JP2021519253A - コーティングされたガラス板 - Google Patents
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Abstract
Description
「基板/ベース誘電体層シーケンス/[銀(Ag)/誘電体層シーケンス]n」(「n」個の誘電体のそれぞれが必ずしも同じ厚さまたは組成を有するとは限らない)、
のような、繰り返しシーケンスで構成される。
ガラス基板と、
下部(の)反射防止層と、
銀ベース機能層と、
バリア層と、
上部誘電体層と、
亜鉛(Zn)、スズ(Sn)、およびジルコニウム(Zr)の酸化物を備える最上部誘電体層と、の層を順番に備え、
ここで、最上部誘電体層のジルコニウム量は少なくとも10原子パーセントのジルコニウムを備える、コーティングされたガラス板が提供される。
亜鉛(Zn)およびスズ(Sn)の酸化物および/またはスズ(Sn)の酸化物に基づく層、分離層、亜鉛(Zn)の酸化物に基づく最上層、または、
亜鉛(Zn)とスズ(Sn)の酸化物および/またはスズ(Sn)の酸化物に基づく層、亜鉛(Zn)の酸化物に基づく最上層、のいずれかを備える。
シリコン(酸)窒化物および/またはアルミニウム(酸)窒化物および/またはそれらの合金に基づくベース層、
亜鉛(Zn)およびスズ(Sn)の酸化物および/またはスズ(Sn)の酸化物に基づく層、
金属酸化物および/またはシリコン(酸)窒化物および/またはアルミニウム(酸)窒化物および/またはそれらの合金に基づく分離層、
およびZnの酸化物に基づく最上層、を備え、または、
下部反射防止層は、好ましくは、ガラス基板から直接の順序で、
シリコン(酸)窒化物および/またはアルミニウム(酸)窒化物および/またはそれらの合金に基づくベース層、
亜鉛(Zn)とスズ(Sn)の酸化物および/またはスズ(Sn)の酸化物に基づく層、および
Znの酸化物に基づく最上層、を備える。
ニッケル(Ni)とクロムとを備える混合金属酸化物に基づく層、
亜鉛とアルミニウムとに基づく混合金属酸化物、すなわちZAOに基づく層、
シリコンの(酸)窒化物および/またはアルミニウムの(酸)窒化物に基づく層、
ZnおよびSnの酸化物および/またはSnの酸化物に基づく層、および
Znの酸化物などの金属酸化物に基づく層を備えることが好ましい。
(i)ニッケル(Ni)およびクロムの酸化物またはアルミニウム(Al)をドープした亜鉛の酸化物に基づく最上部のバリア層、
(ii)亜鉛(Zn)およびスズ(Sn)の酸化物に基づく層、または亜鉛とアルミニウム、またはタングステンの窒化物に基づく層、および
(iii)シリコンの(酸)窒化物および/またはアルミニウムの(酸)窒化物に基づく層、または亜鉛およびアルミニウムに基づく層、を備える。
(i)ガラス基板を提供するステップと、
(ii)下部反射防止層を提供するステップと、
(iii)銀ベースの機能層を提供するステップと、
(iv)バリア層を提供するステップと、
(v)上部誘電体層を提供するステップと、
(vi)亜鉛(Zn)、スズ(Sn)およびジルコニウム(Zr)の酸化物である最上部誘電体層を提供するステップと、を含み、
ここで、層中のジルコニウムの量は、少なくとも10原子パーセントのジルコニウムを備え、
銀ベースの機能層と直接接触しているバリア層の任意の部分は、0〜5体積パーセントの酸素を有する雰囲気中でのスパッタリングによって堆積される、
方法を提供する。
すべての例において、コーティングは、ACおよび/またはDCマグネトロン(またはパルスDC)スパッタリング装置を使用して、90%の領域の光透過率で厚さ4mmの標準フロートガラス板上に堆積され、必要に応じて中周波スパッタリングが適用された。
亜鉛(Zn)およびスズ(Sn)の酸化物の誘電体層は、アルゴン/酸素(Ar/O2)スパッタ雰囲気で亜鉛−スズターゲット(重量比Zn:Sn 約50:50)から反応的にスパッタされた。
亜鉛(Zn)、スズ(Sn)、およびジルコニウム(Zr)の酸化物の誘電体層は、Ar/O2または純粋なアルゴン(Ar)雰囲気で、金属ZnSn(重量比Zn:Sn 約50:50)とZrターゲットを使用して、共スパッタされた。
酸化チタン(TiOx)層は、アルゴン/酸素(Ar/O2)スパッタ雰囲気で金属チタン(Ti)ターゲットから堆積された。
