JP2014512570A - レーザビーム回折装置およびかかる装置を備えるレーザ装置 - Google Patents

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Abstract

レーザビーム(8)を回折するための装置は、入射面(6)および出射面(7)を有する導波管(1)であって、それらが、Z方向において、互いに距離(L)を有し、導波管(1)が、X方向において、Y方向におけるよりも大きな長さを有する導波管(1)と、少なくとも2つの電極(4,5)であって、導波管(1)に配設され、回折電圧(+V,−V)を印加可能であり、その結果レーザビームが、導波管(1)においてX方向に関して電気光学的に回折される、少なくとも2つの電極(4,5)と、を備え、Z方向における、導波管(1)の入射面(6)と出射面(7)との間の距離(L)は、出射面(7)から出射した後のレーザビームのプロファイルが、入射面(6)に入射する前のレーザビームのプロファイルに対応するような大きさを有する。特に、距離(L)は、レーザビームのタルボ長に対応する。

Description

本発明は、請求項1の上位概念に従ったレーザビーム回折装置、および請求項10の上位概念に従ったレーザ装置に関する。
定義:光の伝播方向とは、光の中間伝播方向を意味する。特に、光が平坦な波でなく、または、少なくとも部分的に発散している場合。光ビーム、部分ビーム、ビーム、またはビーム束とは、明示的に他のことが示されていない限り、幾何光学でいうところの理想的ビームを意味するのではなく、現実の光ビームを意味し、たとえば、無限小の小さなビーム断面ではなく、拡大されるビーム断面を有するレーザビームなどを意味する。
冒頭で挙げたタイプの装置は、たとえば、US6,449,084B1から知られる。そこに記載の装置は、直方体として実施される導波管を有し、該導波管は、第1の横断方向における方が、該第1の横断方向に垂直な第2の横断方向におけるよりも明らかに長い。さらにまた、長く延びる平面側にレーザビームを回折するための電極が設けられる平面配列とすることも可能である。平面配列の主たる利点は、光の回折角が大きくなる可能性はあるけれども、制御電圧は小さくなるという点にある。
技術の水準によるかかる導波管配列の短所は、導波管を通過してレーザビーム束が伝播する場合、レーザビーム束の横方向に延びるプロファイルが歪む点にある。レーザビーム束のプロファイルは、出力部では、導波管の各モードが重畳され、導波管を通過して伝播する間の各モード間の位相関係が変わるので、導波管から出た後のレーザビーム束のプロファイルは、導波管内に入る前のプロファイルとは異なっている。このことについては、導波管1’を通過して発散するレーザビーム8’,8”によって図4に示されている。
本発明が基礎とする課題は、レーザビームのプロファイルが変わることを防止する、または少なくともプロファイルの変化を低下させることが可能である、冒頭で述べたタイプの装置を提供することである。さらにまた、かかる装置を有するレーザ装置を提供することである。
これは、発明に従えば、請求項1の特徴を備える、冒頭で述べたタイプの装置によって、および請求項10の特徴を備えるレーザ装置によって解決される。下位の請求項は、本発明の好ましい実施形態に関する。
