JP5376388B2 - Reactive group-containing cyclic phosphazene compound and process for producing the same - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To achieve a phosphazene compound that effectively enhances flame retardancy of a resin molded item without detriment to mechanical properties thereof and yet hardly injures high-temperature reliability and dielectric properties of the resin molded item. <P>SOLUTION: The reactive group-bearing cyclic phosphazene compound is represented by formula (1) [in formula (1), n is an integer of 3-15; one example of A is a group selected from the group consisting of an acryloyloxy group-substituted phenyl group and a methacryloyloxy group-substituted phenyl group represented by formula (2); in formula (2), E<SP>1</SP>-E<SP>5</SP>are each independent; at least one of them is an acryloyloxy group or a methacryloyloxy group; at least one of them is at least one group selected from among 1-6C alkyl and alkenyl groups and an aryl group; and the rest are each a hydrogen atom]. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、環状ホスファゼン化合物およびその製造方法、特に、反応性基含有環状ホスファゼン化合物およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a cyclic phosphazene compound and a method for producing the same, and particularly to a reactive group-containing cyclic phosphazene compound and a method for producing the same.

産業用および民生用の機器並びに電気製品などの分野において、合成樹脂は、その加工性、耐薬品性、耐候性、電気的特性および機械的強度等の点で他の材料に比べて優位性を有するため、多用されており、また、その使用量が増加している。しかし、合成樹脂は、燃焼し易い性質を有するため、難燃性の付与が求められており、近年その要求性能が次第に高まっている。このため、LSI等の電子部品の封止剤や基板等に使用されている樹脂組成物、例えばエポキシ樹脂組成物は、難燃化するために、ハロゲン含有化合物やハロゲン含有化合物と酸化アンチモンなどのアンチモン化合物との混合物が一般的な難燃剤として添加されている。ところが、このような難燃剤を配合した樹脂組成物は、燃焼時や成形時等において、環境汚染のおそれがあるハロゲン系ガスを発生する可能性がある。また、ハロゲン系ガスは、電子部品の電気的特性や機械的特性を阻害する可能性がある。そこで、最近では、合成樹脂用の難燃剤として、燃焼時や成形時等においてハロゲン系ガスが発生しにくい非ハロゲン系のもの、例えば、水酸化アルミニウムや水酸化マグネシウムなどの金属水和物系難燃剤やリン酸エステル系、縮合リン酸エステル系、リン酸アミド系、ポリリン酸アンモニウム系およびホスファゼン系などのリン系難燃剤が多用されるようになっている。   In the fields of industrial and consumer equipment and electrical products, synthetic resins have advantages over other materials in terms of processability, chemical resistance, weather resistance, electrical properties and mechanical strength. Since it has, it is used extensively and the amount of its use is increasing. However, since synthetic resins have the property of being easily combusted, they are required to be provided with flame retardancy, and in recent years, the required performance is gradually increasing. For this reason, resin compositions used for sealants and substrates of electronic components such as LSIs, such as epoxy resin compositions, are made of halogen-containing compounds, halogen-containing compounds and antimony oxide, etc. A mixture with an antimony compound is added as a general flame retardant. However, a resin composition containing such a flame retardant may generate a halogen-based gas that may cause environmental pollution during combustion or molding. In addition, the halogen-based gas may hinder the electrical characteristics and mechanical characteristics of the electronic component. Therefore, recently, as flame retardants for synthetic resins, non-halogen-based flame retardants that do not easily generate halogen-based gases during combustion or molding, for example, metal hydrates such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide are difficult. Phosphorous flame retardants such as flame retardants, phosphoric acid esters, condensed phosphoric acid esters, phosphoric acid amides, ammonium polyphosphates, and phosphazenes are widely used.

このうち、金属水和物系難燃剤は、脱水熱分解の吸熱反応とそれに伴う水の放出が合成樹脂の熱分解や燃焼開始温度と重複した温度領域で起こることで難燃化効果を発揮するが、その効果を高めるためには樹脂組成物に対して多量に配合する必要がある。このため、この種の難燃剤を含む樹脂組成物の成形品は、機械的強度が損なわれるという欠点がある。一方、リン系難燃剤のうち、リン酸エステル系および縮合リン酸エステル系の難燃剤は、可塑効果を有するため、難燃性を高めるために樹脂組成物に対して多量に添加すると、樹脂成形品の機械的強度が低下するなどの欠点が生じる。また、リン酸エステル系、リン酸アミド系、ポリリン酸アンモニウム系およびホスフィン酸アルミニウム系の難燃剤は、容易に加水分解することから、機械的および電気的な長期信頼性が要求される樹脂成形品の製造用材料においては実質的に使用が困難である。これらに対し、ホスファゼン系の難燃剤は、他のリン系難燃剤に比べて可塑効果および加水分解性が小さく、樹脂組成物に対する添加量を大きくすることができるため、特許文献1〜5に記載のように、合成樹脂用の有効な難燃剤として多用されつつあるが、樹脂組成物に対する添加量を増やすと、高温下における樹脂成形品の信頼性を損なう可能性がある。具体的には、熱可塑性樹脂系の樹脂組成物の場合は、高温下においてその樹脂成形体からホスファゼン系の難燃剤がブリードアウト(溶出)し易く、また、熱硬化性樹脂系の樹脂組成物の場合は、高温下においてその樹脂成形品にフクレ等の変形が発生し、当該樹脂成形品が積層基板等の電気・電子分野において用いられる場合は変形によるショートを引き起こす可能性がある。   Among these, metal hydrate flame retardants exhibit a flame retardant effect because the endothermic reaction of dehydration pyrolysis and the accompanying water release occur in a temperature range that overlaps the thermal decomposition and combustion start temperature of the synthetic resin. However, in order to enhance the effect, it is necessary to add a large amount to the resin composition. For this reason, the molded article of the resin composition containing this type of flame retardant has a drawback that the mechanical strength is impaired. On the other hand, among phosphorus-based flame retardants, phosphate ester-based and condensed phosphate ester-based flame retardants have a plastic effect. Therefore, when a large amount is added to the resin composition in order to increase flame retardancy, resin molding There are disadvantages such as a decrease in the mechanical strength of the product. In addition, phosphate ester, phosphate amide, ammonium polyphosphate, and aluminum phosphinate flame retardants are easily hydrolyzed, so resin molded products that require mechanical and electrical long-term reliability. It is substantially difficult to use in the manufacturing material. In contrast, phosphazene-based flame retardants have a smaller plastic effect and hydrolyzability than other phosphorus-based flame retardants, and can increase the amount added to the resin composition. Thus, although it is being frequently used as an effective flame retardant for synthetic resins, if the amount added to the resin composition is increased, the reliability of the resin molded product at high temperatures may be impaired. Specifically, in the case of a thermoplastic resin-based resin composition, the phosphazene-based flame retardant is likely to bleed out (elution) from the resin molded body at a high temperature, and the thermosetting resin-based resin composition. In this case, deformation such as blistering occurs in the resin molded product at a high temperature, and when the resin molded product is used in the electric / electronic field such as a laminated substrate, a short circuit due to deformation may occur.

特開2000−103939号公報JP 2000-103939 A 特開2004−83671号公報JP 2004-83671 A 特開2004−210849号公報JP 2004-210849 A 特開2005−248134号公報JP 2005-248134 A 特開2007−45916号公報JP 2007-45916 A

そこで、ホスファゼン系の難燃剤は、高温下での樹脂成形品の信頼性(高温信頼性)を高めるための改良が検討されており、その例として特許文献6〜10には、アクリロイルオキシ基若しくはメタクリロイルオキシ基を有するホスファゼン系化合物およびそれを用いた重合体が開示されている。この種のホスファゼン系難燃剤は、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基が重合製を有するため、それ自体を単独で熱硬化製樹脂として使用することができ、また、樹脂形成用の単量体成分の一部として用いることもできる。そして、このホスファゼン系化合物の重合体およびこのホスファゼン系化合物を単量体の一部として得られた重合体は、その成形体の高温信頼性が良好であり、しかも、ホスファゼン化合物による難燃性を有するため、電気、電子部品用等の製品の樹脂材料としての利用が期待されている。しかし、この種の重合物からなる樹脂成形体は、本質的効果として求められる難燃性の点で不十分であり、また、機械的特性(特に、高いガラス転移温度)においても不十分である。   Then, the improvement for improving the reliability (high temperature reliability) of the resin molded product under high temperature is examined for the phosphazene flame retardant, and as an example, Patent Documents 6 to 10 include acryloyloxy group or A phosphazene compound having a methacryloyloxy group and a polymer using the same are disclosed. Since this type of phosphazene-based flame retardant has a polymerized acryloyloxy group or methacryloyloxy group, it can be used alone as a thermosetting resin. It can also be used as a part. The polymer of the phosphazene compound and the polymer obtained by using the phosphazene compound as a part of the monomer have good high temperature reliability of the molded product, and also exhibit flame retardancy due to the phosphazene compound. Therefore, it is expected to be used as a resin material for products for electric and electronic parts. However, a resin molded body made of this type of polymer is insufficient in terms of flame retardancy required as an essential effect, and is also insufficient in mechanical properties (particularly high glass transition temperature). .

特開昭64−14239号公報JP-A 64-14239 特開昭64−14240号公報JP-A 64-14240 特開2001−335678号公報JP 2001-335678 A 特開平6−247989号公報Japanese Patent Laid-Open No. 6-247989 特開平8−193091号公報JP-A-8-193091

本発明の目的は、樹脂成形体の機械的特性を損なわずにその難燃性を効果的に高めることができ、しかも樹脂成形体での高温信頼性を損ないにくいホスファゼン化合物を実現することにある。また、本発明で得られる難燃性樹脂成形体は、樹脂の持つ本来の特性を低下させず、燃焼時に有毒物質を発生せず環境負荷の非常に少ないものであることから、自動車部品、電気部品、接着剤、塗料、各種フィルム、OA機器、食品容器、家庭用台所用品、電子部品およびシール材等に有用である。   An object of the present invention is to realize a phosphazene compound that can effectively enhance the flame retardancy without impairing the mechanical properties of the resin molded body and that does not easily impair high temperature reliability in the resin molded body. . In addition, the flame-retardant resin molded article obtained by the present invention does not deteriorate the original characteristics of the resin, does not generate toxic substances during combustion, and has very little environmental load. It is useful for parts, adhesives, paints, various films, OA equipment, food containers, household kitchen utensils, electronic parts and sealing materials.

本発明者らは、上述の課題を解決すべく研究を重ねた結果、反応性基を有する新規なホスファゼン化合物を含む樹脂組成物からなる成形体が、優れた機械的特性および難燃性を示し、同時に高温下での信頼性が高く、誘電特性に優れていることを見出した。   As a result of repeated studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have found that a molded article comprising a resin composition containing a novel phosphazene compound having a reactive group exhibits excellent mechanical properties and flame retardancy. At the same time, the inventors have found that the reliability at high temperatures is high and the dielectric properties are excellent.

本発明のホスファゼン化合物は、下記の式(1)で表される反応性基含有環状ホスファゼン化合物である。   The phosphazene compound of the present invention is a reactive group-containing cyclic phosphazene compound represented by the following formula (1).

式(1)中、nは3〜8の整数を示す。また、Aは、下記のA1基、A2基およびA3基からなる群から選ばれた基を示しかつ少なくとも一つがA3基である。
A1基:炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数が1〜8のアルコキシ基。
A2基:炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数6〜20のアリールオキシ基。
A3基:下記の式(2)で示されるアクリロイルオキシ基置換フェニルオキシ基、およびメタクリロイルオキシ基置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
In formula (1), n shows the integer of 3-8. A represents a group selected from the group consisting of the following A1, A2 and A3 groups, and at least one is an A3 group.
A1 group: an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, which may be substituted with at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group.
A2 group: an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms in which at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.
A3 group: acryloyloxy group-substituted phenyl group, and methacryloyloxy group substituent selected from the group consisting of phenyl group represented by the following formula (2).

式(2)中、E〜Eは、それぞれ独立して、少なくとも一つはアクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基であり、かつ、少なくとも一つは炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基であり、残りは水素原子を示す。) In formula (2), E 1 to E 5 are each independently at least one of an acryloyloxy group or a methacryloyloxy group, and at least one of them is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and It is at least one group selected from aryl groups, and the remainder represents a hydrogen atom. )

この反応性基含有環状ホスファゼン化合物は、例えば、式(1)において、2n個のAのうちの1〜(2n−2)個がA3基である。また、反応性基含有環状ホスファゼン化合物は、例えば、式(1)のnが3若しくは4である。さらに、この反応性基含有環状ホスファゼン化合物は、例えば、式(1)のnが異なる二種以上の反応性基含有環状ホスファゼン化合物を含んでいる。   In the reactive group-containing cyclic phosphazene compound, for example, in formula (1), 1 to (2n-2) of 2n A are A3 groups. In the reactive group-containing cyclic phosphazene compound, for example, n in the formula (1) is 3 or 4. Furthermore, the reactive group-containing cyclic phosphazene compound includes, for example, two or more reactive group-containing cyclic phosphazene compounds in which n in formula (1) is different.

本発明に係る反応性基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法は、次の工程1、工程2、工程3および工程4を含んでいる。   The method for producing a reactive group-containing cyclic phosphazene compound according to the present invention includes the following step 1, step 2, step 3, and step 4.

[工程1]
下記の式(3)で表される環状ホスホニトリルジハライドの全ハロゲン原子を、少なくとも一つが下記のG3基により置換されるよう下記のG1基、G2基およびG3基からなる群から選ばれた基により置換し、アシル基含有環状ホスホニトリル置換体を製造する工程。
[Step 1]
Selected from the group consisting of the following G1, G2, and G3 groups such that at least one of the halogen atoms of the cyclic phosphonitrile dihalide represented by the following formula (3) is substituted by the following G3 group: A step of producing an acyl group-containing cyclic phosphonitrile substitution product by substitution with a group.

式(3)中、nは3〜8の整数を示し、Xはハロゲン原子を示す。
G1基:炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数が1〜8のアルコキシ基。
G2基:炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数6〜20のアリールオキシ基。
G3基:下記の式(4)で示されるアシル基置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
In formula (3), n represents an integer of 3 to 8, and X represents a halogen atom.
G1 group: an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms in which at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.
G2 group: an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms in which at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.
G3 group: a group selected from the group consisting of an acyl-substituted phenyloxy group represented by the following formula (4).

式(4)中、L〜Lの内、少なくとも一つはアシル基であり、かつ、少なくとも一つは炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基であり、残りは水素原子を示す。 In formula (4), at least one of L 1 to L 5 is an acyl group, and at least one is at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group. And the remainder represents a hydrogen atom.

[工程2]
工程1において得たアシル基含有環状ホスホニトリル置換体を酸化(バイヤー−ビリガー法に代表される)し、アシルオキシ基含有環状ホスホニトリル置換体を製造する工程。
[Step 2]
A step of producing an acyloxy group-containing cyclic phosphonitrile substitution product by oxidizing the acyl group-containing cyclic phosphonitrile substitution product obtained in step 1 (typified by the Bayer-Billiger method).

[工程3]
工程2において得たアシルオキシ基含有環状ホスホニトリル置換体を脱アシル化(加水分解)してヒドロキシ基含有環状ホスホニトリル置換体を製造する工程。
[Step 3]
A step of producing a hydroxy group-containing cyclic phosphonitrile substitution product by deacylating (hydrolyzing) the acyloxy group-containing cyclic phosphonitrile substitution product obtained in Step 2.

[工程4]
工程3において得たヒドロキシ基含有環状ホスホニトリル置換体とアクリル酸、メタクリル酸またはそれらの誘導体とを反応させる工程。
[Step 4]
A step of reacting the hydroxy group-containing cyclic phosphonitrile substitution product obtained in step 3 with acrylic acid, methacrylic acid or a derivative thereof.

本発明の樹脂組成物は、樹脂成分と、本発明の反応性基含有環状ホスファゼン化合物とを含んでいる。樹脂成分は、例えば、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ビスマレイミド樹脂、シアン酸エステル樹脂、ビスマレイミド−シアン酸エステル樹脂および変性ポリフェニレンエーテル樹脂からなる群から選ばれたものであるである。   The resin composition of the present invention contains a resin component and the reactive group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention. The resin component is, for example, selected from the group consisting of epoxy resin, polyimide resin, bismaleimide resin, cyanate ester resin, bismaleimide-cyanate ester resin, and modified polyphenylene ether resin.

本発明の樹脂成形体は、本発明の樹脂組成物からなるものである。   The resin molded body of the present invention is composed of the resin composition of the present invention.

本発明の反応性基含有環状ホスファゼン化合物は、上述のような特定の構造を有するものであるため、樹脂成形体の機械的特性を損なわずにその難燃性を効果的に高めることができ、しかも樹脂成形体の高温信頼性および誘電特性を損ないにくい。   Since the reactive group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention has a specific structure as described above, its flame retardancy can be effectively enhanced without impairing the mechanical properties of the resin molded body, In addition, the high temperature reliability and dielectric properties of the resin molding are unlikely to be impaired.

本発明に係る反応性基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法は、上述のような工程1、工程2、工程3および工程4を含むものであるため、本発明に係る上述のような特定の構造を有する反応性基含有環状ホスファゼン化合物を製造することができる。   Since the method for producing a reactive group-containing cyclic phosphazene compound according to the present invention includes Step 1, Step 2, Step 3, and Step 4 as described above, the reaction having the specific structure as described above according to the present invention. A functional group-containing cyclic phosphazene compound can be produced.

本発明の樹脂組成物は、本発明の反応性基含有環状ホスファゼン化合物を難燃剤として含むため、実用的な機械的特性および難燃性を示し、しかも高温信頼性が高く誘電特性が優れた樹脂成形体を得ることができる。   Since the resin composition of the present invention contains the reactive group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention as a flame retardant, the resin composition exhibits practical mechanical properties and flame retardancy, and has high temperature reliability and excellent dielectric properties. A molded body can be obtained.

本発明の樹脂成形体は、本発明の樹脂組成からなるため、実用的な機械的特性および難燃性を示し、しかも高温信頼性が高く誘電特性が優れている。   Since the resin molded body of the present invention is composed of the resin composition of the present invention, it exhibits practical mechanical properties and flame retardancy, and has high temperature reliability and excellent dielectric properties.

反応性基含有環状ホスファゼン化合物
本発明の反応性基含有環状ホスファゼン化合物は、下記の式(1)で表されるものである。
Reactive group-containing cyclic phosphazene compound The reactive group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention is represented by the following formula (1).

式(1)において、nは、3から8の整数を示しているが、3から6の整数が好ましく、3若しくは4が特に好ましい。すなわち、この反応性基含有環状ホスファゼン化合物として特に好ましいものは、nが3の反応性基含有シクロトリホスファゼン(3量体)およびnが4の反応性基含有シクロテトラホスファゼン(4量体)である。また、本発明の反応性基含有環状ホスファゼン化合物は、nが異なる二種以上のものの混合物であってもよい。   In the formula (1), n represents an integer of 3 to 8, preferably an integer of 3 to 6, and particularly preferably 3 or 4. That is, particularly preferable as the reactive group-containing cyclic phosphazene compound are a reactive group-containing cyclotriphosphazene (trimer) in which n is 3 and a reactive group-containing cyclotetraphosphazene (tetramer) in which n is 4. is there. The reactive group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention may be a mixture of two or more different n.

また、式(1)において、Aは、下記のA1基、A2基およびA3基からなる群から選ばれた基を示している。但し、Aのうちの少なくとも一つはA3基である。   In the formula (1), A represents a group selected from the group consisting of the following A1, A2, and A3 groups. However, at least one of A is an A3 group.

[A1基]
炭素数が1〜8のアルコキシ基。このアルコキシ基は、炭素数が1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい。
このようなアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、エテニルオキシ基、1−プロペニルオキシ基、2−プロペニルオキシ基、イソプロペニルオキシ基、3−ブテニルオキシ基、2−メチル−2−プロペニルオキシ基、4−ペンテニルオキシ基、2−ヘキセニルオキシ基、1−プロピル−2−ブテニルオキシ基、5−オクテニルオキシ基、ベンジルオキシ基および2−フェニルエトキシ基等を挙げることができる。このうち、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、2−プロペニルオキシ基およびベンジルオキシ基が好ましく、エトキシ基およびn−プロポキシ基が特に好ましい。
[A1 group]
An alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms; In the alkoxy group, at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.
Examples of such alkoxy groups include methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, n-butoxy, sec-butoxy, tert-butoxy, n-pentyloxy, and n-hexyloxy. Group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, ethenyloxy group, 1-propenyloxy group, 2-propenyloxy group, isopropenyloxy group, 3-butenyloxy group, 2-methyl-2-propenyloxy group, 4 -Pentenyloxy group, 2-hexenyloxy group, 1-propyl-2-butenyloxy group, 5-octenyloxy group, benzyloxy group, 2-phenylethoxy group and the like can be mentioned. Among these, a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, a 2-propenyloxy group and a benzyloxy group are preferable, and an ethoxy group and an n-propoxy group are particularly preferable.

[A2基]
炭素数が6〜20のアリールオキシ基。このアリールオキシ基は、炭素数が1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい。
このようなアリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、エチルメチルフェノキシ基、ジエチルフェノキシ基、n−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、イソプロピルメチルフェノキシ基、イソプロピルエチルフェノキシ基、ジイソプロピルフェノキシ基、n−ブチルフェノキシ基、sec−ブチルフェノキシ基、tert−ブチルフェノキシ基、n−ペンチルフェノキシ基、n−ヘキシルフェノキシ基、エテニルフェノキシ基、1−プロペニルフェノキシ基、2−プロペニルフェノキシ基、イソプロペニルフェノキシ基、1−ブテニルフェノキシ基、sec−ブテニルフェノキシ基、1−ペンテニルフェノキシ基、1−ヘキセニルフェノキシ基、フェニルフェノキシ基、ナフチルオキシ基、アントリルオキシ基およびフェナントリルオキシ基等を挙げることができる。このうち、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基、ジエチルフェノキシ基、2−プロペニルフェノキシ基、フェニルフェノキシ基およびナフチルオキシ基が好ましく、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基およびナフチルオキシ基が特に好ましい。
[Group A2]
An aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms; In the aryloxy group, at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.
Examples of such aryloxy groups include phenoxy group, methylphenoxy group, dimethylphenoxy group, ethylphenoxy group, ethylmethylphenoxy group, diethylphenoxy group, n-propylphenoxy group, isopropylphenoxy group, isopropylmethylphenoxy group, Isopropylethylphenoxy group, diisopropylphenoxy group, n-butylphenoxy group, sec-butylphenoxy group, tert-butylphenoxy group, n-pentylphenoxy group, n-hexylphenoxy group, ethenylphenoxy group, 1-propenylphenoxy group, 2-propenylphenoxy group, isopropenylphenoxy group, 1-butenylphenoxy group, sec-butenylphenoxy group, 1-pentenylphenoxy group, 1-hexenylphenoxy group, Nirufenokishi group, naphthyloxy group, and an anthryl group and phenanthryloxy groups and the like. Of these, phenoxy group, methylphenoxy group, dimethylphenoxy group, diethylphenoxy group, 2-propenylphenoxy group, phenylphenoxy group and naphthyloxy group are preferable, and phenoxy group, methylphenoxy group, dimethylphenoxy group and naphthyloxy group are particularly preferable. preferable.

[A3基]
下記の式(2)で示される反応性基からなる群から選ばれる基。
[Group A3]
A group selected from the group consisting of reactive groups represented by the following formula (2).

式(2)中、E〜Eは、それぞれ独立して、少なくとも一つはアクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基であり、かつ、少なくとも一つは炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基であり、残りは水素原子を示す。 In formula (2), E 1 to E 5 are each independently at least one of an acryloyloxy group or a methacryloyloxy group, and at least one of them is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and It is at least one group selected from aryl groups, and the remainder represents a hydrogen atom.

