JP2015013251A - ノズルおよびノズルの製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】 開口の形状をより一定に保つ要求に応えるノズルおよびノズルの製造方法を提供する。【解決手段】 本発明の一形態におけるノズル1は、長手方向に貫通しているとともに液体が流れる貫通孔2を有し、単結晶炭化ケイ素からなる筒体3を備え、貫通孔2は、筒体の一端部に開口しているとともに開口4の幅が20μm以下である第1貫通部5と、第1貫通部5につながっているとともに第1貫通部5に向かって幅が小さくなっている第2貫通部6とを含んでいる。【選択図】 図1

Description

本発明は、液体が流れるノズルおよびノズルの製造方法に関する。
従来、様々な用途に液体が流れるノズルが用いられている。
例えば特許文献1には、繊維を製造する用途に用いられ、溶融した原料からなる液体を開口から排出して紡糸する、金属製(ステンレス鋼)のノズルが記載されている。
このような金属製のノズルは熱膨張率が高いため、高温でノズルを使用すると、ノズルが熱膨張しやすい。したがって、ノズルの開口の形状が変化しやすいため、ノズルの開口から排出される液体の形状が変化しやすい。液体の形状が変化すると、所望の形状の繊維が得られなくなる。
したがって、開口の形状をより一定に保つことができるノズルが要求されている。
特開平2−74620号公報
本発明は、開口の形状をより一定に保つ要求に応えるノズルおよびノズルの製造方法を提供するものである。
本発明の一形態におけるノズルは、長手方向に貫通しているとともに液体が流れる貫通孔を有し、単結晶炭化ケイ素からなる筒体を備え、前記貫通孔は、前記筒体の一端部に開口しているとともに該開口の幅が20μm以下である第1貫通部と、該第1貫通部につながっているとともに前記第1貫通部に向かって幅が小さくなっている第2貫通部とを含んでいる。
本発明の一形態におけるノズルの製造方法は、炭素からなる柱状体を準備する工程と、化学蒸着を用いて、前記柱状体の側面および一端部に単結晶炭化ケイ素を被着させることによって、前記柱状体に対応した形状の第2貫通部を有するとともに前記単結晶炭化ケイ素からなる筒体を形成する工程と、前記柱状体を酸化することによって、前記筒体の前記第2貫通部から前記柱状体を除去する工程と、反応性イオンエッチングまたはフォーカスイオンビームを用いて、前記筒体の一端部に第1貫通部を形成することによって、前記筒体の一端部に開口した前記第1貫通部、および該第1貫通部につながった前記第2貫通部を含んでおり、前記筒体を長手方向に貫通しているとともに前記液体が流れる貫通孔を形成する工程とを備えている。
本発明の一形態におけるノズルによれば、熱膨張率が小さい単結晶炭化ケイ素からなる筒体を備えているため、ノズルを高温で使用した際にノズルが熱膨張しにくいため、開口の形状をより一定に保つことができる。
本発明の一形態におけるノズルの製造方法によれば、熱膨張率が小さい単結晶炭化ケイ素からなる筒体を備えたノズルを作製することができるため、開口の形状をより一定に保つことができるノズルを作製することができる。
(a)は、本発明の一形態におけるノズルの長手方向に沿った断面図であり、(b)は、(a)に示したノズルの一端部の拡大図である。 (a)ないし(e)は、図1(a)に示すノズルの製造工程を説明する断面図である。 (a)ないし(c)は、図1(a)に示すノズルの製造工程を説明する、ノズルの一端部を拡大した断面図である。
以下に、本発明の一実施形態におけるノズルについて、図面を参照して詳細に説明する。
図1(a)および(b)に示したノズル1は、様々な用途に用いられるものであり、例えば、繊維の溶融した原料、溶融した金属またはジェット水流用の水などといった液体が流れるものである。このノズル1は、長手方向(Z方向)に貫通しているとともに液体が流れる貫通孔2を有し、単結晶炭化ケイ素からなる筒体3を備える。
筒体3は、ノズル1の主要部分をなすものである。この筒体3は、例えば円筒状である。貫通孔2の外側における筒体3の厚み(X方向)は、例えば100μm以上700μm以下である。