請求項1に従えば、第1の方向における、少なくとも1つの導波管の入射面と出射面との間の距離は、出射面から出射した後のレーザビームのプロファイルが、入射面に入射する前のレーザビームのプロファイルに対応するような大きさを有するように構成される。レーザビームのプロファイルを維持することによって、たとえば、レーザビームを2つの互いに垂直な方向において互いに回折させるために、2つの互いに垂直な導波管を順に配設することが可能となる。可能な用途としては、たとえば、レーザディスプレイにおける水平回折および垂直回折がある。さらにまた、プロファイルが維持されるので、電極の形状は比較的自由に選択可能である。
特に、少なくとも1つの導波管の入射面と出射面との間の第1の方向における距離は、回折されるレーザビームの波長を有する光に対するタルボ(Talbot)長、またはタルボ長の整数倍に対応する。こうすることによって、外形の基準によって、レーザビームのプロファイル維持が達成される。
その代わりに、少なくとも1つの導波管の入射面と出射面との間の第1の方向における距離は、回折されるレーザビームの波長を有する光に対するタルボ長の半分、またはタルボ長の半分の整数倍に対応するようにすることも可能である。
好ましくは、タルボ長Lについては、
=8nD/λ
であり、式中、
nは少なくとも1つの導波管の屈折率であり、
Dは、少なくとも1つの導波管の、第3の方向における長さであり、
λは、回折されるレーザビームの真空波長である。
請求項10に従えば、レーザ装置は、レーザビームを回折するための装置が、発明に従った装置であることを特徴とする。
本発明のさらなる特徴と利点は、添付の図を参照して、以下の好適な実施形態についての説明によって明らかになるであろう。
発明に従った装置の第1の実施形態の概略側面図である。 図1に従った装置の平面図である。 概略的に示されたレーザビームと共に示した、図1に従った装置の図1に対応する概略側面図である。 技術の水準に従った装置の、図1に対応する概略側面図である。 発明に従った装置の第2の実施形態の概略側面図である。 図5に従った装置の平面図である。
明瞭化のために、図のいくつかにおいては、デカルト座標が描かれている。さらにまた、図においては、同じまたは機能的に同じ部分は同じ参照符号が付与されている。
発明に従った装置の図1および図2に示す実施形態は、透明基板2と複数の薄く平らな電極3,4,5とを含む導波管1を備える。電極3,4,5は、基板2上に直接設けられてもよく、または、1または複数の適切な中間層を介して基板2から分離されてもよい。
基板は、直方体形状であり、第1の方向Zに長さL、第2の方向Xに長さB、そして第3の方向Yに長さDを有する。この場合、第2の方向Xにおける長さBは、第3の方向Yにおける長さDよりも大きく、たとえば5〜10倍の大きさである。
図1および図2における、基板2の下方側には、特に、完全に平らに被覆された、第1の電位と結合された電極3が設けられる。この第1の電位は、図1に概略的に示されるように、接地してもよい。
図1および図2における、基板2の上方側には、三角形の輪郭を有する2つの電極4,5が配設されている。この場合、各電極の三角形は180°ずつシフトされ、したがって、1つの三角形の先端は、他の三角形の底面と同一面で結合して逆さまになっている。2つの電極は、概略的に示されているだけであって、基板2のほぼ全表面にわたって、それらの間が細いスリットになるまで延ばしてもよい。
