JP2014534610A - フリップチップアセンブリの洗浄方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
Description
ステップ1:ローディングプレート702に保持されたフリップチップキャリア705に少なくとも1つのフリップチップ100を装填する。
ステップ1:ローディングプレート802に保持されたフリップチップキャリア805に少なくとも1つのフリップチップ100を装填する。
ステップ1:ローディングプレート902に保持されたフリップチップキャリア907に少なくとも1つのフリップチップ100を装填する。
ステップ1:ローディングプレート1002に保持されたフリップチップキャリア1009に少なくとも1つのフリップチップ100を装填する。
ステップ1:ローディングプレート1102に保持されたフリップチップキャリア1108に少なくとも1つのフリップチップ100を装填する。
ステップ1:ローディングプレート1202に保持されたフリップチップキャリア1209に少なくとも1つのフリップチップ100を装填する。
ステップ1:ローディングプレート1302に保持されたフリップチップキャリア1308に少なくとも1つのフリップチップ100を装填する。
ステップ1:ローディングプレート1402に保持されたフリップチップキャリア1409に少なくとも1つのフリップチップ100を装填する。
ステップ1:ローディングプレート1502に保持されたフリップチップキャリア1509に少なくとも1つのフリップチップ100を装填する。
Claims (26)
- フリップチップアセンブリの洗浄装置であって、
チャックアセンブリと、
スピンドルによって前記チャックアセンブリに結合されたモーターと、
フリップチップを保持するための少なくとも1つのキャリアと、
DIW、洗浄液、ガス又は蒸気を導入するための少なくとも1つの噴射ノズルとを備えた装置。 - 請求項1記載の装置において、
前記フリップチップキャリアは、前記チャックアセンブリ上にて回転中心から外れた位置に配置された装置。 - 請求項1記載の装置において、
ローディングプレートを更に備え、
前記フリップチップキャリアは前記ローディングプレート上に配置され、前記ローディングプレートは前記チャックアセンブリに保持された装置。 - 請求項1記載の装置において、
前記キャリアは、上部固定態様でフリップチップを保持する装置。 - 請求項1記載の装置において、
前記キャリアは、下部固定態様でフリップチップを保持する装置。 - 請求項1記載の装置において、
前記フリップチップキャリアは前記チャックアセンブリ上にて回転中心から外れた位置に複数配置され、前記フリップチップキャリアの配置パターンは円形、矩形、渦巻き状、又は同心円状である装置。 - 請求項1記載の装置において、
前記噴射ノズルは、固定ノズル、スキャンノズル又は揺動ノズルである装置。 - 請求項1記載の装置において、
前記噴射ノズルは、前記チャックアセンブリの上方に配置された装置。 - 請求項1記載の装置において、
前記噴射ノズルは、前記フリップチップキャリアの側方に配置された装置。 - 請求項1記載の装置において、
前記チャックアセンブリの中心に設けられた凹所を更に備え、案内溝が前記凹所と各フリップチップキャリアとを連結する装置。 - 請求項1記載の装置において、
各キャリアを保持する凹所を更に備え、当該凹所のエッジに噴射ノズルを有する装置。 - 請求項1記載の装置において、
前記チャックアセンブリに保持された前記フリップチップを予備浸漬するための洗浄液を蓄える外部タンクを更に備えた装置。 - 請求項12記載の装置において、
前記外部タンクの壁に取り付けられた超音波/メガソニック部を更に備えた装置。 - 請求項1記載の装置において、
前記スピンドルは、前記チャックアセンブリの下部に設けられた装置。 - 請求項1記載の装置において、
前記スピンドルは、前記チャックアセンブリの上部に設けられた装置。 - 請求項1記載の装置において、
少なくとも1つの超音波/メガソニック部を更に備えた装置。 - 請求項14記載の装置において、
前記超音波/メガソニック部は、5KHzから10MHzまでの範囲で動作する装置。 - 請求項14記載の装置において、
前記超音波/メガソニック部は、前記キャリア及び前記チャックアセンブリの上方の位置に設けられた装置。 - フリップチップアセンブリの洗浄方法であって、
チャックアセンブリに保持されたフリップチップキャリアに少なくとも1つのフリップチップを装填し、
汚染物を除去するために洗浄液を流し、
ある回転速度で前記チャックアセンブリを回転させる方法。 - 請求項19記載の方法において、
前記フリップチップの長さをBとし、前記フリップチップの幅をAとし、前記チャック上の前記フリップチップキャリアの位置の半径をrとし、2つのチップ結合パッドの間の間隔をhとし、チャック回転時間をtとし、液密度をρとし、液表面張力係数をσとし、所定値Naを
低回転速度Nlは前記所定値Naよりも低い範囲にあり、高回転速度Nhは前記所定値Naよりも高い範囲にあって、
前記低回転速度と前記高回転速度とが交互に適用されるように、洗浄中にチャック回転速度を変更するステップを更に備えた方法。 - 請求項19記載の方法において、
