JP5137105B2 - Cyanato group-containing cyclic phosphazene compound and process for producing the same - Google Patents

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Description

本発明は、環状ホスファゼン化合物およびその製造方法、特に、シアナト基含有環状ホスファゼン化合物およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a cyclic phosphazene compound and a process for producing the same, and more particularly to a cyanato group-containing cyclic phosphazene compound and a process for producing the same.

産業用および民生用の機器並びに電気製品などの分野において、合成樹脂は、その加工性、耐薬品性、耐候性、電気的特性および機械的強度等の点で他の材料に比べて優位性を有するため、多用されており、また、その使用量が増加している。しかし、合成樹脂は、燃焼し易い性質を有するため、難燃性の付与が求められており、近年その要求性能が次第に高まっている。このため、LSI等の電子部品の封止剤や基板等に使用されている樹脂組成物、例えばエポキシ樹脂組成物は、難燃化するために、ハロゲン含有化合物やハロゲン含有化合物と酸化アンチモンなどのアンチモン化合物との混合物が一般的な難燃剤として添加されている。ところが、このような難燃剤を配合した樹脂組成物は、燃焼時や成形時等において、環境汚染のおそれがあるハロゲン系ガスを発生する可能性がある。また、ハロゲン系ガスは、電子部品の電気的特性や機械的特性を阻害する可能性がある。そこで、最近では、合成樹脂用の難燃剤として、燃焼時や成形時等においてハロゲン系ガスが発生しにくい非ハロゲン系のもの、例えば、水酸化アルミニウムや水酸化マグネシウムなどの金属水和物系難燃剤やリン酸エステル系、縮合リン酸エステル系、リン酸アミド系、ポリリン酸アンモニウム系およびホスファゼン系などのリン系難燃剤が多用されるようになっている。   In the fields of industrial and consumer equipment and electrical products, synthetic resins have advantages over other materials in terms of processability, chemical resistance, weather resistance, electrical properties and mechanical strength. Since it has, it is used extensively and the amount of its use is increasing. However, since synthetic resins have the property of being easily combusted, they are required to be provided with flame retardancy, and in recent years, the required performance is gradually increasing. For this reason, resin compositions used for sealants and substrates of electronic components such as LSIs, such as epoxy resin compositions, are made of halogen-containing compounds, halogen-containing compounds and antimony oxide, etc. A mixture with an antimony compound is added as a general flame retardant. However, a resin composition containing such a flame retardant may generate a halogen-based gas that may cause environmental pollution during combustion or molding. In addition, the halogen-based gas may hinder the electrical characteristics and mechanical characteristics of the electronic component. Therefore, recently, as flame retardants for synthetic resins, non-halogen-based flame retardants that do not easily generate halogen-based gases during combustion or molding, for example, metal hydrates such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide are difficult. Phosphorous flame retardants such as flame retardants, phosphoric acid esters, condensed phosphoric acid esters, phosphoric acid amides, ammonium polyphosphates, and phosphazenes are widely used.

このうち、金属水和物系難燃剤は、脱水熱分解の吸熱反応とそれに伴う水の放出が合成樹脂の熱分解や燃焼開始温度と重複した温度領域で起こることで難燃化効果を発揮するが、その効果を高めるためには樹脂組成物に対して多量に配合する必要がある。このため、この種の難燃剤を含む樹脂組成物の成形品は、機械的強度が損なわれるという欠点がある。一方、リン系難燃剤のうち、リン酸エステル系および縮合リン酸エステル系のものは、可塑効果を有するため、難燃性を高めるために樹脂組成物に対して多量に添加すると、樹脂成形品の機械的強度が低下するなどの欠点が生じる。また、リン酸エステル系、リン酸アミド系およびポリリン酸アンモニウム系のものは、容易に加水分解することから、機械的および電気的な長期信頼性が要求される樹脂成形品の製造用材料においては実質的に使用が困難である。これらに対し、ホスファゼン系の難燃剤は、他のリン系難燃剤に比べて可塑効果および加水分解性が小さく、樹脂組成物に対する添加量を大きくすることができるため、特許文献1〜5に記載のように、合成樹脂用の有効な難燃剤として多用されつつあるが、樹脂組成物に対する添加量を増やすと、高温下における樹脂成形品の信頼性を損なう可能性がある。具体的には、熱可塑性樹脂系の樹脂組成物の場合は、高温下においてその樹脂成形体からホスファゼン系の難燃剤がブリードアウト(溶出)し易く、また、熱硬化性樹脂系の樹脂組成物の場合は、高温下においてその樹脂成形品にフクレ等の変形が発生し、当該樹脂成形品が積層基板等の電気・電子分野において用いられる場合は変形によるショートを引き起こす可能性がある。   Among these, metal hydrate flame retardants exhibit a flame retardant effect because the endothermic reaction of dehydration pyrolysis and the accompanying water release occur in a temperature range that overlaps the thermal decomposition and combustion start temperature of the synthetic resin. However, in order to enhance the effect, it is necessary to add a large amount to the resin composition. For this reason, the molded article of the resin composition containing this type of flame retardant has a drawback that the mechanical strength is impaired. On the other hand, among phosphoric flame retardants, phosphoric acid ester and condensed phosphoric acid ester types have a plastic effect, so if they are added in a large amount to the resin composition in order to increase flame retardancy, resin molded products There are disadvantages such as a decrease in mechanical strength. In addition, phosphate ester-based, phosphate amide-based, and ammonium polyphosphate-based materials are easily hydrolyzed. Therefore, in materials for manufacturing resin molded products that require mechanical and electrical long-term reliability. It is practically difficult to use. In contrast, phosphazene-based flame retardants have a smaller plastic effect and hydrolyzability than other phosphorus-based flame retardants, and can increase the amount added to the resin composition. Thus, although it is being frequently used as an effective flame retardant for synthetic resins, if the amount added to the resin composition is increased, the reliability of the resin molded product at high temperatures may be impaired. Specifically, in the case of a thermoplastic resin-based resin composition, the phosphazene-based flame retardant is likely to bleed out (elution) from the resin molded body at a high temperature, and the thermosetting resin-based resin composition. In this case, deformation such as blistering occurs in the resin molded product at a high temperature, and when the resin molded product is used in the electric / electronic field such as a laminated substrate, a short circuit due to deformation may occur.

特開2000−103939号公報JP 2000-103939 A 特開2004−83671号公報JP 2004-83671 A 特開2004−210849号公報JP 2004-210849 A 特開2005−248134号公報JP 2005-248134 A 特開2007−45916号公報JP 2007-45916 A

そこで、ホスファゼン系の難燃剤は、高温下での樹脂成形品の信頼性(高温信頼性)を高めるための改良が検討されており、その例として特許文献6〜10には、ヒドロキシル基等の反応性基を有するホスファゼン系の難燃剤並びにそれを用いたエポキシ樹脂組成物およびポリイミド樹脂組成物が開示されている。この種のホスファゼン系難燃剤は、樹脂組成物に対して多量に添加した場合であっても樹脂成形品の高温信頼性を損ないにくいが、添加量を増しても樹脂成形品の難燃性を効果的に高めるのが困難という、それが要求される本質的効果の点で不十分であり、また、樹脂成形品の機械的特性(特に、高いガラス転移温度)を損なうことにもなる。   Therefore, phosphazene-based flame retardants have been studied for improving the reliability (high temperature reliability) of resin molded products at high temperatures. As an example, Patent Documents 6 to 10 include hydroxyl groups and the like. A phosphazene-based flame retardant having a reactive group, and an epoxy resin composition and a polyimide resin composition using the same are disclosed. This type of phosphazene-based flame retardant is unlikely to impair the high temperature reliability of the resin molded product even when added in a large amount to the resin composition. It is insufficient in terms of the essential effect that it is difficult to effectively increase, and it also impairs the mechanical properties (particularly high glass transition temperature) of the resin molded product.

特開平6−247989号公報Japanese Patent Laid-Open No. 6-247989 特開平10−259292号公報JP-A-10-259292 特開2003−302751号公報JP 2003-302751 A 特開2003−342339号公報JP 2003-342339 A 特開2004−143465号公報JP 2004-143465 A

一方、近年の電子機器の小型・高機能化に伴い、印刷配線板では薄型・軽量でありかつ高密度配線が可能な基板材料が求められている。また、印刷配線板では、小径でありかつ必要な層間のみを非貫通穴で接続するIVH(Interstitial Via Hole)構造のビルドアップ積層方式の普及が急速に進んでいる。ビルドアップ積層方式印刷配線板の絶縁層にはガラス布等の基材を用いず、高いガラス転位温度(Tg)を有する耐熱性樹脂が要求されている。   On the other hand, with recent downsizing and higher functionality of electronic devices, printed wiring boards are required to be thin and light and to be capable of high-density wiring. Further, in printed wiring boards, the build-up lamination method having an IVH (Interstitial Via Hole) structure that has a small diameter and connects only necessary layers with non-through holes is rapidly spreading. A heat-resistant resin having a high glass transition temperature (Tg) is required for the insulating layer of the build-up lamination type printed wiring board without using a substrate such as glass cloth.

また、コンピュータや情報機器端末などでは、大量のデータを高速で処理するために、その信号の高周波化が進んでいるが、周波数が高くなる程電気信号の伝送損失が大きくなるという問題があり、高周波化に対応した印刷配線板の開発が強く求められている。高周波回路での伝送損失は、配線周りの絶縁層(誘電体)の誘電特性で決まる誘電体損の影響が大きく、印刷配線板用基板(特に絶縁樹脂)の低誘電率化および低誘電正接(tanδ)化が必要となる。例えば移動体通信関連の機器では、信号の高周波化に伴い準マイクロ波帯(1〜3GHz)での伝送損失を少なくするため誘電正接の低い基板が強く望まれるようになっている。   In addition, in computers and information equipment terminals, in order to process a large amount of data at high speed, the frequency of the signal is increasing, but there is a problem that the transmission loss of the electric signal increases as the frequency increases. There is a strong demand for the development of printed wiring boards that can handle high frequencies. Transmission loss in a high-frequency circuit is greatly affected by dielectric loss determined by the dielectric properties of the insulating layer (dielectric) around the wiring. Low dielectric constant and low dielectric loss tangent of printed wiring board substrates (especially insulating resin) tan δ) is required. For example, in devices related to mobile communication, a substrate having a low dielectric loss tangent is strongly desired in order to reduce transmission loss in the quasi-microwave band (1 to 3 GHz) as the signal becomes higher in frequency.

さらに、コンピュータなどの電子情報機器では、動作周波数が1GHzを超える高速マイクロプロセッサが搭載されるようになり、印刷配線板での高速パルス信号の遅延が問題になっている。信号の遅延時間は、印刷配線板では配線周辺の絶縁物の比誘電率εrの平方根に比例して長くなるため、高速コンピュータなどでは誘電率の低い配線板用基板が求められている。   Furthermore, electronic information devices such as computers are equipped with a high-speed microprocessor having an operating frequency exceeding 1 GHz, and a delay of a high-speed pulse signal on a printed wiring board is a problem. Since the delay time of the signal becomes longer in proportion to the square root of the relative dielectric constant εr of the insulator around the wiring in the printed wiring board, a high-speed computer or the like requires a wiring board substrate having a low dielectric constant.

このため、ホスファゼン系の難燃剤は、樹脂成形品の誘電特性を損ないにくくする必要、すなわち、樹脂成形品の低誘電率化および低誘電正接化を達成する必要もある。   Therefore, the phosphazene-based flame retardant needs to make it difficult to impair the dielectric properties of the resin molded product, that is, to achieve a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent of the resin molded product.

本発明の目的は、樹脂成形体の機械的特性を損なわずにその難燃性を効果的に高めることができ、しかも樹脂成形体の高温信頼性および誘電特性を損ないにくいホスファゼン化合物を実現することにある。   The object of the present invention is to realize a phosphazene compound that can effectively enhance the flame retardancy without impairing the mechanical properties of the resin molded product, and that does not easily impair the high temperature reliability and dielectric properties of the resin molded product. It is in.

本発明者らは、上述の課題を解決すべく研究を重ねた結果、シアナト基を有する新規なホスファゼン化合物を含む樹脂組成物からなる成形体が、優れた機械的特性および難燃性を示し、同時に高温下での信頼性が高く、誘電特性に優れていることを見出した。   As a result of repeated research to solve the above-mentioned problems, the inventors of the present invention have a molded article comprising a resin composition containing a novel phosphazene compound having a cyanate group, which exhibits excellent mechanical properties and flame retardancy. At the same time, it was found to be highly reliable at high temperatures and excellent in dielectric properties.

本発明のホスファゼン化合物は、下記の式(1)で表されるシアナト基含有環状ホスファゼン化合物である。   The phosphazene compound of the present invention is a cyanato group-containing cyclic phosphazene compound represented by the following formula (1).

Figure 0005137105
Figure 0005137105

式(1)中、nは3〜15の整数を示す。また、Aは、下記のA1基、A2基およびA3基からなる群から選ばれた基を示しかつ少なくとも一つがA3基である。
A1基:炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数が1〜8のアルコキシ基。
A2基:炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数6〜20のアリールオキシ基。
A3基:下記の式(2)で示されるシアナトフェニル置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
In formula (1), n shows the integer of 3-15. A represents a group selected from the group consisting of the following A1, A2 and A3 groups, and at least one is an A3 group.
A1 group: an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, which may be substituted with at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group.
A2 group: an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms in which at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.
Group A3: a group selected from the group consisting of a cyanatophenyl-substituted phenyloxy group represented by the following formula (2).

Figure 0005137105
式(2)中、XからXは、それぞれ独立して水素原子、アルキル基若しくはアリール基を示す。)
Figure 0005137105
In formula (2), X 1 to X 8 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. )

このシアナト基含有環状ホスファゼン化合物は、例えば、式(1)において、2n個のAのうちの1〜(2n−2)個がA3基である。また、このシアナト基含有環状ホスファゼン化合物は、例えば、式(1)のnが3若しくは4である。さらに、このシアナト基含有環状ホスファゼン化合物は、例えば、式(1)のnが異なる二種以上のシアナト基含有環状ホスファゼン化合物を含んでいる。   In the cyanato group-containing cyclic phosphazene compound, for example, in formula (1), 1 to (2n-2) of 2n A are A3 groups. In the cyanato group-containing cyclic phosphazene compound, for example, n in the formula (1) is 3 or 4. Further, the cyanato group-containing cyclic phosphazene compound includes, for example, two or more kinds of cyanato group-containing cyclic phosphazene compounds having different n in the formula (1).

本発明に係るシアナト基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法は、次の工程1、工程2および工程3を含んでいる。   The method for producing a cyanato group-containing cyclic phosphazene compound according to the present invention includes the following step 1, step 2 and step 3.

[工程1]
下記の式(3)で表される環状ホスホニトリルジハライドの全ハロゲン原子を、少なくとも一つが下記のE3基により置換されるよう下記のE1基、E2基およびE3基からなる群から選ばれた基により置換し、ホルミル基含有環状ホスホニトリル置換体を製造する工程。
[Step 1]
Selected from the group consisting of the following E1, E2, and E3 groups such that at least one of the halogen atoms of the cyclic phosphonitrile dihalide represented by the following formula (3) is substituted by the following E3 group: A step of producing a substituted formyl group-containing cyclic phosphonitrile by substitution with a group.

Figure 0005137105
Figure 0005137105

式(3)中、nは3〜15の整数を示し、Xはハロゲン原子を示す。
E1基:炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数が1〜8のアルコキシ基。
E2基:炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数6〜20のアリールオキシ基。
E3基:下記の式(4)で示されるホルミル基置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
In formula (3), n represents an integer of 3 to 15, and X represents a halogen atom.
E1 group: An alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms in which at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.
E2 group: an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms in which at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.
E3 group: a group selected from the group consisting of a formyl group-substituted phenyloxy group represented by the following formula (4).

Figure 0005137105
Figure 0005137105

[工程2]
工程1において得られたホルミル基(E3基:ホルミル基置換フェニルオキシ基)含有環状ホスホニトリル置換体と下記の式(5)で表されるフェノール類とを反応させ、下記のE4基で表されるヒドロキシル基含有環状ホスホニトリル置換体を製造する工程。
[Step 2]
The formyl group (E3 group: formyl group-substituted phenyloxy group) -containing cyclic phosphonitrile substituted product obtained in Step 1 is reacted with a phenol represented by the following formula (5), and represented by the following E4 group. Producing a hydroxyl group-containing cyclic phosphonitrile substitution product.

Figure 0005137105
Figure 0005137105

式(5)中、XからX13は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基若しくはアリール基を示す。
E4基:下記の式(6)で示されるヒドロキシル基置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
In formula (5), X 9 to X 13 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.
E4 group: a group selected from the group consisting of a hydroxyl group-substituted phenyloxy group represented by the following formula (6).

Figure 0005137105
式(6)中、XからXは、それぞれ独立して水素原子、アルキル基若しくはアリール基を示す。
Figure 0005137105
In formula (6), X 1 to X 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.

[工程3]
工程2において得られたヒドロキシル基を有する環状ホスホニトリル置換体とハロゲン化シアンとを反応させる工程。
[Step 3]
A step of reacting the cyclic phosphonitrile-substituted product having a hydroxyl group obtained in Step 2 with cyanogen halide.

本発明の樹脂組成物は、樹脂成分と、本発明のシアナト基含有環状ホスファゼン化合物とを含んでいる。樹脂成分は、例えば、シアン酸エステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ビスマレイミド樹脂、ビスマレイミド−シアン酸エステル樹脂および変性ポリフェニレンエーテル樹脂からなる群から選ばれたものであるである。   The resin composition of the present invention contains a resin component and the cyanato group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention. The resin component is, for example, selected from the group consisting of a cyanate ester resin, an epoxy resin, a polyimide resin, a bismaleimide resin, a bismaleimide-cyanate ester resin, and a modified polyphenylene ether resin.

本発明の重合性組成物は、本発明のシアナト基含有環状ホスファゼン化合物を含んでいる。   The polymerizable composition of the present invention contains the cyanate group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention.

本発明の樹脂成形体は、本発明の樹脂組成物若しくは本発明の重合性組成物の重合物からなるものである。   The resin molded body of the present invention is composed of the resin composition of the present invention or a polymer of the polymerizable composition of the present invention.

本発明のシアナト基含有環状ホスファゼン化合物は、上述のような特定の構造を有するものであるため、樹脂成形体の機械的特性を損なわずにその難燃性を効果的に高めることができ、しかも樹脂成形体の高温信頼性および誘電特性を損ないにくい。   Since the cyanato group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention has a specific structure as described above, its flame retardancy can be effectively enhanced without impairing the mechanical properties of the resin molded article, High-temperature reliability and dielectric properties of resin moldings are difficult to lose.

本発明に係るシアナト基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法は、上述のような工程1、工程2および工程3を含むものであるため、本発明に係る上述のような特定の構造を有するシアナト基含有環状ホスファゼン化合物を製造することができる。   Since the method for producing a cyanato group-containing cyclic phosphazene compound according to the present invention includes Step 1, Step 2 and Step 3 as described above, the cyanate group-containing cyclic phosphazene having the specific structure as described above according to the present invention. Compounds can be produced.

本発明の樹脂組成物は、本発明のシアナト基含有環状ホスファゼン化合物を難燃剤として含むため、実用的な機械的特性および難燃性を示し、しかも高温信頼性が高く誘電特性が優れた樹脂成形体を得ることができる。   Since the resin composition of the present invention contains the cyanate group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention as a flame retardant, the resin composition exhibits practical mechanical characteristics and flame retardancy, and has high temperature reliability and excellent dielectric characteristics. You can get a body.

本発明の重合性組成物は、本発明のシアナト基含有環状ホスファゼン化合物を含むものであるため、その重合により、実用的な機械的特性および難燃性を示し、しかも高温信頼性が高く誘電特性が優れた樹脂成形体を得ることができる。   Since the polymerizable composition of the present invention contains the cyanate group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention, its polymerization exhibits practical mechanical properties and flame retardancy, and also has high temperature reliability and excellent dielectric properties. A resin molded product can be obtained.

本発明の樹脂成形体は、本発明の樹脂組成物若しくは本発明に係る重合性組成物の重合物からなるため、実用的な機械的特性および難燃性を示し、しかも高温信頼性が高く誘電特性が優れている。   Since the resin molded body of the present invention is composed of the resin composition of the present invention or a polymer of the polymerizable composition according to the present invention, it exhibits practical mechanical properties and flame retardancy, and has high temperature reliability and dielectric properties. Excellent characteristics.

シアナト基含有環状ホスファゼン化合物
本発明のシアナト基含有環状ホスファゼン化合物は、下記の式(1)で表されるものである。
Cyanato group-containing cyclic phosphazene compound The cyanato group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention is represented by the following formula (1).

Figure 0005137105
Figure 0005137105

式(1)において、nは、3から15の整数を示しているが、3から8の整数が好ましく、3若しくは4が特に好ましい。すなわち、このシアナト基含有環状ホスファゼン化合物として特に好ましいものは、nが3のシアナト基含有シクロトリホスファゼン(3量体)およびnが4のシアナト基含有シクロテトラホスファゼン(4量体)である。また、本発明のシアナト基含有環状ホスファゼン化合物は、nが異なる二種以上のものの混合物であってもよい。   In the formula (1), n represents an integer of 3 to 15, preferably an integer of 3 to 8, and particularly preferably 3 or 4. That is, particularly preferred as this cyanate group-containing cyclic phosphazene compound are cyanate group-containing cyclotriphosphazene (trimer) having n = 3 and cyanato group-containing cyclotetraphosphazene (tetramer) having n = 4. The cyanate group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention may be a mixture of two or more different n.

また、式(1)において、Aは、下記のA1基、A2基およびA3基からなる群から選ばれた基を示している。但し、Aのうちの少なくとも一つはA3基である。   In the formula (1), A represents a group selected from the group consisting of the following A1, A2, and A3 groups. However, at least one of A is an A3 group.

[A1基]
炭素数が1〜8のアルコキシ基。このアルコキシ基は、炭素数が1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい。
このようなアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、エテニルオキシ基、1−プロペニルオキシ基、2−プロペニルオキシ基、イソプロペニルオキシ基、3−ブテニルオキシ基、2−メチル−2−プロペニルオキシ基、4−ペンテニルオキシ基、2−ヘキセニルオキシ基、1−プロピル−2−ブテニルオキシ基、5−オクテニルオキシ基、ベンジルオキシ基および2−フェニルエトキシ基等を挙げることができる。このうち、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、2−プロペニルオキシ基およびベンジルオキシ基が好ましく、エトキシ基およびn−プロポキシ基が特に好ましい。
[A1 group]
An alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms; In the alkoxy group, at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.
Examples of such alkoxy groups include methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, n-butoxy, sec-butoxy, tert-butoxy, n-pentyloxy, and n-hexyloxy. Group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, ethenyloxy group, 1-propenyloxy group, 2-propenyloxy group, isopropenyloxy group, 3-butenyloxy group, 2-methyl-2-propenyloxy group, 4 -Pentenyloxy group, 2-hexenyloxy group, 1-propyl-2-butenyloxy group, 5-octenyloxy group, benzyloxy group, 2-phenylethoxy group and the like can be mentioned. Among these, a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, a 2-propenyloxy group and a benzyloxy group are preferable, and an ethoxy group and an n-propoxy group are particularly preferable.

[A2基]
炭素数が6〜20のアリールオキシ基。このアリールオキシ基は、炭素数が1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい。
このようなアリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、エチルメチルフェノキシ基、ジエチルフェノキシ基、n−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、イソプロピルメチルフェノキシ基、イソプロピルエチルフェノキシ基、ジイソプロピルフェノキシ基、n−ブチルフェノキシ基、sec−ブチルフェノキシ基、tert−ブチルフェノキシ基、n−ペンチルフェノキシ基、n−ヘキシルフェノキシ基、エテニルフェノキシ基、1−プロペニルフェノキシ基、2−プロペニルフェノキシ基、イソプロペニルフェノキシ基、1−ブテニルフェノキシ基、sec−ブテニルフェノキシ基、1−ペンテニルフェノキシ基、1−ヘキセニルフェノキシ基、フェニルフェノキシ基、ナフチルオキシ基、アントリルオキシ基およびフェナントリルオキシ基等を挙げることができる。このうち、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基、ジエチルフェノキシ基、2−プロペニルフェノキシ基、フェニルフェノキシ基およびナフチルオキシ基が好ましく、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基およびナフチルオキシ基が特に好ましい。
[Group A2]
An aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms; In the aryloxy group, at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.
Examples of such aryloxy groups include phenoxy group, methylphenoxy group, dimethylphenoxy group, ethylphenoxy group, ethylmethylphenoxy group, diethylphenoxy group, n-propylphenoxy group, isopropylphenoxy group, isopropylmethylphenoxy group, Isopropylethylphenoxy group, diisopropylphenoxy group, n-butylphenoxy group, sec-butylphenoxy group, tert-butylphenoxy group, n-pentylphenoxy group, n-hexylphenoxy group, ethenylphenoxy group, 1-propenylphenoxy group, 2-propenylphenoxy group, isopropenylphenoxy group, 1-butenylphenoxy group, sec-butenylphenoxy group, 1-pentenylphenoxy group, 1-hexenylphenoxy group, Nirufenokishi group, naphthyloxy group, and an anthryl group and phenanthryloxy groups and the like. Of these, phenoxy group, methylphenoxy group, dimethylphenoxy group, diethylphenoxy group, 2-propenylphenoxy group, phenylphenoxy group and naphthyloxy group are preferable, and phenoxy group, methylphenoxy group, dimethylphenoxy group and naphthyloxy group are particularly preferable. preferable.

