JP2014514456A - 白金系合金 - Google Patents

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Abstract

一般式、Pt1-a-ba(B1-xMdxb
(ここで、
i) Mは、Zr、Ti、Fe、Ni、Co、Cu、Pd、Ag、Alのグループの一つ又は複数の金属元素の一つ又は混合物を表し、
ii) MdはSi、P、C、S、As、Geのグループの幾つかの金属メタロイドの一つ又は混合物を表し、
iii)aは0.2より小さく、
iv) bは0.2と0.55の間に含まれ、
v) xは0と0.8の間に含まれ、
vi) もし存在する場合、全P含有量は10原子パーセント未満である)
の合金で作られる物品であって、
合金を形成する元素の割合は、合金に少なくとも400HVの硬度、1000℃未満の融点、及び改良された加工性を与えるように選択されている。

Description

本発明は、種々の分野において、例えば、宝石類又は時計の製作において使用され得る白金系合金に関する。
白金及び金の合金の比較的低い硬度は、それで作られる品目の視覚的訴求を落とす、本質的にその摩耗され易さ及び擦傷され易さ故に、宝石類及び時計の製作におけるその使用での主な制約になる。
鋳造によって白金で作られる物体に伴う第二の困難さは、現在使用されている白金合金の本質的に高い融点である。このため、低容量の鋳造ツリー(casting tree)及び金型製作のための特別の耐火材料が必要になる。従って、宝石類及び時計の製作において使用されるための白金合金の融点を著しく低下させることは関心事であろう。
典型的な金及び白金の合金は、それぞれ、300HV及び200HV未満の硬度を有する。合金元素として主としてZr、Ti、及びGaを持った硬化可能Pt合金の幾つかの標準未満のグレードは421HVまでの硬度に達する「非特許文献1」。
文献において述べられるものは、それぞれ、440HV及び327HVの硬度を有する、典型的に2〜5質量パーセントの合金添加物(alloying additions)を持ったPt−Si及びPt−Bの二元共晶合金である「非特許文献2」。
当業技術において公知のものは、硬度「約400HV」を有するPtに基づく、更なるバルク金属ガラスである「特許文献1、非特許文献3」。これらの合金は本質的に、低い冷却速度でそして同時により大きい断面積に、合金におけるガラス状態を維持するための、追加の合金元素を持ったPt−P系に由来する4元又はより高次の合金である「特許文献2」。これらの合金元素の故に、全Pt含有量は、典型的に、850/1000に近く、従って、欧州において950/1000、そして米国において900/1000である、一般的に受け入れられる宝石類グレードPtのレベルを下回る。950/1000標準に適合するための努力において(特許文献1を参照)、主合金元素の燐の小さい分率が、それぞれ4及び1.5原子パーセントでのB及びSiによって置き換えられ、395HVの硬度をもたらす合金が、最近文献において述べられている「非特許文献4」。
特許文献3は、1.5〜6.5質量パーセントのSi及び数質量パーセントのPd、Cu、Ir、Rh、Au、Ag、Ni、及びCoのグループの合金元素を含有している高硬度Pt合金を更に開示している。Pt950/1000、900/1000及び850/1000標準に適合する合金に対して、それぞれ、硬度は580、620及び630HVまでである。この従来技術からのデータを解析すると以下のことが示される:
i) 硬度は先ず、珪素含有量に依存し、二成分共晶に対応して、約4質量パーセントのSiまで、強く増大する。
ii) 或るSi含有量に対して、第三の合金元素の含有量の増大、例えばCuの7から12質量パーセントへの増大は、硬度に殆ど影響を及ぼさない。
iii)共晶組成物への僅か1質量パーセントのCuの添加によって、硬度が440HV「非特許文献2」から580HVに変わる。