洗浄中に超音波/メガソニックのエネルギーを前記フリップチップに与えるステップを更に備えた方法。 - 請求項19記載の方法において、
前記フリップチップを乾燥させるために前記噴射ノズルを介してガス又は蒸気を吹き付けるステップを更に備えた方法。 - フリップチップアセンブリの洗浄方法であって、
ローディングプレートに保持されたフリップチップキャリアに少なくとも1つのフリップチップを装填し、
前記ローディングプレートをカセット中に装着し、
カセットからローディングプレートを前記処理チャンバ中のチャックアセンブリへ移送し、
汚染物を除去するために前記フリップチップへ洗浄液を流し、
ある回転速度で前記チャックアセンブリを回転させる方法。 - 請求項23記載の方法において、
フリップチップの長さをBとし、フリップチップの幅をAとし、前記チャック上の前記フリップチップキャリアの位置の半径をrとし、2つのチップ結合パッドの間の間隔をhとし、チャック回転時間をtとし、液密度をρとし、液表面張力係数をσとし、所定値Naを
低回転速度Nlは前記所定値Naよりも低い範囲にあり、高回転速度Nhは前記所定値Naよりも高い範囲にあって、
前記低回転速度と前記高回転速度とが交互に適用されるように、洗浄中にチャック回転速度を変更するステップを更に備えた方法。 - 請求項23記載の方法において、
洗浄中に超音波/メガソニックのエネルギーを前記フリップチップに与えるステップを更に備えた方法。 - 請求項23記載の方法において、
前記フリップチップを乾燥させるために前記噴射ノズルを介してガス又は蒸気を吹き付けるステップを更に備えた方法。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2021517732A (ja) * | 2018-01-23 | 2021-07-26 | エーシーエム リサーチ (シャンハイ) インコーポレーテッド | 基板の洗浄方法及び洗浄装置 |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017054146A1 (en) * | 2015-09-30 | 2017-04-06 | Acm Research (Shanghai) Inc. | Apparatus and methods for cleaning wafers |
JP6670940B2 (ja) * | 2015-12-09 | 2020-03-25 | エーシーエム リサーチ (シャンハイ) インコーポレーテッド | 高温化学薬品及び超音波装置を用いた基板の洗浄方法及び装置 |
US10269611B1 (en) * | 2017-11-30 | 2019-04-23 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Method and apparatus for bonding semiconductor devices |
US20210233782A1 (en) * | 2018-04-27 | 2021-07-29 | Acm Research (Shanghai) Inc. | Methods and apparatus for cleaning semiconductor wafers |
CN109087973A (zh) * | 2018-09-27 | 2018-12-25 | 深圳市宝德自动化精密设备有限公司 | 发电薄膜分离装置 |
CN112289720B (zh) * | 2020-09-17 | 2024-04-09 | 江苏长电科技股份有限公司 | 一种复合型子母载板及使用方法 |
CN114472350B (zh) * | 2022-01-24 | 2023-06-02 | 广东金仕伦清洗技术有限公司 | 一种倒装芯片封装底部清洗方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61109136U (ja) * | 1984-12-22 | 1986-07-10 | ||
JPS634890A (ja) * | 1986-06-25 | 1988-01-09 | 株式会社日立製作所 | 小型部品の洗浄装置 |
JPH1041263A (ja) * | 1996-07-22 | 1998-02-13 | Ricoh Co Ltd | 半導体装置の製造方法及び基板洗浄装置 |
US5778913A (en) * | 1997-02-20 | 1998-07-14 | Lucent Technologies Inc. | Cleaning solder-bonded flip-chip assemblies |
JP2005349301A (ja) * | 2004-06-10 | 2005-12-22 | Seiko Epson Corp | 洗浄装置および洗浄方法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100436361B1 (ko) * | 2000-12-15 | 2004-06-18 | (주)케이.씨.텍 | 기판 가장자리를 세정하기 위한 장치 |
JP4532776B2 (ja) * | 2001-05-07 | 2010-08-25 | パナソニック株式会社 | 基板洗浄方法及び電子デバイスの製造方法 |
