JP2014516022A - セメント系システムに使用するための、低モルの均一に置換されたｈｅｃ - Google Patents

Abstract

低モル置換であり、均一に置換されたヒドロキシエチルセルロースは、モルタルを含むセメント系システムに有用である。セメント系システムは、高温における長い可使時間及び非常に高い保水力、並びに市販のセルロースエーテル化合物を有する典型的なセメント系システムと比較して、優れたペースト安定性及び高温及び低温の最適化された硬化挙動を示す。メチルヒドロキシエチルセルロースなどの親水性が低いセルロースエーテルを第２のセルロースエーテルとして加えることができる。

Description

（関連出願）
本出願は、２０１１年６月９日に出願された米国仮出願第６１／５２０，４０９号に関連し、その優先権を主張し、参照によりその開示を本明細書に援用する。

本発明は、典型的な市販のセルロースエーテル化合物と比較して、高温での長い可使時間（ｐｏｔ ｌｉｆｅ）及び非常に高い保水力をもたらし、また、より優れたペースト安定性、高温及び低温での最適化された硬化挙動をもたらす、モルタルを含むセメント系システムに有用なセルロースエーテル化合物に関する。

乾燥モルタル産業において、セルロースエーテルは、典型的には、得られる湿潤モルタルの優れた保水を達成するための保水剤として使用される。保水は、あらゆるバインダーを含むモルタルを適切に水和するための含水量を制御し、モルタルの優れた作業性を達成するために必要である。モルタルの適正な水和性能をもたらす第２の有利な効果は、モルタルの適切な強度成長、並びに適用されるモルタル層のクラック及びサンディング効果（ｓａｎｄｉｎｇ ｅｆｆｅｃｔ）を避けることである。

乾燥モルタルの用途に使用される典型的なセルロースエーテルは、メチルヒドロキシエチルセルロース（ＭＨＥＣ）及びメチルヒドロキシプロピルセルロース（ＭＨＰＣ）である。ＭＨＥＣ及び／又はＭＨＰＣを含有するモルタルは、強度成長、クラック及びサンディング効果の抑制の所望の特性を示す。残念ながら、ＭＨＥＣ及びＭＨＰＣは、典型的には、モルタルに高温の安定性を付与できない。それらの疎水性により、それらのどちらかが昇温で適切に溶解しないか、それらが沈殿し、その結果モルタルにおける温度の上昇で不活性になる。

その親水性により、ヒドロキシエチルセルロース（ＨＥＣ）は、昇温に対しても水溶液中で沈殿せず、非常に高い温度でも湿潤モルタルに温度安定性を付与することができる。残念ながら、ＨＥＣは、得られるモルタル、すなわちＨＥＣ含有モルタル中に十分な空隙安定性を付与しない。標準的なＨＥＣ含有モルタルにおいて、モルタルは、その後湿潤モルタル中でより大きな気泡に凝集する小さな気泡を示す。得られる適用された標準的なＨＥＣを含有するモルタルは、モルタル中のこれらの大きな気泡の存在により、劣っており、大抵は許容できない表面の外観を示す。

高温の気候条件下で必要な可使時間及び開放時間（ｏｐｅｎ ｔｉｍｅ）を有し、モルタルの適用を可能にし、さらに混合中及び適用時に十分な水を保持して必要な機能及び美観を有する仕上げ表面をもたらすモルタルに対する必要性が存在する。

本発明は、高温の気候条件下で改善された可使時間及び開放時間を有する、モルタルなどのセメント系システムに関する。本発明のセメント系システムは、セメント、フィラー／骨材、及び低モル置換度（ＭＳ＝１．８〜２．２）の「より均一な」置換されたＨＥＣを含むレオロジー制御剤を含有する。セメント系システムはまた、モルタルなどのセメント系システムに適切な稠度を付与するための十分な水を含有する。セメント系システムのレオロジー制御剤は、前記均一なタイプのＨＥＣよりも親水性の低い第２のセルロースエーテルを含んでもよい。レオロジー制御剤は、乾燥基準のセメント系システムの質量に基づいて、約０．１０質量％から約１質量％の量で存在する。一般的に、ブレンド中のヒドロキシエチルセルロースに対する第２のセルロースエーテルの質量比は、約１０：９０から約９０：１０の範囲である。典型的には、第２のセルロースエーテルは、メチルヒドロキシエチルセルロース又はメチルヒドロキシプロピルセルロースである。