その中で、Ga及びBをPt基本金属内に拡散させることによって合金が硬化される拡散層の創出による、Pt及びそれらの合金の更なる表面処理が知られている「特許文献4、特許文献5」。Ga及びBに対して、それぞれ、385HV及び700HVまでの表面硬度値が開示されている「特許文献4」。B拡散層の場合、硬度は、Pt結晶中に侵入性固溶体としてBを含有することに由来すると明確に述べられている。しかしながら、Pt中のBの引用された濃度では、その特許「特許文献5」において高硬度に対する理由として主張されている、Pt−B固溶体と融和する(conciliate with)ことが困難である。
Schroers、J、及びW.L.Johnson、「Pt系バルク固化非晶質合金」(Pt−base bulk solidifying amorphous alloys)、2006:米国特許出願第2006/0124209号公報、pp.18. Johnson、W.及びJ.Schroers、「特定のポアソン比、弾性歪限界、延性、曲げ延性及び破壊靭性を有する少なくとも四つの元素成分を含む、宝石類用途のためのバルク固化非晶質合金」(Bulk−solidifying amorphous alloy for jewelry applications、comprises at least four elemental components having specified Poisson’s ratio,elastic strain limit,ductility,bend ductility,and fracture toughness)、2006、PCT特許出願WO2006/066215号公報、pp.49. Yuichiro、Y.、「装飾用の硬質白金合金」(Hard platinum alloy for ornamentation)、1987:日本特許出願第1985/0268628号、pp.3. Kretchmer、S.、「白金、ガリウム及びパラジウム含有、宝石類製作用の熱処理された白金合金」(Heat treated platinum alloy for jewellery making − contains platinum、gallium and palladium)、WO00/32829明細書、pp.21 Weber、W.、K.Zimmermann及びH.Beyer、「金属格子中にホウ素を含有する硬質の耐擦傷性表面層を含む白金、及びパラジウム製物品」(Objects made of platinum and palladium−comprise hard scratch−resistant surface layer contg. ホウ素 in the metal lattice)、EP特許出願1993/0120771明細書、pp.4.
ADDIN EN.REFLIST Biggs、T.、S.S.Taylor、及び E.van der Lingen、「潜在的な宝石類用途のための白金合金の硬化」(The hardening of platinum alloys for potential jewellery application)、Platinum Metals Review、2005.49(1):p.2−15. Ainsley、G.、A.A.Bourne、及びR.W.E.Rushforth、「白金包囲鋳造合金」(Platinum investment casting alloys)、Platinum Metals Review、1978.22(3):p.78−87. Schroers、J.ら、「宝石類用途のための高価なバルク金属ガラス」(Precious bulk metallic glasses for jewelry applications)、Materials Science and Engineering A−Structural Materials Properties Microstructure,andProcessing、2007.449:p.235−238. Demetriou、M.D.ら「液状白金リッチガラス」(Liquid−like platinum−rich glasses)、Scripta Materialia、2011.65(9):p.799−802.
本発明は、例えば、時計製作又は宝石類において使用されるための、請求項に記載されたような耐擦傷性の白金系合金に関する。本発明に記載の合金は、主元素である少なくとも白金、及びホウ素を含む、三つの異なる元素で少なくとも構成される。