[A3基]
下記の式(2)で示されるシアナトフェニル置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
[Group A3]
A group selected from the group consisting of a cyanatophenyl-substituted phenyloxy group represented by the following formula (2).

Figure 0005137105
式(2)中、XからXは、それぞれ独立して水素原子、アルキル基若しくはアリール基を示すが、好ましくは、水素原子、メチル基、ターシャリーブチル基、フェニル基等の炭素数1〜6のアルキル基若しくはフェニル基である。
Figure 0005137105
In formula (2), X 1 to X 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, but preferably have 1 carbon atom such as a hydrogen atom, a methyl group, a tertiary butyl group or a phenyl group. It is an alkyl group of 6 or a phenyl group.

式(2)で示されるシアナトフェニル置換フェニルオキシ基は、具体的には、ビス(2’−シアナトフェニル)メチル−2−フェニルオキシ基、ビス(3’−シアナトフェニル)メチル−2−フェニルオキシ基、ビス(4’−シアナトフェニル)メチル−2−フェニルオキシ基、(2’−シアナトフェニル)(3’−シアナトフェニル)メチル−2−フェニルオキシ基、(2’−シアナトフェニル)(4’−シアナトフェニル)メチル−2−フェニルオキシ基、(3’−シアナトフェニル)(4’−シアナトフェニル)メチル−2−フェニルオキシ基、ビス(2’−シアナトフェニル)メチル−3−フェニルオキシ基、ビス(3’−シアナトフェニル)メチル−3−フェニルオキシ基、ビス(4’−シアナトフェニル)メチル−3−フェニルオキシ基、(2’−シアナトフェニル)(3’−シアナトフェニル)メチル−3−フェニルオキシ基、(2’−シアナトフェニル)(4’−シアナトフェニル)メチル−3−フェニルオキシ基、(3’−シアナトフェニル)(4’−シアナトフェニル)メチル−3−フェニルオキシ基、ビス(2’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、ビス(3’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、ビス(4’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、(2’−シアナトフェニル)(3’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、(2’−シアナトフェニル)(4’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、(3’−シアナトフェニル)(4’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、ビス(2’−シアナト−5’−メチルフェニル)メチル−2−フェニルオキシ基、ビス(2’−メチル−5’−シアナトフェニル)メチル−2−フェニルオキシ基、(2’−シアナト−5’−メチルフェニル)(2’−メチル−5’−シアナトフェニル)メチル−2−フェニルオキシ基、ビス(2’−シアナト−5’−メチルフェニル)メチル−3−フェニルオキシ基、ビス(2’−メチル−5’−シアナトフェニル)メチル−3−フェニルオキシ基、(2’−シアナト−5’−メチルフェニル)(2’−メチル−5’−シアナトフェニル)メチル−3−フェニルオキシ基、ビス(2’−シアナト−5’−メチルフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、ビス(2’−メチル−5’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、(2’−シアナト−5’−メチルフェニル)(2’−メチル−5’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、ビス(2’−シアナト−3’,5’−ジメチルフェニル)メチル−2−フェニルオキシ基、ビス(2’,4’−ジメチル−3’−シアナトフェニル)メチル−2−フェニルオキシ基、ビス(2’,6’−ジメチル−3’−シアナトフェニル)メチル−2−フェニルオキシ基、(2’−シアナト−3’,5’−ジメチルフェニル)(2’,4’−ジメチル−3’−シアナトフェニル)メチル−2−フェニルオキシ基、(2’−シアナト−3’,5’−ジメチルフェニル)(2’,6’−ジメチル−3’−シアナトフェニル)メチル−2−フェニルオキシ基、(2’,4’−ジメチル−3’−シアナトフェニル)(2’,6’−ジメチル−3’−シアナトフェニル)メチル−2−フェニルオキシ基、ビス(2’−シアナト−3’,5’−ジメチルフェニル)メチル−3−フェニルオキシ基、ビス(2’,4’−ジメチル−3’−シアナトフェニル)メチル−3−フェニルオキシ基、ビス(2’,6’−ジメチル−3’−シアナトフェニル)メチル−3−フェニルオキシ基、(2’−シアナト−3’,5’−ジメチルフェニル)(2’,4’−ジメチル−3’−シアナトフェニル)メチル−3−フェニルオキシ基、(2’−シアナト−3’,5’−ジメチルフェニル)(2’,6’−ジメチル−3’−シアナトフェニル)メチル−3−フェニルオキシ基、(2’,4’−ジメチル−3’−シアナトフェニル)(2’,6’−ジメチル−3’−シアナトフェニル)メチル−3−フェニルオキシ基、ビス(2’−シアナト−3’,5’−ジメチルフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、ビス(2’,4’−ジメチル−3’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、ビス(2’,6’−ジメチル−3’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、(2’−シアナト−3’,5’−ジメチルフェニル)(2’,4’−ジメチル−3’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、(2’−シアナト−3’,5’−ジメチルフェニル)(2’,6’−ジメチル−3’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、(2’,4’−ジメチル−3’−シアナトフェニル)(2’,6’−ジメチル−3’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、ビス(2’−シアナト−5’−tert−ブチルフェニル)メチル−2−フェニルオキシ基、ビス(2’−tert−ブチル−5’−シアナトフェニル)メチル−2−フェニルオキシ基、(2’−シアナト−5’−tert−ブチルフェニル)(2’−tert−ブチル−5’−シアナトフェニル)メチル−2−フェニルオキシ基、ビス(2’−シアナト−5’−tert−ブチルフェニル)メチル−3−フェニルオキシ基、ビス(2’−tert−ブチル−5’−シアナトフェニル)メチル−3−フェニルオキシ基、(2’−シアナト−5’−tert−ブチルフェニル)(2’−tert−ブチル−5’−シアナトフェニル)メチル−3−フェニルオキシ基、ビス(2’−シアナト−5’−tert−ブチルフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、ビス(2’−tert−ブチル−5’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、(2’−シアナト−5’−tert−ブチルフェニル)(2’−tert−ブチル−5’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、ビス(2’−シアナト−5’−フェニルフェニル)メチル−2−フェニルオキシ基、ビス(2’−フェニル−5’−シアナトフェニル)メチル−2−フェニルオキシ基若しくは(2’−シアナト−5’−フェニルフェニル)(2’−フェニル−5’−シアナトフェニル)メチル−2−フェニルオキシ基、ビス(2’−シアナト−5’−フェニルフェニル)メチル−3−フェニルオキシ基、ビス(2’−フェニル−5’−シアナトフェニル)メチル−3−フェニルオキシ基若しくは(2’−シアナト−5’−フェニルフェニル)(2’−フェニル−5’−シアナトフェニル)メチル−3−フェニルオキシ基、ビス(2’−シアナト−5’−フェニルフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、ビス(2’−フェニル−5’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基若しくは(2’−シアナト−5’−フェニルフェニル)(2’−フェニル−5’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基である。   Specific examples of the cyanatophenyl-substituted phenyloxy group represented by the formula (2) include bis (2′-cyanatophenyl) methyl-2-phenyloxy group and bis (3′-cyanatophenyl) methyl-2. -Phenyloxy group, bis (4'-cyanatophenyl) methyl-2-phenyloxy group, (2'-cyanatophenyl) (3'-cyanatophenyl) methyl-2-phenyloxy group, (2'- (Cyanatophenyl) (4′-cyanatophenyl) methyl-2-phenyloxy group, (3′-cyanatophenyl) (4′-cyanatophenyl) methyl-2-phenyloxy group, bis (2′-si Anatophenyl) methyl-3-phenyloxy group, bis (3′-cyanatophenyl) methyl-3-phenyloxy group, bis (4′-cyanatophenyl) methyl-3-phenyl Xyl group, (2′-cyanatophenyl) (3′-cyanatophenyl) methyl-3-phenyloxy group, (2′-cyanatophenyl) (4′-cyanatophenyl) methyl-3-phenyloxy group , (3′-cyanatophenyl) (4′-cyanatophenyl) methyl-3-phenyloxy group, bis (2′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group, bis (3′-cyanatophenyl) ) Methyl-4-phenyloxy group, bis (4′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group, (2′-cyanatophenyl) (3′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group, (2′-cyanatophenyl) (4′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group, (3′-cyanatophenyl) (4′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyl Nyloxy group, bis (2′-cyanato-5′-methylphenyl) methyl-2-phenyloxy group, bis (2′-methyl-5′-cyanatophenyl) methyl-2-phenyloxy group, (2′- Cyanato-5′-methylphenyl) (2′-methyl-5′-cyanatophenyl) methyl-2-phenyloxy group, bis (2′-cyanato-5′-methylphenyl) methyl-3-phenyloxy group, Bis (2′-methyl-5′-cyanatophenyl) methyl-3-phenyloxy group, (2′-cyanato-5′-methylphenyl) (2′-methyl-5′-cyanatophenyl) methyl-3 -Phenyloxy group, bis (2'-cyanato-5'-methylphenyl) methyl-4-phenyloxy group, bis (2'-methyl-5'-cyanatophenyl) methyl-4-pheny Ruoxy group, (2′-cyanato-5′-methylphenyl) (2′-methyl-5′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group, bis (2′-cyanato-3 ′, 5′-dimethyl) Phenyl) methyl-2-phenyloxy group, bis (2 ′, 4′-dimethyl-3′-cyanatophenyl) methyl-2-phenyloxy group, bis (2 ′, 6′-dimethyl-3′-cyanato) Phenyl) methyl-2-phenyloxy group, (2′-cyanato-3 ′, 5′-dimethylphenyl) (2 ′, 4′-dimethyl-3′-cyanatophenyl) methyl-2-phenyloxy group, 2′-cyanato-3 ′, 5′-dimethylphenyl) (2 ′, 6′-dimethyl-3′-cyanatophenyl) methyl-2-phenyloxy group, (2 ′, 4′-dimethyl-3′- Cyanatophenyl (2 ′, 6′-dimethyl-3′-cyanatophenyl) methyl-2-phenyloxy group, bis (2′-cyanato-3 ′, 5′-dimethylphenyl) methyl-3-phenyloxy group, bis ( 2 ′, 4′-dimethyl-3′-cyanatophenyl) methyl-3-phenyloxy group, bis (2 ′, 6′-dimethyl-3′-cyanatophenyl) methyl-3-phenyloxy group, (2 '-Cyanato-3', 5'-dimethylphenyl) (2 ', 4'-dimethyl-3'-cyanatophenyl) methyl-3-phenyloxy group, (2'-cyanato-3', 5'-dimethyl Phenyl) (2 ′, 6′-dimethyl-3′-cyanatophenyl) methyl-3-phenyloxy group, (2 ′, 4′-dimethyl-3′-cyanatophenyl) (2 ′, 6′-dimethyl) -3'-Sianatov Nyl) methyl-3-phenyloxy group, bis (2′-cyanato-3 ′, 5′-dimethylphenyl) methyl-4-phenyloxy group, bis (2 ′, 4′-dimethyl-3′-cyanatophenyl) ) Methyl-4-phenyloxy group, bis (2 ′, 6′-dimethyl-3′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group, (2′-cyanato-3 ′, 5′-dimethylphenyl) ( 2 ′, 4′-dimethyl-3′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group, (2′-cyanato-3 ′, 5′-dimethylphenyl) (2 ′, 6′-dimethyl-3′- Cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group, (2 ′, 4′-dimethyl-3′-cyanatophenyl) (2 ′, 6′-dimethyl-3′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy Group, bis ( 2′-cyanato-5′-tert-butylphenyl) methyl-2-phenyloxy group, bis (2′-tert-butyl-5′-cyanatophenyl) methyl-2-phenyloxy group, (2′-cyanato) -5′-tert-butylphenyl) (2′-tert-butyl-5′-cyanatophenyl) methyl-2-phenyloxy group, bis (2′-cyanato-5′-tert-butylphenyl) methyl-3 -Phenyloxy group, bis (2'-tert-butyl-5'-cyanatophenyl) methyl-3-phenyloxy group, (2'-cyanato-5'-tert-butylphenyl) (2'-tert-butyl) -5'-cyanatophenyl) methyl-3-phenyloxy group, bis (2'-cyanato-5'-tert-butylphenyl) methyl-4-phenylo Si group, bis (2′-tert-butyl-5′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group, (2′-cyanato-5′-tert-butylphenyl) (2′-tert-butyl-5) '-Cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group, bis (2'-cyanato-5'-phenylphenyl) methyl-2-phenyloxy group, bis (2'-phenyl-5'-cyanatophenyl) methyl 2-phenyloxy group or (2′-cyanato-5′-phenylphenyl) (2′-phenyl-5′-cyanatophenyl) methyl-2-phenyloxy group, bis (2′-cyanato-5′-) Phenylphenyl) methyl-3-phenyloxy group, bis (2′-phenyl-5′-cyanatophenyl) methyl-3-phenyloxy group or (2′-cyanana) -5′-phenylphenyl) (2′-phenyl-5′-cyanatophenyl) methyl-3-phenyloxy group, bis (2′-cyanato-5′-phenylphenyl) methyl-4-phenyloxy group, bis (2'-phenyl-5'-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group or (2'-cyanato-5'-phenylphenyl) (2'-phenyl-5'-cyanatophenyl) methyl-4- It is a phenyloxy group.

上述のA3基として好ましいものは、ビス(2’−シアナトフェニル)メチル−3−フェニルオキシ基、ビス(4’−シアナトフェニル)メチル−3−フェニルオキシ基、(2’−シアナトフェニル)(4’−シアナトフェニル)メチル−3−フェニルオキシ基、ビス(2’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、ビス(4’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、(2’−シアナトフェニル)(4’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、ビス(2’−シアナト−5’−メチルフェニル)メチル−3−フェニルオキシ基、ビス(2’−メチル−5’−シアナトフェニル)メチル−3−フェニルオキシ基、(2’−シアナト−5’−メチルフェニル)(2’−メチル−5’−シアナトフェニル)メチル−3−フェニルオキシ基、ビス(2’−シアナト−5’−メチルフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、ビス(2’−メチル−5’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、(2’−シアナト−5’−メチルフェニル)(2’−メチル−5’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、ビス(2’−シアナト−5’−tert−ブチルフェニル)メチル−3−フェニルオキシ基、ビス(2’−tert−ブチル−5’−シアナトフェニル)メチル−3−フェニルオキシ基、(2’−シアナト−5’−tert−ブチルフェニル)(2’−tert−ブチル−5’−シアナトフェニル)メチル−3−フェニルオキシ基、ビス(2’−シアナト−5’−tert−ブチルフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、ビス(2’−tert−ブチル−5’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、(2’−シアナト−5’−tert−ブチルフェニル)(2’−tert−ブチル−5’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、ビス(2’−シアナト−5’−フェニルフェニル)メチル−3−フェニルオキシ基、ビス(2’−フェニル−5’−シアナトフェニル)メチル−3−フェニルオキシ基、(2’−シアナト−5’−フェニルフェニル)(2’−フェニル−5’−シアナトフェニル)メチル−3−フェニルオキシ基、ビス(2’−シアナト−5’−フェニルフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、ビス(2’−フェニル−5’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基若しくは(2’−シアナト−5’−フェニルフェニル)(2’−フェニル−5’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基である。   Preferred examples of the A3 group include bis (2′-cyanatophenyl) methyl-3-phenyloxy group, bis (4′-cyanatophenyl) methyl-3-phenyloxy group, and (2′-cyanatophenyl). ) (4′-cyanatophenyl) methyl-3-phenyloxy group, bis (2′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group, bis (4′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group , (2′-cyanatophenyl) (4′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group, bis (2′-cyanato-5′-methylphenyl) methyl-3-phenyloxy group, bis (2 ′ -Methyl-5'-cyanatophenyl) methyl-3-phenyloxy group, (2'-cyanato-5'-methylphenyl) (2'-methyl-5'-cyanatophenyl) Til-3-phenyloxy group, bis (2'-cyanato-5'-methylphenyl) methyl-4-phenyloxy group, bis (2'-methyl-5'-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group , (2′-cyanato-5′-methylphenyl) (2′-methyl-5′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group, bis (2′-cyanato-5′-tert-butylphenyl) methyl -3-phenyloxy group, bis (2'-tert-butyl-5'-cyanatophenyl) methyl-3-phenyloxy group, (2'-cyanato-5'-tert-butylphenyl) (2'-tert -Butyl-5'-cyanatophenyl) methyl-3-phenyloxy group, bis (2'-cyanato-5'-tert-butylphenyl) methyl-4-phenyloxy Bis (2′-tert-butyl-5′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group, (2′-cyanato-5′-tert-butylphenyl) (2′-tert-butyl-5′- Cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group, bis (2'-cyanato-5'-phenylphenyl) methyl-3-phenyloxy group, bis (2'-phenyl-5'-cyanatophenyl) methyl-3 -Phenyloxy group, (2'-cyanato-5'-phenylphenyl) (2'-phenyl-5'-cyanatophenyl) methyl-3-phenyloxy group, bis (2'-cyanato-5'-phenylphenyl) ) Methyl-4-phenyloxy group, bis (2′-phenyl-5′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group or (2′-cyanato-5′-f) Enylphenyl) (2'-phenyl-5'-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group.

このうち、ビス(2’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、ビス(4’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、(2’−シアナトフェニル)(4’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、ビス(2’−シアナト−5’−フェニルフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、ビス(2’−フェニル−5’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基若しくは(2’−シアナト−5’−フェニルフェニル)(2’−フェニル−5’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基が特に好ましい。   Of these, bis (2′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group, bis (4′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group, (2′-cyanatophenyl) (4′-cyl Anatophenyl) methyl-4-phenyloxy group, bis (2′-cyanato-5′-phenylphenyl) methyl-4-phenyloxy group, bis (2′-phenyl-5′-cyanatophenyl) methyl-4- A phenyloxy group or a (2′-cyanato-5′-phenylphenyl) (2′-phenyl-5′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group is particularly preferred.

式(1)において、Aは、2n個含まれており、このうちの少なくとも一つがA3基である。したがって、式(1)で表される本発明のシアナト基含有環状ホスファゼン化合物は、次の形態に大別することができる。   In the formula (1), 2n of A are included, and at least one of them is an A3 group. Therefore, the cyanato group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention represented by the formula (1) can be roughly classified into the following forms.

[形態A]
2n個の全てのAがA3基のものである。この場合、Aは、全てが同じA3基であってもよいし、二種以上のA3基であってもよい。
[Form A]
All 2n A's are A3 groups. In this case, all of A may be the same A3 group, or two or more A3 groups may be used.

このような形態のシアナト基含有環状ホスファゼン化合物の具体例としては、式(1)のnが3であるシアナト基含有シクロトリホスファゼン化合物、式(1)のnが4であるシアナト基含有シクロテトラホスファゼン化合物、式(1)のnが5であるシアナト基含有シクロペンタホスファゼン化合物および式(1)のnが6であるシアナト基含有シクロヘキサホスファゼン化合物であって、Aの全てが、ビス(2’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、ビス(4’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、(2’−シアナトフェニル)(4’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、ビス(2’−シアナト−5’−フェニルフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、ビス(2’−フェニル−5’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基若しくは(2’−シアナト−5’−フェニルフェニル)(2’−フェニル−5’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基からなるA3基群から選ばれた一種のA3基であるものおよびAの全てが当該A3基群から選ばれた二種以上のA3基であるもの並びにこれらの任意の混合物を挙げることができる。   Specific examples of the cyanato group-containing cyclic phosphazene compound having such a form include a cyanato group-containing cyclotriphosphazene compound in which n in the formula (1) is 3, and a cyanate group-containing cyclotetrazane in which n in the formula (1) is 4. A phosphazene compound, a cyanato group-containing cyclopentaphosphazene compound in which n in formula (1) is 5 and a cyanato group-containing cyclohexaphosphazene compound in which n in formula (1) is 6, wherein all of A are bis (2 '-Cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group, bis (4'-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group, (2'-cyanatophenyl) (4'-cyanatophenyl) methyl-4 -Phenyloxy group, bis (2'-cyanato-5'-phenylphenyl) methyl-4-phenyloxy group, bis (2'-phenyl-5) -Cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group or (2'-cyanato-5'-phenylphenyl) (2'-phenyl-5'-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group And those in which all of A are two or more A3 groups selected from the A3 group, and any mixtures thereof.

[形態B]
2n個のAのうちの一部(すなわち、少なくとも一つ)がA3基であり、他のAがA1基およびA2基から選ばれた基のものである。この場合、A3基以外の他のAは、全てが同じA1基若しくはA2基であってもよいし、二種以上のA1基若しくはA2基または一種若しくは二種以上のA1基とA2基とが混在した状態であってもよい。
[Form B]
A part (that is, at least one) of 2n A's is an A3 group, and the other A is a group selected from an A1 group and an A2 group. In this case, A other than the A3 group may all be the same A1 group or A2 group, or two or more kinds of A1 groups or A2 groups or one kind or two or more kinds of A1 groups and A2 groups may be It may be in a mixed state.

この形態のシアナト基含有環状ホスファゼン化合物として好ましいものは、2n個のAのうちの1個〜(2n−2)個がA3基のものである。特に、式(1)のnが3であるシアナト基含有シクロトリホスファゼン化合物、式(1)のnが4であるシアナト基含有シクロテトラホスファゼン化合物、式(1)のnが5であるシアナト基含有シクロペンタホスファゼン化合物および式(1)のnが6であるシアナト基含有シクロヘキサホスファゼン化合物であって、2n個のAのうちの1個〜(2n−2)個がA3基のもの並びにこれらの任意の混合物である。この種のシアナト基含有環状ホスファゼン化合物は、本発明の他のシアナト基含有環状ホスファゼン化合物に比べ、高温信頼性および機械的強度(特に、ガラス転移温度)がより優れた樹脂成形体を実現可能な点において有利である。   Preferred as the cyanato group-containing cyclic phosphazene compound of this form is one in which 2 to 2 of A to (2n-2) A3 groups. In particular, a cyanato group-containing cyclotriphosphazene compound in which n in formula (1) is 3, a cyanato group-containing cyclotetraphosphazene compound in which n in formula (1) is 4, and a cyanate group in which n in formula (1) is 5 -Containing cyclopentaphosphazene compounds and cyanato group-containing cyclohexaphosphazene compounds in which n in formula (1) is 6, wherein 1 to (2n-2) of 2n A are A3 groups, and these Any mixture of This type of cyanato group-containing cyclic phosphazene compound can realize a resin molded article having higher high-temperature reliability and mechanical strength (particularly, glass transition temperature) than other cyanate group-containing cyclic phosphazene compounds of the present invention. This is advantageous.

なお、2n個のAのうちの1個〜(2n−2)個がA3基であるか否かは、シアナト基含有環状ホスファゼン化合物若しくはその製造過程における中間体のTOF−MS分析により確認することができる。   In addition, it is confirmed by TOF-MS analysis of cyanate group-containing cyclic phosphazene compounds or intermediates in the production process thereof whether 1 to (2n-2) of 2n A are A3 groups or not. Can do.

