JP5812467B2 - Oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with unsaturated carbonyl group and process for producing the same - Google Patents

Oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with unsaturated carbonyl group and process for producing the same Download PDF

Info

Publication number
JP5812467B2
JP5812467B2 JP2011102548A JP2011102548A JP5812467B2 JP 5812467 B2 JP5812467 B2 JP 5812467B2 JP 2011102548 A JP2011102548 A JP 2011102548A JP 2011102548 A JP2011102548 A JP 2011102548A JP 5812467 B2 JP5812467 B2 JP 5812467B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
oligo
substituted
phenyleneoxy
resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2011102548A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2012232926A (en
Inventor
成真 守屋
成真 守屋
昌巳 香川
昌巳 香川
俊毅 伏見
俊毅 伏見
圭一郎 内海
圭一郎 内海
憲明 池田
憲明 池田
孝太 浅沼
孝太 浅沼
多田 祐二
祐二 多田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fushimi Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Fushimi Pharmaceutical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fushimi Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Fushimi Pharmaceutical Co Ltd
Priority to JP2011102548A priority Critical patent/JP5812467B2/en
Publication of JP2012232926A publication Critical patent/JP2012232926A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5812467B2 publication Critical patent/JP5812467B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

本発明は、環状ホスファゼン化合物およびその製造方法、特に、不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a cyclic phosphazene compound and a method for producing the same, and more particularly to an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group and a method for producing the same.

産業用および民生用の機器並びに電気製品などの分野において、合成樹脂は、その加工性、耐薬品製、耐候性、電気的特性および機械的強度等の点で他の材料に比べて優位性を有するため、多用されており、近年、その使用量が増加している。しかし、合成樹脂は、燃焼しやすい性質を有するため、難燃剤の付与が求められており、近年その要求性能が次第に高まっている。このため、LSI等の電子部品の封止剤や基板等に使用されている樹脂組成物、例えばエポキシ樹脂組成物は、難燃化するために、ハロゲン含有化合物や、ハロゲン含有化合物と酸化アンチモンなどのアンチモン化合物との混合物が一般的な難燃剤として添加されている。ところが、このような難燃剤を配合した樹脂組成物は、燃焼時や成形時等において。環境汚染の恐れがあるハロゲン系ガスを発生する可能性がある。また、ハロゲン系ガスは、電子部品の電気的特性や機械的特性を阻害する可能性があるため、最近では、合成樹脂用の難燃剤として、燃焼時や成型時等においてハロゲン系ガスが発生しにくい非ハロゲン系のもの、例えば、水酸化アルミニウムや水酸化マグネシウムなどの金属水和系難燃剤やリン酸エステル系、縮合リン酸エステル系、リン酸アミド系、ポリリン酸アンモニウム系およびホスファゼン系などのリン系難燃剤が多用されるようになっている。   In the fields of industrial and consumer equipment and electrical products, synthetic resins have advantages over other materials in terms of processability, chemical resistance, weather resistance, electrical properties and mechanical strength. Therefore, the amount used has increased in recent years. However, since synthetic resins have the property of being easily combusted, application of a flame retardant is required, and in recent years, the required performance has gradually increased. For this reason, resin compositions used for encapsulants and substrates for electronic components such as LSIs, such as epoxy resin compositions, are flame retardant and contain halogen-containing compounds, halogen-containing compounds and antimony oxide, etc. A mixture with an antimony compound is added as a general flame retardant. However, a resin composition containing such a flame retardant is used during combustion or molding. May generate halogen-based gas that may cause environmental pollution. In addition, since halogen-based gas may interfere with the electrical and mechanical properties of electronic components, recently, halogen-based gas is generated as a flame retardant for synthetic resins during combustion and molding. Difficult non-halogen materials such as metal hydrate flame retardants such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide, phosphate esters, condensed phosphate esters, phosphate amides, ammonium polyphosphates and phosphazenes Phosphorus flame retardants are frequently used.

このうち、金属水和物系難燃剤は、脱水熱分解の吸熱反応とそれに伴う水の放出が合成樹脂の熱分解や燃焼開始温度と重複した温度領域で起こることで難燃化効果を発揮するが、その効果を高めるためには樹脂組成物に対して多量に配合する必要がある。このため、この種の難燃剤を含む樹脂組成物の成形品は、機械的強度が損なわれるという欠点がある。一方、リン系難燃剤のうち、リン酸エステル系および縮合リン酸エステル系のものは、可塑効果を有するため、難燃性を高めるために樹脂組成物に対して多量に添加すると、樹脂成形品の機械的強度が低下するなどの欠点が生じる。また、リン酸エステル系、リン酸アミド系およびポリリン酸アンモニウム系およびホスフィン酸アルミニウム系のものは、容易に加水分解することから、機械的および電気的な長期信頼性が要求される樹脂成形品の製造用材料においては実質的に使用が困難である。これらに対し、ホスファゼン系の難燃剤は、他のリン系難燃剤に比べて可塑効果および加水分解性が小さく、樹脂組成物に対する添加量を大きくすることができるため、特許文献1〜5に記載のように、合成樹脂用の有効な難燃剤として多用されつつある。しかし、ホスファゼン系の難燃剤は、樹脂組成物に対する添加量を増やすと、高温下における樹脂成形品の信頼性が低下する可能性がある。具体的には、熱可塑性樹脂系の樹脂組成物の場合は、高温下においてその樹脂成形体からホスファゼン系の難燃剤がブリードアウト(溶出)し易く、また、熱硬化性樹脂系の樹脂組成物の場合は、高温下においてその樹脂成形品にフクレ等の変形が発生し、当該樹脂成形品が積層基板等の電気・電子分野において用いられる場合は変形によるショートを引き起こす可能性がある。   Among these, metal hydrate flame retardants exhibit a flame retardant effect because the endothermic reaction of dehydration pyrolysis and the accompanying water release occur in a temperature range that overlaps the thermal decomposition and combustion start temperature of the synthetic resin. However, in order to enhance the effect, it is necessary to add a large amount to the resin composition. For this reason, the molded article of the resin composition containing this type of flame retardant has a drawback that the mechanical strength is impaired. On the other hand, among phosphoric flame retardants, phosphoric acid ester and condensed phosphoric acid ester types have a plastic effect, so if they are added in a large amount to the resin composition in order to increase flame retardancy, resin molded products There are disadvantages such as a decrease in mechanical strength. In addition, phosphate esters, phosphate amides, ammonium polyphosphates, and aluminum phosphinates are easily hydrolyzed, so resin molded products that require mechanical and electrical long-term reliability. It is practically difficult to use in manufacturing materials. In contrast, phosphazene-based flame retardants have a smaller plastic effect and hydrolyzability than other phosphorus-based flame retardants, and can increase the amount added to the resin composition. Thus, it is being widely used as an effective flame retardant for synthetic resins. However, when the amount of the phosphazene-based flame retardant added to the resin composition is increased, the reliability of the resin molded product at a high temperature may be lowered. Specifically, in the case of a thermoplastic resin-based resin composition, the phosphazene-based flame retardant is likely to bleed out (elution) from the resin molded body at a high temperature, and the thermosetting resin-based resin composition. In this case, deformation such as blistering occurs in the resin molded product at a high temperature, and when the resin molded product is used in the electric / electronic field such as a laminated substrate, a short circuit due to deformation may occur.

そこで、ホスファゼン系の難燃剤は、高温下での樹脂成形品の信頼性(高温信頼性)を高めるための改良が検討されており、その例として、特許文献6〜8には、アクリロイルオキシ基若しくはメタクリロイルオキシ基を有するホスファゼン系化合物およびそれを用いた重合体が開示されている。この種のホスファゼン系難燃剤は、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基が重合性を有するため、それ自体を単独で熱硬化樹脂として使用することができ、また、樹脂成形用の単量体成分の一部として用いることもできる。そして、このホスファゼン系化合物の重合体およびこのホスファゼン系化合物を単量体の一部として得た重合体は、その成形体の高温信頼性が良好であり、しかも、ホスファゼン化合物による難燃性を有するため、電気、電子部品等の製品の樹脂材料としての利用が期待されている。しかし、この種の重合物からなる樹脂成形体は本質的効果として求められる難燃性の点で不十分であり、また、機械的特性(特に高いガラス転移点)においても不十分である。   Therefore, phosphazene flame retardants have been studied for improving the reliability (high temperature reliability) of resin molded products at high temperatures. As an example, Patent Documents 6 to 8 include acryloyloxy group. Alternatively, a phosphazene compound having a methacryloyloxy group and a polymer using the same are disclosed. This type of phosphazene-based flame retardant can be used alone as a thermosetting resin because the acryloyloxy group or methacryloyloxy group has polymerizability, and is also a monomer component for resin molding. It can also be used as a part. The polymer of the phosphazene compound and the polymer obtained by using the phosphazene compound as a part of the monomer have good high temperature reliability of the molded product, and have flame retardancy due to the phosphazene compound. Therefore, it is expected to be used as a resin material for products such as electric and electronic parts. However, a resin molded body made of this type of polymer is insufficient in terms of flame retardancy required as an essential effect, and is also insufficient in mechanical properties (particularly a high glass transition point).

一方、近年の情報通信分野で用いられる電子機器においては、信号の大容量化や高速化が進展していることから、高周波特性に優れ、配線数増加による高多層化に対応できるプリント配線板が要求されている。このようなプリント配線板においては、MHz帯からGHz帯という高周波領域における信頼性を維持するために、良好な誘電特性、具体的には誘電率(ε)および誘電正接(tanδ)が低いことが必要になる。誘電特性に優れたプリント配線板として、ポリフェニレンエーテル(PPE)の末端を(メタ)アクリレートで変性し、その樹脂組成物の硬化物を絶縁層として用いたもの(特許文献9〜11)が知られている。このプリント配線板は、通常の(メタ)アクリレート樹脂組成物からなる絶縁層を用いたものに比べて、誘電率および誘電正接が低く、誘電特性は改善されているが、難燃性については不十分である。   On the other hand, in electronic devices used in the field of information communication in recent years, since the capacity and speed of signals have been increased, there is a printed wiring board that has excellent high-frequency characteristics and can cope with a higher number of layers by increasing the number of wires. Is required. In such a printed wiring board, in order to maintain reliability in a high frequency region from the MHz band to the GHz band, good dielectric characteristics, specifically, a dielectric constant (ε) and a dielectric loss tangent (tan δ) are low. I need it. Known as printed wiring boards having excellent dielectric properties are those in which the end of polyphenylene ether (PPE) is modified with (meth) acrylate and a cured product of the resin composition is used as an insulating layer (Patent Documents 9 to 11). ing. This printed wiring board has a lower dielectric constant and dielectric loss tangent than those using an insulating layer made of a normal (meth) acrylate resin composition, and has improved dielectric properties, but it has poor flame retardancy. It is enough.

特開2000−103939号公報JP 2000-103939 A 特開2004−83671号公報JP 2004-83671 A 特開2004−210849号公報JP 2004-210849 A 特開2005−248134号公報JP 2005-248134 A 特開2007−45916号公報JP 2007-45916 A 特開2001−335678号公報JP 2001-335678 A 特開平8−193091号公報JP-A-8-193091 特開2008−78209号公報JP 2008-78209 A 特開2003−252833号公報JP 2003-252833 A 特開2003−252983号公報JP 2003-252983 A 特開2004−59645号公報JP 2004-59645 A

本発明の目的は、樹脂成形体の難燃性を効果的に高めることができ、樹脂成形体の電気特性、特に、誘電率(ε)および誘電正接(tanδ)が低く、しかも高温信頼性が高いホスファゼン化合物を実現することにある。   An object of the present invention is to effectively improve the flame retardancy of a resin molded body, and the resin molded body has low electrical properties, in particular, low dielectric constant (ε) and dielectric loss tangent (tan δ), and high temperature reliability. It is to realize a high phosphazene compound.

本発明者らは、上述の課題を解決すべく研究を重ねた結果、反応性基、特に不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基を有する新規なホスファゼン化合物を含む樹脂組成物からなる成形体が、優れた電気特性および高温信頼性を保ちながら、同時に優れた難燃性を示しすことを見出した。   As a result of repeated studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors comprise a resin composition containing a novel phosphazene compound having a reactive group, particularly an oligo (phenyleneoxy) group modified with an unsaturated carbonyl group. It has been found that the molded product exhibits excellent flame retardancy while maintaining excellent electrical characteristics and high temperature reliability.

本発明の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、下記(1)で表されるものである。   The oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group of the present invention is represented by the following (1).

式(1)中、nは1〜6の整数を示し、Aは下記のA1基およびA2基からなる群から選ばれた基を示し、かつ少なくとも一つがA2基である。
A1基:炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数6〜20のアリールオキシ基。
A2基:下記の式(2)で示されるオリゴ(フェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
In formula (1), n represents an integer of 1 to 6, A represents a group selected from the group consisting of the following A1 group and A2 group, and at least one is an A2 group.
Group A1: An aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms, which may be substituted with at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group.
Group A2: a group selected from the group consisting of an oligo (phenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group represented by the following formula (2).

式(2)中、E〜Eはそれぞれ独立の置換基であって、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基、並びに炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されてもよい炭素数6〜20のアリール基から選ばれる基であり、かつ少なくとも一つが下記の式(3)で示されるオリゴ(フェニレンオキシ)基である。 In formula (2), E 1 to E 5 are each an independent substituent, and are a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, alkenyl. At least one group selected from a group and an aryl group is a group selected from an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted, and at least one is an oligo (phenyleneoxy) represented by the following formula (3) It is a group.

式(3)中、qは1〜50の整数(1を除く)を示し、Yはアクリロイルオキシ基またはメタクリロイル基であり、E〜Eは、それぞれ独立の置換基であって、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基およびアルケニル基、並びに炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されてもよい炭素数6〜20のアリール基から選ばれる基である。 In the formula (3), q represents an integer of 1 to 50 (excluding 1) , Y is an acryloyloxy group or a methacryloyl group, E 6 to E 9 are each an independent substituent, and a hydrogen atom , An alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and an alkenyl group, and an aryl group having 6 to 20 carbon atoms in which at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group and an aryl group may be substituted. The group to be selected.

この不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物において好ましいA2基は、不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニレンオキシ基、不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニレンオキシ基、不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(メチルフェニレン)基置換メチルフェニレンオキシ基、不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(ジメチルフェニレン)基置換メチルフェニレンオキシ基、不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換ジメチルフェニレンオキシ基および不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換ジメチルフェニレンオキシ基から選ばれる少なくとも一つである。また、この不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、好ましくは、式(1)のnが1若しくは2の化合物である。   In the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with this unsaturated carbonyl group, preferred A2 group is modified with an oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted phenyleneoxy group or unsaturated carbonyl group modified with an unsaturated carbonyl group. Oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted phenyleneoxy group, oligo (methylphenylene) group-substituted methylphenyleneoxy group modified with unsaturated carbonyl group, oligo (dimethylphenylene) group-substituted methylphenyleneoxy group modified with unsaturated carbonyl group, An oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted dimethylphenyleneoxy group modified with an unsaturated carbonyl group and an oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted dimethylphenyleneoxy group modified with an unsaturated carbonyl group Is one Kutomo. The oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group is preferably a compound in which n in formula (1) is 1 or 2.

本発明の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、好ましくは、式(1)において、(2n+4)個のAのうちの1〜(2n+2)個がA2基である。さらに、本発明の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、例えば、式(1)のnが異なる二種以上のものを含んでいる。   The oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group of the present invention preferably has 1 to (2n + 2) A2 groups out of (2n + 4) A in formula (1). is there. Further, the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group of the present invention includes, for example, two or more compounds having different n in the formula (1).

本発明の製造方法は、本発明に係る不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法に関するものであり、下記の式(4)で表される、オリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物と、アクリル酸、メタクリル酸若しくはそれらの誘導体とを反応させる工程を含んでいる。   The production method of the present invention relates to a method for producing an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group according to the present invention, and represents an oligo (phenylene) represented by the following formula (4): A step of reacting an oxy) group-containing cyclic phosphazene compound with acrylic acid, methacrylic acid or a derivative thereof.

式(4)中、mは1〜6の整数を示し、Gは下記のG1基およびG2基からなる群から選ばれた基を示し、かつ少なくとも一つがG2基である。
G1基:炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数6〜20のアリールオキシ基。
G2基:下記の式(5)で示されるオリゴ(フェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
In the formula (4), m represents an integer of 1 to 6, G represents a group selected from the group consisting of the following G1 group and G2 group, and at least one is a G2 group.
G1 group: an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms in which at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.
G2 group: a group selected from the group consisting of an oligo (phenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group represented by the following formula (5).


式(5)中、E10〜E14はそれぞれ独立の置換基であって、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基、並びに炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されてもよい炭素数6〜20のアリール基から選ばれる基であり、かつ少なくとも一つが下記の式(6)で示されるオリゴ(フェニレンオキシ)基である。 In formula (5), E 10 to E 14 are each an independent substituent, and are a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, alkenyl. At least one group selected from a group and an aryl group is a group selected from an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted, and at least one is an oligo (phenyleneoxy) represented by the following formula (6) It is a group.


式(6)中、tは1〜50の整数(1を除く)を示し、E15〜E18は、それぞれ独立の置換基であって、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基およびアルケニル基、並びに炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されてもよい炭素数6〜20のアリール基から選ばれる基である。 In the formula (6), t represents an integer of 1 to 50 (excluding 1) , and E 15 to E 18 are each an independent substituent, and are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and an alkenyl. And a group selected from an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.

本発明に係る樹脂組成物は、本発明の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物を単独若しくは二種類以上を含んでいる。   The resin composition according to the present invention contains one or more oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compounds modified with the unsaturated carbonyl group of the present invention.

本発明に係る樹脂組成物は、樹脂成分と、本発明の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物とを含んでいる。   The resin composition according to the present invention contains a resin component and an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with the unsaturated carbonyl group of the present invention.

ここで用いられる樹脂成分は、例えば、エポキシ樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリスルホン樹脂、フェノキシ樹脂、ビスマレイミド樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、オキセタン樹脂、シアン酸エステル樹脂およびビスマレイミド−シアン酸エステル樹脂からなる群から選ばれる少なくとも一種である。   The resin component used here is, for example, epoxy resin, polyphenylene ether resin, polyamide resin, polyamideimide resin, polyetherimide resin, polyimide resin, polysulfone resin, phenoxy resin, bismaleimide resin, benzoxazine resin, oxetane resin, cyanide. It is at least one selected from the group consisting of acid ester resins and bismaleimide-cyanate ester resins.

本発明の樹脂成形体は、本発明の樹脂組成物から成るものである。また、本発明の電子部品は、本発明の樹脂成形体を用いたものである。   The resin molded product of the present invention is composed of the resin composition of the present invention. Moreover, the electronic component of the present invention uses the resin molded body of the present invention.

本発明の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、上述のような特定の構造を有するものであるため、樹脂成形体を形成するための樹脂組成物において用いられた場合、その電気特性、特に、低い誘電率および低い誘電正接を達成でき、高温での信頼性を損なわずに樹脂成形体の難燃性を効果的に高めることができる。   Since the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group of the present invention has a specific structure as described above, it is used in a resin composition for forming a resin molding. In this case, the electrical characteristics, in particular, a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent can be achieved, and the flame retardancy of the resin molding can be effectively enhanced without impairing the reliability at high temperatures.

本発明の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法は上述のような工程を含むものであるため、本発明に係る特定の構造を有する不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物を製造することができる。   Since the method for producing an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group of the present invention includes the steps as described above, it is modified with an unsaturated carbonyl group having a specific structure according to the present invention. An oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound can be produced.

本発明の樹脂組成物は、本発明の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物を難燃剤として含むため、実用的な難燃性を示し、電気特性において、特に、低誘電率および低誘電正接を達成でき、しかも高温信頼性に優れた樹脂成形体を得ることができる。   Since the resin composition of the present invention contains the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with the unsaturated carbonyl group of the present invention as a flame retardant, it exhibits practical flame retardancy, A resin molded body that can achieve a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent and is excellent in high temperature reliability can be obtained.

本発明の樹脂成形体は、本発明の樹脂組成物から成るため、実用的な難燃性を示し、電気特性において、低誘電率および低誘電正接を達成でき、しかも高温信頼性に優れている。   Since the resin molded body of the present invention is composed of the resin composition of the present invention, it exhibits practical flame retardancy, can achieve low dielectric constant and low dielectric loss tangent in electrical characteristics, and is excellent in high temperature reliability. .

実施例1におけるゲルパーミエーションクロマトグラフィーの分析結果を示す図。The figure which shows the analysis result of the gel permeation chromatography in Example 1. FIG.

不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物
本発明の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、下記の式(1)で表されるものである。
Oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compounds modified with unsaturated carbonyl groups
The oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group of the present invention is represented by the following formula (1).

式(1)において、nは、1から6の整数を示している。但し、本発明の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、式(1)のnが小さい化合物の方が後述する樹脂組成物に用いられた場合において樹脂成分との相溶性が高い。このため式(1)のnは、1から4の整数が好ましく、1若しくは2が特に好ましい。すなわち、この不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物として特に好ましいものは、nが1のシクロトリホスファゼン(3量体)を有する不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物およびnが2のシクロテトラホスファゼン(4量体)を有する不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物である。また、不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、nが異なる二種以上のものの混合物であってもよい。   In the formula (1), n represents an integer of 1 to 6. However, the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group of the present invention is a resin component when a compound having a smaller n in formula (1) is used in the resin composition described later. High compatibility. For this reason, n in the formula (1) is preferably an integer of 1 to 4, particularly preferably 1 or 2. That is, a particularly preferable oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group is an oligo (phenylene) modified with an unsaturated carbonyl group having cyclotriphosphazene (trimer) in which n is 1. An oxy) group-containing cyclic phosphazene compound and an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group having a cyclotetraphosphazene (tetramer) in which n is 2. The oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group may be a mixture of two or more different n.

式(1)において、Aは、下記のA1基およびA2基からなる群から選ばれた基を示している。但し、Aのうちの少なくとも一つはA2基である。   In the formula (1), A represents a group selected from the group consisting of the following A1 group and A2 group. However, at least one of A is A2 group.

[A1基]
炭素数が6〜20のアリールオキシ基。このアリールオキシ基は、炭素数が1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい。
[A1 group]
An aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms; In the aryloxy group, at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.

このようなアリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、エチルメチルフェノキシ基、ジエチルフェノキシ基、n−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、イソプロピルメチルフェノキシ基、イソプロピルエチルフェノキシ基、ジイソプロピルフェノキシ基、n−ブチルフェノキシ基、sec−ブチルフェノキシ基、tert−ブチルフェノキシ基、n−ペンチルフェノキシ基、n−ヘキシルフェノキシ基、エテニルフェノキシ基、1−プロペニルフェノキシ基、2−プロペニルフェノキシ基、イソプロペニルフェノキシ基、1−ブテニルフェノキシ基、sec−ブテニルフェノキシ基、1−ペンテニルフェノキシ基、1−ヘキセニルフェノキシ基、フェニルフェノキシ基、ナフチルオキシ基、アントリルオキシ基およびフェナントリルオキシ基等を挙げることができる。このうち、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基、ジエチルフェノキシ基、2−プロペニルフェノキシ基、フェニルフェノキシ基およびナフチルオキシ基が好ましく、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基およびナフチルオキシ基が特に好ましい。   Examples of such aryloxy groups include phenoxy group, methylphenoxy group, dimethylphenoxy group, ethylphenoxy group, ethylmethylphenoxy group, diethylphenoxy group, n-propylphenoxy group, isopropylphenoxy group, isopropylmethylphenoxy group, Isopropylethylphenoxy group, diisopropylphenoxy group, n-butylphenoxy group, sec-butylphenoxy group, tert-butylphenoxy group, n-pentylphenoxy group, n-hexylphenoxy group, ethenylphenoxy group, 1-propenylphenoxy group, 2-propenylphenoxy group, isopropenylphenoxy group, 1-butenylphenoxy group, sec-butenylphenoxy group, 1-pentenylphenoxy group, 1-hexenylphenoxy group, Nirufenokishi group, naphthyloxy group, and an anthryl group and phenanthryloxy groups and the like. Of these, phenoxy group, methylphenoxy group, dimethylphenoxy group, diethylphenoxy group, 2-propenylphenoxy group, phenylphenoxy group and naphthyloxy group are preferable, and phenoxy group, methylphenoxy group, dimethylphenoxy group and naphthyloxy group are particularly preferable. preferable.

[A2基]
A2基:下記の式(2)で示されるオリゴ(フェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
[Group A2]
Group A2: a group selected from the group consisting of an oligo (phenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group represented by the following formula (2).

式(2)中、E〜Eはそれぞれ独立の置換基であって、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基、並びに炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されてもよい炭素数6〜20のアリール基から選ばれる基であり、かつ少なくとも一つが下記の式(3)で示されるオリゴ(フェニレンオキシ)基である。 In formula (2), E 1 to E 5 are each an independent substituent, and are a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, alkenyl. At least one group selected from a group and an aryl group is a group selected from an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted, and at least one is an oligo (phenyleneoxy) represented by the following formula (3) It is a group.

式(3)中、qは1〜50の整数を示し、Yはアクリルロイルオキシおよびメタクリロイルオキシ基から選ばれる不飽和カルボニルオキシ基であり、E〜Eは、それぞれ独立の置換基であって、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基およびアルケニル基、並びに炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されてもよい炭素数6〜20のアリール基から選ばれる基である。 In formula (3), q represents an integer of 1 to 50, Y represents an unsaturated carbonyloxy group selected from acryloyloxy and methacryloyloxy groups, and E 6 to E 9 each represents an independent substituent. And at least one group selected from a hydrogen atom, an alkyl group and an alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms, and an alkyl group, an alkenyl group and an aryl group having 1 to 6 carbon atoms may be substituted. A group selected from aryl groups of

式(3)で示される不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基のフェニレンオキシ基の繰り返し数qは、1から50であるが、使用される樹脂成分や要求される難燃性の程度によって、適宜選択することができる。例えば、使用される樹脂成分が燃焼しやすい場合、一緒に使用する不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基置換環状ホスファゼン化合物のフェニレンオキシ基の繰り返し数が小さいもの(qが小さいもの)を選択してリン含有率を高めることができ、一方、使用される樹脂成分が燃焼しにくい場合、フェニレンオキシ基の繰り返し数が大きいもの(qが大きいもの)を選択してリン含有率を下げることができ、樹脂組成物の難燃性を適宜調整することができる。   The repeating number q of the phenyleneoxy group of the oligo (phenyleneoxy) group modified with the unsaturated carbonyl group represented by the formula (3) is 1 to 50, but the resin component used and the required flame retardancy are It can be appropriately selected depending on the degree. For example, when the resin component used is easy to burn, the oligo (phenyleneoxy) group-substituted cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group used together has a small number of repeating phenyleneoxy groups (small q) Can be selected to increase the phosphorus content, while if the resin component used is difficult to burn, select the one having a large number of repeating phenyleneoxy groups (the one with a large q) to lower the phosphorus content. The flame retardancy of the resin composition can be adjusted as appropriate.