式(2)で示される反応性基置換フェニルオキシ基は、具体的には、2−アクリロイルオキシ−3−メチル−フェニルオキシ基、2−アクリロイルオキシ−4−メチル−フェニルオキシ基、2−アクリロイルオキシ−5−メチル−フェニルオキシ基、2−アクリロイルオキシ−6−メチル−フェニルオキシ基、2−メチル−3−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3−アクリロイルオキシ−4−メチル−フェニルオキシ基、3−アクリロイルオキシ−5−メチル−フェニルオキシ基、3−アクリロイルオキシ−6−メチル−フェニルオキシ基、2−メチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3−メチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2−アクリロイルオキシ−3,4−ジメチル−フェニルオキシ基、2−アクリロイルオキシ−3,5−ジメチル−フェニルオキシ基、2−アクリロイルオキシ−3,6−ジメチル−フェニルオキシ基、2−アクリロイルオキシ−4,5−ジメチル−フェニルオキシ基、2−アクリロイルオキシ−4,6−ジメチル−フェニルオキシ基、2−アクリロイルオキシ−5,6−ジメチル−フェニルオキシ基、2,4−ジメチル−3−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2,5−ジメチル−3−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2,6−ジメチル−3−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3−アクリロイルオキシ−4,5−ジメチル−フェニルオキシ基、3−アクリロイルオキシ−4,6−ジメチル−フェニルオキシ基、3−アクリロイルオキシ−5,6−ジメチル−フェニルオキシ基、2,3−ジメチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2,5−ジメチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2,6−ジメチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3,5−ジメチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2−アクリロイルオキシ−3,4,5−トリメチル−フェニルオキシ基、2−アクリロイルオキシ−3,4,6−トリメチル−フェニルオキシ基、2−アクリロイルオキシ−3,5,6−トリメチル−フェニルオキシ基、2−アクリロイルオキシ−4,5,6−トリメチル−フェニルオキシ基、2,4,5−トリメチル−3−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2,5,6−トリメチル−3−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3−アクリロイルオキシ−4,5,6−トリメチル−フェニルオキシ基、2,3,5−トリメチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2,3,6−トリメチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2−アクリロイルオキシ−3,4,5,6−テトラメチル−フェニルオキシ基、2,4,5,6−テトラメチル−3−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2,3,5,6−テトラメチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2,3−ジ(アクリロイルオキシ)−4−メチル−フェニルオキシ基、2,3−ジ(アクリロイルオキシ)−5−メチル−フェニルオキシ基、2,3−ジ(アクリロイルオキシ)−6−メチル−フェニルオキシ基、2,4−ジ(アクリロイルオキシ)−3−メチル−フェニルオキシ基、2,4−ジ(アクリロイルオキシ)−5−メチル−フェニルオキシ基、2,4−ジ(アクリロイルオキシ)−6−メチル−フェニルオキシ基、2,5−ジ(アクリロイルオキシ)−3−メチル−フェニルオキシ基、2,5−ジ(アクリロイルオキシ)−4−メチル−フェニルオキシ基、2,5−ジ(アクリロイルオキシ)−6−メチル−フェニルオキシ基、2,6−ジ(アクリロイルオキシ)−3−メチル−フェニルオキシ基、2,6−ジ(アクリロイルオキシ)−4−メチル−フェニルオキシ基、2−アクリロイルオキシ−3−エチル−フェニルオキシ基、2−アクリロイルオキシ−4−エチル−フェニルオキシ基、2−アクリロイルオキシ−5−エチル−フェニルオキシ基、2−アクリロイルオキシ−6−エチル−フェニルオキシ基、2−エチル−3−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3−アクリロイルオキシ−4−エチル−フェニルオキシ基、3−アクリロイルオキシ−5−エチル−フェニルオキシ基、3−アクリロイルオキシ−6−エチル−フェニルオキシ基、2−エチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3−エチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2−アクリロイルオキシ−3−アリル−フェニルオキシ基、2−アクリロイルオキシ−4−アリル−フェニルオキシ基、2−アクリロイルオキシ−5−アリル−フェニルオキシ基、2−アクリロイルオキシ−6−アリル−フェニルオキシ基、2−アリル−3−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3−アクリロイルオキシ−4−アリル−フェニルオキシ基、3−アクリロイルオキシ−5−アリル−フェニルオキシ基、3−アクリロイルオキシ−6−アリル−フェニルオキシ基、2−アリル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3−アリル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2−アクリロイルオキシ−3−フェニル−フェニルオキシ基、2−アクリロイルオキシ−4−フェニル−フェニルオキシ基、2−アクリロイルオキシ−5−フェニル−フェニルオキシ基、2−アクリロイルオキシ−6−フェニル−フェニルオキシ基、2−フェニル−3−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3−アクリロイルオキシ−4−フェニル−フェニルオキシ基、3−アクリロイルオキシ−5−フェニル−フェニルオキシ基、3−アクリロイルオキシ−6−フェニル−フェニルオキシ基、2−フェニル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3−フェニル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2−メチル−3−エチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2−メチル−4−アクリロイルオキシ−5−エチル−フェニルオキシ基、2−メチル−4−アクリロイルオキシ−6−エチル−フェニルオキシ基、2−エチル−3−メチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2−エチル−4−アクリロイルオキシ−5−メチル−フェニルオキシ基、2−エチル−4−アクリロイルオキシ−6−メチル−フェニルオキシ基、2−メタクリロイルオキシ−3−メチル−フェニルオキシ基、2−メタクリロイルオキシ−4−メチル−フェニルオキシ基、2−メタクリロイルオキシ−5−メチル−フェニルオキシ基、2−メタクリロイルオキシ−6−メチル−フェニルオキシ基、2−メチル−3−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3−メタクリロイルオキシ−4−メチル−フェニルオキシ基、3−メタクリロイルオキシ−5−メチル−フェニルオキシ基、3−メタクリロイルオキシ−6−メチル−フェニルオキシ基、2−メチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3−メチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2−メタクリロイルオキシ−3,4−ジメチル−フェニルオキシ基、2−メタクリロイルオキシ−3,5−ジメチル−フェニルオキシ基、2−メタクリロイルオキシ−3,6−ジメチル−フェニルオキシ基、2−メタクリロイルオキシ−4,5−ジメチル−フェニルオキシ基、2−メタクリロイルオキシ−4,6−ジメチル−フェニルオキシ基、2−メタクリロイルオキシ−5,6−ジメチル−フェニルオキシ基、2,4−ジメチル−3−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2,5−ジメチル−3−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2,6−ジメチル−3−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3−メタクリロイルオキシ−4,5−ジメチル−フェニルオキシ基、3−メタクリロイルオキシ−4,6−ジメチル−フェニルオキシ基、3−メタクリロイルオキシ−5,6−ジメチル−フェニルオキシ基、2,3−ジメチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2,5−ジメチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2,6−ジメチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3,5−ジメチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2−メタクリロイルオキシ−3,4,5−トリメチル−フェニルオキシ基、2−メタクリロイルオキシ−3,4,6−トリメチル−フェニルオキシ基、2−メタクリロイルオキシ−3,5,6−トリメチル−フェニルオキシ基、2−メタクリロイルオキシ−4,5,6−トリメチル−フェニルオキシ基、2,4,5−トリメチル−3−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2,5,6−トリメチル−3−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3−メタクリロイルオキシ−4,5,6−トリメチル−フェニルオキシ基、2,3,5−トリメチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2,3,6−トリメチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2−メタクリロイルオキシ−3,4,5,6−テトラメチル−フェニルオキシ基、3−メタクリロイルオキシ−2,4,5,6−テトラメチル−フェニルオキシ基、4−メタクリロイルオキシ−2,3,5,6−テトラメチル−フェニルオキシ基、2,3−ジ(メタクリロイルオキシ)−4−メチル−フェニルオキシ基、2,3−ジ(メタクリロイルオキシ)−5−メチル−フェニルオキシ基、2,3−ジ(メタクリロイルオキシ)−6−メチル−フェニルオキシ基、2,4−ジ(メタクリロイルオキシ)−3−メチル−フェニルオキシ基、2,4−ジ(メタクリロイルオキシ)−5−メチル−フェニルオキシ基、2,4−ジ(メタクリロイルオキシ)−6−メチル−フェニルオキシ基、2,5−ジ(メタクリロイルオキシ)−3−メチル−フェニルオキシ基、2,5−ジ(メタクリロイルオキシ)−4−メチル−フェニルオキシ基、2,5−ジ(メタクリロイルオキシ)−6−メチル−フェニルオキシ基、2,6−ジ(メタクリロイルオキシ)−3−メチル−フェニルオキシ基、2,6−ジ(メタクリロイルオキシ)−4−メチル−フェニルオキシ基、2−メタクリロイルオキシ−3−エチル−フェニルオキシ基、2−メタクリロイルオキシ−4−エチル−フェニルオキシ基、2−メタクリロイルオキシ−5−エチル−フェニルオキシ基、2−メタクリロイルオキシ−6−エチル−フェニルオキシ基、2−エチル−3−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3−メタクリロイルオキシ−4−エチル−フェニルオキシ基、3−メタクリロイルオキシ−5−エチル−フェニルオキシ基、3−メタクリロイルオキシ−6−エチル−フェニルオキシ基、2−エチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3−エチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2−メタクリロイルオキシ−3−アリル−フェニルオキシ基、2−メタクリロイルオキシ−4−アリル−フェニルオキシ基、2−メタクリロイルオキシ−5−アリル−フェニルオキシ基、2−メタクリロイルオキシ−6−アリル−フェニルオキシ基、2−アリル−3−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3−メタクリロイルオキシ−4−アリル−フェニルオキシ基、3−メタクリロイルオキシ−5−アリル−フェニルオキシ基、3−メタクリロイルオキシ−6−アリル−フェニルオキシ基、2−アリル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3−アリル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2−メタクリロイルオキシ−3−フェニル−フェニルオキシ基、2−メタクリロイルオキシ−4−フェニル−フェニルオキシ基、2−メタクリロイルオキシ−5−フェニル−フェニルオキシ基、2−メタクリロイルオキシ−6−フェニル−フェニルオキシ基、2−フェニル−3−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3−メタクリロイルオキシ−4−フェニル−フェニルオキシ基、3−メタクリロイルオキシ−5−フェニル−フェニルオキシ基、3−メタクリロイルオキシ−6−フェニル−フェニルオキシ基、2−フェニル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3−フェニル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2−メチル−3−エチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2−メチル−4−メタクリロイルオキシ−5−エチル−フェニルオキシ基、2−メチル−4−メタクリロイルオキシ−6−エチル−フェニルオキシ基、2−エチル−3−メチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2−エチル−4−メタクリロイルオキシ−5−メ
チル−フェニルオキシ基および2−エチル−4−メタクリロイルオキシ−6−メチル−フェニルオキシ基である。
Specific examples of the reactive group-substituted phenyloxy group represented by the formula (2) include 2-acryloyloxy-3-methyl-phenyloxy group, 2-acryloyloxy-4-methyl-phenyloxy group, and 2-acryloyl. Oxy-5-methyl-phenyloxy group, 2-acryloyloxy-6-methyl-phenyloxy group, 2-methyl-3-acryloyloxy-phenyloxy group, 3-acryloyloxy-4-methyl-phenyloxy group, 3 -Acryloyloxy-5-methyl-phenyloxy group, 3-acryloyloxy-6-methyl-phenyloxy group, 2-methyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group, 3-methyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group 2-acryloyloxy-3,4-dimethyl-phenyloxy group, 2- Acryloyloxy-3,5-dimethyl-phenyloxy group, 2-acryloyloxy-3,6-dimethyl-phenyloxy group, 2-acryloyloxy-4,5-dimethyl-phenyloxy group, 2-acryloyloxy-4 , 6-dimethyl-phenyloxy group, 2-acryloyloxy-5,6-dimethyl-phenyloxy group, 2,4-dimethyl-3-acryloyloxy-phenyloxy group, 2,5-dimethyl-3-acryloyloxy- Phenyloxy group, 2,6-dimethyl-3-acryloyloxy-phenyloxy group, 3-acryloyloxy-4,5-dimethyl-phenyloxy group, 3-acryloyloxy-4,6-dimethyl-phenyloxy group, 3 -Acryloyloxy-5,6-dimethyl-phenyloxy group, 2,3-di Tyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group, 2,5-dimethyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group, 2,6-dimethyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group, 3,5-dimethyl-4-acryloyl Oxy-phenyloxy group, 2-acryloyloxy-3,4,5-trimethyl-phenyloxy group, 2-acryloyloxy-3,4,6-trimethyl-phenyloxy group, 2-acryloyloxy-3,5,6 -Trimethyl-phenyloxy group, 2-acryloyloxy-4,5,6-trimethyl-phenyloxy group, 2,4,5-trimethyl-3-acryloyloxy-phenyloxy group, 2,5,6-trimethyl-3 -Acryloyloxy-phenyloxy group, 3-acryloyloxy-4,5,6-trime Tyl-phenyloxy group, 2,3,5-trimethyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group, 2,3,6-trimethyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group, 2-acryloyloxy-3,4,5 , 6-tetramethyl-phenyloxy group, 2,4,5,6-tetramethyl-3-acryloyloxy-phenyloxy group, 2,3,5,6-tetramethyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group, 2,3-di (acryloyloxy) -4-methyl-phenyloxy group, 2,3-di (acryloyloxy) -5-methyl-phenyloxy group, 2,3-di (acryloyloxy) -6-methyl- Phenyloxy group, 2,4-di (acryloyloxy) -3-methyl-phenyloxy group, 2,4-di (acryloyloxy) -5 Til-phenyloxy group, 2,4-di (acryloyloxy) -6-methyl-phenyloxy group, 2,5-di (acryloyloxy) -3-methyl-phenyloxy group, 2,5-di (acryloyloxy) ) -4-methyl-phenyloxy group, 2,5-di (acryloyloxy) -6-methyl-phenyloxy group, 2,6-di (acryloyloxy) -3-methyl-phenyloxy group, 2,6- Di (acryloyloxy) -4-methyl-phenyloxy group, 2-acryloyloxy-3-ethyl-phenyloxy group, 2-acryloyloxy-4-ethyl-phenyloxy group, 2-acryloyloxy-5-ethyl-phenyl Oxy group, 2-acryloyloxy-6-ethyl-phenyloxy group, 2-ethyl-3-acryloyloxy-phenol Ruoxy group, 3-acryloyloxy-4-ethyl-phenyloxy group, 3-acryloyloxy-5-ethyl-phenyloxy group, 3-acryloyloxy-6-ethyl-phenyloxy group, 2-ethyl-4-acryloyloxy -Phenyloxy group, 3-ethyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group, 2-acryloyloxy-3-allyl-phenyloxy group, 2-acryloyloxy-4-allyl-phenyloxy group, 2-acryloyloxy-5 -Allyl-phenyloxy group, 2-acryloyloxy-6-allyl-phenyloxy group, 2-allyl-3-acryloyloxy-phenyloxy group, 3-acryloyloxy-4-allyl-phenyloxy group, 3-acryloyloxy -5-allyl-phenyloxy group, 3-a Acryloyloxy-6-allyl-phenyloxy group, 2-allyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group, 3-allyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group, 2-acryloyloxy-3-phenyl-phenyloxy group 2-acryloyloxy-4-phenyl-phenyloxy group, 2-acryloyloxy-5-phenyl-phenyloxy group, 2-acryloyloxy-6-phenyl-phenyloxy group, 2-phenyl-3-acryloyloxy-phenyl Oxy group, 3-acryloyloxy-4-phenyl-phenyloxy group, 3-acryloyloxy-5-phenyl-phenyloxy group, 3-acryloyloxy-6-phenyl-phenyloxy group, 2-phenyl-4-acryloyloxy -Phenyloxy group, 3-phenyl Nyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group, 2-methyl-3-ethyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group, 2-methyl-4-acryloyloxy-5-ethyl-phenyloxy group, 2-methyl-4 -Acryloyloxy-6-ethyl-phenyloxy group, 2-ethyl-3-methyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group, 2-ethyl-4-acryloyloxy-5-methyl-phenyloxy group, 2-ethyl- 4-acryloyloxy-6-methyl-phenyloxy group, 2-methacryloyloxy-3-methyl-phenyloxy group, 2-methacryloyloxy-4-methyl-phenyloxy group, 2-methacryloyloxy-5-methyl-phenyloxy Group, 2-methacryloyloxy-6-methyl-phenyloxy 2-methyl-3-methacryloyloxy-phenyloxy group, 3-methacryloyloxy-4-methyl-phenyloxy group, 3-methacryloyloxy-5-methyl-phenyloxy group, 3-methacryloyloxy-6-methyl-phenyl Oxy group, 2-methyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group, 3-methyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group, 2-methacryloyloxy-3,4-dimethyl-phenyloxy group, 2-methacryloyloxy-3 , 5-dimethyl-phenyloxy group, 2-methacryloyloxy-3,6-dimethyl-phenyloxy group, 2-methacryloyloxy-4,5-dimethyl-phenyloxy group, 2-methacryloyloxy-4,6-dimethyl- Phenyloxy group, 2-methacryloyl Oxy-5,6-dimethyl-phenyloxy group, 2,4-dimethyl-3-methacryloyloxy-phenyloxy group, 2,5-dimethyl-3-methacryloyloxy-phenyloxy group, 2,6-dimethyl-3- Methacryloyloxy-phenyloxy group, 3-methacryloyloxy-4,5-dimethyl-phenyloxy group, 3-methacryloyloxy-4,6-dimethyl-phenyloxy group, 3-methacryloyloxy-5,6-dimethyl-phenyloxy Group, 2,3-dimethyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group, 2,5-dimethyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group, 2,6-dimethyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group, 3,5 -Dimethyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group, 2 Methacryloyloxy-3,4,5-trimethyl-phenyloxy group, 2-methacryloyloxy-3,4,6-trimethyl-phenyloxy group, 2-methacryloyloxy-3,5,6-trimethyl-phenyloxy group, 2 -Methacryloyloxy-4,5,6-trimethyl-phenyloxy group, 2,4,5-trimethyl-3-methacryloyloxy-phenyloxy group, 2,5,6-trimethyl-3-methacryloyloxy-phenyloxy group, 3-methacryloyloxy-4,5,6-trimethyl-phenyloxy group, 2,3,5-trimethyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group, 2,3,6-trimethyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group 2-methacryloyloxy-3,4,5,6-tetramethyl- Enyloxy group, 3-methacryloyloxy-2,4,5,6-tetramethyl-phenyloxy group, 4-methacryloyloxy-2,3,5,6-tetramethyl-phenyloxy group, 2,3-di (methacryloyl) Oxy) -4-methyl-phenyloxy group, 2,3-di (methacryloyloxy) -5-methyl-phenyloxy group, 2,3-di (methacryloyloxy) -6-methyl-phenyloxy group, 2,4 -Di (methacryloyloxy) -3-methyl-phenyloxy group, 2,4-di (methacryloyloxy) -5-methyl-phenyloxy group, 2,4-di (methacryloyloxy) -6-methyl-phenyloxy group 2,5-di (methacryloyloxy) -3-methyl-phenyloxy group, 2,5-di (methacryloyloxy) -4- Methyl-phenyloxy group, 2,5-di (methacryloyloxy) -6-methyl-phenyloxy group, 2,6-di (methacryloyloxy) -3-methyl-phenyloxy group, 2,6-di (methacryloyloxy) ) -4-methyl-phenyloxy group, 2-methacryloyloxy-3-ethyl-phenyloxy group, 2-methacryloyloxy-4-ethyl-phenyloxy group, 2-methacryloyloxy-5-ethyl-phenyloxy group, 2 -Methacryloyloxy-6-ethyl-phenyloxy group, 2-ethyl-3-methacryloyloxy-phenyloxy group, 3-methacryloyloxy-4-ethyl-phenyloxy group, 3-methacryloyloxy-5-ethyl-phenyloxy group 3-methacryloyloxy-6-ethyl-phenyloxy Group, 2-ethyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group, 3-ethyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group, 2-methacryloyloxy-3-allyl-phenyloxy group, 2-methacryloyloxy-4-allyl- Phenyloxy group, 2-methacryloyloxy-5-allyl-phenyloxy group, 2-methacryloyloxy-6-allyl-phenyloxy group, 2-allyl-3-methacryloyloxy-phenyloxy group, 3-methacryloyloxy-4- Allyl-phenyloxy group, 3-methacryloyloxy-5-allyl-phenyloxy group, 3-methacryloyloxy-6-allyl-phenyloxy group, 2-allyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group, 3-allyl-4 -Methacryloyloxy-pheny Oxy group, 2-methacryloyloxy-3-phenyl-phenyloxy group, 2-methacryloyloxy-4-phenyl-phenyloxy group, 2-methacryloyloxy-5-phenyl-phenyloxy group, 2-methacryloyloxy-6-phenyl -Phenyloxy group, 2-phenyl-3-methacryloyloxy-phenyloxy group, 3-methacryloyloxy-4-phenyl-phenyloxy group, 3-methacryloyloxy-5-phenyl-phenyloxy group, 3-methacryloyloxy-6 -Phenyl-phenyloxy group, 2-phenyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group, 3-phenyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group, 2-methyl-3-ethyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group, 2-methyl Ru-4-methacryloyloxy-5-ethyl-phenyloxy group, 2-methyl-4-methacryloyloxy-6-ethyl-phenyloxy group, 2-ethyl-3-methyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group, 2 -Ethyl-4-methacryloyloxy-5-methyl-phenyloxy group and 2-ethyl-4-methacryloyloxy-6-methyl-phenyloxy group.

上述のA3基として好ましいものは、2−アクリロイルオキシ−3−メチル−フェニルオキシ基、2−アクリロイルオキシ−4−メチル−フェニルオキシ基、2−アクリロイルオキシ−5−メチル−フェニルオキシ基、2−アクリロイルオキシ−6−メチル−フェニルオキシ基、2−メチル−3−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3−アクリロイルオキシ−4−メチル−フェニルオキシ基、3−アクリロイルオキシ−5−メチル−フェニルオキシ基、3−アクリロイルオキシ−6−メチル−フェニルオキシ基、2−メチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3−メチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2,4−ジメチル−3−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2,5−ジメチル−3−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3−アクリロイルオキシ−4,5−ジメチル−フェニルオキシ基、3−アクリロイルオキシ−4,6−ジメチル−フェニルオキシ基、3−アクリロイルオキシ−5,6−ジメチル−フェニルオキシ基、4−アクリロイルオキシ−2,3−ジメチル−フェニルオキシ基、4−アクリロイルオキシ−2,5−ジメチル−フェニルオキシ基、4−アクリロイルオキシ−3,5−ジメチル−フェニルオキシ基、3−アクリロイルオキシ−4−エチル−フェニルオキシ基、3−アクリロイルオキシ−5−エチル−フェニルオキシ基、3−エチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2−アリル−3−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3−アクリロイルオキシ−4−アリル−フェニルオキシ基、3−アクリロイルオキシ−5−アリル−フェニルオキシ基、3−アクリロイルオキシ−6−アリル−フェニルオキシ基、2−アリル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3−アリル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2−フェニル−3−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3−アクリロイルオキシ−4−フェニル−フェニルオキシ基、3−アクリロイルオキシ−5−フェニル−フェニルオキシ基、3−アクリロイルオキシ−6−フェニル−フェニルオキシ基、2−フェニル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3−フェニル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2−メタクリロイルオキシ−3−メチル−フェニルオキシ基、2−メタクリロイルオキシ−4−メチル−フェニルオキシ基、2−メタクリロイルオキシ−5−メチル−フェニルオキシ基、2−メタクリロイルオキシ−6−メチル−フェニルオキシ基、2−メチル−3−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3−メタクリロイルオキシ−4−メチル−フェニルオキシ基、3−メタクリロイルオキシ−5−メチル−フェニルオキシ基、3−メタクリロイルオキシ−6−メチル−フェニルオキシ基、2−メチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3−メチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3−メタクリロイルオキシ−2,4−ジメチル−フェニルオキシ基、3−メタクリロイルオキシ−2,5−ジメチル−フェニルオキシ基、3−メタクリロイルオキシ−4,5−ジメチル−フェニルオキシ基、3−メタクリロイルオキシ−4,6−ジメチル−フェニルオキシ基、3−メタクリロイルオキシ−5,6−ジメチル−フェニルオキシ基、4−メタクリロイルオキシ−2,3−ジメチル−フェニルオキシ基、4−メタクリロイルオキシ−2,5−ジメチル−フェニルオキシ基、4−メタクリロイルオキシ−3,5−ジメチル−フェニルオキシ基、3−メタクリロイルオキシ−4−エチル−フェニルオキシ基、3−メタクリロイルオキシ−5−エチル−フェニルオキシ基、3−エチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2−アリル−3−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3−メタクリロイルオキシ−4−アリル−フェニルオキシ基、3−メタクリロイルオキシ−5−アリル−フェニルオキシ基、3−メタクリロイルオキシ−6−アリル−フェニルオキシ基、2−アリル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3−アリル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2−フェニル−3−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3−メタクリロイルオキシ−4−フェニル−フェニルオキシ基、3−メタクリロイルオキシ−5−フェニル−フェニルオキシ基、3−メタクリロイルオキシ−6−フェニル−フェニルオキシ基、2−フェニル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基若しくは3−フェニル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基である。   Preferred as the above-mentioned A3 group are 2-acryloyloxy-3-methyl-phenyloxy group, 2-acryloyloxy-4-methyl-phenyloxy group, 2-acryloyloxy-5-methyl-phenyloxy group, 2- Acryloyloxy-6-methyl-phenyloxy group, 2-methyl-3-acryloyloxy-phenyloxy group, 3-acryloyloxy-4-methyl-phenyloxy group, 3-acryloyloxy-5-methyl-phenyloxy group, 3-acryloyloxy-6-methyl-phenyloxy group, 2-methyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group, 3-methyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group, 2,4-dimethyl-3-acryloyloxy- Phenyloxy group, 2,5-dimethyl-3-acryloyl Oxy-phenyloxy group, 3-acryloyloxy-4,5-dimethyl-phenyloxy group, 3-acryloyloxy-4,6-dimethyl-phenyloxy group, 3-acryloyloxy-5,6-dimethyl-phenyloxy group 4-acryloyloxy-2,3-dimethyl-phenyloxy group, 4-acryloyloxy-2,5-dimethyl-phenyloxy group, 4-acryloyloxy-3,5-dimethyl-phenyloxy group, 3-acryloyloxy -4-ethyl-phenyloxy group, 3-acryloyloxy-5-ethyl-phenyloxy group, 3-ethyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group, 2-allyl-3-acryloyloxy-phenyloxy group, 3- Acryloyloxy-4-allyl-phenyloxy group, 3-acyl Royloxy-5-allyl-phenyloxy group, 3-acryloyloxy-6-allyl-phenyloxy group, 2-allyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group, 3-allyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group, 2 -Phenyl-3-acryloyloxy-phenyloxy group, 3-acryloyloxy-4-phenyl-phenyloxy group, 3-acryloyloxy-5-phenyl-phenyloxy group, 3-acryloyloxy-6-phenyl-phenyloxy group 2-phenyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group, 3-phenyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group, 2-methacryloyloxy-3-methyl-phenyloxy group, 2-methacryloyloxy-4-methyl-phenyl Oxy group, 2-methacryl Royloxy-5-methyl-phenyloxy group, 2-methacryloyloxy-6-methyl-phenyloxy group, 2-methyl-3-methacryloyloxy-phenyloxy group, 3-methacryloyloxy-4-methyl-phenyloxy group, 3 -Methacryloyloxy-5-methyl-phenyloxy group, 3-methacryloyloxy-6-methyl-phenyloxy group, 2-methyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group, 3-methyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group 3-methacryloyloxy-2,4-dimethyl-phenyloxy group, 3-methacryloyloxy-2,5-dimethyl-phenyloxy group, 3-methacryloyloxy-4,5-dimethyl-phenyloxy group, 3-methacryloyloxy -4,6-dimethyl- Enyloxy group, 3-methacryloyloxy-5,6-dimethyl-phenyloxy group, 4-methacryloyloxy-2,3-dimethyl-phenyloxy group, 4-methacryloyloxy-2,5-dimethyl-phenyloxy group, 4- Methacryloyloxy-3,5-dimethyl-phenyloxy group, 3-methacryloyloxy-4-ethyl-phenyloxy group, 3-methacryloyloxy-5-ethyl-phenyloxy group, 3-ethyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy Group, 2-allyl-3-methacryloyloxy-phenyloxy group, 3-methacryloyloxy-4-allyl-phenyloxy group, 3-methacryloyloxy-5-allyl-phenyloxy group, 3-methacryloyloxy-6-allyl- Phenyloxy group, 2-ali -4-methacryloyloxy-phenyloxy group, 3-allyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group, 2-phenyl-3-methacryloyloxy-phenyloxy group, 3-methacryloyloxy-4-phenyl-phenyloxy group, 3 -Methacryloyloxy-5-phenyl-phenyloxy group, 3-methacryloyloxy-6-phenyl-phenyloxy group, 2-phenyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group or 3-phenyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group It is.

このうち、
2−メチル−3−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、
3−アクリロイルオキシ−4−メチル−フェニルオキシ基、
3−アクリロイルオキシ−5−メチル−フェニルオキシ基、
3−アクリロイルオキシ−6−メチル−フェニルオキシ基、
2−メチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、
3−メチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、
4−アクリロイルオキシ−3,5−ジメチル−フェニルオキシ基、
3−アクリロイルオキシ−4−エチル−フェニルオキシ基、
3−アクリロイルオキシ−5−エチル−フェニルオキシ基、
3−エチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、
2−メチル−3−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、
3−メタクリロイルオキシ−4−メチル−フェニルオキシ基、
3−メタクリロイルオキシ−5−メチル−フェニルオキシ基、
3−メタクリロイルオキシ−6−メチル−フェニルオキシ基、
2−メチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、
3−メチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、
4−アメタクリロイルオキシ−3,5−ジメチル−フェニルオキシ基、
3−メタクリロイルオキシ−4−エチル−フェニルオキシ基、
3−メタクリロイルオキシ−5−エチル−フェニルオキシ基
若しくは
3−エチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基
が特に好ましい。
this house,
2-methyl-3-acryloyloxy-phenyloxy group,
3-acryloyloxy-4-methyl-phenyloxy group,
3-acryloyloxy-5-methyl-phenyloxy group,
3-acryloyloxy-6-methyl-phenyloxy group,
2-methyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group,
3-methyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group,
4-acryloyloxy-3,5-dimethyl-phenyloxy group,
3-acryloyloxy-4-ethyl-phenyloxy group,
3-acryloyloxy-5-ethyl-phenyloxy group,
3-ethyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group,
2-methyl-3-methacryloyloxy-phenyloxy group,
3-methacryloyloxy-4-methyl-phenyloxy group,
3-methacryloyloxy-5-methyl-phenyloxy group,
3-methacryloyloxy-6-methyl-phenyloxy group,
2-methyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group,
3-methyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group,
4-Amethacryloyloxy-3,5-dimethyl-phenyloxy group,
3-methacryloyloxy-4-ethyl-phenyloxy group,
A 3-methacryloyloxy-5-ethyl-phenyloxy group or a 3-ethyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group is particularly preferred.

式(1)において、Aは、2n個含まれており、このうちの少なくとも一つがA3基である。したがって、式(1)で表される本発明のアクリロイルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、次の形態に大別することができる。   In the formula (1), 2n of A are included, and at least one of them is an A3 group. Therefore, the acryloyloxy group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention represented by the formula (1) can be roughly divided into the following forms.

[形態A]
2n個の全てのAがA3基のものである。この場合、Aは、全てが同じA3基であってもよいし、二種以上のA3基であってもよい。
[Form A]
All 2n A's are A3 groups. In this case, all of A may be the same A3 group, or two or more A3 groups may be used.

このような形態の反応性基含有環状ホスファゼン化合物の具体例としては、式(1)のnが3である反応性基含有シクロトリホスファゼン化合物、式(1)のnが4である反応性基含有シクロテトラホスファゼン化合物、式(1)のnが5である反応性基含有シクロペンタホスファゼン化合物および式(1)のnが6である反応性基含有シクロヘキサホスファゼン化合物であって、Aの全てが、
2−メチル−3−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、
3−アクリロイルオキシ−4−メチル−フェニルオキシ基、
3−アクリロイルオキシ−5−メチル−フェニルオキシ基、
3−アクリロイルオキシ−6−メチル−フェニルオキシ基、
2−メチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、
3−メチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、
4−アクリロイルオキシ−3,5−ジメチル−フェニルオキシ基、
3−アクリロイルオキシ−4−エチル−フェニルオキシ基、
3−アクリロイルオキシ−5−エチル−フェニルオキシ基、
3−エチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、
2−メチル−3−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、
3−メタクリロイルオキシ−4−メチル−フェニルオキシ基、
3−メタクリロイルオキシ−5−メチル−フェニルオキシ基、
3−メタクリロイルオキシ−6−メチル−フェニルオキシ基、
2−メチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、
3−メチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、
4−メタクリロイルオキシ−3,5−ジメチル−フェニルオキシ基、
3−メタクリロイルオキシ−4−エチル−フェニルオキシ基、
3−メタクリロイルオキシ−5−エチル−フェニルオキシ基
若しくは
3−エチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基
からなるA3基群から選ばれた一種のA3基であるものおよびAの全てが当該A3基群から選ばれた二種以上のA3基であるもの並びにこれらの任意の混合物を挙げることができる。
Specific examples of such a reactive group-containing cyclic phosphazene compound include a reactive group-containing cyclotriphosphazene compound in which n in formula (1) is 3, and a reactive group in which n in formula (1) is 4. Containing cyclotetraphosphazene compound, reactive group-containing cyclopentaphosphazene compound in which n in formula (1) is 5, and reactive group-containing cyclohexaphosphazene compound in which n in formula (1) is 6, But,
2-methyl-3-acryloyloxy-phenyloxy group,
3-acryloyloxy-4-methyl-phenyloxy group,
3-acryloyloxy-5-methyl-phenyloxy group,
3-acryloyloxy-6-methyl-phenyloxy group,
2-methyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group,
3-methyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group,
4-acryloyloxy-3,5-dimethyl-phenyloxy group,
3-acryloyloxy-4-ethyl-phenyloxy group,
3-acryloyloxy-5-ethyl-phenyloxy group,
3-ethyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group,
2-methyl-3-methacryloyloxy-phenyloxy group,
3-methacryloyloxy-4-methyl-phenyloxy group,
3-methacryloyloxy-5-methyl-phenyloxy group,
3-methacryloyloxy-6-methyl-phenyloxy group,
2-methyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group,
3-methyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group,
4-methacryloyloxy-3,5-dimethyl-phenyloxy group,
3-methacryloyloxy-4-ethyl-phenyloxy group,
What is a kind of A3 group selected from A3 group consisting of 3-methacryloyloxy-5-ethyl-phenyloxy group or 3-ethyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group and all of A are said A3 group The thing which is 2 or more types of A3 group chosen from these, and these arbitrary mixtures can be mentioned.

[形態B]
2n個のAのうちの一部(すなわち、少なくとも一つ)がA3基であり、他のAがA1基およびA2基から選ばれた基のものである。この場合、A3基以外の他のAは、全てが同じA1基若しくはA2基であってもよいし、二種以上のA1基若しくはA2基または一種若しくは二種以上のA1基とA2基とが混在した状態であってもよい。
[Form B]
A part (that is, at least one) of 2n A's is an A3 group, and the other A is a group selected from an A1 group and an A2 group. In this case, A other than the A3 group may all be the same A1 group or A2 group, or two or more kinds of A1 groups or A2 groups or one kind or two or more kinds of A1 groups and A2 groups may be It may be in a mixed state.

この形態の反応性基含有環状ホスファゼン化合物として好ましいものは、2n個のAのうちの1個〜(2n−2)個がA3基のものである。特に、式(1)のnが3である反応性基含有シクロトリホスファゼン化合物、式(1)のnが4である反応性基含有シクロテトラホスファゼン化合物、式(1)のnが5である反応性基含有シクロペンタホスファゼン化合物および式(1)のnが6である反応性基含有シクロヘキサホスファゼン化合物であって、2n個のAのうちの1個〜(2n−2)個がA3基のもの並びにこれらの任意の混合物である。この種の反応性基含有環状ホスファゼン化合物は、本発明の他の反応性基含有環状ホスファゼン化合物に比べ、高温信頼性および機械的強度(特に、ガラス転移温度)がより優れた樹脂成形体を実現可能な点において有利である。   Preferred as the reactive group-containing cyclic phosphazene compound of this form is one in which 2 to 2 of A to (2n-2) A3 groups. In particular, a reactive group-containing cyclotriphosphazene compound in which n in formula (1) is 3, a reactive group-containing cyclotetraphosphazene compound in which n in formula (1) is 4, and n in formula (1) is 5. A reactive group-containing cyclopentaphosphazene compound and a reactive group-containing cyclohexaphosphazene compound in which n in formula (1) is 6, wherein 1 to 2n-2 of 2n A are A3 groups As well as any mixtures thereof. This type of reactive group-containing cyclic phosphazene compound realizes a resin molded article with higher high-temperature reliability and mechanical strength (especially glass transition temperature) than other reactive group-containing cyclic phosphazene compounds of the present invention. It is advantageous where possible.

なお、2n個のAのうちの1個〜(2n−2)個がA3基であるか否かは、反応性基含有環状ホスファゼン化合物若しくはその製造過程における中間体のTOF−MS分析により確認することができる。   In addition, it is confirmed by TOF-MS analysis of the reactive group-containing cyclic phosphazene compound or an intermediate in the production process thereof, whether 1 to (2n-2) of 2n A are A3 groups or not. be able to.

このような形態の反応性基含有環状ホスファゼン化合物の具体例としては、式(1)のnが3である反応性基含有シクロトリホスファゼン化合物、式(1)のnが4である反応性基含有シクロテトラホスファゼン化合物、式(1)のnが5である反応性基含有シクロペンタホスファゼン化合物若しくは式(1)のnが6である反応性含有シクロヘキサホスファゼン化合物であって、
Aが、
A3基である2−メチル−3−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、
A3基である2−メチル−3−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である2−メチル−3−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である3−アクリロイルオキシ−4−メチル−フェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、
A3基である3−アクリロイルオキシ−4−メチル−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である3−アクリロイルオキシ−4−メチル−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である3−アクリロイルオキシ−5−メチル−フェニルオキシ基、とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、
A3基である3−アクリロイルオキシ−5−メチル−フェニルオキシ基、とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である3−アクリロイルオキシ−5−メチル−フェニルオキシ基、とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である3−アクリロイルオキシ−6−メチル−フェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、
A3基である3−アクリロイルオキシ−6−メチル−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である3−アクリロイルオキシ−6−メチル−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である2−メチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、
A3基である2−メチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である2−メチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である3−メチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、
A3基である3−メチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である3−メチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である4−アクリロイルオキシ−3,5−ジメチル−フェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、
A3基である4−アクリロイルオキシ−3,5−ジメチル−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である4−アクリロイルオキシ−3,5−ジメチル−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である3−アクリロイルオキシ−4−エチル−フェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、
A3基である3−アクリロイルオキシ−4−エチル−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である3−アクリロイルオキシ−4−エチル−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である3−アクリロイルオキシ−5−エチル−フェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、
A3基である3−アクリロイルオキシ−5−エチル−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である3−アクリロイルオキシ−5−エチル−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である3−エチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、
A3基である3−エチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である3−エチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である2−メチル−3−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、
A3基である2−メチル−3−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である2−メチル−3−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である3−メタクリロイルオキシ−4−メチル−フェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、
A3基である3−メタクリロイルオキシ−4−メチル−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である3−メタクリロイルオキシ−4−メチル−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である3−メタクリロイルオキシ−5−メチル−フェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、
A3基である3−メタクリロイルオキシ−5−メチル−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である3−メタクリロイルオキシ−5−メチル−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である3−メタクリロイルオキシ−6−メチル−フェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、
A3基である3−メタクリロイルオキシ−6−メチル−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である3−メタクリロイルオキシ−6−メチル−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である2−メチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、
A3基である2−メチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である2−メチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である3−メチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、
A3基である3−メチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である3−メチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である4−メタクリロイルオキシ−3,5−ジメチル−フェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、
A3基である4−メタクリロイルオキシ−3,5−ジメチル−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である4−メタクリロイルオキシ−3,5−ジメチル−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である3−メタクリロイルオキシ−4−エチル−フェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、
A3基である3−メタクリロイルオキシ−4−エチル−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である3−メタクリロイルオキシ−4−エチル−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である3−メタクリロイルオキシ−5−エチル−フェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、
A3基である3−メタクリロイルオキシ−5−エチル−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である3−メタクリロイルオキシ−5−エチル−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である3−エチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、
A3基である3−エチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの
若しくはA3基である3−エチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのものとの組合わせのものおよびこれらの任意の混合物を挙げることができる。
Specific examples of such a reactive group-containing cyclic phosphazene compound include a reactive group-containing cyclotriphosphazene compound in which n in formula (1) is 3, and a reactive group in which n in formula (1) is 4. Containing cyclotetraphosphazene compound, reactive group-containing cyclopentaphosphazene compound in which n in formula (1) is 5, or reactive containing cyclohexaphosphazene compound in which n in formula (1) is 6.
A is
A combination of a 2-methyl-3-acryloyloxy-phenyloxy group that is an A3 group and an n-propoxy group that is an A1 group;
A combination of a 2-methyl-3-acryloyloxy-phenyloxy group that is an A3 group and a phenoxy group that is an A2 group;
A combination of 2-methyl-3-acryloyloxy-phenyloxy group which is A3 group and methylphenoxy group which is A2 group,
A combination of 3-acryloyloxy-4-methyl-phenyloxy group which is A3 group and n-propoxy group which is A1 group,
A combination of 3-acryloyloxy-4-methyl-phenyloxy group which is A3 group and phenoxy group which is A2 group,
A combination of 3-acryloyloxy-4-methyl-phenyloxy group which is A3 group and methylphenoxy group which is A2 group,
A combination of 3-acryloyloxy-5-methyl-phenyloxy group which is A3 group and n-propoxy group which is A1 group,
A combination of 3-acryloyloxy-5-methyl-phenyloxy group which is A3 group and phenoxy group which is A2 group,
A combination of a 3-acryloyloxy-5-methyl-phenyloxy group that is an A3 group and a methylphenoxy group that is an A2 group;
A combination of a 3-acryloyloxy-6-methyl-phenyloxy group that is an A3 group and an n-propoxy group that is an A1 group;
A combination of 3-acryloyloxy-6-methyl-phenyloxy group which is A3 group and phenoxy group which is A2 group,
A combination of a 3-acryloyloxy-6-methyl-phenyloxy group that is an A3 group and a methylphenoxy group that is an A2 group;
A combination of 2-methyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group which is A3 group and n-propoxy group which is A1 group,
A combination of 2-methyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group which is A3 group and phenoxy group which is A2 group,
A combination of 2-methyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group that is A3 group and methylphenoxy group that is A2 group,
A combination of 3-methyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group which is A3 group and n-propoxy group which is A1 group,
A combination of a 3-methyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group that is an A3 group and a phenoxy group that is an A2 group;
A combination of a 3-methyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group that is an A3 group and a methylphenoxy group that is an A2 group,
A combination of 4-acryloyloxy-3,5-dimethyl-phenyloxy group which is A3 group and n-propoxy group which is A1 group,
A combination of a 4-acryloyloxy-3,5-dimethyl-phenyloxy group that is an A3 group and a phenoxy group that is an A2 group;
A combination of a 4-acryloyloxy-3,5-dimethyl-phenyloxy group that is an A3 group and a methylphenoxy group that is an A2 group;
A combination of 3-acryloyloxy-4-ethyl-phenyloxy group which is A3 group and n-propoxy group which is A1 group,
A combination of 3-acryloyloxy-4-ethyl-phenyloxy group which is A3 group and phenoxy group which is A2 group,
A combination of a 3-acryloyloxy-4-ethyl-phenyloxy group that is an A3 group and a methylphenoxy group that is an A2 group;
A combination of 3-acryloyloxy-5-ethyl-phenyloxy group which is A3 group and n-propoxy group which is A1 group,
A combination of 3-acryloyloxy-5-ethyl-phenyloxy group which is A3 group and phenoxy group which is A2 group,
A combination of 3-acryloyloxy-5-ethyl-phenyloxy group which is A3 group and methylphenoxy group which is A2 group,
A combination of 3-ethyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group which is A3 group and n-propoxy group which is A1 group,
A combination of 3-ethyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group which is A3 group and phenoxy group which is A2 group,
A combination of 3-ethyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group which is A3 group and methylphenoxy group which is A2 group,
A combination of 2-methyl-3-methacryloyloxy-phenyloxy group which is A3 group and n-propoxy group which is A1 group,
A combination of 2-methyl-3-methacryloyloxy-phenyloxy group which is A3 group and phenoxy group which is A2 group,
A combination of a 2-methyl-3-methacryloyloxy-phenyloxy group that is an A3 group and a methylphenoxy group that is an A2 group;
A combination of a 3-methacryloyloxy-4-methyl-phenyloxy group that is an A3 group and an n-propoxy group that is an A1 group;
A combination of a 3-methacryloyloxy-4-methyl-phenyloxy group that is an A3 group and a phenoxy group that is an A2 group,
A combination of a 3-methacryloyloxy-4-methyl-phenyloxy group that is an A3 group and a methylphenoxy group that is an A2 group;
A combination of a 3-methacryloyloxy-5-methyl-phenyloxy group which is an A3 group and an n-propoxy group which is an A1 group;
A combination of a 3-methacryloyloxy-5-methyl-phenyloxy group that is an A3 group and a phenoxy group that is an A2 group;
A combination of a 3-methacryloyloxy-5-methyl-phenyloxy group that is an A3 group and a methylphenoxy group that is an A2 group;
A combination of a 3-methacryloyloxy-6-methyl-phenyloxy group which is an A3 group and an n-propoxy group which is an A1 group;
A combination of 3-methacryloyloxy-6-methyl-phenyloxy group which is A3 group and phenoxy group which is A2 group,
A combination of a 3-methacryloyloxy-6-methyl-phenyloxy group that is an A3 group and a methylphenoxy group that is an A2 group;
A combination of 2-methyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group which is A3 group and n-propoxy group which is A1 group,
A combination of 2-methyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group which is A3 group and phenoxy group which is A2 group,
A combination of 2-methyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group which is A3 group and methylphenoxy group which is A2 group,
A combination of 3-methyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group which is A3 group and n-propoxy group which is A1 group,
A combination of a 3-methyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group that is an A3 group and a phenoxy group that is an A2 group,
A combination of a 3-methyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group that is an A3 group and a methylphenoxy group that is an A2 group;
A combination of 4-methacryloyloxy-3,5-dimethyl-phenyloxy group which is A3 group and n-propoxy group which is A1 group,
A combination of 4-methacryloyloxy-3,5-dimethyl-phenyloxy group which is A3 group and phenoxy group which is A2 group,
A combination of a 4-methacryloyloxy-3,5-dimethyl-phenyloxy group that is an A3 group and a methylphenoxy group that is an A2 group;
A combination of 3-methacryloyloxy-4-ethyl-phenyloxy group which is A3 group and n-propoxy group which is A1 group,
A combination of a 3-methacryloyloxy-4-ethyl-phenyloxy group that is an A3 group and a phenoxy group that is an A2 group;
A combination of a 3-methacryloyloxy-4-ethyl-phenyloxy group that is an A3 group and a methylphenoxy group that is an A2 group;
A combination of 3-methacryloyloxy-5-ethyl-phenyloxy group which is A3 group and n-propoxy group which is A1 group,
A combination of 3-methacryloyloxy-5-ethyl-phenyloxy group which is A3 group and phenoxy group which is A2 group,
A combination of a 3-methacryloyloxy-5-ethyl-phenyloxy group as an A3 group and a methylphenoxy group as an A2 group;
A combination of 3-ethyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group which is A3 group and n-propoxy group which is A1 group,
A combination of 3-ethyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group which is A3 group and phenoxy group which is A2 group or 3-ethyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group which is A3 group and A2 group Mention may be made of combinations with combinations with methylphenoxy groups and any mixtures thereof.

