JP2015009913A - 保管設備 - Google Patents

保管設備 Download PDF

Info

Publication number
JP2015009913A
JP2015009913A JP2013134269A JP2013134269A JP2015009913A JP 2015009913 A JP2015009913 A JP 2015009913A JP 2013134269 A JP2013134269 A JP 2013134269A JP 2013134269 A JP2013134269 A JP 2013134269A JP 2015009913 A JP2015009913 A JP 2015009913A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
storage
supply
inert gas
storage unit
storage units
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013134269A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5884780B2 (ja
Inventor
正裕 高原
Masahiro Takahara
正裕 高原
俊人 上田
Toshito Ueda
俊人 上田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daifuku Co Ltd
Original Assignee
Daifuku Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Daifuku Co Ltd filed Critical Daifuku Co Ltd
Priority to JP2013134269A priority Critical patent/JP5884780B2/ja
Priority to TW103116824A priority patent/TWI621199B/zh
Priority to KR1020140063031A priority patent/KR102201785B1/ko
Priority to SG10201402797TA priority patent/SG10201402797TA/en
Priority to US14/307,955 priority patent/US9595461B2/en
Priority to CN201410287375.0A priority patent/CN104249896B/zh
Publication of JP2015009913A publication Critical patent/JP2015009913A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5884780B2 publication Critical patent/JP5884780B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67763—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
    • H01L21/67769—Storage means
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C13/00—Details of vessels or of the filling or discharging of vessels
    • F17C13/02—Special adaptations of indicating, measuring, or monitoring equipment
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/6735—Closed carriers
    • H01L21/67389—Closed carriers characterised by atmosphere control
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/6735—Closed carriers
    • H01L21/67389—Closed carriers characterised by atmosphere control
    • H01L21/67393—Closed carriers characterised by atmosphere control characterised by the presence of atmosphere modifying elements inside or attached to the closed carrierl
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2221/00—Handled fluid, in particular type of fluid
    • F17C2221/01—Pure fluids
    • F17C2221/014—Nitrogen
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2227/00—Transfer of fluids, i.e. method or means for transferring the fluid; Heat exchange with the fluid
    • F17C2227/04—Methods for emptying or filling
    • F17C2227/044—Methods for emptying or filling by purging
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2250/00—Accessories; Control means; Indicating, measuring or monitoring of parameters
    • F17C2250/03—Control means
    • F17C2250/032—Control means using computers
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2270/00—Applications
    • F17C2270/05—Applications for industrial use
    • F17C2270/0518—Semiconductors
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2270/00—Applications
    • F17C2270/05—Applications for industrial use
    • F17C2270/059—Mass bottling, e.g. merry belts
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T137/00—Fluid handling
    • Y10T137/0318—Processes
    • Y10T137/0402—Cleaning, repairing, or assembling
    • Y10T137/0419—Fluid cleaning or flushing
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T137/00—Fluid handling
    • Y10T137/4238—With cleaner, lubrication added to fluid or liquid sealing at valve interface
    • Y10T137/4245—Cleaning or steam sterilizing
    • Y10T137/4259—With separate material addition

Abstract

【課題】収納部が設置される設置空間において不活性気体の濃度が局所的に高くなることを抑制できる保管設備を提供する。【解決手段】複数の収納部１０Ｓにおける不活性気体の供給状態を監視して、複数の供給量調節装置４０を制御し、複数の収納部１０Ｓを複数の監視エリアに分けて複数の収納部１０Ｓにおける不活性気体の供給状態を監視し、複数の監視エリアの夫々に属する収納部１０Ｓへの不活性気体の供給状態が、予め定められた設定制限条件を満たすように、複数の供給量調節装置４０を制御する。【選択図】図２

