JP2014512329A - 熱処理可能コートガラスペイン - Google Patents

Abstract

少なくとも以下の層、
−ガラス基質、
−下部反射防止層、
−銀系機能層
−銀系機能層から、順に少なくとも以下の３つの部分的バリア層を含む、バリア層、
○最大でも５ｎｍの厚さを有する、Ｚｎ、Ｔｉ、ＺｎＳｎ、ＩｎＳｎ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｓｎおよび／もしくはＳｉの酸化物、ならびに／またはＳｉの、および／もしくはＡｌの(酸化）窒化物に基づく下部分バリア層、
○最大でも５ｎｍの厚さを有する、Ｚｎ、Ｔｉ、ＺｎＳｎ、ＩｎＳｎ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｓｎおよび／もしくはＳｉの酸化物、ならびに／またはＳｉの、および／もしくはＡｌの(酸化）窒化物に基づく中央部分バリア層、
○最大でも１０ｎｍの厚さを有する、Ｚｎ、Ｔｉ、ＺｎＳｎ、ＩｎＳｎ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｓｎおよび／もしくはＳｉの酸化物、ならびに／またはＳｉの、および／もしくはＡｌの(酸化）窒化物に基づく上部分バリア層、および
−上部反射防止層、
を順に含み、中央部分バリア層は、下部分バリア層と上部分バリア層両方に対して、異なる組成物を有する、コートガラスペイン。
【選択図】図１

Description

本発明は、低−ｅおよび／または太陽光制御コーティングを有する、熱処理可能コートガラスペインに関する。本発明はまた、前記ペインを製造する方法に関する。

安全性特性に影響を与えるために強化される、および／または屈曲する熱処理ガラスが、多くの数の適用領域に対して、例えば建築または自動車ガラスはめ工事のために必要とされる。温度強化および／または屈曲ガラスペインにとって、ガラスペインを、使用したガラスの軟化点近くまたはそれ以上の温度での熱処理によって処理すること、およびついで迅速な冷却によってそれらを強化するか、または屈曲手段の補助にてそれらを屈曲させることが必要であることが公知である。ソーダライムシリカ型の標準のフロートガラスに対する相対温度範囲は、典型的に約５８０〜６９０℃であり、ガラスペインが、実際の強化および／または屈曲工程を開始する前数分間、この温度範囲内に維持される。

以下の記述および請求項における「熱処理」、「熱処理された」および「熱処理可能」は、以前に言及したような温度屈曲および／または強化工程と、その間に、数分間の期間、例えば約１０分までの間、コートガラスペインが約５８０〜６９０℃の範囲内の温度に達する他の温度工程を意味する。コートガラスペインは、有意なダメージなしに熱処理を切り抜けた場合に、熱処理可能であると考えられ、典型的なダメージは、高いかすみ値である熱処理、ピンホールまたはスポットによって引き起こされる。

本発明の発明者らは、コーティング、熱処理、コートガラスペインの処理および／または取り扱いの間に発生しうる欠損の全ての型を完全に反映しないので、パラメータ「かすみ」は、低−ｅおよび／または太陽光制御コーティングの熱処理性能を特性化することがしばしば不十分である時を意味することを発見した。本発明らは、有意な目に見えるダメージなしに、熱処理可能として記述された種々の低−ｅおよび／または太陽光制御コートペインが、熱処理の前後のコートガラスペインの保存、輸送および利用の間の通常の環境影響、および通常の取り扱いおよび処理段階の間、コートガラスペイン上で働いている機械的および科学的状態をシミュレートしている全ての試験に逆らわなかったことを発見した。

本発明はよりとりわけ、コーティングに、少なくとも下部反射防止層、銀に基づく機能層、バリア層、および上部反射防止層が含まれる、コートガラスペインが関係する。そのようなコーティングにおいて、バリア層は、生産と続く熱処理の間、有害な影響に対して、銀に基づく機能層を保護するために働く。反射防止層は、高い光伝達性と低い反射率を達成するために、機能層を反射防止するために働く。バリア層が、続く反射防止層の反射防止効果に寄与してよい。

独国特許第ＤＥ１００４２１９２号明細書は、徐々に変化する組成物の層を有するＩＲ反射層システムを記述している。Ｎｂ_２Ｏ_５に基づく下部誘電層を備える、Ａｇ、ＡｕまたはＣｕのような少なくとも１つのＩＲ反射金属層が存在する。ＴｉＯ_２バリア層と、ＺｎＯ／ＴｉＯ_２トップコートを有する可能性あるスタックが言及されているが、特定の例は開示されていない。独国特許第ＤＥ１００４２１９２号明細書中のスタックの機械的耐久性特性または熱処理性能の議論はない。

欧州特許第ＥＰ１１４０７２１号明細書は、銀層上のＮｉＣｒＯ_ｘまたはＴｉＯ_ｘのような保護金属プライマー（バリア）層の利用を避ける、銀に基づく熱処理可能な低−ｅコーティングを記述している。スタックには、少なくとも２つの銀に基づく層が含まれ、単独アルミニウムドープ酸化亜鉛バリア層を利用する。

欧州特許第ＥＰ０３０４２３４号明細書は、少なくとも２つの金属の酸化物を含むバリア層を提供することによる染色から保護される、銀に基づく層を有するコートペインを記述している。銀層上のＴｉＯ_２／ＺｎＯ／ＴｉＯ_２層アレンジメントが言及される。バリア層は、水分および他の染色試薬、アモルファスおよび粒子境界なしの非浸透性であると言われる。

欧州特許第ＥＰ０５９３８８３号明細書は、高い光伝達性と、ＩＲ反射特性を有するコートペインを記述している。コーティングには、例えば銀層の最上に沈殿したチタンバリア層の金属製二重層を含む。例えばＺｎＯ／ＴｉＯ_２／ＺｎＯの三重誘電層が、バリア層の最上に沈殿する。

米国特許第５３０２４４９号は、広い範囲の角度の光発生を通して天然の光を表示する高い光伝達性、低−ｅコートペインを記述している。コーティングは、二重銀層アレンジメントと、ＴｉＯ_２のような金属酸化物の犠牲バリア層を利用する。最外部バリア層は、1つまたはそれ以上のさらなる酸化物層でコートされてよい。

好ましい熱処理性能と、続いて機械耐久性を提供するので（例えば、独国特許第１０２００８００７９８１号明細書および米国特許第２０１００１７８４９２号明細書を参照のこと）、犠牲バリア層として、不足等量ＮｉＣｒＯ_ｘを利用することがよく知られている（例えば米国特許第２００９／０１９７０７７号明細書および国際特許第２０１０／０７３０４２号パンフレットを参照のこと）。しかしながら、ＮｉＣｒＯ_ｘ層の存在は、正確な等量の層を沈着するために必要な重要な状態のために、製造を複雑にする。ＮｉＣｒＯ_ｘの利用はさらに、熱処理の間のコーティングスタックの光学特性、すなわち光伝達、色、吸収、光反射性の有意な変化を導く。したがって、銀に基づく機能層上に不足等量のＮｉＣｒＯ_ｘ犠牲バリア層に対する必要性なしに、良好な熱処理性能および機械耐久性を示すコートガラスペインを提供することが魅力的であり得る。

したがって、本発明は、以下でより詳細にさらに記述されるコートガラスペインに対する特定の利用、処理および取り扱い状態をシミュレートしている多数の試験に従って評価するように、極めて低いレベルの目に見えるダメージを示すコートガラスペインを提供することをとりわけ目的とする。

本発明はさらに、とりわけ高い光伝達性と低い放射率を有するか、良好な太陽光制御特性を示す、すなわち十分に高い光伝達性と組み合わせた低太陽光エネルギー伝達性を有するかいずれかの、熱処理可能コートガラスペインを提供することを目的とする。本発明はまた、熱処理可能コートガラスペイン、熱処理の間安定のままであってよい光学特性を提供することを目的とする。