このうち、式(1)のnが3である反応性基含有シクロトリホスファゼン化合物、式(1)のnが4である反応性基含有シクロテトラホスファゼン化合物、式(1)のnが5である反応性基含有シクロペンタホスファゼン化合物、式(1)のnが6である反応性基含有シクロヘキサホスファゼン化合物であって、Aが、
A3基である3−メチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である3−メチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である2−メチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である2−メチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である4−アクリロイルオキシ−2,6−ジメチル−フェニルオキシ基、とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である4−アクリロイルオキシ−2,6−ジメチル−フェニルオキシ基、とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である3−メチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である3−メチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である2−メチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である2−メチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である4−メタクリロイルオキシ−2,6−ジメチル−フェニルオキシ基、とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの若しくは
A3基である4−メタクリロイルオキシ−2,6−ジメチル−フェニルオキシ基、とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの
およびこれらの任意の混合物が好ましい。
Among these, the reactive group-containing cyclotriphosphazene compound in which n in the formula (1) is 3, a reactive group-containing cyclotetraphosphazene compound in which n in the formula (1) is 4, and n in the formula (1) is 5. A reactive group-containing cyclopentaphosphazene compound, a reactive group-containing cyclohexaphosphazene compound in which n in formula (1) is 6, wherein A is
A combination of a 3-methyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group that is an A3 group and a phenoxy group that is an A2 group;
A combination of a 3-methyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group that is an A3 group and a methylphenoxy group that is an A2 group,
A combination of 2-methyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group which is A3 group and phenoxy group which is A2 group,
A combination of 2-methyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group that is A3 group and methylphenoxy group that is A2 group,
A combination of 4-acryloyloxy-2,6-dimethyl-phenyloxy group which is A3 group and phenoxy group which is A2 group,
A combination of a 4-acryloyloxy-2,6-dimethyl-phenyloxy group that is an A3 group and a methylphenoxy group that is an A2 group;
A combination of a 3-methyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group that is an A3 group and a phenoxy group that is an A2 group,
A combination of a 3-methyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group that is an A3 group and a methylphenoxy group that is an A2 group;
A combination of 2-methyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group which is A3 group and phenoxy group which is A2 group,
A combination of 2-methyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group which is A3 group and methylphenoxy group which is A2 group,
Combination of 4-methacryloyloxy-2,6-dimethyl-phenyloxy group which is A3 group and phenoxy group which is A2 group or 4-methacryloyloxy-2,6-dimethyl-phenyloxy group which is A3 group , And a combination of the A2 group methylphenoxy group and any mixtures thereof.

特に、式(1)のnが3である反応性基含有シクロトリホスファゼン化合物若しくは式(1)のnが4である反応性基含有シクロテトラホスファゼン化合物であって、Aが、
A3基である3−メチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である3−メチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である2−メチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である2−メチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である4−アクリロイルオキシ−2,6−ジメチル−フェニルオキシ基、とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である4−アクリロイルオキシ−2,6−ジメチル−フェニルオキシ基、とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である3−メチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である3−メチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である2−メチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である2−メチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、
A3基である4−メタクリロイルオキシ−2,6−ジメチル−フェニルオキシ基、とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの若しくは
A3基である4−メタクリロイルオキシ−2,6−ジメチル−フェニルオキシ基、とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのものおよびこれらの任意の混合物が好ましい。
In particular, a reactive group-containing cyclotriphosphazene compound in which n in formula (1) is 3 or a reactive group-containing cyclotetraphosphazene compound in which n in formula (1) is 4, wherein A is
A combination of a 3-methyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group that is an A3 group and a phenoxy group that is an A2 group;
A combination of a 3-methyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group that is an A3 group and a methylphenoxy group that is an A2 group,
A combination of 2-methyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group which is A3 group and phenoxy group which is A2 group,
A combination of 2-methyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group that is A3 group and methylphenoxy group that is A2 group,
A combination of 4-acryloyloxy-2,6-dimethyl-phenyloxy group which is A3 group and phenoxy group which is A2 group,
A combination of a 4-acryloyloxy-2,6-dimethyl-phenyloxy group that is an A3 group and a methylphenoxy group that is an A2 group;
A combination of a 3-methyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group that is an A3 group and a phenoxy group that is an A2 group,
A combination of a 3-methyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group that is an A3 group and a methylphenoxy group that is an A2 group;
A combination of 2-methyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group which is A3 group and phenoxy group which is A2 group,
A combination of 2-methyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group which is A3 group and methylphenoxy group which is A2 group,
Combination of 4-methacryloyloxy-2,6-dimethyl-phenyloxy group which is A3 group and phenoxy group which is A2 group or 4-methacryloyloxy-2,6-dimethyl-phenyloxy group which is A3 group , And a combination of the A2 group methylphenoxy group and any mixtures thereof.

反応性基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法
本発明の反応性基含有環状ホスファゼン化合物は、次のような方法により製造することができる。
Method for Producing Reactive Group-Containing Cyclic Phosphazene Compound The reactive group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention can be produced by the following method.

先ず、下記の式(3)で表される環状ホスホニトリルジハライドを用意する。
First, a cyclic phosphonitrile dihalide represented by the following formula (3) is prepared.

式(3)において、nは、3から8の整数を示している。また、Xは、ハロゲン原子を示し、好ましくはフッ素原子若しくは塩素原子である。因みに、ここで用意する環状ホスホニトリルジハライドは、nが異なる数種類のものの混合物であってもよい。   In the formula (3), n represents an integer of 3 to 8. X represents a halogen atom, preferably a fluorine atom or a chlorine atom. Incidentally, the cyclic phosphonitrile dihalide prepared here may be a mixture of several kinds having different n.

このような環状ホスホニトリルジハライドの製造方法その他は、各種の文献、例えば、下記のような非特許文献1、2に記載されている。   The production method of such a cyclic phosphonitrile dihalide and the like are described in various documents, for example, Non-Patent Documents 1 and 2 as described below.

PHOSPHORUS−NITROGEN COMPOUNDS、H.R.ALLCOCK著、1972年刊、ACADEMIC PRESS社PHOSPHORUS-NITROGEN COMPOUNDS, H.P. R. By ALLCOCK, published in 1972, ACADEMI PRESS PHOSPHAZENES、A WORLDWIDE INSIGHT、M.GLERIA、R.DE JAEGER著、2004年刊、NOVA SCIENCE PUBLISHERS INC.社PHOSPHAZENES, A WORLDWIDE INSIGHT, M.C. GLERIA, R.A. DE JAEGER, 2004, NOVA SCIENCE PUBLISHERS INC. Company

これらの文献に記載されているように、式(3)で表される環状ホスホニトリルジハライドは、通常、重合度が3から8程度の環状ホスホニトリルジハライドと鎖状ホスホニトリルジハライドとの混合物として得られる。このため、式(3)で表される環状ホスホニトリルジハライドは、上記各文献に記載されているように、当該混合物から溶媒への溶解度の差を利用して鎖状ホスホニトリルジハライドを取り除いて入手するか、或いは、当該混合物から環状ホスホニトリルジハライドを蒸留又は再結晶によって分離して入手する必要がある。   As described in these documents, the cyclic phosphonitrile dihalide represented by the formula (3) is usually composed of a cyclic phosphonitrile dihalide having a degree of polymerization of about 3 to 8 and a chain phosphonitrile dihalide. Obtained as a mixture. For this reason, the cyclic phosphonitrile dihalide represented by the formula (3) removes the chain phosphonitrile dihalide using the difference in solubility in the solvent from the mixture, as described in the above documents. Or the cyclic phosphonitrile dihalide must be separated from the mixture by distillation or recrystallization.

この製造方法において用いる環状ホスホニトリルジハライドとして好ましいものは、例えば、ヘキサフルオロシクロトリホスファゼン(nが3のもの)、オクタフルオロシクロテトラホスファゼン(nが4のもの)、デカフルオロシクロペンタホスファゼン(nが5のもの)、ドデカフルオロシクロヘキサホスファゼン(nが6のもの)、ヘキサフルオロシクロトリホスファゼンとオクタフルオロシクロテトラホスファゼンとの混合物、nが3から8の環状ホスホニトリルジフルオリドの混合物、ヘキサクロロシクロトリホスファゼン(nが3のもの)、オクタクロロシクロテトラホスファゼン(nが4のもの)、デカクロロシクロペンタホスファゼン(nが5のもの)、ドデカクロロシクロヘキサホスファゼン(nが6のもの)、ヘキサクロロシクロトリホスファゼンとオクタクロロシクロテトラホスファゼンとの混合物およびnが3から8の環状ホスホニトリルジクロリドの混合物等である。このうち、ヘキサクロロシクロトリホスファゼン、オクタクロロシクロテトラホスファゼン、ヘキサクロロシクロトリホスファゼンとオクタクロロシクロテトラホスファゼンとの混合物およびnが3から8の環状ホスホニトリルジクロリドの混合物がより好ましく、ヘキサクロロシクロトリホスファゼン、ヘキサクロロシクロトリホスファゼンとオクタクロロシクロテトラホスファゼンとの混合物およびnが3から8の環状ホスホニトリルジクロリドの混合物が特に好ましい。   Preferred examples of the cyclic phosphonitrile dihalide used in this production method include hexafluorocyclotriphosphazene (where n is 3), octafluorocyclotetraphosphazene (where n is 4), decafluorocyclopentaphosphazene (n 5), dodecafluorocyclohexaphosphazene (where n is 6), a mixture of hexafluorocyclotriphosphazene and octafluorocyclotetraphosphazene, a mixture of cyclic phosphonitrile difluorides where n is 3 to 8, hexachlorocyclo Triphosphazene (n is 3), octachlorocyclotetraphosphazene (n is 4), decachlorocyclopentaphosphazene (n is 5), dodecachlorocyclohexaphosphazene (n is 6), hexac B is a cyclotriphosphazene and mixtures cyclic phosphonate nitrile dichloride mixtures and n is 3 to 8 of the octa-chloro cyclotetrasiloxane phosphazene like. Of these, hexachlorocyclotriphosphazene, octachlorocyclotetraphosphazene, a mixture of hexachlorocyclotriphosphazene and octachlorocyclotetraphosphazene, and a mixture of cyclic phosphonitrile dichloride having n of 3 to 8, more preferably hexachlorocyclotriphosphazene, hexachloro Particular preference is given to mixtures of cyclotriphosphazene and octachlorocyclotetraphosphazene and mixtures of cyclic phosphonitrile dichlorides with n of 3 to 8.

また、上述の環状ホスホニトリルジハライドと反応させる化合物として、次の化合物B1、化合物B2および化合物B3を用意する。   Moreover, the following compound B1, compound B2, and compound B3 are prepared as a compound made to react with the above-mentioned cyclic phosphonitrile dihalide.

[化合物B1]
炭素数が1〜8のアルコール類。
このアルコール類は、炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい。
[Compound B1]
Alcohols having 1 to 8 carbon atoms.
In these alcohols, at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.

このようなアルコール類としては、例えば、メタノール、エタノ−ル、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタノール、n−ペンタノール、n−ヘキサノール、n−ヘプタノール、n−オクタノール、ビニルアルコール、1−プロペン−1−オール、2−プロペン−1−オール(アリルアルコール)、1−メチル−1−エテン−1−オール、3−ブテン−1−オール、2−メチル−2−プロペン−1−オール、4−ペンテン−1−オール、2−ヘキセン−1−オール、2−ヘプテン−4−オール、5−オクテン−1−オール、ベンジルアルコールおよびフェネチルアルコール等を挙げることができる。このうち、メタノール、エタノール、n−プロパノール、アリルアルコールおよびベンジルアルコールが好ましく、エタノールおよびn−プロパノールが特に好ましい。   Examples of such alcohols include methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, sec-butanol, tert-butanol, n-pentanol, n-hexanol, n-heptanol, and n-octanol. , Vinyl alcohol, 1-propen-1-ol, 2-propen-1-ol (allyl alcohol), 1-methyl-1-ethen-1-ol, 3-buten-1-ol, 2-methyl-2- Examples include propen-1-ol, 4-penten-1-ol, 2-hexen-1-ol, 2-hepten-4-ol, 5-octen-1-ol, benzyl alcohol, and phenethyl alcohol. Among these, methanol, ethanol, n-propanol, allyl alcohol and benzyl alcohol are preferable, and ethanol and n-propanol are particularly preferable.

[化合物B2]
炭素数が6〜20のフェノール類。
このフェノール類は、炭素数が1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい。
[Compound B2]
Phenols having 6 to 20 carbon atoms.
In this phenol, at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.

このようなフェノール類としては、例えば、フェノール、クレゾール、ジメチルフェノール、エチルフェノール、エチルメチルフェノール、ジエチルフェノール、n−プロピルフェノール、イソプロピルフェノール、イソプロピルメチルフェノール、イソプロピルエチルフェノール、ジイソプロピルフェノール、n−ブチルフェノール、sec−ブチルフェノール、tert−ブチルフェノール、n−ペンチルフェノール、n−ヘキシルフェノール、ビニルフェノール、1−プロペニルフェノール、2−プロペニルフェノール、イソプロペニルフェノール、1−ブテニルフェノール、sec−ブテニルフェノール、1−ペンテニルフェノール、1−ヘキセニルフェノール、フェニルフェノール、ナフトール、アントラノールおよびフェナントラノール等を挙げることができる。このうち、フェノール、クレゾール、ジメチルフェノール、ジエチルフェノール、2−プロペニルフェノール、フェニルフェノールおよびナフトールが好ましく、フェノール、クレゾール、ジメチルフェノールおよびナフトールが特に好ましい。   Examples of such phenols include phenol, cresol, dimethylphenol, ethylphenol, ethylmethylphenol, diethylphenol, n-propylphenol, isopropylphenol, isopropylmethylphenol, isopropylethylphenol, diisopropylphenol, n-butylphenol, sec-butylphenol, tert-butylphenol, n-pentylphenol, n-hexylphenol, vinylphenol, 1-propenylphenol, 2-propenylphenol, isopropenylphenol, 1-butenylphenol, sec-butenylphenol, 1-pentenyl Phenol, 1-hexenylphenol, phenylphenol, naphthol, anthranol and phenanthate Mention may be made of the Nord and the like. Among these, phenol, cresol, dimethylphenol, diethylphenol, 2-propenylphenol, phenylphenol and naphthol are preferable, and phenol, cresol, dimethylphenol and naphthol are particularly preferable.

[化合物B3]
下記の式(4)で表されるアシル基置換フェノール類。
[Compound B3]
Acyl group-substituted phenols represented by the following formula (4).

式(4)中、L〜Lの内、少なくとも一つはアシル基であり、かつ、少なくとも一つは炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基であり、残りは水素原子である。 In formula (4), at least one of L 1 to L 5 is an acyl group, and at least one is at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group. And the rest are hydrogen atoms.

アシル基は、種類が限定されるものではなく、例えば、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、ラウロイル基、ミリストイル基、ステアロイル基、オキサリル基、スクニシル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、ベンゾイル基、フタロイル基、テレフタロイル基、ナフトイル基、トルオイル基、フロイル基、テノイル基、ニコチノイル基およびアニソイル基等を挙げることができる。但し、化合物B3は入手しやすく、また、本発明のシアナト基含有環状ホスファゼン化合物を製造するための合成操作を簡便に実施できることから、アシル基としてアセチル基を有するものが好ましい。   The acyl group is not limited in type, for example, formyl group, acetyl group, propionyl group, butyryl group, isobutyryl group, valeryl group, isovaleryl group, pivaloyl group, lauroyl group, myristoyl group, stearoyl group, oxalyl group Succinyl group, acryloyl group, methacryloyl group, benzoyl group, phthaloyl group, terephthaloyl group, naphthoyl group, toluoyl group, furoyl group, thenoyl group, nicotinoyl group and anisoyl group. However, since compound B3 is easily available and the synthesis operation for producing the cyanate group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention can be carried out easily, those having an acetyl group as the acyl group are preferred.

このようなアシル基置換フェノール類としては、例えば、2−メチル−3−アセチルフェノール、3−アセチル−4−メチルフェノール、3−アセチル−5−メチルフェノール、3−アセチル−6−メチルフェノール、2−メチル−4−アセチルフェノール、3−メチル−4−アセチルフェノール、4−アセチル−3,5−ジメチルフェノール、3−アセチル−4−エチルフェノール、3−アセチル−5−エチルフェノールおよび3−エチル−4−アセチルフェノール等を挙げることができる。このうち、3−アセチル−4−メチルフェノール、3−アセチル−5−メチルフェノール、2−メチル−4−アセチルフェノール、3−メチル−4−アセチルフェノール、4−アセチル−3,5−ジメチルフェノールおよび3−エチル−4−アセチルフェノールが好ましく、3−アセチル−4−メチルフェノール、2−メチル−4−アセチルフェノール、3−メチル−4−アセチルフェノールおよび4−アセチル−3,5−ジメチルフェノールが特に好ましい。   Examples of such acyl group-substituted phenols include 2-methyl-3-acetylphenol, 3-acetyl-4-methylphenol, 3-acetyl-5-methylphenol, 3-acetyl-6-methylphenol, and 2 -Methyl-4-acetylphenol, 3-methyl-4-acetylphenol, 4-acetyl-3,5-dimethylphenol, 3-acetyl-4-ethylphenol, 3-acetyl-5-ethylphenol and 3-ethyl- 4-acetylphenol etc. can be mentioned. Of these, 3-acetyl-4-methylphenol, 3-acetyl-5-methylphenol, 2-methyl-4-acetylphenol, 3-methyl-4-acetylphenol, 4-acetyl-3,5-dimethylphenol and 3-ethyl-4-acetylphenol is preferred, especially 3-acetyl-4-methylphenol, 2-methyl-4-acetylphenol, 3-methyl-4-acetylphenol and 4-acetyl-3,5-dimethylphenol. preferable.

本発明の反応性基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法では、先ず、上述の式(3)で表される環状ホスホニトリルジハライドと上述の化合物B1〜B3とを反応させることにより、環状ホスホニトリルジハライドの全ハロゲン原子を、少なくとも一つが下記のG3基により置換されるよう下記のG1基、G2基およびG3基からなる群から選ばれた基により置換し、アシル基含有環状ホスホニトリル置換体を製造する(工程1)。   In the method for producing a reactive group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention, first, the cyclic phosphonitrile dihalide is reacted with the cyclic phosphonitrile dihalide represented by the above formula (3) and the above-mentioned compounds B1 to B3. All halogen atoms of the halide are substituted with a group selected from the group consisting of the following G1, G2, and G3 groups so that at least one is substituted with the following G3 group, and an acyl group-containing cyclic phosphonitrile substituted product is obtained. Manufacture (step 1).

[G1基]
炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも1種の基が置換されていてもよい、炭素数が1〜8のアルコキシ基。
この基は、化合物B1によりハロゲン原子と置換されるものであり、既述のA1基に該当する。
[G1 group]
The C1-C8 alkoxy group in which the at least 1 sort (s) chosen from a C1-C6 alkyl group, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.
This group is substituted with a halogen atom by the compound B1, and corresponds to the A1 group described above.

[G2基]
炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも1種の基が置換されていてもよい、炭素数6〜20のアリールオキシ基。
この基は、化合物B2によりハロゲン原子と置換されるものであり、既述のA2基に該当する。
[G2 group]
An aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms, wherein at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.
This group is substituted with a halogen atom by the compound B2, and corresponds to the A2 group described above.

[G3基]
下記の式(4)で示されるアシル基置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
[G3 group]
A group selected from the group consisting of an acyl group-substituted phenyloxy group represented by the following formula (4).

この基は、化合物B3によりハロゲン原子と置換されるものである。式(4)中、L〜Lの内、少なくとも一つはアシル基であり、かつ、少なくとも一つは炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基であり、残りは水素原子である。 This group is substituted with a halogen atom by the compound B3. In formula (4), at least one of L 1 to L 5 is an acyl group, and at least one is at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group. And the rest are hydrogen atoms.

この製造工程では、製造するアシル基含有環状ホスファゼン化合物の種類、すなわち、上述の形態Aに係るアシル基含有環状ホスファゼン化合物を製造する場合と、上述の形態Bに係るアシル基含有環状ホスファゼン化合物を製造する場合とで、化合物B1〜B3を適宜選択して使用する。具体的には次の通りである。   In this production process, the kind of the acyl group-containing cyclic phosphazene compound to be produced, that is, the case of producing the acyl group-containing cyclic phosphazene compound according to the above-described form A, and the production of the acyl group-containing cyclic phosphazene compound according to the above-described form B are produced. When selected, compounds B1 to B3 are appropriately selected and used. Specifically, it is as follows.

[形態Aのアシル基含有環状ホスファゼン化合物を製造する場合]
この場合は、環状ホスホニトリルジハライドと化合物B3とを反応させ、環状ホスホニトリルジハライドのハロゲン原子(以下、活性ハロゲン原子という場合がある)の全てを化合物B3に由来のG3基で置換する。ここで用いられる化合物B3は、上述のアシルフェノール類のうちの一種若しくは二種以上である。環状ホスホニトリルジハライドと化合物B3とを反応させ、環状ホスホニトリルジハライドの全ての活性ハロゲン原子をG3基で置換する方法としては、次のいずれかの方法を採用することができる。
[When producing an acyl group-containing cyclic phosphazene compound of Form A]
In this case, the cyclic phosphonitrile dihalide is reacted with the compound B3, and all the halogen atoms (hereinafter sometimes referred to as active halogen atoms) of the cyclic phosphonitrile dihalide are substituted with the G3 group derived from the compound B3. The compound B3 used here is one or more of the acylphenols described above. As a method of reacting the cyclic phosphonitrile dihalide with the compound B3 and substituting all the active halogen atoms of the cyclic phosphonitrile dihalide with the G3 group, any of the following methods can be employed.

<方法A−a>
環状ホスホニトリルジハライドと化合物B3のアルカリ金属塩とを反応させる。
この方法による場合、化合物B3のアルカリ金属塩の使用量は、通常、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の量の1.0〜2.0当量に設定するのが好ましく、1.05〜1.3当量に設定するのがより好ましい。当該使用量が1.0当量未満の場合は、活性ハロゲン原子の一部が残留し、目的とする反応性基含有環状ホスファゼン化合物が所要の効果を示さない可能性がある。一方、当該使用量が2.0当量を超える場合は、反応生成物の分離・精製が困難になるおそれがあり、また、不経済である。
<Method Aa>
A cyclic phosphonitrile dihalide is reacted with an alkali metal salt of compound B3.
In the case of this method, the amount of the alkali metal salt of compound B3 is usually preferably set to 1.0 to 2.0 equivalents of the amount of active halogen atom of cyclic phosphonitrile dihalide, and 1.05 to 1 More preferably, it is set to 3 equivalents. When the amount used is less than 1.0 equivalent, some of the active halogen atoms remain, and the target reactive group-containing cyclic phosphazene compound may not exhibit the required effect. On the other hand, if the amount used exceeds 2.0 equivalents, it may be difficult to separate and purify the reaction product, which is uneconomical.

<方法A−b>
環状ホスホニトリルジハライドと化合物B3とを、ハロゲン化水素を捕捉する塩基の存在下で反応させる。
この方法による場合、化合物B3の使用量は、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の量の1.0〜2.0当量に設定するのが好ましく、1.05〜1.3当量に設定するのがより好ましい。当該使用量が1.0当量未満の場合は、活性ハロゲン原子の一部が残留し、目的とする反応性基含有環状ホスファゼン化合物が所要の効果を示さない可能性がある。一方、当該使用量が2.0当量を超える場合は、反応生成物の分離・精製が困難になるおそれがあり、また、不経済である。また、塩基の使用量は、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の量の1.1〜2.1当量に設定するのが好ましく、1.1〜1.4当量に設定するのがより好ましい。当該使用量が1.1当量未満の場合は、活性ハロゲン原子の一部が残留し、目的とする反応性基含有環状ホスファゼン化合物が所要の効果を示さない可能性がある。一方、当該使用量が2.1当量を超える場合は、反応生成物の分離・精製が困難になるおそれがあり、また、不経済である。
<Method Ab>
Cyclic phosphonitrile dihalide and compound B3 are reacted in the presence of a base that captures hydrogen halide.
In the case of this method, the amount of compound B3 used is preferably set to 1.0 to 2.0 equivalents, preferably 1.05 to 1.3 equivalents, of the amount of the active halogen atom of the cyclic phosphonitrile dihalide. Is more preferable. When the amount used is less than 1.0 equivalent, some of the active halogen atoms remain, and the target reactive group-containing cyclic phosphazene compound may not exhibit the required effect. On the other hand, if the amount used exceeds 2.0 equivalents, it may be difficult to separate and purify the reaction product, which is uneconomical. The amount of the base used is preferably set to 1.1 to 2.1 equivalents, more preferably 1.1 to 1.4 equivalents, of the amount of active halogen atoms in the cyclic phosphonitrile dihalide. . When the amount used is less than 1.1 equivalents, a part of the active halogen atom remains, and the target reactive group-containing cyclic phosphazene compound may not exhibit the required effect. On the other hand, if the amount used exceeds 2.1 equivalents, it may be difficult to separate and purify the reaction product, which is uneconomical.

[形態Bのアシル基含有環状ホスファゼン化合物を製造する場合]
この場合は、環状ホスホニトリルジハライドに対し、化合物B3のうちの少なくとも一種と、化合物B1および化合物B2のうちの少なくとも一つの化合物とを反応させ、環状ホスホニトリルジハライドの一部の活性ハロゲン原子を化合物B3に由来のG3基で置換し、残りの他の活性ハロゲン原子の全てを化合物B1に由来のG1基および化合物B2に由来のG2基のうちの少なくとも一つの基で置換する。このための方法としては、次のいずれかの方法を採用することができる。
[When producing an acyl group-containing cyclic phosphazene compound of Form B]
In this case, at least one of compound B3 and at least one compound of compound B1 and compound B2 are reacted with cyclic phosphonitrile dihalide, and a part of the active halogen atoms of cyclic phosphonitrile dihalide is reacted. Is substituted with the G3 group derived from the compound B3, and all of the remaining other active halogen atoms are replaced with at least one group of the G1 group derived from the compound B1 and the G2 group derived from the compound B2. As a method for this, any of the following methods can be adopted.

<方法B−a>
環状ホスホニトリルジハライドに対し、化合物B3のアルカリ金属塩と、化合物B1および化合物B2のうちの少なくとも一つの化合物のアルカリ金属塩との混合物を反応させ、活性ハロゲン原子の全てを置換する。当該混合物において、化合物B3のアルカリ金属塩の割合は、製造するアシル基含有環状ホスファゼン化合物の種類に応じて適宜設定することができる。
<Method Ba>
A cyclic phosphonitrile dihalide is reacted with a mixture of an alkali metal salt of compound B3 and an alkali metal salt of at least one of compound B1 and compound B2 to replace all active halogen atoms. In the said mixture, the ratio of the alkali metal salt of compound B3 can be suitably set according to the kind of acyl group containing cyclic phosphazene compound to manufacture.

この方法による場合、上述の混合物の使用量は、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の量の1.0〜2.0当量に設定するのが好ましく、1.05〜1.3当量に設定するのがより好ましい。当該使用量が1.0当量未満の場合は、活性ハロゲン原子の一部が残留し、目的とする反応性基含有環状ホスファゼン化合物が所要の効果を示さない可能性がある。一方、当該使用量が2.0当量を超える場合は、反応生成物の分離・精製が困難になるおそれがあり、また、不経済である。   In the case of this method, the amount of the above mixture used is preferably set to 1.0 to 2.0 equivalents of the amount of active halogen atoms of the cyclic phosphonitrile dihalide, and is set to 1.05 to 1.3 equivalents. More preferably. When the amount used is less than 1.0 equivalent, some of the active halogen atoms remain, and the target reactive group-containing cyclic phosphazene compound may not exhibit the required effect. On the other hand, if the amount used exceeds 2.0 equivalents, it may be difficult to separate and purify the reaction product, which is uneconomical.

<方法B−b>
環状ホスホニトリルジハライドに対し、化合物B3と、化合物B1および化合物B2のうちの少なくとも一つの化合物との混合物を、ハロゲン化水素を捕捉する塩基の存在下で反応させ、活性ハロゲン原子の全てを置換する。当該混合物において、化合物B3の割合は、製造するアシル基含有環状ホスファゼン化合物の種類に応じて適宜設定することができる。
<Method B-b>
A cyclic phosphonitrile dihalide is reacted with a mixture of compound B3 and at least one of compound B1 and compound B2 in the presence of a base that captures hydrogen halide to replace all active halogen atoms. To do. In the said mixture, the ratio of compound B3 can be suitably set according to the kind of acyl group containing cyclic phosphazene compound to manufacture.

