 6 H 5 ) 4 ]. , [N 3 P 3 (OC 6 H 4 -SO 2 -C 6 H 4 OCH 2 C 6 H 5) 3 (OC 6 H 5) 3] and [N 3 P 3 (OC 6 H 4 -SO 2 - C 6 H 4 OCH 2 C 6 H 5 ) 4 (OC 6 H 5 ) 2 ], the average composition of which is [NP (OC 6 H 4 —SO 2 —C 6 H 4 OCH 2 C 6 H 5 ) 0.95 (OC 6 H 5 ) 1.05 ] 3 .

[工程2:脱保護基工程]
撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた2リットルのフラスコ中に工程1で得られた生成物139.5g(0.30unit mol)とトルエン800mLとを仕込み、窒素雰囲気下で三臭化ホウ素26.9mL(0.29mol)を5〜10℃で4時間かけて滴下した後、25〜30℃で12時間撹拌熟成した。反応後、反応液を水800mLに添加し、分液ロートにて有機層を分液した。この有機層を水で3回洗浄した後にトルエンを留去したところ、茶色固体の生成物105.9g(収率:93%)が得られた。この生成物はガラス状固体のため明確な融点を示さなかった。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
[Step 2: Deprotecting group step]
In a 2 liter flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, and a nitrogen introduction tube, 139.5 g (0.30 unit mol) of the product obtained in Step 1 and 800 mL of toluene were charged, and under a nitrogen atmosphere. Boron tribromide (26.9 mL, 0.29 mol) was added dropwise at 5-10 ° C. over 4 hours, and then aged with stirring at 25-30 ° C. for 12 hours. After the reaction, the reaction solution was added to 800 mL of water, and the organic layer was separated using a separatory funnel. When this organic layer was washed 3 times with water and then toluene was distilled off, 105.9 g (yield: 93%) of a brown solid product was obtained. This product did not show a clear melting point due to the glassy solid. The analysis result of this product was as follows.

H−NMRスペクトル(重アセトン中、δ、ppm):
フェニルC−H 6.8〜7.3(9H),7.7〜7.9(4H),−OH 9.5(1H)
31P−NMRスペクトル(重アセトン中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.6
◎CHNP元素分析:
理論値 C:56.0%,H:3.4%,N:3.7%,P:8.2%
実測値 C:55.7%,H:3.7%,N:3.8%,P:8.4%
◎水酸基当量:
378g/eq.(理論値380g/eq.)
1 H-NMR spectrum (in heavy acetone, δ, ppm):
Phenyl C—H 6.8 to 7.3 (9H), 7.7 to 7.9 (4H), —OH 9.5 (1H)
31 P-NMR spectrum (in heavy acetone, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.6
◎ CHNP elemental analysis:
Theoretical value C: 56.0%, H: 3.4%, N: 3.7%, P: 8.2%
Measured value C: 55.7%, H: 3.7%, N: 3.8%, P: 8.4%
◎ Hydroxyl equivalent:
378 g / eq. (Theoretical value 380 g / eq.)

以上の分析結果から、この工程で得られた生成物は、[N(OC−SO−COH)(OC]、[N(OC−SO−COH)(OC]および[N(OC−SO−COH)(OC]の混合物であり、その平均組成が[NP(OC−SO−COH)0.95(OC1.05であることを確認した。 From the above analysis results, the products obtained in this step are [N 3 P 3 (OC 6 H 4 —SO 2 —C 6 H 4 OH) 2 (OC 6 H 5 ) 4 ], [N 3 P 3 (OC 6 H 4 —SO 2 —C 6 H 4 OH) 3 (OC 6 H 5 ) 3 ] and [N 3 P 3 (OC 6 H 4 —SO 2 —C 6 H 4 OH) 4 (OC 6 a mixture of H 5) 2], confirmed that the average composition [NP (OC 6 H 4 -SO 2 -C 6 H 4 OH) 0.95 (OC 6 H 5) 1.05] which is 3 did.

合成例3(形態1に係るヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
[工程1:置換シクロホスファゼンの製造]
撹拌機、温度計、還流冷却管、水分離用受器および窒素導入管を備えた3リットルのフラスコ中に48%KOH水溶液152.0g(1.30mol)、トルエン2,000mLおよび4’−ベンジルオキシフェニルスルホニル−4−フェノール442.5g(1.30mol)を仕込んだ。これを窒素雰囲気下で撹拌加熱して共沸脱水によりフラスコ内の水分を除去(回収水:約102mL)し、4’−ベンジルオキシフェニルスルホニル−4−フェノールのカリウム塩を調製した。このスラリー溶液を20℃に冷却し、THF400mLを仕込んで均一溶液とした。
Synthesis Example 3 (Production of hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound according to Form 1)
[Step 1: Production of substituted cyclophosphazene]
152.0 g (1.30 mol) of 48% aqueous KOH solution, 2,000 mL of toluene and 4′-benzyl in a 3 liter flask equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser, water separator and nitrogen inlet 442.5 g (1.30 mol) of oxyphenylsulfonyl-4-phenol was charged. This was stirred and heated in a nitrogen atmosphere, and water in the flask was removed by azeotropic dehydration (recovered water: about 102 mL) to prepare a potassium salt of 4′-benzyloxyphenylsulfonyl-4-phenol. The slurry solution was cooled to 20 ° C. and charged with 400 mL of THF to obtain a uniform solution.

次に、撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた5リットルのフラスコ中にクロロホスファゼンのTHF溶液〔ヘキサクロロシクロトリホスファゼン52.2g(0.45unit mol)、オクタクロロシクロテトラホスファゼン5.8g(0.05unit mol)、THF300mL〕を仕込み、上記4’−ベンジルオキシフェニルスルホニル−4−フェノールのカリウム塩溶液を撹拌下25℃で1時間かけて滴下した後、還流下(86℃)で8時間撹拌して反応を行った。反応終了後、反応液を約1,500mLまで濃縮し、トルエン500mLと水1,000mLとを加えて内容物を溶解させた後、分液ロートにて有機層を分液した。この有機層を5%NaOH水溶液で2回洗浄した後に2%硫酸で中和し、更に水で3回洗浄した後にトルエンを留去したところ、白色固体の生成物314.8g(収率:87%)が得られた。この生成物の融点(融解ピーク温度)は149℃であった。この生成物の分析結果は以下の通りであった。   Next, in a 5-liter flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser and a nitrogen introduction tube, a THF solution of chlorophosphazene [hexachlorocyclotriphosphazene 52.2 g (0.45 unit mol), octachlorocyclotetraphosphazene]. 5.8 g (0.05 unit mol), THF 300 mL], and the potassium salt solution of 4′-benzyloxyphenylsulfonyl-4-phenol was added dropwise with stirring at 25 ° C. over 1 hour, and then refluxed (86 ° C. ) And stirred for 8 hours to carry out the reaction. After completion of the reaction, the reaction solution was concentrated to about 1,500 mL, 500 mL of toluene and 1,000 mL of water were added to dissolve the contents, and then the organic layer was separated using a separatory funnel. This organic layer was washed twice with 5% NaOH aqueous solution, neutralized with 2% sulfuric acid, further washed three times with water, and then toluene was distilled off. As a result, 314.8 g of a white solid product (yield: 87 %)was gotten. The melting point (melting peak temperature) of this product was 149 ° C. The analysis result of this product was as follows.

H−NMRスペクトル(重アセトン中、δ、ppm):
−CH− 5.0(4H),フェニルC−H 6.8〜7.9(26H)
31P−NMRスペクトル(重アセトン中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.5,四量体(P=N) −12.4
◎CHNP元素分析:
理論値 C:63.1%,H:4.2%,N:1.9%,P:4.3%
実測値 C:62.8%,H:4.4%,N:2.1%,P:4.2%
◎残存塩素分析:
<0.01%
1 H-NMR spectrum (in heavy acetone, δ, ppm):
-CH 2 - 5.0 (4H), phenyl C-H 6.8~7.9 (26H)
31 P-NMR spectrum (in heavy acetone, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.5, Tetramer (P = N) 4 -12.4
◎ CHNP elemental analysis:
Theoretical value C: 63.1%, H: 4.2%, N: 1.9%, P: 4.3%
Measured value C: 62.8%, H: 4.4%, N: 2.1%, P: 4.2%
◎ Residual chlorine analysis:
<0.01%

以上の分析結果から、この工程で得られた生成物は、[NP(OC−SO−COCHおよび[NP(OC−SO−COCHの混合物であることを確認した。 From the above analysis results, the products obtained in this step are [NP (OC 6 H 4 —SO 2 —C 6 H 4 OCH 2 C 6 H 5 ) 2 ] 3 and [NP (OC 6 H 4 − it was confirmed that SO 2 -C 6 H 4 OCH 2 C 6 H 5) 2] is a mixture of 4.

[工程2:脱保護基工程]
撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた2リットルのフラスコ中に工程1で得られた生成物217.1g(0.30unit mol)および酢酸800mLを仕込み、窒素雰囲気下で30%臭化水素酸/酢酸溶液323.6g(1.20mol)を5〜10℃で2時間かけて滴下した後、50℃で8時間撹拌熟成した。反応終了後、反応液を濃縮して過剰の臭化水素酸と酢酸とを留去し、残留物にメチルイソブチルケトン700mLと水600mLとを添加して溶解した後、分液ロートにて有機層を分液した。この有機層を水で3回洗浄した後にメチルイソブチルケトンを留去したところ、白色固体の生成物145.1g(収率:89%)が得られた。この生成物はガラス状固体のため明確な融点を示さなかった。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
[Step 2: Deprotecting group step]
217.1 g (0.30 unit mol) of the product obtained in Step 1 and 800 mL of acetic acid were charged in a 2 liter flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, and a nitrogen introduction tube, and the mixture was charged under nitrogen atmosphere. 323.6 g (1.20 mol) of a% hydrobromic acid / acetic acid solution was added dropwise at 5 to 10 ° C. over 2 hours, and the mixture was stirred and aged at 50 ° C. for 8 hours. After completion of the reaction, the reaction solution is concentrated to distill off excess hydrobromic acid and acetic acid. After adding 700 mL of methyl isobutyl ketone and 600 mL of water to the residue and dissolving, the organic layer is separated with a separatory funnel. Was separated. When this organic layer was washed with water three times and methyl isobutyl ketone was distilled off, 145.1 g (yield: 89%) of a white solid product was obtained. This product did not show a clear melting point due to the glassy solid. The analysis result of this product was as follows.

H−NMRスペクトル(重アセトン中、δ、ppm):
フェニルC−H 6.8〜7.9(16H),−OH 9.5(2H)
31P−NMRスペクトル(重アセトン中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.5,四量体(P=N) −12.4
◎CHNP元素分析:
理論値 C:53.0%,H:3.3%,N:2.6%,P:5.7%
実測値 C:52.8%,H:3.6%,N:2.5%,P:5.6%
◎水酸基当量:
274g/eq.(理論値272g/eq.)
1 H-NMR spectrum (in heavy acetone, δ, ppm):
Phenyl C—H 6.8 to 7.9 (16H), —OH 9.5 (2H)
31 P-NMR spectrum (in heavy acetone, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.5, Tetramer (P = N) 4 -12.4
◎ CHNP elemental analysis:
Theoretical value C: 53.0%, H: 3.3%, N: 2.6%, P: 5.7%
Measured value C: 52.8%, H: 3.6%, N: 2.5%, P: 5.6%
◎ Hydroxyl equivalent:
274 g / eq. (Theoretical value 272 g / eq.)

以上の分析結果から、この工程で得られた生成物は、[NP(OC−SO−COH)および[NP(OC−SO−COH)の混合物であることを確認した。 From the above analysis results, the product obtained in this step, [NP (OC 6 H 4 -SO 2 -C 6 H 4 OH) 2] 3 and [NP (OC 6 H 4 -SO 2 -C 6 H 4 OH) 2 ] 4 was confirmed.

合成例4(形態2に係るヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
[工程1:置換シクロトリホスファゼンの製造]
撹拌機、温度計、還流冷却管、水分離用受器および窒素導入管を備えた1リットルのフラスコ中に48%NaOH水溶液41.7g(0.50mol)、トルエン250mLおよびフェノール47.1g(0.50mol)を仕込んだ。これを窒素雰囲気下で撹拌加熱して共沸脱水によりフラスコ内の水分を除去(回収水:約29mL)し、フェノールのナトリウム塩を調製した。このスラリー溶液を20℃に冷却し、THF200mLを仕込んで均一溶液とした。
Synthesis Example 4 (Production of hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound according to Form 2)
[Step 1: Production of substituted cyclotriphosphazene]
In a 1 liter flask equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser, water separator and nitrogen inlet tube, 41.7 g (0.50 mol) of 48% NaOH aqueous solution, 250 mL of toluene and 47.1 g of phenol (0 .50 mol) was charged. This was stirred and heated under a nitrogen atmosphere, and water in the flask was removed by azeotropic dehydration (recovered water: about 29 mL) to prepare a sodium salt of phenol. The slurry solution was cooled to 20 ° C., and 200 mL of THF was charged to make a uniform solution.