貫通孔2は、筒体3の内部にて液体が流れる部分である。この貫通孔2は、図1(a)および(b)に示すように、筒体3の一端部に開口しているとともに開口4の幅(直径)が20μm以下である第1貫通部5と、第1貫通部5につながっているとともに第1貫通部5に向かって幅が小さくなっている第2貫通部6と、第1貫通部5とは反対側にて第2貫通部6につながった第3貫通部とを含んでいる。
第1貫通部5は、開口4から液体を排出する部分である。この第1貫通部5における開口4の幅は、20μm以下と微細であるため、開口4から排出される液体を微細化することができる。また、このように開口4の幅が微細であるため、開口4から排出される液体の圧力を高め、開口4から排出される液体の変形を低減することができる。第1貫通部5は、例えば円柱状である。第1貫通部5のアスペクト比(高さ/幅)は、例えば0.5以上5以下である。
第2貫通部6は、第1貫通部5に液体を供給する部分である。この第2貫通部6は、第1貫通部5に向かって幅が小さくなっているため、第1貫通部5に液体を供給する際の圧力の損失を小さくし、開口4から排出される液体の圧力を高めることができる。第2貫通部6は、例えば、円錐状などの漏斗状である。
第3貫通部7は、外部から供給された液体を第2貫通部6に供給する部分である。この第3貫通部7は、例えば円柱状である。第3貫通部7の幅は、例えば500μm以上1000μm以下である。
ここで、本実施形態において、筒体3は、単結晶炭化ケイ素からなる。その結果、金属および他のセラミックスと比較して熱膨張率が低い炭化ケイ素からなるとともに、多結晶体と比較してボイドや結晶粒界が少ないことから熱膨張率が低い単結晶体からなるため、
筒体3の熱膨張率を小さくすることができる。したがって、ノズル1を高温で使用する際に、筒体3の熱膨張を低減することができるため、開口4の形状をより一定に保つことができる。
また、筒体3は、他のセラミックスと比較して熱伝導率が高い炭化ケイ素からなるとともに、多結晶体と比較してボイドや結晶粒界が少ないことから熱伝導率が高い単結晶体からなるため、筒体3の熱伝導率を高めることができる。したがって、筒体3を高温で加熱する際に筒体3に加わった熱が貫通孔2内の液体に伝わりやすいため、例えば繊維の原料または金属などが溶融して液体となった状態を良好に維持することができる。
また、筒体3は、貫通孔2の内面に露出しており、多結晶体と比較してボイドが少ない単結晶体からなることから、このボイドの開口4への露出に起因した開口4の変形を低減し、開口4の形状をより一定に保つことができる。また、第1貫通部5の内面に露出したボイドに液体が入り込むことを低減できるため、液体の圧力の損失を低減することができる。
また、筒体3は、金属と比較して耐摩耗性が高い単結晶炭化ケイ素からなるため、開口4の摩耗を低減し、開口4の形状をより一定に保つことができる。
本実施形態において、筒体3は、単結晶炭化ケイ素の化学蒸着膜(CVD膜)からなる。その結果、単結晶炭化ケイ素からなる筒体3を容易に作製することができる。
本実施形態において、筒体3は、反応性イオンエッチングまたはフォーカスイオンビームによって形成されている。その結果、単結晶炭化ケイ素からなる筒体3に、開口が20μm以下と微細な第1貫通部5を容易に形成することができる。
本実施形態において、第1貫通部5および第2貫通部6の内面における算術平均粗さ(Ra)は、10μm以下である。その結果、第1貫通部5および第2貫通部6の内面をより平滑にすることによって、開口4から排出される液体の変形を低減することができる。
次に、前述した本実施形態のノズル1の製造方法について、図面を参照しつつ詳細に説明する。
(1)図2(a)に示すように、炭素からなる柱状体8を準備する。この炭素からなる柱状体8としては、例えば黒鉛からなるものを用いることができる。また、柱状体8は、第2貫通部6および第3貫通部7に対応した形状である。この柱状体8は、例えば以下のようにして形成することができる。まず、CIP(冷間静水圧プレス)を用いて原料粉末を成形した後、焼成および黒鉛化を行なう。そして、機械加工を行なうことによって、所望の形状の柱状体8を得ることができる。