本発明の第一様態にしたがって、少なくとも以下の層を順に含むコートガラスペインが提供される。
−ガラス基質、
−下部反射防止層、
−銀に基づく機能層
−銀に基づく機能層から、順に少なくとも以下の３つの部分的バリア層を含む、バリア層、
○最大でも５ｎｍの厚さを有する、Ｚｎ、Ｔｉ、ＺｎＳｎ、ＩｎＳｎ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｓｎおよび／またはＳｉの酸化物、および／またはＳｉの、および／またはＡｌの(酸化）窒化物に基づく下部分バリア層、
○最大でも５ｎｍの厚さを有する、Ｚｎ、Ｔｉ、ＺｎＳｎ、ＩｎＳｎ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｓｎおよび／またはＳｉの酸化物、および／またはＳｉの、および／またはＡｌの(酸化）窒化物に基づく中央部分バリア層、
○最大でも１０ｎｍの厚さを有する、Ｚｎ、Ｔｉ、ＺｎＳｎ、ＩｎＳｎ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｓｎおよび／またはＳｉの酸化物、および／またはＳｉの、および／またはＡｌの(酸化）窒化物に基づく上部分バリア層、および
−上部反射防止層、ここで中央部分バリア層は、下部分バリア層と上部分バリア層両方に対して、異なる組成物を有する。

本発明のコートガラスペインは、銀に基づく機能層上ＮｉＣｒＯ_ｘを含む犠牲バリア層に対する必要性なしに、良好な熱処理性能と機械耐久性を提供する。ペインは、強化のような熱処理前後で、とりわけ低いかすみを示し、これは、単一および二重バリア層組み合わせ上の機械的ロバスト性における実証できる改善が、熱処理性能を傷つけないことを示している。本発明のペインは、コートガラスペインに対する特定の利用、処理および取り扱い状態をシミュレートしている多数の試験にしたがって評価されたように、極めて引くいレベルの目に見えるダメージを示す。さらに、ペインは、光学特性が熱処理の間安定のままで、高い光伝達性と、低い放射性、および／または良好な太陽光制御特性を示す。

本発明の以下の議論において、反対に言及しない限り、値の１つが他よりもより高く好ましいことの示唆と連結して、許容されたパラメータの範囲の上または下制限に対する代替値の開示が、より好ましい、そして好ましくない前記代替間に存在している前記パラメータの各中間値が、前記好ましくない値に対して、そして前記好ましくない値と前記中間値との間に存在している各値に対してそれ自身好ましいことの暗示されたステートメントとして構築されるべきである。

本発明の文脈において、層が特定の材料または材料類「に依存して」いると言われる場合、層が優先的に、相当する前記材料または材料類からなり、典型的に少なくとも５０ａｔ．％の前記材料または材料類を含むことを意味する。

好ましくは、コートガラスペインは、第一様態にて列記されたような順で、ガラス基質と４つの層からなる。

下部反射防止層は、１つまたはそれ以上の、シリコーンの（酸化）窒化物、アルミニウムおよび／またはその合金の（酸化）窒化物、Ｔｉの酸化物、および／またはＺｒの酸化物に基づく基礎層、ＺｎおよびＳｎの酸化物および／またはＳｎの酸化物に基づく層、金属酸化物および／またはシリコーンの（酸化）窒化物および／またはアルミニウムの（酸化）窒化物に基づく分離層、およびＺｎの酸化物に基づく最上層を含んでよい。

好ましくは、下部反射防止層は、ガラス基質から順に、
○シリコーンの（酸化）窒化物、アルミニウムおよび／またはその合金の（酸化）窒化物、Ｔｉの酸化物さ、および／またはＺｒの酸化物に基づく基礎層、
○ＺｎおよびＳｎの酸化物、および／またはＳｎの酸化物に基づく層、および
○Ｚｎの酸化物に基づく最上層
を含む。好ましくは、下部反射防止層は、以上で列記したような順で、３つの層からなる。

さらにより好ましくは、下部反射防止層は、以上で列記したような順にて、
○シリコーンの（酸化）窒化物、アルミニウムおよび／またはその合金の（酸化）窒化物、Ｔｉの酸化物、および／またはＺｒの酸化物に基づく基礎層、
○ＺｎおよびＳｎの酸化物、および／またはＳｎの酸化物に基づく層、
○金属酸化物および／またはシリコーンの（酸化）窒化物、および／またはアルミニウムの（酸化）窒化物に基づく分離層、および、
○Ｚｎの酸化物に基づく最上層
からなる。

またさらに好ましくは、下部反射防止層は、以上で列記されたような順で４つの層からなる。

下部反射防止層のシリコーンの（酸化）窒化物、アルミニウムおよび／またはその合金の（酸化）窒化物、Ｔｉの酸化物、および／またはＺｒの酸化物に基づく基礎層は、少なくとも５ｎｍ、好ましくは５〜６０ｎｍ、より好ましくは１０〜５０ｎｍ、またより好ましくは２０〜４０ｎｍ、最も好ましくは２５〜３５ｎｍの厚さを有してよい。この基礎層は、他の利用の中でも、ガラススライド拡散バリアとして働く。

用語「アルミニウムの（酸化）窒化物」が、窒化Ａｌ（ＡｌＮ_ｘ）と酸化窒化Ａｌ（ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ）を包含する一方で、「シリコーンの（酸化）窒化物」は、窒化Ｓｉ（ＳｉＮｘ）と酸化窒化Ｓｉ（ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ）両方を包含する。窒化Ｓｉ、酸化窒化Ｓｉ、窒化Ａｌおよび酸化窒化Ａｌ層は、好ましくは本質的に等量（例えば窒化Ｓｉ＝Ｓｉ_３Ｎ_４、ｘ＝１．３３）であるが、コーティンの熱処理性能がそれによって負に影響を受けない限り、不足等量であるか、または超不足等量であってもよい。下部反射防止層のシリコーンの（酸化）窒化物および／またはアルミニウムの（酸化）窒化物に基づく基礎層の１つの好ましい組成物は、本質的に等量混合された窒化物Ｓｉ_９０Ａｌ_１０Ｎ_ｘである。

シリコーンの（酸化）窒化物および／またはアルミニウムの（酸化）窒化物の層は、窒素およびアルゴンを含むスパッタリング大気中、それぞれＳｉおよび／またはＡｌ−に基づく標的から反応的にスパッタリングされてよい。シリコーンの（酸化）窒化物および／またはアルミニウムの（酸化）窒化物に基づく基礎層の酸素含量は、スパッタリング大気中の残留酸素から、または前記大気中の添加した酸素の制御された含量からの結果であってよい。シリコーン（酸化）窒化物および／またはアルミニウム（酸化）窒化物の酸素含量が、その窒素含量よりも有意に低い場合、すなわち層内の原子比Ｏ／Ｎが有意に低く維持される場合が一般に好ましい。下部反射防止層の基礎層に対して無視できるほどの酸素含量にて、Ｓｉ窒化物および／またはアルミニウム窒化物を利用することが最も好ましい。この特徴は、層の反射指数が、酸素を含まないＳｉ窒化物および／またはアルミニウム窒化物層の反射指数から有意に異ならないことを確かにすることによって制御されてよい。

混合Ｓｉおよび／またはＡｌ標的を利用すること、または下部反射防止層の基礎層の必須バリアおよび保護特性が失われない限り、この層のＳｉおよびＡｌコンポーネントに対して金属または半導体を加えることが、本発明の範囲内である。ＡｌをＳｉ標的と混合することがよく公知であり、確立されており、他の混合標的は除外されない。さらなるコンポーネントは、典型的には、約１０〜１５ｗｔ.％までの量で存在してよい。Ａｌは通常、約１０ｗｔ．％の量で、混合Ｓｉ標的中に存在する。