この方法による場合、上述の混合物の使用量は、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の量の1.0〜2.0当量に設定するのが好ましく、1.05〜1.3当量に設定するのがより好ましい。当該使用量が1.0当量未満の場合は、活性ハロゲン原子の一部が残留し、目的とする反応性基含有環状ホスファゼン化合物が所要の効果を示さない可能性がある。一方、当該使用量が2.0当量を超える場合は、反応生成物の分離・精製が困難になるおそれがあり、また、不経済である。また、塩基の使用量は、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の量の1.1〜2.1当量に設定するのが好ましく、1.1〜1.4当量に設定するのがより好ましい。当該使用量が1.1当量未満の場合は、活性ハロゲン原子の一部が残留し、目的とする反応性基含有環状ホスファゼン化合物が所要の効果を示さない可能性がある。一方、当該使用量が2.1当量を超える場合は、反応生成物の分離・精製が困難になるおそれがあり、また、不経済である。   In the case of this method, the amount of the above mixture used is preferably set to 1.0 to 2.0 equivalents of the amount of active halogen atoms of the cyclic phosphonitrile dihalide, and is set to 1.05 to 1.3 equivalents. More preferably. When the amount used is less than 1.0 equivalent, some of the active halogen atoms remain, and the target reactive group-containing cyclic phosphazene compound may not exhibit the required effect. On the other hand, if the amount used exceeds 2.0 equivalents, it may be difficult to separate and purify the reaction product, which is uneconomical. The amount of the base used is preferably set to 1.1 to 2.1 equivalents, more preferably 1.1 to 1.4 equivalents, of the amount of active halogen atoms in the cyclic phosphonitrile dihalide. . When the amount used is less than 1.1 equivalents, a part of the active halogen atom remains, and the target reactive group-containing cyclic phosphazene compound may not exhibit the required effect. On the other hand, if the amount used exceeds 2.1 equivalents, it may be difficult to separate and purify the reaction product, which is uneconomical.

<方法B−c>
先ず、環状ホスホニトリルジハライドに対して化合物B3を反応させ、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の一部を化合物B3に由来のG3基により置換した部分置換体を得る(第一工程)。次に、得られた部分置換体に対して化合物B1および化合物B2のうちの少なくとも一つの化合物を反応させ、残りの活性ハロゲン原子の全てを化合物B1に由来のG1基および化合物B2に由来のG2基のうちの少なくとも一つにより置換する(第二工程)。
<Method Bc>
First, compound B3 is reacted with cyclic phosphonitrile dihalide to obtain a partially substituted product in which a part of the active halogen atom of cyclic phosphonitrile dihalide is substituted with G3 group derived from compound B3 (first step). Next, at least one of compound B1 and compound B2 is reacted with the obtained partially substituted product, and all of the remaining active halogen atoms are converted to G1 group derived from compound B1 and G2 derived from compound B2. Substitution with at least one of the groups (second step).

この方法の第一工程は、環状ホスホニトリルジハライドに対して化合物B3のアルカリ金属塩を反応させて実施してもよいし、環状ホスホニトリルジハライドに対し、化合物B3をハロゲン化水素を捕捉する塩基の存在下で反応させてもよい。また、第二工程は、第一工程で得られた部分置換体に対して化合物B1および化合物B2のうちの少なくとも一つの化合物のアルカリ金属塩を反応させて実施してもよいし、第一工程で得られた部分置換体に対し、化合物B1および化合物B2のうちの少なくとも一つの化合物をハロゲン化水素を捕捉する塩基の存在下で反応させてもよい。   The first step of this method may be carried out by reacting an alkali metal salt of compound B3 with a cyclic phosphonitrile dihalide, or captures a hydrogen halide of compound B3 with respect to the cyclic phosphonitrile dihalide. The reaction may be performed in the presence of a base. In addition, the second step may be carried out by reacting the partially substituted product obtained in the first step with an alkali metal salt of at least one of the compounds B1 and B2, or the first step. The partially substituted product obtained in (1) may be reacted with at least one of compound B1 and compound B2 in the presence of a base that captures hydrogen halide.

<方法B−d>
先ず、環状ホスホニトリルジハライドに対して化合物B1および化合物B2のうちの少なくとも一つの化合物を反応させ、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の一部を化合物B1に由来のG1基および化合物B2に由来のG2基のうちの少なくとも一つにより置換した部分置換体を得る(第一工程)。次に、得られた部分置換体に対して化合物B3を反応させ、残りの活性ハロゲン原子の全てを化合物B3に由来のG3基により置換する(第二工程)。
<Method Bd>
First, at least one of compound B1 and compound B2 is reacted with cyclic phosphonitrile dihalide, and a part of the active halogen atom of cyclic phosphonitrile dihalide is converted to G1 group derived from compound B1 and compound B2. A partially substituted product substituted with at least one of the derived G2 groups is obtained (first step). Next, compound B3 is reacted with the obtained partially substituted product, and all remaining active halogen atoms are substituted with G3 groups derived from compound B3 (second step).

この方法の第一工程は、環状ホスホニトリルジハライドに対して化合物B1および化合物B2のうちの少なくとも一つの化合物のアルカリ金属塩を反応させて実施してもよいし、環状ホスホニトリルジハライドに対し、化合物B1および化合物B2のうちの少なくとも一つの化合物をハロゲン化水素を捕捉する塩基の存在下で反応させてもよい。また、第二工程は、第一工程で得られた部分置換体に対して化合物B3のアルカリ金属塩を反応させて実施してもよいし、第一工程で得られた部分置換体に対し、化合物B3をハロゲン化水素を捕捉する塩基の存在下で反応させてもよい。   The first step of this method may be carried out by reacting cyclic phosphonitrile dihalide with an alkali metal salt of at least one of compound B1 and compound B2, or for cyclic phosphonitrile dihalide. Alternatively, at least one of compound B1 and compound B2 may be reacted in the presence of a base that captures hydrogen halide. In addition, the second step may be carried out by reacting the alkali metal salt of compound B3 with the partial substituent obtained in the first step, or with respect to the partial substituent obtained in the first step. Compound B3 may be reacted in the presence of a base that captures hydrogen halide.

上述の各方法において用いられるアルカリ金属塩は、通常、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩およびセシウム塩が好ましい。特に、ナトリウム塩およびカリウム塩が好ましい。このようなアルカリ金属塩は、化合物B1〜B3と、金属リチウム、金属ナトリウム若しくは金属カリウム等との脱水素反応、または、化合物B1〜B3と、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム若しくは水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物との混合物からの脱水反応によって得ることができる。   In general, the alkali metal salt used in each of the above methods is preferably a lithium salt, a sodium salt, a potassium salt, or a cesium salt. In particular, sodium salt and potassium salt are preferable. Such an alkali metal salt is a dehydrogenation reaction between the compounds B1 to B3 and metal lithium, metal sodium or metal potassium, or the compounds B1 to B3 and lithium hydroxide, sodium hydroxide or potassium hydroxide. It can be obtained by a dehydration reaction from a mixture with an alkali metal hydroxide.

また、上述の各方法において用いられる塩基は、特に限定されるものではないが、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジメチルアニリン、ジエチルアニリン、ジイソプロピルアニリン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、4−ジエチルアミノピリジンおよび4−ジイソプロピルアミノピリジン等の脂肪族若しくは芳香族アミン類、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウムおよび炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムおよび水酸化リチウム等のアルカリ金属水酸化物等が好ましい。特に、トリエチルアミン、ピリジンおよび水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物が好ましい。   The base used in each of the above methods is not particularly limited. For example, trimethylamine, triethylamine, diisopropylethylamine, dimethylaniline, diethylaniline, diisopropylaniline, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, 4-diethylamino Aliphatic or aromatic amines such as pyridine and 4-diisopropylaminopyridine, alkali metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate, sodium bicarbonate and potassium bicarbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide Alkali metal hydroxides are preferred. In particular, alkali metal hydroxides such as triethylamine, pyridine and sodium hydroxide are preferred.

上述の環状ホスホニトリルジハライドと化合物B1〜B3との反応は、上述のいずれの方法についても、無溶媒で実施することができ、また、溶媒を使用して実施することもできる。溶媒を使用する場合、溶媒の種類は、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されるものではないが、通常、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン、ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、1,2−ジエトキシエタンおよびジフェニルエーテル等のエーテル系、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン、キシレン、エチルベンゼンおよびイソプロピルベンゼン等の芳香族炭化水素系、クロロホルムおよび塩化メチレン等のハロゲン化炭化水素系、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、ウンデカンおよびドデカン等の脂肪族炭化水素系、ピリジン等の複素環式芳香族炭化水素系、第三級アミン系並びにシアン化合物系等の有機溶媒を用いるのが好ましい。このうち、分子内にエーテル結合を有し、かつ、化合物B1〜B3およびそれらのアルカリ金属塩の溶解度が高いエーテル系の有機溶媒および水との分離が容易である芳香族炭化水素系の有機溶媒を用いるのが特に好ましい。   The reaction of the above-mentioned cyclic phosphonitrile dihalide and the compounds B1 to B3 can be carried out without solvent for any of the above-mentioned methods, and can also be carried out using a solvent. When using a solvent, the type of the solvent is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction, but usually diethyl ether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, 1,2-dimethoxyethane, Ethers such as butyl methyl ether, diisopropyl ether, 1,2-diethoxyethane and diphenyl ether, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, chlorobenzene, nitrobenzene, xylene, ethylbenzene and isopropylbenzene, halogens such as chloroform and methylene chloride Hydrocarbons, pentane, hexane, cyclohexane, heptane, octane, nonane, undecane, dodecane and other aliphatic hydrocarbons, pyridine and other heterocyclic aromatic hydrocarbons, tertiary amines, cyanide compounds, etc. of Preferable to use a machine solvent. Of these, ether-based organic solvents having an ether bond in the molecule and high solubility of the compounds B1 to B3 and their alkali metal salts, and aromatic hydrocarbon-based organic solvents that are easily separated from water It is particularly preferable to use

上述の環状ホスホニトリルジハライドと化合物B1〜B3とを反応させる際の反応温度は、上述のいずれの方法によるか、或いは、反応生成物の熱安定性等を考慮して適宜設定することができる。但し、溶媒を用いて当該反応を実施する場合は、通常、−20℃から溶媒の沸点までの温度範囲に反応温度を設定するのが好ましい。一方、無溶媒で当該反応を実施する場合、反応温度は、通常、40〜200℃の範囲に設定するのが好ましい。   The reaction temperature at the time of reacting the above-mentioned cyclic phosphonitrile dihalide and the compounds B1 to B3 can be set as appropriate depending on any of the above-mentioned methods or considering the thermal stability of the reaction product. . However, when the reaction is carried out using a solvent, it is usually preferable to set the reaction temperature in a temperature range from −20 ° C. to the boiling point of the solvent. On the other hand, when carrying out the reaction without solvent, the reaction temperature is usually preferably set in the range of 40 to 200 ° C.

なお、本発明の反応性基含有環状ホスファゼン化合物として上述の形態Bに係るもの、特に、式(1)における2n個のAのうちの1個〜(2n−2)個がA3基のものを製造する場合は、上述の方法B−c若しくは方法B−dを採用するのが好ましい。   As the reactive group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention, a compound according to the above-mentioned Form B, in particular, one having 2 to 3 (2n-2) of 2n A in formula (1) is an A3 group. When manufacturing, it is preferable to employ the above-mentioned method Bc or Method Bd.

ここで、方法B−cを採用する場合は、先ず、環状ホスホニトリルジハライドのエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液を調製する。そして、この溶媒溶液に対し、化合物B3のアルカリ金属塩のエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液または化合物B3とハロゲン化水素を捕捉する塩基とのエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液を、通常、−20〜50℃の温度で3〜24時間かけて添加し、また、同温度範囲で1〜24時間反応させ、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の一部を化合物B3に由来のG3基により置換した部分置換体を製造する。次に、得られた部分置換体のエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液に対し、化合物B1および化合物B2から選ばれた少なくとも一つの化合物のアルカリ金属塩のエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液または化合物B1および化合物B2から選ばれた少なくとも一つの化合物とハロゲン化水素を捕捉する塩基とのエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液を、通常、0〜50℃の温度で3〜24時間かけて添加し、また、0℃から溶媒の沸点までの温度で反応させ、残りの活性ハロゲン原子の全てを化合物B1に由来のG1基および化合物B2に由来のG2基のうちの少なくとも一つにより置換する。   Here, when adopting Method Bc, first, an ether solvent solution or an aromatic hydrocarbon solvent solution of cyclic phosphonitrile dihalide is prepared. Then, with respect to this solvent solution, an ether solvent solution or an aromatic hydrocarbon solvent solution of an alkali metal salt of compound B3 or an ether solvent solution or an aromatic hydrocarbon system of compound B3 and a base for capturing hydrogen halide. The solvent solution is usually added at a temperature of −20 to 50 ° C. over 3 to 24 hours, and is allowed to react for 1 to 24 hours in the same temperature range, and a part of the active halogen atom of the cyclic phosphonitrile dihalide is compounded. A partially substituted product substituted with the G3 group derived from B3 is produced. Next, an ether solvent solution or an aromatic solvent of an alkali metal salt of at least one compound selected from the compound B1 and the compound B2 is added to the ether solvent solution or aromatic hydrocarbon solvent solution of the partially substituted product obtained. A hydrocarbon solvent solution or an ether solvent solution or an aromatic hydrocarbon solvent solution of at least one compound selected from Compound B1 and Compound B2 and a base that captures hydrogen halide is usually at 0 to 50 ° C. The reaction is carried out at a temperature from 3 to 24 hours, and the reaction is carried out at a temperature from 0 ° C. to the boiling point of the solvent. All of the remaining active halogen atoms are removed from the G1 group derived from the compound B1 and the G2 group derived from the compound B2. Replace with at least one of them.

一方、方法B−dを採用する場合は、先ず、環状ホスホニトリルジハライドのエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液を調製する。そして、この溶媒溶液に対し、化合物B1および化合物B2から選ばれた少なくとも一つの化合物のアルカリ金属塩のエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液または化合物B1および化合物B2から選ばれた少なくとも一つの化合物とハロゲン化水素を捕捉する塩基とのエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液を、通常、−20〜50℃の温度で3〜24時間かけて添加し、また、同温度範囲で1〜24時間反応させ、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の一部を化合物B1に由来のG1基および化合物B2に由来のG2基のうちの少なくとも一つにより置換した部分置換体を製造する。次に、得られた部分置換体のエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液に対し、化合物B3のアルカリ金属塩のエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液または化合物B3とハロゲン化水素を捕捉する塩基とのエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液を、通常、0〜50℃の温度で3〜24時間かけて添加し、また、0℃から溶媒の沸点までの温度で反応させ、残りの活性ハロゲン原子の全てを化合物B3に由来のG3基により置換する。   On the other hand, when adopting Method Bd, first, an ether solvent solution or an aromatic hydrocarbon solvent solution of cyclic phosphonitrile dihalide is prepared. Then, with respect to this solvent solution, at least one selected from an ether solvent solution or an aromatic hydrocarbon solvent solution of an alkali metal salt of at least one compound selected from Compound B1 and Compound B2 or from Compound B1 and Compound B2 An ether solvent solution or an aromatic hydrocarbon solvent solution of one compound and a base for capturing a hydrogen halide is usually added over a period of 3 to 24 hours at a temperature of -20 to 50 ° C. To produce a partially substituted product in which a part of the active halogen atom of cyclic phosphonitrile dihalide is substituted with at least one of G1 group derived from compound B1 and G2 group derived from compound B2 To do. Next, the ether solvent solution or aromatic hydrocarbon solvent solution of the partially substituted product thus obtained is subjected to halogenation with an ether solvent solution or aromatic hydrocarbon solvent solution of compound B3 or compound B3. An ether solvent solution or an aromatic hydrocarbon solvent solution with a base that captures hydrogen is usually added at a temperature of 0 to 50 ° C. over 3 to 24 hours, and a temperature from 0 ° C. to the boiling point of the solvent. And all of the remaining active halogen atoms are replaced with G3 groups derived from compound B3.

本発明の製造方法では、次に、上述の工程1により得られたアシル基含有環状ホスホニトリル置換体をバイヤー−ビリガー(Baeyer−Villiger)酸化(工程2)し、次いでそれを脱アシル化(加水分解)(工程3)してヒドロキシ基含有環状ホスホニトリル置換体を製造する。これにより、目的とする反応性基含有環状ホスファゼン化合物の前駆体であるヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物が得られる。   In the production method of the present invention, the acyl group-containing cyclic phosphonitrile substitution product obtained in the above-mentioned step 1 is then subjected to Bayer-Villiger oxidation (step 2), and then it is deacylated (hydrolyzed). Decomposition) (step 3) to produce a hydroxy group-containing cyclic phosphonitrile substitution product. Thereby, the hydroxy group containing cyclic phosphazene compound which is a precursor of the target reactive group containing cyclic phosphazene compound is obtained.

G3基のアシル基をバイヤー−ビリガー酸化し、次いでそれを脱アシル化(加水分解)して、ヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物を製造するための方法は、各種の文献、例えば、下記のような非特許文献3から5に記載されている。   A method for producing a hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound by subjecting the acyl group of the G3 group to Bayer-Billiger oxidation and then deacylating (hydrolyzing) it is described in various literatures, for example, Patent Documents 3 to 5 describe this.

HASSALL,C.H.著,IN: ADAMS,R.(ED.),ORGANIC REACTIONS,WEILY社,NEW YORK、1957年刊,VOL.9,73−106.HASSALL, C.I. H. Author, IN: ADAMS, R.D. (ED.), ORGANIC REACTIONS, WELY, NEW YORK, 1957, VOL. 9, 73-106. KROW,G.R.著,IN: PAQUETTE,L.A.(ED.),ORGANIC REACTIONS,WEILY社,NEW YORK、1993年刊,VOL.43,251−798.KROW, G.K. R. Written by IN: PAQUETTE, L. A. (ED.), ORGANIC REACTIONS, WELY, NEW YORK, 1993, VOL. 43, 251-798. KYTE,B.G.,ROUVIERE,P.,CHENG,Q.,STEWART,J.D.,J.ORG.CHEM.,2004年刊、VOL.69(1)、12−17.KYTE, B.M. G. , ROUVIERE, P.M. , CHENG, Q. , STEWART, J.M. D. , J .; ORG. CHEM. , 2004, VOL. 69 (1), 12-17.

本発明の方法において用いることができる酸化剤は、上記非特許文献に記載されているようなバイヤー−ビリガー酸化のために公知のすべての酸化剤である。酸化剤を、純粋な形態またはこれらの混合物の形態のいずれかで用いることができるが、好ましくは、純粋な形態で用いる。用いられる酸化剤は、例えば、無機または有機過酸化物、過酸化水素、過酸化尿素、遷移金属のペルオキソ錯体、ペルオキソ化合物と有機酸および/または無機酸および/またはルイス酸、有機過酸、無機過酸、ジオキシランとの混合物あるいはこれらの酸化剤の混合物である。また、バイヤー−ビリヤー型モノオキシゲナーゼ(酸素添加酵素)を用いることもできる。   The oxidizing agents that can be used in the process of the present invention are all oxidizing agents known for buyer-bilger oxidation as described in the above non-patent literature. The oxidizing agent can be used either in pure form or in the form of a mixture thereof, but is preferably used in pure form. The oxidizing agents used are, for example, inorganic or organic peroxides, hydrogen peroxide, urea peroxide, peroxo complexes of transition metals, peroxo compounds and organic acids and / or inorganic acids and / or Lewis acids, organic peracids, inorganic A mixture with peracid, dioxirane or a mixture of these oxidizing agents. A buyer-biller monooxygenase (oxygenase) can also be used.

用いられる無機過酸化物としては、好ましくは、過酸化アンモニウム、アルカリ金属過酸化物、過硫酸アンモニウム、アルカリ金属過硫酸塩、過ホウ酸アンモニウム、アルカリ金属過ホウ酸塩、過炭酸アンモニウム、アルカリ金属過炭酸塩、アルカリ土類金属過酸化物、過酸化亜鉛またはこれらの酸化剤の混合物である。用いられるアルカリ金属過酸化物は、好ましくは、過酸化ナトリウムである。   The inorganic peroxide used is preferably ammonium peroxide, alkali metal peroxide, ammonium persulfate, alkali metal persulfate, ammonium perborate, alkali metal perborate, ammonium percarbonate, alkali metal peroxide. Carbonates, alkaline earth metal peroxides, zinc peroxides or mixtures of these oxidants. The alkali metal peroxide used is preferably sodium peroxide.

用いられる有機過酸化物としては、好ましくは、tert−ブチルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、メンチルヒドロペルオキシド、1−メチルシクロヘキサンヒドロペルオキシドまたはこれらの化合物の混合物である。   The organic peroxide used is preferably tert-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, menthyl hydroperoxide, 1-methylcyclohexane hydroperoxide or a mixture of these compounds.

用いられる遷移金属のペルオキソ錯体としては、好ましくは、遷移金属である鉄、マンガン、バナジウムまたはモリブデンのペルオキソ錯体あるいはこれらのペルオキソ錯体の混合物である。また、ここで、ペルオキソ錯体が、2種または3種以上の同一のまたは異なる遷移金属を含むことが可能である。   The transition metal peroxo complex used is preferably a peroxo complex of a transition metal such as iron, manganese, vanadium or molybdenum, or a mixture of these peroxo complexes. It is also possible here that the peroxo complex comprises two or more of the same or different transition metals.

無機酸を有するペルオキソ化合物としては、好ましくは、硫酸を有するペルオキソ二硫酸カリウムであり、ルイス酸を有するペルオキソ化合物は、特に好ましくは、三フッ化ホウ素を有する過酸化水素である。   The peroxo compound having an inorganic acid is preferably potassium peroxodisulfate having sulfuric acid, and the peroxo compound having a Lewis acid is particularly preferably hydrogen peroxide having boron trifluoride.

用いられる有機過酸としては、好ましくは、過蟻酸、過酢酸、トリフルオロ過酢酸、過安息香酸、m−クロロ過安息香酸、モノ過フタル酸マグネシウムまたはこれらの過酸の混合物である。   The organic peracid used is preferably formic acid, peracetic acid, trifluoroperacetic acid, perbenzoic acid, m-chloroperbenzoic acid, magnesium monoperphthalate or a mixture of these peracids.

用いられる無機過酸としては、好ましくは、過硫酸、過炭酸、過モノ燐酸またはこれらの過酸の混合物である。   The inorganic peracid used is preferably persulfuric acid, percarbonate, permonophosphoric acid or a mixture of these peracids.

本発明の製造方法は、用いられるアシル基置換フェニルオキシ基を有する環状ホスホニトリル置換体のアシル基および酸化剤の種類や使用量、反応溶媒の有無、得ようとするヒドロキシ基含有環状ホスホニトリル置換体の物性や用途等の各種条件に応じて広い範囲から適宜選択することができる。アシル基置換フェニルオキシ基を有する環状ホスホニトリル置換体のアシル基に対する酸化剤との当量は、特に、アシル基置換フェニルオキシ基を有する環状ホスホニトリル置換体および用いられる酸化剤の反応性に依存する。アシル基置換フェニルオキシ基を有する環状ホスホニトリル置換体のアシル基に対する酸化剤の当量は、通常、1〜10の範囲から選択できる。好ましくは1.05〜1.5、より好ましくは1.1〜1.3である。   The production method of the present invention comprises the acyl group-substituted phenyloxy group-containing cyclic phosphonitrile-substituted product, the type and amount of the oxidant, the presence or absence of a reaction solvent, and the hydroxy group-containing cyclic phosphonitrile substitution to be obtained. It can be appropriately selected from a wide range according to various conditions such as physical properties and uses of the body. The equivalent of the cyclic phosphonitrile substituent having an acyl group-substituted phenyloxy group to the oxidant relative to the acyl group depends in particular on the reactivity of the cyclic phosphonitrile substituent having an acyl group-substituted phenyloxy group and the oxidizing agent used. . The equivalent of the oxidizing agent with respect to the acyl group of the cyclic phosphonitrile substituted product having an acyl group-substituted phenyloxy group can usually be selected from the range of 1-10. Preferably it is 1.05-1.5, More preferably, it is 1.1-1.3.

本発明の製造方法は、アシル基置換フェニルオキシ基を有する環状ホスホニトリル置換体を酸化したアシルオキシ基を有する化合物を単離(工程2)した後、それを加水分解(工程3)して、目的のヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物を製造することができる。また、酸化によって生じたアシルオキシ基を有する化合物をワンポットでそのまま脱アシル化(加水分解)して目的のヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物を製造(工程2→3)することができる。得ようとするヒドロキシ基含有環状ホスホニトリル置換体の物性や用途等の各種条件に応じて広い範囲から適宜選択することができる。   The production method of the present invention comprises isolating a compound having an acyloxy group obtained by oxidizing a cyclic phosphonitrile substituted product having an acyl group-substituted phenyloxy group (step 2), and then hydrolyzing the compound (step 3). The hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound can be produced. Moreover, the target hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound can be produced by directly deacylating (hydrolyzing) a compound having an acyloxy group generated by oxidation in one pot (step 2 → 3). It can be appropriately selected from a wide range according to various conditions such as physical properties and applications of the hydroxy group-containing cyclic phosphonitrile substitution product to be obtained.

本発明の反応性基含有環状ホスファゼン化合物は、その前駆体であるアシルオキシ基を有する化合物を酸性またはアルカリ性条件下で脱アシル化(加水分解)することにより製造できる。また、酵素を用いた脱アシル化(加水分解)反応でも製造することができる。これらの製造条件は従来から公知の方法から適宜選択することが出来る。酸性またはアルカリ性条件下での加水分解反応は公知であり、例えば、水と混和しうる有機溶媒(エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン等)中、酸(鉱酸、有機酸等)またはアルカリ(水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等)の水溶液を用いて、−10〜90℃で行うことができる。また、酵素を用いた加水分解は公知であり、例えば、水と混和しうる有機溶媒(エタノール、ジメチルスルホキシド等)と水の混合溶液中、緩衝液の存在下または非存在下、エステル分解酵素(エステラーゼ、リパーゼ等)を用いて、0〜50℃で行うことができる。   The reactive group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention can be produced by deacylating (hydrolyzing) a precursor compound having an acyloxy group under acidic or alkaline conditions. It can also be produced by a deacylation (hydrolysis) reaction using an enzyme. These production conditions can be appropriately selected from conventionally known methods. Hydrolysis reactions under acidic or alkaline conditions are known, for example, in an organic solvent miscible with water (ethanol, tetrahydrofuran, dioxane, etc.), acid (mineral acid, organic acid, etc.) or alkali (sodium hydroxide, The reaction can be performed at −10 to 90 ° C. using an aqueous solution of potassium hydroxide, potassium carbonate, or the like. In addition, hydrolysis using an enzyme is known. For example, in a mixed solution of an organic solvent (ethanol, dimethyl sulfoxide, etc.) miscible with water and water, in the presence or absence of a buffer, an esterolytic enzyme ( Esterase, lipase, etc.) can be performed at 0 to 50 ° C.

本発明の製造方法は、すなわち、アシル基置換フェニルオキシ基を有する環状ホスホニトリル置換体を酸化によってアシルオキシ基に変換し、次いで脱アシル化(加水分解)して、ヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物を製造する方法では、上述のいずれの酸化反応、それに次ぐ加水分解の方法についても、無溶媒で実施することができ、また、溶媒を使用して実施することもできる。溶媒を使用する場合、溶媒の種類は、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されるものではないが、通常、ハロゲン化炭化水素系化合物(ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタンまたは1,1,2,2−テトラクロロエタン)、パラフィン系化合物(ヘキサン、ペンタンまたはリグロイン)、エーテル系化合物(ジエチルエーテル)、酸アミド系化合物(N,N−ジメチルホルムアミド)、ニトリル系化合物(アセトニトリル)、二硫化炭素およびニトロ化合物(ニトロメタンまたはニトロベンゼン)あるいは前述の溶媒の混合物を使用することができる。このうち、ハロゲン化炭化水素系化合物を用いるのが特に好ましい。   In the production method of the present invention, a cyclic phosphonitrile substituted product having an acyl group-substituted phenyloxy group is converted to an acyloxy group by oxidation and then deacylated (hydrolyzed) to produce a hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound. In this method, any of the above-described oxidation reactions and subsequent hydrolysis methods can be carried out without a solvent, or can be carried out using a solvent. When a solvent is used, the type of the solvent is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction. Usually, a halogenated hydrocarbon compound (dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane or 1 , 1,2,2-tetrachloroethane), paraffinic compounds (hexane, pentane or ligroin), ether compounds (diethyl ether), acid amide compounds (N, N-dimethylformamide), nitrile compounds (acetonitrile), Carbon disulfide and nitro compounds (nitromethane or nitrobenzene) or mixtures of the aforementioned solvents can be used. Of these, it is particularly preferable to use a halogenated hydrocarbon compound.

本発明の反応性基含有環状ホスファゼン化合物の製造において、目的とするヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物、または製造条件によって中間体のアシルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物を取り出す必要がある場合は、濾過、溶媒抽出、カラムクロマトグラフィーおよび再結晶等の通常の方法によって、反応系から単離精製することができる。   In the production of the reactive group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention, if it is necessary to take out the target hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound or the intermediate acyloxy group-containing cyclic phosphazene compound depending on the production conditions, filtration, solvent extraction, It can be isolated and purified from the reaction system by ordinary methods such as column chromatography and recrystallization.

本発明の反応性基含有環状ホスファゼン化合物の前駆体であるヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、前記の製造方法の他に、保護基を脱離させることでヒドロキシ基となる構造の環状ホスファゼン化合物から、その保護基を脱保護することで製造することもできる。ヒドロキシ基の保護基としては、たとえば、メチル基、メトキシメチル基、メチルチオメチル基、2−メトキシエトキシメチル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロチオピラニル基、4−メトキシテトラヒドロピラニル基、4−メトキシテトラヒドロチオピラニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロチオフラニル基、1−エトキシエチル基、tert−ブチル基、アリル基、ベンジル基、o−ニトロベンジル基、トリフェニルメチル基、トリメチルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基、tert−ブチルジフェニルシリル基、トリベンジルシリル基およびトリイソプロピルシリル基等を挙げることができる。これらの保護基のうち、メチル基、メトキシメチル基、テトラヒドロピラニル基、4−メトキシテトラヒドロピラニル基、tert−ブチル基、アリル基、ベンジル基およびtert−ブチルジメチルシリル基が好ましく、メチル基、メトキシメチル基、tert−ブチル基、アリル基およびベンジル基が特に好ましい。   The hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound which is a precursor of the reactive group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention, in addition to the production method described above, from a cyclic phosphazene compound having a structure that becomes a hydroxy group by removing the protective group, It can also be produced by deprotecting the protecting group. Examples of the protective group for the hydroxy group include a methyl group, a methoxymethyl group, a methylthiomethyl group, a 2-methoxyethoxymethyl group, a tetrahydropyranyl group, a tetrahydrothiopyranyl group, a 4-methoxytetrahydropyranyl group, and a 4-methoxy group. Tetrahydrothiopyranyl group, tetrahydrofuranyl group, tetrahydrofuranyl group, 1-ethoxyethyl group, tert-butyl group, allyl group, benzyl group, o-nitrobenzyl group, triphenylmethyl group, trimethylsilyl group, tert-butyl Examples thereof include a dimethylsilyl group, a tert-butyldiphenylsilyl group, a tribenzylsilyl group, and a triisopropylsilyl group. Of these protecting groups, methyl group, methoxymethyl group, tetrahydropyranyl group, 4-methoxytetrahydropyranyl group, tert-butyl group, allyl group, benzyl group and tert-butyldimethylsilyl group are preferred, methyl group, A methoxymethyl group, a tert-butyl group, an allyl group and a benzyl group are particularly preferred.

これらの保護基を脱離させるための方法は、多数の公知文献に記載されており、保護基の種類および保護基の安定性等に応じて各種の脱保護反応から選択することができる。例えば、保護基がメチル基の場合、環状ホスホニトリル置換体を三臭化ホウ素、ヨウ化トリメチルシラン若しくはピリジン塩酸塩と反応させるのが好ましい。また、保護基がtert−ブチル基の場合、環状ホスホニトリル置換体を硫酸、p−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、臭化水素若しくはヨウ化トリメチルシランと反応させるのが好ましい。さらに、保護基がベンジル基の場合、環状ホスホニトリル置換体を水素/Pd−C、金属ナトリウム/アンモニア、ヨウ化トリメチルシラン、水素化リチウムアルミニウム、臭化水素酸、三臭化ホウ素若しくは三フッ化ホウ素と反応させるのが好ましい。   Methods for removing these protecting groups are described in many known literatures, and can be selected from various deprotecting reactions depending on the type of protecting group, the stability of the protecting group, and the like. For example, when the protecting group is a methyl group, the cyclic phosphonitrile substituent is preferably reacted with boron tribromide, trimethylsilane iodide or pyridine hydrochloride. When the protecting group is a tert-butyl group, the cyclic phosphonitrile substituent is preferably reacted with sulfuric acid, p-toluenesulfonic acid, methanesulfonic acid, trifluoroacetic acid, hydrogen bromide or trimethylsilane iodide. Furthermore, when the protecting group is a benzyl group, the cyclic phosphonitrile substituent is hydrogen / Pd-C, metallic sodium / ammonia, trimethylsilane iodide, lithium aluminum hydride, hydrobromic acid, boron tribromide or trifluoride. It is preferred to react with boron.