一方、撹拌機、温度計、還流冷却管、水分離用受器および窒素導入管を備えた3リットルのフラスコ中に48%KOH水溶液87.7g(0.75mol)、トルエン1,500mLおよび4’−ベンジルオキシフェニルイソプロピリデン−4−フェノール238.8g(0.75mol)を仕込んだ。これを窒素雰囲気下で撹拌加熱して共沸脱水によりフラスコ内の水分を除去(回収水:約59mL)し、4’−ベンジルオキシフェニルイソプロピリデン−4−フェノールのカリウム塩を調製した。このスラリー溶液を20℃に冷却し、THF500mLを仕込んで均一溶液とした。   On the other hand, in a 3 liter flask equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser, water separator and nitrogen inlet tube, 87.7 g (0.75 mol) of 48% aqueous KOH solution, 1,500 mL of toluene and 4 ′ -238.8 g (0.75 mol) of benzyloxyphenylisopropylidene-4-phenol was charged. This was stirred and heated in a nitrogen atmosphere, and water in the flask was removed by azeotropic dehydration (recovered water: about 59 mL) to prepare a potassium salt of 4'-benzyloxyphenylisopropylidene-4-phenol. The slurry solution was cooled to 20 ° C., and 500 mL of THF was charged to make a uniform solution.

次に、撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた5リットルのフラスコ中にヘキサクロロシクロトリホスファゼンのTHF溶液〔ヘキサクロロシクロトリホスファゼン58.0g(0.50unit mol)、THF500mL〕を仕込み、上記フェノールのナトリウム塩溶液を撹拌下5℃で6時間かけて滴下し、25℃で撹拌反応を2時間行った。続いて、この反応液に上記の4’−ベンジルオキシフェニルイソプロピリデン−4−フェノールのカリウム塩溶液を撹拌下25℃で1時間かけて滴下し、還流下(85℃)で撹拌反応を14時間行った。反応終了後、反応液を約1,000mLまで濃縮し、トルエン500mLと水1,000mLを加えて内容物を溶解させた後、分液ロートにて有機層を分液した。この有機層を5%NaOH水溶液で2回洗浄した後に2%硫酸で中和し、更に水で3回洗浄した後にトルエンを留去したところ、茶色固体の生成物221.9g(収率:96%)が得られた。この生成物はガラス状固体のため明確な融点を示さなかった。この生成物の分析結果は以下の通りであった。   Next, a THF solution of hexachlorocyclotriphosphazene [58.0 g (0.50 unit mol), THF 500 mL] of hexachlorocyclotriphosphazene was placed in a 5-liter flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, and a nitrogen introduction tube. The sodium salt solution of the phenol was added dropwise at 5 ° C. over 6 hours with stirring, and the stirring reaction was carried out at 25 ° C. for 2 hours. Subsequently, the potassium salt solution of 4′-benzyloxyphenylisopropylidene-4-phenol was added dropwise to the reaction solution over 1 hour at 25 ° C. with stirring, and the stirring reaction was performed under reflux (85 ° C.) for 14 hours. went. After completion of the reaction, the reaction solution was concentrated to about 1,000 mL, 500 mL of toluene and 1,000 mL of water were added to dissolve the contents, and then the organic layer was separated using a separatory funnel. The organic layer was washed twice with 5% aqueous NaOH solution, neutralized with 2% sulfuric acid, further washed three times with water, and then toluene was distilled off. As a result, 221.9 g of a brown solid product (yield: 96) was obtained. %)was gotten. This product did not show a clear melting point due to the glassy solid. The analysis result of this product was as follows.

H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
−CH 1.6(6H),−CH− 5.0(2H),フェニルC−H 6.8〜6.9(5H),7.0〜7.1(8H),7.2〜7.4(5H)
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.9
◎CHNP元素分析:
理論値 C:74.0%,H:5.8%,N:3.0%,P:6.7%
実測値 C:74.2%,H:5.8%,N:2.9%,P:6.6%
◎残存塩素分析:
<0.01%
◎TOF−MS(m/z):
1143,1368,1592
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
-CH 3 1.6 (6H), - CH 2 - 5.0 (2H), phenyl CH 6.8~6.9 (5H), 7.0~7.1 ( 8H), 7.2 ~ 7.4 (5H)
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.9
◎ CHNP elemental analysis:
Theoretical value C: 74.0%, H: 5.8%, N: 3.0%, P: 6.7%
Measured value C: 74.2%, H: 5.8%, N: 2.9%, P: 6.6%
◎ Residual chlorine analysis:
<0.01%
◎ TOF-MS (m / z):
1143, 1368, 1592

以上の分析結果から、この工程で得られた生成物は、[N(OC−C(CH−COCH(OC]、[N(OC−C(CH−COCH(OC]および[N(OC−C(CH−COCH(OC]の混合物であり、その平均組成が[NP(OC−C(CH−COCH1.03(OC0.97であることを確認した。 From the above analysis results, product obtained in this step, [N 3 P 3 (OC 6 H 4 -C (CH 3) 2 -C 6 H 4 OCH 2 C 6 H 5) 2 (OC 6 H 5) 4], [N 3 P 3 (OC 6 H 4 -C (CH 3) 2 -C 6 H 4 OCH 2 C 6 H 5) 3 (OC 6 H 5) 3] and [N 3 P 3 ( OC 6 H 4 —C (CH 3 ) 2 —C 6 H 4 OCH 2 C 6 H 5 ) 4 (OC 6 H 5 ) 2 ], the average composition of which is [NP (OC 6 H 4 —C (CH 3 ) 2 —C 6 H 4 OCH 2 C 6 H 5 ) 1.03 (OC 6 H 5 ) 0.97 ] 3 was confirmed.

[工程2:脱保護基工程]
撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた3リットルのフラスコ中に工程1で得られた生成物138.7g(0.30unit mol)、Pd/C(Degussa社製の商品名「E 101 NE/W」:10%Pd)3.8gおよびメタノール2,500mLを仕込み、水素雰囲気下50℃で5時間撹拌反応した。反応終了後、反応液を濾過してPd/Cを除去し、この濾液を濃縮してメタノールを留去した。そして、残留物にメチルイソブチルケトン1,000mLと水700mLとを添加して溶解し、分液ロートにて有機層を分液した。この有機層を水で3回洗浄し、メチルイソブチルケトンを留去したところ、茶色固体の生成物96.4g(収率:87%)が得られた。この生成物はガラス状固体のため明確な融点を示さなかった。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
[Step 2: Deprotecting group step]
138.7 g (0.30 unit mol) of the product obtained in step 1 in a 3 liter flask equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser and nitrogen inlet, Pd / C (trade name of Degussa) “E 101 NE / W”: 10% Pd) 3.8 g and 2,500 mL of methanol were charged, and the mixture was stirred and reacted at 50 ° C. for 5 hours in a hydrogen atmosphere. After completion of the reaction, the reaction solution was filtered to remove Pd / C, and the filtrate was concentrated to distill off methanol. Then, 1,000 mL of methyl isobutyl ketone and 700 mL of water were added to the residue and dissolved, and the organic layer was separated using a separatory funnel. This organic layer was washed three times with water, and methyl isobutyl ketone was distilled off to obtain 96.4 g (yield: 87%) of a brown solid product. This product did not show a clear melting point due to the glassy solid. The analysis result of this product was as follows.

H−NMRスペクトル(重アセトン中、δ、ppm):
−CH 1.7(6H),フェニルC−H 6.8〜6.9(4H),6.9〜7.2(5H),7.2〜7.3(4H)
31P−NMRスペクトル(重アセトン中、δ、ppm):
三量体(P=N) 10.0
◎CHNP元素分析:
理論値 C:69.2%,H:5.5%,N:3.8%,P:8.4%
実測値 C:69.3%,H:5.3%,N:3.8%,P:8.3%
◎水酸基当量:
371g/eq.(理論値369g/eq.)
1 H-NMR spectrum (in heavy acetone, δ, ppm):
—CH 3 1.7 (6H), phenyl C—H 6.8 to 6.9 (4H), 6.9 to 7.2 (5H), 7.2 to 7.3 (4H)
31 P-NMR spectrum (in heavy acetone, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 10.0
◎ CHNP elemental analysis:
Theoretical value C: 69.2%, H: 5.5%, N: 3.8%, P: 8.4%
Measured value C: 69.3%, H: 5.3%, N: 3.8%, P: 8.3%
◎ Hydroxyl equivalent:
371 g / eq. (Theoretical value: 369 g / eq.)

以上の分析結果から、この工程で得られた生成物は、[NP(OC−C(CH−COH)1.03(OC0.97であることを確認した。 From the above analysis results, the product obtained in this step was [NP (OC 6 H 4 —C (CH 3 ) 2 —C 6 H 4 OH) 1.03 (OC 6 H 5 ) 0.97 ]. 3 was confirmed.

合成例5(形態2に係るヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
[工程1:上記方法B−cによるアセチル基含有環状ホスファゼン化合物の製造]
温度計、撹拌機、冷却管および滴下ロートを取り付けた5リットルの4つ口フラスコに、窒素気流下でヘキサクロロシクロトリホスファゼン(173.8g,1.50unit mol)を仕込み、トルエン(2,000mL)を加えて溶解した。これにナトリウム4−アセチル−3−メチルフェノキシド(215.1g,1.25mol)のTHF(450mL)溶液を5時間かけて滴下した後、25℃にて24時間撹拌した。この反応液を予め調製したナトリウムフェノキシド(140.5g,2.65mol)のトルエン(1,250g)懸濁液に投入後、110℃にて3時間還流した。反応混合物を室温に冷却後、5%水酸化ナトリウム水溶液(500mL)を加えて分液ロートに移した。水層を分離後、トルエン層を5%水酸化ナトリウム水溶液(500mL)で洗浄後、希硝酸にて中和して水洗した。トルエン層を減圧濃縮し、418.8g(収率:98.7%)の生成物を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
Synthesis Example 5 (Production of hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound according to Form 2)
[Step 1: Production of acetyl group-containing cyclic phosphazene compound by method Bc above]
A 5-liter 4-neck flask equipped with a thermometer, stirrer, condenser and dropping funnel was charged with hexachlorocyclotriphosphazene (173.8 g, 1.50 unit mol) under a nitrogen stream, and toluene (2,000 mL). To dissolve. A solution of sodium 4-acetyl-3-methylphenoxide (215.1 g, 1.25 mol) in THF (450 mL) was added dropwise thereto over 5 hours, and the mixture was stirred at 25 ° C. for 24 hours. This reaction solution was added to a toluene (1,250 g) suspension of sodium phenoxide (140.5 g, 2.65 mol) prepared in advance, and then refluxed at 110 ° C. for 3 hours. The reaction mixture was cooled to room temperature, 5% aqueous sodium hydroxide solution (500 mL) was added, and the mixture was transferred to a separatory funnel. After separating the aqueous layer, the toluene layer was washed with 5% aqueous sodium hydroxide solution (500 mL), neutralized with dilute nitric acid, and washed with water. The toluene layer was concentrated under reduced pressure to obtain 418.8 g (yield: 98.7%) of the product. The analysis result of this product was as follows.

H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.4(6H), 2.5(6H), 6.7〜7.5(26H)
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.2〜10.3
◎残存塩素分析:
<0.01%
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.4 (6H), 2.5 (6H), 6.7 to 7.5 (26H)
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.2 to 10.3
◎ Residual chlorine analysis:
<0.01%

以上の分析結果から、この工程で得た生成物は、[N(OC(CH)COCH)(OC]、[N(OC(CH)COCH(OC]および[N(OC(CH)COCH(OC]の混合物であり、その平均組成が[N(OC(CH)COCH2.0(OC4.0]の環状ホスファゼン化合物であることを確認した。 From the above analysis results, the products obtained in this step are [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) COCH 3 ) (OC 6 H 5 ) 5 ], [N 3 P 3 (OC 6 H). 3 (CH 3 ) COCH 3 ) 2 (OC 6 H 5 ) 4 ] and [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) COCH 3 ) 3 (OC 6 H 5 ) 3 ] average composition was confirmed to be a cyclic phosphazene compound of [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3) COCH 3) 2.0 (OC 6 H 5) 4.0].

[工程2:バイヤー−ビリガー酸化工程]
温度計、撹拌機および滴下ロートを取り付けた1リットルの4つ口フラスコに、工程1にて得られた化合物(187.8g,0.70unit mol)、トリフルオロ酢酸無水物(100mL)およびジクロロメタン(200mL)を仕込み、内温0℃以下で60%過酸化水素水(48.7g,0.86mol)を滴下した後、内温25℃にて3時間撹拌した。反応終了を確認後、反応混合物を分液ロートに移し、20%亜硫酸水素ナトリウム水溶液、飽和重炭酸ナトリウム水溶液および飽和食塩水にて洗浄した後、乾燥、濃縮して193.3g(収率98.9%)の褐色油状の生成物を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
[Step 2: Buyer-Billiger oxidation step]
Into a 1-liter four-necked flask equipped with a thermometer, stirrer and dropping funnel, the compound obtained in Step 1 (187.8 g, 0.70 unit mol), trifluoroacetic anhydride (100 mL) and dichloromethane ( 200 mL) was added, 60% hydrogen peroxide (48.7 g, 0.86 mol) was added dropwise at an internal temperature of 0 ° C. or lower, and the mixture was stirred at an internal temperature of 25 ° C. for 3 hours. After confirming the completion of the reaction, the reaction mixture was transferred to a separatory funnel, washed with 20% aqueous sodium hydrogen sulfite solution, saturated aqueous sodium bicarbonate solution and saturated brine, dried and concentrated to 193.3 g (yield 98.98). 9%) of a brown oily product. The analysis result of this product was as follows.