下部反射防止層の基礎層は、ＴｉＯ_ｘおよび／またはＺｒＯ_ｘに基づいてよく、ｘは１．５〜２．０である。

下部反射防止層のＺｎおよびＳｎの酸化物、および／またはＳｎの酸化物に基づく層は、濃密で、温度的に安定である層を提供すること、および熱処理の後かすみを減少させるために寄与することによって、熱処理の間の安定性を改善するために働く。下部反射防止層のＺｎおよびＳｎの酸化物、および／またはＳｎの酸化物に基づく層は、少なくとも０．５ｎｍ、好ましくは０．５〜１．０ｎｍ、より好ましくは０．５〜９ｎｍ、さらにより好ましくは１〜８ｎｍ、さらにより好ましくは１〜７ｎｍ、さらにより好ましくは２〜６ｎｍ、さらにより好ましくは３〜６ｎｍ、最も好ましくは３〜５ｎｍの厚さを有してよい。光学干渉条件のため、そして機能的層の反射を止めるための光学干渉境界条件を維持することが必要である基礎層の厚さにおける結果としての減少のために熱処理性能の減少によって、約８ｎｍの厚さ上限が好ましい。

下部反射防止層のＺｎおよびＳｎの酸化物、および／またはＳｎの酸化物に基づく層は、好ましくは、シリコーンの（酸化）窒化物および／またはアルミニウムの（酸化）窒化物に基づく基礎層上に直接位置する。

下部反射防止層のＺｎおよびＳｎの酸化物（略語：ＺｎＳｎＯ_ｘ）に基づく層は、約１０〜９０ｗｔ．％のＺｎと９０〜１０ｗｔ．％のＳｎ、より好ましくは約４０〜６０ｗｔ．％のＺｎと約４０〜６０ｗｔ．％のＳｎ、好ましくはそれぞれ約５０ｗｔ．％のＺｎとＳｎを含み、その総金属含量のｗｔ．％である。いくつかの好ましい実施形態において、下部反射防止層のＺｎおよびＳｎの酸化物に基づく層は、最大でも１８ｗｔ．％のＳｎ、より好ましくは最大でも１５ｗｔ．％のＳｎ、さらにより好ましくは最大でも１０ｗｔ．％のＳｎを含んでよい。ＺｎおよびＳｎの酸化物に基づく層は、Ｏ_２の存在下、混合ＺｎＳｎ標的の反応性スパッタリングによって沈着してよい。

金属酸化物および／またはシリコーンの（酸化）窒化物、および／またはアルミニウムの（酸化）窒化物に基づく分離層は、少なくとも０．５ｎｍ、好ましくは０．５〜６ｎｍ、より好ましくは０．５〜５ｎｍ、さらにより好ましくは０．５〜４ｎｍ、最も好ましくは０．５〜３ｎｍの厚さを有してよい。これらの好ましい厚さにより、熱処理に際してのかすみにおけるさらなる改善が可能である。分離層は、沈着工程の間、および続く熱処理の間、保護を提供する。分離層は、その沈着の直後に本質的に完全に酸化されるか、または続く酸化層の沈着の間に、本質的に完全に酸化された層に酸化されるかいずれかである。

分離層は、Ｏ_２の存在下、Ｔｉに基づく標的の反応性スパッタリングによって、または次いで酸化されるＴｉに基づく薄い層を沈着させることによって、本質的に等量の酸化物として、またはわずかに不足等量の酸化物として、例えばわずかに不足等量の酸化チタン、例えばＴｉＯ_１．９８標的に基づくセラミック標的からの非反応性スパッタリングを用いて沈着されてよい。本発明の文脈中、「本質的に等量の酸化物」は、少なくとも９５％、しかし最大でも１０５％等量である酸化物を意味し、一方で「わずかに不足等量酸化物」は少なくとも９５％、しかし１００％等量より少ない酸化物を意味する。

分離層が金属酸化物に基づいている時に、前記分離層は、Ｔｉ、ＮｉＣｒ、ＩｎＳｎ、Ｚｒ、Ａｌおよび／またはＳｉの酸化物に基づく層を含んでよい。

分離層がそれに基づく、金属酸化物および／またはシリコーンの（酸化）窒化物、および／またはアルミニウムの（酸化）窒化物に加えて、分離層がさらに、例えばドーパントまたはアロヤントとして使用される、少なくとも１つの以下のエレメント、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ａｌ、Ｎｂ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｓｉから、またはこれらの材料の少なくとも１つに基づく合金から選択される１つまたはそれ以上の化学エレメントを含んでよい。

Ｚｎの酸化物に基づく最上層はまず、続いて沈着した銀に基づく機能層に対して、成長促進層として機能する。Ｚｎの酸化物に基づく最上層は、約１０ｗｔ．％までの量で（ｗｔ．％は、標的金属含量を参照する）、ＡｌまたはＳｎのような金属と任意に混合する。ＡｌまたはＳｎのような前記金属の典型的な含量は、約２ｗｔ．％である。Ａｌが実際好ましい。ＺｎＯおよび混合酸化Ｚｎが、続いて沈着した銀に基づく機能層の与えられた厚さにて、低いシート抵抗を達成することを補助する、成長促進層として非常に効果的であることが証明された。下部反射防止層の最上層が、Ｏ_２の存在下、Ｚｎ標的から反応的にスパッタリングされる場合、または全く、または少量のみ、一般に約５ｖｏｌ．％以下の酸素を含む大気中、例えばＺｎＯ：Ａｌに基づく、セラミック標的をスパッタリングすることによって沈着する場合が好ましい。Ｚｎの酸化物に基づく最上層は、少なくとも２ｍｍの厚さ、好ましくは２〜１５ｎｍ、より好ましくは３〜１２ｎｍ、さらにより好ましくは４〜１０ｎｍ、さらにより好ましくは５〜８ｎｍの厚さを有してよい。

銀に基づく機能層（複数可）は、通常、低−ｅおよび／または太陽光制御コーティングの領域内での場合であるように、任意の添加物なしに、本質的に銀からなってよい。しかしながら、高い光伝達および低い光吸収ＩＲ−反射層（複数可）のようなその（それらの）機能に対して必要な銀に基づく機能層（複数可）の特性が、本質的にそれによって損なわれないかぎり、ドープ薬剤、合金添加物または類似のものを追加することによって、または非常に薄い金属または金属化合物層を添加することによってさえ、銀に基づく機能層（複数可）の特性を改変することが、本発明の範囲内である。

銀に基づく機能層の厚さは、その技術的目的によって支配される。典型的な低−ｅおよび／または太陽光制御目的のために、単一の銀に基づく層に対する好ましい層の厚さは、５〜２０ｎｍ、より好ましくは５〜１５ｎｍ、さらにより好ましくは５〜１３ｎｍ、さらにより好ましくは８〜１２ｎｍ、最も好ましくは１０〜１１ｎｍである。そのような層の厚さにて、８６％以上の光伝達値と、熱処理後０．０５以下の正常放射率が、単一銀コーティングに対して簡単に達成可能である。より良好な太陽光制御特性が目指される場合、銀に基づく機能層の厚さが、適切に増加してよく、または種々の間隔が空いた（spaced）機能層が、以下でさらに説明されるように提供されてよい。

好ましくは、下部反射防止層中のＺｎの酸化物に基づく最上層が、銀に基づく機能層と直接接触する。好ましくは、ガラス基質と、銀に基づく機能層間の層が、以上で列記した下部反射防止層の４つの層からなる。

本発明が、たった１つの銀に基づく機能層を有するコートされたペインをまず志向する一方で、２つまたはそれ以上の銀に基づく機能層を含む、低−ｅおよび／または太陽光制御コーティングに対して、本発明のコンセプトを適用することが、本発明の目的内である。１つ以上の銀に基づく機能層を提供することによって、すべての機能層が、介在誘電層（＝「中央反射防止層」）によって間隔が空き、Ｆｅｂｒｙ−Ｐｅｒｏｔ干渉フィルタが形成され、本技術分野でよく公知のように、それによって低−ｅおよび／または太陽光制御コーティングがさらに、代表的な適用に対してさらに最適化されてよい。