下部反射防止層のZnO:Al成長促進最上層は、Ar/O2スパッタ雰囲気でAlドープZnターゲット(アルミニウム(Al)含有量約2重量%)からスパッタされた。
すべての例で実質的に純粋な銀(Ag)からなる機能層は、酸素を添加せず、残留酸素の分圧が10−5mbar未満のArスパッタ雰囲気で、銀ターゲットからスパッタされた。
銀ベース機能層の上にあるAlドープ酸化亜鉛(ZnO:Al)(ZAOとも呼ばれる)のバリア層は、酸素を添加せずに純粋なアルゴン(Ar)スパッタ雰囲気で導電性ZnOx:Alターゲットからスパッタされた。
混合シリコン窒化アルミニウム(Si90Al10Nx)の層は、残留酸素のみを備えるアルゴン/窒素(Ar/N2)スパッタ雰囲気で、混合Si90Al10ターゲットから反応的にスパッタされた。
AlNの層は、残留酸素のみを備えるアルゴン/窒素(Ar/N2)スパッタ雰囲気でAlターゲットから反応的にスパッタされた。
最外側層の金属含有量、ヘイズスキャン、油摩擦試験値、すべり角試験値、スクラッチ荷重試験値、TL%−熱処理前のガラス基板の光透過率(%)値、ΔTL−熱処理時の光透過率(%)の変化、Rs AD−熱処理前のシート抵抗、Rs HT−熱処理後のシート抵抗、ΔRs(オーム/二乗)−耐熱性の変化、TΔE*−熱処理時の透過色の変化の尺度、について試験された各スタックの結果とともに、本発明によるいくつかの比較コーティングガラス板およびコーティングガラス板の層シーケンスの詳細を提供する。
比較例1は、ZnSnOxの最上層、すなわち、ジルコニウムを含まない最上層誘電体層を有するスタックを備える。比較例1は、ヘイズスキャン値と機械的堅牢性テストの点で優れたパフォーマンスを示す。
Claims (28)
- 少なくとも、
ガラス基板と、
下部反射防止層と、
銀ベース機能層と、
バリア層と、
上部誘電体層と、
亜鉛(Zn)、スズ(Sn)、およびジルコニウム(Zr)の酸化物を備える最上部誘電体層と、の層を順番に備え、
ここで、前記最上部誘電体層のジルコニウム量は少なくとも10原子パーセントのジルコニウムを備える、コーティングされたガラス板。 - 亜鉛(Zn)およびスズ(Sn)およびジルコニウム(Zr)の酸化物に基づく前記最上部誘電体層は、最大で35原子%のジルコニウムを備える、請求項1に記載のコーティングされたガラス板。
- 前記バリア層は、前記銀ベースの機能層と直接接触している、請求項1または2に記載のコーティングされたガラス板。
- 前記下部反射防止層は、前記ガラス基板から順番に、
亜鉛(Zn)およびスズ(Sn)の酸化物および/またはスズ(Sn)の酸化物に基づく層、
分離層、および
亜鉛(Zn)の酸化物に基づく最上層、
または
亜鉛(Zn)およびスズ(Sn)の酸化物および/またはスズ(Sn)の酸化物に基づく層、および
亜鉛(Zn)の酸化物に基づく最上層、
のいずれかを備える、請求項1から3のいずれか一項に記載のコーティングされたガラス板。 - 前記分離層は、
金属酸化物、および/または
シリコン(酸)窒化物および/またはアルミニウム(酸)窒化物および/またはそれらの合金を備える、
請求項4に記載のコーティングされたガラス板。 - 前記下部反射防止層はさらに、
前記ガラス基板と亜鉛(Zn)およびスズ(Sn)の酸化物および/またはスズの酸化物(Sn)に基づく層との間に位置する、シリコン(酸)窒化物および/またはアルミニウム(酸)窒化物および/またはそれらの合金に基づくベース層、
を備える、請求項4または5に記載のコーティングされたガラス板。 - 前記シリコン(酸)窒化物および/またはアルミニウム(酸)窒化物および/またはそれらの合金に基づくベース層は、20〜40nmの厚さを有する、請求項6に記載のコーティングされたガラス板。
- 前記下部反射防止層の亜鉛(Zn)およびスズ(Sn)の酸化物および/またはスズ(Sn)の酸化物に基づく層は、0.5〜10nmの厚さを有する、請求項4から7のいずれか一項に記載のコーティングされたガラス板。
- 前記下部反射防止層の亜鉛(Zn)およびスズ(Sn)の酸化物および/またはスズ(Sn)の酸化物に基づく層は、シリコンの(酸)窒化物および/またはアルミニウムの(酸)窒化物に基づく前記ベース層上に直接配置されている、請求項6から8のいずれか一項に記載のコーティングされたガラス板。
- 金属酸化物および/またはシリコン(酸)窒化物および/またはアルミニウム(酸)窒化物および/またはそれらの合金に基づく分離層が0.5〜5nmの厚さを有する、請求項5から9のいずれか一項に記載のコーティングされたガラス板。