このような形態のシアナト基含有環状ホスファゼン化合物の具体例としては、式(1)のnが3であるシアナト基含有シクロトリホスファゼン化合物、式(1)のnが4であるシアナト基含有シクロテトラホスファゼン化合物、式(1)のnが5であるシアナト基含有シクロペンタホスファゼン化合物若しくは式(1)のnが6であるシアナト基含有シクロヘキサホスファゼン化合物であって、Aが、A3基であるビス(2’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、A3基であるビス(2’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基であるビス(2’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基であるビス(4’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、A3基であるビス(4’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基であるビス(4’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基である(2’−シアナトフェニル)(4’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、A3基である(2’−シアナトフェニル)(4’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である(2’−シアナトフェニル)(4’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基であるビス(2’−シアナト−5’−フェニルフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、A3基であるビス(2’−シアナト−5’−フェニルフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基であるビス(2’−シアナト−5’−フェニルフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基であるビス(2’−フェニル−5’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、A3基であるビス(2’−フェニル−5’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基であるビス(2’−フェニル−5’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基である(2’−シアナト−5’−フェニルフェニル)(2’−フェニル−5’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基とA1基であるn−プロポキシ基との組合せのもの、A3基である(2’−シアナト−5’−フェニルフェニル)(2’−フェニル−5’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの若しくはA3基である(2’−シアナト−5’−フェニルフェニル)(2’−フェニル−5’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのものおよびこれらの任意の混合物を挙げることができる。   Specific examples of the cyanato group-containing cyclic phosphazene compound having such a form include a cyanato group-containing cyclotriphosphazene compound in which n in the formula (1) is 3, and a cyanate group-containing cyclotetrazane in which n in the formula (1) is 4. A phosphazene compound, a cyanato group-containing cyclopentaphosphazene compound in which n in formula (1) is 5 or a cyanato group-containing cyclohexaphosphazene compound in which n is 6 in formula (1), wherein A is a bis group Combination of (2′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group and n-propoxy group which is A1 group, bis (2′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group which is A3 group In combination with phenoxy group which is A2 group, bis (2′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group which is A3 group and A3 group In combination with a methylphenoxy group which is a group, in combination with a bis (4′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group which is an A3 group and an n-propoxy group which is an A1 group, A combination of a certain bis (4′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group and a phenoxy group that is an A2 group, a bis (4′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group that is an A3 group In combination with a methylphenoxy group which is an A2 group, (2′-cyanatophenyl) (4′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group which is an A3 group, and n-propoxy which is an A1 group A combination of a group with (2′-cyanatophenyl) (4′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group which is an A3 group and a phenoxy group which is an A2 group A combination of (2′-cyanatophenyl) (4′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group which is an A3 group and a methylphenoxy group which is an A2 group, an A3 group Combination of bis (2′-cyanato-5′-phenylphenyl) methyl-4-phenyloxy group and n-propoxy group which is A1 group, bis (2′-cyanato-5′-phenyl) which is A3 group A combination of a phenyl) methyl-4-phenyloxy group and a phenoxy group which is an A2 group, a bis (2′-cyanato-5′-phenylphenyl) methyl-4-phenyloxy group which is an A3 group and an A2 group In combination with a certain methylphenoxy group, bis (2′-phenyl-5′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group which is an A3 group and n-propoxy which is an A1 group A combination of cis group, a combination of bis (2′-phenyl-5′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group which is an A3 group and a phenoxy group which is an A2 group, an A3 group Combination of bis (2′-phenyl-5′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group and methylphenoxy group which is A2 group, A3 group (2′-cyanato-5′-phenylphenyl) ) (2′-Phenyl-5′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group in combination with A1 group n-propoxy group, A3 group (2′-Cyanato-5′-phenyl) (Phenyl) (2′-phenyl-5′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group and a phenoxy group which is an A2 group or an A3 group (2′-cyanato-5 - it can be exemplified phenyl) (2'-phenyl-5'-cyanatophenyl) that in combination with methylphenoxy group is methyl-4-phenyl group and A2 groups and any mixture thereof.

このうち、式(1)のnが3であるシアナト基含有シクロトリホスファゼン化合物、式(1)のnが4であるシアナト基含有シクロテトラホスファゼン化合物、式(1)のnが5であるシアナト基含有シクロペンタホスファゼン化合物、式(1)のnが6であるシアナト基含有シクロヘキサホスファゼン化合物であって、Aが、A3基であるビス(2’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基であるビス(2’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基であるビス(4’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基であるビス(4’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基である(2’−シアナトフェニル)(4’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基である(2’−シアナトフェニル)(4’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基であるビス(2’−シアナト−5’−フェニルフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基であるビス(2’−シアナト−5’−フェニルフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基であるビス(2’−フェニル−5’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基であるビス(2’−フェニル−5’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基である(2’−シアナト−5’−フェニルフェニル)(2’−フェニル−5’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの若しくはA3基である(2’−シアナト−5’−フェニルフェニル)(2’−フェニル−5’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのものおよびこれらの任意の混合物が好ましい。   Among these, a cyanato group-containing cyclotriphosphazene compound in which n in formula (1) is 3, a cyanato group-containing cyclotetraphosphazene compound in which n in formula (1) is 4, and a cyanato in which n in formula (1) is 5 A bis (2′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group-containing cyclopentaphosphazene compound, a cyanato group-containing cyclohexaphosphazene compound in which n in the formula (1) is 6, wherein A is an A3 group A combination of a group and a phenoxy group which is an A2 group, a combination of a bis (2′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group which is an A3 group and a methylphenoxy group which is an A2 group, an A3 group A combination of a bis (4′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group which is a phenoxy group which is an A2 group, a bis (4′- A combination of anatophenyl) methyl-4-phenyloxy group and a methylphenoxy group which is A2 group, (2′-cyanatophenyl) (4′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy which is A3 group A combination of a phenoxy group which is an A2 group, a (2′-cyanatophenyl) (4′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group which is an A3 group, and a methylphenoxy which is an A2 group In combination with a group, bis (2′-cyanato-5′-phenylphenyl) methyl-4-phenyloxy group as an A3 group and a phenoxy group as an A2 group, bis ( Combination of 2'-cyanato-5'-phenylphenyl) methyl-4-phenyloxy group and A2 group methylphenoxy group, A3 group bis (2 ' Phenyl-5'-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group in combination with phenoxy group which is A2 group, bis (2'-phenyl-5'-cyanatophenyl) methyl-4 which is A3 group -A combination of a phenyloxy group and a methylphenoxy group which is an A2 group, (2'-cyanato-5'-phenylphenyl) (2'-phenyl-5'-cyanatophenyl) methyl-4 which is an A3 group A combination of a phenyloxy group and a phenoxy group which is an A2 group or an A3 group (2'-cyanato-5'-phenylphenyl) (2'-phenyl-5'-cyanatophenyl) methyl-4- A combination of a phenyloxy group and a methylphenoxy group which is an A2 group and any mixture thereof are preferred.

特に、式(1)のnが3であるシアナト基含有シクロトリホスファゼン化合物若しくは式(1)のnが4であるシアナト基含有シクロテトラホスファゼン化合物であって、Aが、A3基であるビス(2’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基であるビス(2’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基であるビス(4’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの、A3基であるビス(4’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのもの、A3基である(2’−シアナトフェニル)(4’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基、とA2基であるフェノキシ基との組合せのもの若しくはA3基である(2’−シアナトフェニル)(4’−シアナトフェニル)メチル−4−フェニルオキシ基とA2基であるメチルフェノキシ基との組合せのものおよびこれらの任意の混合物が好ましい。   In particular, a cyanato group-containing cyclotriphosphazene compound in which n in formula (1) is 3 or a cyanato group-containing cyclotetraphosphazene compound in which n is 4 in formula (1), wherein A is a bis ( Combination of 2'-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group and phenoxy group which is A2 group, bis (2'-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group which is A3 group and A2 group In combination with a methylphenoxy group that is A3, bis (4′-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group that is an A3 group and a phenoxy group that is an A2 group, bis ( 4'-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group and A2 group methylphenoxy group in combination, A3 group (2'-cyanatophenyl) 4'-cyanatophenyl) methyl-4-phenyloxy group and a combination of phenoxy group which is A2 group or (2'-cyanatophenyl) (4'-cyanatophenyl) methyl- which is A3 group Preferred are combinations of 4-phenyloxy groups with methylphenoxy groups which are A2 groups and any mixtures thereof.

シアナト基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法
本発明のシアナト基含有環状ホスファゼン化合物は、次のような方法により製造することができる。
Method for Producing Cyanato Group-Containing Cyclic Phosphazene Compound The cyanato group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention can be produced by the following method.

先ず、下記の式(3)で表される環状ホスホニトリルジハライドを用意する。   First, a cyclic phosphonitrile dihalide represented by the following formula (3) is prepared.

Figure 0005137105
Figure 0005137105

式(3)において、nは、3から15の整数を示している。また、Xは、ハロゲン原子を示し、好ましくはフッ素原子若しくは塩素原子である。因みに、ここで用意する環状ホスホニトリルジハライドは、nが異なる数種類のものの混合物であってもよい。   In the formula (3), n represents an integer of 3 to 15. X represents a halogen atom, preferably a fluorine atom or a chlorine atom. Incidentally, the cyclic phosphonitrile dihalide prepared here may be a mixture of several kinds having different n.

このような環状ホスホニトリルジハライドの製造方法その他は、各種の文献、例えば、下記のような非特許文献1、2に記載されている。   The production method of such a cyclic phosphonitrile dihalide and the like are described in various documents, for example, Non-Patent Documents 1 and 2 as described below.

PHOSPHORUS−NITROGEN COMPOUNDS、H.R.ALLCOCK著、1972年刊、ACADEMIC PRESS社PHOSPHORUS-NITROGEN COMPOUNDS, H.P. R. By ALLCOCK, published in 1972, ACADEMI PRESS PHOSPHAZENES、A WORLDWIDE INSIGHT、M.GLERIA、R.DE JAEGER著、2004年刊、NOVA SCIENCE PUBLISHERS INC.社PHOSPHAZENES, A WORLDWIDE INSIGHT, M.C. GLERIA, R.A. DE JAEGER, 2004, NOVA SCIENCE PUBLISHERS INC. Company

これらの文献に記載されているように、式(3)で表される環状ホスホニトリルジハライドは、通常、重合度が3から15程度の環状ホスホニトリルジハライドと鎖状ホスホニトリルジハライドとの混合物として得られる。このため、式(3)で表される環状ホスホニトリルジハライドは、上記各文献に記載されているように、当該混合物から溶媒への溶解度の差を利用して鎖状ホスホニトリルジハライドを取り除いて入手するか、或いは、当該混合物から環状ホスホニトリルジハライドを蒸留又は再結晶によって分離して入手する必要がある。   As described in these documents, the cyclic phosphonitrile dihalide represented by the formula (3) is usually composed of a cyclic phosphonitrile dihalide having a degree of polymerization of about 3 to 15 and a chain phosphonitrile dihalide. Obtained as a mixture. For this reason, the cyclic phosphonitrile dihalide represented by the formula (3) removes the chain phosphonitrile dihalide using the difference in solubility in the solvent from the mixture, as described in the above documents. Or the cyclic phosphonitrile dihalide must be separated from the mixture by distillation or recrystallization.

この製造方法において用いる環状ホスホニトリルジハライドとして好ましいものは、例えば、ヘキサフルオロシクロトリホスファゼン(nが3のもの)、オクタフルオロシクロテトラホスファゼン(nが4のもの)、デカフルオロシクロペンタホスファゼン(nが5のもの)、ドデカフルオロシクロヘキサホスファゼン(nが6のもの)、ヘキサフルオロシクロトリホスファゼンとオクタフルオロシクロテトラホスファゼンとの混合物、nが3から15の環状ホスホニトリルジフルオリドの混合物、ヘキサクロロシクロトリホスファゼン(nが3のもの)、オクタクロロシクロテトラホスファゼン(nが4のもの)、デカクロロシクロペンタホスファゼン(nが5のもの)、ドデカクロロシクロヘキサホスファゼン(nが6のもの)、ヘキサクロロシクロトリホスファゼンとオクタクロロシクロテトラホスファゼンとの混合物およびnが3から15の環状ホスホニトリルジクロリドの混合物等である。このうち、ヘキサクロロシクロトリホスファゼン、オクタクロロシクロテトラホスファゼン、ヘキサクロロシクロトリホスファゼンとオクタクロロシクロテトラホスファゼンとの混合物およびnが3から15の環状ホスホニトリルジクロリドの混合物がより好ましく、ヘキサクロロシクロトリホスファゼン、ヘキサクロロシクロトリホスファゼンとオクタクロロシクロテトラホスファゼンとの混合物およびnが3から15の環状ホスホニトリルジクロリドの混合物が特に好ましい。   Preferred examples of the cyclic phosphonitrile dihalide used in this production method include hexafluorocyclotriphosphazene (where n is 3), octafluorocyclotetraphosphazene (where n is 4), decafluorocyclopentaphosphazene (n 5), dodecafluorocyclohexaphosphazene (where n is 6), a mixture of hexafluorocyclotriphosphazene and octafluorocyclotetraphosphazene, a mixture of cyclic phosphonitrile difluorides where n is 3 to 15, hexachlorocyclo Triphosphazene (n is 3), octachlorocyclotetraphosphazene (n is 4), decachlorocyclopentaphosphazene (n is 5), dodecachlorocyclohexaphosphazene (n is 6), hexa Rollo is Cyclotriphosphazene a mixture of cyclic phosphonate nitrile dichloride mixtures and n is 3 to 15 and octa-chloro cyclotetrasiloxane phosphazene like. Of these, hexachlorocyclotriphosphazene, octachlorocyclotetraphosphazene, a mixture of hexachlorocyclotriphosphazene and octachlorocyclotetraphosphazene, and a mixture of cyclic phosphonitrile dichloride having n of 3 to 15 are more preferable, hexachlorocyclotriphosphazene, hexachloro Particular preference is given to mixtures of cyclotriphosphazene and octachlorocyclotetraphosphazene and mixtures of cyclic phosphonitrile dichlorides with n of 3 to 15.

また、上述の環状ホスホニトリルジハライドと反応させる化合物として、次の化合物B1、化合物B2および化合物B3を用意する。   Moreover, the following compound B1, compound B2, and compound B3 are prepared as a compound made to react with the above-mentioned cyclic phosphonitrile dihalide.

[化合物B1]
炭素数が1〜8のアルコール類。
このアルコール類は、炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい。
[Compound B1]
Alcohols having 1 to 8 carbon atoms.
In these alcohols, at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.

このようなアルコール類としては、例えば、メタノール、エタノ−ル、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタノール、n−ペンタノール、n−ヘキサノール、n−ヘプタノール、n−オクタノール、ビニルアルコール、1−プロペン−1−オール、2−プロペン−1−オール(アリルアルコール)、1−メチル−1−エテン−1−オール、3−ブテン−1−オール、2−メチル−2−プロペン−1−オール、4−ペンテン−1−オール、2−ヘキセン−1−オール、2−ヘプテン−4−オール、5−オクテン−1−オール、ベンジルアルコールおよびフェネチルアルコール等を挙げることができる。このうち、メタノール、エタノール、n−プロパノール、アリルアルコールおよびベンジルアルコールが好ましく、エタノールおよびn−プロパノールが特に好ましい。   Examples of such alcohols include methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, sec-butanol, tert-butanol, n-pentanol, n-hexanol, n-heptanol, and n-octanol. , Vinyl alcohol, 1-propen-1-ol, 2-propen-1-ol (allyl alcohol), 1-methyl-1-ethen-1-ol, 3-buten-1-ol, 2-methyl-2- Examples include propen-1-ol, 4-penten-1-ol, 2-hexen-1-ol, 2-hepten-4-ol, 5-octen-1-ol, benzyl alcohol, and phenethyl alcohol. Among these, methanol, ethanol, n-propanol, allyl alcohol and benzyl alcohol are preferable, and ethanol and n-propanol are particularly preferable.

[化合物B2]
炭素数が6〜20のフェノール類。
このフェノール類は、炭素数が1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい。
[Compound B2]
Phenols having 6 to 20 carbon atoms.
In these phenols, at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.

このようなフェノール類としては、例えば、フェノール、クレゾール、ジメチルフェノール、エチルフェノール、エチルメチルフェノール、ジエチルフェノール、n−プロピルフェノール、イソプロピルフェノール、イソプロピルメチルフェノール、イソプロピルエチルフェノール、ジイソプロピルフェノール、n−ブチルフェノール、sec−ブチルフェノール、tert−ブチルフェノール、n−ペンチルフェノール、n−ヘキシルフェノール、ビニルフェノール、1−プロペニルフェノール、2−プロペニルフェノール、イソプロペニルフェノール、1−ブテニルフェノール、sec−ブテニルフェノール、1−ペンテニルフェノール、1−ヘキセニルフェノール、フェニルフェノール、ナフトール、アントラノールおよびフェナントラノール等を挙げることができる。このうち、フェノール、クレゾール、ジメチルフェノール、ジエチルフェノール、2−プロペニルフェノール、フェニルフェノールおよびナフトールが好ましく、フェノール、クレゾール、ジメチルフェノールおよびナフトールが特に好ましい。   Examples of such phenols include phenol, cresol, dimethylphenol, ethylphenol, ethylmethylphenol, diethylphenol, n-propylphenol, isopropylphenol, isopropylmethylphenol, isopropylethylphenol, diisopropylphenol, n-butylphenol, sec-butylphenol, tert-butylphenol, n-pentylphenol, n-hexylphenol, vinylphenol, 1-propenylphenol, 2-propenylphenol, isopropenylphenol, 1-butenylphenol, sec-butenylphenol, 1-pentenyl Phenol, 1-hexenylphenol, phenylphenol, naphthol, anthranol and phenanthate Mention may be made of the Nord and the like. Among these, phenol, cresol, dimethylphenol, diethylphenol, 2-propenylphenol, phenylphenol and naphthol are preferable, and phenol, cresol, dimethylphenol and naphthol are particularly preferable.

[化合物B3]
下記の式(7)で表されるホルミルフェノール類。
[Compound B3]
Formylphenols represented by the following formula (7).

Figure 0005137105
このようなホルミルフェノール類としては、例えば、2−ホルミルフェノール、3−ホルミルフェノールおよび4−ホルミルフェノール等を挙げることができる。このうち、3−ホルミルフェノールおよび4−ホルミルフェノールが好ましく、4−ホルミルフェノールが特に好ましい。
Figure 0005137105
Examples of such formylphenols include 2-formylphenol, 3-formylphenol, and 4-formylphenol. Of these, 3-formylphenol and 4-formylphenol are preferable, and 4-formylphenol is particularly preferable.

本発明のシアナト基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法では、先ず、上述の式(3)で表される環状ホスホニトリルジハライドと上述の化合物B1〜B3とを反応させることにより、環状ホスホニトリルジハライドの全ハロゲン原子を、少なくとも一つが下記のE3基により置換されるよう下記のE1基、E2基およびE3基からなる群から選ばれた基により置換し、環状ホスホニトリル置換体を製造する(工程1)。   In the process for producing a cyanato group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention, first, the cyclic phosphonitrile dihalide is reacted with the cyclic phosphonitrile dihalide represented by the above formula (3) and the above-mentioned compounds B1 to B3. Are substituted with a group selected from the group consisting of the following E1, E2 and E3 groups so that at least one of them is substituted with the following E3 group to produce a cyclic phosphonitrile substituted product (step) 1).

[E1基]
炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも1種の基が置換されていてもよい、炭素数が1〜8のアルコキシ基。
この基は、化合物B1によりハロゲン原子と置換されるものであり、既述のA1基に該当する。
[E1 group]
The C1-C8 alkoxy group in which the at least 1 sort (s) chosen from a C1-C6 alkyl group, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.
This group is substituted with a halogen atom by the compound B1, and corresponds to the A1 group described above.

[E2基]
炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも1種の基が置換されていてもよい、炭素数6〜20のアリールオキシ基。
この基は、化合物B2によりハロゲン原子と置換されるものであり、既述のA2基に該当する。
[E2 group]
An aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms, wherein at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.
This group is substituted with a halogen atom by the compound B2, and corresponds to the A2 group described above.

[E3基]
下記の式(4)で示されるホルミル基置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
[E3 group]
A group selected from the group consisting of a formyl group-substituted phenyloxy group represented by the following formula (4).

Figure 0005137105
この基は、化合物B3によりハロゲン原子と置換されるものである。
Figure 0005137105
This group is substituted with a halogen atom by the compound B3.

この製造工程では、製造するシアナト基含有環状ホスファゼン化合物の種類、すなわち、上述の形態Aに係るシアナト基含有環状ホスファゼン化合物を製造する場合と、上述の形態Bに係るシアナト基含有環状ホスファゼン化合物を製造する場合とで、化合物B1〜B3を適宜選択して使用する。具体的には次の通りである。   In this production process, the type of cyanato group-containing cyclic phosphazene compound to be produced, that is, the case where the cyanate group-containing cyclic phosphazene compound according to the above-described form A is produced, and the cyanate group-containing cyclic phosphazene compound according to the above-described form B are produced. When selected, compounds B1 to B3 are appropriately selected and used. Specifically, it is as follows.

[形態Aのシアナト基含有環状ホスファゼン化合物を製造する場合]
この場合は、環状ホスホニトリルジハライドと化合物B3とを反応させ、環状ホスホニトリルジハライドのハロゲン原子(以下、活性ハロゲン原子という場合がある)の全てを化合物B3に由来のE3基で置換する。ここで用いられる化合物B3は、上述のホルミルフェノール類のうちの一種若しくは二種以上である。環状ホスホニトリルジハライドと化合物B3とを反応させ、環状ホスホニトリルジハライドの全ての活性ハロゲン原子をE3基で置換する方法としては、次のいずれかの方法を採用することができる。
[When producing a cyanato group-containing cyclic phosphazene compound of Form A]
In this case, the cyclic phosphonitrile dihalide is reacted with the compound B3, and all of the halogen atoms (hereinafter sometimes referred to as active halogen atoms) of the cyclic phosphonitrile dihalide are replaced with the E3 group derived from the compound B3. The compound B3 used here is one or more of the above-mentioned formylphenols. As a method of reacting the cyclic phosphonitrile dihalide with the compound B3 and substituting all the active halogen atoms of the cyclic phosphonitrile dihalide with the E3 group, any of the following methods can be employed.

<方法A−a>
環状ホスホニトリルジハライドと化合物B3のアルカリ金属塩とを反応させる。
この方法による場合、化合物B3のアルカリ金属塩の使用量は、通常、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の量の1.0〜2.0当量に設定するのが好ましく、1.05〜1.3当量に設定するのがより好ましい。当該使用量が1.0当量未満の場合は、活性ハロゲン原子の一部が残留し、目的とするシアナト基含有環状ホスファゼン化合物が所要の効果を示さない可能性がある。一方、当該使用量が2.0当量を超える場合は、反応生成物の分離・精製が困難になるおそれがあり、また、不経済である。
<Method Aa>
A cyclic phosphonitrile dihalide is reacted with an alkali metal salt of compound B3.
In the case of this method, the amount of the alkali metal salt of compound B3 is usually preferably set to 1.0 to 2.0 equivalents of the amount of active halogen atom of cyclic phosphonitrile dihalide, and 1.05 to 1 More preferably, it is set to 3 equivalents. When the amount used is less than 1.0 equivalent, a part of the active halogen atom remains, and the target cyanato group-containing cyclic phosphazene compound may not exhibit the required effect. On the other hand, if the amount used exceeds 2.0 equivalents, it may be difficult to separate and purify the reaction product, which is uneconomical.

<方法A−b>
環状ホスホニトリルジハライドと化合物B3とを、ハロゲン化水素を捕捉する塩基の存在下で反応させる。
この方法による場合、化合物B3の使用量は、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の量の1.0〜2.0当量に設定するのが好ましく、1.05〜1.3当量に設定するのがより好ましい。当該使用量が1.0当量未満の場合は、活性ハロゲン原子の一部が残留し、目的とするシアナト基含有環状ホスファゼン化合物が所要の効果を示さない可能性がある。一方、当該使用量が2.0当量を超える場合は、反応生成物の分離・精製が困難になるおそれがあり、また、不経済である。また、塩基の使用量は、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の量の1.1〜2.1当量に設定するのが好ましく、1.1〜1.4当量に設定するのがより好ましい。当該使用量が1.1当量未満の場合は、活性ハロゲン原子の一部が残留し、目的とするシアナト基含有環状ホスファゼン化合物が所要の効果を示さない可能性がある。一方、当該使用量が2.1当量を超える場合は、反応生成物の分離・精製が困難になるおそれがあり、また、不経済である。
<Method Ab>
Cyclic phosphonitrile dihalide and compound B3 are reacted in the presence of a base that captures hydrogen halide.
In the case of this method, the amount of compound B3 used is preferably set to 1.0 to 2.0 equivalents, preferably 1.05 to 1.3 equivalents, of the amount of the active halogen atom of the cyclic phosphonitrile dihalide. Is more preferable. When the amount used is less than 1.0 equivalent, a part of the active halogen atom remains, and the target cyanato group-containing cyclic phosphazene compound may not exhibit the required effect. On the other hand, if the amount used exceeds 2.0 equivalents, it may be difficult to separate and purify the reaction product, which is uneconomical. The amount of the base used is preferably set to 1.1 to 2.1 equivalents, more preferably 1.1 to 1.4 equivalents, of the amount of active halogen atoms in the cyclic phosphonitrile dihalide. . When the amount used is less than 1.1 equivalents, a part of the active halogen atoms may remain, and the intended cyanato group-containing cyclic phosphazene compound may not exhibit the required effect. On the other hand, if the amount used exceeds 2.1 equivalents, it may be difficult to separate and purify the reaction product, which is uneconomical.