H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.2(6H), 2.4(6H), 6.8〜7.3(26H)
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.5〜10.4
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.2 (6H), 2.4 (6H), 6.8 to 7.3 (26H)
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.5 to 10.4

以上の分析結果から、この工程で得た生成物は、[N(OC(CH)OCOCH)(OC]、[N(OC(CH)OCOCH(OC]および[N(OC(CH)OCOCH(OC]の混合物であり、その平均組成が[N(OC(CH)OCOCH2.0(OC4.0]であることを確認した。 From the above analysis results, the products obtained in this step are [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) OCOCH 3 ) (OC 6 H 5 ) 5 ], [N 3 P 3 (OC 6 H). 3 (CH 3 ) OCOCH 3 ) 2 (OC 6 H 5 ) 4 ] and [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) OCOCH 3 ) 3 (OC 6 H 5 ) 3 ] It was confirmed that the average composition was [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) OCOCH 3 ) 2.0 (OC 6 H 5 ) 4.0 ].

[工程3:脱アセチル化工程]
温度計および撹拌機を取り付けた1リットルの4つ口フラスコに、工程2で得られた化合物(167.5g,0.60unit mol)、メタノール(100mL)および48%水酸化ナトリウム水溶液(70.9g,0.86mol)を仕込み、室温にて4時間撹拌した。反応の終了を確認後、メタノールを留去して得られた濃縮残渣に脱イオン水(900mL)を加えて溶解し、30%硝酸にてpH6に調整した。この溶液を分液ロートに移してメチルイソブチルケトン(MIBK)にて抽出後、MIBK層を脱イオン水にて2回洗浄した。MIBK層を乾燥後に濃縮し、140.5g(収率93.2%)の生成物を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
[Step 3: Deacetylation step]
Into a 1-liter four-necked flask equipped with a thermometer and a stirrer, the compound obtained in Step 2 (167.5 g, 0.60 unit mol), methanol (100 mL) and 48% aqueous sodium hydroxide solution (70.9 g) were added. , 0.86 mol), and stirred at room temperature for 4 hours. After confirming the completion of the reaction, methanol was distilled off and the concentrated residue obtained was dissolved by adding deionized water (900 mL) and adjusted to pH 6 with 30% nitric acid. This solution was transferred to a separating funnel and extracted with methyl isobutyl ketone (MIBK), and then the MIBK layer was washed twice with deionized water. The MIBK layer was dried and then concentrated to obtain 140.5 g (yield 93.2%) of the product. The analysis result of this product was as follows.

H−NMRスペクトル(重アセトン中、δ、ppm):
2.1(6H), 6.5〜7.3(26H)
31P−NMRスペクトル(重アセトン中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.1〜10.3
◎CHNP元素分析:
理論値 C:60.6%,H:4.6%,N:5.6%,P:12.3%
実測値 C:60.5%,H:4.5%,N:5.7%,P:12.5%
◎TOF−MS(m/z):
724,754,784
◎残存塩素分析:
<0.01%
◎水酸基当量:
375g/eq.(理論値377g/eq.)
1 H-NMR spectrum (in heavy acetone, δ, ppm):
2.1 (6H), 6.5-7.3 (26H)
31 P-NMR spectrum (in heavy acetone, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.1 to 10.3
◎ CHNP elemental analysis:
Theoretical value C: 60.6%, H: 4.6%, N: 5.6%, P: 12.3%
Measured value C: 60.5%, H: 4.5%, N: 5.7%, P: 12.5%
◎ TOF-MS (m / z):
724, 754, 784
◎ Residual chlorine analysis:
<0.01%
◎ Hydroxyl equivalent:
375 g / eq. (Theoretical value 377 g / eq.)

以上の分析結果から、この生成物は、[N(OC(CH)OH)(OC]、[N(OC(CH)OH)(OC]および[N(OC(CH)OH)(OC]の混合物であり、その平均組成が[N(OC(CH)OH)2.0(OC4.0]であることを確認した。 From the above analysis results, this product is obtained from [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) OH) (OC 6 H 5 ) 5 ], [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 )]. OH) 2 (OC 6 H 5 ) 4 ] and [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) OH) 3 (OC 6 H 5 ) 3 ], the average composition of which is [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) OH) 2.0 (OC 6 H 5 ) 4.0 ].

合成例6(形態2に係るヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
[工程1:上記方法B−cによるアセチル基含有環状ホスファゼン化合物の製造]
温度計、撹拌機、冷却管および滴下ロートを取り付けた3リットルの4つ口フラスコに、窒素気流下で水素化ナトリウム(76.0g, 3.17mol)を仕込み、ヘキサクロロシクロトリホスファゼン(173.8g,1.50unit mol)のTHF(700mL)溶液を加えた。これを0℃に維持しながら、2−メチル−4−アセチルフェノール(150.2g,1.0mol)のTHF(200mL)溶液を1時間かけて滴下後、1時間撹拌した。この反応液にフェノール(207.0g,2.2mol)のTHF(200mL)溶液を1時間かけて滴下後、70℃にて6時間還流した。反応混合物を室温に冷却後、トルエン(1,000mL)および5%水酸化ナトリウム水溶液(500mL)を加えて分液ロートに移した。水層を分離後、トルエン層を5%水酸化ナトリウム水溶液(500mL)で洗浄した。トルエン層を希硝酸にて中和後、水層を分離した。トルエン層を脱イオン水で洗浄後に減圧濃縮し、312.3g(収率:77.5%)の生成物を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
Synthesis Example 6 (Production of hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound according to Form 2)
[Step 1: Production of acetyl group-containing cyclic phosphazene compound by method Bc above]
Under a nitrogen stream, sodium hydride (76.0 g, 3.17 mol) was charged into a 3 liter four-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, condenser, and dropping funnel, and hexachlorocyclotriphosphazene (173.8 g). , 1.50 unit mol) in THF (700 mL) was added. While maintaining this at 0 ° C., a solution of 2-methyl-4-acetylphenol (150.2 g, 1.0 mol) in THF (200 mL) was added dropwise over 1 hour, followed by stirring for 1 hour. A solution of phenol (207.0 g, 2.2 mol) in THF (200 mL) was added dropwise to this reaction solution over 1 hour, and then refluxed at 70 ° C. for 6 hours. The reaction mixture was cooled to room temperature, toluene (1,000 mL) and 5% aqueous sodium hydroxide solution (500 mL) were added, and the mixture was transferred to a separatory funnel. After separating the aqueous layer, the toluene layer was washed with 5% aqueous sodium hydroxide solution (500 mL). After neutralizing the toluene layer with dilute nitric acid, the aqueous layer was separated. The toluene layer was washed with deionized water and concentrated under reduced pressure to obtain 312.3 g (yield: 77.5%) of the product. The analysis result of this product was as follows.

H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.08(6H), 2.52(6H), 6.9〜7.8(26H)
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.1〜9.6
◎残存塩素分析:
<0.01%
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.08 (6H), 2.52 (6H), 6.9-7.8 (26H)
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.1-9.6
◎ Residual chlorine analysis:
<0.01%

以上の分析結果から、この生成物は、[N(OC(CH)COCH)(OC]、[N(OC(CH)COCH(OC]および[N(OC(CH)COCH(OC]の混合物であり、その平均組成が[N(OC(CH)COCH2.0(OC4.0]の環状ホスファゼン化合物であることを確認した。 From the above analysis results, the product, [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3) COCH 3) (OC 6 H 5) 5], [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) COCH 3 ) 2 (OC 6 H 5 ) 4 ] and [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) COCH 3 ) 3 (OC 6 H 5 ) 3 ] with an average composition of [ N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) COCH 3 ) 2.0 (OC 6 H 5 ) 4.0 ] was confirmed to be a cyclic phosphazene compound.

[工程2:バイヤー−ビリガー酸化工程]
温度計、撹拌機、還流冷却管および滴下ロートを取り付けた1リットルの4つ口フラスコに、工程1にて得られた化合物(188.0g,0.70unit mol)およびアセトニトリル(300mL)を仕込み、内温0℃以下で予め調製した2M過リン酸のアセトニトリル溶液(350mL,0.70mol)を滴下した。25℃で2時間撹拌後、トルエン(500mL)を加えて分液ロートに移し、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和重炭酸ナトリウム水溶液および飽和食塩水を用いてこの順序で洗浄後、乾燥、濃縮して184.5g(収率94.4%)の褐色油状の生成物を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
[Step 2: Buyer-Billiger oxidation step]
A 1 liter four-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, reflux condenser and dropping funnel was charged with the compound obtained in Step 1 (188.0 g, 0.70 unit mol) and acetonitrile (300 mL), An acetonitrile solution (350 mL, 0.70 mol) of 2M superphosphoric acid prepared in advance at an internal temperature of 0 ° C. or lower was added dropwise. After stirring at 25 ° C. for 2 hours, toluene (500 mL) was added, transferred to a separatory funnel, washed in this order with a saturated aqueous sodium thiosulfate solution, a saturated aqueous sodium bicarbonate solution, and saturated brine, dried and concentrated. 184.5 g (94.4% yield) of a brown oily product was obtained. The analysis result of this product was as follows.

H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.2(6H), 2.3(6H), 6.8〜7.3(26H)
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.6〜10.3
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.2 (6H), 2.3 (6H), 6.8 to 7.3 (26H)
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.6 to 10.3

以上の分析結果から、この生成物は、[N(OC(CH)OCOCH)(OC]、[N(OC(CH)OCOCH(OC]および[N(OC(CH)OCOCH(OC]の混合物であり、その平均組成が[N(OC(CH)OCOCH2.0(OC4.0]の環状ホスファゼン化合物であることを確認した。 From the above analysis results, the product, [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3) OCOCH 3) (OC 6 H 5) 5], [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) OCOCH 3 ) 2 (OC 6 H 5 ) 4 ] and [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) OCOCH 3 ) 3 (OC 6 H 5 ) 3 ] with an average composition of [ N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) OCOCH 3 ) 2.0 (OC 6 H 5 ) 4.0 ] was confirmed to be a cyclic phosphazene compound.

[工程3:脱アセチル化工程]
温度計および撹拌機を取り付けた1リットルの4つ口フラスコに、工程2で得られた化合物(167.5g,0.60unit mol)、メタノール(200mL)および炭酸カリウム(55.3g,0.40mol)を仕込み、25℃で3時間撹拌した。溶媒を留去後、濃縮残渣に水(300mL)を加えて分液ロートに移した。水層からMIBKにて生成物を抽出後、MIBK層を脱イオン水にて2回洗浄した。MIBK層を乾燥、濃縮して149.1g(収率98.9%)の生成物を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
[Step 3: Deacetylation step]
Into a 1-liter four-necked flask equipped with a thermometer and a stirrer, the compound obtained in Step 2 (167.5 g, 0.60 unit mol), methanol (200 mL) and potassium carbonate (55.3 g, 0.40 mol) were added. ) And stirred at 25 ° C. for 3 hours. After distilling off the solvent, water (300 mL) was added to the concentrated residue and transferred to a separatory funnel. After extracting the product from the aqueous layer with MIBK, the MIBK layer was washed twice with deionized water. The MIBK layer was dried and concentrated to obtain 149.1 g (yield 98.9%) of the product. The analysis result of this product was as follows.

H−NMRスペクトル(重アセトン中、δ、ppm):
2.0(6H), 6.4〜7.4(26H)
31P−NMRスペクトル(重アセトン中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.0〜11.5
◎CHNP元素分析:
理論値 C:60.6%,H:4.6%,N:5.6%,P:12.3%
実測値 C:60.7%,H:4.5%,N:5.6%,P:12.4%
◎TOF−MS(m/z):
724,754,784
◎残存塩素分析:
<0.01%
◎水酸基当量:
371g/eq.(理論値377g/eq.)
1 H-NMR spectrum (in heavy acetone, δ, ppm):
2.0 (6H), 6.4 to 7.4 (26H)
31 P-NMR spectrum (in heavy acetone, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.0-11.5
◎ CHNP elemental analysis:
Theoretical value C: 60.6%, H: 4.6%, N: 5.6%, P: 12.3%
Measured value C: 60.7%, H: 4.5%, N: 5.6%, P: 12.4%
◎ TOF-MS (m / z):
724, 754, 784
◎ Residual chlorine analysis:
<0.01%
◎ Hydroxyl equivalent:
371 g / eq. (Theoretical value 377 g / eq.)

以上の分析結果から、この工程で得られた生成物は、[N(OC(CH)OH)(OC]、[N(OC(CH)OH)(OC]および[N(OC(CH)OH)(OC]の混合物であり、その平均組成が[N(OC(CH)OH)2.0(OC4.0]であることを確認した。 From the above analysis results, the products obtained in this step are [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) OH) (OC 6 H 5 ) 5 ], [N 3 P 3 (OC 6 H). 3 (CH 3 ) OH) 2 (OC 6 H 5 ) 4 ] and [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) OH) 3 (OC 6 H 5 ) 3 ], and its average composition Was confirmed to be [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) OH) 2.0 (OC 6 H 5 ) 4.0 ].