発明に記載の合金は好ましくは、それらを耐擦傷性にするために、典型的には400HVを超える、そしてより好ましくは600HVを超える、高硬度を示す。それらは更に有利なことに、鋳造による製造を容易にするために、典型的には1000℃を下回る比較的低い融点を示す。
好ましい実施態様において、本発明は組成Pt1-a-ba(B1-xMdxbの合金に関し、ここでaはゼロであり、bは0.2と0.45の間に含まれ、そしてxは0.1と0.8の間に含まれ、そして白金含有量は少なくとも85質量パーセントである。そのような三元合金は850℃を下回る低融点及び450HVを超える高硬度によって特徴付けられる。
本発明に記載の合金の特別な特長は、それらがPt−B及びPt−Siの二元共晶の混合物規則から期待されるであろう値、つまり327HVと440HVの間に含まれるよりも著しくより高い硬度(+100〜400HV)を示すことである。例として、組成Pt0.610.28Si0.11の合金は、少なくとも650HVを超える硬度を示す。
特に関心があるのは、三元系Pt−B−Siにおける共晶トラフの近くにおける合金(図1を参照)である:何故なら、それらは低融点、細かいミクロ構造及び高硬度を示すためである。例として、組成Pt0.730.16Si0.12を持った合金の融点は約700℃を示し、一方、組成Pt0.610.28Si0.11の合金は約760℃の融点を有し、これはそれぞれPt−B及びPt−Si系に対する790℃及び847℃の二元共晶融点に匹敵する。Ptの3原子パーセントを基本組成Pt0.730.16Si0.12を持った合金のNi、Co、Fe、Cu、Geのグループの元素によって置換することによって、DSCによって測定される通り、660〜700℃の範囲に融点を下げるであろう。
本発明を用いて既に、Zr、Ti、Fe、Co、Ni、Cu、Pdのグループの合金元素によって前もって定義された三元合金におけるPtの少量を置換することによって、50〜100HVの硬度における追加の増大を誘起する。
それらの比較的低い融点によって、本発明に記載の合金の幾つかは、非晶質状態を通過することによって処理されるという興味ある状態になり、それによって中程度の温度範囲における処理中に増大される延性が合金に与えられる。合金の最終的な増大した硬度は、非晶質状態における変形工程に引き続く熱処理工程によって得られるであろう。
従来技術に対して本発明の実施態様の一つの独自の特長は、主要合金元素として同時にSi及びBを使用すること、及び燐含有量を10パーセントより十分少なく維持することにある。従来技術に関して、本発明に記載の合金は、主要合金元素としてホウ素、及び殆どの場合、ホウ素及び珪素を使用し、その結果、メタロイド合金元素としてSiのみ(又はホウ素のみ)を使用する合金と比べて硬度を著しく上げる。
Pt−B−Si系における三元共晶トラフを表す。(HVにおける)二元共晶組成物及びPt950及びPt900標準にそれぞれ対応する組成物に対する硬度値も示されている。
本発明は、高硬度を示す、つまり、少なくとも450HVを超える白金系合金に関する以下の非限定実施例によってよりよく理解されるであろう
これらの合金は、少なくとも一つ又はそれ以上の金属合金元素を有するPt−B二元系、又はPt−B−Si三元系に基づく。Pt−B−Si三元系のみに基づく合金が650HVを超える硬度を得るために十分であるものの、硬度を更に上げそして加工性を改善するために、一つの又は幾つかの追加の合金元素が導入され得る。
この発明において開示された合金は、一般式(下付き文字は原子分率を言及する)、によって記述され得て、
Pt1-a-ba(B1-xMdxb
ここで、
i) Mは、Zr、Ti、Fe、Ni、Co、Cu、Pd、Ag、Alのグループの一つ又は複数の金属元素の一つ又は混合物を表し、
ii) MdはSi、P、C、S、As、Geのグループの幾つかの金属メタロイドの一つ又は混合物を表し、
iii)aは0.2より小さく、
iv) bは0.2と0.55の間に含まれ、
v) xは0と0.8の間に含まれ、
vi) もし存在する場合、全P含有量は10原子パーセント未満である。
質量で850/1000、好ましくは、質量で900/1000、又は更により好ましくは、質量で950/1000の最少Pt含有量を持った合金を得るために、上で与えられたパラメータの制限中で、特定の組成が選択される。