(2)図2(b)に示すように、化学蒸着(CVD)を用いて、柱状体8の側面および一端部に単結晶炭化ケイ素を被着させることによって、柱状体8に対応した形状の第2貫通部6および第3貫通部7を有するとともに単結晶炭化ケイ素からなる筒体3を形成する。このように化学蒸着を用いると、柱状体8の表面にて結晶成長するため、単結晶を容易に形成することができる。
(3)図2(c)に示すように、柱状体8を酸化することによって、筒体3の第2貫通部6および第3貫通部7から柱状体8を除去する。柱状体8の酸化は、大気雰囲気または酸素雰囲気で例えば500℃で加熱することによって行なうことができる。柱状体8を酸化すると、柱状体8を構成する炭素が二酸化炭素となるため、柱状体8が消失する。
(4)図2(d)に示すように、ダイヤモンドツールなどによる研削加工を用いて、筒体3の外形形状を所望のものとする。
(5)図2(e)に示すように、反応性イオンエッチングまたはフォーカスイオンビームを用いて、筒体3の一端部に第1貫通部5を形成することによって、筒体3の一端部に開口した第1貫通部5、第1貫通部5につながった第2貫通部6、および第1貫通部5とは反対側にて第2貫通部6につながった第3貫通部7を含んでおり、筒体3を長手方向に貫通しているとともに液体が流れる貫通孔2を形成する。
反応性イオンエッチングは、具体的には以下のように行なう。
まず、図3(a)に示すように、例えばスパッタリングを用いて金属薄膜からなるマスク9を筒体3の一端部に形成する。マスク9は、所望の形状にパターニングされており、筒体3の開口4に対応する領域は、マスク9に被覆されておらず、マスク9から露出している。次に、図3(b)に示すように、筒体3の一端部に反応性イオンエッチングを行なうことによって、マスク9から露出した領域をエッチングし、第1貫通部5を形成する。反応性イオンエッチングのガスとしては、炭化ケイ素を選択的にエッチングするものを用いることができ、例えばフッ素系ガス、塩素系ガスを用いることができる。次に、図3(c)に示すように、金属薄膜を選択的にエッチングする薬液を用いて、筒体3の一端部からマスク9を化学的に除去する。
また、フォーカスイオンビームは、具体的には以下のように行なう。
筒体3の開口4に対応する領域にイオンビームを照射し、イオンビームの熱量で単結晶炭化ケイ素を溶かすことによって、第1貫通部5を形成する。
以上のようにして、図1(a)および(b)に示したノズル1を作製することができる。
前述した本実施形態のノズル1の製造方法において、工程(1)〜(3)にて、化学蒸着を用いて単結晶炭化ケイ素を柱状体8に被着させているため、柱状体8に対応した形状からなる第2貫通部6および第3貫通部7を有するとともに単結晶炭化ケイ素からなる筒体3を容易に形成することができる。また、炭素からなる柱状体8を酸化しているため、第2貫通部6および第3貫通部7から柱状体8を容易に除去し、第2貫通部6および第3貫通部7に液体が流れることを可能とすることができる。
ここで、炭素からなる柱状体8は強度が非常に低いため、機械加工を用いて第1貫通部5に対応する微細な形状を柱状体8に形成することは困難であるが、本実施形態のノズル1の製造方法においては、工程(5)にて、反応性イオンエッチングまたはフォーカスイオンビームを用いて第1貫通部5を形成しているため、第1貫通部5を容易に形成することができる。
また、単結晶炭化ケイ素は硬度および強度が非常に高いため、ドリルを用いると開口4の幅が小さい第1貫通部5を形成することは困難であるが、本実施形態のノズル1の製造方法においては、工程(5)にて、反応性イオンエッチングまたはフォーカスイオンビームを用いているため、開口4の幅が20μm以下といった微細な第1貫通部5を容易に形成することができる。
また、本実施形態においては、工程(3)の後に、工程(5)を行なっているため、第
1貫通部5における柱状体8を構成していた炭素の残留を低減し、この炭素による液体の汚染を低減することができる。
本発明は前述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更、改良、組合せなどが可能である。
例えば、前述した実施形態においては、貫通孔2が第3貫通部7を有する構成を例に説明したが、貫通孔2は第3貫通部7を有していなくても構わない。