合成例7(形態2に係るヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
[工程1:上記方法B−dによるアセチル基含有環状ホスファゼン化合物の製造]
温度計、撹拌機、冷却管および滴下ロートを取り付けた3リットルの4つ口フラスコに、窒素気流下で水素化ナトリウム(76.0g, 3.20mol)を仕込み、ヘキサクロロシクロトリホスファゼン(173.8g,1.50unit mol)のTHF(700mL)溶液を加えた。これを0℃に維持しながら、フェノール(188.2g,2.00mol)のTHF(250mL)溶液を1時間かけて滴下した。反応混合物を1時間撹拌後、これに2,6−ジメチル−4−アセチルフェノール(180.6g,1.10mol)のTHF(250mL)溶液を1時間かけて滴下し、70℃にて6時間還流した。反応混合物を室温に冷却後、トルエン(1,150mL)および5%水酸化ナトリウム水溶液(500mL)を加えて分液ロートに移した。水層を分離後、トルエン層を5%水酸化ナトリウム水溶液(500mL)にて洗浄した。トルエン層を希硝酸にて中和後、水洗した。トルエン層を減圧濃縮し、388.6g(収率:94.0%)の生成物を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
Synthesis Example 7 (Production of hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound according to Form 2)
[Step 1: Production of acetyl group-containing cyclic phosphazene compound by method Bd above]
Under a nitrogen stream, sodium hydride (76.0 g, 3.20 mol) was charged into a 3 liter four-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, condenser and dropping funnel, and hexachlorocyclotriphosphazene (173.8 g). , 1.50 unit mol) in THF (700 mL) was added. While maintaining this at 0 ° C., a solution of phenol (188.2 g, 2.00 mol) in THF (250 mL) was added dropwise over 1 hour. After stirring the reaction mixture for 1 hour, a solution of 2,6-dimethyl-4-acetylphenol (180.6 g, 1.10 mol) in THF (250 mL) was added dropwise over 1 hour and refluxed at 70 ° C. for 6 hours. did. The reaction mixture was cooled to room temperature, toluene (1,150 mL) and 5% aqueous sodium hydroxide solution (500 mL) were added, and the mixture was transferred to a separatory funnel. After separating the aqueous layer, the toluene layer was washed with a 5% aqueous sodium hydroxide solution (500 mL). The toluene layer was neutralized with dilute nitric acid and washed with water. The toluene layer was concentrated under reduced pressure to obtain 388.6 g (yield: 94.0%) of the product. The analysis result of this product was as follows.

H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.04(12H), 2.49(6H),6.9〜7.8(24H)
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.3〜9.7
◎残存塩素分析:
<0.01%
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.04 (12H), 2.49 (6H), 6.9 to 7.8 (24H)
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.3-9.7
◎ Residual chlorine analysis:
<0.01%

以上の分析結果から、この生成物は、[N(OC(CHCOCH)(OC]、[N(OC(CHCOCH(OC]および[N(OC(CHCOCH(OC]の混合物であり、その平均組成が[N(OC(CHCOCH1.9(OC4.1]の環状ホスファゼン化合物であることを確認した。 From the above analysis results, this product is obtained from [N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 COCH 3 ) (OC 6 H 5 ) 5 ], [N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 COCH 3 ) 2 (OC 6 H 5 ) 4 ] and [N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 COCH 3 ) 3 (OC 6 H 5 ) 3 ] The composition was confirmed to be a cyclic phosphazene compound having a composition of [N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 COCH 3 ) 1.9 (OC 6 H 5 ) 4.1 ].

[工程2:バイヤー−ビリガー酸化工程]
温度計、撹拌機、還流冷却管および滴下ロートを取り付けた1リットルの4つ口フラスコに、工程1にて得られた化合物(192.9g,0.70unit mol)およびクロロホルム(300mL)を仕込み、内温0℃以下でm−クロロ過安息香酸(207.1g,1.20mol)を分割投入した。反応液を2時間還流撹拌後、分液ロートに移して20%亜硫酸水素ナトリウム水溶液、飽和重炭酸ナトリウム水溶液および飽和食塩水にて洗浄した。クロロホルム層を乾燥後、減圧濃縮して185.0g(収率92.5%)の褐色油状の生成物を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
[Step 2: Buyer-Billiger oxidation step]
A 1 liter four-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, reflux condenser and dropping funnel was charged with the compound obtained in Step 1 (192.9 g, 0.70 unit mol) and chloroform (300 mL), M-Chloroperbenzoic acid (207.1 g, 1.20 mol) was added in portions at an internal temperature of 0 ° C. or lower. The reaction solution was stirred under reflux for 2 hours, then transferred to a separatory funnel and washed with a 20% aqueous sodium hydrogen sulfite solution, a saturated aqueous sodium bicarbonate solution, and saturated brine. The chloroform layer was dried and concentrated under reduced pressure to obtain 185.0 g (yield 92.5%) of a brown oily product. The analysis result of this product was as follows.

H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.2(6H), 2.3(12H)6.8〜7.3(24H)
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.4〜10.6
以上の分析結果から、この生成物は、[N(OC(CHOCOCH)(OC]、[N(OC(CHOCOCH(OC]および[N(OC(CHOCOCH(OC]の混合物であり、その平均組成が[N(OC(CHOCOCH1.9(OC4.1]の環状ホスファゼン化合物であることを確認した。
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.2 (6H), 2.3 (12H) 6.8 to 7.3 (24H)
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.4 to 10.6
From the above analysis results, this product is obtained from [N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 OCOCH 3 ) (OC 6 H 5 ) 5 ], [N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 OCOCH 3 ) 2 (OC 6 H 5 ) 4 ] and [N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 OCOCH 3 ) 3 (OC 6 H 5 ) 3 ], the average It was confirmed that the composition was a cyclic phosphazene compound having a composition of [N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 OCOCH 3 ) 1.9 (OC 6 H 5 ) 4.1 ].

[工程3:脱アセチル化工程]
温度計、撹拌機および還流冷却管を取り付けた3リットルの4つ口フラスコに、工程2で得られた化合物(171.4g,0.60unit mol)、アセトン(200mL)および3M塩酸(20mL)を仕込み、3時間還流撹拌した。アセトンを減圧留去後、濃縮残渣に飽和重炭酸ナトリウム水溶液(300mL)を加えて分液ロートに移した。水層から生成物をMIBKにて抽出後、MIBK層を脱イオン水にて2回洗浄した。MIBK層を乾燥、濃縮して151.9g(収率96.6%)の生成物を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
[Step 3: Deacetylation step]
In a 3 liter four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer and a reflux condenser, the compound obtained in Step 2 (171.4 g, 0.60 unit mol), acetone (200 mL) and 3M hydrochloric acid (20 mL) were added. The mixture was stirred at reflux for 3 hours. Acetone was distilled off under reduced pressure, saturated aqueous sodium bicarbonate (300 mL) was added to the concentrated residue, and the mixture was transferred to a separatory funnel. After extracting the product from the aqueous layer with MIBK, the MIBK layer was washed twice with deionized water. The MIBK layer was dried and concentrated to obtain 151.9 g (yield 96.6%) of the product. The analysis result of this product was as follows.

H−NMRスペクトル(重アセトン中、δ、ppm):
2.0(12H),6.4〜7.3(24H),8.2(2H)
31P−NMRスペクトル(重アセトン中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.2〜10.2
◎CHNP元素分析:
理論値 C:61.4%,H:4.9%,N:5.4%,P:11.9%
実測値 C:61.2%,H:4.8%,N:5.5%,P:11.7%
◎TOF−MS(m/z):
738,782,826
◎残存塩素分析:
<0.01%
◎水酸基当量:
373g/eq.(理論値374g/eq.)
1 H-NMR spectrum (in heavy acetone, δ, ppm):
2.0 (12H), 6.4 to 7.3 (24H), 8.2 (2H)
31 P-NMR spectrum (in heavy acetone, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.2 to 10.2.
◎ CHNP elemental analysis:
Theoretical value C: 61.4%, H: 4.9%, N: 5.4%, P: 11.9%
Measured value C: 61.2%, H: 4.8%, N: 5.5%, P: 11.7%
◎ TOF-MS (m / z):
738, 782, 826
◎ Residual chlorine analysis:
<0.01%
◎ Hydroxyl equivalent:
373 g / eq. (Theoretical value 374 g / eq.)

以上の分析結果から、この生成物は、[N(OC(CHOH)(OC]、[N(OC(CHOH)(OC]および[N(OC(CHOH)(OC]の混合物であり、その平均組成が[N(OC(CHOH)2.1(OC3.9]であることを確認した。 From the above analysis results, this product is obtained from [N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 OH) (OC 6 H 5 ) 5 ], [N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3 )]. ) 2 OH) 2 (OC 6 H 5 ) 4 ] and [N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 OH) 3 (OC 6 H 5 ) 3 ] with an average composition of [ N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 OH) 2.1 (OC 6 H 5 ) 3.9 ].

合成例8(環状ホスファゼン化合物の製造)
PHOSPHORUS−NITROGEN COMPOUNDS,H.R.ALLCOCK著,1972年刊,151頁,ACADEMIC PRESS社(先に挙げた文献17)に記載されている方法に従い、ヘキサクロロシクロトリホスファゼン81%とオクタクロロシクロテトラホスファゼン19%とのクロロシクロホスファゼン混合物を用いて[NP(OCと[NP(OCとの混合物(白色固体/融点:65〜112℃)を得た。
Synthesis Example 8 (Production of cyclic phosphazene compound)
PHOSPHORUS-NITROGEN COMPOUNDS, H.P. R. Using a chlorocyclophosphazene mixture of 81% hexachlorocyclotriphosphazene and 19% octachlorocyclotetraphosphazene according to the method described in ALLCOCK, 1972, 151, ACADEMIC PRESS (Reference 17 mentioned above). To obtain a mixture of [NP (OC 6 H 5 ) 2 ] 3 and [NP (OC 6 H 5 ) 2 ] 4 (white solid / melting point: 65 to 112 ° C.).

実施例1(エポキシ化合物組成物の製造)
撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた300ミリリットルのフラスコ中に合成例1で製造したヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物(平均組成:[NP(OCOH)1.01(OC0.99)24.7g(0.10unit mol)、グリシジルエーテル類である2,2’−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)プロパン40.9g(0.12mol)およびトリフェニルホスフィン1.31g(0.005mol)を仕込み、140℃で撹拌反応を2時間行った。反応終了後、反応液を25℃まで冷却したところ、微黄色の粘稠物質66.8gが得られた。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
Example 1 (Production of epoxy compound composition)
Hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound prepared in Synthesis Example 1 (average composition: [NP (OC 6 H 4 OH) 1.01 ) in a 300 ml flask equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser and nitrogen inlet tube (OC 6 H 5 ) 0.99 ] 3 ) 24.7 g (0.10 unit mol), 40.9 g (0.12 mol) of 2,2′-bis (4-glycidyloxyphenyl) propane, which is a glycidyl ether, and Triphenylphosphine 1.31 g (0.005 mol) was charged, and a stirring reaction was performed at 140 ° C. for 2 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was cooled to 25 ° C., and 66.8 g of a slightly yellow viscous substance was obtained. The analysis result of this product was as follows.

◎IRスペクトル(KBr Pellet、cm−1):
ホスファゼン環(P=N) 1171,グリシジル基(エポキシC−O) 1243
H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
−CH 1.6, グリシジル 2.7,2.9,3.3,4.0,4.2, エポキシ開環部位 4.2,4.4, フェニルC−H 6.6−7.2
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 10.5
◎エポキシ当量
479g/eq.(理論値 478g/eq.)
IR spectrum (KBr Pellet, cm −1 ):
Phosphazene ring (P = N) 1171, glycidyl group (epoxy C—O) 1243
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
—CH 3 1.6, glycidyl 2.7, 2.9, 3.3, 4.0, 4.2, epoxy ring-opening site 4.2, 4.4, phenyl C—H 6.6-7. 2
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 10.5
◎ Epoxy equivalent 479 g / eq. (Theoretical value 478 g / eq.)

以上の分析結果およびGPC分析から、この生成物は、原料物質の[NP(OCOH)1.01(OC0.99を含まず、ホスファゼン環を有する多官能性エポキシ化合物と、過剰に用いた2,2’−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)プロパンとからなる混合物であることを確認した。 From the above analysis results and GPC analysis, this product does not contain the raw material [NP (OC 6 H 4 OH) 1.01 (OC 6 H 5 ) 0.99 ] 3 and has a polyfunctionality having a phosphazene ring. It was confirmed that the mixture was composed of an epoxy compound and 2,2′-bis (4-glycidyloxyphenyl) propane used in excess.

実施例2(エポキシ化合物組成物の製造)
撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた300ミリリットルのフラスコ中に合成例1で製造したヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物(平均組成:[NP(OCOH)1.01(OC0.99)24.7g(0.10unit mol)、グリシジルエーテル類である2,2’−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)プロパン68.1g(0.20mol)およびトリフェニルホスフィン2.6g(0.01mol)を仕込み、140℃で撹拌反応を2時間行った。反応終了後に反応液を25℃まで冷却したところ、微黄色の粘稠物質95.1gが得られた。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
Example 2 (Production of epoxy compound composition)
Hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound prepared in Synthesis Example 1 (average composition: [NP (OC 6 H 4 OH) 1.01 ) in a 300 ml flask equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser and nitrogen inlet tube (OC 6 H 5 ) 0.99 ] 3 ) 24.7 g (0.10 unit mol), 2,2′-bis (4-glycidyloxyphenyl) propane 68.1 g (0.20 mol) as glycidyl ethers and 2.6 g (0.01 mol) of triphenylphosphine was charged, and a stirring reaction was performed at 140 ° C. for 2 hours. When the reaction solution was cooled to 25 ° C. after the completion of the reaction, 95.1 g of a slightly yellow viscous substance was obtained. The analysis result of this product was as follows.