この定義による合金は、低融点、つまり、1000℃未満、好ましくは、800℃未満、そして更により好ましくは、700℃未満を示す。
この発明の文脈において特別に関心がある合金は、図1における薄灰色のエリアとして示された最低融点の領域の近くに位置するものである。安定な固体に関連する液相線面の三元系交叉部がよく定義された線によって与えられるものの、追加の合金元素は、三元系合金での組成範囲において、並びに温度の点においての両方で、これらの線を移動させ得て、図郭線よりもむしろ図1における低融点エリアの表示を正当化する。
それにも拘わらず、もし高硬度が最重要事項であるならば、この三元共晶トラフの外側の合金は、やはり上で与えられた一般式に従って選択され得る、以下の実施例9を参照。
合金の製造は好ましくは、保護環境下での、アーク溶融、又は誘導加熱、抵抗加熱又はトーチ炎による加熱による石英管中における融解によって達成される。
複数部材に鋳造され、そして結晶化された形態で得られる合金に対して、銅金型中での真空融解及び鋳造が好まれる加工ルートである。あるいは、融解は保護環境下で、そして包囲(investment)金型中での鋳造ですることができる。
800℃未満、好ましくは、750℃未満の融点につながる合金組成が特に望ましい。低融点は合金に二つの望ましい性質を与える:一方で、白金合金の鋳造に伴う困難の幾つか、例えば、耐火性金型材料中での高入熱及び冷却の際の収縮は、この開示に関わる合金が、もっと良好に鋳造できると知られている金合金に匹敵する溶融特性を有するので、著しく低減できる。他方で、低融点、及び熱力学的平衡において形成するホウ素及び珪素含有相、並びに結晶化をより困難にするために利用される合金元素における幾分複雑なユニットセルのせいで、上述の合金は溶融後の冷却条件に依存して、非晶質状態で得られ得る。この非晶質状態を得るための方法には、やはり限定するものではないが、スプラット焼き入れ、溶融紡糸、溶融噴霧法、及び銅金型での焼き入れが含まれる。非晶質状態はまた、脱水されたB23フラックス(flux)中に沈められたときの再溶融及び固化によっても得られ得る。この工程は、事前溶融手順が、結晶化のための不均一核形成部位の創出を効果的に排除又は防がなかった場合、極めて重要であり得る。
ワイヤ又は粉末形態の半完成品又は原料は、それらの過冷却液体状態(super-cooled liquid region)(SCLR)、つまり、それらのガラス転移点とそれらの結晶化温度の間の温度領域において容易に変形され得る。従って、複雑な形状をした品目でさえ、非晶質原料から形成され得る。Pt−Si−B系におけるホウ素及び/又は珪素含有相の高硬度を考えると、粘性形づけプロセスに引き続く熱処理によって、破壊靭性及び延性の低減という犠牲の下で、それらの硬度は実質的に増大され得る。
非晶質Pt系合金の製造方法の例(実施例A)として、組成Pt0.48Ni0.16(B0.75Si0.250.36を持った合金を、パージされたアルゴン雰囲気下でトーチ炎によって加熱された石英管中で溶融した。そのように、本合金は、質量で950/1000より多い白金を含有した。固化後、インゴットを、溶融紡糸機中に挿入された0.8ミリメータのオリフィスを持った別の石英管中に移した。真空下での誘電加熱の後、溶融紡糸として知られているプロセスである、回転銅ホイール上への突き出している溶融物に亘って100ミリバールのヘリウム圧力をかけた。得られたリボンは、2〜3ミリメータ幅、そして約20〜40ミクロンの厚さであり、そして均一で光沢のある表面を有した。高純度アルゴン下、10K/分の加熱速度でのDSC運転(run)によって、第一の加熱サイクルにおいて、約520Kで始まる少しばかり吸熱バンプ(bump)が、続いて、約550Kでの発熱ピークが現れた。別の吸熱ピークが約950Kで観察された。1200Kからの引き続く冷却で、945Kでの発熱ピークが示された。この温度より下では更なるピークは全く観察されなかった。第一のピークの開始はガラス転移点と解釈され、一方、第二のピークは結晶化によるものであると考えられる。
リボンのXRD走査によって非晶質状態に対する単一の広いピーク特性が得られた。リボン上での微小硬さは、リボンの限られた幅故に、10グラムの荷重を用いて測定され、約500HVの値を得た。DSC後のその結晶化された状態において、合金は球状に凝集し、そして700HVを超える硬度を示した。