このような保護基の脱離により得られる、目的とする反応性基含有環状ホスファゼン化合物の前駆体であるヒドロキシ基含有ホスファゼン化合物は、濾過、溶媒抽出、カラムクロマトグラフィーおよび再結晶等の通常の方法によって、反応系から単離精製することができる。   The hydroxy group-containing phosphazene compound, which is a precursor of the target reactive group-containing cyclic phosphazene compound obtained by elimination of such a protective group, is subjected to usual methods such as filtration, solvent extraction, column chromatography and recrystallization. Can be isolated and purified from the reaction system.

ヒドロキシ基を有する環状ホスファゼン化合物において、水酸基当量(1当量の水酸基を含む環状ホスファゼン化合物の質量g)は、100〜5,000g/eq.が好ましく、130〜1,000g/eq.がより好ましい。水酸基当量が100g/eq.未満の場合は、高温信頼性(耐水性)の良好な反応性基含有環状ホスファゼン化合物を用いた樹脂成形体が得られにくくなる。逆に、5,000g/eq.を超える場合は、耐熱性(ガラス転移温度)の良好な反応性基含有環状ホスファゼン化合物を用いた樹脂成形体が得られにくくなる。   In the cyclic phosphazene compound having a hydroxy group, the hydroxyl equivalent (mass g of cyclic phosphazene compound containing 1 equivalent of hydroxyl group) is 100 to 5,000 g / eq. Is preferred, 130-1,000 g / eq. Is more preferable. Hydroxyl equivalent weight is 100 g / eq. If it is less than 1, it is difficult to obtain a resin molded article using a reactive group-containing cyclic phosphazene compound having good high temperature reliability (water resistance). Conversely, 5,000 g / eq. If it exceeds 1, it becomes difficult to obtain a resin molded article using a reactive group-containing cyclic phosphazene compound having good heat resistance (glass transition temperature).

本発明の製造方法では、次に、上述の工程3により得られたヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物とアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸ハロゲン化物若しくはメタクリル酸ハロゲン化物とを反応させ、工程3において形成されたヒドロキシ基をアクリロイルオキシ基若しくはメタクリロイルオキシに変換する(工程4)。これにより、目的とする反応性基含有環状ホスファゼン化合物が得られる。   In the production method of the present invention, the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound obtained in the above-mentioned step 3 is then reacted with acrylic acid, methacrylic acid, an acrylic acid halide or a methacrylic acid halide to form the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound in step 3. The hydroxy group is converted into an acryloyloxy group or methacryloyloxy (step 4). Thereby, the target reactive group containing cyclic phosphazene compound is obtained.

ヒドロキシ基をアクリロイルオキシ基若しくはメタクリロイルオキシ基に変換するための方法、すなわち、カルボン酸エステルの製造方法は、ヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物とアクリル酸およびメタクリル酸とを、塩酸および硫酸等の鉱酸、ベンゼンスルホン酸およびp−トルエンスルホン酸等の有機酸、塩化スズ、塩化亜鉛、塩化第二鉄および塩化アルミニウム等の金属ハロゲン化物等の触媒存在下、またはジシクロヘキシルカルボジイミド等の脱水縮合剤存在下で反応させることで得られる。ここで用いる触媒および脱水縮合剤は一種または二種以上を組み合わせてもよい。また、ヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物とアクリル酸ハライドおよびメタクリル酸ハライドをトリエチルアミン、ピリジン等の第三級アミン類、炭酸カリウムおよび炭酸ナトリウム等のアルカリ金属塩等の塩基または合成ゼオライト等の吸着剤存在下で反応させることでも得られる。その際、4−ジメチルアミノピリジン等の反応促進剤やメトキノン等の重合禁止剤を用いてもよい。   A method for converting a hydroxy group into an acryloyloxy group or a methacryloyloxy group, that is, a method for producing a carboxylic acid ester, comprises a hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound, acrylic acid and methacrylic acid, a mineral acid such as hydrochloric acid and sulfuric acid, Reaction in the presence of an organic acid such as benzenesulfonic acid and p-toluenesulfonic acid, a metal halide such as tin chloride, zinc chloride, ferric chloride and aluminum chloride, or in the presence of a dehydrating condensing agent such as dicyclohexylcarbodiimide. Can be obtained. The catalyst and dehydrating condensing agent used here may be used alone or in combination. Hydroxyl group-containing cyclic phosphazene compounds and acrylic acid halides and methacrylic acid halides in the presence of adsorbents such as tertiary amines such as triethylamine and pyridine, alkali metal salts such as potassium carbonate and sodium carbonate, or synthetic zeolites It can also be obtained by reacting with At that time, a reaction accelerator such as 4-dimethylaminopyridine and a polymerization inhibitor such as methoquinone may be used.

このようなヒドロキシ基を有する環状ホスホニトリル置換体とアクリル酸、メタクリル酸およびその誘導体との反応により得られる、目的とする反応性基含有環状ホスファゼン化合物は、濾過、溶媒抽出、カラムクロマトグラフィーおよび再結晶等の通常の方法によって、反応系から単離精製することができる。   The target reactive group-containing cyclic phosphazene compound obtained by reacting such a substituted cyclic phosphonitrile having a hydroxy group with acrylic acid, methacrylic acid and derivatives thereof is filtered, solvent extracted, column chromatographed and re-reacted. It can be isolated and purified from the reaction system by ordinary methods such as crystallization.

樹脂組成物
本発明の樹脂組成物は、本発明の反応性基含有環状ホスファゼン化合物からなる難燃剤と樹脂成分とを含むものである。本発明の反応性基含有環状ホスファゼン化合物からなる難燃剤は、一種類のものが用いられてもよいし、二種以上のものが併用されてもよい。また、樹脂成分としては、各種の熱可塑性樹脂若しくは熱硬化性樹脂を使用することができる。これらの樹脂成分は、天然のものであってもよいし、合成のものであってもよい。
Resin Composition The resin composition of the present invention comprises a flame retardant comprising the reactive group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention and a resin component. One type of flame retardant composed of the reactive group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention may be used, or two or more types may be used in combination. As the resin component, various thermoplastic resins or thermosetting resins can be used. These resin components may be natural or synthetic.

ここで利用可能な熱可塑性樹脂の具体例としては、ポリエチレン、ポリイソプレン、ポリブタジエン、塩素化ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、スチレン樹脂、耐衝撃性ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン樹脂(AS樹脂)、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂(ABS樹脂)、メチルメタクリレート−ブタジエン−スチレン樹脂(MBS樹脂)、メチルメタクリレート−アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂(MABS樹脂)、アクリロニトリル−アクリルゴム−スチレン樹脂(AAS樹脂)、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリフェニレンエーテル(PPE)、変性ポリフェニレンエーテル、脂肪族系ポリアミド、芳香族系ポリアミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルケトン、ポリエーテルニトリル、ポリチオエーテルスルホン、ポリエーテルスルホン並びに液晶ポリマー等を挙げることができる。変性ポリフェニレンエーテルとしては、ポリフェニレンエーテルの一部または全部に、カルボキシル基、エポキシ基、アミノ基、水酸基、無水ジカルボキシル基などの反応性官能基をグラフト反応や共重合など何らかの方法で導入したものが用いられる。なお、本発明の樹脂組成物を電子機器用途、特に、OA機器、AV機器、通信機器および家電製品用の筐体や部品用の材料として用いる場合は、熱可塑性樹脂としてポリエステル樹脂、ABS樹脂、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル若しくはポリアミド等を用いるのが好ましい。   Specific examples of the thermoplastic resin that can be used here include polyethylene, polyisoprene, polybutadiene, chlorinated polyethylene, polyvinyl chloride, styrene resin, impact-resistant polystyrene, acrylonitrile-styrene resin (AS resin), and acrylonitrile-butadiene-. Styrene resin (ABS resin), methyl methacrylate-butadiene-styrene resin (MBS resin), methyl methacrylate-acrylonitrile-butadiene-styrene resin (MABS resin), acrylonitrile-acrylic rubber-styrene resin (AAS resin), polymethyl acrylate, poly Methyl methacrylate, polycarbonate, polyphenylene ether (PPE), modified polyphenylene ether, aliphatic polyamide, aromatic polyamide, polyethylene terephthalate Polyester resins such as polypropylene terephthalate, polytrimethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyphenylene sulfide, polyether ether ketone, polysulfone, polyarylate, polyether ketone, polyether nitrile, polythioether sulfone, polyether sulfone and liquid crystal A polymer etc. can be mentioned. As the modified polyphenylene ether, those obtained by introducing a reactive functional group such as a carboxyl group, an epoxy group, an amino group, a hydroxyl group, and an anhydrous dicarboxyl group into some or all of the polyphenylene ether by some method such as graft reaction or copolymerization. Used. When the resin composition of the present invention is used as a material for casings or parts for electronic equipment, particularly OA equipment, AV equipment, communication equipment, and home appliances, polyester resin, ABS resin, It is preferable to use polycarbonate, modified polyphenylene ether, polyamide or the like.

一方、ここで利用可能な熱硬化性樹脂の具体例としては、ポリウレタン、フェノール樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、シリコン樹脂、ビスマレイミド樹脂、シアネートエステル樹脂、ポリベンズイミダゾール、ポリカルボジイミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミドおよびポリエステルイミド等のポリイミド系樹脂並びにエポキシ樹脂等を挙げることができる。なお、本発明の樹脂組成物を電子部品用途、特に、各種IC素子の封止材、配線板の基板材料、層間絶縁材料や絶縁性接着材料等の絶縁材料、導電材料および表面保護材料として用いる場合は、熱硬化性樹脂として、ポリウレタン、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ビスマレイミド樹脂、シアネートエステル樹脂、ポリイミド系樹脂若しくはエポキシ樹脂等を用いるのが好ましい。   On the other hand, specific examples of thermosetting resins that can be used here include polyurethane, phenol resin, melamine resin, urea resin, unsaturated polyester resin, diallyl phthalate resin, silicon resin, bismaleimide resin, cyanate ester resin, polybenz Examples thereof include polyimide resins such as imidazole, polycarbodiimide, polyimide, polyamideimide, polyetherimide, and polyesterimide, and epoxy resins. The resin composition of the present invention is used as an electronic component, particularly as a sealing material for various IC elements, a substrate material for a wiring board, an insulating material such as an interlayer insulating material or an insulating adhesive material, a conductive material, and a surface protective material. In this case, it is preferable to use polyurethane, phenol resin, melamine resin, bismaleimide resin, cyanate ester resin, polyimide resin or epoxy resin as the thermosetting resin.

上述の各種樹脂成分は、それぞれ単独で用いられてもよいし、必要に応じて二種以上のものが併用されてもよい。   The various resin components described above may be used alone or in combination of two or more as necessary.

本発明の樹脂組成物において、反応性基含有環状ホスファゼン化合物からなる難燃剤の使用量は、樹脂成分の種類、樹脂組成物の用途等の各種条件に応じて適宜設定することができるが、通常、固形分換算での樹脂成分100重量部に対して0.1〜50重量部に設定するのが好ましく、0.5〜40重量部に設定するのがより好ましく、1〜30重量部に設定するのがさらに好ましい。反応性基含有環状ホスファゼン化合物からなる難燃剤の使用量が0.1重量部未満の場合は、当該樹脂組成物からなる樹脂成形体が十分な難燃性を示さないおそれがある。逆に、50重量部を超えると、樹脂成分本来の特性を損ない、当該特性による樹脂成形体が得られなくなるおそれがある。   In the resin composition of the present invention, the amount of the flame retardant comprising the reactive group-containing cyclic phosphazene compound can be appropriately set according to various conditions such as the type of the resin component and the use of the resin composition. It is preferably set to 0.1 to 50 parts by weight, more preferably set to 0.5 to 40 parts by weight, and set to 1 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin component in terms of solid content. More preferably. When the usage-amount of the flame retardant which consists of a reactive group containing cyclic phosphazene compound is less than 0.1 weight part, there exists a possibility that the resin molding which consists of the said resin composition may not show sufficient flame retardance. On the other hand, if it exceeds 50 parts by weight, the original properties of the resin component may be impaired, and a resin molded product having such properties may not be obtained.

また、本発明の樹脂組成物は、樹脂成分の種類や樹脂組成物の用途等に応じ、その目的とする物性を損なわない範囲で、各種の添加剤を配合することができる。利用可能な添加剤としては、例えば、シリカ、アルミナ、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、モリブデン酸亜鉛、マイカ、タルク、ガラス繊維およびチタン酸カリウム繊維等の無機充填剤、シランカップリング剤などの充填材の表面処理剤、ワックス類、脂肪酸およびその金属塩、酸アミド類およびパラフィン等の離型剤、リン酸エステル、縮合リン酸エステル、リン酸アミド、リン酸アミドエステル、リン酸アンモニウム、赤リン、塩素化パラフィン、メラミン、メラミンシアヌレート、メラム、メレム、メロンおよびサクシノグアナミン等の窒素系難燃剤、シリコーン系難燃剤並びに臭素系難燃剤等の難燃剤、三酸化アンチモン等の難燃助剤、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)等のドリッピング防止剤、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、硬化剤、顔料、着色剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、滑剤、可塑剤並びに帯電防止剤等を挙げることができる。   Moreover, the resin composition of this invention can mix | blend various additives in the range which does not impair the target physical property according to the kind of resin component, the use of a resin composition, etc. Examples of usable additives include silica, alumina, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium silicate, calcium carbonate, titanium oxide, zinc oxide, zinc molybdate, mica, talc, glass fiber, and potassium titanate fiber. Inorganic fillers, surface treatment agents for fillers such as silane coupling agents, waxes, release agents such as fatty acids and their metal salts, acid amides and paraffins, phosphate esters, condensed phosphate esters, phosphate amides , Phosphoric acid amide ester, ammonium phosphate, red phosphorus, chlorinated paraffin, melamine, melamine cyanurate, melam, melem, melon and succinoguanamine, etc. nitrogen flame retardant, silicone flame retardant and bromine flame retardant etc. Flame retardants, flame retardant aids such as antimony trioxide, polytetrafluoroethylene Anti-dripping agents such as PTFE, epoxy resins, phenol resins, curing agents, pigments, colorants, antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, lubricants, plasticizers and antistatic agents. it can.

さらに、本発明の樹脂組成物は、熱重合性モノマー、熱重合性オリゴマー、光重合性モノマー、光重合性オリゴマー、放射線重合性モノマーおよび放射線重合性オリゴマーからなる重合性材料群から選ばれた少なくとも一つの重合性材料をさらに含んでいてもよい。この場合、本発明の樹脂組成物は、これらの重合性材料と本発明の反応性基含有環状ホスファゼン化合物からなる難燃剤との重合作用により、熱、紫外線、可視光線などの電磁波および電子ビーム等の電子線などのエネルギー線の照射により硬化させることができる。   Furthermore, the resin composition of the present invention is at least selected from a polymerizable material group consisting of a thermopolymerizable monomer, a thermopolymerizable oligomer, a photopolymerizable monomer, a photopolymerizable oligomer, a radiation polymerizable monomer, and a radiation polymerizable oligomer. One polymerizable material may be further included. In this case, the resin composition of the present invention has a polymerization effect of these polymerizable materials and a flame retardant comprising the reactive group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention, so that electromagnetic waves such as heat, ultraviolet rays and visible rays, electron beams, etc. It can be cured by irradiation with an energy beam such as an electron beam.

ここで用いられる上述の重合性材料としては、例えば、ビニル系化合物、ビニリデン系化合物、ジエン化合物、ラクトン、ラクタムおよび環状エーテル等の環状化合物、アクリル系化合物並びにエポキシ系化合物が挙げられる。より具体的には、塩化ビニル、ブタジエン、スチレン、耐衝撃性ポリスチレン前駆体、アクリロニトリル−スチレン樹脂(AS樹脂)前駆体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂(ABS樹脂)前駆体、メチルメタクリレート−ブタジエン−スチレン樹脂(MBS樹脂)前駆体、メチルメタクリレート−アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂(MABS樹脂)前駆体、アクリロニトリル−アクリルゴム−スチレン樹脂(AAS樹脂)前駆体、メチル(メタ)アクリレート、エポキシアクリレート樹脂前駆体、エポキシ化油アクリレート樹脂前駆体、ウレタンアクリレート樹脂前駆体、ポリエステルアクリレート樹脂前駆体、ポリエーテルアクリレート樹脂前駆体、アクリルアクリレート樹脂前駆体、不飽和ポリエステル樹脂前駆体、ビニル/アクリレート樹脂前駆体、ビニルエーテル系樹脂前駆体、ポリエン/チオール樹脂前駆体、シリコンアクリレート樹脂前駆体、ポリブタジエンアクリレート樹脂前駆体、ポリスチリル(エチル)メタクリレート樹脂前駆体、ポリカーボネートアクリレート樹脂前駆体、光または熱硬化性ポリイミド樹脂前駆体、光または熱硬化性ポリフェニレンエーテル樹脂前駆体、光または熱硬化性ケイ素含有樹脂前駆体、光または熱硬化性エポキシ樹脂前駆体、脂環式エポキシ樹脂前駆体、グリシジルエーテルエポキシ樹脂前駆体等を挙げることができる。このうち、スチレン、ブタジエン、エポキシアクリレート樹脂前駆体、ウレタンアクリレート樹脂前駆体およびポリエステルアクリレート樹脂前駆体等が好ましい。これらの重合性材料は、それぞれ単独で用いられてもよいし、二種以上が併用されてもよい。   Examples of the polymerizable material used here include vinyl compounds, vinylidene compounds, diene compounds, cyclic compounds such as lactones, lactams and cyclic ethers, acrylic compounds, and epoxy compounds. More specifically, vinyl chloride, butadiene, styrene, impact polystyrene precursor, acrylonitrile-styrene resin (AS resin) precursor, acrylonitrile-butadiene-styrene resin (ABS resin) precursor, methyl methacrylate-butadiene-styrene. Resin (MBS resin) precursor, methyl methacrylate-acrylonitrile-butadiene-styrene resin (MABS resin) precursor, acrylonitrile-acrylic rubber-styrene resin (AAS resin) precursor, methyl (meth) acrylate, epoxy acrylate resin precursor, Epoxidized oil acrylate resin precursor, urethane acrylate resin precursor, polyester acrylate resin precursor, polyether acrylate resin precursor, acrylic acrylate resin precursor, unsaturated polyester resin Precursor, vinyl / acrylate resin precursor, vinyl ether resin precursor, polyene / thiol resin precursor, silicon acrylate resin precursor, polybutadiene acrylate resin precursor, polystyryl (ethyl) methacrylate resin precursor, polycarbonate acrylate resin precursor, Light or thermosetting polyimide resin precursor, light or thermosetting polyphenylene ether resin precursor, light or thermosetting silicon-containing resin precursor, light or thermosetting epoxy resin precursor, alicyclic epoxy resin precursor, A glycidyl ether epoxy resin precursor etc. can be mentioned. Among these, styrene, butadiene, an epoxy acrylate resin precursor, a urethane acrylate resin precursor, a polyester acrylate resin precursor, and the like are preferable. These polymerizable materials may be used alone or in combination of two or more.

本発明の樹脂組成物を電気・電子分野用の材料、具体的には、LSI等の電子部品の封止剤や基板等に用いる場合、樹脂成分は、エポキシ樹脂が好ましい。利用可能なエポキシ樹脂は、電気、電子分野において通常用いられている各種のものであり、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂およびナフトールノボラック型エポキシ樹脂等の、フェノール類とアルデヒド類との反応により得られるノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール−A型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェノール−A型エポキシ樹脂、ビスフェノール−F型エポキシ樹脂、ビスフェノール−AD型エポキシ樹脂、ビスフェノール−S型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、アルキル置換ビフェノール型エポキシ樹脂、トリス(ヒドロキシフェニル)メタン等のフェノール類とエピクロルヒドリンとの反応により得られるフェノール型エポキシ樹脂、トリメチロールプロパン、オリゴプロピレングリコールおよび水添ビスフェノール−A等のアルコール類とエピクロルヒドリンとの反応により得られる脂肪族エポキシ樹脂、ヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸若しくはフタル酸とエピクロルヒドリン若しくは2−メチルエピクロルヒドリンとの反応により得られるグリシジルエステル系エポキシ樹脂、ジアミノジフェニルメタンやアミノフェノール等のアミンとエピクロルヒドリンとの反応により得られるグリシジルアミン系エポキシ樹脂、イソシアヌル酸等のポリアミンとエピクロルヒドリンとの反応により得られる複素環式エポキシ樹脂、グリシジル基を有するホスファゼン化合物、エポキシ変性ホスファゼン樹脂、環状脂肪族エポキシ樹脂並びにウレタン変性エポキシ樹脂等が挙げられる。これらの中でも、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール−A型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂およびトリス(ヒドロキシフェニル)メタンとエピクロルヒドリンとの反応により得られるフェノール型エポキシ樹脂が好ましい。これらのエポキシ樹脂は、それぞれ単独で使用してもよいし、二種以上のものが併用されてもよい。   When the resin composition of the present invention is used for a material for the electric / electronic field, specifically, a sealant or a substrate for an electronic component such as LSI, the resin component is preferably an epoxy resin. The epoxy resins that can be used are various types that are usually used in the electric and electronic fields. For example, phenol novolac type epoxy resins, brominated phenol novolak type epoxy resins, orthocresol novolak type epoxy resins, and naphthol novolak type epoxy resins. Novolac type epoxy resins obtained by reaction of phenols and aldehydes such as resins, bisphenol-A type epoxy resins, brominated bisphenol-A type epoxy resins, bisphenol-F type epoxy resins, bisphenol-AD type epoxy resins, It is obtained by reaction of phenols such as bisphenol-S type epoxy resin, biphenol type epoxy resin, alkyl-substituted biphenol type epoxy resin, tris (hydroxyphenyl) methane and epichlorohydrin. Aliphatic epoxy resins obtained by reaction of alcohols such as phenolic epoxy resins, trimethylolpropane, oligopropylene glycol and hydrogenated bisphenol-A with epichlorohydrin, hexahydrophthalic acid, tetrahydrophthalic acid or phthalic acid and epichlorohydrin or 2 -Glycidyl ester epoxy resin obtained by reaction with methyl epichlorohydrin, glycidyl amine epoxy resin obtained by reaction of amine such as diaminodiphenylmethane and aminophenol with epichlorohydrin, reaction of polyamine such as isocyanuric acid and epichlorohydrin Heterocyclic epoxy resin, phosphazene compound having glycidyl group, epoxy-modified phosphazene resin, cycloaliphatic epoxy resin Urethane-modified epoxy resins to. Among these, a phenol novolak type epoxy resin, an orthocresol novolak type epoxy resin, a bisphenol-A type epoxy resin, a biphenol type epoxy resin, and a phenol type epoxy resin obtained by a reaction of tris (hydroxyphenyl) methane and epichlorohydrin are preferable. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.

樹脂成分として上述のエポキシ樹脂を用いる場合(以下、「エポキシ樹脂組成物」という場合がある)、本発明の反応性基含有環状ホスファゼン化合物からなる難燃剤がエポキシ樹脂組成物中に占める割合は、0.1〜80重量%が好ましく、0.5〜70重量%がより好ましい。反応性基含有環状ホスファゼン化合物からなる難燃剤の割合が0.1重量%未満の場合は、当該エポキシ樹脂組成物からなる樹脂成形体が十分な難燃性を示さないおそれがある。逆に、80重量%を超えると、エポキシ樹脂成分本来の特性を損ない、当該特性による樹脂成形体が得られなくなるおそれがある。   When the above-mentioned epoxy resin is used as the resin component (hereinafter sometimes referred to as “epoxy resin composition”), the proportion of the flame retardant comprising the reactive group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention in the epoxy resin composition is: 0.1 to 80% by weight is preferable, and 0.5 to 70% by weight is more preferable. When the ratio of the flame retardant composed of the reactive group-containing cyclic phosphazene compound is less than 0.1% by weight, the resin molded body composed of the epoxy resin composition may not exhibit sufficient flame retardancy. On the other hand, if it exceeds 80% by weight, the original properties of the epoxy resin component may be impaired, and a resin molded product having such properties may not be obtained.

エポキシ樹脂組成物は、通常、硬化剤を含んでいる。硬化剤は、エポキシ樹脂用の硬化剤として用いられるものであれば種類が特に限定されるものではないが、例えば、脂肪族ポリアミン、芳香族ポリアミンおよびポリアミドポリアミン等のポリアミン系硬化剤、無水ヘキサヒドロフタル酸および無水メチルテトラヒドロフタル酸等の酸無水物系硬化剤、フェノールノボラックおよびクレゾールノボラック等のフェノール系硬化剤、水酸基を有するホスファゼン化合物、三フッ化ホウ素等のルイス酸およびそれらの塩類並びにジシアンジアミド類等を挙げることができる。これらは、それぞれ単独で用いてもよく、二種以上併用してもよい。   The epoxy resin composition usually contains a curing agent. The type of curing agent is not particularly limited as long as it is used as a curing agent for epoxy resins. For example, polyamine curing agents such as aliphatic polyamines, aromatic polyamines and polyamide polyamines, anhydrous hexahydro Acid anhydride curing agents such as phthalic acid and methyltetrahydrophthalic anhydride, phenolic curing agents such as phenol novolak and cresol novolak, phosphazene compounds having a hydroxyl group, Lewis acids such as boron trifluoride and their salts, and dicyandiamides Etc. These may be used alone or in combination of two or more.

エポキシ樹脂組成物において、硬化剤の使用量は、エポキシ樹脂のエポキシ基1当量に対して0.5〜1.5当量になるよう設定するのが好ましく、0.6〜1.2当量になるよう設定するのがより好ましい。   In the epoxy resin composition, the amount of the curing agent used is preferably set to be 0.5 to 1.5 equivalents relative to 1 equivalent of the epoxy group of the epoxy resin, and is 0.6 to 1.2 equivalents. It is more preferable to set so.

硬化剤を含むエポキシ樹脂組成物は、硬化促進剤を含んでいてもよい。利用可能な硬化促進剤は、公知の種々のものであり、特に限定されるものではないが、例えば、2−メチルイミダゾールおよび2−エチルイミダゾール等のイミダゾール系化合物、2−(ジメチルアミノメチル)フェノール等の第3アミン系化合物、トリフェニルホスフィン化合物等を挙げることができる。硬化促進剤を用いる場合、その使用量は、エポキシ樹脂100重量部に対して0.01〜15重量部に設定するのが好ましく、0.1〜10重量部に設定するのがより好ましい。   The epoxy resin composition containing a curing agent may contain a curing accelerator. The available curing accelerators are various known ones, and are not particularly limited. For example, imidazole compounds such as 2-methylimidazole and 2-ethylimidazole, 2- (dimethylaminomethyl) phenol And tertiary amine compounds such as triphenylphosphine compounds. When using a hardening accelerator, it is preferable to set the usage-amount to 0.01-15 weight part with respect to 100 weight part of epoxy resins, and it is more preferable to set to 0.1-10 weight part.

エポキシ樹脂組成物は、必要に応じて公知の反応性希釈剤や添加剤が配合されていてもよい。利用可能な反応性希釈剤は、特に限定されるものではないが、例えば、ブチルグリシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエーテルおよびアリルグリシジルエーテル等の脂肪族アルキルグリシジルエーテル、グリシジルメタクリレートおよび3級カルボン酸グリシジルエステル等のアルキルグリシジルエステル、スチレンオキサイドおよびフェニルグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテル、p−s−ブチルフェニルグリシジルエーテルおよびノニルフェニルグリシジルエーテル等の芳香族アルキルグリシジルエーテル等を挙げることができる。これらの反応性希釈剤は、それぞれ単独で用いられてもよいし、二種以上が併用されてもよい。一方、添加剤としては、既述のようなものを用いることができる。   The epoxy resin composition may be blended with known reactive diluents and additives as required. Although the reactive diluent which can be utilized is not specifically limited, For example, aliphatic alkyl glycidyl ethers, such as butyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, and allyl glycidyl ether, glycidyl methacrylate, and tertiary carboxylic acid glycidyl ester And alkyl glycidyl esters such as styrene oxide and phenyl glycidyl ether, cresyl glycidyl ether, ps-butylphenyl glycidyl ether and nonylphenyl glycidyl ether. These reactive diluents may be used alone or in combination of two or more. On the other hand, as the additive, those described above can be used.

上述のエポキシ樹脂組成物等の本発明の樹脂組成物は、各成分を均一に混合することにより得られる。この樹脂組成物は、樹脂成分に応じて100〜250℃程度の温度範囲で1〜36時間放置すると、充分な硬化反応が進行し、硬化物を形成する。例えば、エポキシ樹脂組成物は、通常、150〜250℃の温度で2〜15時間放置すると、充分な硬化反応が進行し、硬化物を形成する。このような硬化過程において、本発明の反応性基含有環状ホスファゼン化合物からなる難燃剤は、樹脂成分とともに反応、架橋し、硬化物中において安定に保持されることになるため、当該硬化物の高温信頼性を損ないにくい。また、本発明の反応性基含有環状ホスファゼン化合物からなる難燃剤は、そのような硬化物の機械的特性(特に、ガラス転移温度)を損なわずに、その難燃性を高めることができ、また、硬化物に対して低発煙性を付与することができる。このため、本発明の樹脂組成物は、各種の樹脂成形体の製造用材料、塗料用、接着剤用およびその他の用途用として、広く用いることができる。特に、本発明の樹脂組成物は、半導体封止用や回路基板(特に、金属張り積層板、プリント配線板用基板、プリント配線板用接着剤、プリント配線板用接着剤シート、プリント配線板用絶縁性回路保護膜、プリント配線板用導電ペースト、多層プリント配線板用封止剤、回路保護剤、カバーレイフィルム、カバーインク)形成用等の電気・電子部品の製造用材料として好適である。   The resin composition of the present invention such as the above-described epoxy resin composition can be obtained by uniformly mixing each component. When this resin composition is allowed to stand for 1 to 36 hours in a temperature range of about 100 to 250 ° C. depending on the resin component, a sufficient curing reaction proceeds to form a cured product. For example, when the epoxy resin composition is usually left at a temperature of 150 to 250 ° C. for 2 to 15 hours, a sufficient curing reaction proceeds to form a cured product. In such a curing process, the flame retardant comprising the reactive group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention reacts with the resin component, crosslinks, and is stably held in the cured product. It is hard to lose reliability. Moreover, the flame retardant comprising the reactive group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention can increase the flame retardancy without impairing the mechanical properties (particularly the glass transition temperature) of such a cured product, In addition, low smoke generation can be imparted to the cured product. For this reason, the resin composition of this invention can be widely used as a material for manufacture of various resin moldings, for coating materials, for adhesives, and for other uses. In particular, the resin composition of the present invention is used for semiconductor encapsulation and circuit boards (in particular, metal-clad laminates, printed wiring board substrates, printed wiring board adhesives, printed wiring board adhesive sheets, and printed wiring board use. Insulating circuit protective films, conductive pastes for printed wiring boards, sealing agents for multilayer printed wiring boards, circuit protective agents, coverlay films, cover inks) and the like are suitable as materials for manufacturing electrical and electronic parts.

重合性組成物
本発明の重合性組成物は、本発明の反応性基含有環状ホスファゼン化合物からなる難燃剤を含んでいる。ここで用いられる反応性基含有環状ホスファゼン化合物からなる難燃剤は、二種以上のものであってもよい。
Polymerizable composition The polymerizable composition of the present invention contains a flame retardant comprising the reactive group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention. Two or more flame retardants composed of a reactive group-containing cyclic phosphazene compound used here may be used.

この重合性組成物は、通常、加熱または紫外線若しくは電子線などのエネルギー線の照射により、反応性基含有環状ホスファゼン化合物からなる難燃剤の間での重合が進行し、重合体が得られる。この重合性組成物を加熱により重合させる場合、重合開始剤を用いるのが好ましい。ここで用いられる重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイドおよびジイソプロピルパーオキシジカーボネート等の過酸化物、2,2−アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス−2,4−ジメチルバレロニトリル、アゾビスシクロヘキシルニトリル、アゾビスシアノ吉草酸および2,2−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)等のアゾ系化合物等を挙げることができる。重合性組成物を加熱により重合させる場合は、通常、有機溶媒中に反応性基含有環状ホスファゼン化合物からなる難燃剤を添加し、これに重合開始剤を添加して加熱するこで重合反応を進行させる。そして、反応終了後、溶媒および重合開始剤を濃縮・洗浄等の操作で除去すると、目的の重合体を得ることができる。例えば、アクリロイルオキシ基若しくはメタクリロイルオキシ基を有する反応性基含有環状ホスファゼン化合物からなる難燃剤の重合体を得る場合は、ベンゼン、トルエン、キシレン、エーテル、テトラヒドロフラン等の有機溶媒中において、ベンゾイルパーオキサイドを重合開始剤として使用し、50℃から溶媒の還流下の温度で1〜20時間反応を行う。そして、反応終了後、溶媒および重合開始剤を濃縮・洗浄等の操作で除去すると、目的の重合体を得ることができる。   This polymerizable composition usually undergoes polymerization between flame retardants composed of a reactive group-containing cyclic phosphazene compound by heating or irradiation with energy rays such as ultraviolet rays or electron beams, and a polymer is obtained. When this polymerizable composition is polymerized by heating, it is preferable to use a polymerization initiator. Examples of the polymerization initiator used here include peroxides such as benzoyl peroxide, dicumyl peroxide and diisopropyl peroxydicarbonate, 2,2-azobisisobutyronitrile, azobis-2,4-dimethyl. Examples thereof include azo compounds such as valeronitrile, azobiscyclohexylnitrile, azobiscyanovaleric acid, and 2,2-azobis (2-methylbutyronitrile). When polymerizing a polymerizable composition by heating, a flame retardant composed of a reactive group-containing cyclic phosphazene compound is usually added to an organic solvent, and a polymerization initiator is added to this and heated to advance the polymerization reaction. Let And after completion | finish of reaction, a target polymer can be obtained by removing a solvent and a polymerization initiator by operation, such as concentration and washing | cleaning. For example, when obtaining a polymer of a flame retardant comprising a reactive group-containing cyclic phosphazene compound having an acryloyloxy group or a methacryloyloxy group, benzoyl peroxide is added in an organic solvent such as benzene, toluene, xylene, ether, tetrahydrofuran, etc. Used as a polymerization initiator, the reaction is carried out at a temperature from 50 ° C. to reflux of the solvent for 1 to 20 hours. And after completion | finish of reaction, a target polymer can be obtained by removing a solvent and a polymerization initiator by operation, such as concentration and washing | cleaning.