◎IRスペクトル(KBr Pellet、cm−1):
ホスファゼン環(P=N) 1172,グリシジル基(エポキシC−O) 1243
H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
−CH 1.6, グリシジル 2.7,2.9,3.3,4.0,4.2, エポキシ開環部位 4.2,4.4, フェニルC−H 6.6−7.2
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 10.5
◎エポキシ当量
322g/eq.(理論値 318g/eq.)
IR spectrum (KBr Pellet, cm −1 ):
Phosphazene ring (P = N) 1172, glycidyl group (epoxy C—O) 1243
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
—CH 3 1.6, glycidyl 2.7, 2.9, 3.3, 4.0, 4.2, epoxy ring-opening site 4.2, 4.4, phenyl C—H 6.6-7. 2
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 10.5
◎ Epoxy equivalent 322 g / eq. (Theoretical value 318 g / eq.)

以上の分析結果およびGPC分析から、この生成物は、原料物質の[NP(OCOH)1.01(OC0.99を含まず、ホスファゼン環を有する多官能性エポキシ化合物と、過剰に用いた2,2’−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)プロパンとからなる混合物であることを確認した。 From the above analysis results and GPC analysis, this product does not contain the raw material [NP (OC 6 H 4 OH) 1.01 (OC 6 H 5 ) 0.99 ] 3 and has a polyfunctionality having a phosphazene ring. It was confirmed that the mixture was composed of an epoxy compound and 2,2′-bis (4-glycidyloxyphenyl) propane used in excess.

実施例3(エポキシ化合物組成物の製造)
撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた300ミリリットルのフラスコ中に合成例1で製造したヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物(平均組成:[NP(OCOH)1.01(OC0.99)24.7g(0.10unit mol)、グリシジルエーテル類であるオルソクレゾールノボラックのグリシジルエーテル(日本化薬株式会社の商品名「EOCN-104S」:エポキシ当量218g/eq.)43.6g(0.20eq.)およびトリフェニルホスフィン1.3g(0.005mol)を仕込み、130℃で撹拌反応を2時間行った。反応終了後に反応液を25℃まで冷却したところ、微黄色の粘稠物質69.3gが得られた。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
Example 3 (Production of epoxy compound composition)
Hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound prepared in Synthesis Example 1 (average composition: [NP (OC 6 H 4 OH) 1.01 ) in a 300 ml flask equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser and nitrogen inlet tube (OC 6 H 5 ) 0.99 ] 3 ) 24.7 g (0.10 unit mol), glycidyl ether of orthocresol novolak which is a glycidyl ether (trade name “EOCN-104S” of Nippon Kayaku Co., Ltd .: epoxy equivalent 218 g / eq.) 43.6 g (0.20 eq.) And triphenylphosphine 1.3 g (0.005 mol) were charged, and a stirring reaction was performed at 130 ° C. for 2 hours. When the reaction solution was cooled to 25 ° C. after completion of the reaction, 69.3 g of a slightly yellow viscous substance was obtained. The analysis result of this product was as follows.

◎IRスペクトル(KBr Pellet、cm−1):
ホスファゼン環(P=N) 1173,グリシジル基(エポキシC−O) 1241
H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
−CH 1.6, グリシジル 2.7,2.9,3.3,4.0,4.2, エポキシ開環部位 4.2,4.4, フェニルC−H 6.6−7.2
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 10.5
◎エポキシ当量
703g/eq.(理論値 696g/eq.)
IR spectrum (KBr Pellet, cm −1 ):
Phosphazene ring (P = N) 1173, glycidyl group (epoxy C—O) 1241
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
—CH 3 1.6, glycidyl 2.7, 2.9, 3.3, 4.0, 4.2, epoxy ring-opening site 4.2, 4.4, phenyl C—H 6.6-7. 2
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 10.5
◎ Epoxy equivalent 703 g / eq. (Theoretical value 696 g / eq.)

以上の分析結果およびGPC分析から、この生成物は、原料物質の[NP(OCOH)1.01(OC0.99を含まず、ホスファゼン環を有する多官能性エポキシ化合物と、過剰に用いたオルソクレゾールノボラックのグリシジルエーテルとからなる混合物であることを確認した。 From the above analysis results and GPC analysis, this product does not contain the raw material [NP (OC 6 H 4 OH) 1.01 (OC 6 H 5 ) 0.99 ] 3 and has a polyfunctionality having a phosphazene ring. It was confirmed that the mixture was composed of an epoxy compound and glycidyl ether of orthocresol novolak used in excess.

実施例4(エポキシ化合物組成物の製造)
撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた300ミリリットルのフラスコ中に合成例2で製造したヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物(平均組成:[NP(OC−SO−COH)0.95(OC1.05)38.7g(0.10unit mol)、グリシジルエーテル類である2,2’−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)プロパン68.1g(0.20mol)およびトリフェニルホスフィン2.6g(0.01mol)を仕込み、140℃で撹拌反応を6時間行った。反応終了後に反応液を25℃まで冷却したところ、茶色固体の油状物109.3gが得られた。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
Example 4 (Production of epoxy compound composition)
Hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound prepared in Synthesis Example 2 (average composition: [NP (OC 6 H 4 —SO 2 —C) in a 300 ml flask equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser and nitrogen inlet tube 6 H 4 OH) 0.95 (OC 6 H 5 ) 1.05 ] 3 ) 38.7 g (0.10 unit mol), 2,2′-bis (4-glycidyloxyphenyl) propane 68, which is a glycidyl ether. 0.1 g (0.20 mol) and 2.6 g (0.01 mol) of triphenylphosphine were charged, and a stirring reaction was performed at 140 ° C. for 6 hours. When the reaction solution was cooled to 25 ° C. after completion of the reaction, 109.3 g of a brown solid oily substance was obtained. The analysis result of this product was as follows.

◎IRスペクトル(KBr Pellet、cm−1):
ホスファゼン環(P=N) 1174,グリシジル基(エポキシC−O) 1241,スルホン(S=O) 1160,1312
H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
グリシジル 2.7,2.9,3.3,4.0,4.2, エポキシ開環部位 4.2,4.4, フェニルC−H 7.2−7.9
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 10.9
◎エポキシ当量
368g/eq.(理論値 365g/eq.)
IR spectrum (KBr Pellet, cm −1 ):
Phosphazene ring (P = N) 1174, glycidyl group (epoxy C—O) 1241, sulfone (S═O) 1160, 1312
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Glycidyl 2.7, 2.9, 3.3, 4.0, 4.2, epoxy ring-opening site 4.2, 4.4, phenyl C—H 7.2-7.9
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 10.9
◎ Epoxy equivalent 368 g / eq. (Theoretical value 365 g / eq.)

以上の分析結果およびGPC分析から、この生成物は、原料物質の[NP(OC−SO−COH)0.95(OC1.05を含まず、ホスファゼン環を有する多官能性エポキシ化合物と、過剰に用いた2,2’−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)プロパンとからなる混合物であることを確認した。 From the above analysis results and GPC analysis, the product is free of [NP (OC 6 H 4 -SO 2 -C 6 H 4 OH) 0.95 (OC 6 H 5) 1.05] 3 of the raw material It was confirmed that the mixture was composed of a polyfunctional epoxy compound having a phosphazene ring and 2,2′-bis (4-glycidyloxyphenyl) propane used in excess.

実施例5(エポキシ化合物組成物の製造)
撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた300ミリリットルのフラスコ中に合成例3で製造したヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物([NP(OC−SO−COH)と[NP(OC−SO−COH)との混合物)54.4g(0.10unit mol)、グリシジルエーテル類である2,2’−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)プロパン68.1g(0.20mol)およびトリフェニルホスフィン2.6g(0.01mol)を仕込み、130℃で撹拌反応を1時間行った。反応終了後に反応液を25℃まで冷却したところ、褐色の油状物124.8gが得られた。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
Example 5 (Production of epoxy compound composition)
A hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound produced in Synthesis Example 3 ([NP (OC 6 H 4 —SO 2 —C 6 H 4) was prepared in a 300 ml flask equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser and nitrogen inlet tube. OH) 2 ] 3 and a mixture of [NP (OC 6 H 4 —SO 2 —C 6 H 4 OH) 2 ] 4 ), 54.4 g (0.10 unit mol), 2,2′- which is a glycidyl ether Bis (4-glycidyloxyphenyl) propane 68.1 g (0.20 mol) and triphenylphosphine 2.6 g (0.01 mol) were charged, and a stirring reaction was performed at 130 ° C. for 1 hour. After completion of the reaction, the reaction solution was cooled to 25 ° C. to obtain 124.8 g of a brown oily substance. The analysis result of this product was as follows.

◎IRスペクトル(KBr Pellet、cm−1):
ホスファゼン環(P=N) 1174,グリシジル基(エポキシC−O) 1241,スルホン(S=O) 1160,1312
H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
−CH 1.6, グリシジル 2.7,2.9,3.3,4.0,4.2, エポキシ開環部位 4.2,4.4, フェニルC−H 7.2−7.9
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 10.3
◎エポキシ当量
633g/eq.(理論値 626g/eq.)
IR spectrum (KBr Pellet, cm −1 ):
Phosphazene ring (P = N) 1174, glycidyl group (epoxy C—O) 1241, sulfone (S═O) 1160, 1312
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
—CH 3 1.6, glycidyl 2.7, 2.9, 3.3, 4.0, 4.2, epoxy ring-opening site 4.2, 4.4, phenyl C—H 7.2-7. 9
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 10.3
◎ Epoxy equivalent 633 g / eq. (Theoretical value 626 g / eq.)

この分析結果および、GPC分析より、この生成物は、原料物質のヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物([NP(OC−SO−COH)と[NP(OC−SO−COH)との混合物)を含まず、ホスファゼン環を有する多官能性エポキシ化合物と、過剰に用いた2,2’−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)プロパンとからなる混合物であることを確認した。 From this analysis result and GPC analysis, this product was obtained from the raw material hydroxy group-containing cyclic phosphazene compounds ([NP (OC 6 H 4 —SO 2 —C 6 H 4 OH) 2 ] 3 and [NP (OC 6). H 4 —SO 2 —C 6 H 4 OH) 2 ] 4 ), a polyfunctional epoxy compound having a phosphazene ring, and 2,2′-bis (4-glycidyloxyphenyl) used in excess ) Confirmed to be a mixture of propane.

実施例6(エポキシ化合物組成物の製造)
撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた300ミリリットルのフラスコ中に合成例4で製造したヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物(推定構造:[NP(OC−C(CH−COH)1.03(OC0.97)36.9g(0.10unit mol)、グリシジルエーテル類である2,2’−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)プロパン68.1g(0.20mol)およびトリフェニルホスフィン2.6g(0.01mol)を仕込み、130℃で撹拌反応を1時間行った。反応終了後に反応液を25℃まで冷却したところ、褐色の油状物107.3gが得られた。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
Example 6 (Production of epoxy compound composition)
Hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound prepared in Synthesis Example 4 in a 300 ml flask equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser and nitrogen inlet tube (presumed structure: [NP (OC 6 H 4 -C (CH 3 ) 2 -C 6 H 4 OH) 1.03 (OC 6 H 5 ) 0.97 ] 3 ) 36.9 g (0.10 unit mol), 2,2′-bis (4-glycidyloxy) which is a glycidyl ether 68.1 g (0.20 mol) of phenyl) propane and 2.6 g (0.01 mol) of triphenylphosphine were charged, and a stirring reaction was performed at 130 ° C. for 1 hour. After completion of the reaction, the reaction solution was cooled to 25 ° C. to obtain 107.3 g of a brown oily substance. The analysis result of this product was as follows.

◎IRスペクトル(KBr Pellet、cm−1):
ホスファゼン環(P=N) 1174,グリシジル基(エポキシC−O) 1241
H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
−CH 1.6, グリシジル 2.7,2.9,3.3,4.0,4.2, エポキシ開環部位 4.2,4.4, フェニルC−H 6.6−7.2
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 10.3
◎エポキシ当量
361g/eq.(理論値359g/eq.)
IR spectrum (KBr Pellet, cm −1 ):
Phosphazene ring (P = N) 1174, glycidyl group (epoxy C—O) 1241
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
—CH 3 1.6, glycidyl 2.7, 2.9, 3.3, 4.0, 4.2, epoxy ring-opening site 4.2, 4.4, phenyl C—H 6.6-7. 2
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 10.3
◎ Epoxy equivalent 361 g / eq. (Theoretical value 359 g / eq.)