[形態Bのシアナト基含有環状ホスファゼン化合物を製造する場合]
この場合は、環状ホスホニトリルジハライドに対し、化合物B3のうちの少なくとも一種と、化合物B1および化合物B2のうちの少なくとも一つの化合物とを反応させ、環状ホスホニトリルジハライドの一部の活性ハロゲン原子を化合物B3に由来のE3基で置換し、残りの他の活性ハロゲン原子の全てを化合物B1に由来のE1基および化合物B2に由来のE2基のうちの少なくとも一つの基で置換する。このための方法としては、次のいずれかの方法を採用することができる。
[When producing a cyanato group-containing cyclic phosphazene compound of Form B]
In this case, at least one of compound B3 and at least one compound of compound B1 and compound B2 are reacted with cyclic phosphonitrile dihalide, and a part of the active halogen atoms of cyclic phosphonitrile dihalide is reacted. Is substituted with E3 group derived from compound B3, and all of the remaining other active halogen atoms are replaced with at least one group of E1 group derived from compound B1 and E2 group derived from compound B2. As a method for this, any of the following methods can be adopted.

<方法B−a>
環状ホスホニトリルジハライドに対し、化合物B3のアルカリ金属塩と、化合物B1および化合物B2のうちの少なくとも一つの化合物のアルカリ金属塩との混合物を反応させ、活性ハロゲン原子の全てを置換する。当該混合物において、化合物B3のアルカリ金属塩の割合は、製造するシアナト基含有環状ホスファゼン化合物の種類に応じて適宜設定することができる。
<Method Ba>
A cyclic phosphonitrile dihalide is reacted with a mixture of an alkali metal salt of compound B3 and an alkali metal salt of at least one of compound B1 and compound B2 to replace all active halogen atoms. In the said mixture, the ratio of the alkali metal salt of compound B3 can be suitably set according to the kind of cyanato group containing cyclic phosphazene compound to manufacture.

この方法による場合、上述の混合物の使用量は、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の量の1.0〜2.0当量に設定するのが好ましく、1.05〜1.3当量に設定するのがより好ましい。当該使用量が1.0当量未満の場合は、活性ハロゲン原子の一部が残留し、目的とするシアナト基含有環状ホスファゼン化合物が所要の効果を示さない可能性がある。一方、当該使用量が2.0当量を超える場合は、反応生成物の分離・精製が困難になるおそれがあり、また、不経済である。   In the case of this method, the amount of the above mixture used is preferably set to 1.0 to 2.0 equivalents of the amount of active halogen atoms of the cyclic phosphonitrile dihalide, and is set to 1.05 to 1.3 equivalents. More preferably. When the amount used is less than 1.0 equivalent, a part of the active halogen atom remains, and the target cyanato group-containing cyclic phosphazene compound may not exhibit the required effect. On the other hand, if the amount used exceeds 2.0 equivalents, it may be difficult to separate and purify the reaction product, which is uneconomical.

<方法B−b>
環状ホスホニトリルジハライドに対し、化合物B3と、化合物B1および化合物B2のうちの少なくとも一つの化合物との混合物を、ハロゲン化水素を捕捉する塩基の存在下で反応させ、活性ハロゲン原子の全てを置換する。当該混合物において、化合物B3の割合は、製造するシアナト基含有環状ホスファゼン化合物の種類に応じて適宜設定することができる。
<Method B-b>
A cyclic phosphonitrile dihalide is reacted with a mixture of compound B3 and at least one of compound B1 and compound B2 in the presence of a base that captures hydrogen halide to replace all active halogen atoms. To do. In the said mixture, the ratio of compound B3 can be suitably set according to the kind of cyanato group containing cyclic phosphazene compound to manufacture.

この方法による場合、上述の混合物の使用量は、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の量の1.0〜2.0当量に設定するのが好ましく、1.05〜1.3当量に設定するのがより好ましい。当該使用量が1.0当量未満の場合は、活性ハロゲン原子の一部が残留し、目的とするシアナト基含有環状ホスファゼン化合物が所要の効果を示さない可能性がある。一方、当該使用量が2.0当量を超える場合は、反応生成物の分離・精製が困難になるおそれがあり、また、不経済である。また、塩基の使用量は、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の量の1.1〜2.1当量に設定するのが好ましく、1.1〜1.4当量に設定するのがより好ましい。当該使用量が1.1当量未満の場合は、活性ハロゲン原子の一部が残留し、目的とするシアナト基含有環状ホスファゼン化合物が所要の効果を示さない可能性がある。一方、当該使用量が2.1当量を超える場合は、反応生成物の分離・精製が困難になるおそれがあり、また、不経済である。   In the case of this method, the amount of the above mixture used is preferably set to 1.0 to 2.0 equivalents of the amount of active halogen atoms of the cyclic phosphonitrile dihalide, and is set to 1.05 to 1.3 equivalents. More preferably. When the amount used is less than 1.0 equivalent, a part of the active halogen atom remains, and the target cyanato group-containing cyclic phosphazene compound may not exhibit the required effect. On the other hand, if the amount used exceeds 2.0 equivalents, it may be difficult to separate and purify the reaction product, which is uneconomical. The amount of the base used is preferably set to 1.1 to 2.1 equivalents, more preferably 1.1 to 1.4 equivalents, of the amount of active halogen atoms in the cyclic phosphonitrile dihalide. . When the amount used is less than 1.1 equivalents, a part of the active halogen atoms may remain, and the intended cyanato group-containing cyclic phosphazene compound may not exhibit the required effect. On the other hand, if the amount used exceeds 2.1 equivalents, it may be difficult to separate and purify the reaction product, which is uneconomical.

<方法B−c>
先ず、環状ホスホニトリルジハライドに対して化合物B3を反応させ、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の一部を化合物B3に由来のE3基により置換した部分置換体を得る(第一工程)。次に、得られた部分置換体に対して化合物B1および化合物B2のうちの少なくとも一つの化合物を反応させ、残りの活性ハロゲン原子の全てを化合物B1に由来のE1基および化合物B2に由来のE2基のうちの少なくとも一つにより置換する(第二工程)。
<Method Bc>
First, compound B3 is reacted with cyclic phosphonitrile dihalide to obtain a partially substituted product in which a part of the active halogen atom of cyclic phosphonitrile dihalide is substituted with E3 group derived from compound B3 (first step). Next, at least one of compound B1 and compound B2 is reacted with the obtained partially substituted product, and all of the remaining active halogen atoms are converted into E1 group derived from compound B1 and E2 derived from compound B2. Substitution with at least one of the groups (second step).

この方法の第一工程は、環状ホスホニトリルジハライドに対して化合物B3のアルカリ金属塩を反応させて実施してもよいし、環状ホスホニトリルジハライドに対し、化合物B3をハロゲン化水素を捕捉する塩基の存在下で反応させてもよい。また、第二工程は、第一工程で得られた部分置換体に対して化合物B1および化合物B2のうちの少なくとも一つの化合物のアルカリ金属塩を反応させて実施してもよいし、第一工程で得られた部分置換体に対し、化合物B1および化合物B2のうちの少なくとも一つの化合物をハロゲン化水素を捕捉する塩基の存在下で反応させてもよい。   The first step of this method may be carried out by reacting an alkali metal salt of compound B3 with a cyclic phosphonitrile dihalide, or captures a hydrogen halide of compound B3 with respect to the cyclic phosphonitrile dihalide. The reaction may be performed in the presence of a base. In addition, the second step may be carried out by reacting the partially substituted product obtained in the first step with an alkali metal salt of at least one of the compounds B1 and B2, or the first step. The partially substituted product obtained in (1) may be reacted with at least one of compound B1 and compound B2 in the presence of a base that captures hydrogen halide.

<方法B−d>
先ず、環状ホスホニトリルジハライドに対して化合物B1および化合物B2のうちの少なくとも一つの化合物を反応させ、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の一部を化合物B1に由来のE1基および化合物B2に由来のE2基のうちの少なくとも一つにより置換した部分置換体を得る(第一工程)。次に、得られた部分置換体に対して化合物B3を反応させ、残りの活性ハロゲン原子の全てを化合物B3に由来のE3基により置換する(第二工程)。
<Method Bd>
First, at least one of compound B1 and compound B2 is reacted with cyclic phosphonitrile dihalide, and a part of the active halogen atom of cyclic phosphonitrile dihalide is converted into E1 group derived from compound B1 and compound B2. A partially substituted product substituted with at least one of the derived E2 groups is obtained (first step). Next, compound B3 is reacted with the partially substituted product thus obtained, and all of the remaining active halogen atoms are substituted with E3 group derived from compound B3 (second step).

この方法の第一工程は、環状ホスホニトリルジハライドに対して化合物B1および化合物B2のうちの少なくとも一つの化合物のアルカリ金属塩を反応させて実施してもよいし、環状ホスホニトリルジハライドに対し、化合物B1および化合物B2のうちの少なくとも一つの化合物をハロゲン化水素を捕捉する塩基の存在下で反応させてもよい。また、第二工程は、第一工程で得られた部分置換体に対して化合物B3のアルカリ金属塩を反応させて実施してもよいし、第一工程で得られた部分置換体に対し、化合物B3をハロゲン化水素を捕捉する塩基の存在下で反応させてもよい。   The first step of this method may be carried out by reacting cyclic phosphonitrile dihalide with an alkali metal salt of at least one of compound B1 and compound B2, or for cyclic phosphonitrile dihalide. Alternatively, at least one of compound B1 and compound B2 may be reacted in the presence of a base that captures hydrogen halide. In addition, the second step may be carried out by reacting the alkali metal salt of compound B3 with the partial substituent obtained in the first step, or with respect to the partial substituent obtained in the first step. Compound B3 may be reacted in the presence of a base that captures hydrogen halide.

上述の各方法において用いられるアルカリ金属塩は、通常、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩およびセシウム塩が好ましい。特に、ナトリウム塩およびカリウム塩が好ましい。このようなアルカリ金属塩は、化合物B1〜B3と、金属リチウム、金属ナトリウム若しくは金属カリウム等との脱水素反応、または、化合物B1〜B3と、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物との混合物からの脱水反応によって得ることができる。   In general, the alkali metal salt used in each of the above methods is preferably a lithium salt, a sodium salt, a potassium salt, or a cesium salt. In particular, sodium salt and potassium salt are preferable. Such an alkali metal salt is a dehydrogenation reaction between the compounds B1 to B3 and metal lithium, metal sodium or metal potassium, or the compounds B1 to B3 and lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide or the like. It can be obtained by a dehydration reaction from a mixture with an alkali metal hydroxide.

また、上述の各方法において用いられる塩基は、特に限定されるものではないが、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジメチルアニリン、ジエチルアニリン、ジイソプロピルアニリン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、4−ジエチルアミノピリジンおよび4−ジイソプロピルアミノピリジン等の脂肪族若しくは芳香族アミン類、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウムおよび炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムおよび水酸化リチウム等のアルカリ金属水酸化物等が好ましい。特に、トリエチルアミン、ピリジンおよび水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物が好ましい。   The base used in each of the above methods is not particularly limited. For example, trimethylamine, triethylamine, diisopropylethylamine, dimethylaniline, diethylaniline, diisopropylaniline, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, 4-diethylamino Aliphatic or aromatic amines such as pyridine and 4-diisopropylaminopyridine, alkali metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate, sodium bicarbonate and potassium bicarbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide Alkali metal hydroxides are preferred. In particular, alkali metal hydroxides such as triethylamine, pyridine and sodium hydroxide are preferred.

上述の環状ホスホニトリルジハライドと化合物B1〜B3との反応は、上述のいずれの方法についても、無溶媒で実施することができ、また、溶媒を使用して実施することもできる。溶媒を使用する場合、溶媒の種類は、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されるものではないが、通常、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン、ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、1,2−ジエトキシエタンおよびジフェニルエーテル等のエーテル系、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン、キシレン、エチルベンゼンおよびイソプロピルベンゼン等の芳香族炭化水素系、クロロホルムおよび塩化メチレン等のハロゲン化炭化水素系、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、ウンデカンおよびドデカン等の脂肪族炭化水素系、ピリジン等の複素環式芳香族炭化水素系、第三級アミン系並びにシアン化合物系等の有機溶媒を用いるのが好ましい。このうち、分子内にエーテル結合を有し、かつ、化合物B1〜B3およびそれらのアルカリ金属塩の溶解度が高いエーテル系の有機溶媒および水との分離が容易である芳香族炭化水素系の有機溶媒を用いるのが特に好ましい。   The reaction of the above-mentioned cyclic phosphonitrile dihalide and the compounds B1 to B3 can be carried out without solvent for any of the above-mentioned methods, and can also be carried out using a solvent. When using a solvent, the type of the solvent is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction, but usually diethyl ether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, 1,2-dimethoxyethane, Ethers such as butyl methyl ether, diisopropyl ether, 1,2-diethoxyethane and diphenyl ether, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, chlorobenzene, nitrobenzene, xylene, ethylbenzene and isopropylbenzene, halogens such as chloroform and methylene chloride Hydrocarbons, pentane, hexane, cyclohexane, heptane, octane, nonane, undecane, dodecane and other aliphatic hydrocarbons, pyridine and other heterocyclic aromatic hydrocarbons, tertiary amines, cyanide compounds, etc. of Preferable to use a machine solvent. Of these, ether-based organic solvents having an ether bond in the molecule and high solubility of the compounds B1 to B3 and their alkali metal salts, and aromatic hydrocarbon-based organic solvents that are easily separated from water It is particularly preferable to use

上述の環状ホスホニトリルジハライドと化合物B1〜B3とを反応させる際の反応温度は、上述のいずれの方法によるか、或いは、反応生成物の熱安定性等を考慮して適宜設定することができる。但し、溶媒を用いて当該反応を実施する場合は、通常、−20℃から溶媒の沸点までの温度範囲に反応温度を設定するのが好ましい。一方、無溶媒で当該反応を実施する場合、反応温度は、通常、40〜200℃の範囲に設定するのが好ましい。   The reaction temperature at the time of reacting the above-mentioned cyclic phosphonitrile dihalide and the compounds B1 to B3 can be set as appropriate depending on any of the above-mentioned methods or considering the thermal stability of the reaction product. . However, when the reaction is carried out using a solvent, it is usually preferable to set the reaction temperature in a temperature range from −20 ° C. to the boiling point of the solvent. On the other hand, when carrying out the reaction without solvent, the reaction temperature is usually preferably set in the range of 40 to 200 ° C.

なお、本発明のシアナト基含有環状ホスファゼン化合物として上述の形態Bに係るもの、特に、式(1)における2n個のAのうちの1個〜(2n−2)個がA3基のものを製造する場合は、上述の方法B−c若しくは方法B−dを採用するのが好ましい。   In addition, as the cyanato group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention, those according to the above-mentioned form B, particularly those in which 1 to (2n-2) of 2n A in formula (1) are A3 groups are produced. In this case, it is preferable to adopt the above-mentioned method Bc or Method Bd.

ここで、方法B−cを採用する場合は、先ず、環状ホスホニトリルジハライドのエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液を調製する。そして、この溶媒溶液に対し、化合物B3のアルカリ金属塩のエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液または化合物B3とハロゲン化水素を捕捉する塩基とのエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液を、通常、−20〜50℃の温度で3〜24時間かけて添加し、また、同温度範囲で1〜24時間反応させ、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の一部を化合物B3に由来のE3基により置換した部分置換体を製造する。次に、得られた部分置換体のエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液に対し、化合物B1および化合物B2から選ばれた少なくとも一つの化合物のアルカリ金属塩のエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液または化合物B1および化合物B2から選ばれた少なくとも一つの化合物とハロゲン化水素を捕捉する塩基とのエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液を、通常、0〜50℃の温度で3〜24時間かけて添加し、また、0℃から溶媒の沸点までの温度で反応させ、残りの活性ハロゲン原子の全てを化合物B1に由来のE1基および化合物B2に由来のE2基のうちの少なくとも一つにより置換する。   Here, when adopting Method Bc, first, an ether solvent solution or an aromatic hydrocarbon solvent solution of cyclic phosphonitrile dihalide is prepared. Then, with respect to this solvent solution, an ether solvent solution or an aromatic hydrocarbon solvent solution of an alkali metal salt of compound B3 or an ether solvent solution or an aromatic hydrocarbon system of compound B3 and a base for capturing hydrogen halide. The solvent solution is usually added at a temperature of −20 to 50 ° C. over 3 to 24 hours, and is allowed to react for 1 to 24 hours in the same temperature range, and a part of the active halogen atom of the cyclic phosphonitrile dihalide is compounded. A partially substituted product substituted with the E3 group derived from B3 is produced. Next, an ether solvent solution or an aromatic solvent of an alkali metal salt of at least one compound selected from the compound B1 and the compound B2 is added to the ether solvent solution or aromatic hydrocarbon solvent solution of the partially substituted product obtained. A hydrocarbon solvent solution or an ether solvent solution or an aromatic hydrocarbon solvent solution of at least one compound selected from Compound B1 and Compound B2 and a base that captures hydrogen halide is usually at 0 to 50 ° C. The reaction is carried out at a temperature from 3 to 24 hours, and the reaction is carried out at a temperature from 0 ° C. to the boiling point of the solvent. Replace with at least one of them.

一方、方法B−dを採用する場合は、先ず、環状ホスホニトリルジハライドのエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液を調製する。そして、この溶媒溶液に対し、化合物B1および化合物B2から選ばれた少なくとも一つの化合物のアルカリ金属塩のエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液または化合物B1および化合物B2から選ばれた少なくとも一つの化合物とハロゲン化水素を捕捉する塩基とのエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液を、通常、−20〜50℃の温度で3〜24時間かけて添加し、また、同温度範囲で1〜24時間反応させ、環状ホスホニトリルジハライドの活性ハロゲン原子の一部を化合物B1に由来のE1基および化合物B2に由来のE2基のうちの少なくとも一つにより置換した部分置換体を製造する。次に、得られた部分置換体のエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液に対し、化合物B3のアルカリ金属塩のエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液または化合物B3とハロゲン化水素を捕捉する塩基とのエーテル系溶媒溶液若しくは芳香族炭化水素系溶媒溶液を、通常、0〜50℃の温度で3〜24時間かけて添加し、また、0℃から溶媒の沸点までの温度で反応させ、残りの活性ハロゲン原子の全てを化合物B3に由来のE3基により置換する。   On the other hand, when adopting Method Bd, first, an ether solvent solution or an aromatic hydrocarbon solvent solution of cyclic phosphonitrile dihalide is prepared. Then, with respect to this solvent solution, at least one selected from an ether solvent solution or an aromatic hydrocarbon solvent solution of an alkali metal salt of at least one compound selected from Compound B1 and Compound B2 or from Compound B1 and Compound B2 An ether solvent solution or an aromatic hydrocarbon solvent solution of one compound and a base for capturing a hydrogen halide is usually added over a period of 3 to 24 hours at a temperature of -20 to 50 ° C. To produce a partially substituted product in which a part of the active halogen atom of cyclic phosphonitrile dihalide is substituted with at least one of E1 group derived from compound B1 and E2 group derived from compound B2 To do. Next, the ether solvent solution or aromatic hydrocarbon solvent solution of the partially substituted product thus obtained is subjected to halogenation with an ether solvent solution or aromatic hydrocarbon solvent solution of compound B3 or compound B3. An ether solvent solution or an aromatic hydrocarbon solvent solution with a base that captures hydrogen is usually added at a temperature of 0 to 50 ° C. over 3 to 24 hours, and a temperature from 0 ° C. to the boiling point of the solvent. And all of the remaining active halogen atoms are replaced by the E3 group from compound B3.

本発明の製造方法では、次に、上述の工程1により得られたホルミル基を有する環状ホスホニトリル置換体のE3基と下記の式(5)で表されるフェノール類とを反応させ、下記のE4基で表されるヒドロキシル基含有環状ホスホニトリル置換体を製造する(工程2)。   In the production method of the present invention, next, the E3 group of the substituted cyclic phosphonitrile having a formyl group obtained in the above-mentioned step 1 is reacted with a phenol represented by the following formula (5), A hydroxyl group-containing cyclic phosphonitrile substitution product represented by E4 group is produced (step 2).

Figure 0005137105
式(5)中、XからX13は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基若しくはアリール基を示す。
これらは後述の化合物B4に該当する。
Figure 0005137105
In formula (5), X 9 to X 13 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.
These correspond to the compound B4 described later.

[E4基]
下記の式(6)で示されるヒドロキシル基含有フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
[E4 group]
A group selected from the group consisting of a hydroxyl group-containing phenyloxy group represented by the following formula (6).

Figure 0005137105
式(6)中、XからXは、それぞれ独立して水素原子、アルキル基若しくはアリール基を示す。
この基は、化合物B4とホルミル基を有する環状ホスホニトリル置換体のE3基とを反応され得られる。
Figure 0005137105
In formula (6), X 1 to X 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.
This group can be obtained by reacting compound B4 with the E3 group of the substituted cyclic phosphonitrile having a formyl group.

[化合物B4]
上記の式(5)で表されるフェノール類としては、例えば、フェノール、2−メチルフェノール、3−メチルフェノール、4−メチルフェノール、2,3−ジメチルフェノール、2,4−ジメチルフェノール、2,5−ジメチルフェノール、2,6−ジメチルフェノール、2,3,5−トリメチルフェノール、4−tert−ブチルフェノール、2−フェニルフェノールおよび4−フェニルフェノール等を挙げることができる。このうち、フェノール、4−メチルフェノール、2,6−ジメチルフェノール、4−tert−ブチルフェノールおよび4−フェニルフェノールが好ましく、フェノール、4−メチルフェノールおよび4−フェニルフェノールが特に好ましい。これらを2種類以上併用することも可能である。
[Compound B4]
Examples of the phenols represented by the above formula (5) include phenol, 2-methylphenol, 3-methylphenol, 4-methylphenol, 2,3-dimethylphenol, 2,4-dimethylphenol, 2, Examples include 5-dimethylphenol, 2,6-dimethylphenol, 2,3,5-trimethylphenol, 4-tert-butylphenol, 2-phenylphenol and 4-phenylphenol. Among these, phenol, 4-methylphenol, 2,6-dimethylphenol, 4-tert-butylphenol and 4-phenylphenol are preferable, and phenol, 4-methylphenol and 4-phenylphenol are particularly preferable. Two or more of these can be used in combination.

E3基のホルミル基部分と上記のフェノール類とを反応し、E4基で表されるヒドロキシル基含有環状ホスホニトリル置換体を製造するための方法は、各種の文献、例えば、下記のような非特許文献3,4に記載されている。   A method for producing a hydroxyl group-containing cyclic phosphonitrile substituted product represented by the E4 group by reacting the formyl group portion of the E3 group with the above-described phenols is described in various documents, for example, the following non-patent Documents 3 and 4 describe.

「フェノール樹脂」、プラスチック・エージ株式会社発行、1987年、"Phenolic resin", issued by Plastic Age Co., Ltd., 1987, PHENOLIC RESINS: CHEMISTRY,APPLICATIONS,STANDARDIZATION,SAFETY AND ECOLOGY、A.GARDZIELLA,L.A.PILATO,A.KNOP著、2000年刊、SPRINGER社PHENOLIC RESINS: CHEMISTRY, APPLICATIONS, STANDARDIZATION, SAFETY AND ECOLOGY, A. GARDZIELLA, L.G. A. PILATO, A.I. By Knop, published in 2000, SPRINGER

これらの文献に記載されているように、E3基のホルミル基部分とフェノール類とを反応するための方法として、ホルミル基とフェノール類とを酸性または中性条件下で反応させる方法等が知られ、適時酸性触媒を使用することができる。ここで利用可能な酸性触媒としては、公知のものいずれも使用でき、例えば、塩酸、硫酸、スルホン酸等の無機酸、蓚酸、酢酸等の有機酸、ルイス酸、酢酸亜鉛、酢酸鉛、ナフテン酸亜鉛等の2価金属塩等を挙げることができ、これらの中でも、塩酸や有機酸等が好ましい。また、酢酸亜鉛等を使用し、メチレン結合のフェノール核にortho−位での結合割合が高いハイオルソ型の化合物も製造することができる。酸性触媒の使用量は特に制限されず、使用するホルミル基を有する環状ホスホニトリル置換体の種類や使用量、反応溶媒の有無、得ようとするヒドロキシル基含有環状ホスホニトリル置換体の物性や用途等の各種条件応じて広い範囲から適宜選択できるが、通常は使用するホルミル基を有する環状ホスホニトリル置換体のホルミル基の当量に対して0.001〜5当量に設定するのが好ましく、0.005〜1当量に設定するのがより好ましい。   As described in these documents, as a method for reacting the formyl group portion of E3 group with phenols, a method of reacting formyl group with phenols under acidic or neutral conditions is known. A timely acidic catalyst can be used. As the acidic catalyst that can be used here, any known catalyst can be used, for example, inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, and sulfonic acid, organic acids such as oxalic acid and acetic acid, Lewis acids, zinc acetate, lead acetate, and naphthenic acid. Examples thereof include divalent metal salts such as zinc, and among these, hydrochloric acid, organic acids and the like are preferable. Further, by using zinc acetate or the like, a high-ortho type compound having a high bond ratio at the ortho-position to the phenol nucleus of the methylene bond can also be produced. The amount of the acidic catalyst used is not particularly limited, and the type and amount of the cyclic phosphonitrile substituent having a formyl group to be used, the presence or absence of a reaction solvent, the physical properties and applications of the hydroxyl group-containing cyclic phosphonitrile substituent to be obtained, etc. However, it is preferably set to 0.001 to 5 equivalents relative to the equivalent of formyl group of the cyclic phosphonitrile substituted product having a formyl group to be used. More preferably, it is set to ˜1 equivalent.

