JP2014531124A - 発光デバイスパターンのための改良されたマスキング - Google Patents

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Abstract

本発明は、2つの活性領域を有する発光デバイス、及びかかるデバイスを製造するロバストな方法に関する。第1電極層20は、活性材料10を覆うようマスクを介して堆積される。第2活性材料30は、第1電極層20を覆い、第1電極層20を越えて延在する領域が当該有機材料によって覆われるよう、他のマスクを介して堆積される。その後、第2電極層40が、第2活性材料30全体を覆うよう、マスクを介してコーティングされる。

Description

本発明は、有機発光ダイオード(OLED)デバイス、及びかかるデバイスを製造する方法に関する。
OLEDは、実質的に半導体有機材料からなる発光ダイオードである。OLEDは依然として発達を続けており、多数の分野において潜在的な応用性を有する。始めに、超薄且つ低電圧OLEDが、C. W. Tang and S. A. VanSlyke, “Organic electroluminescent diodes” Appl. Phys. Lett., Vol. 51, pp.913-915 (1987)に記載された。この文献以降、フラットパネルディスプレイ及び固体照明用のこれらのデバイスを改良するために、多くの発展がなされてきた。
典型的なOLEDは、2つの電極(アノード及びカソード)の間に配置された有機材料の層によって構成され、これらは全て基板上に堆積される。動作中、アノードがカソードに対してプラスになるよう、OLEDの両端に電圧が印加される。電子が、カソードにおいて有機層のLUMO内に注入され、アノードにおいてHOMOから引き出され、デバイス中を電子流がカソードからアノードに流れる。後者のプロセスは、HOMO内への正孔の注入と述べることもできる。静電力は電子と正孔とを互いに引き寄せ、両者は再結合して、電子及び正孔の結合状態である励起子を形成する。有機半導体内では正孔は電子より動きやすいため、これは発光層の近くで起こる。この励起状態の崩壊は、電子のエネルギーレベルの緩和をもたらし、可視領域内の周波数の放射を伴う。
デバイスの発光(放射)効率の向上に関する研究は、依然として大きな焦点である。一般的に、効率の向上は、高効率発光材料及び新たなデバイス構造の設計によって達成することができる。OLEDのスタックユニットからなる多光子デバイスによって高電流効率を達成することができる。電子及び正孔のリサイクルにより、電流効率を向上することができる。
個別に接触可能な領域を有するOLEDが製造される場合、これは、各部分の有機OLED材料及びカソード材料が、個別のマスクを用いて、光を出射する予定の領域のみがこれらの材料によって覆われるよう堆積されるプロセスによって行われる。これは、第2発光層領域を覆うためのマスクが、すでに堆積された層の領域に重複する又は触れる状況をもたらす。これは、これらの層に微小な損傷を与え、視覚的な損傷又は短絡を生じ得る。この問題はOLEDデバイスに限定されず、層構造を有する他のパターニングされた発光デバイスでも起こり得る。
本発明の課題は、改良された性能を有する発光デバイス、及び発光デバイスを製造する方法を提供することである。
この課題は、請求項1に記載の発光デバイス、及び請求項10に記載の製造方法によって達成される。
したがって、マスク層は堆積層に接触しない(アノード層及び任意選択の絶縁層を除く)。また、製造歩留りの改善に加えて、発光の均質性を向上させることができる。発光領域のみが導電カソード層によって覆われる場合と比べて、著しく広い領域をカソード層によって覆うことができ、これによりシート抵抗を減少させることができ、より良い電流分布を得ることができる。