この分析結果およびGPC分析より、この生成物は、原料物質のヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物[NP(OC−C(CH−COH)1.03(OC0.97を含まず、ホスファゼン環を有する多官能性エポキシ化合物と、過剰に用いた2,2’−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)プロパンとからなる混合物であることを確認した。 From this analysis result and GPC analysis, this product was obtained as a raw material hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound [NP (OC 6 H 4 -C (CH 3 ) 2 -C 6 H 4 OH) 1.03 (OC 6 H 5) 0.97] 3 contains no, it was confirmed that a mixture consisting of a polyfunctional epoxy compound, and excess was used 2,2'-bis (4-glycidyloxy-phenyl) propane having a phosphazene ring .

実施例7(エポキシ化合物組成物の製造)
撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた1リットルのフラスコ中に合成例5で製造したヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物(平均組成:[N(OC(CH)OH)2.0(OC4.0]/水酸基当量:375g/eq.)100g、グリシジルエーテル類である2,2’−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)メタン(エポキシ当量:160g/eq.)90g、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7(DBU)2gおよびTHF200mLを仕込み、60℃で20時間撹拌反応を行った。GPC分析にて原料の消失を確認後、THFを減圧留去した。残渣をクロロホルム400mLに希釈して分液ロートに移し、1%硝酸200mLで洗浄した。クロロホルム層を脱イオン水で中性になるまで洗浄後、乾燥、減圧濃縮して190gのエポキシ化合物組成物を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
Example 7 (Production of epoxy compound composition)
Hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound prepared in Synthesis Example 5 (average composition: [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH)] in a 1 liter flask equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser and nitrogen introduction tube 3 ) OH) 2.0 (OC 6 H 5 ) 4.0 ] / hydroxyl equivalent: 375 g / eq.) 100 g, 2,2′-bis (4-glycidyloxyphenyl) methane (epoxy equivalent) which is a glycidyl ether : 160 g / eq.) 90 g, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 (DBU) 2 g and THF 200 mL were charged, and the reaction was stirred at 60 ° C. for 20 hours. After confirming disappearance of the raw material by GPC analysis, THF was distilled off under reduced pressure. The residue was diluted with 400 mL of chloroform, transferred to a separatory funnel, and washed with 200 mL of 1% nitric acid. The chloroform layer was washed with deionized water until neutral, then dried and concentrated under reduced pressure to obtain 190 g of an epoxy compound composition. The analysis result of this product was as follows.

◎IRスペクトル(KBr Pellet、cm−1):
ホスファゼン環(P=N) 1,171,グリシジル基(エポキシC−O) 1,243
H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.1,2.6,2.8,3.2,3.8−4.2,6.6−7.2
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 10.5
◎エポキシ当量:
706g/eq.(理論値 699g/eq.)
IR spectrum (KBr Pellet, cm −1 ):
Phosphazene ring (P = N) 1,171, glycidyl group (epoxy C—O) 1,243
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.1, 2.6, 2.8, 3.2, 3.8-4.2, 6.6-7.2
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 10.5
◎ Epoxy equivalent:
706 g / eq. (Theoretical value 699 g / eq.)

以上の分析結果およびGPC分析から、この生成物は原料物質の[N(OC(CH)OH)2.0(OC4.0]を含まず、ホスファゼン環を有する多官能性エポキシ化合物と、過剰に用いた2,2’−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)メタンとからなる混合物であることを確認した。 From the above analysis results and GPC analysis, this product does not contain the raw material [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) OH) 2.0 (OC 6 H 5 ) 4.0 ], and phosphazene. It was confirmed that the mixture was composed of a polyfunctional epoxy compound having a ring and 2,2′-bis (4-glycidyloxyphenyl) methane used in excess.

実施例8(エポキシ化合物組成物の製造)
温度計、撹拌機、還流冷却管および窒素導入管を備えた1リットルのフラスコ中に合成例6で合成したヒドロキシ基を有する環状ホスファゼン化合物(平均組成:[N(OC(CH)OH)2.0(OC4.0]/水酸基当量:371g/eq.)100g、グリシジルエーテル類である2,2’−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)メタン91g、DBU2gおよびTHF200mLを仕込み、60℃で24時間撹拌した。GPC分析にて原料の消失を確認後、THFを減圧留去した。残渣をクロロホルム400mLに希釈して分液ロートに移し、1%硝酸200mLで洗浄した。クロロホルム層を脱イオン水で中性になるまで洗浄後、乾燥、減圧濃縮し、191gのエポキシ化合物組成物を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
Example 8 (Production of epoxy compound composition)
Cyclic phosphazene compound having a hydroxy group synthesized in Synthesis Example 6 in a 1 liter flask equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser and a nitrogen introduction tube (average composition: [N 3 P 3 (OC 6 H 3 ( CH 3 ) OH) 2.0 (OC 6 H 5 ) 4.0 ] / hydroxyl equivalent: 371 g / eq.) 100 g, 91 g of 2,2′-bis (4-glycidyloxyphenyl) methane, which is a glycidyl ether, DBU2g and THF200mL were prepared, and it stirred at 60 degreeC for 24 hours. After confirming disappearance of the raw material by GPC analysis, THF was distilled off under reduced pressure. The residue was diluted with 400 mL of chloroform, transferred to a separatory funnel, and washed with 200 mL of 1% nitric acid. The chloroform layer was washed with deionized water until neutral, then dried and concentrated under reduced pressure to obtain 191 g of an epoxy compound composition. The analysis result of this product was as follows.

◎IRスペクトル(KBr Pellet、cm−1):
ホスファゼン環(P=N) 1,171,グリシジル基(エポキシC−O) 1,243
H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.0,2.6,2.8,3.2,3.8−4.2,6.4−7.2
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 10.5
◎エポキシ当量
705g/eq.(理論値 699g/eq.)
IR spectrum (KBr Pellet, cm −1 ):
Phosphazene ring (P = N) 1,171, glycidyl group (epoxy C—O) 1,243
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.0, 2.6, 2.8, 3.2, 3.8-4.2, 6.4-7.2
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 10.5
◎ Epoxy equivalent 705 g / eq. (Theoretical value 699 g / eq.)

以上の分析結果およびGPC分析から、この生成物は、原料物質の[N(OC(CH)OH)2.0(OC4.0]を含まず、ホスファゼン環を有する多官能性エポキシ化合物と、過剰に用いた2,2’−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)メタンとからなる混合物であることを確認した。 From the above analysis results and GPC analysis, this product does not contain the raw material [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) OH) 2.0 (OC 6 H 5 ) 4.0 ], It was confirmed that the mixture was composed of a polyfunctional epoxy compound having a phosphazene ring and 2,2′-bis (4-glycidyloxyphenyl) methane used in excess.

実施例9(エポキシ化合物組成物の製造)
温度計、撹拌機、還流冷却管および窒素導入管を備えた1リットルのフラスコ中に合成例7で合成したヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物(平均組成:[N(OC(CHOH)2.1(OC3.9]/水酸基当量:373g/eq.)100g、グリシジルエーテル類である2,2’−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)メタン90g、DBU2gおよびTHF200mLを仕込み、60℃で24時間撹拌した。GPC分析にて原料の消失を確認後、THFを減圧留去した。残渣をクロロホルム400mLに希釈して分液ロートに移し、1%硝酸200mLで洗浄した。クロロホルム層を脱イオン水で中性になるまで洗浄後、共沸脱水および減圧濃縮し、190gのエポキシ化合物組成物を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
Example 9 (Production of epoxy compound composition)
Hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound synthesized in Synthesis Example 7 in a 1 liter flask equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser and a nitrogen introduction tube (average composition: [N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 OH) 2.1 (OC 6 H 5 ) 3.9 ] / hydroxyl equivalent: 373 g / eq.) 100 g, glycidyl ethers 2,2′-bis (4-glycidyloxyphenyl) methane 90 g, DBU2g and THF200mL were prepared, and it stirred at 60 degreeC for 24 hours. After confirming disappearance of the raw material by GPC analysis, THF was distilled off under reduced pressure. The residue was diluted with 400 mL of chloroform, transferred to a separatory funnel, and washed with 200 mL of 1% nitric acid. The chloroform layer was washed with deionized water until neutral, then azeotropically dehydrated and concentrated under reduced pressure to obtain 190 g of an epoxy compound composition. The analysis result of this product was as follows.

◎IRスペクトル(KBr Pellet、cm−1):
ホスファゼン環(P=N) 1,171、グリシジル基(エポキシC−O) 1,243
H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.0,2.6,2.8,3.8−4.2,6.6−7.2
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 10.5
◎エポキシ当量:
720g/eq.(理論値 713g/eq.)
IR spectrum (KBr Pellet, cm −1 ):
Phosphazene ring (P = N) 1,171, glycidyl group (epoxy C—O) 1,243
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.0, 2.6, 2.8, 3.8-4.2, 6.6-7.2
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 10.5
◎ Epoxy equivalent:
720 g / eq. (Theoretical value 713 g / eq.)

以上の分析結果およびGPC分析から、この生成物は、原料物質の[N(OC(CHOH)2.1(OC3.9]を含まず、ホスファゼン環を有する多官能性エポキシ化合物と、過剰に用いた2,2’−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)メタンとからなる混合物であることを確認した。 From the above analysis results and GPC analysis, this product does not contain the raw material [N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 OH) 2.1 (OC 6 H 5 ) 3.9 ]. It was confirmed that the mixture was composed of a polyfunctional epoxy compound having a phosphazene ring and 2,2′-bis (4-glycidyloxyphenyl) methane used in excess.

実施例10(エポキシ化合物組成物の製造)
撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた300ミリリットルのフラスコ中に合成例5で製造したヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物(平均組成:[N(OC(CH)OH)2.0(OC4.0]/水酸基当量:375g/eq.)100.0g、グリシジルエーテル類であるオルソクレゾールノボラックのグリシジルエーテル(日本化薬株式会社の商品名「EOCN-1020−65」:エポキシ当量197g/eq.)105.1gおよびトリフェニルホスフィン2.0gを仕込み、130℃で2時間加熱撹拌した。反応液を25℃まで冷却し、微黄色の固体物質210.1gを得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
Example 10 (Production of epoxy compound composition)
Hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound prepared in Synthesis Example 5 (average composition: [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH)] in a 300 ml flask equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser and nitrogen introduction tube 3 ) OH) 2.0 (OC 6 H 5 ) 4.0 ] / hydroxyl equivalent: 375 g / eq.) 100.0 g, glycidyl ether of orthocresol novolak which is glycidyl ethers (trade name of Nippon Kayaku Co., Ltd.) "EOCN-1020-65": Epoxy equivalent 197 g / eq.) 105.1 g and triphenylphosphine 2.0 g were charged, and the mixture was heated and stirred at 130 ° C for 2 hours. The reaction solution was cooled to 25 ° C. to obtain 210.1 g of a slightly yellow solid substance. The analysis result of this product was as follows.

◎IRスペクトル(KBr Pellet、cm−1):
ホスファゼン環(P=N) 1173,グリシジル基(エポキシC−O) 1241
H−NMRスペクトル(DMSO−d中、δ、ppm):
1.6, 2.1, 2.7, 2.9, 3.3, 4.0, 4.2, 4.4,6.6−7.2
31P−NMRスペクトル(DMSO−d中、δ、ppm):
三量体(P=N) 10.5
◎エポキシ当量
739g/eq.(理論値 727g/eq.)
IR spectrum (KBr Pellet, cm −1 ):
Phosphazene ring (P = N) 1173, glycidyl group (epoxy C—O) 1241
1 H-NMR spectrum (in DMSO-d 6, δ, ppm ):
1.6, 2.1, 2.7, 2.9, 3.3, 4.0, 4.2, 4.4, 6.6-7.2
31 P-NMR spectrum (in DMSO-d 6 , δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 10.5
◎ Epoxy equivalent 739 g / eq. (Theoretical value: 727 g / eq.)

以上の分析結果およびGPC分析から、この生成物は、原料物質の[N(OC(CH)OH)2.0(OC4.0]を含まず、ホスファゼン環を有する多官能性エポキシ化合物と、過剰に用いたオルソクレゾールノボラックのグリシジルエーテルとからなる混合物であることを確認した。 From the above analysis results and GPC analysis, this product does not contain the raw material [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) OH) 2.0 (OC 6 H 5 ) 4.0 ], It was confirmed that the mixture was composed of a polyfunctional epoxy compound having a phosphazene ring and glycidyl ether of orthocresol novolak used in excess.

実施例11(エポキシ化合物組成物の製造)
撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた300ミリリットルのフラスコ中に合成例6で製造したヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物(平均組成:[N(OC(CH)OH)2.0(OC4.0]/水酸基当量:371g/eq.)100.0g、グリシジルエーテル類であるオルソクレゾールノボラックのグリシジルエーテル(日本化薬株式会社の商品名「EOCN-1020−65」:エポキシ当量197g/eq.)106.2gおよびトリフェニルホスフィン2.0gを仕込み、130℃で2時間加熱撹拌した。反応液を25℃まで冷却し、褐色の固体物質211.2gを得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
Example 11 (Production of epoxy compound composition)
Hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound prepared in Synthesis Example 6 in a 300 ml flask equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser and nitrogen inlet tube (average composition: [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) OH) 2.0 (OC 6 H 5 ) 4.0 ] / hydroxyl equivalent: 371 g / eq.) 100.0 g, glycidyl ether of ortho-cresol novolak which is a glycidyl ether (trade name of Nippon Kayaku Co., Ltd.) “EOCN-1020-65”: Epoxy equivalent 197 g / eq.) 106.2 g and triphenylphosphine 2.0 g were charged, and the mixture was heated and stirred at 130 ° C. for 2 hours. The reaction solution was cooled to 25 ° C. to obtain 211.2 g of a brown solid substance. The analysis result of this product was as follows.