このようなフェノール類との反応により得られる、目的とするヒドロキシル基を有する環状ホスホニトリル置換体は、濾過、溶媒抽出、カラムクロマトグラフィーおよび再結晶等の通常の方法によって、反応系から単離精製することができる。   The substituted cyclic phosphonitrile having the desired hydroxyl group obtained by reaction with such phenols is isolated and purified from the reaction system by usual methods such as filtration, solvent extraction, column chromatography and recrystallization. can do.

本発明の製造方法では、次に、上述の工程2により得られたヒドロキシル基を有する環状ホスホニトリル置換体とハロゲン化シアンとを反応させ、工程2において形成されたE3基の−OH基部分を−OCN基に変換する(工程3)。これにより、目的とするシアナト基含有環状ホスファゼン化合物が得られる。   In the production method of the present invention, next, the cyclic phosphonitrile-substituted product having a hydroxyl group obtained in the above-mentioned step 2 is reacted with cyanogen halide, and the —OH group portion of the E3 group formed in the step 2 is reacted. Convert to —OCN group (step 3). Thereby, the target cyanato group containing cyclic phosphazene compound is obtained.

E3基の−OH基部分を−OCN基に変換するための方法、すなわち、シアン酸エステルの製造方法は、各種の文献、例えば、下記のような非特許文献5,6に記載されている。   Methods for converting the —OH group portion of the E3 group into —OCN groups, that is, methods for producing cyanate esters are described in various documents, for example, Non-Patent Documents 5 and 6 as described below.

CHEMISTRY AND TECHNOLOGY OF CYANATEESTER RESINS、I.HAMERTON著、1994年刊、BLACKIE ACADEMIC & PROFESSIONAL社CHEMISTRY AND TECHNOLOGY OF Cyanate Ester Resins, I.C. By HAMERTON, published in 1994, BLACKIE ACADEMIC & PROFESSIONAL THE CHEMISTRY OF FUNCTIONAL GROUPS.THE CHEMISTRY OF CYANATES AND THEIR THIO DERIVATIVES、S.PATAI編、1977年刊、JOHN WILEY & SONS社THE CHEMISTRY OF FUNCTIONAL GROUPS. THE CHEMISTRY OF CIANATES AND THEIR THIO DERIVATEVES, S. PATAI, published in 1977, JOHN WILEY & SONS

これらの文献に記載されているように、シアン酸エステルの製造方法として、(1)ハロゲン化シアンとフェノール類とを3級アミン存在下で反応させる方法、(2)アルコール系またはフェノール系化合物のアルカリ金属塩とハロゲン化シアンとを反応させる方法等が知られている。ここで利用可能なハロゲン化シアンとしては、塩化シアンおよび臭化シアンが挙げられる。これらのシアン酸エステルの製造方法は、ヒドロキシル基を有する環状ホスホニトリル置換体の種類およびその安定性等に応じて選択することができる。   As described in these documents, as a method for producing cyanate ester, (1) a method in which cyanogen halide and phenol are reacted in the presence of a tertiary amine, and (2) an alcohol-based or phenol-based compound A method of reacting an alkali metal salt with a cyanogen halide is known. Cyanogen halides usable here include cyanogen chloride and cyanogen bromide. The method for producing these cyanate esters can be selected according to the kind of the substituted cyclic phosphonitrile having a hydroxyl group, its stability, and the like.

このようなヒドロキシル基を有する環状ホスホニトリル置換体とハロゲン化シアンとの反応により得られる、目的とするシアナト基含有環状ホスファゼン化合物は、濾過、溶媒抽出、カラムクロマトグラフィーおよび再結晶等の通常の方法によって、反応系から単離精製することができる。   The desired cyanate group-containing cyclic phosphazene compound obtained by the reaction of a cyclic phosphonitrile substituted product having such a hydroxyl group with cyanogen halide is subjected to usual methods such as filtration, solvent extraction, column chromatography and recrystallization. Can be isolated and purified from the reaction system.

樹脂組成物
本発明の樹脂組成物は、本発明のシアナト基含有環状ホスファゼン化合物と樹脂成分とを含むものである。
Resin Composition The resin composition of the present invention contains the cyanate group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention and a resin component.

本発明の樹脂組成物において、本発明のシアナト基含有環状ホスファゼン化合物は、一種類のものが用いられてもよいし、二種以上のものが併用されてもよい。また、樹脂成分としては、各種の熱可塑性樹脂若しくは熱硬化性樹脂を使用することができる。これらの樹脂成分は、天然のものであってもよいし、合成のものであってもよい。   In the resin composition of the present invention, as the cyanate group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention, one type may be used, or two or more types may be used in combination. As the resin component, various thermoplastic resins or thermosetting resins can be used. These resin components may be natural or synthetic.

ここで利用可能な熱可塑性樹脂の具体例としては、ポリエチレン、ポリイソプレン、ポリブタジエン、塩素化ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、スチレン樹脂、耐衝撃性ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン樹脂(AS樹脂)、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂(ABS樹脂)、メチルメタクリレート−ブタジエン−スチレン樹脂(MBS樹脂)、メチルメタクリレート−アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂(MABS樹脂)、アクリロニトリル−アクリルゴム−スチレン樹脂(AAS樹脂)、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリフェニレンエーテル、変性ポリフェニレンエーテル、脂肪族系ポリアミド、芳香族系ポリアミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルケトン、ポリエーテルニトリル、ポリチオエーテルスルホン、ポリエーテルスルホン並びに液晶ポリマー等を挙げることができる。変性ポリフェニレンエーテルとしては、ポリフェニレンエーテルの一部または全部に、カルボキシル基、エポキシ基、アミノ基、水酸基、無水ジカルボキシル基などの反応性官能基を、グラフト反応や共重合などの何らかの方法により導入したものが用いられる。なお、本発明の樹脂組成物を電子機器用途、特に、OA機器、AV機器、通信機器および家電製品用の筐体や部品用の材料として用いる場合は、熱可塑性樹脂としてポリエステル樹脂、ABS樹脂、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル若しくはポリアミド等を用いるのが好ましい。   Specific examples of the thermoplastic resin that can be used here include polyethylene, polyisoprene, polybutadiene, chlorinated polyethylene, polyvinyl chloride, styrene resin, impact-resistant polystyrene, acrylonitrile-styrene resin (AS resin), and acrylonitrile-butadiene-. Styrene resin (ABS resin), methyl methacrylate-butadiene-styrene resin (MBS resin), methyl methacrylate-acrylonitrile-butadiene-styrene resin (MABS resin), acrylonitrile-acrylic rubber-styrene resin (AAS resin), polymethyl acrylate, poly Methyl methacrylate, polycarbonate, polyphenylene ether, modified polyphenylene ether, aliphatic polyamide, aromatic polyamide, polyethylene terephthalate, polypropylene Polyester resins such as terephthalate, polytrimethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyphenylene sulfide, polyether ether ketone, polysulfone, polyarylate, polyether ketone, polyether nitrile, polythioether sulfone, polyether sulfone and liquid crystal A polymer etc. can be mentioned. As the modified polyphenylene ether, a reactive functional group such as a carboxyl group, an epoxy group, an amino group, a hydroxyl group, and an anhydrous dicarboxyl group is introduced into a part or all of the polyphenylene ether by some method such as graft reaction or copolymerization. Things are used. When the resin composition of the present invention is used as a material for casings or parts for electronic equipment, particularly OA equipment, AV equipment, communication equipment, and home appliances, polyester resin, ABS resin, It is preferable to use polycarbonate, modified polyphenylene ether, polyamide or the like.

一方、ここで利用可能な熱硬化性樹脂の具体例としては、ポリウレタン、フェノール樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、シリコーン樹脂、マレイミド樹脂、シアン酸エステル樹脂、マレイミド−シアン酸エステル樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、ポリベンズイミダゾール、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポリカルボジイミド並びにエポキシ樹脂等を挙げることができる。また、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポリカルボジイミド、マレイミド樹脂、マレイミド−シアン酸エステル樹脂等のポリイミド系樹脂は、その取り扱い加工性および接着性を向上するために、熱可塑性や溶媒可溶性が付与されたものであってもよい。なお、本発明の樹脂組成物を電子部品用途、特に、各種IC素子の封止材、配線板の基板材料、層間絶縁材料や絶縁性接着材料等の絶縁材料、Si基板またはSiC基板等の絶縁材料、導電材料および表面保護材料として用いる場合は、熱硬化性樹脂として、ポリウレタン、フェノール樹脂、ビスマレイミド樹脂、シアン酸エステル樹脂、ビスマレイミドーシアン酸エステル樹脂、ポリイミド系樹脂若しくはエポキシ樹脂等を用いるのが好ましい。   On the other hand, specific examples of the thermosetting resin usable here include polyurethane, phenol resin, melamine resin, urea resin, unsaturated polyester resin, diallyl phthalate resin, silicone resin, maleimide resin, cyanate ester resin, maleimide- Examples thereof include cyanate ester resins, benzoxazine resins, polybenzimidazoles, polyimides, polyamideimides, polyetherimides, polyesterimides, polycarbodiimides, and epoxy resins. In addition, polyimide resins such as polyimide, polyamideimide, polyetherimide, polyesterimide, polycarbodiimide, maleimide resin, and maleimide-cyanate resin are used to improve the workability and adhesiveness. The thing to which solubility was provided may be sufficient. In addition, the resin composition of the present invention is used for electronic parts, in particular, sealing materials for various IC elements, substrate materials for wiring boards, insulating materials such as interlayer insulating materials and insulating adhesive materials, and insulating materials such as Si substrates or SiC substrates. When used as a material, conductive material, and surface protection material, polyurethane, phenol resin, bismaleimide resin, cyanate ester resin, bismaleimide-cyanate ester resin, polyimide resin, epoxy resin, or the like is used as the thermosetting resin. Is preferred.

上述の各種樹脂成分は、それぞれ単独で用いられてもよいし、必要に応じて二種以上のものが併用されてもよい。   The various resin components described above may be used alone or in combination of two or more as necessary.

本発明の樹脂組成物において、シアナト基含有環状ホスファゼン化合物の使用量は、樹脂成分の種類、樹脂組成物の用途等の各種条件に応じて適宜設定することができるが、通常、固形分換算での樹脂成分100重量部に対して0.1〜200重量部に設定するのが好ましく、0.5〜100重量部に設定するのがより好ましく、1〜50重量部に設定するのがさらに好ましい。シアナト基含有環状ホスファゼン化合物の使用量が0.1重量部未満の場合は、当該樹脂組成物からなる樹脂成形体が十分な難燃性を示さないおそれがある。逆に、200重量部を超えると、樹脂成分本来の特性を損ない、当該特性による樹脂成形体が得られなくなるおそれがある。   In the resin composition of the present invention, the amount of the cyanato group-containing cyclic phosphazene compound used can be appropriately set according to various conditions such as the type of the resin component and the use of the resin composition. It is preferable to set to 0.1 to 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin component, more preferably to set to 0.5 to 100 parts by weight, and further preferably to 1 to 50 parts by weight. . When the amount of the cyanato group-containing cyclic phosphazene compound used is less than 0.1 part by weight, the resin molded body made of the resin composition may not exhibit sufficient flame retardancy. On the other hand, if it exceeds 200 parts by weight, the original properties of the resin component may be impaired, and a resin molded product having such properties may not be obtained.

また、本発明の樹脂組成物は、樹脂成分の種類や樹脂組成物の用途等に応じ、その目的とする物性を損なわない範囲で、各種の添加剤を配合することができる。利用可能な添加剤としては、例えば、天然シリカ、焼成シリカ、合成シリカ、アモルファスシリカ、ホワイトカーボン、アルミナ、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、ホウ酸亜鉛、錫酸亜鉛、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化モリブデン、モリブデン酸亜鉛、天然マイカ、合成マイカ、アエロジル、カオリン、クレー、タルク、焼成カオリン、焼成クレー、焼成タルク、ウオラストナイト、ガラス短繊維、ガラス微粉末、中空ガラスおよびチタン酸カリウム繊維等の無機充填剤、アラミド繊維またはポリパラフェニレンベンズビスオキサゾール繊維等の有機繊維、シランカップリング剤などの充填材の表面処理剤、ワックス類、脂肪酸およびその金属塩、酸アミド類およびパラフィン等の離型剤、リン酸エステル、縮合リン酸エステル、リン酸アミド、リン酸アミドエステル、リン酸アンモニウム、赤リン、塩素化パラフィン、メラミン、メラミンシアヌレート、メラム、メレム、メロンおよびサクシノグアナミン等の窒素系難燃剤、シリコーン系難燃剤並びに臭素系難燃剤等の難燃剤、三酸化アンチモン等の難燃助剤、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)等のドリッピング防止剤、ベンゾトリアゾールなどの紫外線吸収剤、ヒンダートフェノール、スチレン化フェノールなどの酸化防止剤、チオキサントン系などの光重合開始剤、スチルベン誘導体などの蛍光増白剤、硬化剤、染料、顔料、着色剤、光安定剤、光増感剤、増粘剤、滑剤、消泡剤、レベリング剤、光沢剤、重合禁止剤、チクソ性付与剤、可塑剤並びに帯電防止剤等を挙げることができる。   Moreover, the resin composition of this invention can mix | blend various additives in the range which does not impair the target physical property according to the kind of resin component, the use of a resin composition, etc. Available additives include, for example, natural silica, calcined silica, synthetic silica, amorphous silica, white carbon, alumina, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium silicate, calcium carbonate, zinc borate, zinc stannate, oxidation Titanium, zinc oxide, molybdenum oxide, zinc molybdate, natural mica, synthetic mica, aerosil, kaolin, clay, talc, calcined kaolin, calcined clay, calcined talc, wollastonite, short glass fiber, glass fine powder, hollow glass and Inorganic fillers such as potassium titanate fibers, organic fibers such as aramid fibers or polyparaphenylene benzbisoxazole fibers, surface treatment agents for fillers such as silane coupling agents, waxes, fatty acids and their metal salts, acid amides And mold release agents such as paraffin, phosphorus Ester, condensed phosphate ester, phosphate amide, phosphate amide ester, ammonium phosphate, red phosphorus, chlorinated paraffin, melamine, melamine cyanurate, melam, melem, melon and succinoguanamine Flame retardants, brominated flame retardants, flame retardants such as antimony trioxide, anti-dripping agents such as polytetrafluoroethylene (PTFE), UV absorbers such as benzotriazole, hindered phenols, styrene Antioxidants such as fluorinated phenols, photopolymerization initiators such as thioxanthones, fluorescent brighteners such as stilbene derivatives, curing agents, dyes, pigments, colorants, light stabilizers, photosensitizers, thickeners, lubricants Antifoaming agents, leveling agents, brighteners, polymerization inhibitors, thixotropic agents, plasticizers and antistatic agents. Rukoto can.

さらに、本発明の樹脂組成物は、必要に応じて、熱硬化性樹脂の硬化剤や硬化促進剤を配合することができる。ここで用いられる硬化剤や硬化促進剤は、一般に使用されるものであれば、特に限定されるものではないが、通常、アミン化合物、フェノール化合物、酸無水物、イミダゾール類および有機金属塩などである。これらは、二種以上を併用することもできる。   Furthermore, the resin composition of this invention can mix | blend the hardening | curing agent and hardening accelerator of a thermosetting resin as needed. The curing agent and curing accelerator used here are not particularly limited as long as they are generally used, but are usually amine compounds, phenolic compounds, acid anhydrides, imidazoles, and organic metal salts. is there. These can also use 2 or more types together.

本発明の樹脂組成物を電気・電子分野用の材料、具体的には、LSI等の電子部品の封止剤や基板等に用いる場合、樹脂成分としては、シアン酸エステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂および変性ポリフェニレンエーテル樹脂が好ましい。   When the resin composition of the present invention is used for materials for electric and electronic fields, specifically, sealants and substrates for electronic components such as LSI, the resin components include cyanate ester resins, epoxy resins, polyimides Resins and modified polyphenylene ether resins are preferred.

本発明の樹脂組成物において利用可能なシアン酸エステル樹脂は、1分子中に2個以上のシアナト基を有するものであれば、特に限定されるものではない。このようなシアン酸エステル樹脂の例としては、シアン酸エステル化合物、およびシアン酸エステル化合物のシアナト基の三量化によって形成されるトリアジン環を有する、重量平均分子量が500〜5,000のプレポリマー等を挙げることができる。   The cyanate ester resin that can be used in the resin composition of the present invention is not particularly limited as long as it has two or more cyanato groups in one molecule. Examples of such a cyanate ester resin include a cyanate ester compound and a prepolymer having a triazine ring formed by trimerization of a cyanate group of the cyanate ester compound and having a weight average molecular weight of 500 to 5,000. Can be mentioned.

ここで利用可能なシアン酸エステル化合物としては、例えば、1,3−ジシアナトベンゼン、1,4−ジシアナトベンゼン、1,3,5−トリシアナトベンゼン、1,3−ジシアナトナフタレン、1,4−ジシアナトナフタレン、1,6−ジシアナトナフタレン、1,8−ジシアナトナフタレン、2,6−ジシアナトナフタレン、2,7−ジシアナトナフタレン、1,3,6−トリシアナトナフタレン、4,4’−ジシアナトビフェニル、3,3',5,5'−テトラメチル−4,4'−ジシアナトビフェニル、ビス(4−シアナトフェニル)メタン、ビス(4−シアナト−3−メチルフェニル)メタン、ビス(4−シアナト−3−tert−ブチルフェニル)メタン、ビス(4−シアナト−3−iso−プロピルフェニル)メタン、ビス(4−シアナト−3,5−ジメチルフェニル)メタン、ビス(2−シアナト−3−tert−ブチル−5−メチルフェニル)メタン、ビス(4−シアナトフェニル)エタン、ビス(4−シアナト−3−メチルフェニル)エタン、ビス(4−シアナト−3−tert−ブチルフェニル)エタン、ビス(4−シアナト−3−iso−プロピルフェニル)エタン、ビス(4−シアナト−3,5−ジメチルフェニル)エタン、ビス(2−シアナト−3−tert−ブチル−5−メチルフェニル)エタン、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−シアナト−3−メチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−シアナト−3−tert−ブチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−シアナト−3−iso−プロピルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−シアナト−3,5−ジメチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(2−シアナト−3−tert−ブチル−5−メチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−シアナト−3−tert−ブチル−6−メチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−アリル−4−シアナトフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)ヘキサフルオロプロパン、1,1−ビス(4−シアナトフェニル)ブタン、1,1−ビス(4−シアナト−3−メチルフェニル)ブタン、1,1−ビス(4−シアナト−3−tert−ブチルフェニル)ブタン、1,1−ビス(4−シアナト−3−iso−プロピルフェニル)ブタン、1,1−ビス(4−シアナト−3,5−ジメチルフェニル)ブタン、1,1−ビス(2−シアナト−3−tert−ブチル−5−メチルフェニル)ブタン、1,1−ビス(4−シアナト−3−tert−ブチル−6−メチルフェニル)ブタン、1,1−ビス(3−アリル−4−シアナトフェニル)ブタン、ビス(4−シアナトフェニル)エーテル、ビス(4−シアナト−3−メチルフェニル)エーテル、ビス(4−シアナト−3−tert−ブチルフェニル)エーテル、ビス(4−シアナト−3−iso−プロピルフェニル)エーテル、ビス(4−シアナト−3,5−ジメチルフェニル)エーテル、ビス(2−シアナト−3−tert−ブチル−5−メチルフェニル)エーテル、ビス(4−シアナトフェニル)スルフィド、ビス(4−シアナト−3−メチルフェニル)スルフィド、ビス(4−シアナト−3−tert−ブチルフェニル)スルフィド、ビス(4−シアナト−3−iso−プロピルフェニル)スルフィド、ビス(4−シアナト−3,5−ジメチルフェニル)スルフィド、ビス(2−シアナト−3−tert−ブチル−5−メチルフェニル)スルフィド、ビス(4−シアナトフェニル)スルホン、ビス(4−シアナト−3−メチルフェニル)スルホン、ビス(4−シアナト−3−tert−ブチルフェニル)スルホン、ビス(4−シアナト−3−iso−プロピルフェニル)スルホン、ビス(4−シアナト−3,5−ジメチルフェニル)スルホン、ビス(2−シアナト−3−tert−ブチル−5−メチルフェニル)スルホン、ビス(4−シアナトフェニル)カルボニル、ビス(4−シアナト−3−メチルフェニル)カルボニル、ビス(4−シアナト−3−tert−ブチルフェニル)カルボニル、ビス(4−シアナト−3−iso−プロピルフェニル)カルボニル、ビス(4−シアナト−3,5−ジメチルフェニル)カルボニル、ビス(2−シアナト−3−tert−ブチル−5−メチルフェニル)カルボニル、1,1−ビス(4−シアナトフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(4−シアナト−3−メチルフェニル)シクロヘキサン、トリス(4−シアナトフェニル)ホスファイトおよびトリス(4−シアナトフェニル)ホスフェートを挙げることができる。   Examples of cyanate ester compounds that can be used here include 1,3-dicyanatobenzene, 1,4-dicyanatobenzene, 1,3,5-tricyanatobenzene, 1,3-dicyanatonaphthalene, 1, 4-dicyanatonaphthalene, 1,6-dicyanatonaphthalene, 1,8-dicyanatonaphthalene, 2,6-dicyanatonaphthalene, 2,7-dicyanatonaphthalene, 1,3,6-tricyanatonaphthalene, 4, 4'-dicyanatobiphenyl, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-dicyanatobiphenyl, bis (4-cyanatophenyl) methane, bis (4-cyanato-3-methylphenyl) Methane, bis (4-cyanato-3-tert-butylphenyl) methane, bis (4-cyanato-3-iso-propylphenyl) methane, bis (4- Anato-3,5-dimethylphenyl) methane, bis (2-cyanato-3-tert-butyl-5-methylphenyl) methane, bis (4-cyanatophenyl) ethane, bis (4-cyanato-3-methylphenyl) ) Ethane, bis (4-cyanato-3-tert-butylphenyl) ethane, bis (4-cyanato-3-iso-propylphenyl) ethane, bis (4-cyanato-3,5-dimethylphenyl) ethane, bis ( 2-cyanato-3-tert-butyl-5-methylphenyl) ethane, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane, 2,2-bis (4-cyanato-3-methylphenyl) propane, 2, 2-bis (4-cyanato-3-tert-butylphenyl) propane, 2,2-bis (4-cyanato-3-iso-propylphenyl) Propane, 2,2-bis (4-cyanato-3,5-dimethylphenyl) propane, 2,2-bis (2-cyanato-3-tert-butyl-5-methylphenyl) propane, 2,2-bis ( 4-cyanato-3-tert-butyl-6-methylphenyl) propane, 2,2-bis (3-allyl-4-cyanatophenyl) propane, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) hexafluoropropane 1,1-bis (4-cyanatophenyl) butane, 1,1-bis (4-cyanato-3-methylphenyl) butane, 1,1-bis (4-cyanato-3-tert-butylphenyl) butane 1,1-bis (4-cyanato-3-iso-propylphenyl) butane, 1,1-bis (4-cyanato-3,5-dimethylphenyl) butane, 1,1-bis (2-si Anato-3-tert-butyl-5-methylphenyl) butane, 1,1-bis (4-cyanato-3-tert-butyl-6-methylphenyl) butane, 1,1-bis (3-allyl-4-) Cyanatophenyl) butane, bis (4-cyanatophenyl) ether, bis (4-cyanato-3-methylphenyl) ether, bis (4-cyanato-3-tert-butylphenyl) ether, bis (4-cyanato-) 3-iso-propylphenyl) ether, bis (4-cyanato-3,5-dimethylphenyl) ether, bis (2-cyanato-3-tert-butyl-5-methylphenyl) ether, bis (4-cyanatophenyl) ) Sulfide, bis (4-cyanato-3-methylphenyl) sulfide, bis (4-cyanato-3-tert-butylphenyl) ) Sulfide, bis (4-cyanato-3-iso-propylphenyl) sulfide, bis (4-cyanato-3,5-dimethylphenyl) sulfide, bis (2-cyanato-3-tert-butyl-5-methylphenyl) Sulfide, bis (4-cyanatophenyl) sulfone, bis (4-cyanato-3-methylphenyl) sulfone, bis (4-cyanato-3-tert-butylphenyl) sulfone, bis (4-cyanato-3-iso-) Propylphenyl) sulfone, bis (4-cyanato-3,5-dimethylphenyl) sulfone, bis (2-cyanato-3-tert-butyl-5-methylphenyl) sulfone, bis (4-cyanatophenyl) carbonyl, bis (4-cyanato-3-methylphenyl) carbonyl, bis (4-cyanato-3-te) t-butylphenyl) carbonyl, bis (4-cyanato-3-iso-propylphenyl) carbonyl, bis (4-cyanato-3,5-dimethylphenyl) carbonyl, bis (2-cyanato-3-tert-butyl-5) -Methylphenyl) carbonyl, 1,1-bis (4-cyanatophenyl) cyclohexane, 1,1-bis (4-cyanato-3-methylphenyl) cyclohexane, tris (4-cyanatophenyl) phosphite and tris ( 4-Cyanatophenyl) phosphate.