Description

本発明は、容器を収納自在な複数の収納部と、前記複数の収納部の夫々に不活性気体を供給する不活性気体供給路と、を備え、前記複数の収納部の夫々に、前記不活性気体供給路から供給された不活性気体を前記収納部に収納された前記容器の内部に吐出する吐出部と、前記収納部に収納された前記容器の内部に前記吐出部から不活性気体が吐出された場合に、当該容器の内部の気体を当該容器の外部に排出する排出部と、を備えている保管設備に関する。
かかる保管設備の従来例として、容器を収納自在な複数の収納部と、複数の収納部の夫々に窒素ガスやアルゴンガス等の不活性気体を供給する不活性気体供給路とを備えて、不活性気体供給路にて不活性気体を吐出部に供給し、当該吐出部から不活性気体を吐出して収納部に収納されている容器内に不活性気体を供給するものが知られている（例えば、特許文献１参照。）。
上記特許文献１の保管設備では、容器を収納部に収納したときに不活性気体を容器内に供給することで、半導体基板の品質管理に不都合な酸素ガスや水蒸気等を排気部から容器内の外部に排出させて、容器に収容された半導体基板の酸化等の不具合が生じることを抑制するようになっている。
このように、従来の保管設備として、収納部に収納されている容器内に不活性気体を供給し、容器内の気体を排気して、容器内の物品の品質劣化の防止を図るものが知られている。
特開２０１０−１６１９９号公報
収納部に収納されている容器内に不活性気体を供給した場合に、その不活性気体の容器内への供給に伴って、容器の内部に存在している気体が容器から排出される。このように排出された気体は、容器の排気口から直接に、又は、容器と蓋の隙間を介して、容器が収納されている収納部に排出される。この収納部に排出される気体は、容器内への不活性気体の供給が継続されることで容器内の気体が不活性気体に置換されるに伴って、収納部には不活性気体が排出される。
そして、２以上の収納部に不活性気体を供給する場合に、それらの収納部が集まっていると、その集まっている収納部において不活性気体が排出されて、局所的に不活性気体の濃度が高くなる。換言すれば、局所的に酸素濃度が低くなる。
ところで、このような保管設備では、周囲で作業する作業者等への影響を考慮して酸素濃度の低下を抑制することが望まれている。そこで、例えば、収納部が設置される収納空間の酸素濃度を検出するセンサを設け、その収納空間の酸素濃度が規定値以下となった場合に、複数の収納部に対する不活性気体の供給を停止させるように構成する場合がある。
しかし、設置空間の全体では酸素濃度がそれほど低くなくても、センサを設けた箇所で局所的に酸素濃度が低下することで、不活性気体の供給が停止するため、必要以上に不活性気体の供給を停止させてしまうという不具合がある。
そのため、局所的に不活性気体の濃度が高くなることを抑制することが望まれている。
上記実状に鑑みると、収納部が設置される設置空間において不活性気体の濃度が局所的に高くなることを抑制できる保管設備が望まれている。
本発明に係る保管設備の特徴構成は、
容器を収納自在な複数の収納部と、
前記複数の収納部の夫々に不活性気体を供給する不活性気体供給路と、を備え、
前記複数の収納部の夫々に、
前記不活性気体供給路から供給された不活性気体を前記収納部に収納された前記容器の内部に吐出する吐出部と、
前記収納部に収納された前記容器の内部に前記吐出部から不活性気体が吐出された場合に、当該容器の内部の気体を当該容器の外部に排出する排出部と、を備えている保管設備において、
前記不活性気体供給路における、前記複数の収納部の夫々の前記吐出部の上流側に設けられ、夫々の前記吐出部への不活性気体の供給量を調節する複数の供給量調節装置と、
前記複数の収納部における不活性気体の供給状態を監視して、前記複数の供給量調節装置を制御する制御装置と、を備え、
前記制御装置は、前記複数の収納部を、互いに隣接する２以上の収納部からなる収納部群毎に設定した複数の監視エリアに分けて前記複数の収納部における不活性気体の供給状態を監視し、前記複数の監視エリアの夫々に属する前記収納部への不活性気体の供給状態が、予め定められた設定制限条件を満たすように、前記複数の供給量調節装置を制御する点にある。
この特徴構成によれば、制御装置は、複数の監視エリアの夫々に属する収納部への不活性気体の供給状態が、予め定められた設定制限条件を満たすように、複数の供給量調節装置を制御する。
設定制限条件としては、例えば、監視エリアに属する収納部群に対する不活性気体の合計供給量を設定値以下にすることや、監視エリアに属する収納部群に対する不活性気体を供給する収納部の数を合計設定数以下にすることや、監視エリアに属する収納部群に対する不活性気体を供給する収納部が連続して並ぶ数を連続設定数以下にすること等が考えられる。
互いに隣接する２以上の収納部からなる収納部群毎に設定した複数の監視エリアの夫々に対して、上述のような予め定められた設定制限条件を満たすように不活性気体を供給することで、監視エリアに属する収納部群における不活性気体の供給量を抑えることができる。これにより収納部が設置される設置空間において不活性気体の濃度が問題となるほど局所的に高くなることを抑制できる。
ちなみに、このように供給量を抑えることで供給されなくなった不活性気体を別の監視エリアに属する収納部群に供給することで、複数の収納部に対して分散して不活性気体を供給して均一化を図ることも可能である。
ここで、前記設定制限条件は、前記監視エリアの夫々における単位時間あたりの不活性気体の供給量を、予め定められた制限値以下に制限するように設定された条件であると好適である。
この構成によれば、複数の監視エリアの夫々に属する収納部群に対する単位時間当たりの不活性気体の供給量を設定値以下に制限される。そのため、各監視エリアにおける不活性気体の排出量を抑えることができ、局所的な不活性気体の濃度の高まりを抑制することができる。
また、前記複数の収納部に隣接して作業者用通路が設けられており、
前記監視エリアは、前記作業者用通路が延びる方向に沿って複数設定されていると好適である。
この構成によれば、監視エリアが、作業者用通路が延びる方向に沿って複数設定されており、その複数の監視エリアの夫々に対して、予め定められた設定制限条件を満たすように不活性気体を供給されている。そのため、作業者用通路が延びる方向に不活性気体を分散させることができ、不活性気体による作業者用通路を移動する作業者への影響を抑えることができる。
また、前記収納部は、上下方向及び左右方向の双方に夫々複数設けられ、
前記監視エリアの夫々が、上下方向及び左右方向の少なくとも一方について互いに隣接する２以上の収納部からなる前記収納部群に対して設定されていると好適である。
この構成によれば、収納部が、上下方向及び左右方向の双方に夫々複数設けられているため、容器の収納効率を高めることができる。
そして、監視エリアに属する収納部群は、上下方向又は左右方向に互いに隣接する２以上の収納部からなる。そのため、収納部群を集中して位置させることができる。
そして、集中して位置する収納部群に対して、予め定められた設定制限条件を満たすように不活性気体を供給することで、不活性気体の濃度が局所的に高くなることを抑制することができる。
また、前記監視エリアの夫々が、上下方向に１列に並んで互いに隣接する２以上の収納部からなる前記収納部群に対して設定されていると好適である。
不活性気体の比重が重い場合は、収納部において容器から排出された不活性気体は下方に流動するが、そのときに、当該収納部より下方に位置する収納部において排出されている不活性気体と合流しながら流動して不活性気体の濃度が高くなる恐れがある。また、複数の収納部を設けている設置空間においてダウンフローとなる気流を生じさせていることにより不活性気体が下方に流動する場合も同様である。
しかし、上述の構成によれば、複数の収納部に対して供給される不活性気体を収納部群が上下方向に並ぶ列単位で制限することができるため、上述のように不活性気体が下方に流動したとしても、局所的な不活性気体の濃度の高まりを抑制することができる。
また、前記設定制限条件は、前記監視エリアの夫々における、不活性気体が供給されている前記収納部の合計数が、予め定めた合計設定数以下となることであると好適である。
この構成によれば、複数の監視エリアの夫々における、不活性気体が供給されている収納部の合計数が、合計設定数以下となる。この合計設定数は、例えば、収納部１つにおける不活性気体の単位時間当たりの排出量を考慮して設定することが考えられる。そのため、各監視エリアにおける不活性気体の排出量を抑えることができ、局所的な不活性気体の濃度の高まりを抑制することができる。
また、前記設定制限条件は、上下方向及び左右方向の少なくとも一方について、前記収納部に不活性気体が供給されている前記収納部が連続する数が、予め定めた連続設定数以下となることであると好適である。
この構成によれば、複数の監視エリアの夫々における、不活性気体が供給されている収納部が連続する数が、合計設定数以下となる。そのため、各監視エリアにおける不活性気体の排出量を抑えながら、監視エリア内において不活性気体の排出を分散することができ、局所的な不活性気体の濃度の高まりを抑制することができる。
また、前記制御装置が、前記容器が前記収納部に収納されたことを条件として当該収納部に不活性気体を供給するように前記供給量調節装置を制御する供給処理と、
前記複数の収納部の一部又は全部に対する不活性気体の供給を停止するように前記供給量調節装置を制御する供給停止処理と、
前記供給停止処理を行った後に、前記供給停止処理により不活性気体の供給が停止された前記収納部のうちの供給再開対象の収納部に対して不活性気体を供給するように前記供給量調節装置を制御する供給再開処理と、を実行するように構成され、
前記供給再開処理では、前記供給再開対象の収納部に対して不活性気体の供給を再開した場合に、前記供給再開対象の収納部が属する前記監視エリアにおいて前記設定制限条件が満たされるように、前記供給再開対象となり得る全ての収納部のうちから一部又は全部の収納部を選択して前記供給再開対象の収納部とすると好適である。
この構成によれば、制御装置は、供給停止処理を実行し、その後、供給再開処理を実行するように構成されている。具体的な状況を例示して説明すると、収納部が設置される収納空間の酸素濃度を検出するセンサを設け、その収納空間の酸素濃度が規定値以下となった場合に、供給停止処理を行って、複数の収納部の一部又は全部に対する不活性気体の供給を停止させ、収納空間の酸素濃度が規定値を超える状況に回復すると、人為的に又は自動的に指令される許可指令に基づいて供給再開処理を実行して、不活性気体の供給が停止されていた収納部に対して不活性気体を供給することがある。
このような状況では、供給再開処理により不活性気体の供給が再開される収納部が多数あり、このような多数の収納部がある領域に集中していると、それらの収納部において不活性気体が排出される結果、局所的に不活性気体の濃度が高くなり、局所的に酸素濃度が低くなる恐れがある。
しかし、上記構成では、供給再開処理では、監視エリアにおいて設定制限条件が満たされるように、供給再開対象となり得る全ての収納部のうちから一部又は全部の収納部を選択する。そして、選択された供給再開対象の収納部に不活性気体が供給され、選択されず供給再開対象の収納部から外れた収納部には不活性気体が供給されない。そのため、供給再開処理を実行したとしても、局所的に不活性気体の濃度が高くならないようにできる。