A2基の具体例として、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2−メチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−4−メチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−5−メチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2−メチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2−アリルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−4−アリルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−5−アリルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2−アリルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3−アリルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−4−フェニルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−5−フェニルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3−フェニルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,4−ジメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,4,5−トリメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2−メチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−4−メチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−5−メチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2−メチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2−アリルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−4−アリルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−5−アリルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2−アリルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3−アリルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−4−フェニルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−5−フェニルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3−フェニルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,4−ジメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,4,5−トリメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2−メチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−4−メチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−5−メチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2−メチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2−アリルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−4−アリルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−5−アリルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2−アリルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3−アリルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−4−フェニルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−5−フェニルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3−フェニルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,4−ジメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,4,5−トリメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2−メチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−4−メチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−5−メチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2−メチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2−アリルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−4−アリルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−5−アリルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2−アリルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3−アリルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−4−フェニルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−5−フェニルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3−フェニルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,4−ジメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基およびメタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,4,5−トリメチルフェニルオキシ基からなる群から選ばれる少なくとも一つのものである。   Specific examples of A2 group include acryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (methylphenylene) Oxy) group substituted-2-methylphenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group substituted-4-methylphenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group substituted-5-methyl Phenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group substitution-2-methylphenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group substitution-3-methylphenyloxy group, acryloyloxy-3 − Rigo (methylphenyleneoxy) group substitution-2-allylphenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group substitution-4-allylphenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group substitution -5-allylphenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2-allylphenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-3-allylphenyloxy group, Acryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-4-phenylphenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-5-phenylphenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (methylphenol) Renoxy) group substituted-3-phenylphenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group substituted-2,4-dimethylphenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group substituted-2 , 5-dimethylphenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,3-dimethylphenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,5-dimethyl Phenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-3,5-dimethylphenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,4,5-trimethylphenyloxy Group, acryloyloxy-4 -Oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,3,5-trimethylphenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group Substituted phenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substituted-2-methylphenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substituted-4-methylphenyloxy group, acryloyloxy- 3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-5-methylphenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2-methylphenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenol) Renoxy) group substituted-3-methylphenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substituted-2-allylphenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substituted-4-allyl Phenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-5-allylphenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2-allylphenyloxy group, acryloyloxy-4 -Oligo (dimethylphenyleneoxy) group substitution-3-allylphenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substitution-4-phenylphenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (dimethylphenylene) Xyl) group-substituted-5-phenylphenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-3-phenylphenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,4 -Dimethylphenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,5-dimethylphenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,3-dimethylphenyloxy Group, acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,5-dimethylphenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-3,5-dimethylphenyloxy group, acryloyloxy -3-O Rigo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,4,5-trimethylphenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,3,5-trimethylphenyloxy group, methacryloyloxy-3- Oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group, methacryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2-methylphenyloxy group, Methacryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-4-methylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-5-methylphenyloxy group, methacryloyloxy-4-oligo Tylphenyleneoxy) group substituted-2-methylphenyloxy group, methacryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group substituted-3-methylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group substituted-2 -Allylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group substitution-4-allylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group substitution-5-allylphenyloxy group, methacryloyloxy -4-Oligo (methylphenyleneoxy) group substituted-2-allylphenyloxy group, methacryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group substituted-3-allylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (methylphenol) Nyleneoxy) group substituted-4-phenylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group substituted-5-phenylphenyloxy group, methacryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group substituted-3-phenyl Phenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,4-dimethylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,5-dimethylphenyloxy group, Methacryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,3-dimethylphenyloxy group, methacryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,5-dimethylphenyloxy group, methacryloyloxy- 4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-3,5-dimethylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,4,5-trimethylphenyloxy group, methacryloyloxy-4- Oligo (methylphenyleneoxy) group substitution-2,3,5-trimethylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substitution phenyloxy group, methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substitution Phenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2-methylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-4-methylphenyloxy group, methacryloylio Cy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-5-methylphenyloxy group, methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2-methylphenyloxy group, methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenylene) Oxy) group substituted-3-methylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substituted-2-allylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substituted-4-allyl Phenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-5-allylphenyloxy group, methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2-allylphenyloxy group, methacrylo Luoxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-3-allylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-4-phenylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (dimethylphenylene) Oxy) group substituted-5-phenylphenyloxy group, methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substituted-3-phenylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substituted-2,4 -Dimethylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,5-dimethylphenyloxy group, methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,3-dimethyl Phenyloxy group, methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,5-dimethylphenyloxy group, methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-3,5-dimethylphenyloxy group, and It is at least one selected from the group consisting of a methacryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,4,5-trimethylphenyloxy group.

上述のA2基として、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−4−メチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−5−メチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,4−ジメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,4,5−トリメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−4−メチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−5−メチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,4−ジメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,4,5−トリメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−4−メチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−5−メチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,4−ジメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,4,5−トリメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−4−メチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−5−メチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,4−ジメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,4,5−トリメチルフェニルオキシ基およびメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基が好ましく、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−4−メチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−5−メチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,4−ジメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,4,5−トリメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−4−メチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−5−メチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,4−ジメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,4,5−トリメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−4−メチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−5−メチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,4−ジメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,4,5−トリメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−4−メチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−5−メチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,4−ジメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,4,5−トリメチルフェニルオキシ基およびメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基が特に好ましい。   As the A2 group, acryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) ) Group substitution-4-methylphenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group substitution-5-methylphenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group substitution-3-methylphenyl Oxy group, acryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,4-dimethylphenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,5-dimethylphenyloxy group, acryloyl Oh Si-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,3-dimethylphenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-3,5-dimethylphenyloxy group, acryloyloxy-3- Oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,4,5-trimethylphenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,3,5-trimethylphenyloxy group, acryloyloxy-3- Oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-4-methylphenyloxy group, Acryloyloxy 3-Oligo (dimethylphenyleneoxy) group substitution-5-methylphenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substitution-3-methylphenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) Substitution-2,4-dimethylphenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substitution-2,5-dimethylphenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substitution-2 , 3-dimethylphenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-3,5-dimethylphenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted 2,4,5 -Trimethylphenylo Xyl group, acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,3,5-trimethylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group, methacryloyloxy-4- Oligo (methylphenyleneoxy) group substituted phenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group substituted-4-methylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group substituted-5-methyl Phenyloxy group, methacryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-3-methylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,4-dimethylphenyloxy group, methacrylate Royloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,5-dimethylphenyloxy group, methacryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,3-dimethylphenyloxy group, methacryloyloxy-4- Oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-3,5-dimethylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,4,5-trimethylphenyloxy group, methacryloyloxy-4-oligo Methylphenyleneoxy) group-substituted-2,3,5-trimethylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group, methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted phenylo Si group, methacryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-4-methylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-5-methylphenyloxy group, methacryloyloxy-4- Oligo (dimethylphenyleneoxy) group substituted-3-methylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substituted-2,4-dimethylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) Substituent substitution-2,5-dimethylphenyloxy group, methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substitution-2,3-dimethylphenyloxy group, methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substitution 3,5-dimethylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,4,5-trimethylphenyloxy group and methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2 , 3,5-trimethylphenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group, acryloyloxy-3 -Oligo (methylphenyleneoxy) group substitution-4-methylphenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group substitution-5-methylphenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) Substituted-3-methylphenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,4-dimethylphenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,5- Dimethylphenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,3-dimethylphenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-3,5-dimethylphenyloxy group , Acryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,4,5-trimethylphenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,3,5-trimethylphenyloxy group , Acryloyloxy-3-oligo Dimethylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-4-methylphenyloxy group, acryloyloxy -3-Oligo (dimethylphenyleneoxy) group substitution-5-methylphenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substitution-3-methylphenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) ) Group-substituted-2,4-dimethylphenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,5-dimethylphenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) Xy) group substitution-2,3-dimethylphenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substitution-3,5-dimethylphenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substitution -2,4,5-trimethylphenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substitution-2,3,5-trimethylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group substitution Phenyloxy group, methacryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-4-methylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (methylphenyle) Oxy) group substitution-5-methylphenyloxy group, methacryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group substitution-3-methylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group substitution-2,4 -Dimethylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,5-dimethylphenyloxy group, methacryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,3-dimethylphenyloxy Group, methacryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-3,5-dimethylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,4,5-trimethylphenyloxy group, Methacryloyloxy 4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,3,5-trimethylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group, methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) Substituted phenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substituted-4-methylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substituted-5-methylphenyloxy group, methacryloyloxy -4-Oligo (dimethylphenyleneoxy) group substitution-3-methylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substitution-2,4-dimethylphenyloxy group, methacryloyloxy-3 -Oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,5-dimethylphenyloxy group, methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,3-dimethylphenyloxy group, methacryloyloxy-4-oligo (dimethyl) Phenyleneoxy) group substituted-3,5-dimethylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substituted-2,4,5-trimethylphenyloxy group and methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) The group-substituted-2,3,5-trimethylphenyloxy group is particularly preferred.

式(1)において、Aは、(2n+4)個含まれており、このうちの少なくとも一つがA2基である。したがって、式(1)で表される本発明の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、次の形態に大別することができる。   In the formula (1), A includes (2n + 4) A, and at least one of them is an A2 group. Therefore, the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with the unsaturated carbonyl group of the present invention represented by the formula (1) can be roughly classified into the following forms.

[形態1]
(2n+4)個の全てのAがA2基のものである。この場合、Aは、全てが同じA2基であってもよいし、二種以上のA2基であってもよい。
[Form 1]
All (2n + 4) A's are A2 groups. In this case, all of A may be the same A2 group or two or more A2 groups.

このような形態の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基置換環状ホスファゼン化合物として好ましいものは、式(1)のnが1である不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロトリホスファゼン化合物、式(1)のnが2である不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロテトラホスファゼン化合物、式(1)のnが3である不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロペンタホスファゼン化合物および式(1)のnが4である不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロヘキサホスファゼン化合物であって、Aの全てが、アクリロイルオキシー3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−4−メチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−5−メチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,4−ジメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,4,5−トリメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−4−メチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−5−メチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,4−ジメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,4,5−トリメチルフェニルオキシ基、アクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−4−メチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−5−メチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,4−ジメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,4,5−トリメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−4−メチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−5−メチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,4−ジメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基、メタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,4,5−トリメチルフェニルオキシ基およびメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基からなるA2基群から選ばれた一種のA2基であるもの、並びに当該A2基群から選ばれた二種以上のA2基であるものである。また、この形態の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、これらの好ましい不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の任意の混合物であってもよい。   Preferred as an oligo (phenyleneoxy) group-substituted cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group in such a form is an oligo (phenyleneoxy) group modified with an unsaturated carbonyl group in which n in formula (1) is 1. Containing cyclotriphosphazene compound, oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclotetraphosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group wherein n in formula (1) is 2, unsaturated carbonyl group wherein n in formula (1) is 3 A modified oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclopentaphosphazene compound and an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclohexaphosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group in which n in formula (1) is 4, wherein all of A are , Acryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted phenyl Oxy group, acryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group substituted phenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group substituted-4-methylphenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (methylphenylene) Oxy) group substituted-5-methylphenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group substituted-3-methylphenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group substituted-2,4 -Dimethylphenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,5-dimethylphenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,3-dimethylphenyloxy Group Royloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-3,5-dimethylphenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,4,5-trimethylphenyloxy group, acryloyloxy- 4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,3,5-trimethylphenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) Substituent substituted phenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substituted-4-methylphenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substituted-5-methylphenyloxy group, acryloylio Xyl-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-3-methylphenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,4-dimethylphenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo ( Dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,5-dimethylphenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,3-dimethylphenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) Substituent substitution-3,5-dimethylphenyloxy group, acryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substitution-2,4,5-trimethylphenyloxy group, acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substitution -2,3,5-G Methylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group, methacryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) Substituent substitution-4-methylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group substitution-5-methylphenyloxy group, methacryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group substitution-3-methylphenyloxy Group, methacryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,4-dimethylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,5-dimethylphenyloxy Group, methacryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,3-dimethylphenyloxy group, methacryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-3,5-dimethylphenyloxy group, methacryloyloxy -3-Oligo (methylphenyleneoxy) group substituted-2,4,5-trimethylphenyloxy group, methacryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group substituted-2,3,5-trimethylphenyloxy group, methacryloyloxy -3-Oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group, methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-4-methylphenol Nyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-5-methylphenyloxy group, methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-3-methylphenyloxy group, methacryloyloxy-3- Oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,4-dimethylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,5-dimethylphenyloxy group, methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenylene) Oxy) group-substituted-2,3-dimethylphenyloxy group, methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-3,5-dimethylphenyloxy group, methacryloyloxy-3-oligo (dimethylphenylene) 1 type selected from the group A2 consisting of xyl) -substituted 2,4,5-trimethylphenyloxy and methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) -substituted-2,3,5-trimethylphenyloxy And those that are two or more A2 groups selected from the A2 group. The oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group in this form is an arbitrary mixture of these preferred oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compounds modified with an unsaturated carbonyl group. May be.

[形態2]
(2n+4)個のAのうちの一部(すなわち、少なくとも一つ)がA2基であり、他のAがA1基からなる群から選ばれた基のものである。この場合、A2基以外の他のAは、全てが同じA1基であってもよいし、二種以上のA1基または二種以上のA1基が混在したものであってもよい。
[Form 2]
A part (that is, at least one) of (2n + 4) A is an A2 group, and the other A is a group selected from the group consisting of an A1 group. In this case, all of A other than the A2 group may be the same A1 group, or two or more kinds of A1 groups or two or more kinds of A1 groups may be mixed.

この形態の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物として好ましいものは、式(1)のnが1である不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロトリホスファゼン化合物、式(1)のnが2である不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロテトラホスファゼン化合物、式(1)のnが3である不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロペンタホスファゼン化合物および式(1)のnが4である不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロヘキサホスファゼン化合物であって、(2n+4)個のAのうちの1個〜(2n+2)個がA2基のもの並びにこれらの任意の混合物が好ましい。この種の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、本発明の他の形態の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物に比べ、高温信頼性および機械的強度(特に高いガラス転移温度)がより優れた樹脂成形体を実現可能な点において有利である。   Preferred as an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group of this form is an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclophosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group where n is 1 in formula (1). Triphosphazene compound, oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclotetraphosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group in which n in formula (1) is 2, modified with an unsaturated carbonyl group in which n in formula (1) is 3 An oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclopentaphosphazene compound and an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclohexaphosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group in which n in formula (1) is 4, comprising (2n + 4) A Of which 1 to (2n + 2) are A2 groups and any mixtures thereof Preferred. The oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group of this kind is higher in temperature than the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group of another embodiment of the present invention. This is advantageous in that a resin molded body having more excellent reliability and mechanical strength (particularly high glass transition temperature) can be realized.

このような好ましい不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有ホスファゼン化合物の具体例としては、式(1)のnが1である不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロトリホスファゼン化合物、式(1)のnが2である不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロテトラホスファゼン化合物、式(1)のnが3である不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロペンタホスファゼン化合物および式(1)のnが4である不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロヘキサホスファゼン化合物であって、Aが、A2基であるアクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基と、A1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−4−メチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−5−メチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,4−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,4,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−4−メチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−5−メチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,4−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,4,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−4−メチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−5−メチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,4−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,4,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−4−メチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−5−メチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,4−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,4,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−4−メチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−5−メチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,4−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,4,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−4−メチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−5−メチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,4−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタク
リロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,4,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−4−メチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−5−メチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,4−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,4,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−4−メチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−5−メチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,4−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,4,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのものおよびこれらの任意の混合物を挙げることができる。
Specific examples of such a preferable phosphazene compound containing an oligo (phenyleneoxy) group modified with an unsaturated carbonyl group include an oligo (phenyleneoxy) group modified with an unsaturated carbonyl group where n in formula (1) is 1. Cyclotriphosphazene compound, oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclotetraphosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group in which n in formula (1) is 2, modified with an unsaturated carbonyl group in which n in formula (1) is 3 Oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclopentaphosphazene compound and oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclohexaphosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group wherein n in formula (1) is 4, wherein A is an A2 group Acryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted phenyl A combination of an oxy group and a phenoxy group which is an A1 group, a combination of an acryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group which is an A2 group and a phenoxy group which is an A1 group, A2 Acryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted 4-methylphenyloxy group which is a group and phenoxy group which is A1 group, acryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) which is A2 group ) Group-substituted-5-methylphenyloxy group in combination with A1 group phenoxy group, A2-group acryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-3-methylphenyloxy group and A1 group In combination with a phenoxy group which is Iroxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted 2,4-dimethylphenyloxy group and A1 group phenoxy group, A2 group acryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group A combination of a substituted-2,5-dimethylphenyloxy group and a phenoxy group which is an A1 group, an acryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group which is an A2 group, and a substituted 2,3-dimethylphenyloxy group Combination of phenoxy group which is A1 group, combination of acryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group substituted-3,5-dimethylphenyloxy group which is A2 group and phenoxy group which is A1 group , A2 group acryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneo Xyl) group-substituted-2,4,5-trimethylphenyloxy group in combination with A1 group phenoxy group, A2 group acryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,3 Combination of 5-trimethylphenyloxy group and A1 group phenoxy group, combination of A2 group acryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group and A1 group phenoxy group A2 group acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group and A1 group phenoxy group combination, A2 group acryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) Group-substituted 4-methylphenyloxy group and A1 group pheno A combination of cis group, A2 group acryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted 5-methylphenyloxy group and A1 group phenoxy group, A2 group acryloyl Oxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substitution-Through combination of 3-methylphenyloxy group and A1 group phenoxy group, A2 group acryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substitution- Combination of 2,4-dimethylphenyloxy group and phenoxy group which is A1 group, acryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group which is A2 group-2,5-dimethylphenyloxy group and A1 group In combination with a phenoxy group which is Iroxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substituted-2,3-dimethylphenyloxy group in combination with A1 group phenoxy group, A2 group acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group Combination of substituted-3,5-dimethylphenyloxy group and phenoxy group which is A1 group, acryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substituted-2,4,5-trimethylphenyloxy which is A2 group A combination of a phenoxy group as an A1 group, an acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,3,5-trimethylphenyloxy group as an A2 group, and a phenoxy group as an A1 group; Acryloyloxy-3-oligo which is A2 group Combination of (methylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group and methylphenoxy group which is A1 group, acryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group which is A2 group and methyl which is A1 group A combination of phenoxy group, A2 group acryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted 4-methylphenyloxy group and A1 group of methylphenoxy group, A2 group Acrylyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted 5-methylphenyloxy group and A1 group methylphenoxy group, A2 group acryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group Substituted-3-methylphenyloxy group and A1 In combination with a methylphenoxy group that is A2, in combination with an acryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted 2,4-dimethylphenyloxy group that is an A2 group and a methylphenoxy group that is an A1 group A2 group acryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,5-dimethylphenyloxy group and A1 group methylphenoxy group in combination, A2 group acryloyloxy-4- Oligo (methylphenyleneoxy) group substituted-2,3-dimethylphenyloxy group and A1 group methylphenoxy group combined, A2 group acryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group substituted-3 , 5-Dimethylphenyloxy group and methyl group which is A1 group A combination of a xy group, a combination of an acryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group substituted-2,4,5-trimethylphenyloxy group as an A2 group and a methylphenoxy group as an A1 group, A2 group acryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group substituted-2,3,5-trimethylphenyloxy group in combination with A1 group methylphenoxy group, A2 group acryloyloxy-3 -Oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group and A1 group methylphenoxy group in combination, A2 group acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group and A1 group In combination with a certain methylphenoxy group, A2 group Acryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted 4-methylphenyloxy group and A1 group methylphenoxy group, A2 group acryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) Group-substituted-5-methylphenyloxy group and A1 group methylphenoxy group, A2 group acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-3-methylphenyloxy group and A1 group In combination with methylphenoxy group which is A2, in combination with acryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substituted-2,4-dimethylphenyloxy group which is A2 group and methylphenoxy group which is A1 group , A2 group is acryloyloxy-3-o A combination of a go (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,5-dimethylphenyloxy group and a methylphenoxy group that is an A1 group, an acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted that is an A2 group , 3-dimethylphenyloxy group and A1 group methylphenoxy group, A2 group acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-3,5-dimethylphenyloxy group and A1 group In combination with a methylphenoxy group which is A2, a combination of acryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substituted-2,4,5-trimethylphenyloxy group which is an A2 group and a methylphenoxy group which is an A1 group Acryloyloxy-4-oligo which is A2 group Dimethylphenyleneoxy) group-substituted 2,3,5-trimethylphenyloxy group and A1 group methylphenoxy group, A2 group methacryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy A combination of a group and a phenoxy group that is an A1 group, a combination of a methacryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group that is an A2 group and a phenoxy group that is an A1 group, A combination of a certain methacryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted 4-methylphenyloxy group and a phenoxy group that is A1 group, a methacryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group that is A2 group Substituted 5-methylphenyloxy group and A A combination of a phenoxy group as one group, a methacryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted 3-methylphenyloxy group as an A2 group and a phenoxy group as an A1 group, A2 Methacryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted 2,4-dimethylphenyloxy group and A1 group phenoxy group, A2 group methacryloyloxy-3-oligo (methyl) Phenyleneoxy) group-substituted 2,5-dimethylphenyloxy group and A1 group phenoxy group, A2 group methacryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,3-dimethyl Combination of phenyloxy group and phenoxy group which is A1 group A combination of a methacryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group substituted-3,5-dimethylphenyloxy group which is an A2 group and a phenoxy group which is an A1 group, a methacryloyloxy-3-oligo which is an A2 group (Methylphenyleneoxy) group-substituted-2,4,5-trimethylphenyloxy group and A1 group phenoxy group, A2 group methacryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2 , 3,5-trimethylphenyloxy group and A1 group phenoxy group, A2 group methacryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group and A1 group phenoxy group Methacryloyloxy- which is a combination of A2 A combination of an oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group and a phenoxy group that is A1, a methacryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted 4-methylphenyloxy group that is an A2 group; A combination with a phenoxy group which is an A1 group, a combination of a methacryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group which is an A2 group with a 5-methylphenyloxy group and a phenoxy group which is an A1 group, A2 Methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted 3-methylphenyloxy group and A1 group phenoxy group, A2 group methacryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) ) Group-substituted-2,4-dimethylthio A combination of a phenyloxy group and a phenoxy group which is an A1 group, a methacryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,5-dimethylphenyloxy group which is an A2 group, and a phenoxy group which is an A1 group Combination, A2 group methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,3-dimethylphenyloxy group and A1 group phenoxy group, A2 group methacryloyloxy- 4-Oligo (dimethylphenyleneoxy) group substitution-3,5-dimethylphenyloxy group and A1 group phenoxy group in combination, A2 group methacryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substitution- 2,4,5-trimethylphenyloxy group and A1 In combination with a phenoxy group, and in combination with a methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,3,5-trimethylphenyloxy group as an A2 group and a phenoxy group as an A1 group , A2 group methacryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group substituted phenyloxy group and A1 group methylphenoxy group, A2 group methacryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) A combination of a group-substituted phenyloxy group and a methylphenoxy group which is an A1 group, a methacryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group which is an A2 group, a methylphenoxy which is a 4-methylphenyloxy group and an A1 group In combination with the group, A2 group Methacryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-5-methylphenyloxy group and A1 group methylphenoxy group, A2 group methacryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) A combination of a group-substituted-3-methylphenyloxy group and a methylphenoxy group that is an A1 group, a methacryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,4-dimethylphenyloxy group that is an A2 group, and A combination with a methylphenoxy group which is an A1 group, a combination of a methacryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group substituted-2,5-dimethylphenyloxy group which is an A2 group and a methylphenoxy group which is an A1 group Methacryloyloxy which is A2 group -4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,3-dimethylphenyloxy group and A1 group methylphenoxy group, A2 group methacryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group Combination of substituted-3,5-dimethylphenyloxy group and methylphenoxy group which is A1 group, methacryloyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group substituted-2,4,5-trimethylphenyl which is A2 group Combination of oxy group and methylphenoxy group which is A1 group, methacryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group substituted-2,3,5-trimethylphenyloxy group which is A2 group and methyl which is A1 group Combination with phenoxy group, methacryloyloxy which is A2 group -3-Oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group and A1 group methylphenoxy group, A2 group methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group and A1 A combination with a methylphenoxy group which is a group, a combination of a methacryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group which is an A2 group with a 4-methylphenyloxy group and a methylphenoxy group which is an A1 group, Methacryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted 5-methylphenyloxy group and A1 group methylphenoxy group, A2 group methacryloyloxy-4-oligo (dimethyl) Phenyleneoxy) group substitution -A combination of a methylphenyloxy group and a methylphenoxy group that is an A1 group, a methacryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group that is an A2 group, a 2,4-dimethylphenyloxy group and an A1 group A combination of a methylphenoxy group, a combination of a methacryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,5-dimethylphenyloxy group which is an A2 group and a methylphenoxy group which is an A1 group, A2 Methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,3-dimethylphenyloxy group as a group and methylphenoxy group as A1 group, methacryloyloxy-4-oligo as A2 group ( Dimethylphenyleneoxy) group-substituted-3,5-di Combination of methylphenyloxy group and methylphenoxy group which is A1 group, methacryloyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group which is A2 group-substituted 2,4,5-trimethylphenyloxy group and A1 group In combination with a certain methylphenoxy group, in combination with a methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,3,5-trimethylphenyloxy group that is an A2 group and a methylphenoxy group that is an A1 group And any mixtures thereof.