一方、この重合性組成物をエネルギー線の照射により重合させる場合、光重合開始剤と、必要に応じて増感剤を用いるのが好ましい。ここで用いられる光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤、スルホニウム系光重合開始剤およびヨードニウム系光重合開始剤等を挙げることができる。また、増感剤としては、例えば三級アミン等が用いられる。重合性組成物をエネルギー線の照射により重合させる場合は、通常、重合性組成物に対して光重合開始剤および必要に応じて増感剤を添加し、これに対して各種のエネルギー線を照射すると、目的の重合物を得ることができる。例えば、アクリロイルオキシ基若しくはメタクリロイルオキシ基を有する反応性基含有環状ホスファゼン化合物からなる難燃剤の重合物を得る場合は、重合性組成物に対してベンゾフェノンを光重合性開始剤として添加し、400ワットの高圧水銀ランプで紫外線を30秒間照射すると、目的の重合体を得ることが出来る。   On the other hand, when this polymerizable composition is polymerized by irradiation with energy rays, it is preferable to use a photopolymerization initiator and, if necessary, a sensitizer. Examples of the photopolymerization initiator used here include an acetophenone photopolymerization initiator, a benzophenone photopolymerization initiator, a benzoin photopolymerization initiator, a thioxanthone photopolymerization initiator, a sulfonium photopolymerization initiator, and an iodonium system. A photoinitiator etc. can be mentioned. Moreover, as a sensitizer, a tertiary amine etc. are used, for example. When the polymerizable composition is polymerized by irradiation with energy rays, usually a photopolymerization initiator and a sensitizer are added to the polymerizable composition as necessary, and various energy rays are irradiated to this. Then, the target polymer can be obtained. For example, when obtaining a polymer of a flame retardant comprising a reactive group-containing cyclic phosphazene compound having an acryloyloxy group or a methacryloyloxy group, benzophenone is added to the polymerizable composition as a photopolymerizable initiator, and 400 watts is added. When a high pressure mercury lamp is irradiated with ultraviolet rays for 30 seconds, the desired polymer can be obtained.

本発明の重合性組成物は、必要に応じ、本発明の反応性基含有環状ホスファゼン化合物からなる難燃剤と共重合可能な他の重合性材料を含んでいてもよい。ここで用いられる重合性材料は、特に限定されるものではないが、通常、芳香族ビニルモノマー、極性官能基含有ビニルモノマーおよびビニルエーテルモノマーなどのビニル基を有する化合物が好ましく用いられる。これらの重合性材料は、二種以上のものが併用されてもよい。芳香族ビニルモノマーとしては、例えば、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレンおよびブロモスチレン等が挙げられる。このうち、スチレンが特に好ましい。極性官能基含有ビニルモノマーとしては、例えば、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、アクリル酸、メタアクリル酸、アクリル酸メチル、メタアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタアクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、メタアクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、メタアクリル酸ブチル、アクリル酸オクチル、メタアクリル酸オクチル、アクリル酸ノニル、メタアクリル酸ノニル、アクリル酸ヒドロキシエチル、メタアクリル酸ヒドロキシエチル、アクリル酸ビニルおよびメタアクリル酸ビニル等のアクリル酸エステル若しくはメタアクリル酸エステル並びに酢酸ビニル、酪酸ビニル、カプロン酸ビニルおよびステアリン酸ビニル等のビニルエステル等が挙げられる。このうち、アクリロニトリル、アクリル酸メチルおよびメタアクリル酸メチルが特に好ましい。ビニルエーテルモノマーとしては、通常、ジビニルエーテル類を用いるのが好ましい。   The polymerizable composition of the present invention may contain other polymerizable material copolymerizable with a flame retardant comprising the reactive group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention, if necessary. The polymerizable material used here is not particularly limited, but usually a compound having a vinyl group such as an aromatic vinyl monomer, a polar functional group-containing vinyl monomer and a vinyl ether monomer is preferably used. Two or more of these polymerizable materials may be used in combination. Examples of the aromatic vinyl monomer include styrene, methyl styrene, dimethyl styrene, ethyl styrene, isopropyl styrene, chlorostyrene, dichlorostyrene, and bromostyrene. Of these, styrene is particularly preferred. Examples of the polar functional group-containing vinyl monomer include vinyl chloride, vinylidene chloride, acrylonitrile, acrylic acid, methacrylic acid, methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, propyl acrylate, and methacrylic. Propyl butyl, butyl acrylate, butyl methacrylate, octyl acrylate, octyl methacrylate, nonyl acrylate, nonyl methacrylate, hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl methacrylate, vinyl acrylate, vinyl methacrylate, etc. And vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl caproate and vinyl stearate. Of these, acrylonitrile, methyl acrylate and methyl methacrylate are particularly preferred. As the vinyl ether monomer, it is usually preferable to use divinyl ethers.

さらに、本発明の重合性組成物は、必要に応じて公知の反応性希釈剤や添加剤を含んでいてもよい。利用可能な反応性希釈剤は、特に限定されるものではないが、例えば、ブチルグリシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエーテルおよびアリルグリシジルエーテル等の脂肪族アルキルグリシジルエーテル、グリシジルメタクリレートおよび3級カルボン酸グリシジルエステル等のアルキルグリシジルエステル、スチレンオキサイド、フェニルグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテル、p−s−ブチルフェニルグリシジルエーテルおよびノニルフェニルグリシジルエーテル等の芳香族アルキルグリシジルエーテル等を挙げることができる。これらの反応性希釈剤は、それぞれ単独で用いられてもよいし、二種以上が併用されてもよい。一方、本発明の樹脂組成物において用いられるものと同様のものを用いることができる。   Furthermore, the polymerizable composition of the present invention may contain a known reactive diluent or additive as necessary. Although the reactive diluent which can be utilized is not specifically limited, For example, aliphatic alkyl glycidyl ethers, such as butyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, and allyl glycidyl ether, glycidyl methacrylate, and tertiary carboxylic acid glycidyl ester And alkyl glycidyl esters such as styrene oxide, phenyl glycidyl ether, cresyl glycidyl ether, ps-butylphenyl glycidyl ether, and nonylphenyl glycidyl ether. These reactive diluents may be used alone or in combination of two or more. On the other hand, the thing similar to what is used in the resin composition of this invention can be used.

なお、本発明の重合性組成物は、各成分を均一に混合することにより得られる。   In addition, the polymeric composition of this invention is obtained by mixing each component uniformly.

本発明の重合性組成物は、通常、150〜250℃の温度で2〜15時間加熱すると充分な硬化反応が進行し、硬化物(重合体)になるため、樹脂成形体を製造するための材料になり得る。このようにして得られる硬化物は、耐熱特性、電気特性、機械的特性(特に、高いガラス転移温度および密着性)および高温信頼性に優れており、また、反応性基含有環状ホスファゼン化合物からなる難燃剤に基づく優れた難燃性および低発煙性を示す。このため、この重合性組成物は、各種の樹脂成形体の製造用材料、塗料用、接着剤用およびその他の用途用として、広く用いることができる。特に、この重合性組成物は、半導体封止用や回路基板(特に、金属張り積層板、プリント配線板用基板、プリント配線板用接着剤、プリント配線板用接着剤シート、プリント配線板用絶縁性回路保護膜、プリント配線板用導電ペースト、多層プリント配線板用封止剤、回路保護剤、カバーレイフィルム、カバーインク)形成用等の電気・電子部品の製造用材料として好適である。   When the polymerizable composition of the present invention is heated at a temperature of 150 to 250 ° C. for 2 to 15 hours, a sufficient curing reaction proceeds and becomes a cured product (polymer). Can be a material. The cured product thus obtained is excellent in heat resistance properties, electrical properties, mechanical properties (particularly high glass transition temperature and adhesion) and high temperature reliability, and comprises a reactive group-containing cyclic phosphazene compound. Excellent flame retardancy and low smoke generation based on flame retardant. For this reason, this polymerizable composition can be widely used as a material for production of various resin molded products, a coating material, an adhesive, and other uses. In particular, this polymerizable composition is suitable for semiconductor encapsulation and circuit boards (particularly metal-clad laminates, printed wiring board substrates, printed wiring board adhesives, printed wiring board adhesive sheets, printed wiring board insulation). Suitable for use in the production of electrical / electronic parts such as conductive circuit protective films, conductive pastes for printed wiring boards, sealing agents for multilayer printed wiring boards, circuit protective agents, coverlay films, cover inks).

以下に実施例等を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらにより何ら限定されるものではない。
なお、以下において、「unit mol」の「unit」は、環状ホスファゼン化合物の最小構成単位、例えば、一般式(1)については(PNA)を意味し、一般式(3)については(PNX)を意味する。一般式(3)において、Xが塩素の場合、その1unit molは115.87gである。
また、以下においては、特に断りがない限り、「%」および「部」とあるのは、それぞれ「重量%」および「重量部」を意味する。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples and the like, but the present invention is not limited by these.
In the following, “unit” in “unit mol” means the smallest structural unit of the cyclic phosphazene compound, for example, (PNA 2 ) for general formula (1) and (PNX 2 ) for general formula (3). ). In the general formula (3), when X is chlorine, its 1 unit mol is 115.87 g.
In the following, unless otherwise specified, “%” and “parts” mean “% by weight” and “parts by weight”, respectively.

実施例および合成例等で得られたホスファゼン化合物は、H−NMRスペクトルおよび31P−NMRスペクトルの測定、CHN元素分析、IRスペクトルの測定、アルカリ溶融後の硝酸銀を用いた電位差滴定法による塩素元素(残留塩素)の分析、マイクロウエーブ湿式分解後のICP−AESによるリン元素の分析並びにTOF−MS分析の結果に基づいて同定した。また、水酸基当量は、JIS K 0070−1992「化学製品の酸価、けん化価、エステル価、よう素価、水酸基価および不けん化物の試験方法」において規定された水酸基価測定方法の中和滴定法に従い測定し、水酸基価mgKOH/gの値を水酸基当量g/eq.に変換した。 The phosphazene compounds obtained in the examples and synthesis examples were measured by 1 H-NMR spectrum and 31 P-NMR spectrum, CHN elemental analysis, IR spectrum measurement, and chlorine by potentiometric titration using silver nitrate after alkali melting. It was identified based on the results of elemental (residual chlorine) analysis, phosphorus elemental analysis by ICP-AES after microwave wet decomposition, and TOF-MS analysis. The hydroxyl equivalent is determined by neutralization titration according to the method for measuring hydroxyl value defined in JIS K 0070-1992 “Testing methods for acid value, saponification value, ester value, iodine value, hydroxyl value and unsaponified product of chemical products”. The hydroxyl value mgKOH / g was measured according to the method, and the hydroxyl equivalent weight g / eq. Converted to.

合成例1(形態2に係るヒドロキシ基を有する環状ホスファゼン化合物の製造)
[工程1:上記方法B−cによるアシル基含有環状ホスファゼン化合物の製造]
温度計、撹拌機、冷却管および滴下ロートを取り付けた5リットルの4つ口フラスコに、窒素気流下、ヘキサクロロシクロトリホスファゼン(173.8g,1.50unit mol)を仕込み、トルエン(2,000mL)を加えて溶解した。これにナトリウム 4−アセチル−3−メチルフェノキシド(215.1g,1.25mol)のTHF(450mL)溶液を5時間で滴下した後、25℃にて24時間撹拌した。この反応液を予め調製したナトリウムフェノキシド(140.5g,2.65mol)のトルエン(1,250g)懸濁液に投入後、110℃にて3時間還流した。反応混合物を室温に冷却後、5%水酸化ナトリウム水溶液(500mL)を加えて分液ロートに移した。水層を分離後、トルエン層を5%水酸化ナトリウム水溶液(500mL)にて洗浄後、希硝酸にて中和し、水洗した。トルエン層を減圧濃縮し、418.8g(収率:98.7%)の生成物を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
Synthesis Example 1 (Production of cyclic phosphazene compound having a hydroxy group according to Form 2)
[Step 1: Production of acyl group-containing cyclic phosphazene compound by method Bc above]
A 5-liter four-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, condenser and dropping funnel was charged with hexachlorocyclotriphosphazene (173.8 g, 1.50 unit mol) under a nitrogen stream, and toluene (2,000 mL). To dissolve. A solution of sodium 4-acetyl-3-methylphenoxide (215.1 g, 1.25 mol) in THF (450 mL) was added dropwise thereto over 5 hours, and the mixture was stirred at 25 ° C. for 24 hours. This reaction solution was added to a toluene (1,250 g) suspension of sodium phenoxide (140.5 g, 2.65 mol) prepared in advance, and then refluxed at 110 ° C. for 3 hours. The reaction mixture was cooled to room temperature, 5% aqueous sodium hydroxide solution (500 mL) was added, and the mixture was transferred to a separatory funnel. After separating the aqueous layer, the toluene layer was washed with 5% aqueous sodium hydroxide solution (500 mL), neutralized with dilute nitric acid, and washed with water. The toluene layer was concentrated under reduced pressure to obtain 418.8 g (yield: 98.7%) of the product. The analysis result of this product was as follows.

H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.4(6H), 2.5(6H)6.7〜7.5(26H)
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.2〜10.3
◎残存塩素分析:
<0.01%
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.4 (6H), 2.5 (6H) 6.7 to 7.5 (26H)
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.2 to 10.3
◎ Residual chlorine analysis:
<0.01%

以上の分析結果から、この工程で得た生成物は[N(OC(CH)COCH)(OC]、[N(OC(CH)COCH(OC]、[N(OC(CH)COCH(OC]の混合物であり、その平均組成が[N(OC(CH)COCH2.0(OC4.0]のアシル基含有環状ホスファゼン化合物であることを確認した。 From the above analysis results, the products obtained in this step are [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) COCH 3 ) (OC 6 H 5 ) 5 ], [N 3 P 3 (OC 6 H 3). (CH 3 ) COCH 3 ) 2 (OC 6 H 5 ) 4 ], [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) COCH 3 ) 3 (OC 6 H 5 ) 3 ], and its average It was confirmed that the composition was an acyl group-containing cyclic phosphazene compound having a composition of [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) COCH 3 ) 2.0 (OC 6 H 5 ) 4.0 ].

[工程2:バイヤー−ビリガー酸化工程]
温度計、撹拌機および滴下ロートを取り付けた1リットルの4つ口フラスコに、工程1にて得られた化合物(187.8g,0.70unit mol)、トリフルオロ酢酸無水物(100mL)およびジクロロメタン(200mL)を仕込み、内温0℃以下で60%過酸化水素水(48.7g,0.86mol)を滴下した。その後、内温25℃にて3時間撹拌した。反応終了を確認後、反応混合物を分液ロートに移し、20%亜硫酸水素ナトリウム水溶液、飽和重炭酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順に洗浄後、乾燥、濃縮して193.3g(収率98.9%)の褐色油状の生成物を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
[Step 2: Buyer-Billiger oxidation step]
Into a 1 liter four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer and a dropping funnel, the compound obtained in Step 1 (187.8 g, 0.70 unit mol), trifluoroacetic anhydride (100 mL) and dichloromethane ( 200 mL) was added, and 60% hydrogen peroxide (48.7 g, 0.86 mol) was added dropwise at an internal temperature of 0 ° C. or lower. Thereafter, the mixture was stirred for 3 hours at an internal temperature of 25 ° C. After confirming the completion of the reaction, the reaction mixture was transferred to a separatory funnel, washed in order with 20% aqueous sodium hydrogen sulfite solution, saturated aqueous sodium bicarbonate solution and saturated brine, dried and concentrated to 193.3 g (yield 98.9). %) As a brown oily product. The analysis result of this product was as follows.

H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.2(6H), 2.4(6H)6.8〜7.3(26H)
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.5〜10.4
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.2 (6H), 2.4 (6H) 6.8 to 7.3 (26H)
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.5 to 10.4

以上の分析結果から、この生成物は[N(OC(CH)OCOCH)(OC]、[N(OC(CH)OCOCH(OC]、[N(OC(CH)OCOCH(OC]の混合物であり、その平均組成が[N(OC(CH)OCOCH2.0(OC4.0]のアシルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物であることを確認した。 From the above analysis results, this product is [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) OCOCH 3 ) (OC 6 H 5 ) 5 ], [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 )). OCOCH 3 ) 2 (OC 6 H 5 ) 4 ], [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) OCOCH 3 ) 3 (OC 6 H 5 ) 3 ], with an average composition of [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) OCOCH 3 ) 2.0 (OC 6 H 5 ) 4.0 ] was confirmed to be an acyloxy group-containing cyclic phosphazene compound.

[工程3:脱アシル化工程]
温度計および撹拌機を取り付けた1リットルの4つ口フラスコに、工程2で得られた化合物(167.5g,0.60unit mol)、メタノール(100mL)および48%水酸化ナトリウム水溶液(70.9g,0.86mol)を仕込み、室温にて4時間撹拌した。反応の終了を確認後、メタノールを留去し、濃縮残渣に脱イオン水(900mL)を加えて溶解後、30%硝酸にてpH6に調整した。この溶液を分液ロートに移してメチルイソブチルケトン(MIBK)にて抽出後、MIBK層を脱イオン水にて2回洗浄した。MIBK層を乾燥後、濃縮して140.5g(収率93.2%)の生成物を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
[Step 3: Deacylation step]
Into a 1-liter four-necked flask equipped with a thermometer and a stirrer, the compound obtained in Step 2 (167.5 g, 0.60 unit mol), methanol (100 mL) and 48% aqueous sodium hydroxide solution (70.9 g) were added. , 0.86 mol), and stirred at room temperature for 4 hours. After confirming the completion of the reaction, methanol was distilled off, deionized water (900 mL) was added to the concentrated residue and dissolved, and then adjusted to pH 6 with 30% nitric acid. This solution was transferred to a separating funnel and extracted with methyl isobutyl ketone (MIBK), and then the MIBK layer was washed twice with deionized water. The MIBK layer was dried and concentrated to obtain 140.5 g (yield 93.2%) of the product. The analysis result of this product was as follows.

H−NMRスペクトル(重アセトン中、δ、ppm):
2.1(6H), 6.5〜7.3(26H)
31P−NMRスペクトル(重アセトン中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.1〜10.3
◎CHNP元素分析:
理論値 C:60.6%,H:4.6%,N:5.6%,P:12.3%
実測値 C:60.5%,H:4.5%,N:5.7%,P:12.5%
◎TOF−MS(m/z):
724,754,784
◎残存塩素分析:
<0.01%
◎水酸基当量:
375g/eq.(理論値377g/eq.)
1 H-NMR spectrum (in heavy acetone, δ, ppm):
2.1 (6H), 6.5-7.3 (26H)
31 P-NMR spectrum (in heavy acetone, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.1 to 10.3
◎ CHNP elemental analysis:
Theoretical value C: 60.6%, H: 4.6%, N: 5.6%, P: 12.3%
Measured value C: 60.5%, H: 4.5%, N: 5.7%, P: 12.5%
◎ TOF-MS (m / z):
724, 754, 784
◎ Residual chlorine analysis:
<0.01%
◎ Hydroxyl equivalent:
375 g / eq. (Theoretical value 377 g / eq.)

以上の分析結果から、この生成物は[N(OC(CH)OH)(OC]、[N(OC(CH)OH)(OC]、[N(OC(CH)OH)(OC]の混合物であり、その平均組成が[N(OC(CH)OH)2.0(OC4.0]のヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物であることを確認した。 From the above analysis results, this product is [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) OH) (OC 6 H 5 ) 5 ], [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) OH]. ) 2 (OC 6 H 5 ) 4 ], [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) OH) 3 (OC 6 H 5 ) 3 ], the average composition of which is [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) OH) 2.0 (OC 6 H 5 ) 4.0 ] was confirmed to be a hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound.

合成例2(形態Bに係るヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
[工程1:上記方法B−cによるアシル基含有環状ホスファゼン化合物の製造]
温度計、撹拌機、冷却管および滴下ロートを取り付けた3リットルの4つ口フラスコに、窒素気流下、水素化ナトリウム(76.0g,
3.17mol)を仕込み、ヘキサクロロシクロトリホスファゼン(173.8g,1.50unit mol)のTHF(700mL)溶液を加えた。これを0℃で冷却しながら、2−メチル−4−アセチルフェノール(150.2g,1.0mol)のTHF(200mL)溶液を1時間かけて滴下後、1時間撹拌した。この反応液にフェノール(207.0g,2.2mol)のTHF(200mL)溶液を1時間かけて滴下後、70℃にて6時間還流した。反応混合物を室温に冷却後、トルエン(1,000mL)および5%水酸化ナトリウム水溶液(500mL)を加えて分液ロートに移した。水層を分離後、トルエン層を5%水酸化ナトリウム水溶液(500mL)洗浄した。トルエン層を希硝酸にて中和後、水層を分離した。トルエン層を脱イオン水洗浄後、減圧濃縮し、312.3g(収率:77.5%)の生成物を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
Synthesis Example 2 (Production of hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound according to Form B)
[Step 1: Production of acyl group-containing cyclic phosphazene compound by method Bc above]
To a 3 liter four-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, condenser and dropping funnel was added sodium hydride (76.0 g,
3.17 mol) was charged, and a solution of hexachlorocyclotriphosphazene (173.8 g, 1.50 unit mol) in THF (700 mL) was added. While cooling this at 0 ° C., a solution of 2-methyl-4-acetylphenol (150.2 g, 1.0 mol) in THF (200 mL) was added dropwise over 1 hour, followed by stirring for 1 hour. To this reaction solution, a THF (200 mL) solution of phenol (207.0 g, 2.2 mol) was added dropwise over 1 hour, and then refluxed at 70 ° C. for 6 hours. After the reaction mixture was cooled to room temperature, toluene (1,000 mL) and 5% aqueous sodium hydroxide solution (500 mL) were added and transferred to a separatory funnel. After separating the aqueous layer, the toluene layer was washed with a 5% aqueous sodium hydroxide solution (500 mL). After neutralizing the toluene layer with dilute nitric acid, the aqueous layer was separated. The toluene layer was washed with deionized water and concentrated under reduced pressure to obtain 312.3 g (yield: 77.5%) of the product. The analysis result of this product was as follows.

H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.08(6H), 2.52(6H),6.9〜7.8(26H)
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.1〜9.6
◎残存塩素分析:
<0.01%
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.08 (6H), 2.52 (6H), 6.9-7.8 (26H)
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.1-9.6
◎ Residual chlorine analysis:
<0.01%

以上の分析結果から、この生成物は[N(OC(CH)COCH)(OC]、[N(OC(CH)COCH(OC]、[N(OC(CH)COCH(OC]の混合物であり、その平均組成が[N(OC(CH)COCH2.0(OC4.0]のアシル基含有環状ホスファゼン化合物であることを確認した。 From the above analysis results, this product is [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) COCH 3 ) (OC 6 H 5 ) 5 ], [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 )). COCH 3 ) 2 (OC 6 H 5 ) 4 ], [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) COCH 3 ) 3 (OC 6 H 5 ) 3 ], the average composition of which is [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) COCH 3 ) 2.0 (OC 6 H 5 ) 4.0 ] was confirmed to be an acyl group-containing cyclic phosphazene compound.

[工程2:バイヤー−ビリガー酸化工程]
温度計、撹拌機、還流冷却管および滴下ロートを取り付けた1リットルの4つ口フラスコに、工程1にて得られた化合物(188.0g,0.70unit mol)およびアセトニトリル(300mL)を仕込み、内温0℃以下で予め調製した2M過リン酸のアセトニトリル溶液(350mL,0.70mol)を滴下した。25℃で2時間撹拌後、トルエン(500mL)を加えて分液ロートに移し、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和重炭酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順番で洗浄後、乾燥、濃縮して184.5g(収率94.4%)の褐色油状の生成物を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
[Step 2: Buyer-Billiger oxidation step]
A 1 liter four-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, reflux condenser and dropping funnel was charged with the compound obtained in Step 1 (188.0 g, 0.70 unit mol) and acetonitrile (300 mL), An acetonitrile solution (350 mL, 0.70 mol) of 2M superphosphoric acid prepared in advance at an internal temperature of 0 ° C. or lower was added dropwise. After stirring at 25 ° C. for 2 hours, toluene (500 mL) was added and the mixture was transferred to a separatory funnel. A brown oily product (yield 94.4%) was obtained. The analysis result of this product was as follows.

H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.2(6H), 2.3(6H)6.8〜7.3(26H)
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.6〜10.3
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.2 (6H), 2.3 (6H) 6.8 to 7.3 (26H)
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.6 to 10.3

以上の分析結果から、この生成物は[N(OC(CH)OCOCH)(OC]、[N(OC(CH)OCOCH(OC]、[N(OC(CH)OCOCH(OC]の混合物であり、その平均組成が[N(OC(CH)OCOCH2.0(OC4.0]のアシルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物であることを確認した。 From the above analysis results, this product is [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) OCOCH 3 ) (OC 6 H 5 ) 5 ], [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 )). OCOCH 3 ) 2 (OC 6 H 5 ) 4 ], [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) OCOCH 3 ) 3 (OC 6 H 5 ) 3 ], with an average composition of [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) OCOCH 3 ) 2.0 (OC 6 H 5 ) 4.0 ] was confirmed to be an acyloxy group-containing cyclic phosphazene compound.

[工程3:脱アシル化工程]
温度計および撹拌機を取り付けた1リットルの4つ口フラスコに、工程2で得られた化合物(167.5g,0.60unit mol)、メタノール(200mL)および炭酸カリウム(55.3g,0.40
mol)を仕込み、25℃で3時間撹拌した。溶媒を留去後、濃縮残渣に水(300mL)を加えて分液ロートに移した。水層をMIBKにて抽出後、MIBK層を脱イオン水にて2回洗浄した。MIBK層を乾燥、濃縮して149.1g(収率98.9%)の生成物を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
[Step 3: Deacylation step]
Into a 1-liter four-necked flask equipped with a thermometer and a stirrer, the compound obtained in Step 2 (167.5 g, 0.60 unit mol), methanol (200 mL) and potassium carbonate (55.3 g, 0.40) were added.
mol) and stirred at 25 ° C. for 3 hours. After distilling off the solvent, water (300 mL) was added to the concentrated residue and transferred to a separatory funnel. After extracting the aqueous layer with MIBK, the MIBK layer was washed twice with deionized water. The MIBK layer was dried and concentrated to obtain 149.1 g (yield 98.9%) of the product. The analysis result of this product was as follows.

H−NMRスペクトル(重アセトン中、δ、ppm):
2.0(6H), 6.4〜7.4(26H)
31P−NMRスペクトル(重アセトン中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.0〜11.5
◎CHNP元素分析:
理論値 C:60.6%,H:4.6%,N:5.6%,P:12.3%
実測値 C:60.7%,H:4.5%,N:5.6%,P:12.4%
◎TOF−MS(m/z):
724,754,784
◎残存塩素分析:
<0.01%
◎水酸基当量:
371g/eq.(理論値377g/eq.)
1 H-NMR spectrum (in heavy acetone, δ, ppm):
2.0 (6H), 6.4 to 7.4 (26H)
31 P-NMR spectrum (in heavy acetone, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.0-11.5
◎ CHNP elemental analysis:
Theoretical value C: 60.6%, H: 4.6%, N: 5.6%, P: 12.3%
Measured value C: 60.7%, H: 4.5%, N: 5.6%, P: 12.4%
◎ TOF-MS (m / z):
724, 754, 784
◎ Residual chlorine analysis:
<0.01%
◎ Hydroxyl equivalent:
371 g / eq. (Theoretical value 377 g / eq.)

以上の分析結果から、この生成物は[N(OC(CH)OH)(OC]、[N(OC(CH)OH)(OC]、[N(OC(CH)OH)(OC]の混合物であり、その平均組成が[N(OC(CH)OH)2.0(OC4.0]のヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物であることを確認した。 From the above analysis results, this product is [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) OH) (OC 6 H 5 ) 5 ], [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) OH]. ) 2 (OC 6 H 5 ) 4 ], [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) OH) 3 (OC 6 H 5 ) 3 ], the average composition of which is [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) OH) 2.0 (OC 6 H 5 ) 4.0 ] was confirmed to be a hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound.

合成例3(形態Bに係るヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
[工程1:上記方法B−dによるアシル基含有環状ホスファゼン化合物の製造]
温度計、撹拌機、冷却管および滴下ロートを取り付けた3リットルの4つ口フラスコに、窒素気流下、水素化ナトリウム(76.0g,
3.20mol)を仕込み、ヘキサクロロシクロトリホスファゼン(173.8g,1.50unit mol)のTHF(700mL)溶液を加えた。これを0℃で冷却しながら、フェノール(188.2g,2.00mol)のTHF(250mL)溶液を1時間かけて滴下した。反応混合物を1時間撹拌後、これに2,6−ジメチル−4−アセチルフェノール(180.6g,1.10mol)のTHF(250mL)溶液を1時間かけて滴下後、70℃にて6時間還流した。反応混合物を室温に冷却後、トルエン(1,150mL)および5%水酸化ナトリウム水溶液(500mL)を加えて分液ロートに移した。水層を分離後、トルエン層を5%水酸化ナトリウム水溶液(500mL)にて洗浄した。トルエン層を希硝酸にて中和後、水洗した。トルエン層を減圧濃縮し、388.6g(収率:94.0%)の生成物を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
Synthesis Example 3 (Production of hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound according to Form B)
[Step 1: Production of acyl group-containing cyclic phosphazene compound by method Bd above]
To a 3 liter four-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, condenser and dropping funnel was added sodium hydride (76.0 g,
3.20 mol) was charged, and a solution of hexachlorocyclotriphosphazene (173.8 g, 1.50 unit mol) in THF (700 mL) was added. While cooling this at 0 ° C., a solution of phenol (188.2 g, 2.00 mol) in THF (250 mL) was added dropwise over 1 hour. After stirring the reaction mixture for 1 hour, a solution of 2,6-dimethyl-4-acetylphenol (180.6 g, 1.10 mol) in THF (250 mL) was added dropwise over 1 hour, and then refluxed at 70 ° C. for 6 hours. did. The reaction mixture was cooled to room temperature, toluene (1,150 mL) and 5% aqueous sodium hydroxide solution (500 mL) were added, and the mixture was transferred to a separatory funnel. After separating the aqueous layer, the toluene layer was washed with a 5% aqueous sodium hydroxide solution (500 mL). The toluene layer was neutralized with dilute nitric acid and washed with water. The toluene layer was concentrated under reduced pressure to obtain 388.6 g (yield: 94.0%) of the product. The analysis result of this product was as follows.

H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.04(12H), 2.49(6H),6.9〜7.8(24H)
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.3〜9.7
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.04 (12H), 2.49 (6H), 6.9 to 7.8 (24H)
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.3-9.7

以上の分析結果から、この生成物は[N(OC(CHCOCH)(OC]、[N(OC(CHCOCH(OC]、[N(OC(CHCOCH(OC]の混合物であり、その平均組成が[N(OC(CHCOCH1.9(OC4.1]のアシル基含有環状ホスファゼン化合物であることを確認した。 From the above analysis results, this product is [N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 COCH 3 ) (OC 6 H 5 ) 5 ], [N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 COCH 3 ) 2 (OC 6 H 5 ) 4 ], [N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 COCH 3 ) 3 (OC 6 H 5 ) 3 ], average composition Was an acyl group-containing cyclic phosphazene compound of [N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 COCH 3 ) 1.9 (OC 6 H 5 ) 4.1 ].

[工程2:バイヤー−ビリガー酸化工程]
温度計、撹拌機、還流冷却管および滴下ロートを取り付けた1リットルの4つ口フラスコに、工程1にて得られた化合物(192.9g,0.70unit mol)およびクロロホルム(300mL)を仕込み、内温0℃以下で3−クロロ過安息香酸(207.1g,1.20mol)を分割投入した。反応液を2時間還流撹拌後、分液ロートに移して20%亜硫酸水素ナトリウム水溶液、飽和重炭酸ナトリウム水溶液および飽和食塩水にて洗浄した。クロロホルム層を乾燥後、減圧濃縮して185.0g(収率92.5%)の褐色油状の生成物を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
[Step 2: Buyer-Billiger oxidation step]
A 1 liter four-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, reflux condenser and dropping funnel was charged with the compound obtained in Step 1 (192.9 g, 0.70 unit mol) and chloroform (300 mL), 3-Chloroperbenzoic acid (207.1 g, 1.20 mol) was added in portions at an internal temperature of 0 ° C. or lower. The reaction mixture was stirred at reflux for 2 hours, then transferred to a separatory funnel and washed with a 20% aqueous sodium hydrogensulfite solution, a saturated aqueous sodium bicarbonate solution, and saturated brine. The chloroform layer was dried and concentrated under reduced pressure to obtain 185.0 g (yield 92.5%) of a brown oily product. The analysis result of this product was as follows.