好ましくは、各銀に基づく機能層が、介在中央反射防止層によって隣接銀に基づく機能層から離間している。介在中央反射防止層（複数可）は、１つまたはそれ以上の以下の層、シリコーンの（酸化）窒化物および／またはアルミニウムの（酸化）窒化物に基づく基礎層、ＺｎおよびＳｎの酸化物および／またはＳｎの酸化物に基づく層、金属酸化物および／またはシリコーンの（酸化）窒化物および／またはアルミニウムの（酸化）窒化物に基づく分離層、およびＺｎの酸化物に基づく最上層、の組み合わせを含んでよい。

いくつかの好ましい実施形態において、各銀に基づく機能層が、介在中央反射防止層によって、隣接銀に基づく機能層から離間し、そこで、各中央反射防止層は、少なくとも、中央反射防止層が間に位置する銀に基づく機能層外のガラス基質に最も近く位置する銀に基づく機能層が順に、シリコーンの（酸化）窒化物および／またはアルミニウムの（酸化）窒化物に基づく基礎層、ＺｎおよびＳｎの酸化物および／またはＳｎの酸化物に基づく層、およびＺｎの酸化物に基づく最上層、を含む。

いくつかの場合において、２つの銀に基づく機能層間に位置する各中央反射防止層が、少なくとも−下部機能層から順に−シリコーンの（酸化）窒化物および／またはアルミニウムの（酸化）窒化物に基づく基礎層、ＺｎおよびＳｎの酸化物、および／またはＳｎの酸化物に基づく層、金属酸化物および／またはシリコーンの（酸化）窒化物および／またはアルミニウムの（酸化）窒化物に基づく分離層、およびＺｎの酸化物に基づく最上層を含む。

バリア層の下部分バリア層は好ましくは、Ｚｎの酸化物および／またはＴｉの酸化物に基づいてよい。バリア層の中央部分バリア層は好ましくは、Ｚｎの酸化物、Ｔｉの酸化物、Ｓｎの酸化物および／またはＺｎとＳｎの酸化物に基づいてよい。バリア層の上部分バリア層は好ましくは、Ｚｎの酸化物および／またはＴｉの酸化物に基づいてよい。

バリア層の下部分バリア層は、好ましくは、少なくとも０．５ｎｍ、より好ましくは少なくとも１ｎｍ、さらにより好ましくは少なくとも１．５ｎｍ、しかし好ましくは５ｎｍより薄い、より好ましくは最大でも４ｎｍ、さらにより好ましくは４ｎｍより薄い、最も好ましくは最大でも３ｎｍの厚さを有してよい。これらの好ましい厚さはさらに、沈着の簡便さ、およびかすみのような光学特徴の改善を可能にし、一方で機械的耐久性を維持する。

バリア層の中央部分バリア層は好ましくは、少なくとも０．５ｎｍ、より好ましくは少なくとも１ｎｍ、さらにより好ましくは少なくとも１．５ｎｍ、しかし好ましくは５ｎｍより薄い、より好ましくは最大でも４ｎｍ、最も好ましくは最大でも３ｎｍの厚さを有してよい。これらの好ましい厚さはさらに、沈着の簡便さ、およびかすみのような光学特徴の改善を可能にし、一方で機械的耐久性を維持する。

バリア層の上部分バリア層は好ましくは、少なくとも０．５ｎｍ、より好ましくは少なくとも１ｎｍ、さらにより好ましくは少なくとも１．５ｎｍ、しかし好ましくは１０ｎｍより薄い、より好ましくは８ｎｍより薄い、さらにより好ましくは最大でも７ｎｍ、さらにより好ましくは５ｎｍより薄い、最も好ましくは４．５ｎｍより薄い厚さを有してよい。これらの好ましい厚さはさらに、沈着の簡便さ、およびかすみのような光学特徴の改善を可能にし、一方で機械的耐久性を維持する。

バリア層は、少なくとも２ｎｍ、好ましくは少なくとも４ｎｍ、さらにより好ましくは少なくとも６ｎｍ、最も好ましくは少なくとも８ｎｍ、しかし最大でも２０ｎｍ、好ましくは最大でも１５ｎｍ、さらにより好ましくは最大でも１３ｎｍ、最も好ましくは最大でも１２ｎｍの総厚を有してよい。そのようなバリア層の厚さはさらに、沈着の簡便さ、およびかすみのような光学特徴の改善を可能にし、一方で機械的耐久性を維持する。

沈着工程の間の銀に基づく機能層のすぐれた保護と、熱処理の間の高い光学安定性が、バリア層が、混合金属酸化物標的からスパッタリングされた混合金属酸化物の層を含む場合に達成可能であることがわかった。バリア層の下部分バリア層、中央部分バリア層および／または上部分バリア層は、Ｚｎの酸化物に基づき、前記酸化物は、ＺｎＯ：Ａｌのような混合金属酸化物であってよい。良好な結果が、とりわけ、ＺｎＯ：Ａｌに基づく層が、伝導性ＺｎＯ：Ａｌ標的からスパッタリングされる場合に達成される。ＺｎＯ：Ａｌは、沈着してよく、完全に酸化されるか、またはわずかにサブ酸化される。

好ましくは、バリア層の下、中央および上部分バリア層は、本質的に等量の金属酸化物に基づく。金属製または９５％より低い等量バリア層ではなく、本質的に等量の金属酸化物に基づく部分バリア層の利用が、熱処理の間コーティングの非常に高い光学安定性を導き、熱処理の間の光学改変を小さく維持することを効果的に補助する。さらに、本質的に等量金属酸化物に基づく部分バリア層の利用が、機械的ロバスト性に関して、利益をもたらす。

銀に基づく機能層と直接接触するバリア層の少なくとも一部が、好ましくは、銀のダメージを避けるために、酸化標的の非反応性スパッタリングを用いて沈着する。

好ましくは、バリア層の下および上部分バリア層が、非反応性スパッタリングによって沈着する。好ましくはバリア層の中央部分バリア層が、反応性スパッタリングによって沈着する。好ましくはバリア層の上および下部分バリア層が、セラミック標的からスパッタリングされる。好ましくは、バリア層の中央部分バリア層は、１つまたはそれ以上の金属標的からスパッタリングされる。本発明の文脈中、用語「非反応性スパッタリング」には、本質的に等量の酸化物を提供するために、低酸素大気（酸素なし、または５％ｖｏｌ．までの酸素）中、酸化標的をスパッタリングすることが含まれる。

好ましくは、バリア層は、以上で列記したような銀に基づく機能層から順に、３つの層からなる。バリア層は好ましくは、銀に基づく機能層から順に、以下の層の組み合わせからなる群より選択されてよい。ＺｎＯ：Ａｌ／ＴｉＯ_ｘ／ＺｎＯ：Ａｌ、ＺｎＯ：Ａｌ／ＺｎＳｎＯ_ｘ／ＺｎＯ：Ａｌ、ＴｉＯｘ／ＺｎＳｎＯ_ｘ／ＺｎＯ：Ａｌ、ＴｉＯ_ｘ／ＺｎＯ：Ａｌ／ＴｉＯ_ｘ、ＴｉＯｘ／ＺｎＳｎＯ_ｘ／ＴｉＯ_ｘおよびＺｎＯ：Ａｌ／ＺｎＳｎＯ_ｘ／ＴｉＯ_ｘ。

部分バリア層がＴｉＯｘに基づく場合、ｘは１．５〜２．０であってよい。部分バリア層がＺｎＳｎＯ_ｘに基づく場合、「ＺｎＳｎＯ_ｘ」は、記述中他の場所にて記述され、定義されたようにＺｎおよびＳｎの混合酸化物を意味する。