このうち、式(1)のnが1である不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロトリホスファゼン化合物、式(1)のnが2である不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロテトラホスファゼン化合物、式(1)のnが3である不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロペンタホスファゼン化合物、式(1)のnが4である不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロヘキサホスファゼン化合物であって、Aが、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基と、A1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのものおよびこれらの任意の混合物がさらに好ましい。   Of these, an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclotriphosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group in which n in formula (1) is 1, and an oligo modified with an unsaturated carbonyl group in which n is 2 in formula (1) (Phenyleneoxy) group-containing cyclotetraphosphazene compound, oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclopentaphosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group where n is 3 in formula (1), n in formula (1) is 4 An oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclohexaphosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group, wherein A is an A2 group acryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group and an A1 group Combination with phenoxy group, A2 group acryloyloxy-4-oligo (methyl Enyleneoxy) group-substituted 3-methylphenyloxy group and A1 group phenoxy group, A2 group acryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,3-dimethylphenyloxy group And a combination of a phenoxy group which is an A1 group, a combination of an acryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group which is an A2 group, a 3,5-dimethylphenyloxy group and a phenoxy group which is an A1 group A2 group acryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,3,5-trimethylphenyloxy group in combination with A1 group phenoxy group, A2 group acryloyloxy- 4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group A combination of a phenoxy group that is an A1 group, a combination of an acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group that is an A2 group and a 3-methylphenyloxy group and a phenoxy group that is an A1 group, A2 Acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substituted-2,3-dimethylphenyloxy group as a group and phenoxy group as A1 group, acryloyloxy-4-oligo as dimethyl group (dimethyl) Phenyleneoxy) group-substituted 3,5-dimethylphenyloxy group and A1 group phenoxy group, A2 group acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,3,5 -Combination of trimethylphenyloxy group and phenoxy group which is A1 group A2 group acryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group and A1 group methylphenoxy group, A2 group acryloyloxy-4-oligo (methyl) Phenyleneoxy) group-substituted 3-methylphenyloxy group and A1 group methylphenoxy group, A2 group acryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,3-dimethylphenyl Combination of oxy group and methylphenoxy group which is A1 group, acryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group substituted with A2 group-3,5-dimethylphenyloxy group and methylphenoxy group which is A1 group In combination with acryloyloxy which is A2 group -4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,3,5-trimethylphenyloxy group and A1 group methylphenoxy group, A2 group acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) ) A combination of a group-substituted phenyloxy group and a methylphenoxy group that is an A1 group, an acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group that is an A2 group, and a methyl that is an A1 group. A combination of phenoxy group, A2 group acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,3-dimethylphenyloxy group and A1 group methylphenoxy group, A2 group Acryloyloxy-4-oligo (dimethylpheny Noxy) group substituted-3,5-dimethylphenyloxy group and A1 group methylphenoxy group, A2 group acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substituted-2,3,5 A combination of a trimethylphenyloxy group and a methylphenoxy group that is an A1 group, a combination of a methacryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group that is an A2 group and a phenoxy group that is an A1 group Methacryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted 3-methylphenyloxy group which is A2 group and phenoxy group which is A1 group, methacryloyloxy-4-oligo which is A2 group ( Methylphenyleneoxy) group-substituted-2,3-dimethylpheny A combination of a ruoxy group and a phenoxy group that is an A1 group, a methacryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-3,5-dimethylphenyloxy group that is an A2 group, and a phenoxy group that is an A1 group Combination, methacryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,3,5-trimethylphenyloxy group which is A2 group and phenoxy group which is A1 group, methacryloyl which is A2 group Combination of oxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group and phenoxy group which is A1 group, methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-3-methylphenyl group which is A2 group Combination of oxy group and phenoxy group which is A1 group , Methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted 2,3-dimethylphenyloxy group as A2 group and phenoxy group as A1 group, methacryloyloxy-4 as A2 group -Oligo (dimethylphenyleneoxy) group substitution-3,5-dimethylphenyloxy group and A1 group phenoxy group, A2 group methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substitution-2 , 3,5-trimethylphenyloxy group and A1 group phenoxy group, A2 group methacryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group and A1 group methylphenoxy group In combination with methacryloyl which is A2 group Oxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group substitution-3-methylphenyloxy group and A1 group methylphenoxy group, A2 group methacryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group substitution A combination of a 2,3-dimethylphenyloxy group and a methylphenoxy group that is A1, a methacryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted 3,5-dimethylphenyloxy group that is an A2 group, and A combination with a methylphenoxy group that is an A1 group, a methacryloyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,3,5-trimethylphenyloxy group that is an A2 group, and a methylphenoxy group that is an A1 group Methacryloyloxy-4 which is A2 group -Oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group and A1 group methylphenoxy group, A2 group methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-3-methylphenyloxy group And a combination of a methylphenoxy group that is an A1 group, a methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted 2,3-dimethylphenyloxy group that is an A2 group, and a methylphenoxy group that is an A1 group Combination, methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-3,5-dimethylphenyloxy group which is A2 group and methylphenoxy group which is A1 group, methacryloyloxy which is A2 group -4-oligo (dimethylphenyle Oxy) group substituted -2,3,5 ones and any mixture thereof in combination with methylphenoxy group a trimethylphenyl group and A1 groups are more preferred.

特に、式(1)のnが1である不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロトリホスファゼン化合物、式(1)のnが2である不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロテトラホスファゼン化合物、式(1)のnが3である不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロペンタホスファゼン化合物、式(1)のnが4である不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロヘキサホスファゼン化合物であって、Aが、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるアクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのものA2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるメタクリロイルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのものおよびこれらの任意の混合物が好ましい。   In particular, an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclotriphosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group in which n in formula (1) is 1, an oligo modified with an unsaturated carbonyl group in which n in formula (1) is 2 ( (Phenyleneoxy) group-containing cyclotetraphosphazene compound, oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclopentaphosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group in which n is 3 in formula (1), n in formula (1) is 4 Oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclohexaphosphazene compound modified with a saturated carbonyl group, wherein A is an A2 group acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group and an A1 group phenoxy In combination with a group, acryloyloxy-4-oligo (dimethyl) which is an A2 group Enyleneoxy) group-substituted 3-methylphenyloxy group and A1 group phenoxy group, A2 group acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,3-dimethylphenyloxy group And a combination of the phenoxy group which is the A1 group, a combination of the acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group which is the A2 group-3,5-dimethylphenyloxy group and the phenoxy group which is the A1 group A2 group acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,3,5-trimethylphenyloxy group and A1 group phenoxy group, A2 group acryloyloxy- 4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted phenylo A combination of a silyl group and a methylphenoxy group which is an A1 group, an acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted 3-methylphenyloxy group which is an A2 group, and a methylphenoxy group which is an A1 group Combination, A2 group acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,3-dimethylphenyloxy group and A1 group methylphenoxy group, A2 group acryloyloxy -4-Oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted 3,5-dimethylphenyloxy group and A1 group methylphenoxy group, A2 group acryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group Substituted-2,3,5-trimethylphenyloxy group and A1 A combination of a methylphenoxy group as a group, a combination of a methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group as an A2 group and a phenoxy group as an A1 group, a methacryloyloxy as an A2 group -4-Oligo (dimethylphenyleneoxy) group substitution -3-A combination of methylphenyloxy group and A1 group phenoxy group, A2 group methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substitution-2 , 3-dimethylphenyloxy group and A1 group phenoxy group, A2 group methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substituted-3,5-dimethylphenyloxy group and A1 group In combination with some phenoxy group, A2 Methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substituted-2,3,5-trimethylphenyloxy group and A1 group phenoxy group, methacryloyloxy-4-oligo group A2 Dimethylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group and A1 group methylphenoxy group, A2 group methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted 3-methylphenyloxy group and A1 group In combination with a methylphenoxy group which is A2, in combination with a methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,3-dimethylphenyloxy group which is an A2 group and a methylphenoxy group which is an A1 group , Methacryloyloxy which is A2 group -4-Oligo (dimethylphenyleneoxy) group substituted-3,5-dimethylphenyloxy group and A1 group methylphenoxy group, A2 group methacryloyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group A combination of a substituted-2,3,5-trimethylphenyloxy group with a methylphenoxy group which is an A1 group, and an arbitrary mixture thereof are preferable.

本発明の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、通常数平均分子量が、1,000〜10,000のものが好ましい。数平均分子量が10,000を超えるとリン含有率が低下してしまい、後述する樹脂成形体に対して十分な難燃性を付与することが困難になる可能性がある。逆に、数平均分子量が1,000未満の場合は、不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物が十分に置換していない可能性があるため、後述する樹脂成分の誘電率および誘電正接が高くなり、良好な電気特性を示さない可能性がある。   The oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group of the present invention preferably has a number average molecular weight of 1,000 to 10,000. If the number average molecular weight exceeds 10,000, the phosphorus content decreases, which may make it difficult to impart sufficient flame retardancy to the resin molded body described later. On the other hand, when the number average molecular weight is less than 1,000, the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group may not be sufficiently substituted. The dielectric constant and dielectric loss tangent may be high, and good electrical characteristics may not be exhibited.

不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法
本発明の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、特定のオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物と、アクリル酸、メタクリル酸若しくはそれらの誘導体とを反応して製造することができる。以下、代表的な製造方法を説明する。
Method for producing oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with unsaturated carbonyl group The oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with unsaturated carbonyl group of the present invention is a specific oligo (phenyleneoxy) group. It can be produced by reacting the containing cyclic phosphazene compound with acrylic acid, methacrylic acid or derivatives thereof. Hereinafter, typical manufacturing methods will be described.

(特定のオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物)
この製造において用いられるオリゴ(フェニレンオキシ基)含有環状ホスファゼン化合物は、例えば、下記の式(4)で表されるものである。
(Specific oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compounds)
The oligo (phenyleneoxy group) -containing cyclic phosphazene compound used in this production is, for example, represented by the following formula (4).

式(4)中、mは1〜6の整数を示す。また、Gは下記のG1基およびG2基からなる群から選ばれた基を示す。但し、(2m+4)個のGのうち少なくとも一つがG2基である。したがって、式(4)で示されるオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、GのすべてがG2基であるものと、GとしてG1基およびG2基の両方を備えたものの二種類がある。   In formula (4), m shows the integer of 1-6. G represents a group selected from the group consisting of the following G1 group and G2 group. However, at least one of (2m + 4) G is a G2 group. Accordingly, there are two types of oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compounds represented by the formula (4): those in which all G are G2 groups, and those in which both G1 groups and G2 groups are provided as G.

G1基:炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数6〜20のアリールオキシ基。
G2基:下記の式(5)で示されるオリゴ(フェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
G1 group: an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms in which at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.
G2 group: a group selected from the group consisting of an oligo (phenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group represented by the following formula (5).


式(5)中、E10〜E14はそれぞれ独立の置換基であって、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基、並びに炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されてもよい炭素数6〜20のアリール基から選ばれる基であり、かつ少なくとも一つが下記の式(6)で示されるオリゴ(フェニレンオキシ)基である。 In formula (5), E 10 to E 14 are each an independent substituent, and are a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, alkenyl. At least one group selected from a group and an aryl group is a group selected from an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted, and at least one is an oligo (phenyleneoxy) represented by the following formula (6) It is a group.

式(6)中、tは1〜50の整数を示し、E15〜E18は、それぞれ独立の置換基であって、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基およびアルケニル基、並びに炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されてもよい炭素数6〜20のアリール基から選ばれる基である。 In the formula (6), t represents an integer of 1 to 50, E 15 to E 18 are each an independent substituent, and are a hydrogen atom, an alkyl group and an alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms, and a carbon number It is a group selected from an aryl group having 6 to 20 carbon atoms in which at least one group selected from 1 to 6 alkyl groups, alkenyl groups and aryl groups may be substituted.

本発明の製造方法において用いられる式(4)で示されるオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、種々の方法により製造することができる。以下、代表的な製造方法を説明する。   The oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound represented by the formula (4) used in the production method of the present invention can be produced by various methods. Hereinafter, typical manufacturing methods will be described.

<製造方法P−1>
この製造方法は、特定のヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物と特定のポリフェニレンエーテルとをラジカル開始剤の存在下での再分配反応して、該当するオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物を製造する方法である。
<Manufacturing method P-1>
In this production method, a specific hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound and a specific polyphenylene ether are redistributed in the presence of a radical initiator to produce a corresponding oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound. It is.

(特定のヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物)
この製造方法で用いられる特定のヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、下記の式(7)で示されるものである。
(Specific hydroxy group-containing cyclic phosphazene compounds)
The specific hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound used in this production method is represented by the following formula (7).

式(7)中、kは1〜6の整数を示す。また、Qは下記のQ1基およびQ2基からなる群から選ばれた基を示す。但し、(2k+4)個のQのうち少なくとも一つがQ2基である。したがって、式(7)で示されるヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、QのすべてがQ2基であるものと、QとしてQ1基およびQ2基の両方を備えたものの2種類がある。   In formula (7), k shows the integer of 1-6. Q represents a group selected from the group consisting of the following Q1 group and Q2 group. However, at least one of (2k + 4) Q is a Q2 group. Therefore, there are two types of hydroxy group-containing cyclic phosphazene compounds represented by formula (7): those in which all Qs are Q2 groups and those having both Q1 groups and Q2 groups as Q.

Q1基:炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数6〜20のアリールオキシ基。   Q1 group: an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms in which at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.

このようなアリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、エチルメチルフェノキシ基、ジエチルフェノキシ基、n−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、イソプロピルメチルフェノキシ基、イソプロピルエチルフェノキシ基、ジイソプロピルフェノキシ基、n−ブチルフェノキシ基、sec−ブチルフェノキシ基、tert−ブチルフェノキシ基、n−ペンチルフェノキシ基、n−ヘキシルフェノキシ基、エテニルフェノキシ基、1−プロペニルフェノキシ基、2−プロペニルフェノキシ基、イソプロペニルフェノキシ基、1−ブテニルフェノキシ基、sec−ブテニルフェノキシ基、1−ペンテニルフェノキシ基、1−ヘキセニルフェノキシ基、フェニルフェノキシ基、ナフチルオキシ基、アントリルオキシ基およびフェナントリルオキシ基等を挙げることができる。このうち、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基、ジエチルフェノキシ基、2−プロペニルフェノキシ基、フェニルフェノキシ基およびナフチルオキシ基が好ましく、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基およびナフチルオキシ基が特に好ましい。   Examples of such aryloxy groups include phenoxy group, methylphenoxy group, dimethylphenoxy group, ethylphenoxy group, ethylmethylphenoxy group, diethylphenoxy group, n-propylphenoxy group, isopropylphenoxy group, isopropylmethylphenoxy group, Isopropylethylphenoxy group, diisopropylphenoxy group, n-butylphenoxy group, sec-butylphenoxy group, tert-butylphenoxy group, n-pentylphenoxy group, n-hexylphenoxy group, ethenylphenoxy group, 1-propenylphenoxy group, 2-propenylphenoxy group, isopropenylphenoxy group, 1-butenylphenoxy group, sec-butenylphenoxy group, 1-pentenylphenoxy group, 1-hexenylphenoxy group, Nirufenokishi group, naphthyloxy group, and an anthryl group and phenanthryloxy groups and the like. Of these, phenoxy group, methylphenoxy group, dimethylphenoxy group, diethylphenoxy group, 2-propenylphenoxy group, phenylphenoxy group and naphthyloxy group are preferable, and phenoxy group, methylphenoxy group, dimethylphenoxy group and naphthyloxy group are particularly preferable. preferable.

Q2基:下記の式(8)で示されるヒドロキシ基置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。   Q2 group: a group selected from the group consisting of a hydroxy-substituted phenyloxy group represented by the following formula (8).

式(8)中、L〜Lはそれぞれ独立の置換基であって、少なくとも一つが水酸基であり、残りが水素原子、または炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる基である。 In formula (8), L 1 to L 5 are each an independent substituent, at least one of which is a hydroxyl group, and the remainder is selected from a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group. Group.

このようなヒドロキシル基置換アリールオキシ基としては、例えば、3−ヒドロキシフェノキシ基、4−ヒドロキシフェノキシ基、2−メチル−3−ヒドロキシフェノキシ基、4−メチル−3−ヒドロキシフェノキシ基、5−メチル−3−ヒドロキシフェノキシ基、2−メチル−4−ヒドロキシフェノキシ基、3−メチル−4−ヒドロキシフェノキシ基、2,4−ジメチル−3−ヒドロキシフェノキシ基、2,5−ジメチル−3−ヒドロキシフェノキシ基、2,3−ジメチル−4−ヒドロキシフェノキシ基、3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェノキシ基、2−エチル−3−ヒドロキシフェノキシ基、4−エチル−3−ヒドロキシフェノキシ基、5−エチル−3−ヒドロキシフェノキシ基、2−エチル−4−ヒドロキシフェノキシ基、3−エチル−4−ヒドロキシフェノキシ基、4−フェニル−3−ヒドロキシフェノキシ基、5−フェニル−3−ヒドロキシフェノキシ基、3−フェニル−4−ヒドロキシフェノキシ基、4−アリル−3−ヒドロキシフェノキシ基、5−アリル−3−ヒドロキシフェノキシ基および3−アリル−4−ヒドロキシフェノキシ基が挙げることができる。このうち、4−ヒドロキシフェノキシ基、2−メチル−4−ヒドロキシフェノキシ基、3−メチル−4−ヒドロキシフェノキシ基、2,3−ジメチル−4−ヒドロキシフェノキシ基、3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェノキシ基、2−エチル−4−ヒドロキシフェノキシ基、3−エチル−4−ヒドロキシフェノキシ基、3−フェニル−4−ヒドロキシフェノキシ基および3−アリル−4−ヒドロキシフェノキシ基が好ましく、4−ヒドロキシフェノキシ基、3−メチル−4−ヒドロキシフェノキシ基および3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェノキシ基が特に好ましい。 Examples of such a hydroxyl group-substituted aryloxy group include 3-hydroxyphenoxy group, 4-hydroxyphenoxy group, 2-methyl-3-hydroxyphenoxy group, 4-methyl-3-hydroxyphenoxy group, 5-methyl- 3-hydroxyphenoxy group, 2-methyl-4-hydroxyphenoxy group, 3-methyl-4-hydroxyphenoxy group, 2,4-dimethyl-3-hydroxyphenoxy group, 2,5-dimethyl-3-hydroxyphenoxy group, 2,3-dimethyl-4-hydroxyphenoxy group, 3,5-dimethyl-4-hydroxyphenoxy group, 2-ethyl-3-hydroxyphenoxy group, 4-ethyl-3-hydroxyphenoxy group, 5-ethyl-3- Hydroxyphenoxy group, 2-ethyl-4-hydroxyphenoxy group, 3- Til-4-hydroxyphenoxy group, 4-phenyl-3-hydroxyphenoxy group, 5-phenyl-3-hydroxyphenoxy group, 3-phenyl-4-hydroxyphenoxy group, 4-allyl-3-hydroxyphenoxy group, 5- An allyl-3-hydroxyphenoxy group and a 3-allyl-4-hydroxyphenoxy group can be mentioned. Among these, 4-hydroxyphenoxy group, 2-methyl-4-hydroxyphenoxy group, 3-methyl-4-hydroxyphenoxy group, 2,3-dimethyl-4-hydroxyphenoxy group, 3,5-dimethyl-4-hydroxy Phenoxy group, 2-ethyl-4-hydroxyphenoxy group, 3-ethyl-4-hydroxyphenoxy group, 3-phenyl-4-hydroxyphenoxy group and 3-allyl-4-hydroxyphenoxy group are preferable, 4-hydroxyphenoxy group 3-methyl-4-hydroxyphenoxy group and 3,5-dimethyl-4-hydroxyphenoxy group are particularly preferred.

このようなヒドロキシ基含有環状ホスファゼンの製造方法は、各種の文献や特許、例えば、非特許文献1および2、並びに特許文献12から14に記載されている。これらの方法に従い、製造することができる。   The production method of such a hydroxy group-containing cyclic phosphazene is described in various documents and patents, for example, Non-Patent Documents 1 and 2 and Patent Documents 12 to 14. It can be manufactured according to these methods.

PHOSPHAZENES,A WORLDWIDE INSIGHT,M.GLERIA,R.DE JAEGER著,2004年刊,NOVA SCIENCE PUBLISHERS INC.社PHOSPHAZENES, A WORLDWIDE INSIGHT, M.C. GLERIA, R.M. DE JAEGER, 2004, NOVA SCIENCE PUBLISHERS INC. Company Alessandro Medici,Giancarlo Fantin,Paola Pedrini,Mario Gleria,and Francesco Minto,Macromolecules,25(10),2569,1992Alessandro Medici, Giancarlo Fantin, Paola Pedrini, Mario Gleria, and Francesco Minto, Macromolecules, 25 (10), 2569, 1992 特開昭58−219190号公報JP 58-219190 A 特開2007−153747号公報JP 2007-153747 A 特開2010−37240号公報JP 2010-37240 A

このようなヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物としては、例えば、式(7)のkが1のヒドロキシ基含有シクロトリホスファゼン化合物、式(7)のkが2のヒドロキシ基含有シクロテトラホスファゼン化合物、式(7)のkが3のヒドロキシ基含有シクロペンタホスファゼン化合物および式(7)のkが4のヒドロキシ基含有シクロヘキサホスファゼン化合物であって、前記、[形態1]に該当する、Qのすべてが3−ヒドロキシフェノキシ基のもの、Qのすべてが4−ヒドロキシフェノキシ基のもの、Qのすべてが3−メチル−4−ヒドロキシフェノキシ基のものおよびQのすべてが3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェノキシ基のもの、並びに、前記、[形態2]に該当する、QがQ2基である3−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるフェノキシ基のもの、QがQ2基である3−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるメチルフェノキシ基のもの、QがQ2基である3−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるジメチルフェノキシ基のもの、QがQ2基である3−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるナフチルオキシ基のもの、QがQ2基である4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるフェノキシ基のもの、QがQ2基である4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるメチルフェノキシ基のもの、QがQ2基である4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるジメチルフェノキシ基のもの、QがQ2基である4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるナフチルオキシ基のもの、QがQ2基である3−メチル−4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるフェノキシ基のもの、QがQ2基である3−メチル−4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるメチルフェノキシ基のもの、QがQ2基である3−メチル−4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるジメチルフェノキシ基のもの、QがQ2基である3−メチル−4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるナフチルオキシ基のもの、QがQ2基である3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるフェノキシ基のもの、QがQ2基である3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるメチルフェノキシ基のもの、QがQ2基である3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるジメチルフェノキシ基のもの、QがQ2基である3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェノキシ基と、Q1基であるナフチルオキシ基のものおよびこれら任意の混合物が挙げられる。このうち、式(7)のkが1のヒドロキシ基含有シクロトリホスファゼン化合物、式(7)のkが2のヒドロキシ基含有シクロテトラホスファゼン化合物および式(7)のkが3のヒドロキシ基含有シクロペンタホスファゼン化合物であって、前記、[形態1]に該当する、Qのすべてが4−ヒドロキシフェノキシ基のもの、Qのすべてが3−メチル−4−ヒドロキシフェノキシ基のものおよびQのすべてが3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェノキシ基のもの、並びに、前記、[形態2]に該当する、QがQ2基である4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるフェノキシ基のもの、QがQ2基である4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるメチルフェノキシ基のもの、QがQ2基である4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるジメチルフェノキシ基のもの、QがQ2基である3−メチル−4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるフェノキシ基のもの、QがQ2基である3−メチル−4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるメチルフェノキシ基のもの、QがQ2基である3−メチル−4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるジメチルフェノキシ基のもの、QがQ2基である3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるフェノキシ基のもの、QがQ2基である3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるメチルフェノキシ基のもの、QがQ2基である3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるジメチルフェノキシ基のものおよびこれら任意の混合物が好ましく、特に、式(7)のkが1のヒドロキシ基含有シクロトリホスファゼン化合物および式(7)のkが2のヒドロキシ基含有シクロテトラホスファゼン化合物であって、前記、[形態1]に該当する、Qのすべてが4−ヒドロキシフェノキシ基のもの、並びに、前記、[形態2]に該当する、QがQ2基である4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるフェノキシ基のもの、QがQ2基である4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるメチルフェノキシ基のもの、QがQ2基である3−メチル−4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるフェノキシ基のもの、QがQ2基である3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるフェノキシ基のものおよびこれらの任意の混合物が好ましい。   Examples of such a hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound include, for example, a hydroxy group-containing cyclotriphosphazene compound in which k in formula (7) is 1, a hydroxy group-containing cyclotetraphosphazene compound in which k in formula (7) is 2, 7) a hydroxy group-containing cyclopentaphosphazene compound in which k is 3, and a hydroxy group-containing cyclohexaphosphazene compound in which k in formula (7) is 4, wherein all of Q corresponding to [Form 1] are 3 -Hydroxyphenoxy group, all of Q are 4-hydroxyphenoxy groups, all of Q are 3-methyl-4-hydroxyphenoxy groups, and all of Q are 3,5-dimethyl-4-hydroxyphenoxy groups And a 3-hydroxyphenoxy group corresponding to [Form 2], wherein Q is a Q2 group, and A phenoxy group that is one group, a 3-hydroxyphenoxy group that is Q2 group and a methylphenoxy group that is Q1 group, a 3-hydroxyphenoxy group that is Q2 group and a dimethylphenoxy group that is Q1 group Q-group of 3-hydroxyphenoxy group and Q1-group of naphthyloxy group, Q-group of Q2-4-hydroxyphenoxy group and Q1-group of phenoxy group, Q-group of Q2 4-hydroxyphenoxy group and Q1 group methylphenoxy group, Q is Q2 group 4-hydroxyphenoxy group and Q1 group dimethylphenoxy group, Q is Q2 group 4-hydroxyphenoxy group A naphthyloxy group that is a Q1 group and a 3-methyl-4-hydroxyphenoxy group that is a Q2 group and a Q1 group A phenoxy group, a 3-methyl-4-hydroxyphenoxy group in which Q is a Q2 group and a methylphenoxy group in which a Q1 group is present, a 3-methyl-4-hydroxyphenoxy group and a Q1 group in which Q is a Q2 group A certain dimethylphenoxy group, a 3-methyl-4-hydroxyphenoxy group in which Q is a Q2 group and a naphthyloxy group in which a Q1 group is present, a 3,5-dimethyl-4-hydroxyphenoxy group in which Q is a Q2 group And Q1 group, phenoxy group, Q is Q2 group 3,5-dimethyl-4-hydroxyphenoxy group and Q1 group methylphenoxy group, Q is Q2 group 3,5-dimethyl- A 4-hydroxyphenoxy group and a dimethylphenoxy group which is a Q1 group, a 3,5-dimethyl-4-hydroxyphenoxy group where Q is a Q2 group, and a Q1 group And those mixtures of any of these there naphthyloxy group. Among these, a hydroxy group-containing cyclotriphosphazene compound in which k in formula (7) is 1, a hydroxy group-containing cyclotetraphosphazene compound in which k is 2 in formula (7), and a hydroxy group-containing cyclohexane in which k is 3 in formula (7). A pentaphosphazene compound corresponding to the [form 1], wherein all of Q are 4-hydroxyphenoxy groups, all of Q are 3-methyl-4-hydroxyphenoxy groups, and all of Q are 3 , 5-dimethyl-4-hydroxyphenoxy group, and those corresponding to [Form 2], wherein Q is a Q2-group of 4-hydroxyphenoxy group and Q1 group of phenoxy group, Q is Q2 group 4-hydroxyphenoxy group and Q1 group methylphenoxy group, and Q is Q2-group 4-hydroxyphenoxy group and Q1 group A dimethylphenoxy group, a 3-methyl-4-hydroxyphenoxy group in which Q is a Q2 group and a phenoxy group in which a Q1 group is present, a 3-methyl-4-hydroxyphenoxy group and a Q1 group in which Q is a Q2 group A methylphenoxy group, a 3-methyl-4-hydroxyphenoxy group where Q is a Q2 group and a dimethylphenoxy group which is a Q1 group, a 3,5-dimethyl-4-hydroxyphenoxy group where Q is a Q2 group And Q1 group, phenoxy group, Q is Q2 group 3,5-dimethyl-4-hydroxyphenoxy group and Q1 group methylphenoxy group, Q is Q2 group 3,5-dimethyl- Preferred are those of 4-hydroxyphenoxy group and Q1 group of dimethylphenoxy group and any mixture thereof. A thio group-containing cyclotriphosphazene compound and a hydroxy group-containing cyclotetraphosphazene compound wherein k in formula (7) is 2, wherein all of Q corresponding to [Form 1] are 4-hydroxyphenoxy groups, In addition, corresponding to [Form 2], Q is a 4-hydroxyphenoxy group having a Q2 group and a phenoxy group having a Q1 group, and 4-methylphenoxy group having a Q2 group and a methyl having a Q1 group A phenoxy group, a 3-methyl-4-hydroxyphenoxy group in which Q is a Q2 group and a phenoxy group in which a Q1 group is present, a 3,5-dimethyl-4-hydroxyphenoxy group and a Q1 group in which Q is a Q2 group Those of the phenoxy group and any mixtures thereof are preferred.

(特定のポリフェニレンエーテル類)
この製造方法で用いられる特定のポリフェニレンエーテル類は、下記の式(9)で示されるものである。
(Specific polyphenylene ethers)
The specific polyphenylene ethers used in this production method are those represented by the following formula (9).

式(9)において、rは30〜1,000の整数を示す。また、L〜Lは、水素原子、または炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルケニル基および炭素数6〜20のアリール基から選ばれる基である。炭素数6〜20のアリール基は、炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい。 In the formula (9), r represents an integer of 30 to 1,000. L 5 to L 8 are groups selected from a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms, and an aryl group having 6 to 20 carbon atoms. In the aryl group having 6 to 20 carbon atoms, at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.