- 前記分離層が金属酸化物に基づく場合、前記金属酸化物分離層は、Ti、Zn、NiCr、InSn、Zr、Alおよび/またはSiからなる群から選択される、請求項5から10のいずれか一項に記載のコーティングされたガラス板。
- 前記分離層は、Ti、V、Mn、Co、Cu、Zn、Zr、Hf、Al、Nb、Ni、Cr、Mo、Ta、Siの元素の少なくとも1つから、またはこれらの材料の少なくとも1つに基づく合金から、選択される1つ以上の他の化学元素をさらに含む、請求項5から11のいずれか一項に記載のコーティングされたガラス板。
- 亜鉛(Zn)酸化物に基づく前記下部反射防止層の最上層は、4〜10nmの厚さを備える、請求項4から12のいずれか一項に記載のコーティングされたガラス板。
- 前記銀ベースの機能層は、5〜20nmの厚さを有する、請求項1から13のいずれか一項に記載のコーティングされたガラス板。
- 前記下部反射防止層中のZnの酸化物に基づく最上層は、前記銀ベースの機能層と直接接触している、請求項4から14のいずれか一項に記載のコーティングされたガラス板。
- 前記バリア層は、1〜10nmの厚さを有する、請求項1から15のいずれか一項に記載のコーティングされたガラス板。
- 前記バリア層は、亜鉛(Zn)酸化物に基づく層を備える、請求項1から16のいずれか一項に記載のコーティングされたガラス板。
- 前記バリア層はNiClOxを備える、請求項1から16のいずれか一項に記載のコーティングされたガラス板。
- 前記上部誘電体層は、
(i)亜鉛(Zn)およびスズ(Sn)の酸化物および/またはスズ(Sn)の酸化物に基づく層と、
(ii)亜鉛(Zn)の酸化物に基づく層と、
(iii)シリコンの(酸)窒化物および/またはアルミニウムの(酸)窒化物に基づく層と、
を備える、請求項1から18のいずれか一項に記載のコーティングされたガラス板。 - 前記上部誘電体層中の亜鉛(Zn)および(Sn)の酸化物および/またはスズ(Sn)の酸化物に基づく層の厚さは、1〜10nmの範囲である、請求項19に記載のコーティングされたガラス板。
- 前記上部誘電体層中の亜鉛(Zn)の酸化物に基づく層の厚さが1〜10nmの範囲にある、請求項19または20に記載のコーティングされたガラス板。
- 前記上部誘電体層中のシリコン(酸)窒化物および/またはアルミニウム(酸)窒化物に基づく層の厚さは、20〜40nmの範囲である、請求項19、20または21に記載のコーティングされたガラス板。
- 亜鉛(Zn)およびスズ(Sn)の酸化物に基づく最上部誘電体層は、15〜35原子%のジルコニウムを備える、請求項1から22のいずれか一項に記載のコーティングされたガラス板。
- 前記板は、2つ以上の銀ベースの機能層を備える、請求項1から23のいずれか一項に記載のコーティングされたガラス板。
- 各銀ベースの機能層は、介在する中央反射防止層によって、隣接する銀ベースの機能層から離間されている、請求項1から24のいずれか一項に記載のコーティングされたガラス板。
- 前記下側反射防止層中の前記分離層が金属酸化物に基づく場合、前記金属酸化物は、亜鉛(Zn)の酸化物および/またはチタンの酸化物(Ti)を備える、請求項4から25のいずれか一項に記載のコーティングされたガラス板。
- 請求項1から26のいずれか一項に記載のコーティングされたガラス板を製造する方法であって、
(i)ガラス基板を提供するステップと、
(ii)下部反射防止層を提供するステップと、
(iii)銀ベースの機能層を提供するステップと、
(iv)バリア層を提供するステップと、
(v)上部誘電体層を提供するステップと、
(vi)亜鉛(Zn)、スズ(Sn)およびジルコニウム(Zr)の酸化物を備える最上部誘電体層を提供するステップと、を含み、
前記最上部誘電体層のジルコニウムの量は、少なくとも10原子パーセントのジルコニウムを備え、ここで、
前記銀ベースの機能層と直接接触している前記バリア層の任意の部分は、5体積パーセント未満の酸素を有する雰囲気中でのスパッタリングによって堆積される、
方法。 - 請求項1から26のいずれか一項に記載の、および/または請求項27の方法によって調製された、コーティングされたガラス板を組み込んだ複数のグレージングユニット。
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