本発明のさらなる実施形態は、添付した図面によって理解することができる。

図１は、ＥＩＦＳ中の様々なＭＨＥＣ／ＨＥＣブレンド（５０：５０）の４０℃における粘度のグラフである。 図２は、ＥＩＦＳ中の様々なＣＥ及びＭＨＥＣ／ＨＥＣブレンド（５０：５０）の２０℃における粘度のグラフである。

本発明は、高温の気候条件下でモルタルなどのセメント系システムの適用において使用するための、セルロースエーテル製品に関する。本発明のセルロースエーテル製品は、高温での保水、可使時間、及び開放時間などの、様々な重要な適用プロセスに関連するパラメータを改善する。

乾燥モルタル用途などの本発明のセメント系システムにおいて使用するセルロースエーテル製品は、低モル置換度（ＭＳ＝１．８〜２．２）の均一なタイプのＨＥＣである。この用途の目的のために、「均一なタイプ」は、標準的な市販のＨＥＣよりも「均一なタイプ」で置換された、セルロース骨格に沿ったＥＯ置換のより均一な分布を表す、低割合の非置換ＡＧＵ及び低ＭＳ／ＤＳ比と相関する、市販のＨＥＣと比較して低割合の遊離グルコースによって特徴付けられる。本発明で使用する低モル置換度均一タイプのＨＥＣは、米国特許出願第２００６／０１９９７４２号（国際公開第２００６／０９４２１１号参照）に開示されている、水溶性の、低ＨＥ−ＭＳ ＨＥＣ及び変性ＨＥＣであってもよく、その全体の開示を参照により本明細書に援用する。本発明で使用する低ＭＳの均一なタイプのＨＥＣは、標準的な市販のＨＥＣの高温安定性を提供し、改善された湿潤モルタル構造、より高い水性粘度及び保水力を示す。さらに、その低く、しかしより均一なエチレンオキシド置換により、低ＭＳの均一なタイプのＨＥＣの使用は、室温及び昇温で許容可能な硬化挙動を示す。

低ＭＳの均一なタイプのＨＥＣはまた、セメント系システムに使用するための、メチルヒドロキシエチルセルロース（ＭＨＥＣ）又はメチルヒドロキシプロピルセルロース（ＭＨＰＣ）などの、より親水性の低い他のセルロースエーテル（ＣＥ）とブレンドしてもよい。低ＭＳの均一なタイプのＨＥＣを含有するＣＥ／ＨＥＣブレンドは、標準的な市販のＨＥＣを含有するブレンドと比較して、利点を提供する。低ＭＳの均一なタイプのＨＥＣが、標準的な市販の等級のＨＥＣよりも改善された気泡安定性、及びより優れたモルタル構造を提供するため、より高い割合のＨＥＣがＣＥ／ＨＥＣブレンドで使用されてもよく、さらにＭＨＥＣ又はＭＨＰＣのみを含有するセメント系システムに対して知られている許容可能なモルタル構造を達成する。ＣＥ混合物中のより多い量のＨＥＣは、標準的な市販のＨＥＣを含有するＭＨＥＣ／ＭＨＰＣが豊富なブレンドと比較して、改善された高温安定性をもたらす。さらに、得られる低ＭＳの均一なタイプのＨＥＣを含有するＣＥ／ＨＥＣブレンド含有モルタルは、低温及び高温条件の両方に対して許容可能である。

低ＭＳの均一なタイプのＨＥＣは、より高いＭＳを有するＨＥＣと比較して、より高い水性粘度を示す。低ＭＳの均一なタイプのＨＥＣの使用は、より高い水性ＨＥＣ粘度及び改善された保水力を達成するか、より低粘度のセルロースの使用により標準的な市販のＨＥＣの等級と同様の粘度のＨＥＣを達成することができるという利点をもたらす。

セメント系システムは、セメント、フィラー／骨材、低ＭＳの均一なタイプのＨＥＣを含むレオロジー制御剤を含む、様々な成分を含有し、メチルヒドロキシエチルセルロースとメチルヒドロキシプロピルセルロースとのブレンド、及びセメント系システムに適切な稠度を付与するために十分な水を含むブレンドなどの、他のＣＥを含んでもよい。レオロジー制御剤は、乾燥基準のセメント系モルタルの質量に基づいて、約０．１質量％から約１質量％の量で存在してもよい。用語「セメント」には、これらに限定されないが、ポートランドセメントなどの水硬性セメント、ポートランドセメントと、フライアッシュ、高炉スラグ、炭酸カルシウム、ポゾランなど、及びこれらの混合物などの他の成分とを含有するブレンドしたセメントである複合セメント、又はアルミナセメントなど、並びにこれらの混合物が含まれる。