式(9)で示されるポリフェニレンエーテル類の具体例としては、その単独重合体として、ポリ(2−メチル−1,4−フェニレン)エーテル等のポリ(メチルフェニレン)エーテル類、ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレン)エーテル等のポリ(ジメチルフェニレン)エーテル類、ポリ(2−メチル−6−エチル−1,4−フェニレン)エーテル等のポリ(メチルエチルフェニレン)エーテル類、ポリ(2,6−ジエチル−1,4−フェニレン)エーテル等のポリ(ジエチルフェニレン)エーテル類、ポリ(2−エチル−6−n−プロピル−1,4−フェニレン)エーテル等のポリ(エチルプロピルフェニレン)エーテル類、ポリ(2,6−n−プロピル−1,4−フェニレン)エーテル等のポリ(ジプロピルフェニレン)エーテル類、ポリ(2−メチル−6−n−プロピル−1,4−フェニレン)エーテル等のポリ(メチルプロピルフェニレン)エーテル類、ポリ(2−メチル−6−n−ブチル−1,4−フェニレン)エーテル等のポリ(メチルブチルフェニレン)エーテル類、ポリ(2−メチル−6−イソプロピル−1,4−フェニレン)エーテル等のポリ(メチルイソプロピルフェニレン)エーテル類、ポリ(2−エチル−6−イソプロピル−1,4−フェニレン)エーテル等のポリ(エチルイソプロピルフェニレン)エーテル類およびポリ(2−メチル−6−ヒドロキシエチル−1,4−フェニレン)エーテル等のポリ(メチルヒドロキシエチルフェニレン)エーテル類などのホモポリマーが挙げられる。また、フェニレンエーテル構造を主単量体単位とする共重合体として、2,6−ジメチルフェノールとo−クレゾールとの共重合体並びに2,6−ジメチルフェノールと2,3,6−トリメチルフェノールおよびo−クレゾールとの共重合体が挙げられる。   Specific examples of the polyphenylene ethers represented by the formula (9) include poly (methylphenylene) ethers such as poly (2-methyl-1,4-phenylene) ether, poly (2,6) as homopolymers thereof. -Poly (dimethylphenylene) ethers such as dimethyl-1,4-phenylene) ether, poly (methylethylphenylene) ethers such as poly (2-methyl-6-ethyl-1,4-phenylene) ether, poly ( Poly (diethylphenylene) ethers such as 2,6-diethyl-1,4-phenylene) ether, poly (ethylpropylphenylene) such as poly (2-ethyl-6-n-propyl-1,4-phenylene) ether Poly (dipropylphenylene) ethers such as ethers and poly (2,6-n-propyl-1,4-phenylene) ether , Poly (methylpropylphenylene) ethers such as poly (2-methyl-6-n-propyl-1,4-phenylene) ether, poly (2-methyl-6-n-butyl-1,4-phenylene) Poly (methylbutylphenylene) ethers such as ether, poly (methylisopropylphenylene) ethers such as poly (2-methyl-6-isopropyl-1,4-phenylene) ether, poly (2-ethyl-6-isopropyl-) Homogeneous such as poly (ethyl isopropyl phenylene) ethers such as 1,4-phenylene) ether and poly (methyl hydroxyethyl phenylene) ethers such as poly (2-methyl-6-hydroxyethyl-1,4-phenylene) ether Polymers. Further, as a copolymer having a phenylene ether structure as a main monomer unit, a copolymer of 2,6-dimethylphenol and o-cresol, 2,6-dimethylphenol and 2,3,6-trimethylphenol, and and a copolymer with o-cresol.

この中で、ポリ(2−メチル−1,4−フェニレン)エーテル等のポリ(メチルフェニレン)エーテル類、ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレン)エーテル等のポリ(ジメチルフェニレン)エーテル類、ポリ(2−メチル−6−エチル−1,4−フェニレン)エーテル等のポリ(メチルエチルフェニレン)エーテル類、ポリ(2,6−ジエチル−1,4−フェニレン)エーテル等のポリ(ジエチルフェニレン)エーテル類および2,6−ジメチルフェノールと2,3,6−トリメチルフェノールおよびo−クレゾールとの共重合体が好ましく、ポリ(2−メチル−1,4−フェニレン)エーテル等のポリ(メチルフェニレン)エーテル類およびポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレン)エーテル等のポリ(ジメチルフェニレン)エーテル類が特に好ましい。   Among them, poly (methylphenylene) ethers such as poly (2-methyl-1,4-phenylene) ether and poly (dimethylphenylene) ethers such as poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene) ether , Poly (methylethylphenylene) ethers such as poly (2-methyl-6-ethyl-1,4-phenylene) ether, and poly (diethyl) such as poly (2,6-diethyl-1,4-phenylene) ether Phenylene) ethers and copolymers of 2,6-dimethylphenol with 2,3,6-trimethylphenol and o-cresol are preferred, and poly (methyl) such as poly (2-methyl-1,4-phenylene) ether Poly (dimethylphenylene) such as phenylene) ethers and poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene) ether Ethers are particularly preferred.

また、特定のポリフェニレンエーテル類としては、2−(ジアルキルアミノメチル)−6−メチルフェニレンエーテルユニットや2−(N−アルキル−N−フェニルアミノメチル)−6−メチルフェニレンエーテルユニット等の官能基を有するフェニレンエーテルユニットを部分構造として含んでいるポリフェニレンエーテル類を用いることもできる。このポリフェニレンエーテル類は式(9)で示されるポリフェニレンエーテル類と併用されてもよい。   Specific polyphenylene ethers include functional groups such as 2- (dialkylaminomethyl) -6-methylphenylene ether units and 2- (N-alkyl-N-phenylaminomethyl) -6-methylphenylene ether units. Polyphenylene ethers containing a phenylene ether unit having a partial structure can also be used. These polyphenylene ethers may be used in combination with the polyphenylene ether represented by the formula (9).

さらに、特定のポリフェニレンエーテル類としては、ラジカル開始剤の存在下での再分配反応を阻害しないものであれば、ポリフェニレンエーテル類の一部または全部が、エポキシ基、アミノ基、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、またはシリル基で官能化された変性ポリフェニレンエーテル類も用いることができる。これらは2種類以上のものが併用されてもよい。官能化された変性ポリフェニレンエーテル類の製造方法は、本発明の効果が得られるものであれば特に規定はない。例えば、ラジカル開始剤の存在下または非存在下において、ポリフェニレンエーテル類に不飽和カルボン酸やその官能的誘導体を溶融混練して反応させることによって製造ができる。また、ポリフェニレンエーテル類と不飽和カルボン酸やその官能誘導体とをラジカル開始存在下または非存在下で有機溶剤に溶かし、溶液下で反応させることによって製造することもできる。   Furthermore, as specific polyphenylene ethers, as long as they do not inhibit the redistribution reaction in the presence of a radical initiator, some or all of the polyphenylene ethers are epoxy groups, amino groups, hydroxyl groups, mercapto groups, Modified polyphenylene ethers functionalized with carboxyl groups or silyl groups can also be used. Two or more of these may be used in combination. The method for producing the functionalized modified polyphenylene ether is not particularly limited as long as the effects of the present invention can be obtained. For example, it can be produced by reacting polyphenylene ethers with an unsaturated carboxylic acid or a functional derivative thereof by melt-kneading in the presence or absence of a radical initiator. Moreover, it can also manufacture by dissolving polyphenylene ether, unsaturated carboxylic acid, and its functional derivative in the organic solvent in the presence or absence of radical initiation, and making it react under a solution.

(オリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
オリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は上述の特定のヒドロキシル基含有環状ホスファゼン化合物と、上述の特定のポリフェニレンエーテル類とをラジカル開始剤存在下において反応させることで製造することができる。
(Production of oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compounds)
The oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound can be produced by reacting the above-mentioned specific hydroxyl group-containing cyclic phosphazene compound with the above-mentioned specific polyphenylene ether in the presence of a radical initiator.

この反応では、ポリフェニレンエーテル類がラジカル開始剤によりラジカル化され、また、そのラジカル化されたポリマー鎖が再分配反応によって切断されて活性化されたオリゴフェニレンエーテルが生成する。このオリゴフェニレンエーテルは、ヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物のヒドロキシ基と反応する。これにより、目的のオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物を得ることができる。   In this reaction, polyphenylene ethers are radicalized by a radical initiator, and the radicalized polymer chain is cleaved by a redistribution reaction to generate activated oligophenylene ether. This oligophenylene ether reacts with the hydroxy group of the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound. Thereby, the target oligo (phenyleneoxy) group containing cyclic phosphazene compound can be obtained.

ここで用いられるラジカル開始剤は、種類が特に限定されるものではないが、例えば、各種の有機過酸化物、アゾビスイソブチロニトリルやアゾビスイソバレロニトリル等のアゾ系化合物、および2,3−ジメチル−2,3−ジフェニルブタン(例えば、日本油脂株式会社の商品名「ビスクミル」)などを挙げることができる。このうち、有機過酸化物を用いるのが好ましい。   The type of the radical initiator used here is not particularly limited. For example, various organic peroxides, azo compounds such as azobisisobutyronitrile and azobisisovaleronitrile, and 2, Examples thereof include 3-dimethyl-2,3-diphenylbutane (for example, “Biscumyl”, a trade name of Nippon Oil & Fat Co., Ltd.). Among these, it is preferable to use an organic peroxide.

好ましい有機過酸化物としては、例えば、パーオキシエステル、ジアルキルパーオキサイド、ハイドロパーオキサイド、ジアシルパーオキサイド、パーオキシジカーボネート、パーオキシケタールおよびシリルパーオキサイド等をあげることができる。   Preferred organic peroxides include, for example, peroxyesters, dialkyl peroxides, hydroperoxides, diacyl peroxides, peroxydicarbonates, peroxyketals, and silyl peroxides.

パーオキシエステルとしては、例えば、クミルパーオキシネオデカエート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシネオデカエート、1−シクロヘキシル−1−メチルエチルパーオキシノエデカノエート、tert−ヘキシルパーオキシネオデカノエート、tert−ブチルパーオキシピバレート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン、1−シクロヘキシル−1−メチルエチルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート、L−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート、L−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート、tert−ブチルパーオキシイソブチレート、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、tert−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、tert−ブチルパーオキシラウレート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(m−トルオイルパーオキシ)ヘキサンtert−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、tert−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネート、tert−ヘキシルパーオキシベンゾエートおよびtert−ブチルパーオキシアセテート等を挙げることができる。   Examples of peroxyesters include cumyl peroxyneodecanate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyneodecanate, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxynoedecanoate, and tert-hexyl. Peroxyneodecanoate, tert-butyl peroxypivalate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, 2,5-dimethyl-2,5-di (2- Ethylhexanoylperoxy) hexane, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxy-2-ethylhexanoate, L-hexylperoxy-2-ethylhexanoate, L-butylperoxy-2-ethylhexanoate Tert-butyl peroxyisobutyrate, 1,1-bis (tert-butyl -Oxy) cyclohexane, tert-hexyl peroxyisopropyl monocarbonate, tert-butyl peroxylaurate, 2,5-dimethyl-2,5-di (m-toluoyl peroxy) hexane tert-butyl peroxyisopropyl monocarbonate, Examples thereof include tert-butyl peroxy-2-ethylhexyl monocarbonate, tert-hexyl peroxybenzoate, and tert-butyl peroxyacetate.

ジアルキルパーオキサイドとしては、例えば、α,α’−ビス(tert−ブチルパーオキシ−m−イソプロピル)ベンゼン、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3,2,5−ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチルパーオキシ)ヘキサンおよびtert−ブチルクミルパーオキサイド等を挙げることができる。   Examples of the dialkyl peroxide include α, α′-bis (tert-butylperoxy-m-isopropyl) benzene, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (tert-butylperoxy). Examples include hexyne-3,2,5-dimethyl-2,5-di (tert-butylperoxy) hexane and tert-butylcumyl peroxide.

ハイドロパーオキサイドとしては、例えば、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイドおよびクメンハイドロパーオキサイド等を挙げることができる。   Examples of the hydroperoxide include diisopropylbenzene hydroperoxide and cumene hydroperoxide.

ジアシルパーオキサイドとしては、例えば、イソブチルパーオキサイド、ジ−tert−ブチルパーオキサイド、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、3,5,5−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ステアロイルパーオキサイド、スクシニックパーオキサイド、ベンゾイルパーオキシトルエンおよびベンゾイルパーオキサイド等を挙げることができる。   Examples of the diacyl peroxide include isobutyl peroxide, di-tert-butyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, octanoyl peroxide, lauroyl peroxide, Examples include stearoyl peroxide, succinic peroxide, benzoyl peroxide and benzoyl peroxide.

パーオキシジカーボネートとしては、例えば、ジ−n−プロピルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ビス(4−tert−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシメトキシジカーボネート、ジ(2−エチルヘキシルパーオキシ)ジカーボネート、ジメトキシブチルパーオキシジカーボネートおよびジ(3−メチル−3−メトキシブチルパーオキシ)ジカーボネート等を挙げることができる。   Examples of the peroxydicarbonate include di-n-propyl peroxydicarbonate, diisopropyl peroxydicarbonate, bis (4-tert-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, di-2-ethoxymethoxydicarbonate, di ( 2-ethylhexyl peroxy) dicarbonate, dimethoxybutyl peroxydicarbonate, di (3-methyl-3-methoxybutylperoxy) dicarbonate, and the like.

パーオキシケタールとしては、例えば、1,1−ビス(tert−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(tert−ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−(tert−ブチルパーオキシ)シクロドデカン、および2,2−ビス(tert−ブチルパーオキシ)デカン等を挙げることができる。   Examples of the peroxyketal include 1,1-bis (tert-hexylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (tert-hexylperoxy) cyclohexane, 1,1-bis ( tert-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1- (tert-butylperoxy) cyclododecane, 2,2-bis (tert-butylperoxy) decane, and the like. .

シリルパーオキサイドとしては、例えば、tert−ブチルトリメチルシリルパーオキサイド、ビス(tert−ブチル)ジメチルシリルパーオキサイド、tert−ブチルトリビニルシリルパーオキサイド、ビス(tert−ブチル)ジビニルシリルパーオキサイド、トリス(tert−ブチル)ビニルシリルパーオキサイド、tert−ブチルトリアリルシリルパーオキサイド、ビス(tert−ブチル)ジアリルシリルパーオキサイドおよびトリス(tert−ブチル)アリルシリルパーオキサイド等を挙げることができる。   Examples of the silyl peroxide include tert-butyltrimethylsilyl peroxide, bis (tert-butyl) dimethylsilyl peroxide, tert-butyltrivinylsilyl peroxide, bis (tert-butyl) divinylsilyl peroxide, tris (tert- Examples thereof include butyl) vinylsilyl peroxide, tert-butyltriallylsilyl peroxide, bis (tert-butyl) diallylsilyl peroxide, and tris (tert-butyl) allylsilyl peroxide.

これらのうち、特に好ましいものは、ベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、tert−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−tert−ブチルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3,2,5−ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチル)ヘキサンおよびα,α’−ビス(tert−ブチルパーオキシ−m−イソプロピル)ベンゼンである。   Among these, benzoyl peroxide, dicumyl peroxide, tert-butylcumyl peroxide, di-tert-butyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (tert-butylperoxy) are particularly preferable. ) Hexin-3,2,5-dimethyl-2,5-di (tert-butyl) hexane and α, α′-bis (tert-butylperoxy-m-isopropyl) benzene.

なお、有機過酸化物はそれぞれ単独で用いることができるが、2種以上のものを併用することもできる。   In addition, although an organic peroxide can be used independently, respectively, 2 or more types can also be used together.

この反応において、ヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物の使用量は、ポリフェニレンエーテル類の100重量部に対して1〜300重量部に設定するのが好ましい。ヒドロキシ基含有ホスファゼン化合物の使用量が300重量部を超える場合は、再分配反応が進行しすぎることから生成するオリゴフェニレンエーテルの数平均分子量が低下し、目的のオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物、すなわち、所定のG2基を備えたオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物が得られない可能性がある。逆にヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物の使用量が1重量部未満の場合は、再分配反応が十分進行しにくくなることから、生成するオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物、すなわち、所定のG2基を備えたオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物が得られない可能性がある。   In this reaction, the amount of the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound used is preferably set to 1 to 300 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyphenylene ethers. When the amount of the hydroxy group-containing phosphazene compound exceeds 300 parts by weight, the number average molecular weight of the oligophenylene ether produced decreases because the redistribution reaction proceeds too much, and the desired oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene There is a possibility that a compound, that is, an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound having a predetermined G2 group cannot be obtained. Conversely, when the amount of the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound used is less than 1 part by weight, the redistribution reaction does not proceed sufficiently, so that the resulting oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound, that is, a predetermined G2 An oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound having a group may not be obtained.

また、ラジカル開始剤の使用量は、ポリフェニレンエーテル類の100重量部に対して1〜30重量部に設定するのが好ましい、ラジカル開始剤の使用量が30重量部を超える場合は、再分配反応が進行しすぎることから生成するオリゴフェニレンエーテルの数平均分子量が低下し、オリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物、すなわち、所定のG2基を備えたオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物が得られない可能性がある。逆に、ラジカル開始剤の使用量が1重量部未満の場合は、再分配反応が十分進行しにくくなることから生成するオリゴフェニレンエーテルの数平均分子量が大きくなり、目的のオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物、すなわち、所定のG2基を備えたオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物が得られない可能性がある。   Moreover, it is preferable to set the usage-amount of a radical initiator to 1-30 weight part with respect to 100 weight part of polyphenylene ethers. When the usage-amount of a radical initiator exceeds 30 weight part, it is a redistribution reaction. The number average molecular weight of the oligophenylene ether produced decreases due to excessive progress of the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound, that is, the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound having a predetermined G2 group. It may not be obtained. Conversely, when the amount of radical initiator used is less than 1 part by weight, the number average molecular weight of the oligophenylene ether produced increases because the redistribution reaction does not proceed sufficiently, and the desired oligo (phenyleneoxy) group There is a possibility that a containing cyclic phosphazene compound, that is, an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound having a predetermined G2 group cannot be obtained.

この反応は、通常、溶媒中で行うことができ、反応温度を80〜120℃に、また、反応時間を10〜180分間に設定するのが好ましい。溶媒としては、例えば、トルエン、ベンゼンおよびキシレン等の芳香族炭化水素系溶媒やクロロホルム等を用いることができる。   This reaction can usually be performed in a solvent, and it is preferable to set the reaction temperature to 80 to 120 ° C. and the reaction time to 10 to 180 minutes. As the solvent, for example, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, benzene and xylene, chloroform and the like can be used.

この製造方法においては、上述の再分配反応のためにポリフェニレンエーテル類(ホモポリマー)が生成し、その微量がオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物に混入する可能性がある。このようなポリフェニレンエーテル類が混入していても、後述するエポキシ化反応に支障をなく用いることができるが、支障があればポリフェニレンエーテル類を取り除いて用いるのが好ましい。オリゴ(フェニレンオキシ)基含有ホスファゼン化合物に混入しているポリフェニレンエーテル類を除去するための方法としては、例えば、分子量の差による限外濾過、溶解性の差による分別沈殿および蒸気圧の差による分子蒸留等が挙げられる。   In this production method, polyphenylene ethers (homopolymers) are generated due to the above-mentioned redistribution reaction, and a trace amount thereof may be mixed into the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound. Even if such polyphenylene ethers are mixed, the epoxidation reaction described later can be used without any problem, but if there is a problem, it is preferable to remove the polyphenylene ether and use it. Methods for removing polyphenylene ethers mixed in oligo (phenyleneoxy) group-containing phosphazene compounds include, for example, ultrafiltration based on molecular weight differences, fractional precipitation based on solubility differences, and molecules based on vapor pressure differences Examples thereof include distillation.

<製造方法P−2>
本発明のオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、上記の製造方法P−1により製造できるが、一般的なポリフェニレンエーテル樹脂の製造方法に基づいて製造することができる。この方法では、芳香族炭化水素溶媒または芳香族炭化水素とアルコールとの混合溶媒中において、製造方法P−1において用いられるものと同様のヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物と、下記の一価のフェノール化合物とを、銅、マンガンまたはコバルトを含有する錯体触媒存在下で酸化重合することで、目的のオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物を製造することができる。
<Manufacturing method P-2>
The oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention can be produced by the above production method P-1, but can be produced based on a general production method of a polyphenylene ether resin. In this method, a hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound similar to that used in Production Method P-1 in an aromatic hydrocarbon solvent or a mixed solvent of an aromatic hydrocarbon and an alcohol, and the following monovalent phenol compound: Is subjected to oxidative polymerization in the presence of a complex catalyst containing copper, manganese or cobalt, whereby the desired oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound can be produced.

ここで用いられる一価のフェノール化合物は、ヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物のヒドロキシ基との反応および酸化重合により所定のG2基を形成可能なものであり、例えば、o−クレゾール、2,6−ジメチルフェノール、2,3,6−トリメチルフェノール、2−エチルフェノール、2−メチル−6−エチルフェノール、2,6−ジエチルフェノール、2−n−プロピルフェノール、2−エチル−6−n−プロピルフェノール、2−メチル−6−クロロフェノール、2−メチル−6−ブロモフェノール、2−メチル−6−イソプロピルフェノール、2−メチル−6−n−プロピルフェノール、2−エチル−6−ブロモフェノール、2−エチル−6−ブチルフェノール、2,6−ジ−n−プロピルフェノール、2−エチル−6−クロロフェノール、2−エチル−6−フェニルフェノール、2−フェニルフェノール、2,6−ジフェニルフェノール、2,6−ビス(4−フルオロフェニル)フェノール、2−メチル−6−トリルフェノールおよび2,6−ジトリルフェノール等を挙げることができる。これらのフェノール化合物は2種以上のものを併用することもできる。   The monohydric phenol compound used here is capable of forming a predetermined G2 group by reaction with a hydroxy group of a hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound and oxidative polymerization. For example, o-cresol, 2,6-dimethyl Phenol, 2,3,6-trimethylphenol, 2-ethylphenol, 2-methyl-6-ethylphenol, 2,6-diethylphenol, 2-n-propylphenol, 2-ethyl-6-n-propylphenol, 2-methyl-6-chlorophenol, 2-methyl-6-bromophenol, 2-methyl-6-isopropylphenol, 2-methyl-6-n-propylphenol, 2-ethyl-6-bromophenol, 2-ethyl -6-butylphenol, 2,6-di-n-propylphenol, 2-ethyl-6-alkyl Rophenol, 2-ethyl-6-phenylphenol, 2-phenylphenol, 2,6-diphenylphenol, 2,6-bis (4-fluorophenyl) phenol, 2-methyl-6-tolylphenol and 2,6- Examples include ditolylphenol. Two or more of these phenol compounds can be used in combination.

また、酸化重合の時に用いられるアミン類としては、例えば、ジイソプロピルアミン、ジ−sec−ブチルアミン、ジ−tert−ブチルアミン、ジ−tert−アリルアミン、ジシクロペンチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ジフェニルアミン、p,p’−ジトリルアミン、m,m’−ジトリルアミン、エチル−tert−ブチルアミン、N,N’−ジ−tert−ブチルエチレンジアミン、メチルシクロヘキシルアミン、メチルフェニルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、n−ブチルジメチルアミン、ベンジルジメチルアミン、フェニルジメチルアミン、N,N−ジメチル−p−トルイジン、トリフェニルアミン、N,N−ジメチルピペラジン、ピリジン、メチルピリジンおよび2,6−ジメチルピリジン等を挙げることができる。これらのアミン類は2種以上のものを併用することができる。   Examples of amines used for oxidative polymerization include diisopropylamine, di-sec-butylamine, di-tert-butylamine, di-tert-allylamine, dicyclopentylamine, dicyclohexylamine, diphenylamine, p, p′-. Ditolylamine, m, m′-ditolylamine, ethyl-tert-butylamine, N, N′-di-tert-butylethylenediamine, methylcyclohexylamine, methylphenylamine, triethylamine, methyldiethylamine, n-butyldimethylamine, benzyldimethylamine, Examples include phenyldimethylamine, N, N-dimethyl-p-toluidine, triphenylamine, N, N-dimethylpiperazine, pyridine, methylpyridine and 2,6-dimethylpyridine. It is possible. Two or more of these amines can be used in combination.

この製造方法は、オリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物にポリフェニレンエーテル類などが混入する可能性が低いため、前述の方法に比べて純度の高いオリゴ(フェニレンオキシ)基含有ホスファゼン化合物を製造することができる。   This production method produces an oligo (phenyleneoxy) group-containing phosphazene compound having a higher purity than the above-mentioned method because there is a low possibility that polyphenylene ethers and the like are mixed into the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound. be able to.

<製造方法P−3>
本発明のオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、芳香族炭化水素溶媒中において、水酸化ナトリウム水溶液、テトラブチルアンモニウム水素サルフェート等の相間移動触媒および空気の存在下で製造方法P−1において用いられるものと同様のヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物とハロフェノール化合物とを反応することで製造することもできる。
<Manufacturing method P-3>
The oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention is produced in the production method P-1 in an aromatic hydrocarbon solvent in the presence of a phase transfer catalyst such as aqueous sodium hydroxide and tetrabutylammonium hydrogen sulfate and air. It can also be produced by reacting a hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound similar to that used with a halophenol compound.

ここで用いられるハロフェノール化合物は、ヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物のヒドロキシ基との反応および酸化重合により所定のA2基を形成可能なものであり、例えば、4−ブロモ−2−メチルフェノールや4−ブロモ−2,6−ジメチルフェノールを挙げることができる。ハロフェノール化合物は、2種以上のものを併用することもできる。   The halophenol compound used here is capable of forming a predetermined A2 group by reaction with a hydroxy group of a hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound and oxidative polymerization, such as 4-bromo-2-methylphenol or 4- Mention may be made of bromo-2,6-dimethylphenol. Two or more halophenol compounds can be used in combination.

この製造方法は、目的物であるオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物にポリフェニレンエーテル類などが混入する可能性が低いため、製造方法P−1に比べて純度の高いオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物を製造することができる。   In this production method, since there is a low possibility that polyphenylene ethers and the like are mixed into the target oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound, an oligo (phenyleneoxy) group having a higher purity than production method P-1. Containing cyclic phosphazene compounds can be produced.

(不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法)
不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、上述の製造方法にて得られたオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物とアクリル酸、メタクリル酸およびそれらの誘導体から選ばれる少なくとも一種の化合物とを反応させることで製造することができる。
(Method for producing oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with unsaturated carbonyl group)
The oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group is selected from the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound obtained by the above-mentioned production method, acrylic acid, methacrylic acid and derivatives thereof. It can be produced by reacting with at least one kind of compound.

オリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物のヒドロキシ基をアクリロイルオキシ基若しくはメタクリロイルオキシ基に変換するための方法、すなわち、カルボン酸エステルの製造方法は、オリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物とアクリル酸およびメタクリル酸とを、塩酸および硫酸等の鉱酸、ベンゼンスルホン酸およびp−トルエンスルホン酸等の有機酸、塩化スズ、塩化亜鉛、塩化第二鉄および塩化アルミニウム等の金属ハロゲン化物等の触媒存在下、またはジシクロヘキシルカルボジイミド等の脱水縮合剤存在下で反応させることで得られる。ここで用いる触媒および脱水縮合剤は一種または二種以上組み合わせてもよい。また、オリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物とアクリル酸ハライドおよびメタクリル酸ハライドをトリエチルアミン、ピリジン等の第三級アミン類、炭酸カリウムおよび炭酸ナトリウム等のアルカリ金属塩等の塩基または合成ゼオライト等の吸着剤存在下で反応させることでも得られる。その際、4−ジメチルアミノピリジン等の反応促進剤やメトキノン等の重合禁止剤を用いてもよい。   A method for converting a hydroxy group of an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound into an acryloyloxy group or a methacryloyloxy group, that is, a method for producing a carboxylic acid ester, includes an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound and an acrylic. Acid and methacrylic acid, mineral acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid, organic acids such as benzenesulfonic acid and p-toluenesulfonic acid, catalysts such as metal halides such as tin chloride, zinc chloride, ferric chloride and aluminum chloride It can be obtained by reacting in the presence or in the presence of a dehydration condensing agent such as dicyclohexylcarbodiimide. The catalyst and dehydrating condensing agent used here may be used alone or in combination. In addition, oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compounds, acrylic acid halides and methacrylic acid halides such as triethylamine, tertiary amines such as pyridine, bases such as alkali metal salts such as potassium carbonate and sodium carbonate, or synthetic zeolites, etc. It can also be obtained by reacting in the presence of an adsorbent. At that time, a reaction accelerator such as 4-dimethylaminopyridine and a polymerization inhibitor such as methoquinone may be used.

上述のオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物とアクリル酸、メタクリル酸若しくはそれらの誘導体とを反応させる際の反応温度は、上述のいずれの方法によるか、或いは、反応生成物の熱安定性を考慮して適宜設定することができる。但し、溶媒を用いて反応する場合は、通常、−20℃から溶媒の沸点までの温度範囲に反応温度を設定するのが好ましい。一方、無溶媒で当該反応を実施する場合、反応温度は40から200℃の範囲に設定するのが好ましい。 The reaction temperature at the time of reacting the above-mentioned oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound with acrylic acid, methacrylic acid or a derivative thereof depends on any of the above-mentioned methods, or the thermal stability of the reaction product. It can be set as appropriate in consideration. However, when reacting using a solvent, it is usually preferable to set the reaction temperature within the temperature range from -20 ° C to the boiling point of the solvent. On the other hand, when the reaction is carried out without a solvent, the reaction temperature is preferably set in the range of 40 to 200 ° C.

このようなオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物とアクリル酸若しくはメタクリル酸およびその誘導体との反応により得られる、目的とする不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、濾過、溶媒抽出、カラムクロマトグラフィーおよび再沈殿等通常の方法によって反応系から単離精製することができる。   The oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with the target unsaturated carbonyl group obtained by the reaction of such an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound with acrylic acid or methacrylic acid or a derivative thereof is , Filtration, solvent extraction, column chromatography, reprecipitation, and the like, and can be isolated and purified from the reaction system.

樹脂組成物
本発明の樹脂組成物は、本発明の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物からなる難燃剤と樹脂成分とを含むものである。本発明の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物からなる難燃剤は、一種類のものが用いられてもよいし、二種以上のものが併用されてもよい。また、樹脂成分としては、各種の熱可塑性樹脂若しくは熱硬化性樹脂を使用することができる。これらの樹脂成分は、天然のものであってもよいし、合成のものであってもよい。
Resin Composition The resin composition of the present invention comprises a flame retardant comprising a oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group of the present invention and a resin component. As the flame retardant comprising an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group of the present invention, one type of flame retardant may be used, or two or more types may be used in combination. As the resin component, various thermoplastic resins or thermosetting resins can be used. These resin components may be natural or synthetic.

ここで利用可能な熱可塑性樹脂の具体例としては、ポリエチレン、ポリイソプレン、ポリブタジエン、塩素化ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、スチレン樹脂、耐衝撃性ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン樹脂(AS樹脂)、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂(ABS樹脂)、メチルメタクリレート−ブタジエン−スチレン樹脂(MBS樹脂)、メチルメタクリレート−アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂(MABS樹脂)、アクリロニトリル−アクリルゴム−スチレン樹脂(AAS樹脂)、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリフェニレンエーテル(PPE)、変性ポリフェニレンエーテル、脂肪族系ポリアミド、芳香族系ポリアミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルケトン、ポリエーテルニトリル、ポリチオエーテルスルホン、ポリエーテルスルホン並びに液晶ポリマー等を挙げることができる。変性ポリフェニレンエーテルとしては、ポリフェニレンエーテルの一部または全部に、カルボキシル基、エポキシ基、アミノ基、水酸基、無水ジカルボキシル基などの反応性官能基をグラフト反応や共重合など何らかの方法で導入したものが用いられる。なお、本発明の樹脂組成物を電子機器用途、特に、OA機器、AV機器、通信機器および家電製品用の筐体や部品用の材料として用いる場合は、熱可塑性樹脂としてポリエステル樹脂、ABS樹脂、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル若しくはポリアミド等を用いるのが好ましい。   Specific examples of the thermoplastic resin that can be used here include polyethylene, polyisoprene, polybutadiene, chlorinated polyethylene, polyvinyl chloride, styrene resin, impact-resistant polystyrene, acrylonitrile-styrene resin (AS resin), and acrylonitrile-butadiene-. Styrene resin (ABS resin), methyl methacrylate-butadiene-styrene resin (MBS resin), methyl methacrylate-acrylonitrile-butadiene-styrene resin (MABS resin), acrylonitrile-acrylic rubber-styrene resin (AAS resin), polymethyl acrylate, poly Methyl methacrylate, polycarbonate, polyphenylene ether (PPE), modified polyphenylene ether, aliphatic polyamide, aromatic polyamide, polyethylene terephthalate Polyester resins such as polypropylene terephthalate, polytrimethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyphenylene sulfide, polyether ether ketone, polysulfone, polyarylate, polyether ketone, polyether nitrile, polythioether sulfone, polyether sulfone and liquid crystal A polymer etc. can be mentioned. As the modified polyphenylene ether, those obtained by introducing a reactive functional group such as a carboxyl group, an epoxy group, an amino group, a hydroxyl group, and an anhydrous dicarboxyl group into some or all of the polyphenylene ether by some method such as graft reaction or copolymerization. Used. When the resin composition of the present invention is used as a material for casings or parts for electronic equipment, particularly OA equipment, AV equipment, communication equipment, and home appliances, polyester resin, ABS resin, It is preferable to use polycarbonate, modified polyphenylene ether, polyamide or the like.

一方、ここで利用可能な熱硬化性樹脂の具体例としては、ポリウレタン、フェノール樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、シリコン樹脂、オキセタン樹脂、ビスマレイミド樹脂、シアネートエステル樹脂、ポリベンズイミダゾール、ポリカルボジイミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミドおよびポリエステルイミド等のポリイミド系樹脂並びにエポキシ樹脂等を挙げることができる。なお、本発明の樹脂組成物を電子部品用途、特に、各種IC素子の封止材、配線板の基板材料、層間絶縁材料や絶縁性接着材料等の絶縁材料、導電材料および表面保護材料として用いる場合は、熱硬化性樹脂として、ポリウレタン、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ビスマレイミド樹脂、シアネートエステル樹脂、ポリイミド系樹脂若しくはエポキシ樹脂等を用いるのが好ましい。   On the other hand, specific examples of thermosetting resins that can be used here are polyurethane, phenol resin, melamine resin, urea resin, unsaturated polyester resin, diallyl phthalate resin, silicon resin, oxetane resin, bismaleimide resin, cyanate ester resin. Polyimide resins such as polybenzimidazole, polycarbodiimide, polyimide, polyamideimide, polyetherimide and polyesterimide, and epoxy resins. The resin composition of the present invention is used as an electronic component, particularly as a sealing material for various IC elements, a substrate material for a wiring board, an insulating material such as an interlayer insulating material or an insulating adhesive material, a conductive material, and a surface protective material. In this case, it is preferable to use polyurethane, phenol resin, melamine resin, bismaleimide resin, cyanate ester resin, polyimide resin or epoxy resin as the thermosetting resin.

上述の各種樹脂成分は、それぞれ単独で用いられてもよいし、必要に応じて二種以上のものが併用されてもよい。   The various resin components described above may be used alone or in combination of two or more as necessary.

本発明の樹脂組成物において、不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物からなる難燃剤の使用量は、樹脂成分の種類、樹脂組成物の用途等の各種条件に応じて適宜設定することができるが、通常、固形分換算での樹脂成分100重量部に対して0.1〜50重量部に設定するのが好ましく、0.5〜40重量部に設定するのがより好ましく、1〜30重量部に設定するのがさらに好ましい。不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物からなる難燃剤の使用量が0.1重量部未満の場合は、当該樹脂組成物からなる樹脂成形体が十分な難燃性を示さないおそれがある。逆に、50重量部を超えると、樹脂成分本来の特性を損ない、当該特性による樹脂成形体が得られなくなるおそれがある。   In the resin composition of the present invention, the amount of flame retardant comprising an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group depends on various conditions such as the type of resin component and the use of the resin composition. In general, it is preferably set to 0.1 to 50 parts by weight, and preferably set to 0.5 to 40 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin component in terms of solid content. More preferably, it is more preferably set to 1 to 30 parts by weight. When the amount of the flame retardant comprising an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group is less than 0.1 parts by weight, the resin molded article comprising the resin composition is sufficiently flame retardant. May not be indicated. On the other hand, if it exceeds 50 parts by weight, the original properties of the resin component may be impaired, and a resin molded product having such properties may not be obtained.

また、本発明の樹脂組成物は、樹脂成分の種類や樹脂組成物の用途等に応じ、その目的とする物性を損なわない範囲で、各種の添加剤を配合することができる。利用可能な添加剤としては、例えば、天然シリカ、焼成シリカ、合成シリカ、アモルファスシリカ、ホワイトカーボン、アルミナ、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、ホウ酸亜鉛、錫酸亜鉛、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化モリブデン、モリブデン酸亜鉛、天然マイカ、合成マイカ、アエロジル、カオリン、クレー、タルク、焼成カオリン、焼成クレー、焼成タルク、ウオラストナイト、ガラス短繊維、ガラス微粉末、中空ガラスおよびチタン酸カリウム繊維等の無機充填剤、アラミド繊維またはポリパラフェニレンベンズビスオキサゾール繊維等の有機繊維、シランカップリング剤などの充填材の表面処理剤、ワックス類、脂肪酸およびその金属塩、酸アミド類およびパラフィン等の離型剤、塩素化パラフィン、リン酸エステル、縮合リン酸エステル、リン酸アミド、リン酸アミドエステル、ホスフィネート、ホスフィネート塩、リン酸アンモニウムおよび赤リン等のリン系難燃剤、メラミン、メラミンシアヌレート、メラム、メレム、メロンおよびサクシノグアナミン等の窒素系難燃剤、シリコーン系難燃剤並びに臭素系難燃剤等の難燃剤、三酸化アンチモン等の難燃助剤、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)等のドリッピング防止剤、ベンゾトリアゾールなどの紫外線吸収剤、ヒンダートフェノール、スチレン化フェノールなどの酸化防止剤、チオキサントン系などの光重合開始剤、スチルベン誘導体などの蛍光増白剤、硬化剤、染料、顔料、着色剤、光安定剤、光増感剤、増粘剤、滑剤、消泡剤、レベリング剤、光沢剤、重合禁止剤、チクソ性付与剤、可塑剤並びに帯電防止剤等を挙げることができる。   Moreover, the resin composition of this invention can mix | blend various additives in the range which does not impair the target physical property according to the kind of resin component, the use of a resin composition, etc. Available additives include, for example, natural silica, calcined silica, synthetic silica, amorphous silica, white carbon, alumina, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium silicate, calcium carbonate, zinc borate, zinc stannate, oxidation Titanium, zinc oxide, molybdenum oxide, zinc molybdate, natural mica, synthetic mica, aerosil, kaolin, clay, talc, calcined kaolin, calcined clay, calcined talc, wollastonite, short glass fiber, glass fine powder, hollow glass and Inorganic fillers such as potassium titanate fibers, organic fibers such as aramid fibers or polyparaphenylene benzbisoxazole fibers, surface treatment agents for fillers such as silane coupling agents, waxes, fatty acids and their metal salts, acid amides And mold release agents such as paraffin, chlorine Paraffin, phosphate ester, condensed phosphate ester, phosphate amide, phosphate amide ester, phosphinate, phosphinate salt, phosphorus flame retardants such as ammonium phosphate and red phosphorus, melamine, melamine cyanurate, melam, melem, melon and Nitrogen flame retardants such as succinoguanamine, silicone flame retardants, flame retardants such as bromine flame retardants, flame retardant aids such as antimony trioxide, anti-dripping agents such as polytetrafluoroethylene (PTFE), benzotriazole UV absorbers such as, hindered phenols, antioxidants such as styrenated phenols, photopolymerization initiators such as thioxanthones, fluorescent brighteners such as stilbene derivatives, curing agents, dyes, pigments, colorants, light stabilizers , Photosensitizer, thickener, lubricant, defoamer, leveling agent, brightener, heavy It may be mentioned inhibitor, thixotropic agents, plasticizers and antistatic agents.

さらに、本発明の樹脂組成物は、熱重合性モノマー、熱重合性オリゴマー、光重合性モノマー、光重合性オリゴマー、放射線重合性モノマーおよび放射線重合性オリゴマーからなる重合性材料群から選ばれた少なくとも一つの重合性材料をさらに含んでいてもよい。この場合、本発明の樹脂組成物は、これらの重合性材料と本発明の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物からなる難燃剤との重合作用により、熱、紫外線、可視光線などの電磁波および電子ビーム等の電子線などのエネルギー線の照射により硬化させることができる。   Furthermore, the resin composition of the present invention is at least selected from a polymerizable material group consisting of a thermopolymerizable monomer, a thermopolymerizable oligomer, a photopolymerizable monomer, a photopolymerizable oligomer, a radiation polymerizable monomer, and a radiation polymerizable oligomer. One polymerizable material may be further included. In this case, the resin composition of the present invention is heated and irradiated with ultraviolet rays by a polymerization action of these polymerizable materials and a flame retardant comprising an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with the unsaturated carbonyl group of the present invention. It can be cured by irradiation with energy rays such as electromagnetic waves such as visible rays and electron beams such as electron beams.

ここで用いられる上述の重合性材料としては、例えば、ビニル系化合物、ビニリデン系化合物、ジエン化合物、ラクトン、ラクタムおよび環状エーテル等の環状化合物、アクリル系化合物並びにエポキシ系化合物が挙げられる。より具体的には、塩化ビニル、ブタジエン、スチレン、耐衝撃性ポリスチレン前駆体、アクリロニトリル−スチレン樹脂(AS樹脂)前駆体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂(ABS樹脂)前駆体、メチルメタクリレート−ブタジエン−スチレン樹脂(MBS樹脂)前駆体、メチルメタクリレート−アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂(MABS樹脂)前駆体、アクリロニトリル−アクリルゴム−スチレン樹脂(AAS樹脂)前駆体、メチル(メタ)アクリレート、エポキシアクリレート樹脂前駆体、エポキシ化油アクリレート樹脂前駆体、ウレタンアクリレート樹脂前駆体、ポリエステルアクリレート樹脂前駆体、ポリエーテルアクリレート樹脂前駆体、アクリルアクリレート樹脂前駆体、不飽和ポリエステル樹脂前駆体、ビニル/アクリレート樹脂前駆体、ビニルエーテル系樹脂前駆体、ポリエン/チオール樹脂前駆体、シリコンアクリレート樹脂前駆体、ポリブタジエンアクリレート樹脂前駆体、ポリスチリル(エチル)メタクリレート樹脂前駆体、ポリカーボネートアクリレート樹脂前駆体、光または熱硬化性ポリイミド樹脂前駆体、光または熱硬化性ポリフェニレンエーテル樹脂前駆体、光または熱硬化性ケイ素含有樹脂前駆体、光または熱硬化性エポキシ樹脂前駆体、脂環式エポキシ樹脂前駆体、グリシジルエーテルエポキシ樹脂前駆体等を挙げることができる。このうち、スチレン、ブタジエン、エポキシアクリレート樹脂前駆体、ウレタンアクリレート樹脂前駆体およびポリエステルアクリレート樹脂前駆体等が好ましい。これらの重合性材料は、それぞれ単独で用いられてもよいし、二種以上が併用されてもよい。   Examples of the polymerizable material used here include vinyl compounds, vinylidene compounds, diene compounds, cyclic compounds such as lactones, lactams and cyclic ethers, acrylic compounds, and epoxy compounds. More specifically, vinyl chloride, butadiene, styrene, impact polystyrene precursor, acrylonitrile-styrene resin (AS resin) precursor, acrylonitrile-butadiene-styrene resin (ABS resin) precursor, methyl methacrylate-butadiene-styrene. Resin (MBS resin) precursor, methyl methacrylate-acrylonitrile-butadiene-styrene resin (MABS resin) precursor, acrylonitrile-acrylic rubber-styrene resin (AAS resin) precursor, methyl (meth) acrylate, epoxy acrylate resin precursor, Epoxidized oil acrylate resin precursor, urethane acrylate resin precursor, polyester acrylate resin precursor, polyether acrylate resin precursor, acrylic acrylate resin precursor, unsaturated polyester resin Precursor, vinyl / acrylate resin precursor, vinyl ether resin precursor, polyene / thiol resin precursor, silicon acrylate resin precursor, polybutadiene acrylate resin precursor, polystyryl (ethyl) methacrylate resin precursor, polycarbonate acrylate resin precursor, Light or thermosetting polyimide resin precursor, light or thermosetting polyphenylene ether resin precursor, light or thermosetting silicon-containing resin precursor, light or thermosetting epoxy resin precursor, alicyclic epoxy resin precursor, A glycidyl ether epoxy resin precursor etc. can be mentioned. Among these, styrene, butadiene, an epoxy acrylate resin precursor, a urethane acrylate resin precursor, a polyester acrylate resin precursor, and the like are preferable. These polymerizable materials may be used alone or in combination of two or more.

本発明の樹脂組成物を電気・電子分野用の材料、具体的には、LSI等の電子部品の封止剤や基板等に用いる場合、樹脂成分は、エポキシ樹脂が好ましい。利用可能なエポキシ樹脂は、電気、電子分野において通常用いられている各種のものであり、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂およびナフトールノボラック型エポキシ樹脂等の、フェノール類とアルデヒド類との反応により得られるノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール−A型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェノール−A型エポキシ樹脂、ビスフェノール−F型エポキシ樹脂、ビスフェノール−AD型エポキシ樹脂、ビスフェノール−S型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、アルキル置換ビフェノール型エポキシ樹脂、トリス(ヒドロキシフェニル)メタン等のフェノール類とエピクロルヒドリンとの反応により得られるフェノール型エポキシ樹脂、トリメチロールプロパン、オリゴプロピレングリコールおよび水添ビスフェノール−A等のアルコール類とエピクロルヒドリンとの反応により得られる脂肪族エポキシ樹脂、ヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸若しくはフタル酸とエピクロルヒドリン若しくは2−メチルエピクロルヒドリンとの反応により得られるグリシジルエステル系エポキシ樹脂、ジアミノジフェニルメタンやアミノフェノール等のアミンとエピクロルヒドリンとの反応により得られるグリシジルアミン系エポキシ樹脂、イソシアヌル酸等のポリアミンとエピクロルヒドリンとの反応により得られる複素環式エポキシ樹脂、グリシジル基を有するホスファゼン化合物、エポキシ変性ホスファゼン樹脂、環状脂肪族エポキシ樹脂並びにウレタン変性エポキシ樹脂等が挙げられる。これらの中でも、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール−A型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂およびトリス(ヒドロキシフェニル)メタンとエピクロルヒドリンとの反応により得られるフェノール型エポキシ樹脂が好ましい。これらのエポキシ樹脂は、それぞれ単独で使用してもよいし、二種以上のものが併用されてもよい。   When the resin composition of the present invention is used for a material for the electric / electronic field, specifically, a sealant or a substrate for an electronic component such as LSI, the resin component is preferably an epoxy resin. The epoxy resins that can be used are various types that are usually used in the electric and electronic fields. For example, phenol novolac type epoxy resins, brominated phenol novolak type epoxy resins, orthocresol novolak type epoxy resins, and naphthol novolak type epoxy resins. Novolac type epoxy resins obtained by reaction of phenols and aldehydes such as resins, bisphenol-A type epoxy resins, brominated bisphenol-A type epoxy resins, bisphenol-F type epoxy resins, bisphenol-AD type epoxy resins, It is obtained by reaction of phenols such as bisphenol-S type epoxy resin, biphenol type epoxy resin, alkyl-substituted biphenol type epoxy resin, tris (hydroxyphenyl) methane and epichlorohydrin. Aliphatic epoxy resins obtained by reaction of alcohols such as phenolic epoxy resins, trimethylolpropane, oligopropylene glycol and hydrogenated bisphenol-A with epichlorohydrin, hexahydrophthalic acid, tetrahydrophthalic acid or phthalic acid and epichlorohydrin or 2 -Glycidyl ester epoxy resin obtained by reaction with methyl epichlorohydrin, glycidyl amine epoxy resin obtained by reaction of amine such as diaminodiphenylmethane and aminophenol with epichlorohydrin, reaction of polyamine such as isocyanuric acid and epichlorohydrin Heterocyclic epoxy resin, phosphazene compound having glycidyl group, epoxy-modified phosphazene resin, cycloaliphatic epoxy resin Urethane-modified epoxy resins to. Among these, a phenol novolak type epoxy resin, an orthocresol novolak type epoxy resin, a bisphenol-A type epoxy resin, a biphenol type epoxy resin, and a phenol type epoxy resin obtained by a reaction of tris (hydroxyphenyl) methane and epichlorohydrin are preferable. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.

樹脂成分として上述のエポキシ樹脂を用いる場合(以下、「エポキシ樹脂組成物」という場合がある)、本発明の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物からなる難燃剤がエポキシ樹脂組成物中に占める割合は、0.1〜80重量%が好ましく、0.5〜70重量%がより好ましい。不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物からなる難燃剤の割合が0.1重量%未満の場合は、当該エポキシ樹脂組成物からなる樹脂成形体が十分な難燃性を示さないおそれがある。逆に、80重量%を超えると、エポキシ樹脂成分本来の特性を損ない、当該特性による樹脂成形体が得られなくなるおそれがある。   When the above-mentioned epoxy resin is used as the resin component (hereinafter sometimes referred to as “epoxy resin composition”), a flame retardant comprising an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group of the present invention is provided. The proportion of the epoxy resin composition is preferably 0.1 to 80% by weight, and more preferably 0.5 to 70% by weight. When the proportion of the flame retardant comprising an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group is less than 0.1% by weight, the resin molded article comprising the epoxy resin composition is sufficiently flame retardant. May not be indicated. On the other hand, if it exceeds 80% by weight, the original properties of the epoxy resin component may be impaired, and a resin molded product having such properties may not be obtained.

エポキシ樹脂組成物は、通常、硬化剤を含んでいる。硬化剤は、エポキシ樹脂用の硬化剤として用いられるものであれば種類が特に限定されるものではないが、例えば、脂肪族ポリアミン、芳香族ポリアミンおよびポリアミドポリアミン等のポリアミン系硬化剤、無水ヘキサヒドロフタル酸および無水メチルテトラヒドロフタル酸等の酸無水物系硬化剤、フェノールノボラックおよびクレゾールノボラック等のフェノール系硬化剤、水酸基を有するホスファゼン化合物、三フッ化ホウ素等のルイス酸およびそれらの塩類並びにジシアンジアミド類等を挙げることができる。これらは、それぞれ単独で用いてもよく、二種以上併用してもよい。   The epoxy resin composition usually contains a curing agent. The type of curing agent is not particularly limited as long as it is used as a curing agent for epoxy resins. For example, polyamine curing agents such as aliphatic polyamines, aromatic polyamines and polyamide polyamines, anhydrous hexahydro Acid anhydride curing agents such as phthalic acid and methyltetrahydrophthalic anhydride, phenolic curing agents such as phenol novolak and cresol novolak, phosphazene compounds having a hydroxyl group, Lewis acids such as boron trifluoride and their salts, and dicyandiamides Etc. These may be used alone or in combination of two or more.

エポキシ樹脂組成物において、硬化剤の使用量は、エポキシ樹脂のエポキシ基1当量に対して0.5〜1.5当量になるよう設定するのが好ましく、0.6〜1.2当量になるよう設定するのがより好ましい。   In the epoxy resin composition, the amount of the curing agent used is preferably set to be 0.5 to 1.5 equivalents relative to 1 equivalent of the epoxy group of the epoxy resin, and is 0.6 to 1.2 equivalents. It is more preferable to set so.

硬化剤を含むエポキシ樹脂組成物は、硬化促進剤を含んでいてもよい。利用可能な硬化促進剤は、公知の種々のものであり、特に限定されるものではないが、例えば、2−メチルイミダゾールおよび2−エチルイミダゾール等のイミダゾール系化合物、2−(ジメチルアミノメチル)フェノール等の第3アミン系化合物、トリフェニルホスフィン化合物等を挙げることができる。硬化促進剤を用いる場合、その使用量は、エポキシ樹脂100重量部に対して0.01〜15重量部に設定するのが好ましく、0.1〜10重量部に設定するのがより好ましい。   The epoxy resin composition containing a curing agent may contain a curing accelerator. The available curing accelerators are various known ones, and are not particularly limited. For example, imidazole compounds such as 2-methylimidazole and 2-ethylimidazole, 2- (dimethylaminomethyl) phenol And tertiary amine compounds such as triphenylphosphine compounds. When using a hardening accelerator, it is preferable to set the usage-amount to 0.01-15 weight part with respect to 100 weight part of epoxy resins, and it is more preferable to set to 0.1-10 weight part.

エポキシ樹脂組成物は、必要に応じて公知の反応性希釈剤や添加剤が配合されていてもよい。利用可能な反応性希釈剤は、特に限定されるものではないが、例えば、ブチルグリシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエーテルおよびアリルグリシジルエーテル等の脂肪族アルキルグリシジルエーテル、グリシジルメタクリレートおよび3級カルボン酸グリシジルエステル等のアルキルグリシジルエステル、スチレンオキサイドおよびフェニルグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテル、p−s−ブチルフェニルグリシジルエーテルおよびノニルフェニルグリシジルエーテル等の芳香族アルキルグリシジルエーテル等を挙げることができる。これらの反応性希釈剤は、それぞれ単独で用いられてもよいし、二種以上が併用されてもよい。一方、添加剤としては、既述のようなものを用いることができる。   The epoxy resin composition may be blended with known reactive diluents and additives as required. Although the reactive diluent which can be utilized is not specifically limited, For example, aliphatic alkyl glycidyl ethers, such as butyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, and allyl glycidyl ether, glycidyl methacrylate, and tertiary carboxylic acid glycidyl ester And alkyl glycidyl esters such as styrene oxide and phenyl glycidyl ether, cresyl glycidyl ether, ps-butylphenyl glycidyl ether and nonylphenyl glycidyl ether. These reactive diluents may be used alone or in combination of two or more. On the other hand, as the additive, those described above can be used.