第1の側面によれば、デバイスは、少なくとも2つのパターニングされた活性領域を有してもよく、第1電極層は、発光デバイスの第1コンタクト部を提供するよう、基板の端まで延び、第2電極層は、第1コンタクト部の少なくとも一部を除き、第2コンタクト部を提供するよう発光デバイスの端まで延び、第1及び第2活性領域は、第1及び第2コンタクト部を介して個別に接触可能である。したがって、積み重ねられた活性領域は、対応する電極層のコンタクト部により個別に電気的に接触することができる。
第2の側面によれば、第1及び第2電極層はカソード層である。したがって、第1及び第2活性領域の発光は、第1及び第2カソード層を介して個別に制御できる。伸長カソード層を有するスタック(積み重ね)アプローチは、視覚的な損傷及び/又は短絡が低減された、パターニングされたOLED構造を提供する。
第1の側面と組み合わせられ得る第3の側面によれば、発光デバイスは、第1及び第2活性層が有機層であるOLEDデバイスでもよい。
第1又は第2の側面と組み合わせられ得る第4の側面によれば、第2カソードによって覆われる領域は第2活性領域より(著しく)広い。これにより、シート抵抗を低減することができ、電流分布を改良できる。
第1乃至第3の側面のいずれか1つと組み合わせられ得る第5の側面によれば、マスキングプロセスはシャドーマスキングを含んでもよい。これにより、高い柔軟性を有するパターニングが、特に有機材料に関して実現できる。
第1乃至第5の側面のいずれか1つと組み合わせられ得る第6の側面によれば、第1電極層は、透明な中間電極を形成するよう構成されてもよい。この場合、基板は、絶縁領域によって分離される第1アノード及び第2アノードを含んでもよく、第1活性領域は、第1アノードを覆い、絶縁領域まで延在し、第2活性領域は、第1アノード上の中間電極を覆い、第2アノードにわたって延在する。これにより、2つの活性領域の選択的活性化を可能にする構造化アノードを提供することができ、重複領域においては出射波長の混合が出射される。
第6の側面と組み合わせられ得る第7の側面によれば、中間電極は、自身の光透過特性を変更するために電力を供給するための端子を有してもよい。したがって、色混合は、中間電極に印加される電圧によって制御することができる。
第6又は第7の側面と組み合わせられ得る第8の側面によれば、中間電極は、カラーフィルタ特性を提供するよう構成されてもよい。したがって、出力色はカラーフィルタの色特性によって影響を受けることができる。
他の好適な実施形態は以下に定義される。
本発明の上記及び他の側面は、後述される実施形態を参照して説明されることにより明らかになるであろう。
図1は、本発明の第1実施形態に係る、基板を覆う第1有機領域の概略的な上面図を示す。 図2は、第1実施形態に係る、基板及び第1有機領域を覆う伸長第1カソード層の概略的な上面図を示す。 図3は、第1実施形態に係る、基板上の第1OLED層スタックを覆う第2有機領域の概略的な上面図を示す。 図4は、第1実施形態に係る、基板上の第1OLEDスタックを覆う第2OLEDスタックの伸長第2カソード層の概略的な上面図を示す。 図5は、第1実施形態の第1有機領域及び第2有機領域の発光の概略的な上面図を示す。 図6は、本発明の第2実施形態に係る、基板を覆う第1有機領域の概略的な上面図を示す。 図7は、第2実施形態に係る、基板及び第1有機領域上に堆積される透明な中間電極の概略的な上面図を示す。 図8は、第2実施形態に係る、基板上の第1OLEDスタックを覆う第2有機領域の概略的な上面図を示す。 図9は、第2実施形態に係る、基板上の第1OLEDスタックを覆う第2OLEDスタックのカソード層の概略的な上面図を示す。 図10は、第2実施形態の第1有機領域及び第2有機領域の発光の概略的な上面図を示す。 図11は、第2実施形態において使用してもよい構造化アノードの概略的な上面図を示す。