好ましくは、バリア層は、ＮｉＣｒの酸化物に基づく部分バリア層を含まない。好ましくは、バリア層は、（不足等量）ＮｉＣｒＯｘの部分バリア層を含まない。

上部反射防止層は、２０〜５０ｎｍ、好ましくは２５〜５０ｎｍ、より好ましくは３０〜５０ｎｍ、さらにより好ましくは３５〜４５ｎｍの総厚を有してよい。

上部反射防止層は、アルミニウムの（酸化）窒化物、シリコーンの（酸化）窒化物、および／またはＡｌ、Ｓｉ、Ｔｉおよび／またはＺｎの酸化物に基づく層を含んでよい。前記層は、少なくとも５ｎｍ、好ましくは５〜５０ｎｍ、より好ましくは１０〜４０ｎｍ、さらにより好ましくは１０〜３０ｎｍ、最も好ましくは１５〜３０ｎｍの厚さを有してよい。そのような厚さは、コートペインの機械的ロバスト性に関してさらなる改善を提供する。アルミニウムの（酸化）窒化物、シリコーンの（酸化）窒化物、および／またはＡｌ、Ｓｉ、Ｔｉおよび／またはＺｒの酸化物に基づく前記層は好ましくは、バリア層と直接接触してよい。

いくつかの場合で上部反射防止層の主要な部分を作り出しうる、アルミニウムの（酸化）窒化物、シリコーンの（酸化）窒化物、および／またはＡｌ、Ｓｉ、Ｔｉおよび／またはＺｒの酸化物に基づく層は、安定性（熱処理の間よりよい保護）と拡散バリア特性を提供する。前記層は好ましくは、Ｎ_２を含む大気下、Ｓｉ、Ａｌまたは混合ＳｉＡｌ標的、例えばＳｉ_９０Ａｌ_１０標的の反応性スパッタリングによって、Ａｌ窒化物および／またはＳｉ窒化物層として沈着する。アルミニウムの（酸化）窒化物、および／またはシリコーンの（酸化）窒化物に基づく層の組成物は、本質的に等量Ｓｉ_９０Ａｌ_１０Ｎ_ｘである。

上部反射防止層は、ＺｎおよびＳｎの酸化物、および／またはＳｎの酸化物のような、金属酸化物に基づく層を含んでよい。上部反射防止層の金属酸化物に基づく層は、少なくとも０．５ｎｍ、好ましくは０．５〜３５ｎｍ、より好ましくは０．５〜２５ｎｍ、さらにより好ましくは２〜２０ｎｍ、さらにより好ましくは５〜１８ｎｍ、もっとも好ましくは５〜１６ｎｍの厚さを有してよい。そのような厚さは、コートされたペインの機械的ロバスト性に関して、さらなる改善を提供する。金属酸化物に基づく前記層が、ＺｎおよびＳｎの酸化物である時に、約１０〜９０ｗｔ．％のＺｎと９０〜１０ｗｔ．％のＳｎ、より好ましくは４０〜６０ｗｔ．％のＺｎと約４０〜６０ｗｔ．％のＳｎ、好ましくはそれぞれ５０ｗｔ．％のＺｎおよびＳｎが含まれ、その総金属含量のｗｔ．％である。いくつかの実施形態において、下部反射防止層のＺｎおよびＳｎの酸化物に基づく前記層は、最大でも１８ｗｔ．％のＳｎ、より好ましくは最大でも１５ｗｔ．％のＳｎ、さらにより好ましくは１０ｗｔ．％のＳｎを含んでよい。前記層は、Ｏ_２の存在下、混合ＺｎＳｎ標的の反応性スパッタリングによって沈着し、上部反射防止層の反射防止特性に寄与してよい。

好ましい上部反射防止層は、
アルミニウムの（酸化）窒化物および／またはシリコーンの（酸化）窒化物に基づく層、および
金属酸化物に基づく層
を含む。

好ましくは、上部反射防止層は、以上で列記したような２つの層からなる。

上部反射防止層のアルミニウムの（酸化）窒化物および／またはシリコーンの（酸化）窒化物に基づく層は、さらに誘電層を任意に介在することなしに、本明細書で定義したような上部反射防止層中の金属酸化物に基づく層と直接接触してよい。

好ましくは、上部反射防止層の金属酸化物に基づく層は、ＺｎおよびＳｎの酸化物および／またはＳｎの酸化物に基づく層を含む。

好ましくは、上部反射防止層は、バリア層から順に、アルミニウムの（酸化）窒化物および／またはシリコーンの（酸化）窒化物に基づく層と金属酸化物に基づく層を含む。

好ましくは、上部反射防止層は、以上で列記したバリア層から順に、２つの層からなる。

保護層は、機械的および／または化学的ロバスト性、例えばスクラッチ耐性の増加のために、上部反射防止層の最上層（最も外側の層）として沈着してよい。前記保護層は、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉおよび／またはＺｒの酸化物に基づく層を含んでよい。

コーティング中任意の光吸収を最小化するため、および熱処理の間、光伝達増加を減少させるために、上部および下部反射防止層のすべての個々の層が、本質的に等量の組成物中で、好ましく沈着する。

コートペインの光学特性をさらに最適化するために、上部および／または下部反射防止層は、低−ｅおよび／または太陽光制御コーティングの誘電層に対して一般に公知の好適な物質からなる、とりわけＳｎ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｎｂ、Ｃｅ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｚｒ、Ａｌおよび／またはＳｒの酸化物の、および／またはＳｉおよび／またはＡｌの（酸化）窒化物、またはそれらの組み合わせの１つまたはそれ以上から選択される、部分層をさらに含んでよい。そのようなさらなる部分層を加えた時に、しかしながら、本明細書で目的とされる熱処理能力はそれによって損なわれないことを検証すべきである。

任意のさらなる部分層が、その特性を改変し、および／またはその製造を促進する添加物、例えばドーピング試薬または反応性スパッタリング気体の反応産物を含んでよいことが理解されるであろう。酸化物に基づく層の場合、窒素が、酸化物というよりも酸化窒化物の形成を導くスパッタリング大気に加えてよく、窒化物に基づく層の場合、酸素が、また窒化物というよりも酸化窒化物の形成を導くスパッタリング大気に加えられてよい。

任意のそのようなさらなる分離層を、第一に目的とされる特性、例えば高温度安定性がそれによって有意に損なわれない本発明のペインの基礎層配列に対して加える時に、正確な材料、構造および厚さ選別を実施することによって気を遣わなければならない。

本発明のもう一つの様態にしたがって、ガラス基質を提供すること、前記ガラス基質に
下部反射防止層、
銀に基づく機能層、
最大でも５ｎｍの厚さを有する、Ｚｎ、Ｔｉ、ＺｎＳｎ、ＩｎＳｎ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｓｎおよび／またはＳｉの酸化物および／またはＳｉの、および／またはＡｌの（酸化）窒化物に基づく下部分バリア層、
最大でも５ｎｍの厚さを有する、Ｚｎ、Ｔｉ、ＺｎＳｎ、ＩｎＳｎ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｓｎおよび／またはＳｉの酸化物および／またはＳｉの、および／またはＡｌの（酸化）窒化物に基づく中央部分バリア層、
最大でも１０ｎｍの厚さを有する、Ｚｎ、Ｔｉ、ＺｎＳｎ、ＩｎＳｎ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｓｎおよび／またはＳｉの酸化物および／またはＳｉの、および／またはＡｌの（酸化）窒化物に基づく上部分バリア層、および上部反射防止層、
を首尾よく適用すること、を含む本発明にしたがった、コートガラスペインを製造する方法が提供され、そこで、銀に基づく機能層と直接接触する、Ｚｎ，Ｔｉ、ＺｎＳｎ、ＩｎＳｎ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｓｎおよび／またはＳｉの酸化物、および／またはＳｉのおよび／またはＡｌの（酸化）窒化物に基づく下部分バリア層の任意の部分が、酸素なし、または５％ｖｏｌ.酸素までの大気中でスパッタリングすることによって沈着する。