また、前記制御装置が、前記複数の収納部の夫々についての前記容器が収納されてからの経過時間を管理し、前記供給再開処理において、前記供給再開対象となり得る全ての収納部の中から前記経過時間が短い前記収納部を優先して前記供給再開対象の収納部とすると好適である。
例えば、収納部に収納されてからの経過時間が長い容器については、不活性気体を供給するための時間的余裕があるため、容器に不活性気体が十分に供給されている可能性が高い。しかし、収納部に収納されてからの経過時間が短い容器については、不活性気体を供給するための時間的余裕がなく、容器に不活性気体が十分に供給されていない可能性が高い。
そのため、このような経過時間が短い収納部を優先して供給再開対象の収納部として不活性気体を供給することで、不活性気体が十分に供給されていない可能性が高い容器に早期に不活性気体を供給できる。
また、前記複数の収納部が設置される設置空間を覆う壁体が設けられていると好適である。
この構成によれば、不活性気体を壁体の外部に流動させないようにできる、又は、不活性気体を壁体の外部に流動させる場合でも決められた箇所から排出させることができるので、設置空間外に不活性気体を排出させる場合に、不活性気体の排出状態を管理し易い。
保管設備の縦断側面図 同設備の一部を示す縦断正面図 収納部の斜視図 収納部の正面図 区画への不活性気体の供給形態を示す図 制御ブロック図 窒素ガスのパージパターンを示す説明図 収納部に対して設定される上下監視エリアと左右監視エリアとを示す図 収納部に対して設定される列監視エリアを示す図 上限設定値１のときの上下監視エリアに対する窒素ガスの供給状態を示す図 上限設定値２のときの上下監視エリアに対する窒素ガスの供給状態を示す図 上限設定値３のときの上下監視エリアに対する窒素ガスの供給状態を示す図 上限設定値１のときの左右監視エリアに対する窒素ガスの供給状態を示す図 上限設定値２のときの左右監視エリアに対する窒素ガスの供給状態を示す図 上限設定値３のときの左右監視エリアに対する窒素ガスの供給状態を示す図 列監視エリアに対する窒素ガスの供給状態を示す図
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
図１に示すように、保管設備には、基板Ｗを密閉状態で収容する容器５０を収納自在な収納部１０Ｓを複数備えた保管棚１０と、容器５０を搬送するスタッカークレーン２０と、複数の収納部１０Ｓを備えた保管棚１０とスタッカークレーン２０とが設置される設置空間Ｓを覆う壁体Ｋと、壁体Ｋを貫通する状態で配設されて容器５０を載置搬送する入出庫コンベヤＣＶと、が設けられている。
尚、保管棚１０は対向する状態で一対設けられている。本実施形態では、基板Ｗを半導体ウェハーとし、その半導体ウェハーを収容するＦＯＵＰ（Front Opening Unified Pod）を容器５０としている。
保管設備では、設置空間Ｓを上方から下方に清浄化された空気を流動（ダウンフロー）させており、設置空間Ｓの下部に流動した空気は壁体Ｋの下部に形成された排出口（図示せず）から保管設備の横側方に排出するようになっている。これにより、設置空間Ｓ内の窒素ガスの濃度を抑制するとともに設置空間Ｓ内の清浄化が図られている。
また、壁体Ｋの横側方には、作業者が歩行可能な作業者用通路Ｔが形成されている。この作業者用通路Ｔは、保管棚１０の長手方向（左右方向）に沿って形成されている。このようにして、複数の収納部１０Ｓに隣接して作業者用通路Ｔが設けられ、複数の収納部１０Ｓと作業者用通路Ｔとの間には壁体Ｋが設けられている。
（容器５０の構成）
図４に示すように、容器５０は、基板Ｗを出し入れするための開口を備えたケーシング５１と、ケーシング５１の開口を閉じる着脱自在な蓋体５２と、を備えている。
図１、図２及び図４に示すように、ケーシング５１の上面には、ホイスト式の搬送車Ｄにより把持されるトップフランジ５３が形成されている。また、ケーシング５１の底面には、不活性気体としての窒素ガスを容器５０内に注入するために給気口５０ｉ及び窒素ガスを容器５０内から排出するための排気口５０ｏが設けられている。図示は省略するが、給気口５０ｉには注入側開閉弁が設けられ、排気口５０ｏには排出側開閉弁が設けられている。
つまり、容器５０は、基板Ｗを収容した状態で蓋体５２にて開口を閉じ、給気口５０ｉ及び排気口５０ｏの夫々が開閉弁にて閉じることで、気密性を有するように構成されている。
給気口５０ｉの注入側開閉弁は、スプリング等の付勢体によって閉じ付勢されており、給気口５０ｉに供給される窒素ガスの吐出圧力が大気圧よりも高い設定開弁圧力以上となると、その圧力によって開き操作される。
また、排気口５０ｏの排出側開閉弁は、スプリング等の付勢体によって閉じ付勢されており、容器５０内部の圧力が大気圧よりも高い設定開弁圧力以上となると、その圧力によって開き操作される。
（スタッカークレーン２０の構成）
図１に示すように、スタッカークレーン２０は、保管棚１０の前面側を保管棚１０の長手方向（左右方向）に沿って走行移動する走行台車２１と、その走行台車２１に立設されたマスト２２と、マスト２２の上端に設けられて図示しない上部ガイドレールと係合する上部枠２３と、上記マスト２２に案内される状態で昇降移動する昇降台２４と、を備えている。
昇降台２４には、収納部１０Ｓや入出庫コンベヤＣＶに対して容器５０を移載する移載装置２５が装備されている。
そして、スタッカークレーン２０は、走行台車２１の走行移動、昇降台２４の昇降移動及び移載装置２５の移載作動により、入出庫コンベヤＣＶと複数の収納部１０Ｓとの間で容器５０を搬送する。
（収納部１０Ｓの構成）
図２に示すように、保管棚１０には、収納部１０Ｓが上下方向及び左右方向の双方に複数並設されている。説明を加えると、保管棚１０には、上下方向に収納部１０Ｓが８段並設され、左右方向に収納部１０Ｓが９列（図２には４列のみ図示している）並設されており、保管棚１０には、収納部１０Ｓが７２箇所に設けられている。
そして、図５に示すように、上下方向に並設された４段、左右方向に並設された３列の計１２箇所の収納部１０Ｓを１つの区画ＣＨに属する収納部１０Ｓとして、７２箇所の収納部１０Ｓが６つの区画ＣＨのいずれか１つに属するように区分けされている。このように、保管棚１０に設けられた複数の収納部１０Ｓが、複数の区画ＣＨに区分けされている。
図３に示すように、複数の収納部１０Ｓの夫々には、容器５０を載置支持する載置支持部１０ａが備えられており、収納部１０Ｓは、載置支持部１０ａに載置支持した状態で容器５０を収納するようになっている。
載置支持部１０ａには、容器５０の下面部に形成された被係合部（図示せず）に係合して当該容器５０を規定位置に位置決めするための３個の位置決め突起１０ｂと、載置支持部１０ａ上に容器５０が載置されているか否か（つまり、容器５０が収納部１０Ｓに収納されたか否か）を検出する２個の在荷センサ１０ｚと、が設けられている。
また、図３及び図４に示すように、載置支持部１０ａには、収納部１０Ｓに収納された容器５０の内部に窒素ガスの内部に吐出する吐出部としての吐出ノズル１０ｉと、容器５０の内部から排出された気体を通流する排出用通気体１０ｏと、が設けられている。
図４に示すように、吐出ノズル１０ｉは、載置支持部１０ａ上の規定位置に容器５０が載置された状態で、その容器５０の下面部に備えられた給気口５０ｉに嵌合される箇所に設けられ、排出用通気体１０ｏは、載置支持部１０ａ上の規定位置に容器５０が載置された状態で、その容器５０の下面部に備えられた排気口５０ｏに嵌合される箇所に設けられている。
つまり、容器５０が収納部１０Ｓに収納されて載置支持部１０ａに載置されると、位置決め突起１０ｂにて水平方向での位置が規定位置に位置決めされるとともに、吐出ノズル１０ｉが給気口５０ｉに嵌合状態に接続され、且つ、排出用通気体１０ｏが排気口５０ｏに嵌合状態に接続される。
そして、容器５０が載置支持部１０ａに載置支持された状態において、吐出ノズル１０ｉから大気圧よりも設定値以上高い圧力の窒素ガスを吐出させることにより、容器５０の給気口５０ｉより窒素ガスを容器５０の内部に注入し、容器５０の排気口５０ｏより容器５０内の気体を外部に排出させる。
排気口５０ｏに排出用通気体１０ｏが接続されており、容器５０内の気体は、排気口５０ｏと排出用通気体１０ｏとを介して当該容器５０が収納された収納部１０Ｓに排出するようになっている。また、容器５０内の気体は、容器５０と蓋体５２との隙間からも収納部１０Ｓに排出される。
そして、排気口５０ｏと排出用通気体１０ｏとで排出部Ｆが構成されており、この排出部Ｆは、収納部１０Ｓに収納された容器５０の内部に吐出ノズル１０ｉから窒素ガスが吐出された場合に、当該容器５０の内部の気体（容器５０内に残存していた空気や窒素ガス等）を当該容器５０の外部に排出する。吐出ノズル１０ｉや排出用通気体１０ｏは、収納部１０Ｓの夫々に備えられている。
また、排気口５０ｏについては、当該排気口５０ｏが備えられた容器５０が収納部１０Ｓに収納されることで、収納部１０Ｓに備えることになる。つまり、排出部Ｆ（排出用通気体１０ｏ及び排気口５０ｏ）は、収納部１０Ｓの夫々に備えられる。
（窒素ガスの供給構成）
図５に示すように、保管設備には、複数の収納部１０Ｓに窒素ガスを供給する不活性気体供給路としての窒素ガス供給路６０が設けられている。そして、この窒素ガス供給路６０は、一対の保管棚１０の一方に対してのみ設けられており、その一方の保管棚１０にのみ窒素ガスを供給するようになっている。次に、この窒素ガス供給路６０について説明する。
窒素ガス供給路６０は、基幹供給部分６１と、基幹供給部分６１から複数の区画ＣＨごとに分岐して基幹供給部分６１を通流する窒素ガスを複数の区画ＣＨごとに分岐供給する複数の区画用供給部分６２と、区画用供給部分６２を通流する窒素ガスを当該区画用供給部分６２に対応する区画ＣＨに属する複数の収納部１０Ｓの各別に供給して吐出ノズル１０ｉから窒素ガスを吐出させる複数の収納部用供給部分６３と、を備えている。つまり、窒素ガス供給路６０は、供給源（図示せず）からの窒素ガスを、基幹供給部分６１、区画用供給部分６２、収納部用供給部分６３の順に通気させて、吐出ノズル１０ｉから窒素ガスを吐出する。
基幹供給部分６１には、気体供給方向の上流から順に、第１基幹用手動弁６５、基幹用制御弁６６、第２基幹用手動弁６７が設けられている。区画用供給部分６２には、気体供給方向の上流から順に、区画用手動弁６９、圧力調整弁７０、圧力検出センサ７１、区画用制御弁７２が設けられている。収納部用供給部分６３には、気体供給方向の上流から順に、収納部用手動弁７４、収納部用制御弁７５、マスフローコントローラ４０が設けられており、収納部用供給部分６３の下流側端部には吐出ノズル１０ｉが接続されている。
図５に示すように、複数の収納部用供給部分６３の２つを組として、組となる２つの収納部用供給部分６３同士を連通させる状態で、バイパス路７７が設けられている。そして、このバイパス路７７にはバイパス用手動弁７８が設けられている。
図５〜図７に示すように、窒素ガス供給路６０に接続されて窒素ガス供給路６０から窒素ガスを排出するための窒素ガスリリーフ路８０が設けられている。そして、この窒素ガスリリーフ路８０として、基幹供給部分６１に接続されて基幹供給部分６１から窒素ガスを排出するための基幹用リリーフ路８１と、複数の区画用供給部分６２に接続されて区画用供給部分６２から窒素ガスを排出するための区画用リリーフ路８２と、が設けられている。