建築産業で通常使用されているあらゆる種類のフィラー／骨材を、本発明の文脈において有効に使用してもよい。好適なフィラー／骨材の例は、ケイ砂、炭酸カルシウム、ドロマイト、並びにパーライト、ポリスチレンビーズ、中空／発泡ガラス若しくはセラミックの球体、コルク、ゴムなどの軽量骨材、及びこれらの混合物である。モルタル中のフィラー／骨材の割合は、全乾燥成分に基づいて、好ましくは５０質量％から約８５質量％、より好ましくは６０質量％から約８０質量％、最も好ましくは６５質量％から約７５質量％である。

本発明のセメント系システムに使用するレオロジー制御剤は、低ＭＳの均一なタイプのＨＥＣ、又は低ＭＳの均一なタイプのＨＥＣと、メチルヒドロキシエチルセルロース（ＭＨＥＣ）若しくはヒドロキシプロピルセルロース（ＭＨＰＣ）などの別のＣＥとのブレンドであってもよい。セメント系システム中に存在するレオロジー制御剤としての、ＭＨＥＣと低ＭＳの均一なタイプのＨＥＣとのブレンドは、約１０：９０から約９０：１０、好ましくは約３０：７０から約７０：３０、又は約５０：５０の比であってもよい。

上塗り（ｓｋｉｍ ｃｏａｔ）又はＥＩＦＳモルタルなどのセメント系システムにおいて、セメント系システムの保水は、主にＣＥによって影響を受ける。メチルヒドロキシプロピルセルロース（ＭＨＰＣ）又はメチルヒドロキシエチルセルロース（ＭＨＥＣ）などの典型的なセルロースエーテルは、最大４０℃の温度で優れた性能を示すが、高温において、これらの典型的なセルロースエーテルのみによる上塗り又はＥＩＦＳモルタルなどのセメント系システムの保水力は大きく劣っている。

標準的な市販のＨＥＣの保水力が、高温において非常に安定であることはよく知られている。しかし、標準的な市販のＨＥＣは劣ったペースト安定性を示し、これにより劣った作業性と表面の外観をもたらす。

本発明を例示するために実施例を示し、他に示されない限り、部及びパーセントは質量による。

典型的なセメント系上塗り又はＥＩＦＳモルタルは、以下の成分のいくつか又は全てを含有することができる。

以下の分析方法を使用して、本明細書で使用するパラメータを測定した。

加水分解による非置換無水グルコース単位（ｕｎｓｕｂ．ＡＧＵ）−イオンクロマトグラフィー
約０．３グラムのサンプルを、３ミリリットルの７２％硫酸で処理し、０．３６モルの酸に水で希釈し、５時間還流することによって、グルコースと非置換グルコースに加水分解する。溶液を、高ｐＨ溶離液でパルスアンペリロメトリック検出を有するイオン交換クロマトグラフィーで分析する。非置換無水グルコースの濃度を、グルコース標準による較正後に定量する。

ＨＥＣモル置換度分析（シールされたチューブ ＺｅｉｓｅｌによるＨＥ−ＭＳ−ガスクロマトグラフィー）
全揮発性物質及び塩含有量を質量較正した約９０ミリグラムのサンプルを、圧力チューブの５７％水性ＨＩ、及び内部標準２，５−ジメチルヘキサンのｏ−キシレン中に入れ、アルミニウムブロック中で１８５℃で２時間加熱する。ヒドロキシエチル官能基から形成したヨウ化エチルを、形成したままキシレン層中で抽出する。冷却後、キシレン層を、２．６５マイクロメーターの結合したメチルシリコーン静止相及びフレームイオン化検出器を含有する３０ｍ×０．５３ｍｍのｉｄカラムを使用してガスクロマトグラフィーで分析する。形成したヨウ化エチルの割合を、２，５−ジメチルヘキサン内部標準に対するその応答を使用して計算し、分子置換度（ＭＳ）をその結果から計算する。

ブルックフィールド粘度測定
１．０質量％ＨＥＣ水溶液を、少なくとも１６時間、約２．５グラムの水分で較正したＨＥＣ粉末を溶解することによって調製した。サンプル溶液の粘度を、ＬＶＴスピンドル番号４、３０ｒｐｍ、２５℃で、ブルックフィールド粘度計で測定する。