上述のエポキシ樹脂組成物等の本発明の樹脂組成物は、各成分を均一に混合することにより得られる。この樹脂組成物は、樹脂成分に応じて100〜250℃程度の温度範囲で1〜36時間放置すると、充分な硬化反応が進行し、硬化物を形成する。例えば、エポキシ樹脂組成物は、通常、150〜250℃の温度で2〜15時間放置すると、充分な硬化反応が進行し、硬化物を形成する。このような硬化過程において、本発明の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物からなる難燃剤は、樹脂成分とともに反応、架橋し、硬化物中において安定に保持されることになるため、当該硬化物の高温信頼性を損ないにくい。また、本発明の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物からなる難燃剤は、そのような硬化物の機械的特性(特に、ガラス転移温度)を損なわずに、その難燃性を高めることができ、また、硬化物に対して低発煙性を付与することができる。このため、本発明の樹脂組成物は、各種の樹脂成形体の製造用材料、塗料用、接着剤用およびその他の用途用として、広く用いることができる。特に、本発明の樹脂組成物は、半導体封止用や回路基板(特に、金属張り積層板、プリント配線板用基板、プリント配線板用接着剤、プリント配線板用接着剤シート、プリント配線板用絶縁性回路保護膜、プリント配線板用導電ペースト、多層プリント配線板用封止剤、回路保護剤、カバーレイフィルム、カバーインク)形成用等の電気・電子部品の製造用材料として好適である。   The resin composition of the present invention such as the above-described epoxy resin composition can be obtained by uniformly mixing each component. When this resin composition is allowed to stand for 1 to 36 hours in a temperature range of about 100 to 250 ° C. depending on the resin component, a sufficient curing reaction proceeds to form a cured product. For example, when the epoxy resin composition is usually left at a temperature of 150 to 250 ° C. for 2 to 15 hours, a sufficient curing reaction proceeds to form a cured product. In such a curing process, the flame retardant comprising the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with the unsaturated carbonyl group of the present invention reacts and crosslinks with the resin component, and is stably held in the cured product. Therefore, it is difficult to impair the high temperature reliability of the cured product. In addition, the flame retardant comprising an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group of the present invention, without impairing the mechanical properties (particularly the glass transition temperature) of such a cured product, Flame retardancy can be increased, and low smoke generation can be imparted to the cured product. For this reason, the resin composition of this invention can be widely used as a material for manufacture of various resin moldings, for coating materials, for adhesives, and for other uses. In particular, the resin composition of the present invention is used for semiconductor encapsulation and circuit boards (in particular, metal-clad laminates, printed wiring board substrates, printed wiring board adhesives, printed wiring board adhesive sheets, and printed wiring board use. Insulating circuit protective films, conductive pastes for printed wiring boards, sealing agents for multilayer printed wiring boards, circuit protective agents, coverlay films, cover inks) and the like are suitable as materials for manufacturing electrical and electronic parts.

重合性組成物
本発明の重合性組成物は、本発明の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物からなる難燃剤を含んでいる。ここで用いられる不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物からなる難燃剤は、二種以上のものであってもよい。
Polymerizable composition The polymerizable composition of the present invention contains a flame retardant comprising an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group of the present invention. Two or more flame retardants composed of an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group may be used.

この重合性組成物は、通常、加熱または紫外線若しくは電子線などのエネルギー線の照射により、不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物からなる難燃剤の間での重合が進行し、重合体が得られる。この重合性組成物を加熱により重合させる場合、重合開始剤を用いるのが好ましい。ここで用いられる重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイドおよびジイソプロピルパーオキシジカーボネート等の過酸化物、2,2−アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス−2,4−ジメチルバレロニトリル、アゾビスシクロヘキシルニトリル、アゾビスシアノ吉草酸および2,2−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)等のアゾ系化合物等を挙げることができる。重合性組成物を加熱により重合させる場合は、通常、有機溶媒中に不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物からなる難燃剤を添加し、これに重合開始剤を添加して加熱するこで重合反応を進行させる。そして、反応終了後、溶媒および重合開始剤を濃縮・洗浄等の操作で除去すると、目的の重合体を得ることができる。例えば、アクリロイルオキシ基若しくはメタクリロイルオキシ基を有する不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物からなる難燃剤の重合体を得る場合は、ベンゼン、トルエン、キシレン、エーテル、テトラヒドロフラン等の有機溶媒中において、ベンゾイルパーオキサイドを重合開始剤として使用し、50℃から溶媒の還流下の温度で1〜20時間反応を行う。そして、反応終了後、溶媒および重合開始剤を濃縮・洗浄等の操作で除去すると、目的の重合体を得ることができる。   This polymerizable composition is usually polymerized between flame retardants composed of an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group by heating or irradiation with energy rays such as ultraviolet rays or electron beams. Proceed to obtain a polymer. When this polymerizable composition is polymerized by heating, it is preferable to use a polymerization initiator. Examples of the polymerization initiator used here include peroxides such as benzoyl peroxide, dicumyl peroxide and diisopropyl peroxydicarbonate, 2,2-azobisisobutyronitrile, azobis-2,4-dimethyl. Examples thereof include azo compounds such as valeronitrile, azobiscyclohexylnitrile, azobiscyanovaleric acid, and 2,2-azobis (2-methylbutyronitrile). When polymerizing a polymerizable composition by heating, usually a flame retardant comprising an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group is added to an organic solvent, and a polymerization initiator is added thereto. Then, the polymerization reaction proceeds by heating. And after completion | finish of reaction, a target polymer can be obtained by removing a solvent and a polymerization initiator by operation, such as concentration and washing | cleaning. For example, when obtaining a flame retardant polymer comprising an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group having an acryloyloxy group or a methacryloyloxy group, benzene, toluene, xylene, ether, tetrahydrofuran, etc. In the organic solvent, benzoyl peroxide is used as a polymerization initiator, and the reaction is carried out at a temperature from 50 ° C. to reflux of the solvent for 1 to 20 hours. And after completion | finish of reaction, a target polymer can be obtained by removing a solvent and a polymerization initiator by operation, such as concentration and washing | cleaning.

一方、この重合性組成物をエネルギー線の照射により重合させる場合、光重合開始剤と、必要に応じて増感剤を用いるのが好ましい。ここで用いられる光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤、スルホニウム系光重合開始剤およびヨードニウム系光重合開始剤等を挙げることができる。また、増感剤としては、例えば第三級アミン等が用いられる。重合性組成物をエネルギー線の照射により重合させる場合は、通常、重合性組成物に対して光重合開始剤および必要に応じて増感剤を添加し、これに対して各種のエネルギー線を照射すると、目的の重合物を得ることができる。例えば、アクリロイルオキシ基若しくはメタクリロイルオキシ基を有する不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物からなる難燃剤の重合物を得る場合は、重合性組成物に対してベンゾフェノンを光重合性開始剤として添加し、400ワットの高圧水銀ランプで紫外線を30秒間照射すると、目的の重合体を得ることが出来る。   On the other hand, when this polymerizable composition is polymerized by irradiation with energy rays, it is preferable to use a photopolymerization initiator and, if necessary, a sensitizer. Examples of the photopolymerization initiator used here include an acetophenone photopolymerization initiator, a benzophenone photopolymerization initiator, a benzoin photopolymerization initiator, a thioxanthone photopolymerization initiator, a sulfonium photopolymerization initiator, and an iodonium system. A photoinitiator etc. can be mentioned. Moreover, as a sensitizer, a tertiary amine etc. are used, for example. When the polymerizable composition is polymerized by irradiation with energy rays, usually a photopolymerization initiator and a sensitizer are added to the polymerizable composition as necessary, and various energy rays are irradiated to this. Then, the target polymer can be obtained. For example, when obtaining a polymer of a flame retardant comprising an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group having an acryloyloxy group or a methacryloyloxy group, benzophenone is used for the polymerizable composition. When added as a polymerization initiator and irradiated with ultraviolet rays for 30 seconds with a 400 watt high-pressure mercury lamp, the desired polymer can be obtained.

本発明の重合性組成物は、必要に応じ、本発明の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物からなる難燃剤と共重合可能な他の重合性材料を含んでいてもよい。ここで用いられる重合性材料は、特に限定されるものではないが、通常、芳香族ビニルモノマー、極性官能基含有ビニルモノマーおよびビニルエーテルモノマーなどのビニル基を有する化合物が好ましく用いられる。これらの重合性材料は、二種以上のものが併用されてもよい。芳香族ビニルモノマーとしては、例えば、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレンおよびブロモスチレン等が挙げられる。このうち、スチレンが特に好ましい。極性官能基含有ビニルモノマーとしては、例えば、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、アクリル酸、メタアクリル酸、アクリル酸メチル、メタアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタアクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、メタアクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、メタアクリル酸ブチル、アクリル酸オクチル、メタアクリル酸オクチル、アクリル酸ノニル、メタアクリル酸ノニル、アクリル酸ヒドロキシエチル、メタアクリル酸ヒドロキシエチル、アクリル酸ビニルおよびメタアクリル酸ビニル等のアクリル酸エステル若しくはメタアクリル酸エステル並びに酢酸ビニル、酪酸ビニル、カプロン酸ビニルおよびステアリン酸ビニル等のビニルエステル等が挙げられる。このうち、アクリロニトリル、アクリル酸メチルおよびメタアクリル酸メチルが特に好ましい。ビニルエーテルモノマーとしては、通常、ジビニルエーテル類を用いるのが好ましい。   The polymerizable composition of the present invention contains other polymerizable material copolymerizable with a flame retardant comprising an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group of the present invention, if necessary. May be. The polymerizable material used here is not particularly limited, but usually a compound having a vinyl group such as an aromatic vinyl monomer, a polar functional group-containing vinyl monomer and a vinyl ether monomer is preferably used. Two or more of these polymerizable materials may be used in combination. Examples of the aromatic vinyl monomer include styrene, methyl styrene, dimethyl styrene, ethyl styrene, isopropyl styrene, chlorostyrene, dichlorostyrene, and bromostyrene. Of these, styrene is particularly preferred. Examples of the polar functional group-containing vinyl monomer include vinyl chloride, vinylidene chloride, acrylonitrile, acrylic acid, methacrylic acid, methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, propyl acrylate, and methacrylic. Propyl butyl, butyl acrylate, butyl methacrylate, octyl acrylate, octyl methacrylate, nonyl acrylate, nonyl methacrylate, hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl methacrylate, vinyl acrylate, vinyl methacrylate, etc. And vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl caproate and vinyl stearate. Of these, acrylonitrile, methyl acrylate and methyl methacrylate are particularly preferred. As the vinyl ether monomer, it is usually preferable to use divinyl ethers.

さらに、本発明の重合性組成物は、必要に応じて公知の反応性希釈剤や添加剤を含んでいてもよい。利用可能な反応性希釈剤は、特に限定されるものではないが、例えば、ブチルグリシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエーテルおよびアリルグリシジルエーテル等の脂肪族アルキルグリシジルエーテル、グリシジルメタクリレートおよび3級カルボン酸グリシジルエステル等のアルキルグリシジルエステル、スチレンオキサイド、フェニルグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテル、p−s−ブチルフェニルグリシジルエーテルおよびノニルフェニルグリシジルエーテル等の芳香族アルキルグリシジルエーテル等を挙げることができる。これらの反応性希釈剤は、それぞれ単独で用いられてもよいし、二種以上が併用されてもよい。一方、本発明の樹脂組成物において用いられるものと同様のものを用いることができる。   Furthermore, the polymerizable composition of the present invention may contain a known reactive diluent or additive as necessary. Although the reactive diluent which can be utilized is not specifically limited, For example, aliphatic alkyl glycidyl ethers, such as butyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, and allyl glycidyl ether, glycidyl methacrylate, and tertiary carboxylic acid glycidyl ester And alkyl glycidyl esters such as styrene oxide, phenyl glycidyl ether, cresyl glycidyl ether, ps-butylphenyl glycidyl ether, and nonylphenyl glycidyl ether. These reactive diluents may be used alone or in combination of two or more. On the other hand, the thing similar to what is used in the resin composition of this invention can be used.

なお、本発明の重合性組成物は、各成分を均一に混合することにより得られる。   In addition, the polymeric composition of this invention is obtained by mixing each component uniformly.

本発明の重合性組成物は、通常、150〜250℃の温度で2〜15時間加熱すると充分な硬化反応が進行し、硬化物(重合体)になるため、樹脂成形体を製造するための材料になり得る。このようにして得られる硬化物は、耐熱特性、電気特性、機械的特性(特に、高いガラス転移温度および密着性)および高温信頼性に優れており、また、不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物からなる難燃剤に基づく優れた難燃性および低発煙性を示す。このため、この重合性組成物は、各種の樹脂成形体の製造用材料、塗料用、接着剤用およびその他の用途用として、広く用いることができる。特に、この重合性組成物は、半導体封止用や回路基板(特に、金属張り積層板、プリント配線板用基板、プリント配線板用接着剤、プリント配線板用接着剤シート、プリント配線板用絶縁性回路保護膜、プリント配線板用導電ペースト、多層プリント配線板用封止剤、回路保護剤、カバーレイフィルム、カバーインク)形成用等の電気・電子部品の製造用材料として好適である。   When the polymerizable composition of the present invention is heated at a temperature of 150 to 250 ° C. for 2 to 15 hours, a sufficient curing reaction proceeds and becomes a cured product (polymer). Can be a material. The cured product thus obtained has excellent heat resistance, electrical properties, mechanical properties (especially high glass transition temperature and adhesion), and high temperature reliability, and oligo modified with an unsaturated carbonyl group ( It exhibits excellent flame retardancy and low smoke generation based on a flame retardant comprising a phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound. For this reason, this polymerizable composition can be widely used as a material for production of various resin molded products, a coating material, an adhesive, and other uses. In particular, this polymerizable composition is suitable for semiconductor encapsulation and circuit boards (particularly metal-clad laminates, printed wiring board substrates, printed wiring board adhesives, printed wiring board adhesive sheets, printed wiring board insulation). Suitable for use in the production of electrical / electronic parts such as conductive circuit protective films, conductive pastes for printed wiring boards, sealing agents for multilayer printed wiring boards, circuit protective agents, coverlay films, cover inks).

以下に実施例および比較例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらにより何ら限定されるものではない。なお、以下において、「unit mol」の「unit」は、環状ホスファゼン化合物の最小構成単位、例えば、一般式(1)については(PNA)を意味し、一般式(4)については(PNG)を意味する。一般式(7)において、Qが塩素の場合、その1unit molは115.87gである。また、以下においては、特に断りがない限り、「%」および「部」とあるのは、それぞれ「重量%」および「重量部」を意味する。 EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited by these. In the following, “unit” in “unit mol” means the smallest structural unit of the cyclic phosphazene compound, for example, (PNA 2 ) for general formula (1), and (PNG 2 ) for general formula (4). ). In the general formula (7), when Q is chlorine, its 1 unit mol is 115.87 g. In the following, unless otherwise specified, “%” and “parts” mean “% by weight” and “parts by weight”, respectively.

合成例および実施例等で得られたホスファゼン化合物は、H−NMRスペクトルおよび31P−NMRスペクトルの測定、CHN元素分析、IRスペクトルの測定、アルカリ溶融後の硝酸銀を用いた電位差滴定法による塩素元素(残留塩素)の分析、マイクロウエーブ湿式分解後のICP−AESによるリン元素の分析並びにTOF−MS分析の結果に基づいて同定した。また、分子量(数平均分子量)は、JIS K7252−2008「プラスチック−サイズ排除クロマトグラフィーによる高分子の平均分子量及び分子量分布の求め方」に従い、Waters社製ゲルパーミエーションクロマトグラフィー「2695」、東ソー株式会社製のカラム「TSKgel Super HZM−M」(2本)およびWaters社製示差屈折計(DRI detector:商品名「2414」)を使用して、40℃にてテトラヒドロフラン0.25mL/分の条件で測定した。ここで、測定対象物質の分子量は、6種類の標準ポリスチレン(分子量1,110,000、397,000、98,900、17,100、5,870および1,010)を用いて作成した較正曲線から算出した。 The phosphazene compounds obtained in the synthesis examples and the examples include 1 H-NMR spectrum and 31 P-NMR spectrum measurement, CHN elemental analysis, IR spectrum measurement, chlorine by potentiometric titration using silver nitrate after alkali melting. It was identified based on the results of elemental (residual chlorine) analysis, phosphorus elemental analysis by ICP-AES after microwave wet decomposition, and TOF-MS analysis. In addition, the molecular weight (number average molecular weight) is determined according to JIS K7252-2008 “How to determine the average molecular weight and molecular weight distribution of polymers by plastic-size exclusion chromatography”, Waters gel permeation chromatography “2695”, Tosoh Corporation Using a company-made column “TSKgel Super HZM-M” (two) and a Waters differential refractometer (DRI detector: trade name “2414”) at 40 ° C. under conditions of 0.25 mL / min of tetrahydrofuran It was measured. Here, the molecular weight of the substance to be measured is a calibration curve prepared using six types of standard polystyrene (molecular weights 1110,000, 397,000, 98,900, 17,100, 5,870 and 1,010). Calculated from

また、オリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の水酸基当量は以下の方法で測定した。   Moreover, the hydroxyl equivalent of the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound was measured by the following method.

水酸基当量(g/eq.:1当量のヒドロキシ基を含む樹脂の質量g)は、オリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物をクロロホルムに溶解後、0.1Nテトラエチルアンモニウムヒドロキシドのメタノール溶液を添加し、激しく撹拌後、318nmの吸光度を測定した。0.1Nテトラエチルアンモニウムヒドロキシト゛のメタノール溶液を添加した場合と添加しない場合との吸光度の差から求めた。   Hydroxyl equivalent (g / eq .: mass g of resin containing 1 equivalent of hydroxy group) is obtained by dissolving a oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound in chloroform and then adding a methanol solution of 0.1N tetraethylammonium hydroxide. After vigorous stirring, the absorbance at 318 nm was measured. It was determined from the difference in absorbance between when 0.1 M tetraethylammonium hydroxide in methanol was added and when it was not added.

合成例1(形態2に係るオリゴ(フェニレンオキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
温度計、撹拌機および冷却管を備え付けた3リットルの四つ口フラスコに、平均組成が[N(OC(CHOH)2.1(OC3.9]のヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物(100g,0.38unit mol)、旭化成ケミカルズ社製のポリフェニレンエーテル(670g、数平均分子量:17,000)およびトルエン(2,000mL)を加えて、90℃で加熱、溶解させ、その中に過酸化ベンゾイル(20g,0.082mol)を加えて90℃で1時間反応した。そして、この反応混合物をメタノール(6,000mL)に投入して得られた沈殿物を濾別した。その沈殿をメタノール(1,200mL)で洗浄後、減圧乾燥することで、オリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物744gを得た(収率96.6%)。なお、収率はポリフェニレンエーテルが全てヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物に再分配した場合を100%として算出した。得られたオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の分析結果は次のとおりである。
Synthesis Example 1 (Oligo according to Form 2 (Production of phenyleneoxy group-containing cyclic phosphazene compound))
An average composition of [N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 OH) 2.1 (OC 6 H 5 ) 3] was added to a 3 liter four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer and a condenser. .9 ] hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound (100 g, 0.38 unit mol), polyphenylene ether (670 g, number average molecular weight: 17,000) and toluene (2,000 mL) manufactured by Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd. Then, benzoyl peroxide (20 g, 0.082 mol) was added thereto and reacted at 90 ° C. for 1 hour. And the precipitate obtained by throwing this reaction mixture into methanol (6,000 mL) was separated by filtration. The precipitate was washed with methanol (1,200 mL) and then dried under reduced pressure to obtain 744 g of an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound (yield 96.6%). The yield was calculated by assuming that 100% of the polyphenylene ether was redistributed to the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound. The analysis results of the obtained oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound are as follows.

H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.0〜2.2(267H),6.3〜6.6(89H),6.7〜7.3(19H)
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.5〜10.0
◎水酸基当量
2,800g/eq.(理論値2,825g/eq.)
◎ゲルパーミエーションクロマトグラフィー:
数平均分子量 5,900
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.0-2.2 (267H), 6.3-6.6 (89H), 6.7-7.3 (19H)
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.5 to 10.0
◎ Hydroxyl equivalent 2,800 g / eq. (Theoretical value 2,825 g / eq.)
◎ Gel permeation chromatography:
Number average molecular weight 5,900

ゲルパーミエーションクロマトグラフィーの分析結果を図1に示す。図において、反応開始前はポリフェニレンエーテルのピークが保持時間24.5分に検出されており、また、ヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物のピークが保持時間30.4分に検出されている。一方、反応開始1時間後には、保持時間24.5分および30.4分にピークは検出されず、保持時間25.8分に単一のピークが検出されている。また、最終生成物(反応により得られた沈殿を濾別して洗浄したもの)については、25.9分に単一のピークとして検出されている。 The analysis result of gel permeation chromatography is shown in FIG. In the figure, the peak of polyphenylene ether was detected at a retention time of 24.5 minutes before the start of the reaction, and the peak of a hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound was detected at a retention time of 30.4 minutes. On the other hand, 1 hour after the start of the reaction, no peak was detected at retention times 24.5 and 30.4 minutes, and a single peak was detected at retention time 25.8 minutes. The final product (the precipitate obtained by the reaction was filtered and washed) was detected as a single peak at 25.9 minutes.

以上の分析結果から、この工程で得た生成物は、その構造は[N{OC(CH(OC(CH)20.2OH}2.1(OC3.9]の環状ホスファゼン化合物であることを確認した。 From the above analysis results, the structure of the product obtained in this step is [N 3 P 3 {OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 ) 20.2 OH} 2 .1 (OC 6 H 5 ) 3.9 ] was confirmed to be a cyclic phosphazene compound.

合成例2(形態2に係るオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
温度計、撹拌機、空気導入管および冷却管を備え付けた3リットルの四つ口フラスコに、平均組成が[N(OC(CHOH)2.1(OC3.9]のヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物(100g,0.38unit mol)、塩化銅(I)(3.4g,0.034mol)、ジブチルアミン(200g,1.55mol)およびニトロベンゼン(1,500mL)を加えて、40℃に加熱した。空気を吹き込みながら2,6−キシレノール(366.5g,3.00mol)のニトロベンゼン(1,000mL)溶液を6時間かけて滴下し、その後40℃で24時間反応した。エチレンジアミン四酢酸を添加して反応を停止後、反応混合物を減圧濃縮した。その濃縮残渣をメタノール(6,000mL)に投入して得られた沈殿物を濾別した。その沈殿をメタノール(1,200mL)で洗浄後、減圧乾燥することで、オリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物375gを得た(収率88.6%)。得られたオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の分析結果は以下のとおりである。
Synthesis Example 2 (Production of oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound according to form 2)
An average composition of [N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 OH) 2.1 (OC 6] was added to a 3 liter four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, an air introduction tube and a cooling tube. H 5 ) 3.9 ] hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound (100 g, 0.38 unit mol), copper (I) chloride (3.4 g, 0.034 mol), dibutylamine (200 g, 1.55 mol) and nitrobenzene ( 1,500 mL) was added and heated to 40 ° C. While blowing air, a solution of 2,6-xylenol (366.5 g, 3.00 mol) in nitrobenzene (1,000 mL) was added dropwise over 6 hours, and then reacted at 40 ° C. for 24 hours. After stopping the reaction by adding ethylenediaminetetraacetic acid, the reaction mixture was concentrated under reduced pressure. The concentrated residue was poured into methanol (6,000 mL), and the resulting precipitate was filtered off. The precipitate was washed with methanol (1,200 mL) and then dried under reduced pressure to obtain 375 g of an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound (yield 88.6%). The analysis results of the obtained oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound are as follows.

H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.0〜2.2(137H),6.3〜6.6(46H),6.7〜7.3(20H)
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.5〜10.0
◎水酸基当量
1,500g/eq.(理論値1,564g/eq.)
◎ゲルパーミエーションクロマトグラフィー:
数平均分子量 3,300
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.0-2.2 (137H), 6.3-6.6 (46H), 6.7-7.3 (20H)
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.5 to 10.0
◎ Hydroxyl equivalent 1,500 g / eq. (Theoretical value 1,564 g / eq.)
◎ Gel permeation chromatography:
Number average molecular weight 3,300

以上の分析結果から、この工程で得た生成物は、その組成が[N{OC(CH(OC(CH)9.9OH}2.1(OC3.9]の環状ホスファゼン化合物であることを確認した。 From the above analysis results, the product obtained in this step has a composition of [N 3 P 3 {OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 ) 9.9 OH} 2. .1 (OC 6 H 5 ) 3.9 ] was confirmed to be a cyclic phosphazene compound.

合成例3(形態2に係るオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
合成例1で使用したヒドロキシ基含有ホスファゼン化合物に替えて平均組成が[N(OC(CH)OH)2.0(OC4.0]のヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物(100g,0.40unit mol)を用いた以外は、合成例1と同様に操作し、オリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物744gを得た(収率96.6%)。得られたオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の分析結果は以下のとおりである。
Synthesis Example 3 (Production of oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound according to form 2)
Hydroxyl group-containing with an average composition of [N 3 P 3 (OC 6 H 2 (CH 3 ) OH) 2.0 (OC 6 H 5 ) 4.0 ] instead of the hydroxy group-containing phosphazene compound used in Synthesis Example 1 Except for using the cyclic phosphazene compound (100 g, 0.40 unit mol), the same operation as in Synthesis Example 1 was performed to obtain 744 g of an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound (yield 96.6%). The analysis results of the obtained oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound are as follows.

H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.0〜2.2(244H),6.3〜6.6(85H),6.7〜7.3(20H),
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.6〜10.0
◎水酸基当量
2,900g/eq.(理論値2,804g/eq.)
◎ゲルパーミエーションクロマトグラフィー
数平均分子量 5,800
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.0 to 2.2 (244H), 6.3 to 6.6 (85H), 6.7 to 7.3 (20H),
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.6-10.0
◎ Hydroxyl equivalent 2,900 g / eq. (Theoretical value 2,804 g / eq.)
◎ Gel permeation chromatography number average molecular weight 5,800

合成例1と同様に、反応開始1時間後にはヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物のピークが消失し、仕込んだポリフェニレンエーテルのピークが低分子量側に変化して単一のピークとなった。 Similar to Synthesis Example 1, the peak of the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound disappeared 1 hour after the start of the reaction, and the peak of the charged polyphenylene ether changed to the low molecular weight side to become a single peak.

以上の分析結果から、この工程で得た生成物は、その組成が[N{OC(CH)(OC(CH)20.9OH}2.0(OC4.0]の環状ホスファゼン化合物であることを確認した。 From the above analysis results, the product obtained in this step has a composition of [N 3 P 3 {OC 6 H 3 (CH 3 ) (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 ) 20.9 OH} 2. 0 (OC 6 H 5 ) 4.0 ] was confirmed to be a cyclic phosphazene compound.

合成例4(形態2に係るオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
温度計、撹拌機および冷却管を備え付けた3リットルの四つ口フラスコに、平均組成が[N(OCOH)2.2(OC3.8]のヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物(50g,0.21unit mol)、10%水酸化カリウム水溶液(3,750mL、6.68mol)及びフェリシアン化カリウム(395g、1.2mol)トルエン(1,000mL)を仕込み、内温20〜40℃で4−ブロモ−2,6−キシレノール(638g,3.17mol)のトルエン(1,200mL)溶液を3時間かけて滴下した。反応混合物を同温度で1時間撹拌した後に、分液ロートに移して水層を分離した。有機層を濃縮後、残渣をメタノール(5,000g)に投入して得られた沈殿物を濾別した。その沈殿をメタノール(1,000g)で洗浄後、減圧乾燥してオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物(396g、収率92.1%)を得た。
Synthesis Example 4 (Production of oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound according to form 2)
Hydroxy having a mean composition of [N 3 P 3 (OC 6 H 4 OH) 2.2 (OC 6 H 5 ) 3.8 ] in a 3 liter four-necked flask equipped with a thermometer, stirrer and condenser. A group-containing cyclic phosphazene compound (50 g, 0.21 unit mol), a 10% aqueous potassium hydroxide solution (3,750 mL, 6.68 mol) and potassium ferricyanide (395 g, 1.2 mol) and toluene (1,000 mL) were charged, and the internal temperature A solution of 4-bromo-2,6-xylenol (638 g, 3.17 mol) in toluene (1,200 mL) was added dropwise at 20 to 40 ° C. over 3 hours. The reaction mixture was stirred at the same temperature for 1 hour and then transferred to a separatory funnel to separate the aqueous layer. After the organic layer was concentrated, the residue was poured into methanol (5,000 g), and the resulting precipitate was filtered off. The precipitate was washed with methanol (1,000 g) and dried under reduced pressure to obtain an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound (396 g, yield 92.1%).