◎IRスペクトル(KBr Pellet、cm−1):
ホスファゼン環(P=N) 1173,グリシジル基(エポキシC−O) 1241
H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
−CH 1.6, グリシジル 2.7, 2.9, 3.3, 4.0, 4.2, エポキシ開環部位 4.2, 4.4, フェニルC−H 6.6−7.2
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 10.5
◎エポキシ当量
745g/eq.(理論値 727g/eq.)
IR spectrum (KBr Pellet, cm −1 ):
Phosphazene ring (P = N) 1173, glycidyl group (epoxy C—O) 1241
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
—CH 3 1.6, glycidyl 2.7, 2.9, 3.3, 4.0, 4.2, epoxy ring-opening site 4.2, 4.4, phenyl C—H 6.6-7. 2
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 10.5
◎ Epoxy equivalent 745 g / eq. (Theoretical value: 727 g / eq.)

以上の分析結果およびGPC分析から、この生成物は、原料物質の[N(OC(CH)OH)2.0(OC4.0]を含まず、ホスファゼン環を有する多官能性エポキシ化合物と、過剰に用いたオルソクレゾールノボラックのグリシジルエーテルとからなる混合物であることを確認した。 From the above analysis results and GPC analysis, this product does not contain the raw material [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) OH) 2.0 (OC 6 H 5 ) 4.0 ], It was confirmed that the mixture was composed of a polyfunctional epoxy compound having a phosphazene ring and glycidyl ether of orthocresol novolak used in excess.

実施例12(エポキシ化合物組成物の製造)
撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた300ミリリットルのフラスコ中に合成例7で製造したヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物(平均組成:[N(OC(CHOH)2.1(OC3.9]/水酸基当量:373g/eq.)100.0g、グリシジルエーテル類であるオルソクレゾールノボラックのグリシジルエーテル(日本化薬株式会社の商品名「EOCN-1020−65」:エポキシ当量197g/eq.)106.2gおよびトリフェニルホスフィン2.0gを仕込み、130℃で2時間加熱撹拌した。反応液を25℃まで冷却し、褐色の固体物質211.2gを得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
Example 12 (Production of epoxy compound composition)
Hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound produced in Synthesis Example 7 in a 300 ml flask equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser and nitrogen inlet tube (average composition: [N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 OH) 2.1 (OC 6 H 5 ) 3.9 ] / hydroxyl equivalent: 373 g / eq.) 100.0 g, glycidyl ether of orthocresol novolak which is glycidyl ether (product of Nippon Kayaku Co., Ltd.) Name “EOCN-1020-65”: 106.2 g of epoxy equivalent 197 g / eq.) And 2.0 g of triphenylphosphine were added, and the mixture was heated and stirred at 130 ° C. for 2 hours. The reaction solution was cooled to 25 ° C. to obtain 211.2 g of a brown solid substance. The analysis result of this product was as follows.

◎IRスペクトル(KBr Pellet、cm−1):
ホスファゼン環(P=N) 1173,グリシジル基(エポキシC−O) 1241
H−NMRスペクトル(DMSO−d中、δ、ppm):
−CH 1.6, グリシジル 2.7, 2.9, 3.3, 4.0, 4.2, エポキシ開環部位 4.2, 4.4, フェニルC−H 6.6−7.2
31P−NMRスペクトル(DMSO−d中、δ、ppm):
三量体(P=N) 10.5
◎エポキシ当量
782g/eq.(理論値 765g/eq.)
IR spectrum (KBr Pellet, cm −1 ):
Phosphazene ring (P = N) 1173, glycidyl group (epoxy C—O) 1241
1 H-NMR spectrum (in DMSO-d 6, δ, ppm ):
—CH 3 1.6, glycidyl 2.7, 2.9, 3.3, 4.0, 4.2, epoxy ring-opening site 4.2, 4.4, phenyl C—H 6.6-7. 2
31 P-NMR spectrum (in DMSO-d 6 , δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 10.5
◎ Epoxy equivalent 782 g / eq. (Theoretical value 765 g / eq.)

以上の分析結果およびGPC分析から、この生成物は、原料物質の[N(OC(CHOH)2.1(OC3.9]を含まず、ホスファゼン環を有する多官能性エポキシ化合物と、過剰に用いた、オルソクレゾールノボラックのグリシジルエーテルとからなる混合物であることを確認した。 From the above analysis results and GPC analysis, this product does not contain the raw material [N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 OH) 2.1 (OC 6 H 5 ) 3.9 ]. It was confirmed that the mixture was composed of a polyfunctional epoxy compound having a phosphazene ring and an excessively used glycidyl ether of orthocresol novolak.

実施例13〜18(樹脂成形体の作製)
実施例1から6で製造したエポキシ化合物組成物のうちの一つ50.0部とジシアンジアミド1.0部とを混合して均一にした後、これをPTFEの型に流し込んで160℃で2時間および190℃で3時間加熱して硬化させ、1/16インチ厚および5mm厚の二種類のシート状硬化物(樹脂成形体)を作製した。このシート状硬化物は、IRスペクトルによってエポキシ基の吸収が完全に消失していることを確認した。
Examples 13 to 18 (Production of resin molded body)
50.0 parts of one of the epoxy compound compositions prepared in Examples 1 to 6 and 1.0 part of dicyandiamide were mixed and made uniform, and then poured into a PTFE mold for 2 hours at 160 ° C. Then, it was cured by heating at 190 ° C. for 3 hours to produce two types of sheet-like cured products (resin moldings) having a thickness of 1/16 inch and 5 mm. This sheet-like cured product was confirmed by the IR spectrum that the absorption of epoxy groups completely disappeared.

比較例1
ビスフェノール−Aのジグリシジルエーテル(ジャパンエポキシレジン株式会社の商品名「jER828」:エポキシ当量189g/eq.)40.0部、合成例8で合成した環状ホスファゼン化合物7.0部およびジシアンジアミド1.0部を混合して均一にし、実施例13〜18と同様にしてシート状硬化物を作製した。
Comparative Example 1
40.0 parts of diglycidyl ether of bisphenol-A (trade name “jER828”: epoxy equivalent 189 g / eq. Of Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), 7.0 parts of cyclic phosphazene compound synthesized in Synthesis Example 8 and 1.0 of dicyandiamide Parts were mixed and made uniform, and a sheet-like cured product was produced in the same manner as in Examples 13-18.

比較例2
ビスフェノール−Aのジグリシジルエーテル(ジャパンエポキシレジン株式会社の商品名「jER828」:エポキシ当量189g/eq.)40.0部、合成例8で合成した環状ホスファゼン化合物15.0部およびジシアンジアミド1.0部を混合して均一にし、実施例13〜18と同様にしてシート状硬化物を作製した。
Comparative Example 2
40.0 parts of diglycidyl ether of bisphenol-A (trade name “jER828”: epoxy equivalent 189 g / eq. Of Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), 15.0 parts of cyclic phosphazene compound synthesized in Synthesis Example 8 and 1.0 of dicyandiamide Parts were mixed and made uniform, and a sheet-like cured product was produced in the same manner as in Examples 13-18.

実施例19〜24(樹脂成形体の作製)
実施例7から12で製造したエポキシ化合物組成物のうちの一つ50.0部とジシアンジアミド1.0部とを混合して均一にした後、これをPTFE製の型に流し込んで160℃で2時間および190℃で3時間加熱し硬化させ、1/16インチ厚および5mm厚の二種類のシート状硬化物(樹脂成形体)を作製した。このシート状硬化物は、IRスペクトルによってエポキシ基の吸収が完全に消失していることを確認した。
Examples 19 to 24 (Production of resin molded body)
50.0 parts of one of the epoxy compound compositions produced in Examples 7 to 12 and 1.0 part of dicyandiamide were mixed and made uniform, and then poured into a PTFE mold at 160 ° C. for 2 hours. It was cured by heating at 190 ° C. for 3 hours and two types of sheet-like cured products (resin molded bodies) having a thickness of 1/16 inch and 5 mm. This sheet-like cured product was confirmed by the IR spectrum that the absorption of epoxy groups completely disappeared.

評価1
実施例13〜24および比較例1,2で得られたシート状硬化物について、燃焼性、高温信頼性および耐熱性を調べた。燃焼性および耐熱性は1/16インチ厚のシート状硬化物を用いて評価した。また、耐熱性は5mm厚のシート状硬化物を用いて評価した。各項目の評価方法は次の通りである。結果を表1に示す。
Evaluation 1
The sheet-like cured products obtained in Examples 13 to 24 and Comparative Examples 1 and 2 were examined for combustibility, high temperature reliability, and heat resistance. Flammability and heat resistance were evaluated using a 1/16 inch thick sheet-like cured product. The heat resistance was evaluated using a sheet-like cured product having a thickness of 5 mm. The evaluation method for each item is as follows. The results are shown in Table 1.

(燃焼性)
アンダーライターズラボラトリーズ(Underwriter’s Laboratories Inc.)のUL−94規格垂直燃焼試験に基づき、10回接炎時の合計燃焼時間と燃焼時の滴下物による綿着火の有無により、V−0、V−1、V−2および規格外の四段階に分類した。評価基準を以下に示す。難燃性レベルはV−0>V−1>V−2>規格外の順に低下する。
V−0:下記の条件を全て満たす。
(A)試験片5本を1本につき二回ずつ、合計10回の接炎後からの消炎時間の合計が50秒以内。
(B)試験片5本を1本につき二回ずつ接炎を行い、それぞれの接炎後からの消炎時間が5秒以内。
(C)すべての試験片で滴下物による、300mm下の脱脂綿への着火がない。
(D)すべての試験片で、二回目の接炎後のグローイングは30秒以内。
(E)すべての試験片で、クランプまでフレーミングしない。
V−1:下記の条件を全て満たす。
(A)試験片5本を1本につき二回ずつ、合計10回の接炎後からの消炎時間の合計が250秒以内。
(B)試験片5本を1本につき二回ずつ接炎を行い、それぞれの接炎後からの消炎時間が30秒以内。
(C)すべての試験片で滴下物による、300mm下の脱脂綿への着火がない。
(D)すべての試験片で、二回目の接炎後のグローイングは60秒以内。
(E)すべての試験片で、クランプまでフレーミングしない。
V−2:下記の条件を全て満たす。
(A)試験片5本を1本につき二回ずつ、合計10回の接炎後からの消炎時間の合計が250秒以内。
(B)試験片5本を1本につき二回ずつ接炎を行い、それぞれの接炎後からの消炎時間が30秒以内。
(C)試験片5本のうち、少なくとも1本は、滴下物による、300mm下の脱脂綿への着火がある。
(D)すべての試験片で、二回目の接炎後のグローイングは60秒以内。
(E)すべての試験片で、クランプまでフレーミングしない。
(Combustion quality)
Based on Underwriters Laboratories Inc.'s UL-94 standard vertical combustion test, V-0, V depending on the total combustion time at the 10th flame contact and the presence or absence of cotton ignition by dripping at the time of combustion. -1, V-2 and non-standard four stages. Evaluation criteria are shown below. The flame retardancy level decreases in the order of V-0>V-1>V-2> non-standard.
V-0: All the following conditions are satisfied.
(A) The total extinguishing time after 10 times of flame contact is within 50 seconds, 5 test pieces twice each.
(B) The test piece was fired twice for each of the five test pieces, and the flame-out time after each contact was within 5 seconds.
(C) There is no ignition of the absorbent cotton under 300 mm due to the drop in all the test pieces.
(D) Growing after the second flame contact is within 30 seconds for all specimens.
(E) All specimens are not framing to the clamp.
V-1: All the following conditions are satisfied.
(A) The total extinguishing time after a total of 10 flame contact times is less than 250 seconds, 5 test pieces twice each.
(B) Flame test was performed twice for each of five test pieces, and the flame extinguishing time after each flame contact was within 30 seconds.
(C) There is no ignition of the absorbent cotton under 300 mm due to the drop in all the test pieces.
(D) For all specimens, the glowing after the second flame contact is within 60 seconds.
(E) All specimens are not framing to the clamp.
V-2: All the following conditions are satisfied.
(A) The total extinguishing time after a total of 10 flame contact times is less than 250 seconds, 5 test pieces twice each.
(B) Flame test was performed twice for each of five test pieces, and the flame extinguishing time after each flame contact was within 30 seconds.
(C) At least one of the five test pieces is ignited on the absorbent cotton under 300 mm by the drop.
(D) For all specimens, the glowing after the second flame contact is within 60 seconds.
(E) All specimens are not framing to the clamp.

(高温信頼性)
シート状硬化物を80℃、相対湿度85%の恒温恒湿装置に48時間保管した後、288℃で20分間処理し、外観の変化を観察した。表1において、「有」は、シート状化合物の表面にブリードアウトによる外観変化がないこと(すなわち、高温信頼性があること)を示す。また、「無」は、シート状化合物の表面にブリードアウトによる外観変化があること(すなわち、高温信頼性がないこと)を示す。
(High temperature reliability)
The sheet-like cured product was stored in a constant temperature and humidity apparatus at 80 ° C. and 85% relative humidity for 48 hours, then treated at 288 ° C. for 20 minutes, and the change in appearance was observed. In Table 1, “Yes” indicates that the surface of the sheet-like compound does not change in appearance due to bleed-out (that is, has high temperature reliability). “None” indicates that the surface of the sheet-like compound has an appearance change due to bleed-out (that is, there is no high temperature reliability).