2つの発光領域、及び伸長電極層を少なくとも有するスタックOLEDデバイスに基づいて、様々な実施形態を以下に説明する。ただし、本発明は、パターニングされた層−スタック構造、及び2つ以上の活性領域を有する任意の種類の発光デバイスに適用できることに留意されたい。上層が下層より広く、よって下層を覆う構成において、構造化された上層を構造化された下層上に堆積することによって、マスクの劣化又は損傷が防止される。
OLEDデバイスは、ガラスパネル、又は有機材料若しくは金属からなるパネルによって形成されてもよい基板部材を有する。したがって、基板部材は、異なる層が積み重ねられる基礎構造を形成する。これらの層は、酸化インジウムスズ層(ITO層)として実現されてもよい、活性領域を形成する複数の異なる機能的有機層が載せられるアノード層を少なくとも含み、機能的有機層は、簡略化のために単一の有機層又は発光層として示される場合がある。これらの機能的有機層は、正孔注入層、正孔輸送層、光の出射が実現される発光層(燐光及び/又は蛍光発光体)、少なくとも1つの正孔ブロッキング層、電子輸送層、及び少なくとも1つの電子注入層を少なくとも有してもよく、各層は通常非常に薄く、それぞれ例えば厚さ約10nmに限定される。最上層はカソード層であり、アノード層との間で複数の異なる機能層を挟む。アノード層とカソード層との間には電源が接続される。
以下において、図1〜図5を参照して、本発明の第1実施形態による、2つの活性領域(すなわち、発光有機領域)を有する積層OLED構造の改良された製造方法を説明する。これにより、2つ以上の活性領域からなるOLEDデバイスのためのロバストな製造方法を実現することができる。第1実施形態のOLEDデバイスは、OLEDデバイスの縁又は端において電気的コンタクト部を提供する伸長カソード層を有する、少なくとも2つの個別に接触可能な発光領域を含み、2つの完全なOLEDが上下に重ねられる。アノード層とカソード層との間での短絡を防ぐために、アノード層は、自身の背面から接触される、又は機能的有機層若しくは領域が配置されていない領域上の絶縁層によって覆われる導電路を介して接触される構造化アノード層でもよい。他のオプションとして、アノード層は、機能的有機層又は領域によって覆われていない領域内の絶縁層によって覆われる非構造化アノード層でもよい。非構造化アノード層は、自身の背面から接触されるか、又はOLEDデバイスの端部であって、絶縁層が存在しておらず、アノード層が上側のカソード層と接触不可能な部分において接触されてもよい。
図1は、第1有機領域10が基板12の構造化又は非構造化アノード層(図示なし)を部分的に覆うよう、第1有機領域10がシャドーマスクを介して基板12上にコーティングされる第1ステップの後のOLED構造の上面図を示す。したがって、第1ステップにおいて、OLEDデバイスの活性パターンの第1有機領域10は、シャドーマスクを介して基板12上に堆積される。これは、ピクセルを形成する発光有機分子が堆積される、シャドーマスク蒸着と呼ばれるスモールスケール技術によって実現されてもよい。代替的な堆積技術は、インクジェットプリンティング、又は大面積にわたる高品質OLEDピクセルを実現するようシャドーマスクプリンティング及びインクジェットプリンティングの特徴を兼ね備え得る他の技術でもよい。また、連続して堆積されるカソード層20と基板12のアノード層との間に絶縁を提供する電気絶縁領域99が堆積される。第1有機領域10のどこかがOLEDデバイスの端に達し、アノード層とカソード層20との間の直接の接触が防がれる場合、絶縁領域99は省かれてもよい。
図2は、OLEDの縁におけるコンタクト部又はレッジ(出っ張り)に伸びる第1カソード層20が、第1カソード層20が第1有機領域10及び絶縁領域99を覆うよう、シャドーマスクを介して基板12上にコーティング又は堆積される第2ステップの後のOLED構造の上面図を示す。よって、このステップの後、個別に接触可能な活性領域が形成されるよう、カソード層20は第1有機領域10を覆い、OLEDデバイスの縁におけるコンタクト部まで延びる。アノード層への短絡のリスクを減らすために、カソード層は絶縁領域99よりいくらか小さくあるべきである。