基幹用リリーフ路８１には、気体排出方向の上流側から順に、リリーフ用圧力調整弁８６、基幹用リリーフ手動弁８３が設けられている。区画用リリーフ路８２には、気体排出方向の上流側から順に、区画用リリーフ手動弁８４、合流用リリーフ手動弁８５が設けられている。
ちなみに、第１基幹用手動弁６５、第２基幹用手動弁６７、区画用手動弁６９、収納部用手動弁７４、バイパス用手動弁７８、基幹用リリーフ手動弁８３、区画用リリーフ手動弁８４及び合流用リリーフ手動弁８５は、作業者の人為操作により閉じ状態と開き状態とに切換操作される手動弁にて構成されている。基幹用制御弁６６、区画用制御弁７２及び収納部用制御弁７５は、制御装置Ｈの制御指令に基づいて開き状態と閉じ状態とに切換操作される制御弁にて構成されている。
圧力調整弁７０及びリリーフ用圧力調整弁８６は、通流する窒素ガスの通流量を調整することにより下流側の窒素ガスの圧力を調整する。
尚、窒素ガス供給路６０を説明するに当たり、供給源から吐出ノズル１０ｉに向けて窒素ガスが通流する方向を気体供給方向と称し、その気体供給方向の流れに基づいて、気体供給方向の上流及び下流を定義して説明している。
また、窒素ガスリリーフ路８０を説明するに当たり、窒素ガス供給路６０からの窒素ガスが通流する方向を気体排出方向と称し、その気体排出方向の流れに基づいて、気体排出方向の上流及び下流を定義して説明している。
（制御構成）
図９に示すように、制御装置Ｈは、在荷センサ１０ｚの検出情報が入力され、また、スタッカークレーン２０と通信自在に接続されている。これにより、制御装置Ｈは、保管棚１０における容器５０の在庫状態等を管理するとともに、図外の上位コントローラからの入庫指令及び出庫指令に基づいてスタッカークレーン２０の作動を制御する。
説明を加えると、制御装置Ｈは、上位コントローラから入庫指令が指令されると、在庫状態に基づいて、容器５０が収納されていない空の収納部１０Ｓで且つ供給収納部として管理されている収納部１０Ｓの１つを収納対象の収納部１０Ｓとして選択し、容器５０を入出庫コンベヤＣＶから収納対象の収納部１０Ｓに搬送するべくスタッカークレーン２０の作動を制御する入庫搬送処理を実行する。
また、制御装置Ｈは、上位コントローラから出庫指令が指令されると、在庫状態に基づいて、出庫対象の容器５０をそれが収納されている収納部１０Ｓから入出庫コンベヤＣＶ上に搬送するべくスタッカークレーン２０の作動を制御する出庫搬送処理を実行するように構成されている。
図７に示すように、制御装置Ｈには、プログラマブルロジックコントローラＰと複数のＩＯ拡張モジュールＡが通信自在に通信線にて接続されている。プログラマブルロジックコントローラＰには、複数のマスフローコントローラ４０が接続されている。ＩＯ拡張モジュールＡには、対応する区画ＣＨに属する在荷センサ１０ｚ、圧力検出センサ７１、及び、マニホールド８７が接続されている。
そして、制御装置Ｈは、基幹用制御弁６６の作動を制御するとともに、プログラマブルロジックコントローラＰを介してマスフローコントローラ４０に指令情報を送信するとともに、ＩＯ拡張モジュールＡを介してマニホールド８７に指令情報を送信する。このように制御装置Ｈは、複数のマスフローコントローラ４０の夫々に対して指令情報を送信してマスフローコントローラ４０を制御することで、複数の収納部１０Ｓにおける窒素ガスの供給状態を監視している。
マニホールド８７は、制御装置Ｈからの指令情報に基づいて作動し、窒素ガスを供給する供給対象の収納部１０Ｓに対して窒素ガスを供給するべく区画用制御弁７２及び収納部用制御弁７５を作動させる。
マスフローコントローラ４０には、内部流路を通流する窒素ガスの流量（吐出ノズル１０ｉから吐出される窒素ガスの流量）を調整する流量調整弁４０ａと、収納部用供給部分６３から吐出ノズル１０ｉに通流する窒素ガスの流量を検出する流量検出センサ４０ｂと、の機能が備えられている。そして、マスフローコントローラ４０は、プログラマブルロジックコントローラＰからの指令情報及び流量検出センサ４０ｂの検出情報に基づいて、内部流路を流動する窒素ガスの流量を目標流量に調整するべく、流量調整弁４０ａを制御する。
本実施形態においては、マスフローコントローラ４０は、内部流路を流動する窒素ガスの流量を、ゼロから５０リットル／分の間で調整することになる。そして、本実施形態で用いるマスフローコントローラ４０は、全流量調整範囲において制御装置Ｈから指令される目標流量に高速（例えば、１秒以内）で調整する。そして、複数のマスフローコントローラ４０の夫々が、吐出ノズル１０ｉへの気体供給方向の下流側（収納部用供給部分６３）に設けられ、夫々の吐出ノズル１０ｉへの窒素ガスの供給量を調節する供給量調節装置に相当する。
このように、制御装置Ｈは、プログラマブルロジックコントローラＰやＩＯ拡張モジュールＡ等を介して、基幹用制御弁６６、区画用制御弁７２、収納部用制御弁７５及びマスフローコントローラ４０の作動を制御する。
（制御装置Ｈの目標流量）
制御装置Ｈが指令する目標流量としては、容器５０が収納部１０Ｓに収納されている状態において、保管用の目標流量、ノズル浄化用の目標流量、及び、クリーニング用の目標流量がある。保管用の目標流量は、容器５０の内部に窒素ガスを注入すべく、マスフローコントローラ４０に対して指令される目標流量である。ノズル浄化用の目標流量は、容器５０が収納部１０Ｓに収納される前において、吐出ノズル１０ｉを清浄化するために指令される目標流量である。クリーニング用の目標流量は、保管棚１０の設置時や窒素ガス供給路６０に設けられた機器の交換時等において、吐出ノズル１０ｉや供給配管Ｌｉ等を清浄化するために指令される目標流量である。
制御装置Ｈが、図７に示すように、目標流量と供給時間とを定めた複数のパージパターンとして、ノズルパージパターンＰ１、クリーニングパターンＰ２、及び、４つの保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６を記憶している。
そして、制御装置Ｈが、保管棚１０の設置時等において、操作卓ＨＳにてクリーニング開始指令が指令されると、クリーニングパターンＰ２に応じてクリーニング用の目標流量（供給流量）を指令するように構成されている。
また、制御装置Ｈが、容器５０が入出庫コンベヤＣＶにて収納空間内に搬入されると、ノズルパージパターンＰ１に応じてノズル浄化用の目標流量を指令するように構成されている。
さらに、制御装置Ｈが、２個の在荷センサ１０ｚが容器５０を検出しているときには、４つの保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６のうちの予め操作卓ＨＳにて選択されている一つのパターンに応じて保管用の目標流量を指令するように構成されている。
（パージパターン）
次に、ノズルパージパターンＰ１、クリーニングパターンＰ２、及び、４つの保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６の夫々について、図５に基づいて説明を加える。
ノズルパージパターンＰ１は、容器５０が収納された時点から収納前供給時間として設定された供給時間ｔ１の間、ノズル浄化用の目標流量として設定された目標流量Ｌ１にて窒素ガスを供給するパターンとして定められている。
供給時間ｔ１は、例えば、５秒に設定され、そして、目標流量Ｌ１は、例えば、３０リットル／分に設定されている。
クリーニングパターンＰ２は、操作卓ＨＳにてクリーニング開始指令が指令されてから設置初期供給時間として設定された供給時間ｔ２の間、クリーニング用の目標流量として設定された目標流量Ｌ２にて窒素ガスを供給するパターンとして定められている。
供給時間ｔ２は、例えば、１８００秒に設定され、そして、目標流量Ｌ２は、例えば、２０リットル／分に設定されている。
（保管用パージパターン）
４つの保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６の夫々については、保管用の目標流量として、初期目標流量と、その初期目標流量よりも少ない定常目標流量とが設定されている。
初期目標流量は、例えば、５０リットル／分に設定され、そして、定常目標流量は、例えば、５リットル／分に設定されることになるが、作業者によって変更設定されることになる。
そして、４つの保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６の夫々は、先ず、保管用の目標流量を初期目標流量とし、その後、保管用の目標流量を定常目標流量に変更する点が共通するが、互いに異なるパターンに定められている。
以下、４つの保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６を、第１の保管用パージパターンＰ３、第２の保管用パージパターンＰ４、第３の保管用パージパターンＰ５、及び、第４の保管用パージパターンＰ６と記載して、各パターンについて説明を加える。
第１の保管用パージパターンＰ３は、まず、設定供給時間ｔ３の間、初期目標流量としての供給流量Ｌ３１にて窒素ガスを供給し、その後、定常目標流量としての供給流量Ｌ３２にて窒素ガスを供給することを、一対の在荷センサ１０ｚが容器５０の存在を検出している間は継続するパターンとして定められている。
第２の保管用パージパターンＰ４は、まず、設定供給時間ｔ４の間、初期目標流量としての供給流量Ｌ４１にて窒素ガスを供給し、その後は、定常目標流量としての供給流量Ｌ４２にて窒素ガスを間欠的供給することを、一対の在荷センサ１０ｚが容器５０の存在を検出している間は継続するパターンに定められている。
第３の保管用パージパターンＰ５は、まず、設定供給時間ｔ５１の間、初期目標流量としての供給流量Ｌ５１にて窒素ガスを供給し、続いて、設定供給時間ｔ５２の間、定常目標流量としての供給流量Ｌ５２にて窒素ガスを供給することを１サイクルとして、このサイクルを、一対の在荷センサ１０ｚが容器５０の存在を検出している間は繰り返すパターンに定められている。
第４の保管用パージパターンＰ６は、まず、設定供給時間ｔ６１の間、初期目標流量としての供給流量Ｌ６１にて窒素ガスを供給し、続いて、設定供給時間ｔ６２の間、定常目標流量としての供給流量Ｌ６２にて窒素ガスを間欠的に供給することを１サイクルとして、このサイクルを、一対の在荷センサ１０ｚが容器５０の存在を検出している間は継続するパターンに定められている。
（供給収納部と停止収納部）
制御装置Ｈは、プログラマブルロジックコントローラＰの検出情報や操作卓ＨＳの入力情報等に基づいて、窒素ガスが適切に供給される供給収納部と窒素ガスが適切に供給されない停止収納部とに区別して複数の収納部１０Ｓを管理する。
具体例を挙げて説明すると、圧力検出センサ７１は、検出情報をプログラマブルロジックコントローラＰに出力する。プログラマブルロジックコントローラＰは、圧力検出センサ７１にて検出された圧力が、指令情報に応じた圧力に対して設定圧力以上の乖離があった場合には、圧力異常信号を制御装置Ｈに対して送信する。
そして、制御装置Ｈは、プログラマブルロジックコントローラＰからの圧力異常信号に基づいて、圧力異常があった圧力検出センサ７１に対応する区画ＣＨに属する収納部１０Ｓを停止収納部として管理する。