(耐熱性)
セイコー電子工業株式会社の商品名「DMS−200」を用い、測定長(測定治具間隔)を20mmとして下記の条件下でシート状硬化物の貯蔵弾性率(ε’)の測定を行い、当該貯蔵弾性率(ε’)の変曲点をガラス転移温度(℃)とした。このガラス転移温度は、高いほど耐熱性に優れていることを示す。
測定雰囲気:乾燥空気雰囲気
測定温度:20〜400℃の範囲内
測定試料:幅9mm、長さ40mmにスリットしたシート状硬化物
(Heat-resistant)
Using the trade name “DMS-200” of Seiko Denshi Kogyo Co., Ltd., the storage length (measurement jig interval) is 20 mm, and the storage elastic modulus (ε ′) of the sheet-like cured product is measured under the following conditions. The inflection point of the storage elastic modulus (ε ′) was defined as the glass transition temperature (° C.). It shows that it is excellent in heat resistance, so that this glass transition temperature is high.
Measurement atmosphere: dry air atmosphere Measurement temperature: within the range of 20 to 400 ° C. Measurement sample: sheet-like cured product slit to 9 mm width and 40 mm length

Figure 2015014012
Figure 2015014012

表1から明らかなように、実施例13〜24および比較例1,2のシート状硬化物は、いずれも難燃性に優れているが、比較例1,2は耐熱性および高温信頼性を欠くのに対し、実施例13〜24はこれらの項目においても優れている。   As is clear from Table 1, the cured sheets of Examples 13 to 24 and Comparative Examples 1 and 2 are all excellent in flame retardancy, but Comparative Examples 1 and 2 have heat resistance and high temperature reliability. On the other hand, Examples 13-24 are excellent also in these items.

実施例25〜30(樹脂成形体の作製)
実施例1、2および4で製造したエポキシ化合物組成物、オルソクレゾールノボラックのグリシジルエーテル(日本化薬株式会社の商品名「EOCN−104S」:エポキシ当量218g/eq.)、ジシアンジアミドおよび2―エチル―4−メチルイミダゾールを表2に示す割合で混合し、樹脂ワニスを調製した。このワニスをガラスクロス(日東紡績株式会社製の商品名「WEA7628」:処理シラン系)に含浸塗布して150℃で乾燥させ、樹脂分50%のプリプレグを得た。
Examples 25-30 (Preparation of a resin molding)
Epoxy compound compositions produced in Examples 1, 2, and 4, glycidyl ether of orthocresol novolak (trade name “EOCN-104S” of Nippon Kayaku Co., Ltd .: epoxy equivalent 218 g / eq.), Dicyandiamide and 2-ethyl- 4-Methylimidazole was mixed in the ratio shown in Table 2 to prepare a resin varnish. This varnish was impregnated and applied to glass cloth (trade name “WEA7628” manufactured by Nitto Boseki Co., Ltd .: treated silane) and dried at 150 ° C. to obtain a prepreg having a resin content of 50%.

比較例3,4
合成例8で製造した環状ホスファゼン化合物、ビスフェノール−Aのジグリシジルエーテル(ジャパンエポキシレジン株式会社の商品名「jER828」:エポキシ当量189g/eq.)、オルソクレゾールノボラックのグリシジルエーテル(日本化薬株式会社の商品名「EOCN-104S」:エポキシ当量218g/eq.)、ジシアンジアミドおよび2―エチル―4−メチルイミダゾールを表2に示す割合で混合し、樹脂ワニスを調製した。そして、この樹脂ワニスを用い、実施例25〜30と同様にしてプリプレグを得た。
Comparative Examples 3 and 4
Cyclic phosphazene compound produced in Synthesis Example 8, diglycidyl ether of bisphenol-A (trade name “jER828” of Japan Epoxy Resin Co., Ltd .: epoxy equivalent 189 g / eq.), Glycidyl ether of orthocresol novolac (Nippon Kayaku Co., Ltd.) Product name “EOCN-104S”: epoxy equivalent 218 g / eq.), Dicyandiamide and 2-ethyl-4-methylimidazole were mixed in the proportions shown in Table 2 to prepare a resin varnish. And using this resin varnish, it carried out similarly to Examples 25-30, and obtained the prepreg.

実施例31〜36(樹脂成形体の作製)
実施例7〜12で製造したエポキシ化合物組成物、オルソクレゾールノボラックのグリシジルエーテル(日本化薬株式会社の商品名「EOCN−104S」:エポキシ当量218g/eq.)、ジシアンジアミドおよび2―メチルイミダゾールを表3に示す割合で混合し、樹脂ワニスを調製した。このワニスをガラスクロス(日東紡績株式会社の商品名「WEA7628」:処理シラン系)に含浸塗布して150℃で乾燥させ、樹脂分50%のプリプレグを得た。
Examples 31-36 (Preparation of resin molding)
The epoxy compound compositions produced in Examples 7 to 12, glycidyl ether of orthocresol novolak (trade name “EOCN-104S” of Nippon Kayaku Co., Ltd .: epoxy equivalent 218 g / eq.), Dicyandiamide and 2-methylimidazole The resin varnish was prepared by mixing at a ratio shown in 3. This varnish was impregnated and applied to a glass cloth (trade name “WEA 7628”: treated silane system of Nitto Boseki Co., Ltd.) and dried at 150 ° C. to obtain a prepreg having a resin content of 50%.

比較例5,6
合成例8で製造した環状ホスファゼン化合物、ビスフェノール−Aのジグリシジルエーテル(ジャパンエポキシレジン株式会社の商品名「jER828」:エポキシ当量189g/eq.)、オルソクレゾールノボラックのグリシジルエーテル(日本化薬株式会社の商品名「EOCN−104S」:エポキシ当量218g/eq.)、ジシアンジアミドおよび2―メチルイミダゾールを表3に示す割合で混合し、樹脂ワニスを調製した。そして、この樹脂ワニスを用い、実施例31〜36と同様にしてプリプレグを得た。
Comparative Examples 5 and 6
Cyclic phosphazene compound produced in Synthesis Example 8, diglycidyl ether of bisphenol-A (trade name “jER828” of Japan Epoxy Resin Co., Ltd .: epoxy equivalent 189 g / eq.), Glycidyl ether of orthocresol novolac (Nippon Kayaku Co., Ltd.) Trade name “EOCN-104S”: epoxy equivalent 218 g / eq.), Dicyandiamide and 2-methylimidazole were mixed in the proportions shown in Table 3 to prepare a resin varnish. And using this resin varnish, it carried out similarly to Examples 31-36, and obtained the prepreg.

評価2
実施例25〜36および比較例3〜6で得られた各プリプレグを8枚ずつ重ね、その両面に厚さ18μmの銅箔を重ねて温度170℃、圧力32kg/cm(3.1MPa)の条件で1時間加熱加圧成形した。これにより得られた両面銅張積層板の両面をエッチングし、試料(1.6mm厚)を得た。得られた試料について、評価1と同じ方法で燃焼性および高温信頼性を評価した。また、試料の耐熱性は、実施例25〜36および比較例3〜6で得られた樹脂ワニスのガラス転移温度により評価した。このガラス転移温度は、樹脂ワニスをオーブン中で170℃/1時間硬化し、TMA(SEIKO社製の「TMA/SS220」)にて昇温速度10℃/分の条件で測定した。結果を表2,3に示す。
Evaluation 2
Eight prepregs obtained in Examples 25 to 36 and Comparative Examples 3 to 6 were stacked one by one, and a copper foil having a thickness of 18 μm was stacked on both sides thereof at a temperature of 170 ° C. and a pressure of 32 kg / cm 2 (3.1 MPa). It was heated and pressed under conditions for 1 hour. Both surfaces of the double-sided copper-clad laminate thus obtained were etched to obtain a sample (1.6 mm thickness). About the obtained sample, combustibility and high temperature reliability were evaluated by the same method as in Evaluation 1. Moreover, the heat resistance of the sample was evaluated by the glass transition temperature of the resin varnish obtained in Examples 25 to 36 and Comparative Examples 3 to 6. The glass transition temperature was measured by curing the resin varnish in an oven at 170 ° C. for 1 hour and using TMA (“TMA / SS220” manufactured by SEIKO) at a temperature rising rate of 10 ° C./min. The results are shown in Tables 2 and 3.

Figure 2015014012
Figure 2015014012

Figure 2015014012
Figure 2015014012

表2,3から明らかなように、実施例25〜36および比較例3〜6のプリプレグを用いて調製した試料は、いずれも難燃性に優れているが、比較例3〜6は耐熱性および高温信頼性を欠くのに対し、実施例25〜36はこれらの項目においても優れている。   As is clear from Tables 2 and 3, the samples prepared using the prepregs of Examples 25 to 36 and Comparative Examples 3 to 6 are all excellent in flame retardancy, but Comparative Examples 3 to 6 are heat resistant. In addition, while the high temperature reliability is lacking, Examples 25 to 36 are excellent also in these items.

Claims (11)

多官能性グリシジル化合物とヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物との反応により得られる、ホスファゼン環とエポキシ基とを有するエポキシ化合物を少なくとも二種類含むエポキシ化合物組成物。   An epoxy compound composition comprising at least two epoxy compounds having a phosphazene ring and an epoxy group, which are obtained by a reaction between a polyfunctional glycidyl compound and a hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound. 前記多官能性グリシジル化合物は、グリシジルエーテル類、グリシジルエステル類、グリシジルアミン類、脂肪族エポキシド類および脂環式エポキシド類からなる群から選ばれる少なくとも一つである、請求項1に記載のエポキシ化合物組成物。   The epoxy compound according to claim 1, wherein the polyfunctional glycidyl compound is at least one selected from the group consisting of glycidyl ethers, glycidyl esters, glycidyl amines, aliphatic epoxides and alicyclic epoxides. Composition. 前記ヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、下記の式(1)で示されるものである、請求項1または2に記載のエポキシ化合物組成物。
Figure 2015014012
(式(1)中、nは1〜6の整数を示し、Aは下記のA1基、A2基およびA3基からなる群から選ばれる基を示し、かつ、少なくとも一つがA3基である。
A1基:炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよい、炭素数が1〜8のアルコキシ基。
A2基:炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよい、炭素数6〜20のアリールオキシ基。
A3基:下記の式(2)で示されるヒドロキシアリールオキシ基および下記の式(3)で示されるヒドロキシフェニル置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
Figure 2015014012
式(2)中、Yはビフェニレンを示す。
Figure 2015014012
式(3)中、Zは、O、S、SO、CH、CHCH、C(CH、C(CF、C(CH)CHCH若しくはCOを示す。)
The epoxy compound composition according to claim 1 or 2, wherein the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound is represented by the following formula (1).
Figure 2015014012
(In Formula (1), n shows the integer of 1-6, A shows the group chosen from the group which consists of following A1 group, A2 group, and A3 group, and at least one is A3 group.
A1 group: an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms which may be substituted with at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group and an aryl group.
A2 group: an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group and an aryl group.
A3 group: a group selected from the group consisting of a hydroxyaryloxy group represented by the following formula (2) and a hydroxyphenyl-substituted phenyloxy group represented by the following formula (3).
Figure 2015014012
In formula (2), Y represents biphenylene.
Figure 2015014012
In the formula (3), Z represents O, S, SO 2 , CH 2 , CHCH 3 , C (CH 3 ) 2 , C (CF 3 ) 2 , C (CH 3 ) CH 2 CH 3 or CO. )
式(1)において、(2n+4)個のAの内の1〜(2n+2)個がA3基である、請求項3に記載のエポキシ化合物組成物。   The epoxy compound composition according to claim 3, wherein 1 to (2n + 2) of (2n + 4) A in formula (1) is an A3 group. 式(1)のnが1若しくは2である、請求項3または4に記載のエポキシ化合物組成物。   The epoxy compound composition according to claim 3 or 4, wherein n in formula (1) is 1 or 2. 前記ヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、式(1)のnが異なる二種以上のものを含んでいる、請求項3または4に記載のエポキシ化合物組成物。   The epoxy compound composition according to claim 3 or 4, wherein the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound includes two or more compounds having different n in the formula (1). 請求項1から6のいずれかに記載のエポキシ化合物組成物と、
熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種の樹脂成分と、
を含む樹脂成形体用組成物。
The epoxy compound composition according to any one of claims 1 to 6,
At least one resin component selected from the group consisting of thermoplastic resins and thermosetting resins;
A resin molded body composition comprising:
請求項7に記載の樹脂成形体用組成物を硬化させて得られる樹脂成形体。   The resin molding obtained by hardening the composition for resin moldings of Claim 7. 請求項1から6のいずれかに記載のエポキシ化合物組成物を硬化させて得られる樹脂成形体。   The resin molding obtained by hardening the epoxy compound composition in any one of Claim 1 to 6. 請求項8に記載の樹脂成形体を用いた電子部品。   The electronic component using the resin molding of Claim 8. 請求項9に記載の樹脂成形体を用いた電子部品。   The electronic component using the resin molding of Claim 9.
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