上述のようなプレポリマーの製法としては、シアン酸エステル化合物を、例えば鉱酸やルイス酸等の酸類、ナトリウムアルコラート類や第三級アミン類等の塩類、炭酸ナトリウム等の塩類を触媒として重合させる方法などを挙げることができる。この際、重合反応系には、ノボラック樹脂や水酸基含有熱可塑性樹脂のオリゴマー(例えば、ヒドロキシポリフェニレンエーテルやヒドロキシポリスチレンなど)とハロゲン化シアンとを添加してもよい。   As a prepolymer production method as described above, a cyanate ester compound is polymerized using, for example, acids such as mineral acids and Lewis acids, salts such as sodium alcoholates and tertiary amines, and salts such as sodium carbonate as catalysts. The method etc. can be mentioned. At this time, a novolak resin or an oligomer of a hydroxyl group-containing thermoplastic resin (for example, hydroxypolyphenylene ether or hydroxypolystyrene) and cyanogen halide may be added to the polymerization reaction system.

なお、シアン酸エステル樹脂として好ましいものは、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−シアナトフェニル)ブタン、ノボラック樹脂およびハロゲン化シアンの反応により得られるシアン酸エステル樹脂類である。シアン酸エステル樹脂は、二種以上のものが併用されてもよい。   In addition, what is preferable as cyanate ester resin is obtained by reaction of 2, 2-bis (4-cyanatophenyl) propane, 1, 1-bis (4-cyanatophenyl) butane, a novolak resin, and cyanogen halide. Cyanate ester resins. Two or more cyanate ester resins may be used in combination.

樹脂成分としてシアン酸エステル樹脂を用いる場合、本発明の樹脂組成物は、熱硬化性を向上させるために、硬化触媒および他の樹脂を添加するのが好ましい。シアン酸エステル樹脂を用いた本発明の樹脂組成物(以下、「シアン酸エステル樹脂組成物」という場合がある)は、硬化の程度が高い場合において後述するような優れた誘電特性を発現し得るため、シアン酸エステル樹脂を十分に硬化させることが必要であるが、シアン酸エステル樹脂の硬化反応には200℃以上の高温で2時間以上の時間を要する場合があるため、シアン酸エステル樹脂の硬化反応を促進させるために硬化触媒を用いることが好ましい。   When a cyanate ester resin is used as the resin component, it is preferable to add a curing catalyst and other resins to the resin composition of the present invention in order to improve thermosetting. The resin composition of the present invention using a cyanate ester resin (hereinafter sometimes referred to as “cyanate ester resin composition”) can exhibit excellent dielectric properties as described later when the degree of curing is high. Therefore, it is necessary to sufficiently cure the cyanate ester resin, but the curing reaction of the cyanate ester resin may require a time of 2 hours or more at a high temperature of 200 ° C. or higher. In order to accelerate the curing reaction, it is preferable to use a curing catalyst.

ここで利用可能な硬化触媒は、シアン酸エステル樹脂の硬化反応を促進し得る化合物であれば、特に限定されるものではないが、例えば、銅(II)アセチルアセトナート、コバルト(II)アセチルアセトナート、コバルト(III)アセチルアセトナート、亜鉛(II)アセチルアセトナートおよびマンガン(II)アセチルアセトナート等のアセチルアセトナートと金属とのキレート化合物、オクチル酸銅、オクチル酸コバルト、オクチル酸亜鉛、ナフテン酸銅、ナフテン酸コバルトおよびナフテン酸亜鉛等のカルボン酸金属塩触媒、N−(4−ヒドロキシフェニル)マレイミド、p−tert−ブチルフェノール、p−tert−アミルフェノール、p−tert−オクチルフェノール、4−クミルフェノールおよびノニルフェノール等のアルキルフェノール類、フェノール樹脂並びに揮発性の低いアルコール類等の活性水素を有する化合物などを挙げることができる。また、これらの硬化触媒は、単独であるいは適宜組み合わせて用いることができる。硬化触媒として好ましいものは、より硬化反応を促進することができる点で、アセチルアセトナートと金属とのキレート化合物、特に、銅(II)アセチルアセトナート若しくは亜鉛(II)アセチルアセトナートと金属とのキレート化合物である。   The curing catalyst that can be used here is not particularly limited as long as it is a compound that can accelerate the curing reaction of the cyanate ester resin, and examples thereof include copper (II) acetylacetonate and cobalt (II) acetylacetate. Chelate compounds of acetylacetonate and metal such as nato, cobalt (III) acetylacetonate, zinc (II) acetylacetonate and manganese (II) acetylacetonate, copper octylate, cobalt octylate, zinc octylate, naphthene Carboxylic acid metal salt catalysts such as copper acid, cobalt naphthenate and zinc naphthenate, N- (4-hydroxyphenyl) maleimide, p-tert-butylphenol, p-tert-amylphenol, p-tert-octylphenol, 4-alkyl Alkylphenols such as myrphenol and nonylphenol Examples thereof include compounds having active hydrogen such as diols, phenol resins, and alcohols having low volatility. These curing catalysts can be used alone or in appropriate combination. Preferred as the curing catalyst is a chelate compound of acetylacetonate and metal, particularly copper (II) acetylacetonate or zinc (II) acetylacetonate and metal in that the curing reaction can be further promoted. It is a chelate compound.

硬化触媒の使用量は、硬化触媒の種類や硬化反応を促進する程度に応じて設定することができる。例えば、硬化触媒がアセチルアセトナートと金属とのキレート化合物の場合、シアン酸エステル樹脂組成物100重量部に対して、0.001重量部〜0.1重量部の範囲内で用いるのが好ましい。また、硬化触媒が他の化合物の場合、シアン酸エステル樹脂組成物100重量部に対して0.1重量部〜20重量部の範囲で用いるのが好ましい。硬化触媒の使用量が上記範囲未満であると、硬化反応の促進効果が不十分になる可能性があり、また、上記範囲を超えると、得られるシアン酸エステル樹脂組成物の保存安定性に支障が生じる可能性がある。   The amount of the curing catalyst used can be set according to the type of the curing catalyst and the degree of promoting the curing reaction. For example, when the curing catalyst is a chelate compound of acetylacetonate and metal, it is preferably used in the range of 0.001 to 0.1 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the cyanate ester resin composition. Moreover, when a curing catalyst is another compound, it is preferable to use in 0.1 to 20 weight part with respect to 100 weight part of cyanate ester resin compositions. If the amount of the curing catalyst used is less than the above range, the effect of promoting the curing reaction may be insufficient, and if it exceeds the above range, the storage stability of the resulting cyanate ester resin composition will be impaired. May occur.

シアン酸エステル樹脂組成物は、本発明のシアナト基含有環状ホスファゼン化合物に対して1価のフェノール類化合物を適正量反応することで、シアナト基をイミドカーボネート化し、硬化後に残存するシアナト基を減らすことができる。高極性のシアナト基を硬化後に減らすことによって、硬化物全体の誘電率と誘電正接をシアン酸エステル樹脂のみからなる硬化物の値まで低下させることができる。この目的で用いる1価のフェノール類化合物は、シアナト基との反応性が高く、また単官能で比較的低分子量であり、しかもシアネートエステル類化合物との相溶性が良いものが好ましい。このような1価のフェノール類化合物としては、例えば、硬化触媒として使用されるp−tert−ブチルフェノール、p−tert−アミルフェノール、p−tert−オクチルフェノール、4−クミルフェノールおよびノニルフェノール等を挙げることができる。   The cyanate ester resin composition reacts with an appropriate amount of a monovalent phenolic compound to the cyanate group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention, thereby converting the cyanate group to imide carbonate and reducing the remaining cyanate group after curing. Can do. By reducing the number of highly polar cyanate groups after curing, the dielectric constant and dielectric loss tangent of the entire cured product can be lowered to the value of a cured product consisting only of a cyanate ester resin. Monovalent phenolic compounds used for this purpose are preferably those having high reactivity with cyanato groups, monofunctionality and relatively low molecular weight, and good compatibility with cyanate ester compounds. Examples of such monovalent phenol compounds include p-tert-butylphenol, p-tert-amylphenol, p-tert-octylphenol, 4-cumylphenol and nonylphenol used as curing catalysts. Can do.

本発明の樹脂組成物において利用可能なエポキシ樹脂は、1分子中に2個以上のエポキシ基を有する化合物であれば、特に限定されるものではない。その具体例としては、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール−Aノボラック型エポキシ樹脂およびナフトールノボラック型エポキシ樹脂等のフェノール類とアルデヒド類との反応により得られるノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール−A型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェノール−A型エポキシ樹脂、ビスフェノール−F型エポキシ樹脂、ビスフェノール−AD型エポキシ樹脂、ビスフェノール−S型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、シクロペンタジェン型エポキシ樹脂、アルキル置換ビフェノール型エポキシ樹脂、多官能フェノール型エポキシ樹脂、トリス(ヒドロキシフェニル)メタン等のフェノール類とエピクロルヒドリンとの反応により得られるフェノール型エポキシ樹脂、トリメチロールプロパン、オリゴプロピレングリコールおよび水添ビスフェノール−A等のアルコール類とエピクロルヒドリンとの反応により得られる脂肪族エポキシ樹脂、ヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸若しくはフタル酸とエピクロルヒドリン若しくは2−メチルエピクロルヒドリンとの反応により得られるグリシジルエステル系エポキシ樹脂、ジアミノジフェニルメタンやアミノフェノール等のアミンとエピクロルヒドリンとの反応により得られるグリシジルアミン系エポキシ樹脂、イソシアヌル酸等のポリアミンとエピクロルヒドリンとの反応により得られる複素環式エポキシ樹脂、グリシジル基を有するホスファゼン化合物、エポキシ変性ホスファゼン樹脂、イソシアネート変性エポキシ樹脂、環状脂肪族エポキシ樹脂並びにウレタン変性エポキシ樹脂等が挙げられる。これらの中でも、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール−A型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、多官能フェノール型エポキシ樹脂およびトリス(ヒドロキシフェニル)メタンとエピクロルヒドリンとの反応により得られるフェノール型エポキシ樹脂が好ましい。これらのエポキシ樹脂は、それぞれ単独で使用してもよいし、二種以上のものが併用されてもよい。   The epoxy resin that can be used in the resin composition of the present invention is not particularly limited as long as it is a compound having two or more epoxy groups in one molecule. Specific examples thereof include phenol novolac type epoxy resins, brominated phenol novolak type epoxy resins, orthocresol novolak type epoxy resins, biphenyl novolac type epoxy resins, bisphenol-A novolak type epoxy resins and naphthol novolak type epoxy resins. Type epoxy resin, bisphenol-A type epoxy resin, brominated bisphenol-A type epoxy resin, bisphenol-F type epoxy resin, bisphenol-AD type epoxy resin, bisphenol-S type epoxy resin obtained by reaction of aldehydes with aldehydes , Biphenol type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, cyclopentagen type epoxy resin, alkyl-substituted biphenol type epoxy resin, polyfunctional phenol type epoxy resin Resin, obtained by reaction of phenols such as tris (hydroxyphenyl) methane and epichlorohydrin, obtained by reaction of phenolic epoxy resin, trimethylolpropane, oligopropylene glycol, hydrogenated bisphenol-A and the like with epichlorohydrin Aliphatic epoxy resin, hexahydrophthalic acid, tetrahydrophthalic acid or phthalic acid obtained by reaction of epichlorohydrin or 2-methylepichlorohydrin, glycidyl ester epoxy resin, obtained by reaction of amine such as diaminodiphenylmethane or aminophenol with epichlorohydrin Heterocyclic epoxies obtained by the reaction of polyamines such as glycidylamine epoxy resins and isocyanuric acid with epichlorohydrin Phosphazene compounds having a glycidyl group, an epoxy-modified phosphazene resins, isocyanate modified epoxy resin, cyclic aliphatic epoxy resins and urethane-modified epoxy resins. Among these, phenol novolac type epoxy resins, orthocresol novolac type epoxy resins, bisphenol-A type epoxy resins, biphenol type epoxy resins, biphenyl novolac type epoxy resins, naphthalene type epoxy resins, polyfunctional phenol type epoxy resins and tris (hydroxy) Phenolic epoxy resins obtained by reaction of phenyl) methane with epichlorohydrin are preferred. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.

樹脂成分として上述のエポキシ樹脂を用いる場合(以下、このような樹脂組成物を「エポキシ樹脂組成物」という場合がある)、本発明のシアナト基含有環状ホスファゼン化合物は、エポキシ基との反応によって、オキサゾリドン環を形成することから、エポキシ樹脂の硬化剤として機能し得る。また、エポキシ樹脂組成物は、本発明のシアナト基含有環状ホスファゼン化合物と共に、他の硬化剤を併せて含んでいてもよい。エポキシ樹脂組成物が、硬化剤として本発明のシアナト基含有環状ホスファゼン化合物と他の硬化剤とを併用している場合、硬化剤の合計量(すなわち、本発明のシアナト基含有環状ホスファゼン化合物と他の硬化剤との合計量)に占める本発明のシアナト基含有環状ホスファゼン化合物の割合は、0.1〜99重量%が好ましく、0.5〜90重量%がより好ましい。シアナト基含有環状ホスファゼン化合物の割合が0.1重量%未満の場合は、当該樹脂組成物からなる樹脂成形体が十分な難燃性を示さないおそれがある。   When the above-described epoxy resin is used as the resin component (hereinafter, such a resin composition may be referred to as “epoxy resin composition”), the cyanate group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention is obtained by reaction with an epoxy group, Since it forms an oxazolidone ring, it can function as a curing agent for epoxy resins. Moreover, the epoxy resin composition may contain the other hardening | curing agent together with the cyanato group containing cyclic phosphazene compound of this invention. When the epoxy resin composition uses the cyanate group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention in combination with another curing agent as a curing agent, the total amount of the curing agent (that is, the cyanate group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention and others) The ratio of the cyanato group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention to the total amount of the curing agent is preferably 0.1 to 99% by weight, more preferably 0.5 to 90% by weight. When the ratio of the cyanato group-containing cyclic phosphazene compound is less than 0.1% by weight, the resin molded body made of the resin composition may not exhibit sufficient flame retardancy.

エポキシ樹脂組成物において、シアナト基含有環状ホスファゼン化合物と併用され得る他の硬化剤は、特に限定されるものではないが、例えば、脂肪族ポリアミン、芳香族ポリアミンおよびポリアミドポリアミン等のポリアミン系硬化剤、無水ヘキサヒドロフタル酸および無水メチルテトラヒドロフタル酸等の酸無水物系硬化剤、フェノールノボラックおよびクレゾールノボラック等のフェノール系硬化剤、水酸基を有するホスファゼン化合物、三フッ化ホウ素等のルイス酸およびそれらの塩類並びにジシアンジアミド類等を挙げることができる。これらは、それぞれ単独で用いてもよく、二種以上併用してもよい。   Other curing agents that can be used in combination with the cyanato group-containing cyclic phosphazene compound in the epoxy resin composition are not particularly limited. For example, polyamine curing agents such as aliphatic polyamines, aromatic polyamines, and polyamide polyamines, Acid anhydride curing agents such as hexahydrophthalic anhydride and methyltetrahydrophthalic anhydride, phenolic curing agents such as phenol novolac and cresol novolac, phosphazene compounds having a hydroxyl group, Lewis acids such as boron trifluoride and their salts And dicyandiamides. These may be used alone or in combination of two or more.

エポキシ樹脂組成物において、硬化剤(すなわち、本発明のシアナト基含有環状ホスファゼン化合物または本発明のシアナト基含有環状ホスファゼン化合物と上述の他の硬化剤との併用物)の使用量は、エポキシ樹脂のエポキシ基1当量に対して0.5〜1.5当量になるよう設定するのが好ましく、0.6〜1.2当量になるよう設定するのがより好ましい。   In the epoxy resin composition, the amount of the curing agent (that is, the cyanate group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention or the combined use of the cyanato group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention and the above-mentioned other curing agent) It is preferably set to 0.5 to 1.5 equivalents, more preferably 0.6 to 1.2 equivalents, per 1 equivalent of epoxy group.

エポキシ樹脂組成物は、硬化促進剤を含んでいてもよい。利用可能な硬化促進剤は、公知の種々のものであり、特に限定されるものではないが、例えば、2−メチルイミダゾールおよび2−エチルイミダゾール等のイミダゾール系化合物、2−(ジメチルアミノメチル)フェノール等の第3アミン系化合物、トリフェニルホスフィン化合物等を挙げることができる。硬化促進剤を用いる場合、その使用量は、エポキシ樹脂100重量部に対して0.01〜15重量部に設定するのが好ましく、0.1〜10重量部に設定するのがより好ましい。   The epoxy resin composition may contain a curing accelerator. The available curing accelerators are various known ones, and are not particularly limited. For example, imidazole compounds such as 2-methylimidazole and 2-ethylimidazole, 2- (dimethylaminomethyl) phenol And tertiary amine compounds such as triphenylphosphine compounds. When using a hardening accelerator, it is preferable to set the usage-amount to 0.01-15 weight part with respect to 100 weight part of epoxy resins, and it is more preferable to set to 0.1-10 weight part.

エポキシ樹脂組成物は、必要に応じて公知の反応性希釈剤や添加剤が配合されていてもよい。利用可能な反応性希釈剤は、特に限定されるものではないが、例えば、ブチルグリシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエーテルおよびアリルグリシジルエーテル等の脂肪族アルキルグリシジルエーテル、グリシジルメタクリレートおよび3級カルボン酸グリシジルエステル等のアルキルグリシジルエステル、スチレンオキサイドおよびフェニルグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテル、p−s−ブチルフェニルグリシジルエーテルおよびノニルフェニルグリシジルエーテル等の芳香族アルキルグリシジルエーテル等を挙げることができる。これらの反応性希釈剤は、それぞれ単独で用いられてもよいし、二種以上が併用されてもよい。一方、添加剤としては、既述のようなものを用いることができる。   The epoxy resin composition may be blended with known reactive diluents and additives as required. Although the reactive diluent which can be utilized is not specifically limited, For example, aliphatic alkyl glycidyl ethers, such as butyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, and allyl glycidyl ether, glycidyl methacrylate, and tertiary carboxylic acid glycidyl ester And alkyl glycidyl esters such as styrene oxide and phenyl glycidyl ether, cresyl glycidyl ether, ps-butylphenyl glycidyl ether and nonylphenyl glycidyl ether. These reactive diluents may be used alone or in combination of two or more. On the other hand, as the additive, those described above can be used.

上述のシアン酸エステル樹脂組成物やエポキシ樹脂組成物等の本発明の樹脂組成物は、各成分を均一に混合することにより得られる。この樹脂組成物は、樹脂成分に応じて100〜250℃程度の温度範囲で1〜36時間放置すると、充分な硬化反応が進行し、硬化物を形成する。例えば、エポキシ樹脂組成物は、通常、150〜250℃の温度で2〜15時間放置すると、充分な硬化反応が進行し、硬化物を形成する。このような硬化過程において、本発明のシアナト基含有環状ホスファゼン化合物は、そのシアナト基が樹脂成分と反応し、硬化物中において安定に保持されることになるため、当該硬化物の高温信頼性を損ないにくい。また、本発明のシアナト基含有環状ホスファゼン化合物は、そのような硬化物の機械的特性(特に、ガラス転移温度)を損なわずに、その難燃性を高めることができる。このため、本発明の樹脂組成物は、各種の樹脂成形体の製造用材料、塗料用、接着剤用およびその他の用途用として、広く用いることができる。   The resin composition of the present invention such as the above-described cyanate ester resin composition and epoxy resin composition can be obtained by uniformly mixing each component. When this resin composition is allowed to stand for 1 to 36 hours in a temperature range of about 100 to 250 ° C. depending on the resin component, a sufficient curing reaction proceeds to form a cured product. For example, when the epoxy resin composition is usually left at a temperature of 150 to 250 ° C. for 2 to 15 hours, a sufficient curing reaction proceeds to form a cured product. In such a curing process, the cyanate group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention reacts with the resin component of the cyanate group, and is stably held in the cured product. Therefore, the high temperature reliability of the cured product is improved. Hard to lose. In addition, the cyanate group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention can enhance the flame retardancy without impairing the mechanical properties (particularly the glass transition temperature) of such a cured product. For this reason, the resin composition of this invention can be widely used as a material for manufacture of various resin moldings, for coating materials, for adhesives, and for other uses.

また、高分子材料の誘電特性は、使用されている分子の双極子の配向分極による影響が大きいことから、分子内の極性基を少なくすることにより誘電率を低くすることができ、また、極性基の運動性を抑えることにより誘電正接を低くすることができる。本発明の樹脂組成物に含まれるシアナト基含有環状ホスファゼン化合物は、極性の高いシアナト基を有しているが、硬化時には対称性を有しかつ剛直なトリアジン構造を生成することができるため、誘電率および誘電正接を高めにくい。このため、本発明の樹脂組成物によれば、低い誘電率および誘電正接の硬化物が得られる。したがって、本発明の樹脂組成物は、半導体封止用や回路基板(特に、金属張り積層板、プリント配線板用基板、プリント配線板用接着剤、プリント配線板用接着剤シート、プリント配線板用絶縁性回路保護膜、プリント配線板用導電ペースト、多層プリント配線板用封止剤、回路保護剤、カバーレイフィルム、カバーインク)形成用等の電気・電子部品の製造用材料として特に好適である。   In addition, since the dielectric properties of polymer materials are greatly influenced by the orientation polarization of the dipoles of the molecules used, the dielectric constant can be lowered by reducing the number of polar groups in the molecule. The dielectric loss tangent can be lowered by suppressing the mobility of the group. Although the cyanate group-containing cyclic phosphazene compound contained in the resin composition of the present invention has a highly polar cyanate group, it can form a symmetric and rigid triazine structure upon curing. It is difficult to increase the rate and dielectric loss tangent. For this reason, according to the resin composition of the present invention, a cured product having a low dielectric constant and dielectric loss tangent can be obtained. Therefore, the resin composition of the present invention is used for semiconductor encapsulation and circuit boards (in particular, metal-clad laminates, printed wiring board substrates, printed wiring board adhesives, printed wiring board adhesive sheets, and printed wiring board use). Insulating circuit protective film, conductive paste for printed wiring board, sealing agent for multilayer printed wiring board, circuit protective agent, cover lay film, cover ink), etc. are particularly suitable as materials for manufacturing electrical and electronic parts. .

重合性組成物
本発明の重合性組成物は、本発明のシアナト基含有環状ホスファゼン化合物を含んでいる。ここで用いられるシアナト基含有環状ホスファゼン化合物は、二種以上のものであってもよい。この重合性組成物は、その用途等に応じ、その目的とする物性を損なわない範囲で、各種の添加剤を配合することができる。利用可能な添加剤は、上述の樹脂組成物の説明において挙げたものと同様のものである。
Polymerizable composition The polymerizable composition of the present invention contains the cyanate group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention. Two or more kinds of cyanato group-containing cyclic phosphazene compounds may be used. This polymerizable composition can be blended with various additives in a range that does not impair the intended physical properties, depending on the application. Available additives are the same as those mentioned in the description of the resin composition.

また、この重合性組成物は、熱硬化性を向上させるために、硬化触媒を含んでいてもよい。ここで利用可能な硬化触媒は、通常、上述の樹脂組成物の説明において挙げたものと同様のもの、すなわち、アセチルアセトナートと金属とのキレート化合物、カルボン酸金属塩触媒、アルキルフェノール類、フェノール樹脂および揮発性の低いアルコール類等の活性水素を有する化合物などである。   Further, the polymerizable composition may contain a curing catalyst in order to improve thermosetting. The curing catalyst that can be used here is usually the same as that described in the description of the resin composition, that is, a chelate compound of acetylacetonate and a metal, a carboxylic acid metal salt catalyst, an alkylphenol, a phenol resin. And compounds having active hydrogen such as alcohols having low volatility.