CN1402311A (zh) * | 2001-08-16 | 2003-03-12 | 矽统科技股份有限公司 | 清洗具有接触孔或介层洞的芯片清洗装置与方法 |
JP4033689B2 (ja) * | 2002-03-01 | 2008-01-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置および液処理方法 |
US20080093315A1 (en) * | 2004-10-29 | 2008-04-24 | Epicrew Corporation | Support for Semiconductor Substrate |
CN101389415A (zh) * | 2006-02-22 | 2009-03-18 | 赛迈有限公司 | 单侧工件处理 |
US20070261726A1 (en) * | 2006-05-11 | 2007-11-15 | Rye Jason A | Multiple workpiece processor |
CN101118855A (zh) * | 2006-08-01 | 2008-02-06 | 上海华虹Nec电子有限公司 | 去除硅片背面氮化硅膜的方法 |
CN100537103C (zh) * | 2006-08-11 | 2009-09-09 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 清除芯片以及铅锡合金凸点表面助焊剂的方法 |
CN101540268B (zh) * | 2008-03-20 | 2012-12-05 | 盛美半导体设备(上海)有限公司 | 用于清洗半导体晶片的方法和装置 |
WO2011151996A1 (ja) * | 2010-06-01 | 2011-12-08 | パナソニック株式会社 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
JP4794685B1 (ja) * | 2010-10-19 | 2011-10-19 | ミクロ技研株式会社 | 基板処理装置及び基板処理方法 |
US20130050468A1 (en) * | 2011-08-22 | 2013-02-28 | Camtek Ltd. | Inspection system and a method for inspecting multiple wafers |
-
2011
- 2011-09-22 WO PCT/CN2011/080011 patent/WO2013040778A1/en active Application Filing
- 2011-09-22 SG SG11201400619QA patent/SG11201400619QA/en unknown
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- 2011-09-22 KR KR1020147010589A patent/KR101837070B1/ko active IP Right Grant
- 2011-09-22 JP JP2014531061A patent/JP6063944B2/ja active Active
-
2019
- 2019-04-19 US US16/389,568 patent/US11876005B2/en active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61109136U (ja) * | 1984-12-22 | 1986-07-10 | ||
JPS634890A (ja) * | 1986-06-25 | 1988-01-09 | 株式会社日立製作所 | 小型部品の洗浄装置 |
JPH1041263A (ja) * | 1996-07-22 | 1998-02-13 | Ricoh Co Ltd | 半導体装置の製造方法及び基板洗浄装置 |
US5778913A (en) * | 1997-02-20 | 1998-07-14 | Lucent Technologies Inc. | Cleaning solder-bonded flip-chip assemblies |
JP2005349301A (ja) * | 2004-06-10 | 2005-12-22 | Seiko Epson Corp | 洗浄装置および洗浄方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021517732A (ja) * | 2018-01-23 | 2021-07-26 | エーシーエム リサーチ (シャンハイ) インコーポレーテッド | 基板の洗浄方法及び洗浄装置 |
JP7230037B2 (ja) | 2018-01-23 | 2023-02-28 | エーシーエム リサーチ (シャンハイ) インコーポレーテッド | 基板の洗浄方法及び洗浄装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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US20140224281A1 (en) | 2014-08-14 |
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