図3は、第2有機領域30がシャドーマスクを介して基板12上、第1活性領域の最初にコーティングされた構造の上にコーティングされる第3ステップの後のOLED構造の上面図を示す。第2有機領域30は堆積され、マスクは、第1活性領域の第1OLEDスタックが、OLED構造の第2有機領域30の有機材料によって覆われるよう作成される。
図4は、第2活性領域の第2OLEDスタックの第2カソード層40が第1OLEDスタックにわたってコーティングされる第4ステップの後のOLED構造の上面図を示す。第2ダイオードの第2カソード層40は、カソードコンタクトレッジの一部又は第1活性領域の第1OLEDスタックの一部のみを除いて、第2有機領域30全体を覆うよう、シャドーマスクを介してコーティング又は堆積される。また、OLED構造又はデバイスの縁における対応するコンタクト部によって第2コンタクト層40と電気的に接触することを可能にするために、第2コンタクト層40は、OLED構造の縁まで延びるよう拡大される。
図5は、上記の4つのステップによって製造された上面発光OLED構造によって実現される発光の上面図を示す。第1有機(OLED)領域10は、例えば緑色光を出射してもよく、包囲する第2有機(OLED)領域30は、青色光を出射してもよい。第1活性領域の第1カソードコンタクト層20は光を発さず、よって黒色で示されている。2つの有機領域10,30は、各活性領域からの発光を制御するために別々に電気的に接触できる。
したがって、少なくともいくつかの領域において、2つのOLEDスタック又は構造を上下に配置することができる。上側の活性領域の発光が出射することができない領域において、高い導電性を提供するために上側のカソードのサイズを拡大できるよう、上側の有機層又は領域は、2つのカソードコンタクト層を互いに絶縁する機能を果たす。
次に、図6〜図11を参照して、本発明の第2実施形態に係る、2つの活性領域(すなわち、発光有機領域)を有する積層OLED構造のための改良された製造方法を説明する。これにより、2つの活性領域からなるOLEDデバイスのための、よりロバストな製造方法を実現することができる。第2実施形態のOLEDデバイスは、中間電極及び単一の上側カソード層を有する2つの別個の発光領域を含む。
図6は、第1実施形態と同様に、第1有機層又は領域10が、シャドーマスクを介して基板12上にコーティング又は堆積される第1ステップの後のOLED構造の上面図を示す。上記と同様に、これは、シャドーマスク蒸着と呼ばれるスモールスケール技術、又は大面積にわたっての高品質のOLEDピクセルを実現するシャドーマスクプリンティング及びインクジェットプリンティングの特徴を兼ね備え得る他の技術等によって実現されてもよい。第1有機領域10は、カソードが存在し、アノードとカソードとの間に電圧が印加される場合、所定の色、例えば青色の光を出射するのに適している。
図7は、透明な中間電極50が第1有機領域10上にシャドーマスクを介して堆積又はコーティングされる第2ステップの後のOLED構造の上面図を示す。よって、このステップの後、中間電極50は第1有機領域10を覆う。
図8は、第2有機層又は領域60がシャドーマスクを介して基板12上、中間電極50の上にコーティングされる第3ステップの後のOLED構造の上面図を示す。第2有機領域50は堆積され、マスクは、第1活性領域10の第1OLEDスタックが、OLED構造の第2有機領域60の有機材料によって覆われるように形成される。したがって、第2有機領域60は、中間電極50の上、及び、所定の色、例えば黄色の光を出射することができる基板12のアノード層(図3では図示されない)の少なくとも一部の上にコーティングされる。第2有機領域60はしたがって、第1有機領域10上に延在する。
図9は、第2活性領域の第2OLEDスタックのカソード層70が第1OLEDスタックにわたってコーティングされる第4ステップの後のOLED構造の上面図を示す。第2ダイオードのカソード層70は、有機領域10及び60上に延在するよう、シャドーマスクを介してコーティング又は堆積される。