H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.0〜2.2(125H),6.3〜6.6(50H),6.7〜7.3(19H)
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.6〜10.0
◎水酸基当量
1,500g/eq.(理論値1,473g/eq.)
◎ゲルパーミエーションクロマトグラフィー:
数平均分子量 3,240
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.0-2.2 (125H), 6.3-6.6 (50H), 6.7-7.3 (19H)
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.6-10.0
◎ Hydroxyl equivalent 1,500 g / eq. (Theoretical value 1,473 g / eq.)
◎ Gel permeation chromatography:
Number average molecular weight 3,240

以上の分析結果から、この工程で得た生成物は、その組成が[N{OC(OC(CH)9.5OH}2.2(OC3.8]の環状ホスファゼン化合物であることを確認した。 From the above analysis results, the product obtained in this step has a composition of [N 3 P 3 {OC 6 H 4 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 ) 9.5 OH} 2.2 (OC 6 H 5 ) 3.8 ] was confirmed to be a cyclic phosphazene compound.

合成例5(形態1に係るオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
温度計、撹拌機および冷却管を備え付けた3リットルの四つ口フラスコに、平均組成が[N(OCOH)]のヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物(100g,0.38unit mol)、数平均分子量18,000のポリフェニレンエーテル(旭化成ケミカルズ、670g)及びトルエン(1,200mL)およびn−プロパノール(600mL)を加えて、90℃で加熱、溶解した。過酸化ベンゾイル(20g,0.082mol)を加えて90℃で60分反応した後、反応混合物をメタノール(6,000mL)に投入して得られた沈殿物を濾別した。その沈殿をメタノール(1,200mL)で洗浄後、減圧乾燥してオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物(726g、収率94.3%)を得た。なお、収率はポリフェニレンエーテルが全てヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物に再分配した場合を100%として算出した。
Synthesis Example 5 (Production of oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound according to Form 1)
Hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound (100 g, 0.38 unit) having an average composition of [N 3 P 3 (OC 6 H 4 OH) 6 ] in a 3 liter four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer and a condenser. mol), polyphenylene ether having a number average molecular weight of 18,000 (Asahi Kasei Chemicals, 670 g), toluene (1,200 mL) and n-propanol (600 mL) were added, and the mixture was heated and dissolved at 90 ° C. After adding benzoyl peroxide (20 g, 0.082 mol) and reacting at 90 ° C. for 60 minutes, the reaction mixture was poured into methanol (6,000 mL), and the resulting precipitate was filtered off. The precipitate was washed with methanol (1,200 mL) and dried under reduced pressure to obtain an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound (726 g, yield 94.3%). The yield was calculated by assuming that 100% of the polyphenylene ether was redistributed to the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound.

H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.0〜2.2(252H),6.3〜6.6(108H)
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.6〜10.0
◎水酸基当量
1,000g/eq.(理論値972g/eq.)
◎ゲルパーミエーションクロマトグラフィー:
数平均分子量 5,700
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.0-2.2 (252H), 6.3-6.6 (108H)
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.6-10.0
◎ Hydroxyl equivalent 1,000 g / eq. (Theoretical value 972 g / eq.)
◎ Gel permeation chromatography:
Number average molecular weight 5,700

合成例1と同様に、反応開始1時間後にはヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物のピークが消失し、仕込んだポリフェニレンエーテルのピークが低分子量側に変化して単一のピークとなった。   Similar to Synthesis Example 1, the peak of the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound disappeared 1 hour after the start of the reaction, and the peak of the charged polyphenylene ether changed to the low molecular weight side to become a single peak.

以上の分析結果から、この工程で得た生成物は、その組成が[N{OC(OC(CH)7.0OH}]の環状ホスファゼン化合物であることを確認した。 From the above analysis results, the product obtained in this step is a cyclic phosphazene compound whose composition is [N 3 P 3 {OC 6 H 4 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 ) 7.0 OH} 6 ]. It was confirmed that.

合成例6(形態2に係るオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
合成例1で使用したヒドロキシ基含有ホスファゼン化合物に替えて平均組成が[NP(OCOH)(OCCH)]のヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物(100g,0.38unit mol)を用いた以外は、合成例1と同様に操作し、オリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物740gを得た(収率96.1%)。得られたオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の分析結果は以下のとおりである。
Synthesis Example 6 (Production of oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound according to form 2)
In place of the hydroxy group-containing phosphazene compound used in Synthesis Example 1, an average composition of [NP (OC 6 H 4 OH) (OC 6 H 5 CH 3 )] n hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound (100 g, 0.38 unit mol) ) Was used in the same manner as in Synthesis Example 1 to obtain 740 g of an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound (yield 96.1%). The analysis results of the obtained oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound are as follows.

H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.0〜2.2(242H),6.3〜6.6(89H),6.7〜7.3(19H)
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.6〜10.0
◎水酸基当量
1,900g/eq.(理論値1,967g/eq.)
◎ゲルパーミエーションクロマトグラフィー:
数平均分子量 7,100
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.0-2.2 (242H), 6.3-6.6 (89H), 6.7-7.3 (19H)
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.6-10.0
◎ Hydroxyl equivalent 1,900 g / eq. (Theoretical value 1,967 g / eq.)
◎ Gel permeation chromatography:
Number average molecular weight 7,100

合成例1と同様に、反応開始1時間後にはヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物のピークが消失し、仕込んだポリフェニレンエーテルのピークが低分子量側に変化して単一のピークとなった。 Similar to Synthesis Example 1, the peak of the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound disappeared 1 hour after the start of the reaction, and the peak of the charged polyphenylene ether changed to the low molecular weight side to become a single peak.

以上の分析結果から、この工程で得た生成物は、その組成が[NP{OC(OC(CH)14.2OH}(OCCH)]の環状ホスファゼン化合物であることを確認した。 From the above analysis results, the product obtained in this step has a composition of [NP {OC 6 H 4 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 ) 14.2 OH} (OC 6 H 4 CH 3 )] It was confirmed that this was a cyclic phosphazene compound of n .

合成例7(フェノキシ基全置換環状ホスファゼン化合物の製造)
PHOSPHORUS−NITROGEN COMPOUNDS、H.R.ALLCOCK著、1972年刊、151頁、ACADEMIC PRESS社に記載されている方法に従い、ヘキサクロロシクロトリホスファゼン81%とオクタクロロシクロテトラホスファゼン19%とのシクロホスファゼン混合物を用いて[N=P(OCと[N=P(OCとの混合物
(白色固体/融点:65〜112℃)を得た。
Synthesis Example 7 (Production of phenoxy group fully substituted cyclic phosphazene compound)
PHOSPHORUS-NITROGEN COMPOUNDS, H.P. R. According to the method described in ALLCOCK, 1972, page 151, ACADEMIC PRESS, using a cyclophosphazene mixture of 81% hexachlorocyclotriphosphazene and 19% octachlorocyclotetraphosphazene [N = P (OC 6 H 5 ) 2 ] 3 and a mixture of [N = P (OC 6 H 5 ) 2 ] 4 (white solid / melting point: 65-112 ° C.).

実施例1(形態2に係る不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
温度計、撹拌機を取り付けた1リットルの4つ口フラスコに、窒素気流下、合成例1で製造したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物(100g,0.05unit mol)、アクリル酸クロライド(6.8g,0.08mol)、合成ゼオライト(3A)250gおよびメチルエチルケトン(700mL)を仕込み、還流下24時間撹拌した。反応終了後、合成ゼオライトを濾過にて除去し、濾液を減圧濃縮することで不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物98g(収率96%)を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
Example 1 (Production of oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with unsaturated carbonyl group according to Form 2)
A 1 liter four-necked flask equipped with a thermometer and a stirrer was subjected to an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound (100 g, 0.05 unit mol), acrylic acid chloride (prepared in Synthesis Example 1) under a nitrogen stream. 6.8 g, 0.08 mol), 250 g of synthetic zeolite (3A) and methyl ethyl ketone (700 mL) were charged and stirred for 24 hours under reflux. After completion of the reaction, synthetic zeolite was removed by filtration, and the filtrate was concentrated under reduced pressure to obtain 98 g (yield 96%) of an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group. The analysis result of this product was as follows.

◎IRスペクトル(KBr Pellet,cm−1
2737,1732,1634,1171
H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.0〜2.2(267H),5.9〜6.1(4H),6.3〜6.6(91H),6.7〜7.3(19H)
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.6〜10.0
◎ IR spectrum (KBr Pellet, cm −1 )
2737, 1732, 1634, 1171
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.0-2.2 (267H), 5.9-6.1 (4H), 6.3-6.6 (91H), 6.7-7.3 (19H)
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.6-10.0

以上の分析結果から、この工程で得た生成物は、その構造は[N{OC(CH(OC(CH)20.2OCOCHCH}2.1(OC3.9]の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物であることを確認した。 From the above analysis results, the product obtained in this step has a structure of [N 3 P 3 {OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 ) 20.2 OCOCHCH 2 }. 2.1 (OC 6 H 5 ) 3.9 ] was confirmed to be an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group.

実施例2(形態2に係る不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
温度計、撹拌機を取り付けた1リットルの4つ口フラスコに、窒素気流下、合成例2で製造したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物(100g,0.09unit mol)、アクリル酸クロライド(12.7g,0.14mol)、合成ゼオライト(3A)250gおよびメチルエチルケトン(700mL)を仕込み、還流下24時間撹拌した。反応終了後、合成ゼオライトを濾過にて除去し、濾液を減圧濃縮することで不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物98g(収率95%)を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
Example 2 (Production of oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with unsaturated carbonyl group according to Form 2)
To a 1 liter four-necked flask equipped with a thermometer and a stirrer, an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound (100 g, 0.09 unit mol), acrylic acid chloride (prepared in Synthesis Example 2) under a nitrogen stream 12.7 g, 0.14 mol), 250 g of synthetic zeolite (3A) and methyl ethyl ketone (700 mL) were charged and stirred for 24 hours under reflux. After completion of the reaction, synthetic zeolite was removed by filtration, and the filtrate was concentrated under reduced pressure to obtain 98 g (yield 95%) of an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group. The analysis result of this product was as follows.

◎IRスペクトル(KBr Pellet,cm−1
2737,1732,1634,1171
H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.0〜2.2(137H),5.9〜6.1(4H),6.3〜6.6(48H),6.7〜7.3(20H)
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.6〜10.0
◎ IR spectrum (KBr Pellet, cm −1 )
2737, 1732, 1634, 1171
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.0-2.2 (137H), 5.9-6.1 (4H), 6.3-6.6 (48H), 6.7-7.3 (20H)
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.6-10.0

以上の分析結果から、この工程で得た生成物は、その構造は[N{OC(CH(OC(CH)9.9OCOCHCH}2.1(OC3.9]の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物であることを確認した。 From the above analysis results, the product obtained in this step has a structure of [N 3 P 3 {OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 ) 9.9 OCOCHCH 2 }. 2.1 (OC 6 H 5 ) 3.9 ] was confirmed to be an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group.

実施例3(形態2に係る不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
温度計、撹拌機を取り付けた1リットルの4つ口フラスコに、窒素気流下、合成例3で製造したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物(100g,0.05unit mol)、アクリル酸クロライド(6.5g,0.07mol)、合成ゼオライト(3A)250gおよびメチルエチルケトン(700mL)を仕込み、還流下24時間撹拌した。反応終了後、合成ゼオライトを濾過にて除去し、濾液を減圧濃縮することで不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物98g(収率97%)を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
Example 3 (Production of oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with unsaturated carbonyl group according to Form 2)
A 1 liter four-necked flask equipped with a thermometer and a stirrer was charged with an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound (100 g, 0.05 unit mol), acrylic acid chloride (prepared in Synthesis Example 3) under a nitrogen stream. 6.5 g, 0.07 mol), 250 g of synthetic zeolite (3A) and methyl ethyl ketone (700 mL) were charged and stirred for 24 hours under reflux. After completion of the reaction, synthetic zeolite was removed by filtration, and the filtrate was concentrated under reduced pressure to obtain 98 g (yield 97%) of an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group. The analysis result of this product was as follows.

◎IRスペクトル(KBr Pellet,cm−1
2737,1732,1634,1171
H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.0〜2.2(257H),5.9〜6.1(4H),6.3〜6.6(90H),6.7〜7.3(20H)
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.6〜10.0
◎ IR spectrum (KBr Pellet, cm −1 )
2737, 1732, 1634, 1171
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.0-2.2 (257H), 5.9-6.1 (4H), 6.3-6.6 (90H), 6.7-7.3 (20H)
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.6-10.0

以上の分析結果から、この工程で得た生成物は、その構造は[N{OC(CH)(OC(CH)20.9OCOCHCH}2.1(OC3.9]の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物であることを確認した。 From the above analysis results, the product obtained in this step has a structure of [N 3 P 3 {OC 6 H 2 (CH 3 ) (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 ) 20.9 OCOCHCH 2 } 2. .1 (OC 6 H 5 ) 3.9 ] was confirmed to be an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group.

実施例4(形態2に係る不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
温度計、撹拌機を取り付けた1リットルの4つ口フラスコに、窒素気流下、合成例4で製造したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物(100g,0.09unit mol)、アクリル酸クロライド(12.7g,0.14mol)、合成ゼオライト(3A)250gおよびメチルエチルケトン(700mL)を仕込み、還流下24時間撹拌した。反応終了後、合成ゼオライトを濾過にて除去し、濾液を減圧濃縮することで不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物99g(収率96%)を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
Example 4 (Production of oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with unsaturated carbonyl group according to Form 2)
A 1 liter four-necked flask equipped with a thermometer and a stirrer was subjected to an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound (100 g, 0.09 unit mol), acrylic acid chloride (prepared in Synthesis Example 4) under a nitrogen stream. 12.7 g, 0.14 mol), 250 g of synthetic zeolite (3A) and methyl ethyl ketone (700 mL) were charged and stirred for 24 hours under reflux. After completion of the reaction, synthetic zeolite was removed by filtration, and the filtrate was concentrated under reduced pressure to obtain 99 g (yield 96%) of an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group. The analysis result of this product was as follows.

◎IRスペクトル(KBr Pellet,cm−1
2737,1732,1634,1171
H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.0〜2.2(125H),5.9〜6.1(4H),6.3〜6.6(53H),6.7〜7.3(20H)
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.6〜10.0
◎ IR spectrum (KBr Pellet, cm −1 )
2737, 1732, 1634, 1171
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.0-2.2 (125H), 5.9-6.1 (4H), 6.3-6.6 (53H), 6.7-7.3 (20H)
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.6-10.0

以上の分析結果から、この工程で得た生成物は、その構造は[N{OC(OC(CH)9.5OCOCHCH}2.2(OC3.8]の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物であることを確認した。 From the above analysis results, the product obtained in this step has a structure of [N 3 P 3 {OC 6 H 4 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 ) 9.5 OCOCHCH 2 } 2.2 (OC 6 H 5 ) 3.8 ] was confirmed to be an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group.

実施例5(形態1に係る不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
温度計、撹拌機を取り付けた1リットルの4つ口フラスコに、窒素気流下、合成例5で製造したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物(100g,0.05unit mol)、アクリル酸クロライド(19.0g,0.21mol)、合成ゼオライト(3A)250gおよびメチルエチルケトン(700mL)を仕込み、還流下24時間撹拌した。反応終了後、合成ゼオライトを濾過にて除去し、濾液を減圧濃縮することで不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物100g(収率96%)を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
Example 5 (Production of oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group according to Form 1)
In a 1 liter four-necked flask equipped with a thermometer and a stirrer, an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound (100 g, 0.05 unit mol), acrylic acid chloride (prepared in Synthesis Example 5) was added under a nitrogen stream. 19.0 g, 0.21 mol), 250 g of synthetic zeolite (3A) and methyl ethyl ketone (700 mL) were charged and stirred for 24 hours under reflux. After completion of the reaction, the synthetic zeolite was removed by filtration, and the filtrate was concentrated under reduced pressure to obtain 100 g (yield 96%) of an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group. The analysis result of this product was as follows.

◎IRスペクトル(KBr Pellet,cm−1
2737,1732,1634,1171
H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.0〜2.2(252H),5.9〜6.1(12H),6.3〜6.6(114H)
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.6〜10.0
◎ IR spectrum (KBr Pellet, cm −1 )
2737, 1732, 1634, 1171
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.0-2.2 (252H), 5.9-6.1 (12H), 6.3-6.6 (114H)
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.6-10.0

以上の分析結果から、この工程で得た生成物は、その構造は[N{OC(OC(CH)7.0OCOCHCH}]の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物であることを確認した。 From the above analysis results, the product obtained in this step has an unsaturated structure of [N 3 P 3 {OC 6 H 4 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 ) 7.0 OCOCHCH 2 } 6 ]. It was confirmed to be an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a carbonyl group.

実施例6(形態2に係る不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
温度計、撹拌機を取り付けた1リットルの4つ口フラスコに、窒素気流下、合成例6で製造したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物(100g,0.05unit mol)、アクリル酸クロライド(10.1g,0.11mol)、合成ゼオライト(3A)250gおよびメチルエチルケトン(700mL)を仕込み、還流下24時間撹拌した。反応終了後、合成ゼオライトを濾過にて除去し、濾液を減圧濃縮することで不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物99g(収率96%)を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
Example 6 (Production of oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with unsaturated carbonyl group according to Form 2)
A 1 liter four-necked flask equipped with a thermometer and a stirrer was charged with an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound (100 g, 0.05 unit mol), acrylic acid chloride (prepared in Synthesis Example 6) under a nitrogen stream. 10.1 g, 0.11 mol), 250 g of synthetic zeolite (3A) and methyl ethyl ketone (700 mL) were charged and stirred for 24 hours under reflux. After completion of the reaction, synthetic zeolite was removed by filtration, and the filtrate was concentrated under reduced pressure to obtain 99 g (yield 96%) of an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group. The analysis result of this product was as follows.

◎IRスペクトル(KBr Pellet,cm−1
2737,1732,1634,1171
H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.0〜2.2(91H),5.9〜6.1(2H),6.3〜6.6(33H),6.7〜7.3(4H)
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.6〜10.0
◎ IR spectrum (KBr Pellet, cm −1 )
2737, 1732, 1634, 1171
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.0-2.2 (91H), 5.9-6.1 (2H), 6.3-6.6 (33H), 6.7-7.3 (4H)
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.6-10.0

以上の分析結果から、この工程で得た生成物は、その構造は[NP{OC(OC(CH)14.6OCOCHCH}(OCCH)]の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物であることを確認した。 From the above analysis results, the product obtained in this step has a structure of [NP {OC 6 H 4 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 ) 14.6 OCOCHCH 2 } (OC 6 H 4 CH 3 ). It was confirmed that it was an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group of n .

実施例7(形態2に係る不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
実施例1で使用したアクリル酸クロライドに替えてメタクリル酸クロライド(7.9g,0.08mol)を用いた以外は、実施例1と同様に操作し、不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物99g(収率97%)を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
Example 7 (Production of oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with unsaturated carbonyl group according to Form 2)
An oligo (phenyleneoxy) modified with an unsaturated carbonyl group was operated in the same manner as in Example 1 except that methacrylic acid chloride (7.9 g, 0.08 mol) was used instead of the acrylic acid chloride used in Example 1. ) 99 g (yield 97%) of a group-containing cyclic phosphazene compound was obtained. The analysis result of this product was as follows.

◎IRスペクトル(KBr Pellet,cm−1
2737,1732,1634,1171
H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
1.9〜2.2(273H),5.6〜6.2(4H),6.3〜6.6(91H),6.7〜7.3(19H)
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.6〜10.0
◎ IR spectrum (KBr Pellet, cm −1 )
2737, 1732, 1634, 1171
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
1.9 to 2.2 (273H), 5.6 to 6.2 (4H), 6.3 to 6.6 (91H), 6.7 to 7.3 (19H)
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.6-10.0

以上の分析結果から、この工程で得た生成物は、その構造は[N{OC(CH(OC(CH)20.2OCOC(CH)CH}2.1(OC3.9]の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物であることを確認した。 From the above analysis results, the product obtained in this step has the structure [N 3 P 3 {OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 ) 20.2 OCOC (CH 3) was confirmed to be a CH 2} 2.1 (OC 6 H 5) 3.9] oligo (phenylene) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group.

実施例8(形態2に係る不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
実施例2で使用したアクリル酸クロライドに替えてメタクリル酸クロライド(14.7g,0.14mol)を用いた以外は、実施例2と同様に操作し、不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物100g(収率96%)を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
Example 8 (Production of oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with unsaturated carbonyl group according to Form 2)
An oligo (phenyleneoxy) modified with an unsaturated carbonyl group was operated in the same manner as in Example 2 except that methacrylic acid chloride (14.7 g, 0.14 mol) was used instead of the acrylic acid chloride used in Example 2. ) 100 g (yield 96%) of a group-containing cyclic phosphazene compound was obtained. The analysis result of this product was as follows.

◎IRスペクトル(KBr Pellet,cm−1
2737,1732,1634,1171
H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.0〜2.2(143H),5.6〜6.2(4H),6.3〜6.6(48H),6.7〜7.3(20H)
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.6〜10.0
◎ IR spectrum (KBr Pellet, cm −1 )
2737, 1732, 1634, 1171
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.0-2.2 (143H), 5.6-6.2 (4H), 6.3-6.6 (48H), 6.7-7.3 (20H)
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.6-10.0

以上の分析結果から、この工程で得た生成物は、その構造は[N{OC(CH(OC(CH)9.9OCOC(CH)CH}2.1(OC3.9]の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物であることを確認した。 From the above analysis results, the product obtained in this step has the structure [N 3 P 3 {OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 ) 9.9 OCOC (CH 3) was confirmed to be a CH 2} 2.1 (OC 6 H 5) 3.9] oligo (phenylene) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group.

実施例9(形態2に係る不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
実施例3で使用したアクリル酸クロライドに替えてメタクリル酸クロライド(7.4g,0.07mol)を用いた以外は、実施例3と同様に操作し、不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物99g(収率97%)を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
Example 9 (Production of oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with unsaturated carbonyl group according to Form 2)
An oligo (phenyleneoxy) modified with an unsaturated carbonyl group was operated in the same manner as in Example 3 except that methacrylic acid chloride (7.4 g, 0.07 mol) was used instead of the acrylic acid chloride used in Example 3. ) 99 g (yield 97%) of a group-containing cyclic phosphazene compound was obtained. The analysis result of this product was as follows.

◎IRスペクトル(KBr Pellet,cm−1
2737,1732,1634,1171
H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.0〜2.2(263H),5.6〜6.2(4H),6.3〜6.6(90H),6.7〜7.3(20H)
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.6〜10.0
◎ IR spectrum (KBr Pellet, cm −1 )
2737, 1732, 1634, 1171
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.0-2.2 (263H), 5.6-6.2 (4H), 6.3-6.6 (90H), 6.7-7.3 (20H)
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.6-10.0

以上の分析結果から、この工程で得た生成物は、その構造は[N{OC(CH)(OC(CH)20.9OCOC(CH)CH}2.1(OC3.9]の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物であることを確認した。 From the above analysis results, the product obtained in this step has the structure [N 3 P 3 {OC 6 H 2 (CH 3 ) (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 ) 20.9 OCOC (CH 3 ) CH 2 } 2.1 (OC 6 H 5 ) 3.9 ] was confirmed to be an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group.

実施例10(形態2に係る不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
実施例4で使用したアクリル酸クロライドに替えてメタクリル酸クロライド(14.7g,0.14mol)を用いた以外は、実施例4と同様に操作し、不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物100g(収率96%)を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
Example 10 (Production of oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with unsaturated carbonyl group according to Form 2)
An oligo (phenyleneoxy) modified with an unsaturated carbonyl group was operated in the same manner as in Example 4 except that methacrylic acid chloride (14.7 g, 0.14 mol) was used instead of the acrylic acid chloride used in Example 4. ) 100 g (yield 96%) of a group-containing cyclic phosphazene compound was obtained. The analysis result of this product was as follows.

◎IRスペクトル(KBr Pellet,cm−1
2737,1732,1634,1171
H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.0〜2.2(132H),5.6〜6.2(4H),6.3〜6.6(53H),6.7〜7.3(20H)
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.6〜10.0
◎ IR spectrum (KBr Pellet, cm −1 )
2737, 1732, 1634, 1171
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.0-2.2 (132H), 5.6-6.2 (4H), 6.3-6.6 (53H), 6.7-7.3 (20H)
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.6-10.0

以上の分析結果から、この工程で得た生成物は、その構造は[N{OC(OC(CH)9.5OCOC(CH)CH}2.2(OC3.8]の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物であることを確認した。 From the above analysis results, the structure of the product obtained in this step is [N 3 P 3 {OC 6 H 4 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 ) 9.5 OCOC (CH 3 ) CH 2 }. 2.2 (OC 6 H 5 ) 3.8 ] was confirmed to be an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group.

実施例11(形態1に係る不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
実施例5で使用したアクリル酸クロライドに替えてメタクリル酸クロライド(21.9g,0.21mol)を用いた以外は、実施例5と同様に操作し、不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物98g(収率95%)を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
Example 11 (Production of oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group according to Form 1)
An oligo (phenyleneoxy) modified with an unsaturated carbonyl group was operated in the same manner as in Example 5 except that methacrylic acid chloride (21.9 g, 0.21 mol) was used instead of the acrylic acid chloride used in Example 5. ) 98 g (yield 95%) of a group-containing cyclic phosphazene compound was obtained. The analysis result of this product was as follows.

◎IRスペクトル(KBr Pellet,cm−1
2737,1732,1634,1171
H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.0〜2.2(270H),5.6〜6.2(12H),6.3〜6.6(114H)
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.6〜10.0
◎ IR spectrum (KBr Pellet, cm −1 )
2737, 1732, 1634, 1171
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.0-2.2 (270H), 5.6-6.2 (12H), 6.3-6.6 (114H)
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.6-10.0

以上の分析結果から、この工程で得た生成物は、その構造は[N{OC(OC(CH)7.0OCOC(CH)CH}]の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物であることを確認した。 From the above analysis results, the structure of the product obtained in this step is [N 3 P 3 {OC 6 H 4 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 ) 7.0 OCOC (CH 3 ) CH 2 }. 6 ] was confirmed to be an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group.

実施例12(形態2に係る不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
実施例6で使用したアクリル酸クロライドに替えてメタクリル酸クロライド(11.6g,0.11mol)を用いた以外は、実施例6と同様に操作し、不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物98g(収率95%)を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
Example 12 (Production of oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with unsaturated carbonyl group according to Form 2)
An oligo (phenyleneoxy) modified with an unsaturated carbonyl group was operated in the same manner as in Example 6 except that methacrylic acid chloride (11.6 g, 0.11 mol) was used instead of the acrylic acid chloride used in Example 6. ) 98 g (yield 95%) of a group-containing cyclic phosphazene compound was obtained. The analysis result of this product was as follows.