下部および上部反射防止層は、本発明の第一様態にて列記されたようなものであってよい。

本発明は、コーティングのための特別な産出工程に限定されない。しかしながら、少なくとも１つの層および最も好ましくは全ての層が、ＤＣモードにて、パルスモードにて、中間周波数モードにて、または任意の他の好適なモードにてのいずれかで、マグネトロン陰極スパッタリングによって供給され、それによって金属または半導体標的が、好適なスパッタリング大気中、反応的に、または非反応的に、スパッタリングされる場合がとりわけ好ましい。スパッタリングされるべき材料に依存して、平面または回転管状標的が使用されてよい。

Ｚｎ、Ｔｉ、ＺｎＳｎ、ＩｎＳｎ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｓｎおよび／またはＳｉの酸化物、および／またはＳｉのおよび／またはＡｌの（酸化）窒化物に基づく下および上部分バリア層が、非反応性スパッタリングによって沈着してよい。前記層は、セラミック標的からスパッタリングされてよい。

Ｚｎ、Ｔｉ、ＺｎＳｎ、ＩｎＳｎ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｓｎおよび／またはＳｉの酸化物、および／またはＳｉのおよび／またはＡｌの（酸化）窒化物に基づく中央部分バリア層が、反応性スパッタリングによって沈着してよい。前記層は、１つまたはそれ以上の金属標的からスパッタリングされてよい。

コーティング工程は好ましくは、コーティングの反射防止層の任意の酸化（または窒化）層の任意の酸素（または窒素）不足が、熱処理の間、コートガラスペインの光伝達性と色の高い安定性を達成するために、低いままであるように、好適なコーティング条件を設定することで実施される。

本明細書中で言及される光伝達性値は、コーティングなしで、８９％の光伝達性Ｔ_Ｌ有している４ｍｍ厚標準フロートガラスペインを含むコートガラスペインを参照して一般に特定化される。

コートガラスペインの天然の反射および伝達色が通常目的とされる一方で、本発明にしたがったコートガラスペインの色は、意図された産物の視覚的外観に適切にしたがって、個々の層の厚さを調節することによって広く変更されてよい。

本発明にしたがったコートガラスペインの温度安定性は、熱処理コートガラスペインが、かすみの許容できないレベルを示さない事実によって反映される。熱処理の間に検出された場合、かすみ値における大きな増加が、コーティングがダメージを受け始めていることを示唆しうる。本発明にしたがったコートガラスペインの機械的耐久性は、これもＮｉＣｒＯ_ｘバリア層の利用をさける先行技術ペインとの比較において、オイルラブおよびブラシ試験における優れた性能によって例示される。

本発明のもう一つの様態にしたがって、本発明にしたがったコートガラスペインを組みこんでいる多重窓ガラスが提供される。例えば、多重窓ガラスは、ラミネート加工ガラスまたは絶縁ガラスであってよい。

本発明の１つの様態に対して適用可能な光学特徴が、任意の組み合わせで、任意の数で使用可能であることが理解されるであろう。さらに、これらはまた、任意の組み合わせおよび任意の数で、本発明の他の様態の任意と使用可能でもある。これには、本明細書の請求項中の任意の他の請求項に対して独立請求項として使用される、任意の請求項から独立した請求項が含まれるが、これに限定はされない。

本発明の実施形態はここで、例示の目的によってのみ、以下の図面を参照して、本明細書によって記述される。

オイルラブ試験を受けた後の、比較実施例４（Ａ）および実施例５（Ｂ）のコートペインの写真である。

すべての実施例に対して、コーティングは、ＡＣおよび／またはＤＣマグネトロンスパッタリングデバイスを用いて、約８９％の光伝達を有する、４ｍｍ厚の標準フロートガラスペイン上に沈着し、中間周波数スパッタリングが適切な場所で適用される。

ＺｎおよびＳｎの酸化物のすべての誘電層（ＺｎＳｎＯ_ｘ、重量比Ｚｎ：Ｓｎ〜５０：５０）を、Ａｒ／Ｏ_２スパッタ大気中、亜鉛−鉛標的から反応的にスパッタリングした。

ＴｉＯ_ｘ層が、追加酸素なしの純粋なＡｒスパッタ大気中、わずかに不足等量の、伝導性ＴｉＯ_ｘ標的（ｓは約１．９８）から沈着した。

下部反射防止層のＺｎＯ：Ａｌ成長促進最上層が、Ａｒ／Ｏ_２スパッタ大気中、ＡｌドープＺｎ標的（Ａｌ含量約２ｗｔ．％）からスパッタリングされた。

すべての実施例中で本質的に純粋な銀（Ａｇ）からなる機能層が、任意の追加酸素なしのＡｒスパッタ大気中、１０^−５ｍｂａｒより少ない残余酸素部分圧にて、銀標的よりスパッタリングされた。

Ａｌ−ドープ酸化亜鉛（ＺｎＯ：Ａｌ）のバリア層が、追加酸素なしに、純粋なＡｒスパッタ大気中、伝導性ＺｎＯｘ：Ａｌ標的からスパッタリングされた。

サブ酸化ＮｉＣｒＯ_ｘバリア層は、Ａｒ／Ｏ_２スパッタ大気中Ｎｉ_８０Ｃｒ_２０標的からスパッタリングされた。

混合シリコーンアルミニウム窒化物（Ｓｉ_９０Ａｌ_１０Ｎ_ｘ）の層は、残余酸素のみを含むＡｒ／Ｎ_２スパッタ大気中、混合Ｓｉ_９０Ａｌ_１０標的から反応的にスパッタリングされた。Ａｌ窒化物の層は、残余酸素のみを含むＡｒ／Ｎ_２スパッタ大気中、Ａｌ標的から反応的にスパッタリングされた。

表１中のデータを回収するために使用した方法論を以下に提示する。層は、各カラムの最上の層で開始して順に、ガラスペイン上に沈着した。

熱処理性能試験
実施例１〜１０のコーティングの沈着の後、試料を約６５０℃にて約５分間熱処理した。その後、各試料のかすみを測定した。結果を以上の表１に列記する。

主観的可視かすみスコアリングシステムを実施例に適用した。本明細書以下で記述する品質査定システムが、明るい光条件下、コーティングの見映え、ＡＳＴＭ Ｄ １００３−６１にしたがって測定した標準のかすみ値によって完全には反映されない特性をよりよく区別するために必要であることを発見した。

評価システムは、コーティングがダメージを受けるか、不完全である場所での局所色変化を引き起こす、コーティング中の可視失敗のより巨視的効果を考慮している（表１のかすみスコア）。熱処理の後のコーティングにおける可視失敗の巨視的効果（すべての実施例が、熱処理の後かすみを示さない）を、明るい光下試料を見ることによって、主観的に査定した。評価は、熱処理の後、コートガラス試料の視覚外観をレーティングする、０（完全、失敗なし）と３（多数の明確な可視失敗および／またはスポット）〜５（濃いかすみ、しばしばすでに裸眼で可視）までの間でのスコアを用いる、完全性スコアリング（レーティング）に基づく。

可視評価を、ブラックボックスの前にアレンジされるコートガラスペイン上への、２つの直角なペイン（すなわちまず水平平面、ついで垂直平面中トーチを回転する）中、約−９０°〜約＋９０°の間の出現角にて指向する、２．５百万キャンドル出力ビーム（トーチ）を用いることによって実施した。ブラックボックスは、種々のコートガラス試料が、同時に評価可能であるように、十分に大きなサイズを有する。コートガラスペインが観察され、それらの見映えが、以上で記述したような出現角を変化させることによって、コートガラスペインを通して観察者から、光ビームを指向することによって査定した。コートガラスペインは、それらのコーティングが観察者に向くように、ブラックボックスの前にアレンジされた。任意の＞３のスコアを有する熱処理したコートガラスペインが、試験を失敗したと考慮される。