酵素遊離グルコース
１．５ｇの２％ＨＥＣ溶液、１．５ｍｌの二重強度アセテート緩衝液（ｐＨ ４．８）、及び３０μｌのＣｅｌｌｕｃｌａｓｔ １．５Ｌを混合し、４５℃で１８．５時間培養し、続けて反応混合物を１００℃で３０分間加熱する。サンプル中の酵素遊離グルコースの量を、ＧＯＤ−ＰＡＰ法又はＨｅｘｏｋｉｎａｓｅ法によってグルコースを測定するための市販の試験キットを使用して分光的に測定する。定量化は、一連のグルコース標準溶液を使用した較正を介して行う。

表２Ｂ（１〜２）中のサンプルに対して、遊離グルコースの量及びＭＳ／ＤＳ、％非置換ＡＧＵの間に相関が存在する。低ＭＳの均一なタイプのＨＥＣ 実施例１Ａ及び実施例１Ｃの実施例は、標準的な市販のＨＥＣ（Ｎａｔｒｏｓｏｌ（登録商標）２５０ ＨＲ ヒドロキシエチルセルロース、Ｈｅｒｃｕｌｅｓ Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄから入手可能）と比較して、低割合の遊離グルコースによって特徴付けられ、これは、開発中のＨＥＣサンプル中のセルロース骨格に沿ったＥＯ置換のより均一な分布を示す、低ＭＳの均一なタイプのＨＥＣサンプルに対する低割合の非置換ＡＧＵ及び小さいＭＳ／ＤＳ比と相関する。

（実施例１）
全ての試験を、３５．０質量％のポートランドセメントＣＥＭ Ｉ ５２．５Ｎ、５．０質量％の水和石灰、５９．２質量％のケイ砂、０．３質量％のセルロースエーテルの上塗り混合物で行った。

（試験の手順）
保水力
保水力の試験を、以下の手順に従って行った：
５秒以内に、４００ｇの乾燥モルタルを、対応する量の水に加えた。キッチンハンドミキサーを使用して５０秒間サンプルを混合した後、得られたサンプルを５分間放置した。その後、モルタルをさらに１０秒間混合し、一枚の濾紙の上に位置するプラスチックの環に充填した。濾紙とプラスチックの環の間に薄い繊維のフリースを置き、濾紙をプラスチック板の上に置いた。モルタルを充填する前と後の物品の質量を測定した。こうして、湿潤したモルタルの質量を計算した。さらに、濾紙の質量は知られている。濾紙を５分間浸漬した後、濾紙の質量を再び測定した。以下の式を使用して、保水［％］を計算した。

式中、ＷＵ＝濾紙の水の取り込み ［ｇ］
ＷＦ＝水係数^＊
ＷＰ＝石膏の質量 ［ｇ］
＊水係数：使用した乾燥モルタルの量で割った使用した水の量、例えば１００ｇの乾燥モルタル上の２０ｇの水は、０．２の水係数をもたらす。

可使時間
可使時間の試験を、以下の手順に従って行った：
５秒以内に、４００ｇの乾燥モルタルを、対応する量の水に加えた。キッチンハンドミキサーを使用して５０秒間サンプルを混合した後、得られたサンプルを５分間放置した。その後、モルタルをさらに１０秒間混合し、カップに充填した。モルタルの稠度をすぐに、及び３０分間隔で手動で測定した。可使時間は、モルタルの稠度が十分大きくなった場合に終了する。

結果
可使時間は、モルタルなどのセメント系システムの適切な作業性を十分な時間確保するために必須である。温度安定性を有し、使用者が作業バケツ中のセメント系システムの早すぎる硬化、セメント系システムに過剰に水を加えることに関する苦情、及び材料の早すぎる硬化による過度の廃棄物を避けることができる。セメント系システムの増加した可使時間の利益は、セメント系システムが作業可能であり、高い適用効率のままである、より長い時間も含む。

純粋なＭＨＰＣ、並びに標準的な市販のＨＥＣ又は低ＭＳの均一なタイプのＨＥＣのどちらかに基づくＭＨＥＣ／ＨＥＣブレンドの保水及び可使時間を、上塗り基本混合物で試験した。結果を表４に示す。

ＨＥＣ／ＭＨＥＣ１ブレンドを使用した場合の保水力は、高温で非常に安定である。ＨＥＣ／ＭＨＥＣ１ブレンドを純粋なＭＨＰＣ等級と比較すると、参照サンプルと比較して粘度が低い場合でさえ、昇温（７０℃）における保水力の明らかな改善を特定することができる。結果は、実施例１Ｄの低ＭＳの均一なＨＥＣと標準的な市販のＨＥＣは、２０℃及び７０℃で同様の保水を提供することを示す。さらに、可使時間の結果は、ＭＨＰＣ化学物質と比較して、同等で明らかに改善されている。