図10は、上記の4つのステップによって製造された上面発光OLED構造によって実現される発光の上面図を示す。基板12のアノード層(図示なし)とカソード層70との間に電圧が印加されると、有機材料中を電流が流れる。第1有機スタックは所定の波長(例えば、青色)の光を出射し、第2有機材料は他の波長(例えば、黄色)の光を出射する。両層が互いに重なる領域においては、2つの別個の有機領域10,60の波長の混合が出射される(例えば、青色+黄色=白色)。
第2実施形態においては、第1実施形態とは異なり、カソード層が両方の発光領域のために使用され、また異なる厚さを有するスタックが異なる電圧によって駆動されるため、構造化アノードが必要になる。
図11は、第2実施形態において使用することができる構造化アノードの概略的な上面図を示す。第1及び第2アノード部又はアノードA1,A2は基板内又は上に設けられ、絶縁領域Iによって絶縁される。第1有機領域10は第1アノードA1上に設けられ、第1アノードA1と第2アノードA2との間の絶縁領域Iまで延在する。第1及び第2アノードA1及びA2は背面接触を介して、又は構造化された絶縁層によって覆われる接触ストリップによって接触されてもよい。また、第1有機領域10を覆う透明な中間電極(層)50も絶縁領域Iまで延在する。第2有機領域60は、第1アノードA1上の中間電極50を覆い、第2アノードA2にわたって延在する。これにより、第1アノードA1は下側のOLEDスタックを第1有機領域10によって制御し、第2アノードA2は上側のOLEDスタックを第2有機領域60によって制御する。
要約すると、2つの活性領域を有する発光デバイス、及びかかる装置を製造する、よりロバストな方法を説明してきた。かかる発光デバイスにおいて、第1電極層がマスクを介して活性材料を覆うように堆積される。第2活性材料が、第1電極層を覆い、第1電極層を越えて延在する領域が当該有機材料によって覆われるよう、他のマスクを介して堆積される。その後、第2電極層が、第2活性材料全体を覆うようにマスクを介してコーティングされる。
本発明は、図面及び上記記載において詳細に図示及び記載されたが、かかる図示及び記載は例示的であり、限定的に解釈されるべきではない。本発明は、開示の実施形態に限定されず、中間カソード層、及びこれによる「被覆(覆われた)ピクセル」を含む、3つ、又は場合によってはそれ以上の積層有機層を有するスタック発光デバイス構造の多様なタイプに使用することができる。したがって、この概念は3つ以上の活性領域に一般化できる。活性領域のサイズは、活性材料(例えば、有機又は他の発光材料)の効率性、及び目的の用途(白色光、有色光、ディスプレイ)に合わせて適合できる。カソード層の代わりに他の種類の電極層(例えば、アノード層)を使用してもよく、例えば、堆積層の順番を逆転させることにより、アノード及びカソードの位置を交換できる。また、中間電極は透明及び制御可能でもよい。また、当業者は、本発明の実施にあたり、図面、明細書、及び特許請求の範囲を参照することにより、開示の実施形態の他の変形例を理解し、実施することができるであろう。請求項において、用語「含む(又は備える若しくは有する)」は他の要素又はステップを除外せず、要素は複数を除外しない。いくつかの手段が互いに異なる従属請求項に記載されているからといって、それらの手段の組み合わせを好適に用いることができないとは限らない。請求項内の参照符号は、特許請求の範囲を限定すると解されるべきではない。

Claims (15)

  1. a)基板と、
    b)前記基板上に配置される、第1活性領域を形成する第1活性層と、
    c)第1の色の光を発する第1ダイオード構造を形成するよう、前記第1活性領域を覆う第1電極層と、
    d)第2活性領域を形成する第2活性層であって、前記第1ダイオード構造を越えて延在するよう前記第1ダイオード構造を覆う、第2活性層と、