機械的ロブスト性試験
本明細書以下で説明するように、実施例５〜１０のコートガラスペインは、−熱処理の後、非常に低いかすみスコアによって反映されるように−熱処理可能であることを証明するだけでなく、より良好でない場合、コートガラスペインの処理および取り扱いをシミュレートしている多数のロブスト性試験にて、比較可能な先行技術コートペインと同様の結果も示した。ロブスト性試験は、任意の熱処理の前に実施されたオイルラブおよびブラシ試験を含み、結果を表１に示している。

オイルラブ試験は、コーティングの機械的ロブスト性における、ガラスペインを切断するために使用した切断油の影響をシミュレートするために働く。オイルラブ試験を低抗しないコートガラスペインは、処理することが難しく、最も実質的な適用に対して、好適ではない。コート試料を、１．５１５〜１．５１７の屈折指数の顕微鏡油中に浸した１．２＊１．２ｃｍ^２の面積を有するフェルトパッドを用いてラブする。試料を、３７サイクル／分の速度にてロードした１，０００ｇにて、５００サイクルにかける。オイルラブ試料を、０（完全、ダメージなし）〜３（部分邸コーティングス択が完全に除去された）の性能スケール上、内部評価システムを用いて評価する。１またはそれ以下のスコアは許容可能と考慮される。

ブラシ試験は、コートガラス表面上のブラシを洗浄する効果をシミュレートすることによって、コーティングの機械的ロブスト性を査定するために実施する。

（例えばＲｏｂｉ社（ＲＴＭ）からの）ピラードリルを、１５ｃｍ直径カップ中に固定した０．５ｍｍ直径ポリプロピレンブリストルを有する、Ｂｅｎｔｅｌｅｒ（ＲＴＭ）線上器のカップブラシと適応される。ブラシされるべき面積中の水噴霧にてガラス表面をぬらした後、回転ブラシが、コートガラス表面に触るために低下し、さらに、２ｍｍのブリストルの屈折で回転を達成するためにさらに２ｍｍまで低下する。ブラシを、２４０ｒｐｍの速度にて１５秒間、コートガラスペイン上で回転させ、その後ガラス表面から放出する。ブラシされたガラス表面を乾燥させ、ブラッシング結果を、可視検査によって最終的に評価する。評価は、ブラシ試験コートガラスペインを、以下でより詳細に記述するような、ブラシ試験レーティングスキームを用いて、１（完全）〜８（完全に破壊）の間でレートされたダメージの異なる程度の一組の写真に対してレーティングすることによって実施する。
０：コーティングマークなし
２：ブラシした面積中３までの環が見られる。環は、ブラシの１つのブリストルの幅と透過なスクラッチを意味する。
３：ブラシした面積中３より多くの完全な環、
５：ブラシした面積中種々の環で、少なくとも１つが＞３ｍｍ幅、層間剥離なし
８：ブラシした領域中多数の環／スクラッチ

３より小さなスコアが許容可能と考慮される。コーティングの任意の層間剥離が失敗として考慮される。

結果の要約
比較実施例１は、ＮｉＣｒＯｘ／ＺｎＯ：Ａｌバリア層アレンジメントを有するスタックを使用する。実施例１は、許容可能なレベルのかすみ（レベル１）を示し、機会ロバスト性試験において良好な性能を示した。

比較実施例２は、実施例１と同様のアレンジメントを有するが、ＡｌＮ／ＺｎＳｎＯ_ｘの代わりに外側の２つの層として、ＺｎＳｎＯｘ／Ｓｉ_９０Ａｌ_１０Ｎ_ｘを使用する。この変化は、かすみの増加（スコア２）と、両方のロバスト性試験における明確な程度のコーティングの層間剥離（すなわち両試験が失敗した）を導く。

比較実施例３は、低ＡＲ層にＴｉＯ_ｘ分離層を加え、銀層上のＺｎＯ：Ａｌ／ＴｉＯ_ｘバリア層アレンジメントを使用する。ブラシ試験は、多数の環／スクラッチといくらかの層間剥離にて失敗した。

比較実施例４は、実施例３と同様であるが、部分バリア層の順番が逆である。この変化は、優秀なかすみ性能（スコア０）をもたらすが、試料は、明確な層間剥離が観察され、機会ロバスト性試験にてどうしようもないほどに振る舞う。

実施例５は、比較実施例４と同様であるが、ＴｉＯ_ｘとＺｎＯ：Ａｌ部分バリア層の間に、薄いＺｎＳｎＯ_ｘ部分バリア層の添加がある。この改変は、オイルラブ試験（ダメージなし）とブラシ試験（スクラッチスコア７およびいくらかの層間剥離）両方のもと、機械的ロバスト性における有意な改善を導く。比較実施例４と実施例５に対するオイルラブ試験の結果間の差が図１で見ることができ、この図は試験を受けた後の、比較実施例４（Ａ）と実施例５（Ｂ）のコートペインの写真を示している。比較実施形態４で発生した総層間剥離と、実施例５に対するダメージの欠損は明確に見ることが出来る。この耐久性改善は、スタックの熱処理可能性を妥協することなしに発生する（かすみスコア０）。

実施例６は、実施例５と同様であるが、ＺｎＯ：Ａｌ部分バリア層に対する銀直上のＴｉＯｘ部分バリア層をスワップする。この実施例は、オイルラブ試験にてダメージは示されず、ブラシ試験にて最小ダメージ（スクラッチスコア５）を受け、機会的ロブスト性試験にて良好に機能する。再び、ロブスト性改善は、試料の熱処理可能性の犠牲においてではない（かすみスコア１）。

実施例７は、実施例６のＺｎＳｎＯ_ｘ部分バリア層を、ＴｉＯｘの層で置換する。この辺かは、実施例６と同一のかすみとオイルラブ試験特性を達成し、ブラシ試験にしたがったロブスト性においてわずかな改善を達成した（スクラッチスコア３）。

実施例８は、実施例７と同一の層アレンジメントを有し、いくつかの層（上部ＡＲ層中銀およびＺｎＳｎＯ_ｘおよびＳｉ_９０Ａｌ_１０Ｎ_ｘ）に対して改変された厚さをもつ。この実施例はまた、熱処理性と機械的ロブスト性において優れた性能を示し、ブラシ試験にてわずかな改善を示した（スクラッチスコア２）。

実施例９は、ＴｉＯ_ｘ／ＺｎＳｎＯ_ｘ／ＴｉＯ_ｘバリア層アレンジメントと、ＺｎＳｎＯ_ｘ／ＡｌＮ／ＺｎＳｎＯ_ｘ上部ＡＲ層を使用する。この試料は、優れた熱処理可能性（かすみスコア０）と、オイル試験にて１より小さなスコア、ブラシ試験中０のスクラッチスコアを有するロブスト性を示す。

実施例１０は、ＺｎＯ：Ａｌ／ＺｎＳｎＯ_ｘ／ＺｎＯ：Ａｌバリア層組み合わせ、およびＺｎＳｎＯ_ｘ上部ＡＲ層を使用する。この実施例はまた、優れた熱処理可能性（かすみスコア０）とロブスト性（オイル試験において０スコア、ブラシ試験において３スクラッチスコア）も示す。

Claims (21)