H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.2(6H), 2.3(12H)6.8〜7.3(24H)
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.4〜10.6
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.2 (6H), 2.3 (12H) 6.8 to 7.3 (24H)
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.4 to 10.6

以上の分析結果から、この生成物は[N(OC(CHOCOCH)(OC]、[N(OC(CHOCOCH(OC]、[N(OC(CHOCOCH(OC]の混合物であり、その平均組成が[N(OC(CHOCOCH1.9(OC4.1]のアシルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物であることを確認した。 From the above analysis results, this product is [N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 OCOCH 3 ) (OC 6 H 5 ) 5 ], [N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 OCOCH 3 ) 2 (OC 6 H 5 ) 4 ], [N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 OCOCH 3 ) 3 (OC 6 H 5 ) 3 ] and its average composition Was an acyloxy group-containing cyclic phosphazene compound of [N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 OCOCH 3 ) 1.9 (OC 6 H 5 ) 4.1 ].

[工程3:脱アシル化工程]
温度計、撹拌機および還流冷却管を取り付けた3リットルの4つ口フラスコに、工程2で得られた化合物(171.4g,0.60unit mol)、アセトン(200mL)および3M塩酸(20mL)を仕込み、3時間還流撹拌した。アセトンを減圧留去後、濃縮残渣に飽和重炭酸ナトリウム水溶液(300mL)を加えて分液ロートに移した。水層をMIBKにて抽出後、MIBK層を脱イオン水にて2回洗浄した。MIBK層を乾燥、濃縮して151.9g(収率96.6%)の生成物を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
[Step 3: Deacylation step]
In a 3 liter four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer and a reflux condenser, the compound obtained in Step 2 (171.4 g, 0.60 unit mol), acetone (200 mL) and 3M hydrochloric acid (20 mL) were added. The mixture was stirred at reflux for 3 hours. Acetone was distilled off under reduced pressure, saturated aqueous sodium bicarbonate solution (300 mL) was added to the concentrated residue, and the mixture was transferred to a separatory funnel. After extracting the aqueous layer with MIBK, the MIBK layer was washed twice with deionized water. The MIBK layer was dried and concentrated to obtain 151.9 g (yield 96.6%) of the product. The analysis result of this product was as follows.

H−NMRスペクトル(重アセトン中、δ、ppm):
2.0(12H),6.4〜7.3(26H)
31P−NMRスペクトル(重アセトン中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.2〜10.2
◎CHNP元素分析:
理論値 C:61.4%,H:4.9%,N:5.4%,P:11.9%
実測値 C:61.2%,H:4.8%,N:5.5%,P:11.7%
◎TOF−MS(m/z):
738,782,826
◎水酸基当量:
373g/eq.(理論値374g/eq.)
1 H-NMR spectrum (in heavy acetone, δ, ppm):
2.0 (12H), 6.4 to 7.3 (26H)
31 P-NMR spectrum (in heavy acetone, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.2 to 10.2.
◎ CHNP elemental analysis:
Theoretical value C: 61.4%, H: 4.9%, N: 5.4%, P: 11.9%
Measured value C: 61.2%, H: 4.8%, N: 5.5%, P: 11.7%
◎ TOF-MS (m / z):
738, 782, 826
◎ Hydroxyl equivalent:
373 g / eq. (Theoretical value 374 g / eq.)

以上の分析結果から、この生成物は[N(OC(CHOH)(OC]、[N(OC(CHOH)(OC]、[N(OC(CHOH)(OC]の混合物であり、その平均組成が[N(OC(CHOH)2.1(OC3。9]のヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物であることを確認した。 From the above analysis results, the product [N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3) 2 OH) (OC 6 H 5) 5], [N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3) 2 OH) 2 (OC 6 H 5 ) 4 ], [N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 OH) 3 (OC 6 H 5 ) 3 ], and the average composition thereof is [N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 OH) 2.1 (OC 6 H 5 ) 3.9 ] was confirmed to be a hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound.

合成例4(環状ホスファゼン化合物の製造)
PHOSPHORUS−NITROGEN COMPOUNDS、H.R.ALLCOCK著、1972年刊、151頁、ACADEMIC PRESS社に記載されている方法に従い、ヘキサクロロシクロトリホスファゼン81%とオクタクロロシクロテトラホスファゼン19%とのシクロホスファゼン混合物を用いて[N=P(OCと[N=P(OCとの混合物(白色固体/融点:65〜112℃)を得た。
Synthesis Example 4 (Production of cyclic phosphazene compound)
PHOSPHORUS-NITROGEN COMPOUNDS, H.P. R. According to the method described in ALLCOCK, 1972, page 151, ACADEMIC PRESS, using a cyclophosphazene mixture of 81% hexachlorocyclotriphosphazene and 19% octachlorocyclotetraphosphazene [N = P (OC 6 H 5 ) 2 ] 3 and a mixture of [N = P (OC 6 H 5 ) 2 ] 4 (white solid / melting point: 65-112 ° C.).

実施例1(アクリロイルオキシ含有環状ホスファゼン化合物の製造)
撹拌機、温度計および窒素導入管を備えた1リットルのフラスコ中に合成例1にて合成したヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物(水酸基当量:375g/eq.)100.0g、アクリル酸クロライド(50.8g,0.561mol)、合成ゼオライト(3A)250.0gおよびアセトニトリル700mLを仕込み、還流下で24時間撹拌した。反応終了後、合成ゼオライトを濾過にて除去し、濾液を減圧濃縮することで褐色固体111.0g(収率97%)を得た。
Example 1 (Production of acryloyloxy-containing cyclic phosphazene compound)
100.0 g of a hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound (hydroxyl equivalent: 375 g / eq.) Synthesized in Synthesis Example 1 in a 1 liter flask equipped with a stirrer, a thermometer and a nitrogen introduction tube, acrylic acid chloride (50. 8 g, 0.561 mol), 250.0 g of synthetic zeolite (3A) and 700 mL of acetonitrile were charged and stirred under reflux for 24 hours. After completion of the reaction, the synthetic zeolite was removed by filtration, and the filtrate was concentrated under reduced pressure to obtain 111.0 g (yield 97%) of a brown solid.

◎IRスペクトル(KBr Pellet、cm−1):
1732,1634,1,171
H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.1,5.8,6.1,6.4,6.8〜7.3
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 10.5
◎TOF−MS(m/z):
862,946,1030
IR spectrum (KBr Pellet, cm −1 ):
1732, 1634, 1,171
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.1, 5.8, 6.1, 6.4, 6.8 to 7.3
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 10.5
◎ TOF-MS (m / z):
862, 946, 1030

以上の分析結果から、この生成物は[N(OC(CH)OCOCH=CH)(OC]、[N(OC(CH)OCOCH=CH(OC]、[N(OC(CH)OCOCH=CH(OC]の混合物であり、その平均組成が[N(OC(CH)OCOCH=CH2.01(OC3.99]のアクリロイルオキシ含有環状ホスファゼン化合物であることを確認した。 From the above analysis results, this product is [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) OCOCH═CH 2 ) (OC 6 H 5 ) 5 ], [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3) OCOCH = CH 2) 2 (OC 6 H 5) 4], a mixture of [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3) OCOCH = CH 2) 3 (OC 6 H 5) 3], It was confirmed that the average composition was an acryloyloxy-containing cyclic phosphazene compound having [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) OCOCH═CH 2 ) 2.01 (OC 6 H 5 ) 3.99 ].

実施例2(アクリロイルオキシ含有環状ホスファゼン化合物の製造)
撹拌機、温度計および窒素導入管を備えた1リットルのフラスコ中に合成例2にて合成したヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物(水酸基当量:371g/eq.)100.0g、アクリル酸クロライド(51.2g,0.566mol)、合成ゼオライト(3A)250.0gおよびアセトニトリル700mLを仕込み、還流下で24時間撹拌した。反応終了後、合成ゼオライトを濾過にて除去し、濾液を減圧濃縮することで褐色固体109.9g(収率96%)を得た。
Example 2 (Production of acryloyloxy-containing cyclic phosphazene compound)
100.0 g of a hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound (hydroxyl equivalent: 371 g / eq.) Synthesized in Synthesis Example 2 in a 1 liter flask equipped with a stirrer, a thermometer and a nitrogen introduction tube, acrylic acid chloride (51. 2 g, 0.566 mol), 250.0 g of synthetic zeolite (3A) and 700 mL of acetonitrile were charged and stirred under reflux for 24 hours. After completion of the reaction, the synthetic zeolite was removed by filtration, and the filtrate was concentrated under reduced pressure to obtain 109.9 g (yield 96%) of a brown solid.

◎IRスペクトル(KBr Pellet、cm−1):
1732,1634,1,171
H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.0,5.8,6.1,6.4,6.9〜7.4
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 10.5
◎TOF−MS(m/z):
862,946,1030
IR spectrum (KBr Pellet, cm −1 ):
1732, 1634, 1,171
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.0, 5.8, 6.1, 6.4, 6.9 to 7.4
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 10.5
◎ TOF-MS (m / z):
862, 946, 1030

以上の分析結果から、この生成物は[N(OC(CH)OCOCH=CH)(OC]、[N(OC(CH)OCOCH=CH(OC]、[N(OC(CH)OCOCH=CH(OC]の混合物であり、その平均組成が[N(OC(CH)OCOCH=CH2.04(OC3.96]のアクリロイルオキシ含有環状ホスファゼンであることを確認した。 From the above analysis results, this product is [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3 ) OCOCH═CH 2 ) (OC 6 H 5 ) 5 ], [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3) OCOCH = CH 2) 2 (OC 6 H 5) 4], a mixture of [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3) OCOCH = CH 2) 3 (OC 6 H 5) 3], its average composition was calculated as follows acryloyloxy-containing cyclic phosphazene of [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3) OCOCH = CH 2) 2.04 (OC 6 H 5) 3.96].

実施例3(反応性基(アクリロイルオキシ基)含有環状ホスファゼン化合物の製造)
撹拌機、温度計および窒素導入管を備えた1リットルのフラスコ中に合成例3にて合成したヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物(水酸基当量:373g/eq.)100.0、アクリル酸クロライド(51.0g,0.563mol)、合成ゼオライト(3A)250.0gおよびアセトニトリル700mLを仕込み、還流下で24時間撹拌した。反応終了後、合成ゼオライトを濾過にて除去し、濾液を減圧濃縮することで褐色固体109.9g(収率96%)のアクリロイルオキシ含有環状ホスファゼンを得た。
Example 3 (Production of a reactive group (acryloyloxy group) -containing cyclic phosphazene compound)
A hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound (hydroxyl group equivalent: 373 g / eq.) 100.0 synthesized in Synthesis Example 3 in a 1 liter flask equipped with a stirrer, a thermometer and a nitrogen introduction tube, acrylic acid chloride (51. 0 g, 0.563 mol), 250.0 g of synthetic zeolite (3A) and 700 mL of acetonitrile were charged and stirred under reflux for 24 hours. After completion of the reaction, the synthetic zeolite was removed by filtration, and the filtrate was concentrated under reduced pressure to obtain 109.9 g (yield 96%) of acryloyloxy-containing cyclic phosphazene as a brown solid.

◎IRスペクトル(KBr Pellet、cm−1):
1732,1634,1,171
H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.0,5.8,6.1,6.4〜7.3
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 10.5
TOF−MS(m/z):
890,988,1086
IR spectrum (KBr Pellet, cm −1 ):
1732, 1634, 1,171
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.0, 5.8, 6.1, 6.4 to 7.3
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 10.5
TOF-MS (m / z):
890, 988, 1086

以上の分析結果から、この生成物は[N(OC(CHOCOCH=CH)(OC]、[N(OC(CHOCOCH=CH(OC]、[N(OC(CHOCOCH=CH(OC]の混合物であり、その平均組成が[N(OC(CHOCOCH=CH2.1(OC3.9]のアクリロイルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物であることを確認した。 From the above analysis results, this product is [N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 OCOCH═CH 2 ) (OC 6 H 5 ) 5 ], [N 3 P 3 (OC 6 H 2 ( CH 3 ) 2 OCOCH═CH 2 ) 2 (OC 6 H 5 ) 4 ], [N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 OCOCH═CH 2 ) 3 (OC 6 H 5 ) 3 ] And an average composition of [N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 OCOCH═CH 2 ) 2.1 (OC 6 H 5 ) 3.9 ] is an acryloyloxy group-containing cyclic phosphazene compound. It was confirmed.

実施例4(メタクリロイルオキシ含有環状ホスファゼン化合物の製造)
撹拌機、温度計および窒素導入管を備えた1リットルのフラスコ中に合成例1にて合成したヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物(水酸基当量:375g/eq.)100.0g、メタクリル酸クロライド(58.6g,0.561mol)、合成ゼオライト(3A)250.0gおよびアセトニトリル700mLを仕込み、還流下で24時間撹拌した。反応終了後、合成ゼオライトを濾過にて除去し、濾液を減圧濃縮することで褐色固体113.4g(収率96%)を得た。
Example 4 (Production of methacryloyloxy-containing cyclic phosphazene compound)
100.0 g of a hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound (hydroxyl equivalent: 375 g / eq.) Synthesized in Synthesis Example 1 in a 1 liter flask equipped with a stirrer, a thermometer and a nitrogen introduction tube, methacrylic acid chloride (58. 6 g, 0.561 mol), 250.0 g of synthetic zeolite (3A) and 700 mL of acetonitrile were charged and stirred under reflux for 24 hours. After completion of the reaction, the synthetic zeolite was removed by filtration, and the filtrate was concentrated under reduced pressure to obtain 113.4 g (yield 96%) of a brown solid.

◎IRスペクトル(KBr Pellet、cm−1):
1728,1634,1,171
H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.1,5.5,6.1,6.8〜7.3
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 10.5
◎TOF−MS(m/z):
890,988,1086
IR spectrum (KBr Pellet, cm −1 ):
1728, 1634, 1,171
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.1, 5.5, 6.1, 6.8 to 7.3
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 10.5
◎ TOF-MS (m / z):
890, 988, 1086

以上の分析結果から、この生成物は[N(OC(CH)OCOC(CH)=CH)(OC]、[N(OC(CH)OCOC(CH)=CH(OC]、[N(OC(CH)OCOC(CH)=CH(OC]の混合物であり、その平均組成が[N(OC(CH)OCOC(CH)=CH2.01(OC3.99]のメタクリロイルオキシ含有環状ホスファゼン化合物であることを確認した。 From the above analysis results, the product [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3) OCOC (CH 3) = CH 2) (OC 6 H 5) 5], [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3) OCOC ( CH 3) = CH 2) 2 (OC 6 H 5) 4], [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3) OCOC (CH 3) = CH 2) 3 ( OC 6 H 5) 3] is a mixture of the average composition [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3) OCOC (CH 3) = CH 2) 2.01 (OC 6 H 5) 3. 99 ] methacryloyloxy-containing cyclic phosphazene compound.

実施例5(メタクリロイルオキシ含有環状ホスファゼン化合物の製造)
撹拌機、温度計および窒素導入管を備えた1リットルのフラスコ中に合成例2にて合成したヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物(水酸基当量:371g/eq.)100.0g、メタクリル酸クロライド(51.2g,0.566mol)、合成ゼオライト(3A)250.0gおよびアセトニトリル700mLを仕込み、還流下で24時間撹拌した。反応終了後、合成ゼオライトを濾過にて除去し、濾液を減圧濃縮することで褐色固体112.4g(収率95%)を得た。
Example 5 (Production of methacryloyloxy-containing cyclic phosphazene compound)
100.0 g of a hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound (hydroxyl equivalent: 371 g / eq.) Synthesized in Synthesis Example 2 in a 1 liter flask equipped with a stirrer, a thermometer and a nitrogen introduction tube, methacrylic acid chloride (51. 2 g, 0.566 mol), 250.0 g of synthetic zeolite (3A) and 700 mL of acetonitrile were charged and stirred under reflux for 24 hours. After completion of the reaction, the synthetic zeolite was removed by filtration, and the filtrate was concentrated under reduced pressure to obtain 112.4 g (yield 95%) of a brown solid.

◎IRスペクトル(KBr Pellet、cm−1):
1728,1634,1,171
H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.0,5.5,6.1,6.9〜7.4
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 10.5
◎TOF−MS(m/z):
890,988,1086
IR spectrum (KBr Pellet, cm −1 ):
1728, 1634, 1,171
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.0, 5.5, 6.1, 6.9-7.4
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 10.5
◎ TOF-MS (m / z):
890, 988, 1086

以上の分析結果から、この生成物は[N(OC(CH)OCOC(CH)=CH)(OC]、[N(OC(CH)OCOC(CH)=CH(OC]、[N(OC(CH)OCOC(CH)=CH(OC]の混合物であり、その平均組成が[N(OC(CH)OCOC(CH)=CH2.04(OC3.96]のメタクリロイルオキシ含有環状ホスファゼンであることを確認した。 From the above analysis results, the product [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3) OCOC (CH 3) = CH 2) (OC 6 H 5) 5], [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3) OCOC ( CH 3) = CH 2) 2 (OC 6 H 5) 4], [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3) OCOC (CH 3) = CH 2) 3 ( OC 6 H 5) 3] is a mixture of the average composition [N 3 P 3 (OC 6 H 3 (CH 3) OCOC (CH 3) = CH 2) 2.04 (OC 6 H 5) 3. 96 ] methacryloyloxy-containing cyclic phosphazene.

実施例6 (メタクリロイルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
撹拌機、温度計および窒素導入管を備えた1リットルのフラスコ中に合成例3にて合成したヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物(水酸基当量:373g/eq.)、メタクリル酸クロライド(51.0g,0.563mol)、合成ゼオライト(3A)250.0gおよびアセトニトリル700mLを仕込み、還流下で24時間撹拌した。反応終了後、合成ゼオライトを濾過にて除去し、濾液を減圧濃縮することで褐色固体113.6g(収率96%)を得た。
Example 6 (Production of methacryloyloxy group-containing cyclic phosphazene compound)
Hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound synthesized in Synthesis Example 3 (hydroxyl equivalent: 373 g / eq.), Methacrylic acid chloride (51.0 g, 0) in a 1 liter flask equipped with a stirrer, thermometer and nitrogen introduction tube .563 mol), 250.0 g of synthetic zeolite (3A) and 700 mL of acetonitrile were charged and stirred under reflux for 24 hours. After completion of the reaction, the synthetic zeolite was removed by filtration, and the filtrate was concentrated under reduced pressure to obtain 113.6 g of a brown solid (yield 96%).

◎IRスペクトル(KBr Pellet、cm−1):
1728,1634,1,171
H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.0,5.5,6.1,6.4〜7.3
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 10.5
◎TOF−MS(m/z):
918,1029,1142
IR spectrum (KBr Pellet, cm −1 ):
1728, 1634, 1,171
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.0, 5.5, 6.1, 6.4 to 7.3
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 10.5
◎ TOF-MS (m / z):
918, 1029, 1142

以上の分析結果から、この生成物は[N(OC(CHOCOC(CH)=CH)(OC]、[N(OC(CHOCOC(CH)=CH(OC]、[N(OC(CHOCOC(CH)=CH(OC]の混合物であり、その平均組成が[N(OC(CHOCOC(CH)=CH2.1(OC3.9]のメタクリロイルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物であることを確認した。 From the above analysis results, this product is obtained from [N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 OCOC (CH 3 ) ═CH 2 ) (OC 6 H 5 ) 5 ], [N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3) 2 OCOC (CH 3) = CH 2) 2 (OC 6 H 5) 4], [N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3) 2 OCOC (CH 3) = CH 2 ) 3 (OC 6 H 5 ) 3 ], the average composition of which is [N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 OCOC (CH 3 ) ═CH 2 ) 2.1 (OC 6 H 5 ) It was confirmed that it was a methacryloyloxy group-containing cyclic phosphazene compound of 3.9 ].

実施例7〜12および比較例1(樹脂組成物の調製)
PC樹脂(ポリカーボネート樹脂:三菱瓦斯化学株式会社製「ユーピロンS3000」)100部に対して実施例1〜6で製造した反応性基含有環状ホスファゼン化合物または合成例4で製造した環状ホスファゼン化合物を表1に示す割合で添加し、220℃で7分間溶融混練した。
Examples 7 to 12 and Comparative Example 1 (Preparation of resin composition)
Table 1 shows the reactive group-containing cyclic phosphazene compound produced in Examples 1 to 6 or the cyclic phosphazene compound produced in Synthesis Example 4 with respect to 100 parts of PC resin (polycarbonate resin: “Iupilon S3000” manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.). And melt kneaded at 220 ° C. for 7 minutes.

これにより得られた樹脂組成物を、プレス成形機を用いて200℃で10分間加熱プレスし、厚さ1/24インチのシートを得た。この段階では、樹脂組成物に含まれる反応性基含有環状ホスファゼン化合物の反応性基は反応していなかった。このシートの両面に対し、室温で加速電圧200KV、照射線量2MRad、吸収線量10KGyの条件下で電子線照射を行った。これにより得られた硬化シートから長さ5インチ、幅0.5インチ、厚さ1/24インチの試験片を切り出し、この試験片について燃焼性試験(UL−94難燃性試験)を実施し、また、熱変形温度およびブルーミング性を調べた。各項目の評価方法は下記の通りである。結果を表1に示す。   The resin composition thus obtained was heated and pressed at 200 ° C. for 10 minutes using a press molding machine to obtain a sheet having a thickness of 1/24 inch. At this stage, the reactive group of the reactive group-containing cyclic phosphazene compound contained in the resin composition was not reacted. Both surfaces of this sheet were irradiated with an electron beam at room temperature under the conditions of an acceleration voltage of 200 KV, an irradiation dose of 2 MRad, and an absorbed dose of 10 KGy. A specimen having a length of 5 inches, a width of 0.5 inches, and a thickness of 1/24 inches was cut out from the cured sheet thus obtained, and a flammability test (UL-94 flame retardant test) was performed on the specimen. In addition, the heat distortion temperature and blooming property were examined. The evaluation method for each item is as follows. The results are shown in Table 1.

(燃焼性試験)
アンダーライターズラボラトリーズ(Underwriter’s Laboratories Inc.)のUL−94垂直燃焼試験に基づき、10回接炎時の合計燃焼時間と燃焼時の滴下物による綿着火の有無により、V−0、V−1、V−2および規格外の四段階に分類した。評価基準を以下に示す。難燃性レベルはV−0>V−1>V−2>規格外の順に低下する。
(Flammability test)
Based on Underwriter's Laboratories Inc.'s UL-94 vertical combustion test, V-0, V-, depending on the total combustion time at the 10th flame contact and the presence or absence of cotton ignition by dripping at the time of combustion. It was classified into 1, V-2 and non-standard four stages. The evaluation criteria are shown below. The flame retardancy level decreases in the order of V-0>V-1>V-2> non-standard.

V−0:下記の条件を全て満たす。
(A)試験片5本を1本につき二回ずつ、合計10回の接炎後からの消炎時間の合計が50秒以内。
(B)試験片5本を1本につき二回ずつ接炎を行い、それぞれの接炎後からの消炎時間が5秒以内。
(C)すべての試験片で滴下物による、300mm下の脱脂綿への着火がない。
(D)すべての試験片で、二回目の接炎後のグローイングは30秒以内。
(E)すべての試験片で、クランプまでフレーミングしない。
V-0: All the following conditions are satisfied.
(A) The total extinguishing time after 10 times of flame contact is within 50 seconds, 5 test pieces twice each.
(B) The test piece was fired twice for each of the five test pieces, and the flame-out time after each contact was within 5 seconds.
(C) There is no ignition of the absorbent cotton under 300 mm due to the drop in all the test pieces.
(D) Growing after the second flame contact is within 30 seconds for all specimens.
(E) All specimens are not framing to the clamp.

V−1:下記の条件を全て満たす。
(A)試験片5本を1本につき二回ずつ、合計10回の接炎後からの消炎時間の合計が250秒以内。
(B)試験片5本を1本につき二回ずつ接炎を行い、それぞれの接炎後からの消炎時間が30秒以内。
(C)すべての試験片で滴下物による、300mm下の脱脂綿への着火がない。
(D)すべての試験片で、二回目の接炎後のグローイングは60秒以内。
(E)すべての試験片で、クランプまでフレーミングしない。
V-1: All the following conditions are satisfied.
(A) The total extinguishing time after a total of 10 flame contact times is less than 250 seconds, 5 test pieces twice each.
(B) Flame test was performed twice for each of five test pieces, and the flame extinguishing time after each flame contact was within 30 seconds.
(C) There is no ignition of the absorbent cotton under 300 mm due to the drop in all the test pieces.
(D) For all specimens, the glowing after the second flame contact is within 60 seconds.
(E) All specimens are not framing to the clamp.

V−2:下記の条件を全て満たす。
(A)試験片5本を1本につき二回ずつ、合計10回の接炎後からの消炎時間の合計が250秒以内。
(B)試験片5本を1本につき二回ずつ接炎を行い、それぞれの接炎後からの消炎時間が30秒以内。(C)試験片5本のうち、少なくとも一本、滴下物による、300mm下の脱脂綿への着火がある。
(D)すべての試験片で、二回目の接炎後のグローイングは60秒以内。
(E)すべての試験片で、クランプまでフレーミングしない。
V-2: All the following conditions are satisfied.
(A) The total extinguishing time after a total of 10 flame contact times is less than 250 seconds, 5 test pieces twice each.
(B) Flame test was performed twice for each of five test pieces, and the flame extinguishing time after each flame contact was within 30 seconds. (C) At least one of the five test pieces is ignited on the absorbent cotton under 300 mm by the drop.
(D) For all specimens, the glowing after the second flame contact is within 60 seconds.
(E) All specimens are not framing to the clamp.

(熱変形温度)
ASTM D−648に準じ、荷重1.82MPaで試験した。
(Heat deformation temperature)
According to ASTM D-648, the load was tested at 1.82 MPa.

(高温信頼性:ブルーミング性)
試験片を150℃で4時間加熱し、試験片表面での染み出し状態(試験片内部からの浸出状態:ブルーミング性)を目視観察した。評価の基準は次の通りである。
◎:染み出しが全く見られない。
〇:染み出しがほとんど見られない。
△:若干の染み出しが見られる。
×:著しい染み出しが見られる。
(High temperature reliability: blooming)
The test piece was heated at 150 ° C. for 4 hours, and the state of seepage on the surface of the test piece (leaching state from inside of the test piece: blooming property) was visually observed. The criteria for evaluation are as follows.
A: No oozing is observed.
◯: Almost no seepage is seen.
Δ: Some exudation is observed.
X: Significant exudation is observed.

表1から明らかなように、実施例7〜12の樹脂組成物からなるシート(樹脂成形体)は、比較例1のものに比べ、難燃性に優れ、また、熱変形温度が高いことから機械的物性が優れている。しかも、ブルーミング性で評価したホスファゼン化合物からなる難燃剤のブリードアウトが実質的に見られず、密着性に優れている。   As is apparent from Table 1, the sheets (resin molded bodies) made of the resin compositions of Examples 7 to 12 are superior in flame retardancy and have a high heat distortion temperature compared to those of Comparative Example 1. Excellent mechanical properties. Moreover, the bleedout of the flame retardant composed of the phosphazene compound evaluated by blooming property is not substantially observed, and the adhesiveness is excellent.

実施例13(反応性基含有環状ホスファゼン化合物のオリゴマーからなる難燃剤の製造)
撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた1リットルのフラスコに実施例1で製造した反応性基(アクリロイルオキシ基)含有環状ホスファゼン化合物100.0gとトルエン400mlとを仕込んだ。この溶液に、窒素雰囲気下でベンゾイルパーオキシド1.0gを添加した後、90℃で10時間反応した。反応後、トルエンを濃縮して大過剰量のメタノールに投入し、析出した固体を濾過で分離して減圧下60℃で12時間乾燥した。これにより、メタクリロイルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物のオリゴマーからなる難燃剤である淡黄色粉末状固体の生成物97.9gを得た。この生成物のIRスペクトルは、メタクリロイルオキシ基の二重結合が消失したことを示した。
Example 13 (Production of a flame retardant comprising an oligomer of a reactive group-containing cyclic phosphazene compound)
The reactive group (acryloyloxy group) -containing cyclic phosphazene compound produced in Example 1 and 400 ml of toluene were charged into a 1 liter flask equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser and nitrogen inlet tube. To this solution, 1.0 g of benzoyl peroxide was added under a nitrogen atmosphere, and then reacted at 90 ° C. for 10 hours. After the reaction, toluene was concentrated and poured into a large excess amount of methanol, and the precipitated solid was separated by filtration and dried at 60 ° C. under reduced pressure for 12 hours. As a result, 97.9 g of a pale yellow powdered solid product, which is a flame retardant comprising an oligomer of a methacryloyloxy group-containing cyclic phosphazene compound, was obtained. An IR spectrum of this product showed that the double bond of the methacryloyloxy group disappeared.

実施例14(反応性基含有環状ホスファゼン化合物のオリゴマーからなる難燃剤の製造)
実施例1で製造した反応性基(アクリロイルオキシ基)含有環状ホスファゼン化合物の代わりに実施例2で製造した反応性基(アクリロイルオキシ基)含有環状ホスファゼン化合物を用いた点を除いて実施例13と同様に操作し、アクリロイルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物とスチレンとのオリゴマーである淡黄色粉末状固体の生成物96.9gを得た。この生成物のIRスペクトルは、二重結合の消失を示し、スチレンが共重合成分として反応性基(アクリロイルオキシ基)含有環状ホスファゼン化合物と反応して得られる上記オリゴマーからなる難燃剤が生成したことを示した。
Example 14 (Production of a flame retardant comprising an oligomer of a reactive group-containing cyclic phosphazene compound)
Example 13 and Example 13 except that the reactive group (acryloyloxy group) -containing cyclic phosphazene compound produced in Example 2 was used instead of the reactive group (acryloyloxy group) -containing cyclic phosphazene compound produced in Example 1 By operating in the same manner, 96.9 g of a pale yellow powdery solid product which is an oligomer of an acryloyloxy group-containing cyclic phosphazene compound and styrene was obtained. The IR spectrum of this product showed the disappearance of the double bond, and the production of a flame retardant comprising the above oligomer obtained by reacting styrene with a reactive group (acryloyloxy group) -containing cyclic phosphazene compound as a copolymerization component. showed that.

実施例15(反応性基含有環状ホスファゼン化合物のオリゴマーからなる難燃剤の製造)
実施例1で製造した反応性基(アクリロイルオキシ基)含有環状ホスファゼン化合物の代わりに実施例2で製造した反応性基(アクリロイルオキシ基)含有環状ホスファゼン化合物を用いた点を除いて実施例13と同様に操作し、アクリロイルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物とスチレンとのオリゴマーである淡黄色粉末状固体の生成物97.5gを得た。この生成物のIRスペクトルは、二重結合の消失を示し、スチレンが共重合成分として反応性基(アクリロイルオキシ基)含有環状ホスファゼン化合物と反応して得られる上記オリゴマーからなる難燃剤が生成したことを示した。
Example 15 (Production of flame retardant comprising oligomer of reactive group-containing cyclic phosphazene compound)
Example 13 and Example 13 except that the reactive group (acryloyloxy group) -containing cyclic phosphazene compound produced in Example 2 was used instead of the reactive group (acryloyloxy group) -containing cyclic phosphazene compound produced in Example 1 The same operation was performed to obtain 97.5 g of a pale yellow powdered solid product which is an oligomer of an acryloyloxy group-containing cyclic phosphazene compound and styrene. The IR spectrum of this product showed the disappearance of the double bond, and the production of a flame retardant comprising the above oligomer obtained by reacting styrene with a reactive group (acryloyloxy group) -containing cyclic phosphazene compound as a copolymerization component. showed that.

実施例16(反応性基含有環状ホスファゼン化合物のオリゴマーからなる難燃剤の製造)
実施例1で製造した反応性基(アクリロイルオキシ基)含有環状ホスファゼン化合物の代わりに実施例4で製造した反応性基(メタクリロイルオキシ基)含有環状ホスファゼン化合物を用いた点を除いて実施例13と同様に操作し、アクリロイルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物とスチレンとのオリゴマーである淡黄色粉末状固体の生成物98.0gを得た。この生成物のIRスペクトルは、二重結合の消失を示し、スチレンが共重合成分として反応性基(アクリロイルオキシ基)含有環状ホスファゼン化合物と反応して得られる上記オリゴマーからなる難燃剤が生成したことを示した。
Example 16 (Production of a flame retardant comprising an oligomer of a reactive group-containing cyclic phosphazene compound)
Example 13 and Example 13 except that the reactive group (acryloyloxy group) -containing cyclic phosphazene compound produced in Example 1 was replaced by the reactive group (methacryloyloxy group) -containing cyclic phosphazene compound produced in Example 4 By operating in the same manner, 98.0 g of a pale yellow powdered solid product which is an oligomer of an acryloyloxy group-containing cyclic phosphazene compound and styrene was obtained. The IR spectrum of this product showed the disappearance of the double bond, and the production of a flame retardant comprising the above oligomer obtained by reacting styrene with a reactive group (acryloyloxy group) -containing cyclic phosphazene compound as a copolymerization component. showed that.