非晶質Pt−系合金の製造方法の第二例(実施例B)として、組成Pt0.695Ni0.035(B0.55Si0.440.27を持った合金を、パージされたアルゴン雰囲気下でトーチ炎によって加熱された石英管中で溶融した。そのように、本合金は、質量で950/1000より多い白金を含有した。固化後、インゴットを、溶融紡糸機中に挿入された0.8ミリメータのオリフィスを有する別の石英管中に移した。真空下での誘導加熱の後、溶融紡糸と
して知られているプロセスである、回転銅ホイール上への突き出している溶融物に亘って100ミリバールのヘリウム圧力をかけた。得られたリボンは、2〜3ミリメータ幅、そして約25ミクロンの厚さであり、そして均一で光沢のある表面を有していた。高純度アルゴン下、10K/分の加熱速度でのDSC運転によって、第一の加熱サイクルにおいて、約520Kで始まる少しばかり吸熱のバンプが、続いて、約550Kでの発熱ピークが現れた。別の吸熱ピークが約950Kで観察された。1200Kからの引き続く冷却で、945Kでの発熱ピークが示された。この温度より下では更なるピークは全く観察されなかった。第一のピークの開始はガラス転移点と解釈され、一方、第二のピークは結晶化によるものであると考えられる。
ガラス転移、結晶化、及び溶融温度の値に基づいて、これらの合金のガラス形成能力(GFA)のパラメータが評価できる。多くの現在使用されるGFAパラメータが、良好なバルク金属ガラス形成能力に対するそれらの範囲特性と共に表1に与えられる。
Figure 2014514456
見られ得る通り、現在のパラメータは全て、良好なGFA及びガラス安定性のより低い端側に集まっており、従って、与えられた実施例における合金に対して比較的に低い臨界鋳造厚み(<2ミリメータ)を与えるであろう。しかしながら、これはこの開示において述べられる全ての合金に適用される制約であることを意味するものではない。
合金元素の影響
幾つかの合金元素は共晶トラフ近くのベース合金に添加され得る。Ni、Co、Cu、及びFeは、本質的に相互交換可能であり、そしてPtの少ない分率を置換するために使用される。それらは、本質的に以下のように作用する:
i) 三元系Pt−B−Si合金の融点を下げる。
ii)得られる合金の硬度を上げる。
これらの合金は更に、ガラス転移点及び結晶化温度に対して弱い影響を有し得る。
グループAl、Ti、Zr、及びAgの合金元素は、少量、つまり、3パーセント未満であり、熱力学的に安定な相の結晶化をより困難にするために役立ち、そしてその結果、非晶質状態をより容易に得るために寄与し得る。より高い濃度では、特に、Zr及びTiの安定なシリサイド及びホウ化物を形成するより強い傾向によって非晶質状態の形成が妨げられ得る。
Pdは、非晶質金属を作る際にしばしば利用される「混乱原理(confusion principle
)」によって、合金における無秩序を本質的に増す効果を持って、Ptに対する置換物として使用され得る。
グループC、P、Ge、S、及びAsの合金元素は、主メタロイド成分B及びSiの部分置換物として使用され得る。Geは得られる合金の硬度を増すことが見出されている。少量のPは本質的に融点及びガラス転移点を低下させるであろうし、そしてガラス状態及び結晶化された状態の両者の硬度を少し低下させ得る。
実施例 1
4.756gのPt、0.123gのSi及び0.121gのホウ素の合金をアルゴン保護環境下で電気アーク中において溶融する。全Pt含有量は950/1000より高い。得られる金属滴は金属光沢を有し、そしてホットマウントされ(hot-mount)、次いでダイアモンドホイールで切断される。研磨された表面は、低倍率下で均一に見える非常に細かい二相構造を示す。微小硬さはGnehm微小硬度測定器を用いて1キログラムの荷重で測定される。示された硬度は670HVである。
実施例 2
3.918gのPt、0.117gのSi、及び0.079gのホウ素の合金をアルゴン保護環境下で電気アーク中において溶融する。全Pt含有量は950/1000より高い。得られる金属滴は金属光沢を有し、そしてホットマウントされ、次いでダイアモンドホイールで切断される。研磨された表面は、非常に少量の少し灰色の主要相を持った非常に細かい二相構造を示す。マトリックスの微小硬さはGnehm微小硬度測定器を用いて1キログラムの荷重で測定される。示された硬度は630HVである。