また、圧力検出センサ７１を新たな圧力検出センサ７１に交換する等により、作業者が停止収納部として管理されている収納部１０Ｓに対して窒素ガスを適切に供給できると判断した場合は、作業者は許可情報を操作卓ＨＳにて入力するようになっている。制御装置Ｈは、停止収納部として管理されている収納部１０Ｓについて、操作卓ＨＳにて許可情報が入力されると、停止収納部として管理していた収納部１０Ｓを供給収納部として管理する。
このように、制御装置Ｈは、区画ＣＨに対する窒素ガスの供給状態を監視や検知する装置（上述ではプログラマブルロジックコントローラＰや操作卓ＨＳ）からの情報に基づいて、区画ＣＨ単位で収納部１０Ｓを供給収納部と停止収納部とに区別して管理するようになっている。また、具体例を挙げての説明は省略するが、制御装置Ｈは、収納部１０Ｓに対する窒素ガスの供給状態を監視や検知する装置からの情報に基づいて、収納部１０Ｓ単位でも収納部１０Ｓを供給収納部と停止収納部とに区別して管理するようになっている。
そして、制御装置Ｈは、原則として、容器５０が収納部１０Ｓに収納されたことを条件として当該収納部１０Ｓに窒素ガスを供給するようにマスフローコントローラ４０の作動を制御する供給処理を実行する。
この供給処理では、供給収納部として管理している収納部１０Ｓについて、スタッカークレーン２０にて容器５０が収納部１０Ｓに収納されて、当該収納部１０Ｓに備えられた２個の在荷センサ１０ｚが容器５０を検出すると、４つの保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６のうちの予め操作卓ＨＳにて選択されている一つのパターンに応じて、マスフローコントローラ４０に保管用の目標流量を指令する。
また、制御装置Ｈは、容器５０が収納されている収納部１０Ｓに対する窒素ガスの供給を複数の収納部１０Ｓの一部又は全部に対する窒素ガスの供給を停止するようにマスフローコントローラ４０の作動を制御する供給停止処理を実行する。
この供給停止処理は、収納部１０Ｓの管理状態が供給収納部から停止収納部に切り換わるに伴って行われる。つまり、保管棚１０全体（複数の収納部１０Ｓの全部）、或いは、区画ＣＨ単位又は収納部１０Ｓ単位（複数の収納部１０Ｓの一部）で管理状態が停止収納部に切り換わるに伴って、容器５０が収納されていない収納部１０Ｓはもとより、容器５０が収納されて供給処理にて窒素ガスが供給されていた収納部１０Ｓについても、マスフローコントローラ４０に保管用の目標流量の指令を停止する。
また、制御装置Ｈは、供給停止処理を行った後に、供給停止処理により窒素ガスの供給が停止された収納部１０Ｓのうちの供給再開対象の収納部１０Ｓに対して窒素ガスを供給するようにマスフローコントローラ４０の作動を制御する供給再開処理を実行する。
この供給再開処理は、収納部１０Ｓの管理状態が停止収納部から供給収納部に切り換わるに伴って行われる。つまり、保管棚１０単位、区画ＣＨ単位、又は、収納部１０Ｓ単位で管理状態が供給状態に切り換わるに伴って、容器５０が収納されている収納部１０Ｓの一部又は全部を供給再開対象の収納部１０Ｓとして、当該供給再開対象の収納部１０Ｓに対応するマスフローコントローラ４０に対して、４つの保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６のうちの予め操作卓ＨＳにて選択されている一つのパターンに応じて、保管用の目標流量を指令する。
ところで、例えば、区画ＣＨ単位で収納部１０Ｓを停止収納部として管理していた場合、当該区画ＣＨに属する収納部１０Ｓについての管理状態が供給収納部に変更されると、供給再開処理が実行され、当該区画ＣＨに属する収納部１０Ｓで且つ容器５０が収納されている収納部１０Ｓの全てに対して窒素ガスの供給が再開される。
このような場合は、１つの区画ＣＨに集中して窒素ガス（初期目標流量の窒素ガス）が供給され、これに伴って、容器５０内の気体が収納部１０Ｓに排出されるため、局所的に酸素濃度が低下する虞がある。このようなことを回避するために、制御装置Ｈは、複数の収納部１０Ｓにおける窒素ガスの供給状態を監視して、不活性気体の供給を再開する収納部１０Ｓが所定の領域に集中しないように、複数のマスフローコントローラ４０を制御する。
説明を加えると、制御装置Ｈは、複数の収納部１０Ｓを、互いに隣接する２以上の収納部１０Ｓからなる収納部群毎に設定した複数の監視エリアＥに分けて複数の収納部１０Ｓに対する窒素ガスの供給状態を監視し、複数の監視エリアＥの夫々に属する収納部１０Ｓ（収納部群）への窒素ガスの供給状態が、予め定められた設定制限条件を満たすように、複数のマスフローコントローラ４０を制御（同時パージ抑制制御）する。
次に、制御装置Ｈによる同時パージ抑制制御について説明する。ちなみに、この同時パージ抑制制御は、主に区画ＣＨ単位で窒素ガスの供給が再開されたときに行われるが、収納部１０Ｓ単位で窒素ガスの供給が再開されたときや、収納部１０Ｓに容器５０が収納されたときに窒素ガスの供給を開始するときにも行われる場合もある。また、他の収納部１０Ｓにおいて窒素ガスの供給流量が初期目標流量から定常目標流量に切り換わるとき及び定常目標流量から初期目標流量に切り換わるときにも行われる場合がある。
（同時パージ抑制制御）
複数の収納部１０Ｓに対して複数の監視エリアＥが設定されている。まず、この複数の監視エリアＥについて説明する。
監視エリアＥには、上下方向に互いに隣接して１列に並ぶ収納部群により形成される上下監視エリアＥ１（例えば、図８に一点鎖線で示すエリア）、左右方向に互いに隣接して１列に並ぶ収納部群により形成される左右監視エリアＥ２（例えば、図８に二点鎖線で示すエリア）、及び、保管棚１０の上下全体に亘って上下方向に互いに隣接して１列に並ぶ収納部群にて形成される列監視エリアＥ３（例えば、図９に太線で示すエリア）がある。
上下監視エリアＥ１及び左右監視エリアＥ２の夫々は、複数の収納部１０Ｓの夫々に対して設定されており、７２箇所の収納部１０Ｓに対して７２個の上下監視エリアＥ１及び７２個の左右監視エリアＥ２が設定されている。具体的には、図８（ａ）に符号ａで示す収納部１０Ｓについては、図８（ａ）に示す上下監視エリアＥ１や左右監視エリアＥ２が設定されている。また、図８（ｂ）に符号ａで示す収納部１０Ｓについては、図８（ｂ）示す上下監視エリアＥ１や左右監視エリアＥ２が設定されている。
列監視エリアＥ３は、保管棚１０の列に対応して設定されており、９列の収納部１０Ｓに対して９の列監視エリアＥ３が設定されている。複数の収納部１０Ｓは９列の列監視エリアＥ３のいずれかに属している。
つまり、複数の収納部１０Ｓの夫々は、上下監視エリアＥ１、左右監視エリアＥ２及び列監視エリアＥ３の３種類の監視エリアＥのいずれにも属している。
そして、このように設定された、上下監視エリアＥ１、左右監視エリアＥ２及び列監視エリアＥ３の夫々は、作業者用通路Ｔ（図１参照）が延びる方向（左右方向）に沿って複数設定されている。また、上下監視エリアＥ１、左右監視エリアＥ２及び列監視エリアＥ３の夫々は、上下方向及び左右方向の少なくとも一方について互いに隣接する２以上の収納部１０Ｓからなる収納部群に対して設定されている。また、上下監視エリアＥ１及び列監視エリアＥ３は、上下方向に１列に並んで互いに隣接する２以上の収納部１０Ｓからなる収納部群に対して設定されている。
そして、操作卓ＨＳにて、連続設定数や合計設定数を設定できるようになっており、上下監視エリアＥ１や左右監視エリアＥ２は、設定された連続設定数の数により広さが変化するようになっている。つまり、連続設定数は、上下監視エリアＥ１及び左右監視エリアＥ２を規定するパラメータの一つとなっており、この連続設定数と基準となる収納部ａの位置とにより、上下監視エリアＥ１や左右監視エリアＥ２の大きさや位置が定められる。
つまり、連続設定数として「１」が設定されている場合、収納部ａに対して設定された上下監視エリアＥ１は、図８（ａ）及び図１０に示すように、収納部ａと一対の収納部ｂ１との３つの収納部１０Ｓにて形成される。
連続設定数として「２」が設定されている場合、収納部ａに対して設定された上下監視エリアＥ１は、図８（ａ）及び図１１に示すように、収納部ａと一対の収納部ｂ１と一対の収納部ｂ２との５つの収納部１０Ｓにて形成される。
連続設定数として「３」が設定されている場合、収納部ａに対して設定された上下監視エリアＥ１は、図８（ａ）及び図１２に示すように、収納部ａと一対の収納部ｂ１と一対の収納部ｂ２と一対の収納部ｂ３との７つの収納部１０Ｓにて形成される。
また、連続設定数として「１」が設定されている場合、収納部ａに対して設定された左右監視エリアＥ２は、図８（ａ）及び図１３に示すように、収納部ａと一対の収納部ｃ１との３つの収納部１０Ｓにて形成される。
連続設定数として「２」が設定されている場合、収納部ａに対して設定された左右監視エリアＥ２は、図８（ａ）及び図１４に示すように、収納部ａと一対の収納部ｃ１と一対の収納部ｃ２との５つの収納部１０Ｓにて形成される。
連続設定数として「３」が設定されている場合、収納部ａに対して設定された左右監視エリアＥ２は、図８（ａ）及び図１５に示すように、収納部ａと一対の収納部ｃ１と一対の収納部ｃ２と一対の収納部ｃ３との７つの収納部１０Ｓにて形成される。
このように、基本的には、上下監視エリアＥ１や左右監視エリアＥ２は、基準となる収納部ａを中心として連続設定数により規定される３つ、５つ又は７つの収納部１０Ｓにて形成される。
しかし、図８に示すように、収納部ａの位置によっては次のように監視エリアＥに属する収納部１０Ｓの数が異なる場合がある。つまり、連続設定数として「３」が設定されている場合でも、上下監視エリアＥ１や左右監視エリアＥ２が７つ未満（図８（ｂ）では上下監視エリアＥ１は５つ、左右監視エリアＥ２は４つ）の収納部１０Ｓにて形成される場合がある。また、連続設定数として「２」が設定されている場合でも、上下監視エリアＥ１や左右監視エリアＥ２が５つ未満（図８では上下監視エリアＥ１は４つ、左右監視エリアＥ２は３つ）の収納部１０Ｓにて形成される場合がある。また、連続設定数として「１」が設定されている場合でも、上下監視エリアＥ１や左右監視エリアＥ２が３つ未満（図８では左右監視エリアＥ２は２つ）の場合がある。
（設定制限条件）
次に、図１０〜図１６に基づいて設定制限条件について説明する。尚、図１０〜図１６に示すマスの１つ１つが収納部１０Ｓの夫々を示しており、収納部１０Ｓを示すマス全体に斜線を記しているものは、窒素ガスが供給されている収納部１０Ｓを示している。また、収納部ａについて丸印の中に斜線を記しているものは、供給再開対象の収納部１０Ｓを示している。
また、初期目標流量の窒素ガスが供給されている状態を上下反転させた場合（図１０（ｂ）において、上側の収納部ｂ１ではなく、下側の収納部ｂ１を窒素ガスが供給されている収納部１０Ｓとした場合）や左右反転させた場合でも結果は同じである。
また、以下の設定制限条件の説明において、１種類の監視エリアＥの設定制限条件を満たすことで便宜上「供給再開対象の収納部１０Ｓとなる」又は「供給再開対象の収納部１０Ｓとはならない」と説明しているが、実際は、３種類の監視エリアＥの全てにおいて設定制限条件を満たすことで供給再開対象の収納部１０Ｓとなる。