実施例17(反応性基含有環状ホスファゼン化合物のオリゴマーからなる難燃剤の製造)
実施例1で製造した反応性基(アクリロイルオキシ基)含有環状ホスファゼン化合物の代わりに実施例5で製造した反応性基(メタクリロイルオキシ基)含有環状ホスファゼン化合物を用いた点を除いて実施例13と同様に操作し、アクリロイルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物とスチレンとのオリゴマーである淡黄色粉末状固体の生成物97.4gを得た。この生成物のIRスペクトルは、二重結合の消失を示し、スチレンが共重合成分として反応性基(アクリロイルオキシ基)含有環状ホスファゼン化合物と反応して得られる上記オリゴマーからなる難燃剤が生成したことを示した。
Example 17 (Production of a flame retardant comprising an oligomer of a reactive group-containing cyclic phosphazene compound)
Example 13 and Example 13 except that the reactive group (methacryloyloxy group) -containing cyclic phosphazene compound produced in Example 5 was used instead of the reactive group (acryloyloxy group) -containing cyclic phosphazene compound produced in Example 1. By operating in the same manner, 97.4 g of a pale yellow powdered solid product which is an oligomer of an acryloyloxy group-containing cyclic phosphazene compound and styrene was obtained. The IR spectrum of this product showed the disappearance of the double bond, and the production of a flame retardant comprising the above oligomer obtained by reacting styrene with a reactive group (acryloyloxy group) -containing cyclic phosphazene compound as a copolymerization component. showed that.

実施例18(反応性基含有環状ホスファゼン化合物のオリゴマーからなる難燃剤の製造)
実施例1で製造した反応性基(アクリロイルオキシ基)含有環状ホスファゼン化合物の代わりに実施例6で製造した反応性基(メタクリロイルオキシ基)含有環状ホスファゼン化合物を用いた点を除いて実施例13と同様に操作し、アクリロイルオキシ基含有環状ホスファゼン化合物とスチレンとのオリゴマーである淡黄色粉末状固体の生成物98.2gを得た。この生成物のIRスペクトルは、二重結合の消失を示し、スチレンが共重合成分として反応性基(アクリロイルオキシ基)含有環状ホスファゼン化合物と反応して得られる上記オリゴマーからなる難燃剤が生成したことを示していた。
Example 18 (Production of a flame retardant comprising an oligomer of a reactive group-containing cyclic phosphazene compound)
Example 13 and Example 13 except that the reactive group (methacryloyloxy group) -containing cyclic phosphazene compound produced in Example 6 was used instead of the reactive group (acryloyloxy group) -containing cyclic phosphazene compound produced in Example 1. The same operation was performed to obtain 98.2 g of a pale yellow powdery solid product which is an oligomer of an acryloyloxy group-containing cyclic phosphazene compound and styrene. The IR spectrum of this product showed the disappearance of the double bond, and the production of a flame retardant comprising the above oligomer obtained by reacting styrene with a reactive group (acryloyloxy group) -containing cyclic phosphazene compound as a copolymerization component. Was showing.

実施例19〜24および比較例3、4(樹脂組成物の調製)
ABS樹脂(三井化学株式会社製「サンタック」)若しくはPC樹脂(ポリカーボネート樹脂:三菱瓦斯化学株式会社製「ユーピロンS3000」)100部に対し、実施例13〜18で製造したオリゴマー若しくは合成例4で得られた環状ホスファゼン化合物を表2に示す割合で添加し、180〜220℃で5分間溶融混練した。これにより得られた樹脂組成物を、プレス成形機を用いて150〜200℃で10分間加熱プレスし、厚さ1.2mmのシートを得た。このシートについて、UL−94難燃性試験を実施し、また、熱変形温度およびブルーミング性を調べた。各項目の試験方法は、実施例7〜12および比較例1の場合と同じである。結果を表2に示す。
Examples 19 to 24 and Comparative Examples 3 and 4 (Preparation of resin composition)
Obtained by oligomers produced in Examples 13 to 18 or Synthesis Example 4 with respect to 100 parts of ABS resin (“Santac” manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) or PC resin (polycarbonate resin: “Iupilon S3000” manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) The obtained cyclic phosphazene compound was added at a ratio shown in Table 2, and melt kneaded at 180 to 220 ° C. for 5 minutes. The resin composition thus obtained was heated and pressed at 150 to 200 ° C. for 10 minutes using a press molding machine to obtain a sheet having a thickness of 1.2 mm. The sheet was subjected to UL-94 flame retardancy test, and the heat distortion temperature and blooming property were examined. The test method for each item is the same as in Examples 7 to 12 and Comparative Example 1. The results are shown in Table 2.

表2から明らかなように、実施例19〜30の樹脂組成物からなるシート(樹脂成形体)は、比較例2、3のものに比べ、難燃性に優れ、また、熱変形温度が高いことから機械的物性が優れており、しかも、ブルーミング性で評価したホスファゼン化合物のブリードアウトが実質的に見られず、密着性に優れている。   As is clear from Table 2, the sheets (resin molded bodies) made of the resin compositions of Examples 19 to 30 are superior in flame retardancy and have a high heat distortion temperature compared to those of Comparative Examples 2 and 3. Therefore, the mechanical properties are excellent, and further, bleedout of the phosphazene compound evaluated by blooming property is not substantially observed, and the adhesiveness is excellent.

実施例31〜24および比較例4(樹脂組成物の調製)
ビスフェノールA型エポキシ樹脂であるエピコート1001(ジャパン・エポキシ・レジン社の商品名:エポキシ当量456g/eq.、樹脂固形分70%)651部、クレゾールノボラックエポキシ樹脂であるYDCN−704P(東都化成株式会社の商品名:エポキシ当量210g/eq.、樹脂固形分70%)300部、ノボラック型フェノール樹脂であるBRG−558(昭和高分子株式会社の商品名:水酸基価106g/eq.、樹脂固形分70%)303部、水酸化アルミニウム361部および2−エチル−4−メチルイミダゾール0.9部の混合物に対し、実施例1〜6、13〜18で得られた反応性基含有環状ホスファゼン化合物若しくはオリゴマーまたは合成例4で得られた環状ホスファゼン化合物を表3に示す割合で添加し、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)を加えて樹脂固形分65%のエポキシ樹脂ワニスを調製した。
Examples 31 to 24 and Comparative Example 4 (Preparation of resin composition)
Epicote 1001 which is a bisphenol A type epoxy resin (trade name of Japan Epoxy Resin Co., Ltd .: epoxy equivalent 456 g / eq., Resin solid content 70%) 651 parts, YDCN-704P which is a cresol novolac epoxy resin (Toto Kasei Co., Ltd.) Product name: Epoxy equivalent 210 g / eq., Resin solid content 70% 300 parts, novolac type phenolic resin BRG-558 (Showa Polymer Co., Ltd. product name: hydroxyl value 106 g / eq., Resin solid content 70 %) Reactive group-containing cyclic phosphazene compounds or oligomers obtained in Examples 1 to 6 and 13 to 18 with respect to a mixture of 303 parts, 361 parts of aluminum hydroxide and 0.9 parts of 2-ethyl-4-methylimidazole Alternatively, the cyclic phosphazene compound obtained in Synthesis Example 4 was added at the ratio shown in Table 3. And, g of propylene glycol monomethyl ether (PGM) to prepare a resin solid content of 65% epoxy resin varnish as a solvent.

次に、調製したエポキシ樹脂ワニスを180μmガラス織布に塗布して含浸させ、160℃の温度で乾燥してプリプレグを製造した。こうして得られた180μmガラス織布プリプレグを8枚積層し、これを170℃の温度、4.2MPaの圧力で90分間加熱・加圧して厚さ1.2mmのガラスエポキシ積層板を得た。   Next, the prepared epoxy resin varnish was applied and impregnated on a 180 μm glass woven fabric, and dried at a temperature of 160 ° C. to produce a prepreg. Eight 180 μm glass woven prepregs thus obtained were laminated and heated and pressurized at a temperature of 170 ° C. and a pressure of 4.2 MPa for 90 minutes to obtain a glass epoxy laminated plate having a thickness of 1.2 mm.

このガラスエポキシ積層板から長さ5インチ、幅0.5インチ、厚さ1.2mmの試験片を切り出し、その燃焼性、ガラス転移温度(Tg)および耐熱性を調べた。ここで、燃焼性は、実施例6〜9および比較例2の場合と同じく、UL−94規格垂直燃焼試験に準拠した方法により評価した。また、ガラス転移温度は、JIS K 7121−1987「プラスチックの転移温度測定方法」に準じ、DSCによって測定した。さらに、高温信頼性の評価としての耐熱性は、試験片を290℃で20分間処理し、外観の変化を観察した。結果を表3に示す。なお、表3の耐熱性の結果において、「有」は上述の混合物に対して添加した反応性基含有環状ホスファゼン化合物等のブリードアウトがないことを意味し、「無」はそのブリードアウトがあることを意味している。   A test piece having a length of 5 inches, a width of 0.5 inches and a thickness of 1.2 mm was cut out from the glass epoxy laminate, and its combustibility, glass transition temperature (Tg) and heat resistance were examined. Here, the flammability was evaluated by a method based on the UL-94 standard vertical combustion test, as in Examples 6 to 9 and Comparative Example 2. The glass transition temperature was measured by DSC according to JIS K 7121-1987 “Method for measuring plastic transition temperature”. Furthermore, for heat resistance as an evaluation of high temperature reliability, the test piece was treated at 290 ° C. for 20 minutes, and changes in appearance were observed. The results are shown in Table 3. In the results of heat resistance in Table 3, “Yes” means that there is no bleed out of the reactive group-containing cyclic phosphazene compound and the like added to the above-mentioned mixture, and “No” indicates that bleed out. It means that.

表3から明らかなように、実施例31〜42の樹脂組成物からなるガラスエポキシ積層板(樹脂成形体)は、比較例5のものに比べ、難燃性に優れ、また、ガラス転移温度が高いことから機械的物性が優れており、しかも、耐熱性で評価したホスファゼン化合物のブリードアウトが実質的に見られず、密着性に優れている。   As is clear from Table 3, the glass epoxy laminate (resin molded body) made of the resin compositions of Examples 31 to 42 is superior in flame retardancy to that of Comparative Example 5, and has a glass transition temperature. Since it is high, the mechanical properties are excellent, and furthermore, the bleedout of the phosphazene compound evaluated by heat resistance is substantially not seen, and the adhesion is excellent.

合成例5(可溶性ポリイミド樹脂の合成)
撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた3リットルのガラス製フラスコ中に、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン277.7g(0.95mol)、3,3’−ジヒドロキシ−4,4’−ジアミノビフェニル10.7g(0.05mol)およびN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)700mlを仕込み、窒素雰囲気下で撹拌溶解した。次に、フラスコ内の溶液を、窒素雰囲気下で撹拌し、4、4’−(4、4’−イソプロピリデンジフェノキシ)ビスフタル酸無水物(IPBP)のDMF溶液[IPBP520.5g(1.00mol)、DMF1,100ml]を5〜10℃で2時間かけて滴下し、さらに室温で3時間撹拌してポリアミド酸溶液を得た。得られたポリアミド酸溶液2,500gをフッ素樹脂(PTFE)でコートしたトレイに移し、真空オーブンで減圧加熱(条件:200℃、5.7hPa以下、6時間)することによって、可溶性ポリイミド樹脂748gを得た。
Synthesis Example 5 (Synthesis of soluble polyimide resin)
In a 3 liter glass flask equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser and nitrogen inlet tube, 277.7 g (0.95 mol) of 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 3,3 ′ -Dihydroxy-4,4'-diaminobiphenyl (10.7 g, 0.05 mol) and N, N-dimethylformamide (DMF) (700 ml) were charged and dissolved under stirring in a nitrogen atmosphere. Next, the solution in the flask was stirred under a nitrogen atmosphere, and a DMF solution of 4,4 ′-(4,4′-isopropylidenediphenoxy) bisphthalic anhydride (IPBP) [IPBP 520.5 g (1.00 mol) ), DMF 1,100 ml] was added dropwise at 5 to 10 ° C. over 2 hours, and further stirred at room temperature for 3 hours to obtain a polyamic acid solution. 2,500 g of the resulting polyamic acid solution was transferred to a tray coated with a fluororesin (PTFE) and heated under reduced pressure in a vacuum oven (conditions: 200 ° C., 5.7 hPa or less, 6 hours) to obtain 748 g of a soluble polyimide resin. Obtained.

合成例6(2官能PPEオリゴマーの合成)
撹拌機、温度計、還流冷却管および空気導入管を備えた2リットルのガラス製フラスコ中に、CuCl1.3g(0.012mol)、ジ−n−ブチルアミン70.7g(0.55mol)およびメチルエチルケトン500mlを仕込み、反応温度40℃にて撹拌を行い、予めメチルエチルケトン1,000mlに溶解させた4,4’−(1−メチルエチリデン)ビス(2,6−ジメチルフェノール)45.4g(0.16mol)と2,6−ジメチルフェノール58.6g(0.48mol)を2リットル/分の空気のバブリングを行いながら2時間かけて滴下し、さらに滴下終了後1時間、2リットル/分の空気のバブリングを続けながら撹拌を行った。これにエチレンジアミン四酢酸二水素二ナトリウム水溶液を加え、反応を停止した。その後、3%塩酸水溶液で3回洗浄を行った後、イオン交換水でさらに洗浄を行った。得られた溶液を濃縮し、さらに減圧乾燥を行い、両末端にヒドロキシル基を有するPPEオリゴマーを100.9g得た。このオリゴマーは、数平均分子量が860、重量平均分子量が1150、水酸基当量が454g/eq.であった。
Synthesis Example 6 (Synthesis of bifunctional PPE oligomer)
In a 2 liter glass flask equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser and air inlet tube, 1.3 g (0.012 mol) of CuCl, 70.7 g (0.55 mol) of di-n-butylamine and 500 ml of methyl ethyl ketone Was stirred at a reaction temperature of 40 ° C., and 45.4 g (0.16 mol) of 4,4 ′-(1-methylethylidene) bis (2,6-dimethylphenol) previously dissolved in 1,000 ml of methyl ethyl ketone. And 58.6 g (0.48 mol) of 2,6-dimethylphenol were added dropwise over 2 hours while bubbling air at 2 liters / minute, and after 1 hour after completion of the dropwise addition, air was bubbled at 2 liters / minute. Stirring was performed while continuing. Ethylenediaminetetraacetic acid dihydrogen disodium aqueous solution was added thereto to stop the reaction. Thereafter, washing was performed 3 times with a 3% hydrochloric acid aqueous solution, followed by further washing with ion-exchanged water. The obtained solution was concentrated and further dried under reduced pressure to obtain 100.9 g of a PPE oligomer having hydroxyl groups at both ends. This oligomer has a number average molecular weight of 860, a weight average molecular weight of 1150, and a hydroxyl group equivalent of 454 g / eq. Met.

次に、撹拌機、温度計および還流冷却管を備えた1リットルのガラス製フラスコ中に、上記工程で得られた両末端にヒドロキシル基を有するPPEオリゴマー50g(水酸基0.11mol)、炭酸カリウム15.3gおよびアセトン400mlを仕込み、窒素下で3時間還流した。その後、6−ブロモ−1−ヘキサノール22.1gを1時間かけて滴下し、滴下終了後に24時間還流した。反応後、反応液を塩酸で中和し、多量の脱イオン水を加えて生成物を沈殿させ、トルエンを加えて抽出を行った。得られた溶液を濃縮してメタノール中に滴下して再沈殿を行い、ろ過して固体を回収した後、減圧乾燥を行った。これにより、両末端にヒドロキシルヘキシル基を有するPPEオリゴマー55.5gを得た。このオリゴマーは、数平均分子量が1,045、重量平均分子量が1,390、水酸基当量が551g/eq.であった。   Next, in a 1 liter glass flask equipped with a stirrer, a thermometer and a reflux condenser, 50 g of PPE oligomer (hydroxyl group 0.11 mol) having hydroxyl groups at both ends obtained in the above step, potassium carbonate 15 .3 g and 400 ml of acetone were charged and refluxed for 3 hours under nitrogen. Thereafter, 22.1 g of 6-bromo-1-hexanol was added dropwise over 1 hour, and the mixture was refluxed for 24 hours after completion of the addition. After the reaction, the reaction solution was neutralized with hydrochloric acid, a large amount of deionized water was added to precipitate the product, and toluene was added for extraction. The obtained solution was concentrated and dropped into methanol for reprecipitation, and the solid was recovered by filtration, followed by drying under reduced pressure. As a result, 55.5 g of a PPE oligomer having hydroxyl hexyl groups at both ends was obtained. This oligomer has a number average molecular weight of 1,045, a weight average molecular weight of 1,390, and a hydroxyl group equivalent of 551 g / eq. Met.

次に、撹拌機、温度計および還流冷却管を備えた0.3リットルのガラス製フラスコ中に、上記工程で得られた両末端にヒドロキシルヘキシル基を有するPPEオリゴマー30g、アクリル酸クロライド6.0g、トリエチルアミントルエン7.0g、ハイドロキノン0.03gおよびトルエン100mlを仕込んだ。そして、これを加熱還流して2時間反応した。反応後、反応混合物を濃縮し、トルエン60mlを添加した。これを2%塩酸で2回洗浄し、次に脱イオン水で3回洗浄した。これにより、トルエンを減圧留去して両末端にアクリレート基を有するPPEオリゴマー30.3gを得た。この両末端にアクリレート基を有するPPEオリゴマーは、数平均分子量が1,190、重量平均分子量が1,590であった。   Next, in a 0.3 liter glass flask equipped with a stirrer, a thermometer and a reflux condenser, 30 g of PPE oligomer having hydroxyl hexyl groups at both ends obtained in the above step, 6.0 g of acrylic acid chloride 7.0 g of triethylamine toluene, 0.03 g of hydroquinone and 100 ml of toluene were charged. This was heated to reflux and reacted for 2 hours. After the reaction, the reaction mixture was concentrated and 60 ml of toluene was added. This was washed twice with 2% hydrochloric acid and then three times with deionized water. Thereby, toluene was distilled off under reduced pressure to obtain 30.3 g of a PPE oligomer having acrylate groups at both ends. The PPE oligomer having acrylate groups at both ends had a number average molecular weight of 1,190 and a weight average molecular weight of 1,590.

実施例43〜48(樹脂組成物の調製)
合成例5で得られた可溶性ポリイミド樹脂50.0g、実施例1〜6で合成した反応性基含有環状ホスファゼン化合物20.0g、EO変性ビスフェノールAジアクリレート(新中村化学工業株式会社の商品名“NKエステル A−BPE−30”)15.0g並びに光反応開始剤である1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバスペシャリティケミカルズ社の商品名“IRGACURE 184”)1.0gおよびビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド(チバスペシャリティケミカルズ社の商品名“IRGACURE 819”)1.0gを混合して感光性樹脂組成物のワニスを調製した。
Examples 43 to 48 (Preparation of resin composition)
50.0 g of the soluble polyimide resin obtained in Synthesis Example 5, 20.0 g of the reactive group-containing cyclic phosphazene compound synthesized in Examples 1 to 6, EO-modified bisphenol A diacrylate (trade name “Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.” 15.0 g of NK ester A-BPE-30 ") and 1.0 g of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (trade name" IRGACURE 184 "from Ciba Specialty Chemicals) as a photoinitiator and bis (2,4,6- A varnish of a photosensitive resin composition was prepared by mixing 1.0 g of trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide (trade name “IRGACURE 819” from Ciba Specialty Chemicals).

このワニスをPETフィルム(厚み25μm)上に乾燥後の厚みが25μmになるように塗布し、45℃で5分間、続いて65℃で5分間乾燥して有機溶剤を除去することにより、PETフィルム上にBステージ化した感光性フィルム層を形成させ、PETフィルムにBステージ化した感光性フィルムが積層された感光性ドライフィルムレジストを作製した。この感光性ドライフィルムレジストの感光性フィルム層上に、ポリエチレン樹脂とエチレンビニルアルコール樹脂との共重合体からなる保護フィルム(積水化学株式会社の商品名“プロテクト(#6221F)フィルム”)をラミネート(条件:ロール温度40℃、ニップ圧1500Pa・m)し、三層構造のシート状感光性ドライフィルムレジストを作製した。これについて現像性試験を行ったところ、100μmφの微細な穴および100μm/100μmのラインが現像できた。また、この感光性ドライフィルムレジストを硬化したシートの燃焼性(難燃性)、ガラス転移温度および高温信頼性の評価としてのブルーミング性を測定した。結果を表5に示す。ここで、燃焼性は実施例7〜12および比較例1と同様の方法で評価した。また、ガラス転移温度は、実施例31〜42および比較例4と同じ方法で測定した。さらに、ブルーミング性は、次のようにして評価した。結果を表4に示す。   By applying this varnish on a PET film (thickness 25 μm) so that the thickness after drying is 25 μm, the organic solvent is removed by drying at 45 ° C. for 5 minutes and then at 65 ° C. for 5 minutes. A photosensitive film layer having a B-stage formed thereon was formed, and a photosensitive dry film resist in which a B-staged photosensitive film was laminated on a PET film was produced. A protective film made of a copolymer of polyethylene resin and ethylene vinyl alcohol resin (trade name “Protect (# 6221F) film” from Sekisui Chemical Co., Ltd.)) is laminated on the photosensitive film layer of this photosensitive dry film resist ( Conditions: roll temperature 40 ° C., nip pressure 1500 Pa · m) to prepare a sheet-like photosensitive dry film resist having a three-layer structure. When a developability test was performed on this, fine holes of 100 μmφ and lines of 100 μm / 100 μm could be developed. Moreover, the blooming property as an evaluation of the flammability (flame retardancy), the glass transition temperature and the high temperature reliability of the sheet obtained by curing the photosensitive dry film resist was measured. The results are shown in Table 5. Here, the flammability was evaluated in the same manner as in Examples 7 to 12 and Comparative Example 1. Moreover, the glass transition temperature was measured by the same method as Examples 31-42 and Comparative Example 4. Furthermore, blooming property was evaluated as follows. The results are shown in Table 4.

硬化したシートを170℃で6時間加熱し、シート表面での染み出し状態(シート内部からの浸出状態)を目視観察した。評価の基準は次の通りである。
◎:染み出しが全く見られない。
○:染み出しがほとんど見られない。
△:若干の染み出しが見られる。
×:著しい染み出しが見られる。
The cured sheet was heated at 170 ° C. for 6 hours, and the oozing state (leaching state from the inside of the sheet) on the sheet surface was visually observed. The criteria for evaluation are as follows.
A: No oozing is observed.
○: Almost no seepage is seen.
Δ: Some exudation is observed.
X: Significant exudation is observed.

比較例5(樹脂組成物の調製)
実施例1で製造した環状ホスファゼン化合物に代えて、合成例4で製造した環状ホスファゼン化合物20.0gを使用した点を除いて実施例43〜48と同様に操作し、樹脂組成物を得た。この樹脂組成物を用いて硬化シートを作製し、このシートについて、実施例43〜48と同様の方法・条件にて燃焼性(難燃性)、ガラス転移温度およびブルーミング性を測定した。結果を表4に示す。
Comparative Example 5 (Preparation of resin composition)
A resin composition was obtained in the same manner as in Examples 43 to 48 except that 20.0 g of the cyclic phosphazene compound produced in Synthesis Example 4 was used instead of the cyclic phosphazene compound produced in Example 1. A cured sheet was prepared using this resin composition, and the flammability (flame retardancy), glass transition temperature, and blooming property of this sheet were measured under the same methods and conditions as in Examples 43 to 48. The results are shown in Table 4.

表4から明らかなように、実施例43〜48の硬化シートは、比較例5のものに比べ、難燃性に優れ、ガラス転移温度が高いことから機械的物性が優れており、しかもブルーミング性で評価した環状ホスファゼン化合物のブリードアウトが実質的に見られず、密着性に優れている。   As is clear from Table 4, the cured sheets of Examples 43 to 48 are superior in flame retardancy and have a high glass transition temperature as compared with those in Comparative Example 5, and are excellent in mechanical properties and blooming properties. No bleed-out of the cyclic phosphazene compound evaluated in (1) was observed, and the adhesion was excellent.

実施例49〜54(樹脂組成物の調製)
合成例6で得られた両末端にアクリレート基を有するPPEオリゴマー45.0g、実施例1〜6で得られた環状ホスファゼン化合物15.0g、EO変性ビスフェノールAジアクリレート(新中村化学工業株式会社の商品名“NKエステル A−BPE−10”)5.0g、2,2‘−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)0.5gおよびトルエン60mlを混合・溶解した後、150℃で溶融、脱気して樹脂組成物を得た。この樹脂組成物をシート状に成形し、これを6時間200℃で加熱した。これにより、硬化された樹脂シートを得た。この樹脂シートについて、実施例43〜48と同様にしてブルーミング性、ガラス転移温度および燃焼性(難燃性)を測定した。結果を表5に示す。
Examples 49 to 54 (Preparation of resin composition)
45.0 g of a PPE oligomer having an acrylate group at both ends obtained in Synthesis Example 6, 15.0 g of the cyclic phosphazene compound obtained in Examples 1 to 6, EO-modified bisphenol A diacrylate (of Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) Product name “NK Ester A-BPE-10”) 5.0 g, 2,2′-azobisisobutyronitrile (AIBN) 0.5 g and toluene 60 ml were mixed and dissolved, then melted and degassed at 150 ° C. Thus, a resin composition was obtained. This resin composition was molded into a sheet and heated at 200 ° C. for 6 hours. Thereby, a cured resin sheet was obtained. About this resin sheet, it carried out similarly to Examples 43-48, and measured blooming property, glass transition temperature, and combustibility (flame retardance). The results are shown in Table 5.

比較例6(樹脂組成物の調製)
実施例1〜6で製造した環状ホスファゼン化合物に代えて、合成例4で製造した環状ホスファゼン化合物15.0gを使用した点を除いて実施例29と同様に操作し、樹脂組成物を得た。そして、この樹脂組成物を実施例29と同様の方法・条件にて成形、硬化し、硬化された樹脂シートを得た。この樹脂シートについて、実施例49〜54と同様にしてブルーミング性、ガラス転移温度および燃焼性(難燃性)を測定した。結果を表5に示す。
Comparative Example 6 (Preparation of resin composition)
A resin composition was obtained in the same manner as in Example 29 except that 15.0 g of the cyclic phosphazene compound produced in Synthesis Example 4 was used instead of the cyclic phosphazene compound produced in Examples 1-6. And this resin composition was shape | molded and hardened by the method and conditions similar to Example 29, and the cured resin sheet was obtained. About this resin sheet, it carried out similarly to Examples 49-54, and measured blooming property, glass transition temperature, and combustibility (flame retardance). The results are shown in Table 5.

表5から明らかなように、実施例49〜54の硬化シートは、比較例6のものに比べ、難燃性に優れ、ガラス転移温度が高いことから機械的物性が優れており、しかもブルーミング性で評価した環状ホスファゼン化合物のブリードアウトが実質的に見られず、密着性に優れている。
As is clear from Table 5, the cured sheets of Examples 49 to 54 are superior in flame retardancy and have a high glass transition temperature as compared with those in Comparative Example 6, and are excellent in mechanical properties and blooming properties. No bleed-out of the cyclic phosphazene compound evaluated in (1) was observed, and the adhesion was excellent.

Claims (9)

下記の式(1)で表される反応性基含有環状ホスファゼン化合物。
(式(1)中、nは3〜8の整数を示し、Aは下記のA1基、A2基およびA3基からなる群から選ばれた基を示しかつ少なくとも一つがA3基である。
A1基:炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数が1〜8のアルコキシ基。
A2基:炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数6〜20のアリールオキシ基。
A3基:下記の式(2)で示されるアクリロイルオキシ基置換フェニルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
式(2)中、E〜Eは、それぞれ独立して、少なくとも一つはアクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基であり、かつ、少なくとも一つは炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基であり、残りは水素原子を示す。)
A reactive group-containing cyclic phosphazene compound represented by the following formula (1).
(In the formula (1), n represents an integer of 3 to 8, A represents a group selected from the group consisting of the following A1, A2, and A3 groups, and at least one is an A3 group.
A1 group: an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, which may be substituted with at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group.
A2 group: an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms in which at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.
A3 group: acryloyloxy group-substituted phenyl group and methacrylonitrile group selected from the group consisting of acryloyloxy group-substituted phenyl group represented by the following formula (2).
In formula (2), E 1 to E 5 are each independently at least one of an acryloyloxy group or a methacryloyloxy group, and at least one of them is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and It is at least one group selected from aryl groups, and the remainder represents a hydrogen atom. )
式(1)において、A3基が2−メチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3−メチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3,5−ジメチル−4−アクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、2−メチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基、3−メチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基および3,5−ジメチル−4−メタクリロイルオキシ−フェニルオキシ基からなる群から選ばれる少なくとも一つである、請求項1に記載の反応性基含有環状ホスファゼン化合物。   In the formula (1), the A3 group is a 2-methyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group, a 3-methyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group, a 3,5-dimethyl-4-acryloyloxy-phenyloxy group, At least one selected from the group consisting of 2-methyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group, 3-methyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group and 3,5-dimethyl-4-methacryloyloxy-phenyloxy group The reactive group-containing cyclic phosphazene compound according to claim 1. 式(1)において、2n個のAのうちの1〜(2n−2)個がA3基である、請求項1または2に記載の反応性基含有環状ホスファゼン化合物。   The reactive group-containing cyclic phosphazene compound according to claim 1 or 2, wherein 1 to (2n-2) of 2n A's are A3 groups in formula (1). 式(1)のnが3若しくは4である、請求項1から3のいずれかに記載の反応性基含有環状ホスファゼン化合物。   The reactive group containing cyclic phosphazene compound in any one of Claim 1 to 3 whose n of Formula (1) is 3 or 4. 式(1)のnが異なる二種以上の反応性基含有環状ホスファゼン化合物を含む、請求項1から4のいずれかに記載の反応性基含有環状ホスファゼン化合物。 N comprises different two or more kinds of the reactive group-containing cyclic phosphazene compound, a reactive group-containing cyclic phosphazene compound according to any one of claims 1 to 4 of formula (1). 下記の式(3)で表される環状ホスホニトリルジハライドの全ハロゲン原子を、少なくとも一つが下記のG3基により置換されるよう下記のG1基、G2基およびG3基からなる群から選ばれた基により置換し、アシル基含有環状ホスホニトリル置換体を製造する工程1と、
(式(3)中、nは3〜8の整数を示し、Xはハロゲン原子を示す。
G1基:炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数が1〜8のアルコキシ基。
G2基:炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数6〜20のアリールオキシ基。
G3基:下記の式(4)で示されるアシル基置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
式(4)中、L〜Lの内、少なくとも一つはアシル基であり、かつ、少なくとも一つは炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基であり、残りは水素原子を示す。)
前記アシル基含有環状ホスホニトリル置換体を酸化しアシルオキシ基含有環状ホスホニトリル置換体を製造する工程2と、
前記アシルオキシ基含有環状ホスホニトリル置換体を脱アシル化してヒドロキシ基含有環状ホスホニトリル置換体を製造する工程3と、
前記ヒドロキシ基含有環状ホスホニトリル置換体とアクリル酸、メタクリル酸またはそれらの誘導体とを反応させる工程4と、
を含む請求項1に記載の反応性基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法。
Selected from the group consisting of the following G1, G2, and G3 groups such that at least one of the halogen atoms of the cyclic phosphonitrile dihalide represented by the following formula (3) is substituted by the following G3 group: Step 1 for producing an acyl group-containing cyclic phosphonitrile substitution product by substitution with a group,
(In formula (3), n represents an integer of 3 to 8, and X represents a halogen atom.
G1 group: an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms in which at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.
G2 group: an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms in which at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.
G3 group: a group selected from the group consisting of an acyl-substituted phenyloxy group represented by the following formula (4).
In formula (4), at least one of L 1 to L 5 is an acyl group, and at least one is at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group. And the remainder represents a hydrogen atom. )
Step 2 for producing the acyloxy group-containing cyclic phosphonitrile substitute by oxidizing the acyl group-containing cyclic phosphonitrile substitute;
Step 3 for producing a hydroxy group-containing cyclic phosphonitrile substitute by deacylating the acyloxy group-containing cyclic phosphonitrile substitute;
The hydroxy group-containing cyclic phosphonitrile substituents and acrylic acid, a step 4 of reacting the methacrylic acid or a derivative thereof,
The manufacturing method of the reactive group containing cyclic phosphazene compound of Claim 1 containing this.
樹脂成分と、請求項1から5のいずれかに記載の反応性基含有環状ホスファゼン化合物とを含む樹脂組成物。   A resin composition comprising a resin component and the reactive group-containing cyclic phosphazene compound according to any one of claims 1 to 5. 前記樹脂成分が、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ビスマレイミド樹脂、シアン酸エステル樹脂、ビスマレイミド−シアン酸エステル樹脂および変性ポリフェニレンエーテル樹脂からなる群から選ばれたものである、請求項7に記載の樹脂組成物。   The resin according to claim 7, wherein the resin component is selected from the group consisting of an epoxy resin, a polyimide resin, a bismaleimide resin, a cyanate ester resin, a bismaleimide-cyanate ester resin, and a modified polyphenylene ether resin. Composition. 請求項7または8に記載の樹脂組成物からなる樹脂成形体。   The resin molding which consists of a resin composition of Claim 7 or 8.
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