    e)第2の色の光を発する第2ダイオード構造を形成するよう、前記第2活性領域を覆う第2電極層と
    を有する、発光デバイス。
  2. 前記デバイスは、少なくとも前記2つのパターニングされた活性領域を有し、前記第1電極層は、前記発光デバイスの第1コンタクト部を提供するよう、前記基板の端まで延び、前記第2電極層は、前記第1コンタクト部の少なくとも一部を除き、第2コンタクト部を提供するよう前記発光デバイスの端まで延び、前記第1及び第2活性領域は、前記第1及び第2コンタクト部を介して個別に接触可能である、請求項1に記載のデバイス。
  3. 前記第1及び第2電極層は、カソード層である、請求項2に記載のデバイス。
  4. 前記発光デバイスは有機発光ダイオードデバイスであり、前記第1及び第2活性層は有機層又は有機層スタックである、請求項1に記載のデバイス。
  5. 前記第2カソード層によって覆われる領域は、前記第2活性領域より広い、請求項1に記載のデバイス。
  6. 前記第1電極層は、透明な中間電極を形成する、請求項1に記載のデバイス。
  7. 前記基板は、絶縁領域によって分離される第1アノード及び第2アノードを含み、前記第1活性領域は、前記第1アノードを覆い、前記絶縁領域まで延在し、前記第2活性領域は、前記第1アノード上の前記中間電極を覆い、前記第2アノードにわたって延在する、請求項6に記載のデバイス。
  8. 前記中間電極は、自身の光透過特性を変更するために電力を供給するための端子を有する、請求項6に記載のデバイス。
  9. 前記中間電極は、カラーフィルタ特徴を提供する、請求項6に記載のデバイス。
  10. a.基板を提供するステップと、
    b.第1活性領域を形成する第1有機層を、第1マスキングプロセスを用いることによって前記基板上に堆積するステップと、
    c.第1の色の光を発する第1ダイオード構造を形成するよう、第2マスキングプロセスを用いることによって、前記第1活性領域を覆う第1電極層を堆積するステップと、
    d.第2活性領域を形成する第2有機層であって、前記第1ダイオード構造を越えて延在するよう前記第1ダイオード構造を覆う第2有機層を、第3マスキングプロセスを用いることによって堆積するステップと、
    e.第2の色の光を発する第2ダイオード構造を形成するよう、第4マスキングプロセスを用いることによって、前記第2活性領域を覆う第2電極層を堆積するステップと
    を含む、発光デバイスを製造する方法。
  11. 前記方法は、少なくとも前記2つのパターニングされた活性領域を形成し、前記第1電極層は、前記発光デバイスの第1コンタクト部を提供するために、前記基板の端まで延びるよう形成され、前記第2電極層は、前記第1コンタクト部の少なくとも一部を除き、第2コンタクト部を提供するために前記発光デバイスの端まで延びるよう形成され、前記第1及び第2活性領域は、前記第1及び第2コンタクト部を介して個別に接触できるよう形成される、請求項10に記載の方法。
  12. 前記基板に、絶縁領域によって分離される第1アノード及び第2アノードを設けるステップと、前記第1アノードを覆い、前記絶縁領域まで延在するよう、前記第1活性領域を形成するステップと、前記第1アノード上の前記第1電極層によって形成される中間電極を覆い、前記第2アノードにわたって延在するよう、前記第2活性領域を形成するステップとをさらに含む、請求項10に記載の方法。
  13. 自身の光透過特性を変更するために電力を供給するための端子を有するよう前記中間電極を形成するステップをさらに含む、請求項12に記載の方法。
  14. カラーフィルタ特性を提供するように前記中間電極を形成するステップをさらに含む、請求項12に記載の方法。
  15. 前記マスキングプロセスは、シャドーマスキングを含む、請求項10に記載の方法。
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