さらに、この重合性組成物は、上述の樹脂組成物の場合と同じく、シアナト基をイミドカーボネート化して硬化後に残存するシアナト基を減らし、重合物(硬化物)の誘電率と誘電正接とを低下させることを目的として、1価のフェノール類化合物を含んでいてもよい。この目的で用いる1価のフェノール類化合物は、上述の樹脂組成物の説明において挙げたものと同様のものである。   Further, as in the case of the resin composition described above, this polymerizable composition reduces cyanate groups converted to imide carbonate to reduce cyanate groups remaining after curing, and lowers the dielectric constant and dielectric loss tangent of the polymer (cured product). For the purpose of making it, a monovalent phenol compound may be contained. The monovalent phenol compounds used for this purpose are the same as those mentioned in the description of the resin composition.

本発明の重合性組成物は、所要の成分を均一に混合することにより得られる。この重合性組成物は、通常、加熱するとシアナト基含有環状ホスファゼン化合物間での重合が進行して重合物となり、硬化物(樹脂成形体)を形成する。この硬化物は、実質的に本発明のシアナト基含有環状ホスファゼンの重合体からなるため、難燃性および高温信頼性に優れ、また、ガラス転移温度が高いために機械的特性においても優れている。このため、本発明の重合性組成物は、各種の分野において用いられる樹脂成形体の製造用材料として、広く用いることができる。   The polymerizable composition of the present invention can be obtained by uniformly mixing required components. In general, when this polymerizable composition is heated, polymerization between cyanate group-containing cyclic phosphazene compounds proceeds to become a polymer, thereby forming a cured product (resin molded product). Since this cured product is substantially composed of the cyanate group-containing cyclic phosphazene polymer of the present invention, it has excellent flame retardancy and high temperature reliability, and also has excellent mechanical properties due to its high glass transition temperature. . For this reason, the polymerizable composition of the present invention can be widely used as a material for producing a resin molded body used in various fields.

また、本発明の重合性組成物に含まれるシアナト基含有環状ホスファゼン化合物は、極性の高いシアナト基を有しているが、硬化時には対称性を有しかつ剛直なトリアジン構造を生成することができるため、硬化物の誘電率および誘電正接を高めにくい。このため、本発明の重合性組成物によれば、低い誘電率および誘電正接の硬化物が得られる。したがって、本発明の重合性組成物は、半導体封止用や回路基板(特に、金属張り積層板、プリント配線板用基板、プリント配線板用接着剤、プリント配線板用接着剤シート、プリント配線板用絶縁性回路保護膜、プリント配線板用導電ペースト、多層プリント配線板用封止剤、回路保護剤、カバーレイフィルム、カバーインク)形成用等の電気・電子部品の製造用材料として特に好適である。   Further, the cyanate group-containing cyclic phosphazene compound contained in the polymerizable composition of the present invention has a highly polar cyanate group, but can produce a symmetric and rigid triazine structure upon curing. Therefore, it is difficult to increase the dielectric constant and dielectric loss tangent of the cured product. For this reason, according to the polymerizable composition of the present invention, a cured product having a low dielectric constant and dielectric loss tangent can be obtained. Accordingly, the polymerizable composition of the present invention is suitable for semiconductor encapsulation and circuit boards (in particular, metal-clad laminates, printed wiring board substrates, printed wiring board adhesives, printed wiring board adhesive sheets, printed wiring boards. Insulating circuit protective film for printed circuit board, conductive paste for printed wiring board, sealing agent for multilayer printed wiring board, circuit protective agent, coverlay film, cover ink), etc. is there.

以下に実施例等を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらにより何ら限定されるものではない。
なお、以下において、「unit mol」の「unit」は、環状ホスファゼン化合物の最小構成単位、例えば、一般式(1)については(PNA)を意味し、一般式(3)については(PNX)を意味する。一般式(3)において、Xが塩素の場合、その1unit molは115.87gである。
また、以下においては、特に断りがない限り、「%」および「部」とあるのは、それぞれ「重量%」および「重量部」を意味する。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples and the like, but the present invention is not limited by these.
In the following, “unit” in “unit mol” means the smallest structural unit of the cyclic phosphazene compound, for example, (PNA 2 ) for general formula (1) and (PNX 2 ) for general formula (3). ). In the general formula (3), when X is chlorine, its 1 unit mol is 115.87 g.
In the following, unless otherwise specified, “%” and “parts” mean “% by weight” and “parts by weight”, respectively.

実施例等で得られたホスファゼン化合物は、H−NMRスペクトルおよび31P−NMRスペクトルの測定、CHN元素分析、IRスペクトルの測定、アルカリ溶融後の硝酸銀を用いた電位差滴定法による塩素元素(残留塩素)の分析、マイクロウエーブ湿式分解後のICP−AESによるリン元素の分析並びにTOF−MS分析の結果に基づいて同定した。また、水酸基当量は、JIS K 0070−1992「化学製品の酸価、けん化価、エステル価、よう素価、水酸基価および不けん化物の試験方法」において規定された水酸基価測定方法の中和滴定法に従い測定し、水酸基価mgKOH/gの値を水酸基当量g/eq.に変換した。 The phosphazene compounds obtained in the examples and the like were prepared by measuring 1 H-NMR spectrum and 31 P-NMR spectrum, CHN elemental analysis, IR spectrum, chlorine element (residual element) by potentiometric titration method using silver nitrate after alkali melting. Chlorine) analysis, analysis of phosphorus element by ICP-AES after microwave wet decomposition, and TOF-MS analysis. The hydroxyl equivalent is determined by neutralization titration according to the method for measuring hydroxyl value defined in JIS K 0070-1992 “Testing methods for acid value, saponification value, ester value, iodine value, hydroxyl value and unsaponified product of chemical products”. The hydroxyl value mgKOH / g was measured according to the method, and the hydroxyl equivalent weight g / eq. Converted to.

実施例1(形態Bに係るシアナト基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
[工程1:上記方法B−dによる環状ホスホニトリル置換体の製造]
温度計、撹拌機、冷却管および滴下ロートを取り付けた1リットルの4つ口フラスコに、窒素気流下、ヘキサクロロシクロトリホスファゼン(86.9g,0.75unit mol)を仕込み、クロロベンゼン(MCB、581g)を加えて溶解した。これにナトリウムフェノキシド(87g,0.75mol)のテトラヒドロフラン(THF、160g)溶液を5時間以上かけてゆっくりと滴下した後、25℃にて24時間撹拌した。得られた反応液を予め調製した4−ヒドロキシベンズアルデヒドカリウム塩(140.5g,0.975mol)のMCB(813g)懸濁液に投入後、臭化テトラブチルアンモニウム(1.5g,0.0047mol)を添加し、110℃にて3時間還流した。反応混合物を室温に冷却後、5%水酸化ナトリウム水溶液(700g)、水(100g)、MCB(111g)を加えて分液ロートに移した。水層を分離後、MCB層を2%水酸化ナトリウム水溶液(500g)にて2回洗浄後、希硝酸にて中和し、水洗した。MCB層を減圧濃縮し、187.7g(収率:96.5%)の生成物を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
Example 1 (Production of cyanato group-containing cyclic phosphazene compound according to Form B)
[Step 1: Production of a substituted cyclic phosphonitrile by the above-mentioned method Bd]
Under a nitrogen stream, hexachlorocyclotriphosphazene (86.9 g, 0.75 unit mol) was charged into a 1 liter four-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, condenser and dropping funnel, and chlorobenzene (MCB, 581 g). To dissolve. A solution of sodium phenoxide (87 g, 0.75 mol) in tetrahydrofuran (THF, 160 g) was slowly added dropwise over 5 hours, and the mixture was stirred at 25 ° C. for 24 hours. The obtained reaction solution was added to a MCB (813 g) suspension of 4-hydroxybenzaldehyde potassium salt (140.5 g, 0.975 mol) prepared in advance, and then tetrabutylammonium bromide (1.5 g, 0.0047 mol). Was added and refluxed at 110 ° C. for 3 hours. After cooling the reaction mixture to room temperature, 5% aqueous sodium hydroxide solution (700 g), water (100 g), and MCB (111 g) were added, and the mixture was transferred to a separatory funnel. After separating the aqueous layer, the MCB layer was washed twice with a 2% aqueous sodium hydroxide solution (500 g), neutralized with dilute nitric acid, and washed with water. The MCB layer was concentrated under reduced pressure to obtain 187.7 g (yield: 96.5%) of the product. The analysis result of this product was as follows.

H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
−C−およびOC 6.9〜7.8(30H)、 −CHO 9.95(3H)
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.9
◎IRスペクトル(KBr):
1704cm−1(CHO)を確認。
◎CHNP元素分析:
理論値 C:60.2%,H:3.9%,N:5.0%,P:12.0%
実測値 C:60.4%,H:3.9%,N:5.5%,P:12.1%
◎残存塩素分析:
<0.01%
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
-C 6 H 4 - and OC 6 H 5 6.9~7.8 (30H) , -CHO 9.95 (3H)
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.9
IR spectrum (KBr):
Confirmed 1704 cm −1 (CHO).
◎ CHNP elemental analysis:
Theoretical value C: 60.2%, H: 3.9%, N: 5.0%, P: 12.0%
Measured value C: 60.4%, H: 3.9%, N: 5.5%, P: 12.1%
◎ Residual chlorine analysis:
<0.01%

以上の分析結果から、この工程で得られた生成物は[N=P(OCCHO)(OC]、[N=P(OCCHO)(OC]、[N=P(OCCHO)(OC]、[N=P(OCCHO)(OC]の混合物であり、その平均組成が[N=P(OCCHO)2.7(OC3.3]であることを確認した。 From the above analysis results, the products obtained in this step are [N 3 = P 3 (OC 6 H 4 CHO) (OC 6 H 5 ) 5 ], [N 3 = P 3 (OC 6 H 4 CHO)]. 2 (OC 6 H 5 ) 4 ], [N 3 = P 3 (OC 6 H 4 CHO) 3 (OC 6 H 5 ) 3 ], [N 3 = P 3 (OC 6 H 4 CHO) 4 (OC 6 H 5 ) 2 ], and the average composition was confirmed to be [N 3 = P 3 (OC 6 H 4 CHO) 2.7 (OC 6 H 5 ) 3.3 ].

[工程2:フェノール類との縮合工程]
温度計、撹拌機、冷却管を取り付けた2リットルの4つ口フラスコに工程1にて得られた化合物(187.1g,0.241mol)、フェノール(274.5g, 2.89mol)、MCB(1,327g)、p−トルエンスルホン酸(5.92g,0.028mol)を仕込み、60℃にて2時間撹拌した。その後、脱水装置(ディーンスターク)を取り付けて、さらに130℃に加熱し、生じた水を系外に除いた。反応終了後、室温まで冷却して4−メチル−2−ペンタノン(MIBK、801g)を加え、3回水洗浄した。MIBK層を減圧濃縮後、濃縮残渣をメタノール−水混合溶媒にて結晶化し、232g(収率75%)の赤色の生成物を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
[Step 2: Condensation step with phenols]
The compound obtained in Step 1 (187.1 g, 0.241 mol), phenol (274.5 g, 2.89 mol), MCB (in a 2 liter four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a condenser tube, 1,327 g) and p-toluenesulfonic acid (5.92 g, 0.028 mol) were added and stirred at 60 ° C. for 2 hours. Thereafter, a dehydrator (Dean Stark) was attached, and the mixture was further heated to 130 ° C., and the generated water was removed from the system. After completion of the reaction, the mixture was cooled to room temperature, 4-methyl-2-pentanone (MIBK, 801 g) was added, and the mixture was washed with water three times. After the MIBK layer was concentrated under reduced pressure, the concentrated residue was crystallized with a methanol-water mixed solvent to obtain 232 g (yield 75%) of a red product. The analysis result of this product was as follows.

H−NMRスペクトル(重アセトン中、δ、ppm):
−CH− 5.4〜6.3(3H)、−C−およびOC 6.9〜7.8(49H)、−OH 8.04(6H)
31P−NMRスペクトル(重アセトン中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.9
◎IRスペクトル(KBr):
3500cm−1(OH)を確認、1704cm−1の消失を確認した。
◎CHNP元素分析:
理論値 C:70.1%,H:4.5%,N:3.3%,P:7.2%
実測値 C:69.7%,H:4.5%,N:4.4%,P:7.6%
◎水酸基当量:
222g/eq.(理論値215g/eq.)
1 H-NMR spectrum (in heavy acetone, δ, ppm):
-CH- 5.4~6.3 (3H), - C 6 H 4 - and OC 6 H 5 6.9~7.8 (49H) , - OH 8.04 (6H)
31 P-NMR spectrum (in heavy acetone, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.9
IR spectrum (KBr):
3500 cm −1 (OH) was confirmed, and disappearance of 1704 cm −1 was confirmed.
◎ CHNP elemental analysis:
Theoretical value C: 70.1%, H: 4.5%, N: 3.3%, P: 7.2%
Measured value C: 69.7%, H: 4.5%, N: 4.4%, P: 7.6%
◎ Hydroxyl equivalent:
222 g / eq. (Theoretical value 215 g / eq.)

以上の分析結果から、この工程で得られた生成物は{N=P[OCCH(COH)](OC}、{N=P[OCCH(COH)](OC}、{N=P[OCCH(COH)](OC}、{N=P[OCCH(COH)](OC}の混合物であり、その平均組成が{N=P[OCCH(COH)]2.7(OC3.3}であることを確認した。尚、本化合物の(COH)基の置換比率は、13C−NMR測定の結果、オルト位:パラ位=2.5:1であった。 From the above analysis results, the products obtained in this step are {N 3 = P 3 [OC 6 H 4 CH (C 6 H 4 OH) 2 ] (OC 6 H 5 ) 5 }, {N 3 = P 3 [OC 6 H 4 CH ( C 6 H 4 OH) 2] 2 (OC 6 H 5) 4}, {N 3 = P 3 [OC 6 H 4 CH (C 6 H 4 OH) 2] 3 (OC 6 H 5 ) 3 }, {N 3 = P 3 [OC 6 H 4 CH (C 6 H 4 OH) 2 ] 4 (OC 6 H 5 ) 2 }, the average composition of which is {N 3 = it was confirmed that P 3 is [OC 6 H 4 CH (C 6 H 4 OH) 2] 2.7 (OC 6 H 5) 3.3}. Incidentally, (C 6 H 4 OH) substitution ratio of the group of the compounds, 13 the results of C-NMR measurement, ortho: para = 2.5: 1.

[工程3:シアナト化工程]
温度計、撹拌機および滴下ロートを取り付けた3リットルの4つ口フラスコに、工程2で得られた化合物(200g,水酸基当量222g/eq.,水酸基0.901eq.)、臭化シアン(124g,1.18mol)、MIBK(400g)を仕込み、撹拌しながら内温を0 ℃以下に冷却した。次に、トリエチルアミン(118.4g,1.18mol)のアセトニトリル(550g)溶液を内温0℃以下で滴下した後、同温度で15分熟成した。反応混合物にトルエン(1,200g)、水(700g)を加えた後、分液ロートに移して下層を分離した。上層を水(700g)で洗浄後、内温35℃以下で減圧濃縮し、褐色の油状物を得た。得られた粗生成物をトルエン(700g)、MIBK(320g)混合溶媒に溶解後、ヘプタン(3,460g)にゆっくりと滴下した。析出した固体を濾取後、35℃以下で減圧乾燥して206g(収率92.4%)の生成物を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
[Step 3: Cyanating step]
Into a 3 liter four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a dropping funnel, the compound obtained in Step 2 (200 g, hydroxyl group equivalent 222 g / eq., Hydroxyl group 0.901 eq.), Cyanogen bromide (124 g, 1.18 mol) and MIBK (400 g) were charged, and the internal temperature was cooled to 0 ° C. or lower while stirring. Next, a solution of triethylamine (118.4 g, 1.18 mol) in acetonitrile (550 g) was added dropwise at an internal temperature of 0 ° C. or lower, and then aged at the same temperature for 15 minutes. Toluene (1,200 g) and water (700 g) were added to the reaction mixture, and then transferred to a separatory funnel to separate the lower layer. The upper layer was washed with water (700 g) and then concentrated under reduced pressure at an internal temperature of 35 ° C. or lower to obtain a brown oil. The obtained crude product was dissolved in a mixed solvent of toluene (700 g) and MIBK (320 g), and then slowly dropped into heptane (3,460 g). The precipitated solid was collected by filtration and dried under reduced pressure at 35 ° C. or lower to obtain 206 g (yield 92.4%) of the product. The analysis result of this product was as follows.

H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
−CH− 5.4〜6.3(3H)、−C−およびOC 6.9〜7.8(49H)
31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N) 9.9
◎IRスペクトル(KBr):
2260cm−1(OCN)を確認した。
◎CHNP元素分析:
理論値 C:66.8%,H:3.9%,N:9.0%,P:6.6%
実測値 C:66.6%,H:3.9%,N:8.8%,P:7.0%
1 H-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
-CH- 5.4~6.3 (3H), - C 6 H 4 - and OC 6 H 5 6.9~7.8 (49H)
31 P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.9
IR spectrum (KBr):
2260 cm < -1 > (OCN) was confirmed.
◎ CHNP elemental analysis:
Theoretical value C: 66.8%, H: 3.9%, N: 9.0%, P: 6.6%
Measured value C: 66.6%, H: 3.9%, N: 8.8%, P: 7.0%

以上の分析結果から、この工程で得られた生成物は{N=P[OCCH(COCN)](OC}、{N=P[OCCH(COCN)](OC}、{N=P[OCCH(COCN)](OC}、{N=P[OCCH(COCN)](OC}の混合物であり、その平均組成が{N=P[OCCH(COCN)]2.7(OC3.3}であることを確認した。 From the above analysis results, the products obtained in this step are {N 3 = P 3 [OC 6 H 4 CH (C 6 H 4 OCN) 2 ] (OC 6 H 5 ) 5 }, {N 3 = P 3 [OC 6 H 4 CH (C 6 H 4 OCN) 2 ] 2 (OC 6 H 5 ) 4 }, {N 3 = P 3 [OC 6 H 4 CH (C 6 H 4 OCN) 2 ] 3 (OC 6 H 5 ) 3 }, {N 3 = P 3 [OC 6 H 4 CH (C 6 H 4 OCN) 2 ] 4 (OC 6 H 5 ) 2 }, the average composition of which is {N 3 = it was confirmed that P 3 is [OC 6 H 4 CH (C 6 H 4 OCN) 2] 2.7 (OC 6 H 5) 3.3}.

比較例1(環状ホスファゼン化合物の製造)
PHOSPHORUS−NITROGEN COMPOUNDS、H.R.ALLCOCK著、1972年刊、151頁、ACADEMIC PRESS社に記載されている方法に従い、ヘキサクロロシクロトリホスファゼン81%とオクタクロロシクロテトラホスファゼン19%とのシクロホスファゼン混合物を用いて[N=P(OCと[N=P(OCとの混合物(白色固体/融点:65〜112℃)を得た。
Comparative Example 1 (Production of cyclic phosphazene compound)
PHOSPHORUS-NITROGEN COMPOUNDS, H.P. R. According to the method described in ALLCOCK, 1972, 151, ACADEMIC PRES, using a cyclophosphazene mixture of 81% hexachlorocyclotriphosphazene and 19% octachlorocyclotetraphosphazene [N = P (OC 6 H 5 ) 2 ] 3 and a mixture of [N = P (OC 6 H 5 ) 2 ] 4 (white solid / melting point: 65-112 ° C.).

実施例2(樹脂成形体の作製)
実施例1で合成したシアナト基含有環状ホスファゼン化合物からなる重合性組成物を170℃で1時間加熱し、一部を3量化させてプレポリマーを調製した。次に、これをPTFEの型に流し込んで200℃で2時間、230℃で3時間加熱硬化させ、1/16インチ厚および5mm厚の二種類のシート状硬化物(樹脂成形体)を作製した。硬化物は、IRスペクトルによってシアナト基(OCN)の吸収が完全に消失していることを確認した。
Example 2 (Production of resin molded body)
The prepolymer was prepared by heating the polymerizable composition composed of the cyanato group-containing cyclic phosphazene compound synthesized in Example 1 at 170 ° C. for 1 hour and triming a part thereof. Next, this was poured into a PTFE mold and cured by heating at 200 ° C. for 2 hours and at 230 ° C. for 3 hours to produce two types of sheet-like cured products (resin moldings) having a thickness of 1/16 inch and 5 mm. . It was confirmed by the IR spectrum that the cured product had completely lost cyanate group (OCN) absorption.

得られたシート状硬化物について、燃焼性、耐熱性、ギガヘルツ帯での誘電特性およびガラス転移温度を調べた。燃焼性および耐熱性は1/16インチ厚のシート状硬化物を用いて評価した。また、誘電特性およびガラス転移温度については5mm厚のシート状硬化物を用いて評価した。各項目の評価方法は次の通りである。その結果を表1に示す。   The obtained sheet-like cured product was examined for combustibility, heat resistance, dielectric properties in the gigahertz band and glass transition temperature. Flammability and heat resistance were evaluated using a 1/16 inch thick sheet-like cured product. The dielectric properties and glass transition temperature were evaluated using a 5 mm thick sheet-like cured product. The evaluation method for each item is as follows. The results are shown in Table 1.

(燃焼性)
アンダーライターズラボラトリーズ(Underwriter’s Laboratories Inc.)のUL−94規格垂直燃焼試験に基づき、10回接炎時の合計燃焼時間と燃焼時の滴下物による綿着火の有無により、V−0、V−1、V−2および規格外の四段階に分類した。評価基準を以下に示す。難燃性レベルはV−0>V−1>V−2>規格外の順に低下する。
(Combustion quality)
Based on Underwriters Laboratories Inc.'s UL-94 standard vertical combustion test, V-0, V depending on the total combustion time at the 10th flame contact and the presence or absence of cotton ignition by dripping at the time of combustion. -1, V-2 and non-standard four stages. The evaluation criteria are shown below. The flame retardancy level decreases in the order of V-0>V-1>V-2> non-standard.

V−0:下記の条件を全て満たす。
(A)試験片5本を1本につき二回ずつ、合計10回の接炎後からの消炎時間の合計が50秒以内。
(B)試験片5本を1本につき二回ずつ接炎を行い、それぞれの接炎後からの消炎時間が5秒以内。
(C)すべての試験片で滴下物による、300mm下の脱脂綿への着火がない。
(D)すべての試験片で、二回目の接炎後のグローイングは30秒以内。
(E)すべての試験片で、クランプまでフレーミングしない。
V-0: All the following conditions are satisfied.
(A) The total extinguishing time after 10 times of flame contact is within 50 seconds, 5 test pieces twice each.
(B) The test piece was fired twice for each of the five test pieces, and the flame-out time after each contact was within 5 seconds.
(C) There is no ignition of the absorbent cotton under 300 mm due to the drop in all the test pieces.
(D) Growing after the second flame contact is within 30 seconds for all specimens.
(E) All specimens are not framing to the clamp.

V−1:下記の条件を全て満たす。
(A)試験片5本を1本につき二回ずつ、合計10回の接炎後からの消炎時間の合計が250秒以内。
(B)試験片5本を1本につき二回ずつ接炎を行い、それぞれの接炎後からの消炎時間が30秒以内。
(C)すべての試験片で滴下物による、300mm下の脱脂綿への着火がない。
(D)すべての試験片で、二回目の接炎後のグローイングは60秒以内。
(E)すべての試験片で、クランプまでフレーミングしない。
V-1: All the following conditions are satisfied.
(A) The total extinguishing time after a total of 10 flame contact times is less than 250 seconds, 5 test pieces twice each.
(B) Flame test was performed twice for each of five test pieces, and the flame extinguishing time after each flame contact was within 30 seconds.
(C) There is no ignition of the absorbent cotton under 300 mm due to the drop in all the test pieces.
(D) For all specimens, the glowing after the second flame contact is within 60 seconds.
(E) All specimens are not framing to the clamp.

V−2:下記の条件を全て満たす。
(A)試験片5本を1本につき二回ずつ、合計10回の接炎後からの消炎時間の合計が250秒以内。
(B)試験片5本を1本につき二回ずつ接炎を行い、それぞれの接炎後からの消炎時間が30秒以内。
(C)試験片5本のうち、少なくとも1本は、滴下物による、300mm下の脱脂綿への着火がある。
(D)すべての試験片で、二回目の接炎後のグローイングは60秒以内。
(E)すべての試験片で、クランプまでフレーミングしない。
V-2: All the following conditions are satisfied.
(A) The total extinguishing time after a total of 10 flame contact times is less than 250 seconds, 5 test pieces twice each.
(B) Flame test was performed twice for each of five test pieces, and the flame extinguishing time after each flame contact was within 30 seconds.
(C) At least one of the five test pieces is ignited on the absorbent cotton under 300 mm by the drop.
(D) For all specimens, the glowing after the second flame contact is within 60 seconds.
(E) All specimens are not framing to the clamp.