◎IRスペクトル(KBr Pellet,cm−1
2737,1732,1634,1171
H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.0〜2.2(94H),5.6〜6.2(2H),6.3〜6.6(33H),6.7〜7.3(4H)
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.6〜10.0
◎ IR spectrum (KBr Pellet, cm −1 )
2737, 1732, 1634, 1171
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
2.0-2.2 (94H), 5.6-6.2 (2H), 6.3-6.6 (33H), 6.7-7.3 (4H)
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.6-10.0

以上の分析結果から、この工程で得た生成物は、その構造は[NP{OC(OC(CH)14.6OCOC(CH)CH}(OCCH)]の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物であることを確認した。 From the above analysis results, the product obtained in this step has the structure [NP {OC 6 H 4 (OC 6 H 2 (CH 3 ) 2 ) 14.6 OCOC (CH 3 ) CH 2 } (OC 6 H 4 CH 3 )] It was confirmed to be an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group of n .

実施例13〜24(樹脂組成物の調製)
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業株式会社の商品名「エピクロン850S」:エポキシ当量180)、数平均分子量(Mn)が約19,000のポリフェニレンエーテル樹脂(旭化成ケミカルズ株式会社製)および実施例1〜12で得られた不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物を表1に示す割合でトルエンに配合し、70℃に加熱したオイルバス中で30分撹拌して均一に溶解した。さらに140℃のオイルバス中で2時間加熱してトルエンを除去し、次いで減圧濃縮機を用いて140℃、1mmHg以下の環境で2時間減圧乾燥することでトルエンを完全に除去した。
Examples 13 to 24 (Preparation of resin composition)
Bisphenol A type epoxy resin (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd. trade name “Epicron 850S”: epoxy equivalent 180), polyphenylene ether resin (manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation) having a number average molecular weight (Mn) of about 19,000 The oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group obtained in Examples 1 to 12 was blended with toluene at the ratio shown in Table 1, and stirred for 30 minutes in an oil bath heated to 70 ° C. And evenly dissolved. Furthermore, the toluene was removed by heating in an oil bath at 140 ° C. for 2 hours, and then the toluene was completely removed by drying under reduced pressure for 2 hours in an environment of 140 ° C. and 1 mmHg or less using a vacuum concentrator.

得られた混合物を110℃に保ち、硬化剤としてジアミノジフェニルメタン1部と、硬化促進剤として2−エチル−4−メチルイミダゾール0.1部とを添加した。この混合物を加熱しながら1分間充分に撹拌した後、型に流し込んだ。そして、100℃、0MPaで2分間、130℃、1MPaで2分間、および180℃、3MPaで10分間の順に熱プレス機で硬化させた後、型から取りだし、最後に180℃で3時間硬化させることにより、記の評価項目に合わせた試験片を作製した。得られた試験片について、難燃性、誘電特性および高温信頼性評価した結果を表1および表2に示す。評価結果は次の通りである。   The obtained mixture was kept at 110 ° C., and 1 part of diaminodiphenylmethane as a curing agent and 0.1 part of 2-ethyl-4-methylimidazole as a curing accelerator were added. The mixture was sufficiently stirred for 1 minute while being heated, and then poured into a mold. Then, after curing with a hot press machine in order of 100 ° C., 0 MPa for 2 minutes, 130 ° C., 1 MPa for 2 minutes, and 180 ° C., 3 MPa for 10 minutes, take out from the mold, and finally cure at 180 ° C. for 3 hours. Thus, a test piece was prepared in accordance with the evaluation items described above. Tables 1 and 2 show the results of evaluation of flame retardancy, dielectric properties, and high temperature reliability of the obtained test pieces. The evaluation results are as follows.

(難燃性)
アンダーライターラボラトリーズ(Underwriter’s Laboratories Inc.)のUL−94規格垂直燃焼試験に基づき、長さ125mm、幅12.5mmおよび厚み1.5mmの試験片を用いて実施し、10回接炎時合計燃焼時間と燃焼時の滴下物による綿着火の有無により、V−0、V−1、V−2および規格外の四段階の難燃性クラスに分類判定した。V−0が最高評価であり、V−1、V−2、規格外の順に評価が下がる。
(Flame retardance)
Based on UL-94 standard vertical combustion test of Underwriters' Laboratories Inc., using test pieces with a length of 125 mm, a width of 12.5 mm and a thickness of 1.5 mm It was classified into V-0, V-1, V-2, and non-standard four-stage flame retardant classes according to the combustion time and the presence or absence of cotton ignition by droppings during combustion. V-0 is the highest evaluation, and the evaluation decreases in the order of V-1, V-2, and non-standard.

(高温信頼性:プレッシャークッカー試験、温度121℃、圧力0.2MPa)
長さ15mm、幅15mmおよび厚み3mmの試験片を蒸留水5mLとともに容量15mLのポリテトラフルオロエチレン製容器に入れ、更にこの容器を鋼鉄製の容器に入れ完全に密封した。鋼鉄製の容器を121℃で100時間放置した後、試験片を取り出し、外観変化を観察した。評価の基準は次の通りである。
(High temperature reliability: Pressure cooker test, temperature 121 ° C., pressure 0.2 MPa)
A test piece having a length of 15 mm, a width of 15 mm, and a thickness of 3 mm was placed in a polytetrafluoroethylene container having a capacity of 15 mL together with 5 mL of distilled water, and the container was further sealed in a steel container. After leaving the steel container at 121 ° C. for 100 hours, the test piece was taken out and the appearance change was observed. The criteria for evaluation are as follows.

○:環状ホスファゼン化合物のブリードアウトによる外観変化がなく、高温信頼性がある。
×:環状ホスファゼン化合物のブリードアウトによる外観変化があり、高温信頼性がない。
○: No change in appearance due to bleeding out of cyclic phosphazene compound, and high temperature reliability.
X: There is a change in appearance due to bleeding out of the cyclic phosphazene compound, and there is no high temperature reliability.

(誘電特性)
長さ50mm、幅50mmおよび厚さ2.0mmの試験片について、JIS C2138「比誘電率および誘電正接の測定方法」に従って周波数1GHzの比誘電率と誘電正接を測定した。
(Dielectric properties)
With respect to a test piece having a length of 50 mm, a width of 50 mm, and a thickness of 2.0 mm, the relative dielectric constant and dielectric loss tangent at a frequency of 1 GHz were measured in accordance with JIS C2138 “Measurement method of relative dielectric constant and dielectric loss tangent”.

比較例1〜2(樹脂組成物の調製)
実施例1〜12で製造した環状ホスファゼン化合物に代えて、合成例7で製造した環状ホスファゼン化合物を使用した以外は、実施例13〜24と同様に操作し、樹脂組成物を得た。そして、この樹脂組成物を実施例13〜24と同様の方法・条件にて成形、硬化し、硬化された樹脂シートを得た。この樹脂シートについて、実施例13〜24と同様に難燃性、誘電特性、高温信頼性を評価した。結果を表2に示す。

Comparative Examples 1-2 (Preparation of resin composition)
Resin compositions were obtained in the same manner as in Examples 13 to 24 except that the cyclic phosphazene compound produced in Synthesis Example 7 was used instead of the cyclic phosphazene compound produced in Examples 1 to 12. And this resin composition was shape | molded and hardened in the same method and conditions as Examples 13-24, and the cured resin sheet was obtained. About this resin sheet, the flame retardance, dielectric property, and high temperature reliability were evaluated similarly to Examples 13-24. The results are shown in Table 2.







表1および表2によると実施例13〜24の樹脂組成物は優れた難燃性および高温信頼性を示し、しかも優れた電気特性を有している。   According to Table 1 and Table 2, the resin composition of Examples 13-24 showed the outstanding flame retardance and high temperature reliability, and also has the outstanding electrical property.

合成例8(2官能PPEオリゴマーの合成)
撹拌機、温度計、還流冷却管および空気導入管を備えた2リットルのガラス製フラスコ中に、CuCl1.3g(0.012mol)、ジ−n−ブチルアミン70.7g(0.55mol)およびメチルエチルケトン500mlを仕込み、反応温度40℃にて撹拌を行い、予めメチルエチルケトン1,000mlに溶解させた4,4’−(1−メチルエチリデン)ビス(2,6−ジメチルフェノール)45.4g(0.16mol)と2,6−ジメチルフェノール58.6g(0.48mol)を2リットル/分の空気のバブリングを行いながら2時間かけて滴下し、さらに滴下終了後1時間、2リットル/分の空気のバブリングを続けながら撹拌を行った。これにエチレンジアミン四酢酸二水素二ナトリウム水溶液を加え、反応を停止した。その後、3%塩酸水溶液で3回洗浄を行った後、イオン交換水でさらに洗浄を行った。得られた溶液を濃縮し、さらに減圧乾燥を行い、両末端にヒドロキシル基を有するPPEオリゴマーを100.9g得た。このオリゴマーは、数平均分子量が860、重量平均分子量が1150、水酸基当量が454g/eq.であった。
Synthesis Example 8 (Synthesis of bifunctional PPE oligomer)
In a 2 liter glass flask equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser and air inlet tube, 1.3 g (0.012 mol) of CuCl, 70.7 g (0.55 mol) of di-n-butylamine and 500 ml of methyl ethyl ketone Was stirred at a reaction temperature of 40 ° C., and 45.4 g (0.16 mol) of 4,4 ′-(1-methylethylidene) bis (2,6-dimethylphenol) previously dissolved in 1,000 ml of methyl ethyl ketone. And 58.6 g (0.48 mol) of 2,6-dimethylphenol were added dropwise over 2 hours while bubbling air at 2 liters / minute, and after 1 hour after completion of the dropwise addition, air was bubbled at 2 liters / minute. Stirring was performed while continuing. Ethylenediaminetetraacetic acid dihydrogen disodium aqueous solution was added thereto to stop the reaction. Thereafter, washing was performed 3 times with a 3% hydrochloric acid aqueous solution, followed by further washing with ion-exchanged water. The obtained solution was concentrated and further dried under reduced pressure to obtain 100.9 g of a PPE oligomer having hydroxyl groups at both ends. This oligomer has a number average molecular weight of 860, a weight average molecular weight of 1150, and a hydroxyl group equivalent of 454 g / eq. Met.

次に、撹拌機、温度計および還流冷却管を備えた1リットルのガラス製フラスコ中に、上記工程で得られた両末端にヒドロキシル基を有するPPEオリゴマー50g(水酸基0.11mol)、炭酸カリウム15.3gおよびアセトン400mlを仕込み、窒素下で3時間還流した。その後、6−ブロモ−1−ヘキサノール22.1gを1時間かけて滴下し、滴下終了後に24時間還流した。反応後、反応液を塩酸で中和し、多量の脱イオン水を加えて生成物を沈殿させ、トルエンを加えて抽出を行った。得られた溶液を濃縮してメタノール中に滴下して再沈殿を行い、ろ過して固体を回収した後、減圧乾燥を行った。これにより、両末端にヒドロキシルヘキシル基を有するPPEオリゴマー55.5gを得た。このオリゴマーは、数平均分子量が1,045、重量平均分子量が1,390、水酸基当量が551g/eq.であった。   Next, in a 1 liter glass flask equipped with a stirrer, a thermometer and a reflux condenser, 50 g of PPE oligomers having hydroxyl groups at both ends obtained in the above step (hydroxyl group 0.11 mol), potassium carbonate 15 .3 g and 400 ml of acetone were charged and refluxed for 3 hours under nitrogen. Thereafter, 22.1 g of 6-bromo-1-hexanol was added dropwise over 1 hour, and the mixture was refluxed for 24 hours after completion of the addition. After the reaction, the reaction solution was neutralized with hydrochloric acid, a large amount of deionized water was added to precipitate the product, and toluene was added for extraction. The obtained solution was concentrated and dropped into methanol for reprecipitation, and the solid was recovered by filtration, followed by drying under reduced pressure. As a result, 55.5 g of a PPE oligomer having hydroxyl hexyl groups at both ends was obtained. This oligomer has a number average molecular weight of 1,045, a weight average molecular weight of 1,390, and a hydroxyl group equivalent of 551 g / eq. Met.

次に、撹拌機、温度計および還流冷却管を備えた0.3リットルのガラス製フラスコ中に、上記工程で得られた両末端にヒドロキシルヘキシル基を有するPPEオリゴマー30g、アクリル酸クロライド6.0g、トリエチルアミントルエン7.0g、ハイドロキノン0.03gおよびトルエン100mlを仕込んだ。そして、これを加熱還流して2時間反応した。反応後、反応混合物を濃縮し、トルエン60mlを添加した。これを2%塩酸で2回洗浄し、次に脱イオン水で3回洗浄した。これにより、トルエンを減圧留去して両末端にアクリレート基を有するPPEオリゴマー30.3gを得た。この両末端にアクリレート基を有するPPEオリゴマーは、数平均分子量が1,190、重量平均分子量が1,590であった。   Next, in a 0.3 liter glass flask equipped with a stirrer, a thermometer and a reflux condenser, 30 g of PPE oligomer having hydroxyl hexyl groups at both ends obtained in the above step, 6.0 g of acrylic acid chloride 7.0 g of triethylamine toluene, 0.03 g of hydroquinone and 100 ml of toluene were charged. This was heated to reflux and reacted for 2 hours. After the reaction, the reaction mixture was concentrated and 60 ml of toluene was added. This was washed twice with 2% hydrochloric acid and then three times with deionized water. Thereby, toluene was distilled off under reduced pressure to obtain 30.3 g of a PPE oligomer having acrylate groups at both ends. The PPE oligomer having acrylate groups at both ends had a number average molecular weight of 1,190 and a weight average molecular weight of 1,590.

実施例25〜36(樹脂組成物の調製)
合成例8で得られた両末端にアクリレート基を有するPPEオリゴマー45.0g、実施例1〜12で得られた環状ホスファゼン化合物15.0g、EO変性ビスフェノールAジアクリレート(新中村化学工業株式会社の商品名“NKエステル A−BPE−10”)5.0g、2,2‘−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)0.5gおよびトルエン60mlを混合・溶解した後、150℃で溶融、脱気して樹脂組成物を得た。この樹脂組成物をシート状に成形し、これを6時間200℃で加熱した。これにより、硬化された樹脂シートを得た。この樹脂シートについて、実施例13〜24と同様にして燃焼性(難燃性)、高温信頼性および電気特性を測定した。結果を表3および表4に示す。
Examples 25-36 (Preparation of resin composition)
45.0 g of PPE oligomer having an acrylate group at both ends obtained in Synthesis Example 8, 15.0 g of the cyclic phosphazene compound obtained in Examples 1 to 12, EO-modified bisphenol A diacrylate (of Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) Product name “NK Ester A-BPE-10”) 5.0 g, 2,2′-azobisisobutyronitrile (AIBN) 0.5 g and toluene 60 ml were mixed and dissolved, then melted and degassed at 150 ° C. Thus, a resin composition was obtained. This resin composition was molded into a sheet and heated at 200 ° C. for 6 hours. Thereby, a cured resin sheet was obtained. About this resin sheet, it carried out similarly to Examples 13-24, and measured combustibility (flame retardance), high temperature reliability, and an electrical property. The results are shown in Table 3 and Table 4.

比較例3,4(樹脂組成物の調製)
実施例1〜12で製造した環状ホスファゼン化合物に代えて、合成例7で製造した環状ホスファゼン化合物を使用した点を除いて実施例25〜36と同様に操作し、樹脂組成物を得た。そして、この樹脂組成物を実施例25〜36と同様の方法・条件にて成形、硬化し、硬化された樹脂シートを得た。この樹脂シートについて、実施例25〜36と同様に難燃性、誘電特性、高温信頼性を評価した。結果を表4に示す。


















Comparative Examples 3 and 4 (Preparation of resin composition)
A resin composition was obtained in the same manner as in Examples 25 to 36 except that the cyclic phosphazene compound produced in Synthesis Example 7 was used instead of the cyclic phosphazene compound produced in Examples 1 to 12. And this resin composition was shape | molded and hardened in the same method and conditions as Examples 25-36, and the cured resin sheet was obtained. About this resin sheet, the flame retardance, dielectric property, and high temperature reliability were evaluated similarly to Examples 25-36. The results are shown in Table 4.




















表3および4から明らかなように、実施例25〜36の硬化シートは、比較例3および4のものに比べ、難燃性に優れ、高温信頼性および電気特性も優れている。

As is clear from Tables 3 and 4, the cured sheets of Examples 25 to 36 are superior in flame retardancy, high temperature reliability, and electrical characteristics as compared with those in Comparative Examples 3 and 4.

Claims (11)

下記の式(1)で表される、不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物。
式(1)中、nは1〜6の整数を示し、Aは下記のA1基およびA2基からなる群から選ばれた基を示し、かつ少なくとも一つがA2基である。
A1基:炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数6〜20のアリールオキシ基。
A2基:下記の式(2)で示される不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
式(2)中、E〜Eはそれぞれ独立の置換基であって、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基、並びに炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されてもよい炭素数6〜20のアリール基から選ばれる基であり、かつ少なくとも一つが下記の式(3)で示されるオリゴ(フェニレンオキシ)基である。
式(3)中、qは1〜50の整数(1を除く)を示し、Yはアクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基から選ばれる不飽和カルボニルオキシ基であり、E〜Eは、それぞれ独立の置換基であって、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基およびアルケニル基、並びに炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されてもよい炭素数6〜20のアリール基から選ばれる基を示す。
An oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group, represented by the following formula (1).
(In Formula (1), n shows the integer of 1-6, A shows group selected from the group which consists of following A1 group and A2 group, and at least one is A2 group.
Group A1: An aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms, which may be substituted with at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group.
Group A2: a group selected from the group consisting of an oligo (phenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group modified with an unsaturated carbonyl group represented by the following formula (2).
In formula (2) , E 1 to E 5 are each an independent substituent, and are a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, alkenyl. At least one group selected from a group and an aryl group is a group selected from an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted, and at least one is an oligo (phenyleneoxy) represented by the following formula (3) It is a group.
In the formula (3), q represents an integer of 1 to 50 (excluding 1) , Y is an unsaturated carbonyloxy group selected from an acryloyloxy group and a methacryloyloxy group, and E 6 to E 9 are each independently In which at least one group selected from a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and an alkenyl group, and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted. The group chosen from a C6-C20 aryl group is shown. )
A2基が、不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニレンオキシ基、不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換メチルフェニレンオキシ基、不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換ジメチルフェニレンオキシ基、不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニレンオキシ基、不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換メチルフェニレンオキシ基および不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換ジメチルフェニレンオキシ基からなる群から選ばれる少なくとも一つである、請求項1に記載の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物。   A2 group was modified with an oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted phenyleneoxy group modified with an unsaturated carbonyl group, an oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted methylphenyleneoxy group modified with an unsaturated carbonyl group, or an unsaturated carbonyl group Oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted dimethylphenyleneoxy group, oligo (dimethylphenyleneoxy) group-modified phenyleneoxy group modified with unsaturated carbonyl group, oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted methylphenyleneoxy modified with unsaturated carbonyl group The oligo (dimethylphenyleneoxy) group modified with an unsaturated carbonyl group according to claim 1, which is at least one selected from the group consisting of a substituted dimethylphenyleneoxy group and an oligo (dimethylphenyleneoxy) group modified with a group and an unsaturated carbonyl group. Oxy) group containing a cyclic phosphazene compound. 式(1)のnが1若しくは2である、請求項1または2に記載の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物。 N is 1 or 2 of the formula (1), according to claim 1 or 2 oligos modified with an unsaturated carbonyl group according to (phenylene) group-containing cyclic phosphazene compound. 式(1)において、(2n+4)個のAのうちの1〜(2n+2)個がA2基である、請求項1から3のいずれかに記載の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物。   The oligo (phenyleneoxy) modified with an unsaturated carbonyl group according to any one of claims 1 to 3, wherein 1 to (2n + 2) of (2n + 4) A in formula (1) is an A2 group. Group-containing cyclic phosphazene compounds. 式(1)のnが異なる二種以上のものを含んでいる、請求項1から4のいずれかに記載の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物。   The oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group according to any one of claims 1 to 4, which contains two or more compounds having different n in formula (1). 下記の式(4)で表される、オリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物と、アクリル酸、メタクリル酸およびそれらの誘導体から選ばれる少なくとも一種の化合物とを反応させる工程を含む請求項1に記載の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法。
式(4)中、mは1〜6の整数を示し、Gは下記のG1基およびG2基からなる群から選ばれた基を示し、かつ少なくとも一つがG2基である。
G1基:炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数6〜20のアリールオキシ基。
G2基:下記の式(5)で示されるオリゴ(フェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
式(5)中、E10〜E14はそれぞれ独立の置換基であって、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基、並びに炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されてもよい炭素数6〜20のアリール基から選ばれる基であり、かつ少なくとも一つが下記の式(6)で示されるオリゴ(フェニレンオキシ)基である。
式()中、tは1〜50の整数(1を除く)を示し、E15〜E18は、それぞれ独立の置換基であって、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基およびアルケニル基、並びに炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されてもよい炭素数6〜20のアリール基から選ばれる基を示す。
The process comprising reacting an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound represented by the following formula (4) with at least one compound selected from acrylic acid, methacrylic acid and derivatives thereof: The manufacturing method of the oligo (phenyleneoxy) group containing cyclic phosphazene compound modified | denatured by the unsaturated carbonyl group of description.
(In the formula (4), m represents an integer of 1 to 6, G represents a group selected from the group consisting of the following G1 group and G2 group, and at least one is a G2 group.
G1 group: an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms in which at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.
G2 group: a group selected from the group consisting of an oligo (phenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group represented by the following formula (5).
In formula (5) , E 10 to E 14 are each an independent substituent, and are a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, alkenyl. At least one group selected from a group and an aryl group is a group selected from an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted, and at least one is an oligo (phenyleneoxy) represented by the following formula (6) It is a group.
Wherein (6), t represents an integer (excluding 1) of 1 to 50, E 15 to E 18 is a independent substituent, a hydrogen atom, an alkyl group and an alkenyl having 1 to 6 carbon atoms And a group selected from an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted. )
請求項1から5のいずれかに記載の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物を単独若しくは二種類以上を混合してなる樹脂組成物。   A resin composition comprising the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group according to any one of claims 1 to 5 alone or in combination of two or more. 樹脂成分と、請求項1から5のいずれかに記載の不飽和カルボニル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物と、を含む樹脂組成物。   A resin composition comprising a resin component and an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with an unsaturated carbonyl group according to any one of claims 1 to 5. 前記樹脂成分が、エポキシ樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリスルホン樹脂、フェノキシ樹脂、ビスマレイミド樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、オキセタン樹脂、シアン酸エステル樹脂およびビスマレイミド−シアン酸エステル樹脂からなる群から選ばれる少なくとも一種である、請求項に記載の樹脂組成物。 The resin component is epoxy resin, polyphenylene ether resin, polyamide resin, polyamideimide resin, polyetherimide resin, polyimide resin, polysulfone resin, phenoxy resin, bismaleimide resin, benzoxazine resin, oxetane resin, cyanate ester resin, and bis The resin composition according to claim 8 , which is at least one selected from the group consisting of maleimide-cyanate resin. 請求項7から9のいずれかに記載の樹脂組成物からなる樹脂成形体。   The resin molding which consists of a resin composition in any one of Claim 7 to 9. 請求項10に記載の樹脂成形体を用いた電子部品。   The electronic component using the resin molding of Claim 10.
JP2011102548A 2011-04-29 2011-04-29 Oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with unsaturated carbonyl group and process for producing the same Active JP5812467B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011102548A JP5812467B2 (en) 2011-04-29 2011-04-29 Oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with unsaturated carbonyl group and process for producing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011102548A JP5812467B2 (en) 2011-04-29 2011-04-29 Oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with unsaturated carbonyl group and process for producing the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012232926A JP2012232926A (en) 2012-11-29
JP5812467B2 true JP5812467B2 (en) 2015-11-11

Family

ID=47433630

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011102548A Active JP5812467B2 (en) 2011-04-29 2011-04-29 Oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with unsaturated carbonyl group and process for producing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5812467B2 (en)

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL285052A (en) * 1961-11-03
JPS6058461A (en) * 1983-09-09 1985-04-04 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Flame-retardant polyphenylene ether resin composition
JP3637277B2 (en) * 2000-03-21 2005-04-13 大塚化学ホールディングス株式会社 Flame retardant, flame retardant resin composition, molded product, and electronic component
JP2003253043A (en) * 2002-02-28 2003-09-10 Asahi Kasei Corp Flame retardant for high-heat-resistance resin composition
JP4867217B2 (en) * 2004-08-19 2012-02-01 三菱瓦斯化学株式会社 Curable resin composition and curable film and film
JP5177732B2 (en) * 2005-11-30 2013-04-10 株式会社伏見製薬所 Reactive group-containing cyclic phosphazene compound and process for producing the same
JP2009282172A (en) * 2008-05-20 2009-12-03 Kaneka Corp New photosensitive resin composition and usage of the same
JP2010031097A (en) * 2008-07-26 2010-02-12 Konica Minolta Holdings Inc Polyester-based resin composition
JP5376388B2 (en) * 2008-08-28 2013-12-25 株式会社伏見製薬所 Reactive group-containing cyclic phosphazene compound and process for producing the same
JP5481744B2 (en) * 2009-06-16 2014-04-23 株式会社伏見製薬所 Unsaturated carboxylate compound having phosphazene ring

Also Published As

Publication number Publication date
JP2012232926A (en) 2012-11-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1265946B1 (en) Poly(phenylene ether) - polyvinyl thermosetting resin
US7662906B2 (en) Polyfunctional phenylene ether oligomer, derivative thereof, resin composition containing the same, and use thereof
JP5176336B2 (en) Polyvinylbenzyl ether compound and curable resin composition and curable film containing the same
US10544261B2 (en) Phosphinated poly(2,6-dimethyl phenylene oxide) oligomers and thermosets thereof
CN107709370B (en) Curable composition, prepreg, metal foil with composition, metal-clad laminate, and wiring board
JP5177732B2 (en) Reactive group-containing cyclic phosphazene compound and process for producing the same
JP6846540B2 (en) Thermosetting resin composition, prepreg produced thereby, metal foil-clad laminate and high-frequency circuit board
JP5881147B2 (en) Process for producing ethenylphenoxy group-containing cyclic phosphazene compound
JP5863144B2 (en) Process for producing ethenylphenoxy group-containing cyclic phosphazene compound
JP5376388B2 (en) Reactive group-containing cyclic phosphazene compound and process for producing the same
JP6016256B2 (en) Process for producing ethenylphenoxy group-containing cyclic phosphazene compound
JP5170510B2 (en) Reactive group-containing cyclic phosphazene compound and process for producing the same
JP5013401B2 (en) Flame retardant comprising reactive group-containing cyclic phosphazene compound and method for producing the same
JP5550095B2 (en) Oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound and method for producing the same
JP5757039B2 (en) Oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphinate compound and method for producing the same
JP5768274B2 (en) Oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with glycidyl group and process for producing the same
JP5812468B2 (en) Oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with cyanato group and production method thereof
JP5553245B2 (en) Cyclic phosphazene compounds
JP5812467B2 (en) Oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with unsaturated carbonyl group and process for producing the same
CN117242108A (en) Thermosetting composition, resin film, prepreg, metal foil-clad laminate, and printed wiring board
JP2022016423A (en) Phosphorus-containing vinylbenzyl ether compound, method for producing the same, flame-retardant resin composition containing the same, and laminate for electronic circuit board
WO2022054614A1 (en) Method for producing aromatic ether compound having vinyl group
CN117279978A (en) Polyphenylene ether, method for producing same, heat-curable composition, prepreg, and laminate

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20140401

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20150219

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20150407

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20150515

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150528

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20150515

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20150902

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20150911

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5812467

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250