（実施例２）
全ての試験を、３５．０質量％のポートランドセメントＣＥＭ Ｉ ５２．５Ｎ、５．０質量％の水和石灰、５９．２質量％のケイ砂、０．３質量％のセルロースエーテルの上塗り混合物で行った。

（試験の手順）
ペースト安定性
ペースト安定性の試験を、以下の手順に従って行った：
５秒以内に、４００ｇの乾燥モルタルを、対応する量の水に加えた。キッチンハンドミキサーを使用して５０秒間サンプルを混合した後、得られたサンプルを５分間放置した。その後、モルタルをさらに１０秒間混合した。モルタルの一部を石膏ボードの上に薄い層に均一に広げた。他の一部をカップに充填した。モルタルのペースト安定性を、９０分後にカップ内及び石膏ボード上の見た目で評価した。

セルロースエーテルは、モルタルの密度を下げる表面活性な添加剤である。セルロースエーテルは、モルタル中に非常に小さな気泡を同伴する。気泡を可能な限り長く安定化することが必須である。劣ったペースト安定性を有するモルタルの気泡は、大きな空隙に凝集する。その結果、モルタルの作業性及びその表面の外観が悪化する。

結果
セメント系上塗り中の通常のＨＥＣのペースト安定性は、重要な問題である。表５は、低ＭＳの均一なタイプのＨＥＣを含有するブレンドが、ペースト安定性及び作業性の点で、セメント系上塗りに改善された適用特性を付与することを示す。低ＭＳの均一なタイプのＨＥＣを含有するセメント系上塗りは、標準的な市販のＨＥＣより適用の利点があり、高温安定性も有する。

（実施例３）
全ての試験を、２４．０質量％のポートランドセメントＣＥＭ Ｉ ５２．５Ｒ、５３．０質量％のケイ砂 Ｆ３４、２０．０質量％の砂 ０．５〜１ｍｍ、３．０質量％のＡｑｕａｐａｓ（商標）Ｎ２０９５再分散性パウダー（Ａｓｈｌａｎｄ Ｉｎｃ．から入手可能）、０．２質量％のステアリン酸亜鉛、及び０．１５質量％のセルロースエーテルのＥＩＦＳ混合物で行った。

（試験の手順）
可使時間
可使時間の試験を、以下の手順に従って行った：
全てのサンプル及び使用する道具を、４０℃のヒーター中で少なくとも２時間前に保存した。５秒以内に、４００ｇの乾燥モルタルを、対応する量の水に４０℃で加えた。キッチンハンドミキサーを使用して４５秒間サンプルを混合した後、得られたサンプルを５分間放置した。混合後、サンプルにカバーをし、４０℃のヒーター中で５分間保存した。ヘリパス粘度（Ｈｅｌｉｐａｔｈ ｖｉｓｃｏｓｉｔｙ）を測定する前に、前に記載したハンドミキサーでサンプルを５秒間再混合した。それぞれのサンプルに対して、ヘリパス粘度を、０分後、３０分後、及びその後３０分ごとに、最大４時間測定した。ヘリパス粘度が８０００００ｍＰａｓに達する時点を可使時間と定義した。

結果
以下のサンプルは表３に記載し、これらの試験のために使用した：参照としてのＭＨＰＣ、参照と同じ粘度を有するＭＨＥＣ ２及び５０／５０％の比を有するＨＥＣ／ＭＨＥＣ ２ブレンド。

セメント系システムの可使時間は、長時間（１〜４時間）にわたる適切な作業性を確保するために重要である。ＭＨＰＣは、特に高温において使用者の要求に適合しない。ＭＨＥＣ２とＨＥＣとのブレンド（５０：５０）は、可使時間を大きく改善した。図１に示すとおり、モルタルの稠度を長時間維持した。温度安定性を有し、バケツ中の早すぎるモルタルの硬化を回避した（早すぎる硬化による材料の損失の減少）。セメント系システムの増加した可使時間の利益には、セメント系システムが作業可能なままであり、高い適用効率を有する時間がより長くなったことが含まれる。

全てのサンプルを室温でも試験した。結果を図２に示す。室温における可使時間の延長が測定された。ＭＨＥＣ２／ＨＥＣブレンドを使用することによって、セメント系システムの粘度は、経時で増加しなかった。