2つの電極の第1の電極4は、第2の電位と結合され、第2の電位と第1の電位との間の電圧は+Vであってもよい。2つの電極の第2の電極5は、第3の電位と結合され、第3の電位と第1の電位との間の電圧は−Vであってもよい。特に、電圧+Vと電圧−Vの絶対値は同じ大きさであってもよい。
電極3,4,5の構成、電極2の構成、および電圧+V,−Vは、入射面6に入力するレーザビームが、電圧が印加されるとX方向に回折するように選択される。
基板2は、図1および図2の左側に、回折されるレーザビームが入射可能な入射面6を有する。基板2は、図1および図2の右側に、回折されるレーザビームが出射可能な出射面7を有している。入射面6および出射面7は、それぞれ、X−Y平面に延び、Z方向には、Z方向において基板2の長さLに対応する距離だけ互いに離間されている。
この長さL、すなわち、入射面6の出射面7からの距離は、回折されるレーザビームについてのタルボ長Lに等しい。すなわちL=Lとなる。タルボ長(L)は、
=8nD/λ
となり、式中、nは、導波管1の、または導波管1の基板2の屈折率であり、Dは、導波管1の、または導波管1の基板2のY方向における長さであり、λは、回折されるレーザビームの真空波長である。
また、長さL、すなわち、入射面6の出射面7からの距離は、タルボ長Lの整数倍としてもよい。また、長さL、すなわち、入射面6の出射面7からの距離は、タルボ長Lの半分、または、タルボ長Lの半分の奇数倍としてもよい。
上述のように、長さL、すなわち、入射面6の出射面7からの距離を、タルボ長Lと関連づけて選択することによって、基板2を通過するレーザビームがそのプロファイルを維持するということを達成することが可能となる。
このことは、図3において分かりやすく説明している。図において、レーザビーム8は、下方から斜めに入射面6に入射し、出射面7から上方に斜めに出射している。レーザビーム8は、Y方向には、その本来の伝播方向を変えていないが、X方向については、ただ単に、しかるべき電圧+Vおよび−Vが印加されることで回折される。
それに対して、図4は、技術の水準に従った導波管1’を通過する比較可能なレーザビーム8の入射を示している。この場合には、Z方向の長さL’は、タルボ長Lにも、タルボ長Lの整数倍にも、タルボ長Lの半分にも、タルボ長Lの半分の奇数倍にも対応しないので、レーザビーム8は、そのプロファイルを維持せず、出射面7’から出射した後に、Y方向に発散する。このことは、図4に、2つの方向に伝播するレーザビーム8および8’によって示されている。
長さLをタルボ長Lで調整するこのようなプロファイル維持作用に基づいて、2つの発明に従って実施される導波管1,10が、Z方向に順に配設される。これについては、図5および図6に示している。
第1の導波管1によって、レーザビームは、正のX方向において回折されるが、その場合レーザビーム8の発散は起こらない。さらにまた、レーザビーム8のY方向における影響も全く生じない。
第2の導波管10によって、レーザビームは、正のY方向において回折されるが、その場合レーザビーム8の発散は起こらない。さらにまた、レーザビーム8のX方向における影響も全く生じない。
これら2つの導波管1,10を通過した後、レーザビーム8は、X方向にもY方向にも回折されるが、レーザビームのプロファイルは変化しない。