また、前述した実施形態においては、工程(3)の後に工程(5)を行なう構成を例に説明したが、工程(5)を行なった後に工程(3)を行なっても構わない。
1 ノズル
2 貫通孔
3 筒体
4 開口
5 第1貫通部
6 第2貫通部
7 第3貫通部
8 柱状体
9 マスク

Claims (4)

  1. 長手方向に貫通しているとともに液体が流れる貫通孔を有し、単結晶炭化ケイ素からなる筒体を備え、
    前記貫通孔は、前記筒体の一端部に開口しているとともに該開口の幅が20μm以下である第1貫通部と、該第1貫通部につながっているとともに前記第1貫通部に向かって幅が小さくなっている第2貫通部とを含んでいることを特徴とするノズル。
  2. 請求項1に記載のノズルにおいて、
    前記筒体は、前記単結晶炭化ケイ素の化学蒸着膜からなることを特徴とするノズル。
  3. 請求項1に記載のノズルにおいて、
    前記第1貫通部は、反応性イオンエッチングまたはフォーカスイオンビームによって形成されたことを特徴とするノズル。
  4. 炭素からなる柱状体を準備する工程と、
    化学蒸着を用いて、前記柱状体の側面および一端部に単結晶炭化ケイ素を被着させることによって、前記柱状体に対応した形状の第2貫通部を有するとともに前記単結晶炭化ケイ素からなる筒体を形成する工程と、
    前記柱状体を酸化することによって、前記筒体の前記第2貫通部から前記柱状体を除去する工程と、
    反応性イオンエッチングまたはフォーカスイオンビームを用いて、前記筒体の一端部に第1貫通部を形成することによって、前記筒体の一端部に開口した前記第1貫通部、および該第1貫通部につながった前記第2貫通部を含んでおり、前記筒体を長手方向に貫通しているとともに前記液体が流れる貫通孔を形成する工程とを備えたことを特徴とするノズルの製造方法。
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54161417U (ja) * 1978-04-28 1979-11-12
JPH05200328A (ja) * 1992-01-23 1993-08-10 Riken Corp 燃料噴射ノズル
JPH07331527A (ja) * 1994-06-07 1995-12-19 Mitsubishi Rayon Co Ltd セルロースアセテート繊維の製造方法
JPH10287495A (ja) * 1997-04-14 1998-10-27 Toshiba Ceramics Co Ltd 高純度炭化珪素質半導体処理部材及びその製造方法
JP2003034867A (ja) * 2001-07-27 2003-02-07 Tokai Carbon Co Ltd 管状SiC成形体およびその製造方法
JP2006151721A (ja) * 2004-11-26 2006-06-15 Kyocera Corp 粒状結晶の製造装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54161417U (ja) * 1978-04-28 1979-11-12
JPH05200328A (ja) * 1992-01-23 1993-08-10 Riken Corp 燃料噴射ノズル
JPH07331527A (ja) * 1994-06-07 1995-12-19 Mitsubishi Rayon Co Ltd セルロースアセテート繊維の製造方法
JPH10287495A (ja) * 1997-04-14 1998-10-27 Toshiba Ceramics Co Ltd 高純度炭化珪素質半導体処理部材及びその製造方法
JP2003034867A (ja) * 2001-07-27 2003-02-07 Tokai Carbon Co Ltd 管状SiC成形体およびその製造方法
JP2006151721A (ja) * 2004-11-26 2006-06-15 Kyocera Corp 粒状結晶の製造装置

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