尚、上述の「窒素ガスが供給されている収納部１０Ｓ」は、初期目標流量の窒素ガスが供給されている収納部１０Ｓであり、定常目標流量の窒素ガスが供給されている収納部１０Ｓは、「窒素ガスが供給されている収納部１０Ｓ」には該当しない。以下の説明において、特段の説明がなければ、「窒素ガスが供給されている」とは「初期目標流量の窒素ガスが供給されている」ということを表している。
上下監視エリアＥ１に対しては、設定制限条件を、上下方向について収納部１０Ｓに窒素ガスが供給されている収納部１０Ｓが連続する数が連続設定数以下となることとしている。
連続設定数が「１」に設定されている場合、図１０（ａ）に示すように、収納部ａに対して窒素ガスを供給しても、窒素ガスが供給されている収納部１０Ｓが連続する数が連続設定数の「１」以下であり、設定制限条件が満たされる。図１０（ａ）に示すような場合は、収納部ａは、供給再開対象の収納部１０Ｓとなる。
また、連続設定数が「１」に設定されている場合、図１０（ｂ）に示すように、収納部ａに対して窒素ガスを供給すると、窒素ガスが供給されている収納部１０Ｓが連続する数が連続設定数の「１」を超え、設定制限条件が満たされないため、図１０（ｂ）に示すような場合は、収納部ａは、供給再開対象の収納部１０Ｓとはならない。
連続設定数が「２」に設定されている場合、図１１（ａ），（ｂ），（ｅ）に示すように、収納部ａに対して窒素ガスを供給しても、窒素ガスが供給されている収納部１０Ｓが連続する数が連続設定数の「２」以下であり、設定制限条件が満たされるため、図１１（ａ），（ｂ），（ｅ）に示すような場合は、収納部ａは、供給再開対象の収納部１０Ｓとなる。
また、連続設定数が「２」に設定されている場合、図１１（ｃ），（ｄ）に示すように、収納部ａに対して窒素ガスを供給すると、窒素ガスが供給されている収納部１０Ｓが連続する数が連続設定数の「２」を超え、設定制限条件が満たされないため、図１１（ｃ），（ｄ）に示すような場合は、収納部ａは、供給再開対象の収納部１０Ｓとはならない。
連続設定数が「３」に設定されている場合、図１２（ａ）〜（ｄ），（ｇ）に示すように、収納部ａに対して窒素ガスを供給しても、窒素ガスが供給されている収納部１０Ｓが連続する数が連続設定数の「３」以下であり、設定制限条件が満たされるため、図１２（ａ）〜（ｄ），（ｇ）に示すような場合は、収納部ａは、供給再開対象の収納部１０Ｓとなる。
また、連続設定数が「３」に設定されている場合、図１２（ｅ），（ｆ）に示すように、収納部ａに対して窒素ガスを供給すると、窒素ガスが供給されている収納部１０Ｓが連続する数が連続設定数の「３」を超え、設定制限条件が満たされないため、図１２（ｅ），（ｆ）に示すような場合は、収納部ａは、供給再開対象の収納部１０Ｓとはならない。
左右監視エリアＥ２に対しては、設定制限条件を、左右方向について収納部１０Ｓに窒素ガスが供給されている収納部１０Ｓが連続する数が連続設定数以下となることとしている。
尚、左右監視エリアＥ２は、収納部群の並び方向が上下監視エリアＥ１の場合と異なるだけであるので、図１３〜図１５に基づく具体的な説明は省略する。
列監視エリアＥ３に対しては、設定制限条件を、列監視エリアＥ３の夫々における窒素ガスが供給されている収納部１０Ｓの合計数が合計設定数以下となることとしている。
この列監視エリアＥ３に対する設定制限条件は、列監視エリアＥ３における単位時間当たりの窒素ガスの供給量を、予め定められた制限値以下に制限する目的で設定された条件である。
そして、合計設定数が「３」に設定されている場合、図１６（ａ），（ｂ）に示すように、収納部ａに対して窒素ガスを供給しても、窒素ガスが供給されている収納部１０Ｓの合計数が合計設定数の「３」以下であり、設定制限条件が満たされるため、図１６（ａ），（ｂ）に示すような場合は、収納部ａは、供給再開対象の収納部１０Ｓとなる。
そして、合計設定数が「３」に設定されている場合、図１６（ｃ）に示すように、収納部ａに対して窒素ガスを供給すると、窒素ガスが供給されている収納部１０Ｓの合計数が合計設定数の「３」を超えるため、設定制限条件が満たされるため、図１６（ｃ）に示すような場合は、収納部ａは、供給再開対象の収納部１０Ｓとならない。
（供給再開対象の収納部の選択）
制御装置Ｈは、供給再開処理では、供給再開対象の収納部１０Ｓに対して窒素ガスの供給を再開した場合に、供給再開対象の収納部１０Ｓが属する監視エリアＥにおいて設定制限条件が満たされるように、供給再開対象となり得る全ての収納部１０Ｓのうちから一部又は全部の収納部１０Ｓを選択して供給再開対象の収納部とする
つまり、供給再開処理では、例えば、区画ＣＨ単位で管理状態が供給状態に切り換わるに伴って、当該区画ＣＨに属する収納部１０Ｓで且つ容器５０が収納されている収納部１０Ｓを供給再開対象となり得る収納部１０Ｓとなる。そして、この供給再開対象となり得る全ての収納部１０Ｓのうちから、各監視エリアＥにおいて設定制限条件が満たされるように、供給再開対象の収納部１０Ｓが選択される。
また、制御装置Ｈは、在荷センサ１０ｚの検出情報に基づいて複数の収納部１０Ｓの夫々についての容器５０が収納されてからの経過時間を管理しており、供給再開処理において、供給再開対象となり得る全ての収納部１０Ｓの中から経過時間が短い収納部１０Ｓを優先して供給再開対象の収納部１０Ｓとする。
つまり、供給再開対象となり得る全ての収納部１０Ｓの中から、容器５０を収納してからの経過時間が短い収納部１０Ｓを優先して設定制限条件を満たしているか否かが判断される。そのため、経過時間が短い収納部１０Ｓについては周囲に窒素ガスが供給されている収納部１０Ｓが少ない状態で、設定制限条件を満たしているか否かが判断されることとなり、供給再開対象の収納部１０Ｓとして選択され易くなる為、窒素ガスが供給を受け易くなる。
〔別実施形態〕
（１）上記実施形態では、供給処理を開始した後、供給停止処理を実行し、供給再開処理が開始されるまで、当該処理が実行される収納部１０Ｓについて、容器５０を継続して収納していたが、供給停止処理を実行するに伴って当該処理が実行される収納部１０Ｓから取り出し、供給再開処理が開始される前に当該処理が実行される収納部１０Ｓに戻すようにしてもよい。
尚、上述のように取り出した容器５０は、同一の保管設備内に位置する別の収納部１０Ｓに搬送してもよく、また、入出庫コンベヤＣＶや搬送車Ｄと連携して別々の保管設備の収納部１０Ｓに搬送してもよい。
（２）上記実施形態では、制御装置Ｈを、収納部１０Ｓに設けられた在荷センサ１０ｚの検出情報に基づいて、複数の収納部１０Ｓの夫々について容器５０が収納されてからの経過時間を管理するようにした。しかし、制御装置Ｈを、入出庫コンベヤＣＶにて容器５０が設置空間Ｓ内に搬入されたことを検出するセンサの検出情報に基づいて、当該容器５０が収納される収納部１０Ｓの容器５０が収納されてからの経過時間を算出して管理する、又は、容器５０が設置空間Ｓ内に搬入されてからの経過時間を管理して、この経過時間に基づいて供給再開対象の収納部１０Ｓを選択するようにしてもよい。
（３）上記実施形態では、上下監視エリアＥ１及び左右監視エリアＥ２については、設定制限条件を、不活性気体が供給されている収納部１０Ｓの連続する数が、予め定めた連続設定数以下となることとし、列監視エリアＥ３については、設定制限条件を、不活性気体が供給されている収納部１０Ｓの合計数が、予め定めた合計設定数以下とした。
しかし、各監視エリアＥについての設定制限条件は適宜変更してもよい。例えば、上下監視エリアＥについて、設定制限条件を、不活性気体が供給されている収納部１０Ｓの合計数が、予め定めた合計設定数以下となることとしてもよく。
また、各監視エリアＥについて、属する収納部１０Ｓに対して供給される単位時間当たりの不活性気体の供給量を合計した合計供給量を算出し、合計供給量を予め設定された制限値以下に制限するように設定された条件を、設定制限条件としてもよい。
（４）上記実施形態では、複数の収納部１０Ｓの夫々について、上下監視エリアＥ１、左右監視エリアＥ２及び列監視エリアＥ３の３種類の監視エリアＥを設定したが、複数の収納部１０Ｓの夫々について、３種類の監視エリアＥのうちの１種類又は２種類のみ設定してもよい。
また、複数の収納部１０Ｓの夫々について監視エリアＥを設定したが、１列おきの収納部１０Ｓに対して列監視エリアＥ３のみを設定する等により、複数の収納部１０Ｓの一部についてのみ監視エリアＥを設定してもよい。
（５）上記実施形態では、容器５０が、半導体基板を収容するＦＯＵＰである構成を例示したが、このような構成に限定されるものではなく、例えば、レチクルを収容するレチクル容器としてもよい。また、不活性気体を窒素ガスとしたが、不活性気体としては、窒素ガス以外にもアルゴンガス等、収容される基板Ｗに対して反応性の低い各種の気体を使用することができる。ちなみに、容器５０に収容する物品としては、工業製品、食品、医薬品等に幅広く適用することができる。
（６）上記実施形態では、保管設備に設けた一対の保管棚１０のうち、一方の保管棚１０に対してのみ不活性気体供給路を設けたが、両方の保管棚１０に対して不活性気体供給路を設けてもよい。ちなみに、このように設けた場合、一方の保管棚１０の収納部１０Ｓと他方の保管棚１０の収納部１０Ｓとで対向する収納部１０Ｓを、互いに隣接する収納部１０Ｓとして監視エリアＥを形成してもよい。
（７）上記実施形態では、供給量調節装置を、マスフローコントローラ４０にて構成したが、供給量調節装置を別の装置にて構成してもよく、例えば、供給量調節装置を、収納部用制御弁７５にて構成してもよい。
（８）上記実施形態では、複数の収納部１０Ｓが設置される設置空間Ｓを覆う壁体Ｋを設けたが、壁体Ｋを設けずに、設置空間Ｓを開放した空間として、設置空間Ｓ内に外気を通気させて設置空間Ｓ内の不活性気体を撹拌させるようにしてもよい。
（９）上記実施形態では、排出部Ｆを、排気口５０ｏと排出用通気体１０ｏとで構成したが、容器内の不活性気体を容器５０に備えた排気口５０ｏから直接に排気するように構成して、収納部１０Ｓに収納された容器５０に備えられている排気口５０ｏを、収納部１０Ｓに備えた排出部Ｆとしてもよい。
（１０）上記実施形態では、制御装置Ｈを、複数の供給量調節装置の夫々に対して指令情報を送信して供給量調節装置を制御することで、複数の収納部１０Ｓにおける窒素ガスの供給状態を監視するようにしたが、制御装置Ｈを、複数の供給量調節装置の夫々に対して指令情報を送信して供給量調節装置を制御し、さらに、供給量調節装置から不活性気体の供給情報を制御装置Ｈが受け取ることで、複数の収納部１０Ｓにおける窒素ガスの供給状態を監視するようにしてもよい。
（１１）その他の構成に関しても、本明細書において開示された実施形態は全ての点で例示であって、本発明の範囲はそれらによって限定されない。本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、適宜改変が可能である。従って、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で改変された別の実施形態も、当然、本発明の範囲に含まれる。
１０ 保管棚
１０Ｓ 収納部
１０ｉ 吐出部
２０ スタッカークレーン
４０ 供給量調節装置
５０ 容器
６０ 不活性気体供給路
６１ 基幹供給部分
６２ 区画用供給部分
６３ 収納部用供給部分
ａ 基準収納部
ＣＨ 区画
Ｅ エリア
Ｆ 排出部
Ｈ 制御装置
Ｗ 基板