実施例 3
19.009gのPt、0.654gのSi、及び0.337gのホウ素の合金をアルゴン保護環境下で電気アーク中において溶融する。全Pt含有量は950/1000より高い。得られる金属滴は金属光沢を有し、そしてホットマウントされ、次いでダイアモンドホイールで切断される。研磨された表面は、低倍率下で均一に見える非常に細かい二相構造を示す。微小硬さはGnehm微小硬度測定器を用いて1キログラムの荷重で測定される。示された硬度は平均で660HVである。
実施例 4
5.515gのPt、0.114gのホウ素、及び0.164gのCuの合金をアルゴン保護環境下で電気アーク中において溶融する。全Pt含有量は950/1000より高い。得られる金属滴は金属光沢を有し、そしてホットマウントされ、次いでダイアモンドホイールで切断される。研磨された表面は、低倍率下で均一に見える非常に細かい二相構造を示す。微小硬さはGnehm微小硬度測定器を用いて1キログラムの荷重で測定される。示された硬度は平均で680HVである。
実施例 5
4.507gのPt、0.344gのSi、及び0.149gのホウ素の合金をアルゴン保護環境下で電気アーク中において溶融する。全Pt含有量は900/1000より高い。得られる金属滴は金属光沢を有し、そしてホットマウントされ、次いでダイアモンドホイールで切断される。研磨された表面は、約20容積パーセントのサイズが数十ミクロンの暗い灰色の主要相を有する非常に細かい二相構造を示す。マトリックスの微小硬さはGnehm微小硬度測定器を用いて1キログラムの荷重で測定される。示された硬度は平均で690HVである。暗い灰色の主要相のミクロ硬さは3000HVを超える。二相構造のマクロ硬さはGnehm微小硬度測定器を用いて62.5キログラムの荷重で測定される。ぎざぎざから推測される硬度は720Vである。
実施例 6
4.518gのPt、0.265gのSi、及び0.216gのホウ素の合金をアルゴン保護環境下で電気アーク中において溶融する。全Pt含有量は900/1000より高い。得られる金属滴は金属光沢を有し、そしてホットマウントされ、次いでダイアモンドホイールで切断される。研磨された表面は、約30容積パーセントのサイズが数十ミクロンの切り子状の(facetted)暗い灰色の主要相を有する非常に細かい多相構造を示す。マトリックスの微小硬さはGnehm微小硬度測定器を用いて1キログラムの荷重で測定される。示された硬度は平均で725HVの値を持った、650と780HVの間の範囲近くにある。
実施例 7
4.605gのPt、0.162gのSi、0.112gのホウ素、及び0.120gのGeの合金をアルゴン保護環境下で電気アーク中において溶融する。全Pt含有量は900/1000より高い。得られる金属滴は金属光沢を有し、そしてホットマウントされ、次いでダイアモンドホイールで切断される。研磨された表面は、約30容積パーセントのサイズが2、30ミクロンの暗い灰色の主要相を有する非常に細かい二相構造を示す。マトリックスの微小硬さはGnehm微小硬度測定器を用いて1キログラムの荷重で測定される。示された硬度は平均で700HVである。暗い灰色の主要相の微小硬さは3000HVを超えている。
実施例 8
2.742gのPt、0.187gのSi、0.026gのホウ素、及び0.045gのCuの合金をアルゴン保護環境下でトーチ炎によって融解された珪素管中で溶融する。全Pt含有量は900/1000より高い。得られる金属滴は金属光沢を有し、そしてホットマウントされ、次いでダイアモンドホイールで切断される。研磨された表面は、低倍率下で均一に見える非常に細かい三相構造を示す。合金の微小硬さはGnehm微小硬度測定器を用いて1キログラムの荷重で測定される。示された硬度は720と800HVの間の範囲にある。
実施例 9
4.516gのPt、0.280gのSi、0.045gのホウ素、0.084gのGe、及び0.075gのCuの合金をアルゴン保護環境下でトーチ炎によって融解された珪素管中で溶融する。全Pt含有量は900/1000より高い。得られる金属滴は金属光沢を有し、そしてホットマウントされ、次いでダイアモンドホイールで切断される。研磨された表面は、低倍率下で均一に見える非常に細かい三相構造を示す。合金の微小硬さはGnehm微小硬度測定器を用いて1キログラムの荷重で測定される。示された硬度は650と890HVの間の範囲にある。