(耐熱性)
試験片を288℃で20分間処理し、外観の変化を観察した。表1において、「有」は、環状ホスファゼン化合物のブリードアウトによる外観変化がないことを示す。また、「無」は、環状ホスファゼン化合物のブリードアウトによる外観変化があることを示す。
(Heat-resistant)
The test piece was treated at 288 ° C. for 20 minutes and the change in appearance was observed. In Table 1, “Yes” indicates that there is no change in appearance due to bleeding out of the cyclic phosphazene compound. “None” indicates that there is a change in appearance due to bleeding out of the cyclic phosphazene compound.

(誘電特性)
空洞共振器摂動法複素誘電率評価装置(関東電子応用開発株式会社の商品名)を用い、下記の条件にて24時間放置したシート状硬化物の誘電率および誘電正接を下記の条件下で測定した。
測定温度 :22〜24℃
測定湿度 :45〜55%
測定周波数:5GHz
(Dielectric properties)
Using a cavity resonator perturbation method complex dielectric constant evaluation device (trade name of Kanto Electronics Application Development Co., Ltd.), the dielectric constant and dielectric loss tangent of a sheet-like cured product left for 24 hours under the following conditions are measured under the following conditions: did.
Measurement temperature: 22-24 ° C
Measurement humidity: 45-55%
Measurement frequency: 5 GHz

(ガラス転移温度:Tg)
セイコー電子工業株式会社のDMS−200(商品名)を用い、測定長(測定治具間隔)を20mmとして、下記の条件下で、シート状硬化物の貯蔵弾性率(ε’)の測定を行い、当該貯蔵弾性率(ε’)の変曲点をガラス転移温度(℃)とした。
(Glass transition temperature: Tg)
Using a DMS-200 (trade name) manufactured by Seiko Denshi Kogyo Co., Ltd., and measuring length (measurement jig interval) of 20 mm, the storage elastic modulus (ε ′) of the sheet-like cured product is measured under the following conditions. The inflection point of the storage elastic modulus (ε ′) was defined as the glass transition temperature (° C.).

測定雰囲気:乾燥空気雰囲気
測定温度 :20〜400℃の範囲内
測定試料 :幅9mm、長さ40mmにスリットした硬化樹脂シート
Measurement atmosphere: Dry air atmosphere Measurement temperature: Measurement sample within a range of 20 to 400 ° C .: Cured resin sheet slit to 9 mm width and 40 mm length

Figure 0005137105
Figure 0005137105

表1から明らかなように、実施例2のシート状硬化物は、ギガヘルツ帯の周波数において低い誘電率と優れた誘電正接を示し、また、高いガラス転移温度を示している。   As is clear from Table 1, the sheet-like cured product of Example 2 exhibits a low dielectric constant and an excellent dielectric loss tangent at a frequency in the gigahertz band, and also exhibits a high glass transition temperature.

比較のため、比較例1で合成した環状ホスファゼン化合物を用いてシート状硬化物の作製を試みた。ここでは、比較例1で合成した環状ホスファゼン化合物を170℃で1時間加熱し、次にこれをPTFEの型に流し込んで200℃で2時間、230℃で3時間加熱したところ、環状ホスファゼン化合物の外観は白色固体から褐色固体に変化した。加熱した固体をトルエンに加えたところ、その固体は完全に溶解し、硬化が全く起こっていなかった。すなわち、シート状硬化物は得られず、実施例2と同様の評価はできなかった。   For comparison, an attempt was made to produce a sheet-like cured product using the cyclic phosphazene compound synthesized in Comparative Example 1. Here, the cyclic phosphazene compound synthesized in Comparative Example 1 was heated at 170 ° C. for 1 hour, then poured into a PTFE mold and heated at 200 ° C. for 2 hours and at 230 ° C. for 3 hours. The appearance changed from a white solid to a brown solid. When the heated solid was added to toluene, the solid was completely dissolved and no curing had occurred. That is, no sheet-like cured product was obtained, and the same evaluation as in Example 2 could not be performed.

合成例1(可溶性ポリイミド樹脂の合成)
撹拌機、温度計、還流冷却管および窒素導入管を備えた3リットルのガラス製フラスコ中に、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン277.7g(0.95mol)および3,3’−ジヒドロキシ−4,4’−ジアミノビフェニル10.7g(0.05mol)およびN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)700mlを仕込み、窒素雰囲気下で撹拌溶解した。次に、フラスコ内の溶液を窒素雰囲気下で撹拌し、4、4’−(4、4’−イソプロピリデンジフェノキシ)ビスフタル酸無水物(IPBP)のDMF溶液[IPBP520.5g(1.00mol)、DMF1,100ml]を5〜10℃で2時間かけて滴下し、さらに室温で3時間撹拌してポリアミド酸溶液を得た。得られたポリアミド酸溶液2,500gをフッ素樹脂(PTFE)でコートしたトレイに移し、真空オーブンで減圧加熱(条件:200℃、5.7hPa以下、6時間)することによって、可溶性ポリイミド樹脂750gを得た。
Synthesis Example 1 (Synthesis of soluble polyimide resin)
In a 3 liter glass flask equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser and nitrogen inlet tube, 277.7 g (0.95 mol) of 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene and 3,3 ′ -Dihydroxy-4,4'-diaminobiphenyl (10.7 g, 0.05 mol) and N, N-dimethylformamide (DMF) (700 ml) were charged and dissolved under stirring in a nitrogen atmosphere. Next, the solution in the flask was stirred under a nitrogen atmosphere, and a DMF solution of 4,4 ′-(4,4′-isopropylidenediphenoxy) bisphthalic anhydride (IPBP) [IPBP 520.5 g (1.00 mol) , DMF1,100 ml] was added dropwise at 5 to 10 ° C. over 2 hours, and further stirred at room temperature for 3 hours to obtain a polyamic acid solution. 2,500 g of the resulting polyamic acid solution was transferred to a tray coated with a fluororesin (PTFE), and heated under reduced pressure in a vacuum oven (conditions: 200 ° C., 5.7 hPa or less, 6 hours) to obtain 750 g of a soluble polyimide resin. Obtained.

合成例2(2官能PPEオリゴマーの合成)
撹拌機、温度計、還流冷却管および空気導入管を備えた2リットルのガラス製フラスコ中にCuCl1.3g(0.012mol)、ジ−n−ブチルアミン70.7g(0.55mol)およびメチルエチルケトン500mlを仕込み、反応温度40℃にて撹拌を行い、予めメチルエチルケトン1,000mlに溶解させた4,4’−(1−メチルエチリデン)ビス(2,6−ジメチルフェノール)45.4g(0.16mol)と2,6−ジメチルフェノール58.6g(0.48mol)とを2リットル/分の空気のバブリングを行いながら2時間かけて滴下し、その後、1時間、2リットル/分の空気のバブリングを続けながら撹拌を行った。そして、これにエチレンジアミン四酢酸二水素二ナトリウム水溶液を加え、反応を停止した。その後、3%塩酸水溶液で3回洗浄を行った後、イオン交換水でさらに洗浄を行った。得られた溶液を濃縮し、さらに減圧乾燥を行い、両末端にヒドロキシル基を有する2官能PPEオリゴマーを101.3g得た。このオリゴマーは、数平均分子量が860、重量平均分子量が1,150、水酸基当量が455g/eq.であった。
Synthesis Example 2 (Synthesis of bifunctional PPE oligomer)
In a 2 liter glass flask equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser and air inlet tube, 1.3 g (0.012 mol) of CuCl, 70.7 g (0.55 mol) of di-n-butylamine and 500 ml of methyl ethyl ketone were added. And 45.4 g (0.16 mol) of 4,4 ′-(1-methylethylidene) bis (2,6-dimethylphenol) previously dissolved in 1,000 ml of methyl ethyl ketone, with stirring at a reaction temperature of 40 ° C. 2,8.6 g (0.48 mol) of 2,6-dimethylphenol was added dropwise over 2 hours while bubbling air at 2 liters / minute, and then bubbling air at 2 liters / minute for 1 hour. Stirring was performed. And the ethylenediaminetetraacetic acid disodium dihydrogen aqueous solution was added to this, and reaction was stopped. Thereafter, washing was performed 3 times with a 3% hydrochloric acid aqueous solution, followed by further washing with ion-exchanged water. The resulting solution was concentrated and further dried under reduced pressure to obtain 101.3 g of a bifunctional PPE oligomer having hydroxyl groups at both ends. This oligomer has a number average molecular weight of 860, a weight average molecular weight of 1,150, and a hydroxyl group equivalent of 455 g / eq. Met.

実施例3〜4(樹脂組成物の調製)
合成例1で得られた可溶性ポリイミド樹脂50g、ビスフェノールA系シアン酸エステル化合物である2,2’−ビス(4−シアナトフェニル)プロパン(Lonza社の商品名“BADCy”)25.0gおよび表2に示すシアナト基含有環状ホスファゼン化合物をジオキソランに溶解し、樹脂溶液(樹脂組成物)を得た。
Examples 3 to 4 (Preparation of resin composition)
50 g of the soluble polyimide resin obtained in Synthesis Example 1, 25.0 g of 2,2′-bis (4-cyanatophenyl) propane (trade name “BADCy” from Lonza), which is a bisphenol A-based cyanate compound, and a table The cyanate group-containing cyclic phosphazene compound shown in 2 was dissolved in dioxolane to obtain a resin solution (resin composition).

この樹脂溶液を、125μm厚のPETフィルム(東洋メタライジング株式会社の商品名“セラピールHP”)の表面上にキャストした。その後、熱風オーブンにて60℃、80℃、100℃、120℃および140℃の各温度でそれぞれ3分加熱乾燥させ、PETフィルムを支持体とする2層の樹脂シートを得た。この2層の樹脂シートから、PETフィルムを剥離除去し、単層の樹脂シート(加熱硬化前の厚み50μm)を得た。得られた樹脂シートを、18μmの圧延銅箔(ジャパンエナジー株式会社の商品名“BHY−22B−T”)で樹脂表面と銅箔粗化面とが接するように挟み込み、温度230℃、圧力3MPaの条件で1時間加熱加圧して銅箔積層体(単層の樹脂シートを圧延銅箔で挟持したもの)を得た。   This resin solution was cast on the surface of a 125 μm-thick PET film (trade name “Therapy HP” from Toyo Metallizing Co., Ltd.). Thereafter, it was heated and dried for 3 minutes at 60 ° C., 80 ° C., 100 ° C., 120 ° C. and 140 ° C. in a hot air oven to obtain a two-layer resin sheet using a PET film as a support. From this two-layer resin sheet, the PET film was peeled and removed to obtain a single-layer resin sheet (thickness before heat curing 50 μm). The obtained resin sheet is sandwiched between 18 μm rolled copper foil (trade name “BHY-22B-T” of Japan Energy Co., Ltd.) so that the resin surface is in contact with the roughened copper foil, and the temperature is 230 ° C. and the pressure is 3 MPa. A copper foil laminate (single layer resin sheet sandwiched between rolled copper foils) was obtained by heating and pressurizing for 1 hour under the above conditions.

このようにして得られた、両面に銅箔層を有する銅箔積層体について、半田耐熱性を評価した。また、得られた銅箔積層体の銅箔をエッチングにより除去し、硬化シートを得た。この硬化シートについて、誘電特性、燃焼性およびガラス転移温度(Tg)を測定した。半田耐熱性の評価方法は次の通りである。また、誘電特性、燃焼性およびガラス転移温度は、実施例2と同様の方法および条件で測定した。その結果を表2に示す。   The thus obtained copper foil laminate having copper foil layers on both sides was evaluated for solder heat resistance. Moreover, the copper foil of the obtained copper foil laminated body was removed by etching, and the cured sheet was obtained. The cured sheet was measured for dielectric properties, flammability, and glass transition temperature (Tg). The evaluation method of solder heat resistance is as follows. The dielectric properties, flammability and glass transition temperature were measured by the same method and conditions as in Example 2. The results are shown in Table 2.

(半田耐熱性)
銅箔積層体から長さ30mm、幅15mmの試験片を切り出し、この試験片を温度22.5〜23.5℃、湿度39.5〜40.5%の環境下で24時間放置した。そして、288℃の溶融半田に試験片を1分間ディップし、片側の銅箔のみをエッチングした。その後、目視にて樹脂部分を観察し、発泡や膨れ等の異常がなければ合格とし、20検体中の不合格数を調べた。
(Solder heat resistance)
A test piece having a length of 30 mm and a width of 15 mm was cut out from the copper foil laminate, and the test piece was left in an environment of a temperature of 22.5 to 23.5 ° C. and a humidity of 39.5 to 40.5% for 24 hours. Then, the test piece was dipped in molten solder at 288 ° C. for 1 minute, and only the copper foil on one side was etched. Thereafter, the resin portion was visually observed, and if there was no abnormality such as foaming or swelling, it was determined to be acceptable, and the number of failures in 20 samples was examined.

比較例2(樹脂組成物の調製)
実施例2で製造したシアナト基含有環状ホスファゼン化合物に代えて、比較例1で製造した環状ホスファゼン化合物25.0gを使用した点を除き、実施例3〜4と同様にして樹脂組成物を得た。この樹脂組成物を用いて、実施例3〜4と同様の方法および条件により銅箔積層体および硬化シートを得、半田耐熱性、誘電特性、燃焼性およびガラス転移温度を評価した。その結果を表2に示す。
Comparative Example 2 (Preparation of resin composition)
A resin composition was obtained in the same manner as in Examples 3 to 4, except that 25.0 g of the cyclic phosphazene compound produced in Comparative Example 1 was used instead of the cyanato group-containing cyclic phosphazene compound produced in Example 2. . Using this resin composition, a copper foil laminate and a cured sheet were obtained by the same method and conditions as in Examples 3 to 4, and solder heat resistance, dielectric properties, combustibility, and glass transition temperature were evaluated. The results are shown in Table 2.

Figure 0005137105
Figure 0005137105

表2から明らかなように、実施例3〜4の樹脂組成物からなる硬化物は、比較例2に比べ、ギガヘルツ帯の周波数において低い誘電率と優れた誘電正接を示し、また、高いガラス転移温度と優れた半田耐熱性を示している。   As is clear from Table 2, the cured product comprising the resin compositions of Examples 3 to 4 showed a low dielectric constant and an excellent dielectric loss tangent at a gigahertz band frequency as compared with Comparative Example 2, and had a high glass transition. Shows temperature and excellent solder heat resistance.

実施例5〜6(樹脂組成物の調製)
合成例2で得られた2官能PPEオリゴマー(水酸基当量:455g/eq)20.0g、表3に示すシアナト基含有環状ホスファゼン化合物および 2,2’−ビス(4−シアナトフェニル)プロパン(Lonza社の商品名“BADCy”)50.0gをジオキソランに溶解し、樹脂溶液(樹脂組成物)を得た。
Examples 5 to 6 (Preparation of resin composition)
20.0 g of the bifunctional PPE oligomer obtained in Synthesis Example 2 (hydroxyl equivalent: 455 g / eq), a cyanato group-containing cyclic phosphazene compound shown in Table 3, and 2,2′-bis (4-cyanatophenyl) propane (Lonza) 50.0 g of a trade name “BADCy” of the company was dissolved in dioxolane to obtain a resin solution (resin composition).

この樹脂溶液を、125μm厚のPETフィルム(東洋メタライジング株式会社の商品名“セラピールHP”)の表面上にキャストした。その後、熱風オーブンにて60℃、80℃、100℃、120℃および140℃の各温度でそれぞれ3分間加熱乾燥させ、PETフィルムを支持体とする2層の樹脂シートを得た。この2層の樹脂シートから、PETフィルムを剥離除去し、単層の樹脂シート(加熱硬化前の厚みは50μm)を得た。得られた樹脂シートを、18μmの圧延銅箔(ジャパンエナジー株式会社の商品名“BHY−22B−T”)で樹脂表面と銅箔粗化面とが接するように挟み込み、温度230℃、圧力3MPaの条件で1時間加熱加圧して銅箔積層体(単層樹脂シートを圧延銅箔で挟持したもの)を得た。そして、この銅箔積層体について、実施例3〜4と同様の方法で半田耐熱性を評価した。また、銅箔積層体の銅箔をエッチングにより除去して得られた硬化シートについて、実施例3〜4と同様の方法により、誘電特性、燃焼性およびガラス転移温度を測定した。その結果を表3に示す。   This resin solution was cast on the surface of a 125 μm-thick PET film (trade name “Therapy HP” from Toyo Metallizing Co., Ltd.). Thereafter, it was heated and dried for 3 minutes at 60 ° C., 80 ° C., 100 ° C., 120 ° C. and 140 ° C. in a hot air oven to obtain a two-layer resin sheet using a PET film as a support. The PET film was peeled and removed from the two-layer resin sheet to obtain a single-layer resin sheet (thickness before heat curing was 50 μm). The obtained resin sheet is sandwiched between 18 μm rolled copper foil (trade name “BHY-22B-T” of Japan Energy Co., Ltd.) so that the resin surface is in contact with the roughened copper foil, and the temperature is 230 ° C. and the pressure is 3 MPa. A copper foil laminate (single layer resin sheet sandwiched between rolled copper foils) was obtained by heating and pressing for 1 hour under the above conditions. And about this copper foil laminated body, the solder heat resistance was evaluated by the method similar to Examples 3-4. Moreover, about the hardening sheet obtained by removing the copper foil of a copper foil laminated body by an etching, the dielectric property, the combustibility, and the glass transition temperature were measured by the method similar to Examples 3-4. The results are shown in Table 3.

比較例3(樹脂組成物の調製)
実施例2で製造したシアナト基含有環状ホスファゼン化合物に代えて、比較例1で製造した環状ホスファゼン化合物30.0gを使用した点を除き、実施例5と同様にして樹脂組成物を得た。この樹脂組成物を用いて、実施例5〜6と同様の方法および条件により銅箔積層体および硬化シートを得、半田耐熱性、誘電特性、燃焼性およびガラス転移温度を評価した。その結果を表3に示す。
Comparative Example 3 (Preparation of resin composition)
A resin composition was obtained in the same manner as in Example 5 except that 30.0 g of the cyclic phosphazene compound produced in Comparative Example 1 was used instead of the cyanato group-containing cyclic phosphazene compound produced in Example 2. Using this resin composition, a copper foil laminate and a cured sheet were obtained by the same method and conditions as in Examples 5 to 6, and solder heat resistance, dielectric properties, flammability, and glass transition temperature were evaluated. The results are shown in Table 3.

Figure 0005137105
Figure 0005137105

表3から明らかなように、実施例5〜6の樹脂組成物からなる硬化物は、比較例3と比べ、ギガヘルツ帯の周波数において低い誘電率と優れた誘電正接を示し、また、高いガラス転移温度と優れた半田耐熱性を示している。   As is clear from Table 3, the cured product comprising the resin compositions of Examples 5 to 6 showed a low dielectric constant and an excellent dielectric loss tangent at a gigahertz band frequency as compared with Comparative Example 3, and a high glass transition. Shows temperature and excellent solder heat resistance.

Claims (10)

下記の式(1)で表されるシアナト基含有環状ホスファゼン化合物。
Figure 0005137105
(式(1)中、nは3〜15の整数を示し、Aは下記のA1基、A2基およびA3基からなる群から選ばれた基を示しかつ少なくとも一つがA3基である。
A1基:炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数が1〜8のアルコキシ基。
A2基:炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数6〜20のアリールオキシ基。
A3基:下記の式(2)で示されるシアナトフェニル置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
Figure 0005137105
式(2)中、XからXは、それぞれ独立して水素原子、アルキル基若しくはアリール基を示す。)
A cyanato group-containing cyclic phosphazene compound represented by the following formula (1).
Figure 0005137105
(In the formula (1), n represents an integer of 3 to 15, A represents a group selected from the group consisting of the following A1, A2, and A3 groups, and at least one is an A3 group.
A1 group: an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, which may be substituted with at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group.
A2 group: an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms in which at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.
Group A3: a group selected from the group consisting of a cyanatophenyl-substituted phenyloxy group represented by the following formula (2).
Figure 0005137105
In formula (2), X 1 to X 8 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. )
式(1)において、2n個のAのうちの1〜(2n−2)個がA3基である、請求項1に記載のシアナト基含有環状ホスファゼン化合物。   The cyanate group-containing cyclic phosphazene compound according to claim 1, wherein in formula (1), 1 to (2n-2) of 2n A are A3 groups. 式(1)のnが3若しくは4である、請求項1または2に記載のシアナト基含有環状ホスファゼン化合物。   The cyanate group-containing cyclic phosphazene compound according to claim 1 or 2, wherein n in formula (1) is 3 or 4. 式(1)のnが異なる二種以上のシアナト基含有環状ホスファゼン化合物を含む、請求項1から3のいずれかに記載のシアナト基含有環状ホスファゼン化合物。   The cyanato group-containing cyclic phosphazene compound according to any one of claims 1 to 3, comprising two or more cyanato group-containing cyclic phosphazene compounds having different n in the formula (1). 下記の式(3)で表される環状ホスホニトリルジハライドの全ハロゲン原子を、少なくとも一つが下記のE3基により置換されるよう下記のE1基、E2基およびE3基からなる群から選ばれた基により置換し、ホルミル基含有環状ホスホニトリル置換体を製造する工程と、
Figure 0005137105
(式(3)中、nは3〜15の整数を示し、Xはハロゲン原子を示す。
E1基:炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数が1〜8のアルコキシ基。
E2基:炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数6〜20のアリールオキシ基。
E3基:下記の式(4)で示されるホルミル基置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。)
Figure 0005137105
前記、ホルミル基(E3基:ホルミル基置換フェニルオキシ基)含有環状ホスホニトリル置換体と下記の式(5)で表されるフェノール類とを反応させ、下記のE4基で表されるヒドロキシル基含有環状ホスホニトリル置換体を製造する工程と、
Figure 0005137105
(式(5)中、XからX13は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基若しくはアリール基を示す。
E4基:下記の式(6)で示されるヒドロキシル基置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
Figure 0005137105
式(6)中、XからXは、それぞれ独立して水素原子、アルキル基若しくはアリール基を示す。)
前記ヒドロキシル基含有環状ホスホニトリル置換体とハロゲン化シアンとを反応させる工程と、を含むシアナト基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法。
Selected from the group consisting of the following E1, E2, and E3 groups such that at least one of the halogen atoms of the cyclic phosphonitrile dihalide represented by the following formula (3) is substituted by the following E3 group: Substituting with a group to produce a formyl group-containing cyclic phosphonitrile substitution product,
Figure 0005137105
(In formula (3), n represents an integer of 3 to 15, and X represents a halogen atom.
E1 group: An alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms in which at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.
E2 group: an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms in which at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.
E3 group: a group selected from the group consisting of a formyl group-substituted phenyloxy group represented by the following formula (4). )
Figure 0005137105
The above-mentioned formyl group (E3 group: formyl group-substituted phenyloxy group) -containing cyclic phosphonitrile substituted product is reacted with a phenol represented by the following formula (5) to contain a hydroxyl group represented by the following E4 group Producing a cyclic phosphonitrile substitution product;
Figure 0005137105
(In formula (5), X 9 to X 13 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.
E4 group: a group selected from the group consisting of a hydroxyl group-substituted phenyloxy group represented by the following formula (6).
Figure 0005137105
In formula (6), X 1 to X 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. )
And a step of reacting the hydroxyl group-containing cyclic phosphonitrile substituted product with cyanogen halide. A method for producing a cyanato group-containing cyclic phosphazene compound.
樹脂成分と、請求項1から4のいずれかに記載のシアナト基含有環状ホスファゼン化合物と、を含む樹脂組成物。   A resin composition comprising a resin component and the cyanato group-containing cyclic phosphazene compound according to any one of claims 1 to 4. 前記樹脂成分が、シアン酸エステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ビスマレイミド樹脂、ビスマレイミド−シアン酸エステル樹脂および変性ポリフェニレンエーテル樹脂からなる群から選ばれたものである、請求項6に記載の樹脂組成物。   The resin according to claim 6, wherein the resin component is selected from the group consisting of a cyanate ester resin, an epoxy resin, a polyimide resin, a bismaleimide resin, a bismaleimide-cyanate ester resin, and a modified polyphenylene ether resin. Composition. 請求項6または7に記載の樹脂組成物からなる樹脂成形体。   The resin molding which consists of a resin composition of Claim 6 or 7. 請求項1から4のいずれかに記載のシアナト基含有環状ホスファゼン化合物を含む、重合性組成物。   A polymerizable composition comprising the cyanato group-containing cyclic phosphazene compound according to claim 1. 請求項9に記載の重合性組成物の重合物からなる樹脂成形体。   The resin molding which consists of a polymer of the polymeric composition of Claim 9.
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