Claims (10)

  1. 容器を収納自在な複数の収納部と、
    前記複数の収納部の夫々に不活性気体を供給する不活性気体供給路と、を備え、
    前記複数の収納部の夫々に、
    前記不活性気体供給路から供給された不活性気体を前記収納部に収納された前記容器の内部に吐出する吐出部と、
    前記収納部に収納された前記容器の内部に前記吐出部から不活性気体が吐出された場合に、当該容器の内部の気体を当該容器の外部に排出する排出部と、を備えている保管設備であって、
    前記不活性気体供給路における、前記複数の収納部の夫々の前記吐出部の上流側に設けられ、夫々の前記吐出部への不活性気体の供給量を調節する複数の供給量調節装置と、
    前記複数の収納部における不活性気体の供給状態を監視して、前記複数の供給量調節装置を制御する制御装置と、を備え、
    前記制御装置は、前記複数の収納部を、互いに隣接する２以上の収納部からなる収納部群毎に設定した複数の監視エリアに分けて前記複数の収納部における不活性気体の供給状態を監視し、前記複数の監視エリアの夫々に属する前記収納部への不活性気体の供給状態が、予め定められた設定制限条件を満たすように、前記複数の供給量調節装置を制御する保管設備。
  2. 前記設定制限条件は、前記監視エリアの夫々における単位時間あたりの不活性気体の供給量を、予め定められた制限値以下に制限するように設定された条件である請求項１記載の保管設備。
  3. 前記複数の収納部に隣接して作業者用通路が設けられており、
    前記監視エリアは、前記作業者用通路が延びる方向に沿って複数設定されている請求項１又は２記載の保管設備。
  4. 前記収納部は、上下方向及び左右方向の双方に夫々複数設けられ、
    前記監視エリアの夫々が、上下方向及び左右方向の少なくとも一方について互いに隣接する２以上の収納部からなる前記収納部群に対して設定されている請求項１〜３のいずれか１項に記載の保管設備。
  5. 前記監視エリアの夫々が、上下方向に１列に並んで互いに隣接する２以上の収納部からなる前記収納部群に対して設定されている請求項４記載の保管設備。
  6. 前記設定制限条件は、前記監視エリアの夫々における、不活性気体が供給されている前記収納部の合計数が、予め定めた合計設定数以下となることである請求項４又は５記載の保管設備。
  7. 前記設定制限条件は、上下方向及び左右方向の少なくとも一方について、前記収納部に不活性気体が供給されている前記収納部が連続する数が、予め定めた連続設定数以下となることである請求項４〜６のいずれか１項に記載の保管設備。
  8. 前記制御装置が、前記容器が前記収納部に収納されたことを条件として当該収納部に不活性気体を供給するように前記供給量調節装置を制御する供給処理と、
    前記複数の収納部の一部又は全部に対する不活性気体の供給を停止するように前記供給量調節装置を制御する供給停止処理と、
    前記供給停止処理を行った後に、前記供給停止処理により不活性気体の供給が停止された前記収納部のうちの供給再開対象の収納部に対して不活性気体を供給するように前記供給量調節装置を制御する供給再開処理と、を実行するように構成され、
    前記供給再開処理では、前記供給再開対象の収納部に対して不活性気体の供給を再開した場合に、前記供給再開対象の収納部が属する前記監視エリアにおいて前記設定制限条件が満たされるように、前記供給再開対象となり得る全ての収納部のうちから一部又は全部の収納部を選択して前記供給再開対象の収納部とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の保管設備。
  9. 前記制御装置が、前記複数の収納部の夫々についての前記容器が収納されてからの経過時間を管理し、前記供給再開処理において、前記供給再開対象となり得る全ての収納部の中から前記経過時間が短い前記収納部を優先して前記供給再開対象の収納部とする請求項８記載の保管設備。
  10. 前記複数の収納部が設置される設置空間を覆う壁体が設けられている請求項１〜９のいずれか１項に記載の保管設備。
JP2013134269A 2013-06-26 2013-06-26 保管設備 Active JP5884780B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013134269A JP5884780B2 (ja) 2013-06-26 2013-06-26 保管設備
TW103116824A TWI621199B (zh) 2013-06-26 2014-05-13 保管設備及保管方法
KR1020140063031A KR102201785B1 (ko) 2013-06-26 2014-05-26 보관 설비 및 보관 방법
SG10201402797TA SG10201402797TA (en) 2013-06-26 2014-05-30 Storage facility and storage method
US14/307,955 US9595461B2 (en) 2013-06-26 2014-06-18 Storage facility and storage method
CN201410287375.0A CN104249896B (zh) 2013-06-26 2014-06-25 保管设备和保管方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013134269A JP5884780B2 (ja) 2013-06-26 2013-06-26 保管設備