低ＭＳの均一なタイプのＨＥＣサンプルは、高温で非常に優れた性能を示し、室温でも優れた性能を示した。

（実施例４）
全ての試験を、２４．０質量％のポートランドセメントＣＥＭ Ｉ ５２．５Ｎ、５３．０質量％のケイ砂 Ｆ３４、２０．０質量％の砂 ０．５〜１ｍｍ、３．０質量％のＡｑｕａｐａｓ（商標）Ｎ２０９５再分散性パウダー（Ａｓｈｌａｎｄ Ｉｎｃ．から入手可能）、０．２質量％のステアリン酸亜鉛、及び０．１５質量％のセルロースエーテルのＥＩＦＳ混合物で行った。

（試験の手順）
保水
全ての材料及び使用する道具を、７０℃のヒーター中で保存した。
実施例３に記載するとおり、ＥＩＦＳ基本混合物に対する標準的な混合を行った。１５秒間熟成した後、ハンドミキサーによる工程１の再混合を行った。その後、モルタルを一枚の濾紙の上に位置する金属の環に充填した。濾紙と金属の環の間に薄い繊維のフリースを置き、濾紙をプラスチック板の上に置いた。モルタルを充填する前と後の物品の質量を測定した。こうして、湿潤したモルタルの質量を計算した。さらに、濾紙の質量は知られている。完全な充填システムを、５分間の浸漬時間の間、７０℃のヒーター内に入れた。浸漬後、濾紙の質量を再び測定した。保水［％］を計算した。

結果
以下のサンプルを調べた（詳細は表３参照）：
−参照としてのＭＨＰＣ及びＭＨＥＣ ２
−５０／５０％の比のＨＥＣ／ＭＨＥＣブレンド。

ＨＥＣ／ＭＨＥＣ２ブレンドを使用した保水力は、高温で非常に安定であった。ＨＥＣ／ＭＨＥＣ２ブレンドを純粋なＭＨＰＣ等級と比較すると、参照サンプルと比較して粘度が明らかに低くても、昇温（６０℃）における明らかな保水力の改善が特定される。結果（表６参照）は、低モルの均一に置換されたＨＥＣが、通常のＨＥＣと比較して、保水力を増加させることを示している。２０℃で、それらは同様の保水特性を提供する。

本発明を特定の実施形態に関して記載してきたが、本発明はそれらに限定されず、本発明の精神及び範囲から離れることなく、多くの変形及び修正が可能であることが理解される。

Claims (8)

1. セメント、
   フィラー／骨材、及び
   低モル置換度の均一なタイプのヒドロキシエチルセルロースを含むレオロジー制御剤
   を含むセメント系システムであって、前記ヒドロキシエチルセルロースのモル置換度が、約１．８から約２．２の範囲であり、前記ヒドロキシエチルセルロースが、１．６０未満の比のモル置換度（ｍｏｌａｒ ｄｅｇｒｅｅ）／置換度（ｄｅｇｒｅｅ ｏｆ ｓｕｂｓｔｉｔｕｔｉｏｎ）によって特徴付けられる、セメント系システム。
2. 前記レオロジー制御剤が、乾燥基準のセメント系システムの質量に基づいて、約０．１質量％から約１質量％の量で存在する、請求項１に記載のセメント系システム。
3. 前記レオロジー制御剤が、低モル置換度の均一なタイプのヒドロキシエチルセルロースと、前記均一なタイプのヒドロキシエチルセルロースより親水性の低い第２のセルロースエーテルとのブレンドを含む、請求項２に記載のセメント系システム。
4. 前記第２のセルロースエーテルが、メチルヒドロキシエチルセロルース及びヒドロキシプロピルセルロースからなる群から選択される、請求項３に記載のセメント系システム。
5. 前記第２のセルロースエーテルが、メチルヒドロキシエチルセルロースを含む、請求項３に記載のセメント系システム。
6. 前記ブレンドが、低モル置換度の均一なタイプのヒドロキシエチルセルロースに対して、１０：９０から約９０：１０の質量比を有する、請求項３に記載のセメント系システム。
7. 前記ブレンドが、約３０：７０から約７０：３０の、第２のセルロースエーテルと低モル置換度の均一なタイプのヒドロキシエチルセルロースとの質量比を有する、請求項６に記載のセメント系システム。
8. 前記ブレンドが、約５０：５０の、第２のセルロースエーテルの低モル置換度の均一なタイプのヒドロキシエチルセルロースに対する質量比を有する、請求項２に記載のセメント系システム。

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