実施例 10
2.710gのPt、0.167gのSi、0.027gのホウ素、0.026gのGe、0.045gのCu、及び0.025gのAgの合金をアルゴン保護環境下でトーチ炎によって融解された珪素管中で溶融する。全Pt含有量は900/1000より高い。得られる金属滴は金属光沢を有し、そしてホットマウントされ、次いでダイアモンドホイールで切断される。研磨された表面は、低倍率下で均一に見える非常に細かい三相構造を示す。合金の微小硬さはGnehm微小硬度測定器を用いて1キログラムの荷重で測定される。示された硬度は680と720HVの間の範囲にある。
本発明は勿論、上で論じられた実施例において開示された合金に限定されない。

Claims (16)

  1. 一般式、Pt1-a-ba(B1-xMdxb
    (ここで、
    i) Mは、Zr、Ti、Fe、Ni、Co、Cu、Pd、Ag、Alのグループの一つ又は複数の金属元素の一つ又は混合物を表し、
    ii) Mdは、Si、P、C、S、As、Geのグループの幾つかの金属メタロイドの一つ又は混合物を表し、
    iii)aは0.2より小さく、
    iv) bは0.2と0.55の間に含まれ、
    v) xは0と0.8の間に含まれ、
    vi) もし存在する場合、全P含有量は10原子パーセント未満である)
    の合金で作られる物品であって、
    合金を形成する元素の割合が、合金に少なくとも400HVの硬度、1000℃未満の融点、及び改良された加工性を与えるように選択されている、上記物品。
  2. 一般式、Pt1-a-ba(B1-xMdxb(ここで、MdがSi、C、S、As、Geのグループの幾つかの金属メタロイドの一つ又は混合物を表わす)の合金で作られる請求項1に記載の物品。
  3. xが0.1と0.8の間に含まれる、請求項2に記載の物品。
  4. 前記合金が、組成Pt0.48Ni0.16(B0.75Si0.250.36を持った非晶質系合金である、請求項3に記載の物品。
  5. 組成Pt0.695Ni0.035(B0.55Si0.440.27を持った非晶質系合金である、請求項3に記載の物品。
  6. 質量で少なくとも850/1000の全Pt含有量を持った、請求項1〜5の何れか1項に記載の物品。
  7. 質量で少なくとも900/1000の全Pt含有量を持った、請求項6に記載の物品。
  8. 質量で少なくとも950/1000の全Pt含有量を有する、請求項7に記載の物品。
  9. 最終形状において、又は過冷却液体状態におけるプレス操作による圧縮のための供給原料として、非晶質状態で固化されている、請求項1〜8の何れか1項に記載の物品。
  10. 少なくとも400HVの硬度を示す非晶質化固体状態にある、請求項9に記載の物品。
  11. 少なくとも500HVの硬度を示す非晶質化固体状態にある、請求項10に記載の物品。
  12. 鋳造によって最終形態にもたらされ、少なくとも600HVの硬度を示す、請求項1〜8の何れか1項に記載の物品。
  13. 少なくとも700HVを超える硬度を示す、請求項12に記載の物品。
  14. 請求項1に記載の合金を、急速冷却によって非晶質状態で製造し、次いでその結晶化温度未満での粘性変形処理によって、続いて非常に微粒結晶化及び少なくとも600HVを超える増大した硬度を生じさせる結晶化熱処理によって、その最終形態に形作る、方法。
  15. 請求項1に記載の合金を、急速冷却によって非晶質状態で製造し、次いで少なくとも600HVを超える増大した硬度をもたらす、同時に起こる微粒結晶化を含む粘性変形処理によって、その最終形態に形作る、方法。
  16. リング、留め具、ブレスレット、時計のハウジング若しくはその部材、又は宝石類若しくは時計の製作において使用されるいずれかの他の品目である、請求項1〜15の何れか1項に記載の物品。
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