1. コートガラスペインであって、少なくとも以下の層、
   −ガラス基質、
   −下部反射防止層、
   −銀系機能層
   −銀系機能層から、順に少なくとも以下の３つの部分的バリア層を含む、バリア層、
   ○最大でも５ｎｍの厚さを有する、Ｚｎ、Ｔｉ、ＺｎＳｎ、ＩｎＳｎ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｓｎおよび／もしくはＳｉの酸化物、ならびに／またはＳｉの、および／もしくはＡｌの(酸化）窒化物に基づく下部分バリア層、
   ○最大でも５ｎｍの厚さを有する、Ｚｎ、Ｔｉ、ＺｎＳｎ、ＩｎＳｎ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｓｎおよび／もしくはＳｉの酸化物、ならびに／またはＳｉの、および／もしくはＡｌの(酸化）窒化物に基づく中央部分バリア層、
   ○最大でも１０ｎｍの厚さを有する、Ｚｎ、Ｔｉ、ＺｎＳｎ、ＩｎＳｎ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｓｎおよび／もしくはＳｉの酸化物、ならびに／またはＳｉの、および／もしくはＡｌの(酸化）窒化物に基づく上部分バリア層、および
   −上部反射防止層、
   を順に含み、中央部分バリア層は、下部分バリア層と上部分バリア層両方に対して、異なる組成物を有する、コートガラスペイン。
2. 前記下部反射防止層が、ガラス基質から順に、
   ○シリコンの（酸化）窒化物、アルミニウムおよび／もしくはその合金の（酸化）窒化物、Ｔｉの酸化物、ならびに／またはＺｒの酸化物に基づく基礎層、
   ○ＺｎおよびＳｎの酸化物、ならびに／またはＳｎの酸化物に基づく層、および
   ○Ｚｎの酸化物に基づく最上層
   を含む、請求項１に記載のペイン。
3. 前記下部反射防止層が、ガラス基質から順に、
   ○シリコンの（酸化）窒化物、アルミニウムおよび／もしくはその合金の（酸化）窒化物、Ｔｉの酸化物、ならびに／またはＺｒの酸化物に基づく基礎層、
   ○ＺｎおよびＳｎの酸化物、ならびに／またはＳｎの酸化物に基づく層、
   ○金属酸化物および／またはシリコンの（酸化）窒化物、および／またはアルミニウムの（酸化）窒化物に基づく分離層、および
   ○Ｚｎの酸化物に基づく最上層
   を含む、請求項１または２に記載のペイン。
4. 前記ペインが、１つ以上の銀系機能層を含む、前記請求項のいずれかに記載のペイン。
5. 各銀系機能層が、介在中央反射防止層によって、隣接する銀系機能層から離間している、請求項４に記載のペイン。
6. 前記バリア層の前記下部分バリア層が、５ｎｍより薄い厚さを有する、前記請求項のいずれかに記載のペイン。
7. 前記バリア層の前記中央部分バリア層が、５ｎｍより薄い厚さを有する、前記請求項のいずれかに記載のペイン。
8. 前記バリア層の前記中央部分バリア層が、４ｎｍより薄い厚さを有する、前記請求項のいずれかに記載のペイン。
9. 前記バリア層の前記上部分バリア層が、１０ｎｍより薄い厚さを有する、前記請求項のいずれかに記載のペイン。
10. 前記バリア層が、最大でも１２ｎｍの総厚を有する、前記請求項のいずれかに記載のペイン。
11. 前記バリア層の前記下部、中央、上部分バリア層が、本質的に等量金属酸化物に基づく、前記請求項のいずれかに記載のペイン。
12. 前記バリア層の前記下部分バリア層が、Ｚｎの酸化物および／またはＴｉの酸化物に基づく、前記請求項のいずれかに記載のペイン。
13. 前記バリア層の前記中央部分バリア層が、Ｚｎの酸化物、Ｔｉの酸化物、Ｓｎの酸化物および／またはＺｎとＳｎの酸化物に基づく、前記請求項のいずれかに記載のペイン。
14. 前記バリア層の前記上部分バリア層が、Ｚｎの酸化物および／またはＴｉの酸化物に基づく、前記請求項のいずれかに記載のペイン。
15. 前記バリア層が、銀系機能層から順に、以下の層の組み合わせ、ＺｎＯ：Ａｌ／ＴｉＯ_ｘ／ＺｎＯ：Ａｌ、ＺｎＯ：Ａｌ／ＺｎＳｎＯ_ｘ／ＺｎＯ：Ａｌ、ＴｉＯｘ／ＺｎＳｎＯ_ｘ／ＺｎＯ：Ａｌ、ＴｉＯ_ｘ／ＺｎＯ：Ａｌ／ＴｉＯ_ｘ、ＴｉＯｘ／ＺｎＳｎＯ_ｘ／ＴｉＯ_ｘおよびＺｎＯ：Ａｌ／ＺｎＳｎＯ_ｘ／ＴｉＯ_ｘからなる群より選択される、前記請求項のいずれかに記載のペイン。
16. 前記上部反射防止層が、前記バリア層から順に、
    アルミニウムの（酸化）窒化物および／またはシリコンの（酸化）窒化物に基づく層、および
    金属酸化物に基づく層
    を含む、前記請求項のいずれかに記載のペイン。
17. 前記上部反射防止層中のアルミニウムの（酸化）窒化物および／またはシリコンの（酸化）窒化物に基づく層が、１０〜３０ｎｍの厚さを有する、請求項１６に記載のペイン。
18. 前記上部反射防止層の金属酸化物に基づく層が、２〜２０ｎｍの厚さを有する、請求項１６または請求項１７に記載のペイン。
19. ガラス基質を提供すること、および前記ガラス基質に、
    下部反射防止層、
    銀系機能層、
    最大でも５ｎｍの厚さを有する、Ｚｎ、Ｔｉ、ＺｎＳｎ、ＩｎＳｎ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｓｎおよび／もしくはＳｉの酸化物ならびに／またはＳｉの、および／もしくはＡｌの（酸化）窒化物に基づく下部分バリア層、
    最大でも５ｎｍの厚さを有する、Ｚｎ、Ｔｉ、ＺｎＳｎ、ＩｎＳｎ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｓｎおよび／もしくはＳｉの酸化物ならびに／またはＳｉの、および／もしくはＡｌの（酸化）窒化物に基づく中央部分バリア層、
    最大でも１０ｎｍの厚さを有する、Ｚｎ、Ｔｉ、ＺｎＳｎ、ＩｎＳｎ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｓｎおよび／もしくはＳｉの酸化物ならびに／またはＳｉの、および／もしくはＡｌの（酸化）窒化物に基づく上部分バリア層、および上部反射防止層、
    を首尾よく適用することを含む、請求項１〜１８のいずれか１項に記載のコートガラスペインを製造する方法であって、
    銀系機能層と直接接触する、最大でも５ｎｍの厚さを有する、Ｚｎ、Ｔｉ、ＺｎＳｎ、ＩｎＳｎ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｓｎおよび／もしくはＳｉの酸化物ならびに／またはＳｉの、および／もしくはＡｌの（酸化）窒化物に基づく下部分バリア層の任意の部分を、無酸素、または５％体積酸素までの大気中でスパッタリングすることによって成膜する、方法。
20. それぞれ最大でも５ｎｍ、および最大でも１０ｎｍの厚さを有する、Ｚｎ、Ｔｉ、ＺｎＳｎ、ＩｎＳｎ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｓｎおよび／もしくはＳｉの酸化物ならびに／またはＳｉの、および／もしくはＡｌの（酸化）窒化物に基づく下部分および上部分バリア層を、非反応性スパッタリングによって成膜し、最大でも５ｎｍの厚さを有する、Ｚｎ、Ｔｉ、ＺｎＳｎ、ＩｎＳｎ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｓｎおよび／もしくはＳｉの酸化物ならびに／またはＳｉの、および／もしくはＡｌの（酸化）窒化物に基づく中央部分バリア層を、反応性スパッタリングによって成膜する、請求項１９に記載の方法。
21. 請求項１〜１８のいずれか１項に記載のペインを組み込む多重窓ガラス。