Claims (10)

  1. レーザビーム(8)を回折するための装置であって、
    レーザビーム(8)のための、入射面(6)および出射面(7)を有する少なくとも1つの導波管(1,10)であって、入射面(6)と出射面(7)とが、第1の方向(Z)において、互いに距離(L)を有し、導波管(1,10)が、第1の方向に垂直な第2の方向(X)において、第1の方向および第2の方向に垂直な、第3の方向(Y)におけるよりも大きな長さを有する導波管(1,10)と、
    少なくとも2つの電極(3,4,5)であって、少なくとも1つの導波管(1,10)に、または、少なくとも1つの導波管(1,10)の付近に配設され、回折電圧(+V,−V)を印加可能であり、その結果レーザビーム(8)が、該少なくとも1つの導波管(1,10)において、および/または該少なくとも1つの導波管(1,10)から出射する際に、少なくとも第2の方向(X)に関して、電気光学的に回折される、少なくとも2つの電極(3,4,5)と、を備える、レーザビーム(8)を回折するための装置において、
    第1の方向(Z)における、少なくとも1つの導波管(1,10)の入射面(6)と出射面(7)との間の距離(L)は、出射面(7)から出射した後のレーザビーム(8)のプロファイルが、入射面(6)に入射する前のレーザビーム(8)のプロファイルに対応するような大きさを有することを特徴とする装置。
  2. 少なくとも1つの導波管(1,10)の入射面(6)と出射面(7)との間の第1の方向(Z)における距離(L)は、回折されるレーザビーム(8)の波長(λ)を有する光に対するタルボ長(L)、またはタルボ長(L)の整数倍に対応することを特徴とする、請求項1に記載の装置。
  3. 少なくとも1つの導波管(1,10)の入射面(6)と出射面(7)との間の第1の方向(Z)における距離(L)は、回折されるレーザビーム(8)の波長(λ)を有する光に対するタルボ長(L)の半分、またはタルボ長(L)の半分の整数倍に対応することを特徴とする、請求項1に記載の装置。
  4. タルボ長(L)について、
    =8nD/λ
    であり、式中、
    nは少なくとも1つの導波管(1,10)の屈折率であり、
    Dは、少なくとも1つの導波管(1,10)の、第3の方向(Y)における長さであり、
    λは、回折されるレーザビーム(8)の真空波長であることを特徴とする、請求項2または3に記載の装置。
  5. 少なくとも1つの導波管(1,10)の、第2の方向(X)における長さ(B)は、第3の方向(Y)における長さ(D)の、2倍以上、好ましくは、5倍以上の大きさであることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の装置。
  6. 少なくとも1つの導波管(1,10)の2つの面上には、第3の方向(Y)において互いに対向した、少なくとも1つの電極(3,4,5)が、直接または間接に配設されることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載の装置。
  7. 第3の方向(Y)において互いに対向した2つの面の一方上には、2つの互いに分離した電極(4,5)が配設されることを特徴とする、請求項6に記載の装置。
  8. 2つの導波管(1,10)を備え、該2つの導波管は、回折されるレーザビーム(8)が2つの導波管(1,10)を連続して通過することができるように、相前後して配設されることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか1項に記載の装置。
  9. 2つの導波管(1,10)は、レーザビーム(8)を2つの互いに垂直な方向(X,Y)に回折可能なように、第1の方向(Z)に、互いに90°ねじれていることを特徴とする、請求項8に記載の装置。
  10. 波長(λ)を有するレーザビーム(8)を出射可能なレーザ光源と、
    レーザビーム(8)を回折するための装置と、を備えるレーザ装置において、
    前記レーザビーム(8)を回折するための装置は、請求項1〜9のいずれか1項に記載の装置であることを特徴とするレーザ装置。
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102585256B1 (ko) 2016-11-11 2023-10-05 삼성전자주식회사 빔 스티어링 장치 및 이를 포함하는 시스템
CN106842760B (zh) * 2017-03-08 2019-10-15 暨南大学 一种用阵列电极进行光束偏转的铌酸锂波导及制作方法
US11837838B1 (en) 2020-01-31 2023-12-05 Freedom Photonics Llc Laser having tapered region
US20230023686A1 (en) * 2021-06-10 2023-01-26 Freedom Photonics Llc Designs for lateral current control in optical amplifiers and lasers

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3489904A (en) * 1965-10-18 1970-01-13 Nat Eng Science Co Laser beam tracking apparatus
JPS63199480A (ja) * 1987-02-16 1988-08-17 Sharp Corp 半導体レ−ザ走査装置
JP3144270B2 (ja) * 1995-06-21 2001-03-12 富士ゼロックス株式会社 光偏向素子
JPH1039346A (ja) * 1996-07-26 1998-02-13 Sony Corp 電気光学素子
US6169757B1 (en) * 1997-09-26 2001-01-02 Scott A. Merritt Intermodal phase difference controller for beam angle modulation in index guided semiconductor devices
US6449084B1 (en) 1999-05-10 2002-09-10 Yanping Guo Optical deflector
US6963118B2 (en) * 2001-05-17 2005-11-08 Sioptical, Inc. Hybrid active and electronic circuit with evanescent coupling
US6975782B2 (en) * 2002-10-21 2005-12-13 Finisar Corporation Optical deflector using electrooptic effect to create small prisms
US7027670B2 (en) * 2003-10-17 2006-04-11 Fujitsu Limited Cascaded deflectors for multi-channel optical switches, and optical switching modules and methods having cascaded deflectors
US7239777B1 (en) * 2006-03-09 2007-07-03 Lockheed Martin Coherent Technologies, Inc. Method and apparatus to coherently combine high-power beams in self-imaging waveguides
JP5130810B2 (ja) * 2007-07-13 2013-01-30 沖電気工業株式会社 光偏向器

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