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015009913A true JP2015009913A (ja) 2015-01-19
JP5884780B2 JP5884780B2 (ja) 2016-03-15

Family

ID=52114428

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013134269A Active JP5884780B2 (ja) 2013-06-26 2013-06-26 保管設備

Country Status (6)

Country Link
US (1) US9595461B2 (ja)
JP (1) JP5884780B2 (ja)
KR (1) KR102201785B1 (ja)
CN (1) CN104249896B (ja)
SG (1) SG10201402797TA (ja)
TW (1) TWI621199B (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017048017A (ja) * 2015-09-02 2017-03-09 株式会社ダイフク 保管棚
JPWO2019049518A1 (ja) * 2017-09-08 2020-08-13 村田機械株式会社 保管システムと保管システムでのパージ方法

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101903441B1 (ko) * 2014-06-16 2018-10-02 무라다기카이가부시끼가이샤 퍼지 장치, 퍼지 시스템, 퍼지 방법 및 퍼지 시스템에 있어서의 제어 방법
US10882697B2 (en) * 2015-08-28 2021-01-05 Murata Machinery, Ltd. Storage apparatus and storage method
JP6414525B2 (ja) * 2015-09-02 2018-10-31 株式会社ダイフク 保管設備
US10583983B2 (en) * 2016-03-31 2020-03-10 Daifuku Co., Ltd. Container storage facility
JP6631447B2 (ja) * 2016-09-09 2020-01-15 株式会社ダイフク 物品収納設備
JP6690740B2 (ja) * 2017-02-20 2020-04-28 村田機械株式会社 パージストッカ
JP6794898B2 (ja) * 2017-03-29 2020-12-02 株式会社ダイフク 収納棚
US10703563B2 (en) * 2017-11-10 2020-07-07 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Stocker
CN109795833A (zh) * 2017-11-17 2019-05-24 山西三友和智慧信息技术股份有限公司 无人气密低氧档案文件全自动存取密集架仓库
JP6856015B2 (ja) * 2017-12-20 2021-04-14 株式会社ダイフク 保管設備
US11285231B2 (en) 2018-05-11 2022-03-29 Ecolab Usa Inc. Hygiene system for a portable packaged food container
SG11202010973YA (en) 2018-05-11 2020-12-30 Ecolab Usa Inc Hygiene system for a portable packaged food container

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009073625A (ja) * 2007-09-20 2009-04-09 Daifuku Co Ltd 物品収納設備
JP2010016199A (ja) * 2008-07-03 2010-01-21 Murata Mach Ltd パージ装置
JP2010182747A (ja) * 2009-02-03 2010-08-19 Dan Takuma:Kk 保管システムおよび保管方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11168135A (ja) * 1997-12-03 1999-06-22 Toshiba Corp 基板保管装置および基板保管方法
JP2005353940A (ja) * 2004-06-14 2005-12-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体基板の保管庫、保管方法及びそれを用いた半導体基板の製造方法
TWI380939B (zh) * 2005-05-31 2013-01-01 Daifuku Kk 物品搬運裝置
JP4670808B2 (ja) * 2006-12-22 2011-04-13 ムラテックオートメーション株式会社 コンテナの搬送システム及び測定用コンテナ
TWI408090B (zh) * 2007-06-28 2013-09-11 Daifuku Kk 物品保管庫
JP4412391B2 (ja) * 2007-11-16 2010-02-10 村田機械株式会社 搬送車システム
JP5674041B2 (ja) * 2011-08-11 2015-02-18 株式会社ダイフク 物品搬送設備
JP5598728B2 (ja) * 2011-12-22 2014-10-01 株式会社ダイフク 不活性ガス注入装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009073625A (ja) * 2007-09-20 2009-04-09 Daifuku Co Ltd 物品収納設備
JP2010016199A (ja) * 2008-07-03 2010-01-21 Murata Mach Ltd パージ装置
JP2010182747A (ja) * 2009-02-03 2010-08-19 Dan Takuma:Kk 保管システムおよび保管方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017048017A (ja) * 2015-09-02 2017-03-09 株式会社ダイフク 保管棚
KR20170027670A (ko) * 2015-09-02 2017-03-10 가부시키가이샤 다이후쿠 보관 선반
KR102414045B1 (ko) 2015-09-02 2022-06-27 가부시키가이샤 다이후쿠 보관 선반
JPWO2019049518A1 (ja) * 2017-09-08 2020-08-13 村田機械株式会社 保管システムと保管システムでのパージ方法

Also Published As

Publication number Publication date
US9595461B2 (en) 2017-03-14
KR20150001613A (ko) 2015-01-06
TWI621199B (zh) 2018-04-11
TW201508855A (zh) 2015-03-01
JP5884780B2 (ja) 2016-03-15
SG10201402797TA (en) 2015-01-29
US20150000759A1 (en) 2015-01-01
KR102201785B1 (ko) 2021-01-11
CN104249896B (zh) 2018-01-30
CN104249896A (zh) 2014-12-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5884780B2 (ja) 保管設備
JP5716968B2 (ja) 物品保管設備
JP5709011B2 (ja) 物品保管設備
JP5598729B2 (ja) 物品保管設備
JP5874691B2 (ja) 不活性気体供給設備
JP5892113B2 (ja) 物品保管設備
JP5598734B2 (ja) 物品保管設備
KR101903441B1 (ko) 퍼지 장치, 퍼지 시스템, 퍼지 방법 및 퍼지 시스템에 있어서의 제어 방법
CN103174934B (zh) 惰性气体注入设备及惰性气体注入方法
JP5557061B2 (ja) 物品保管設備
KR20170015994A (ko) 퍼지 스토커 및 퍼지 방법
TW201812962A (zh) 容器收納設備
KR20170113389A (ko) 용기 수납 설비

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20150223

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20150619

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20150625

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150813

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20160112

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20160125

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5884780

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250