JP2014509228A - 放射線ベースの皮膚科治療のデバイスおよび方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本願は、米国仮特許出願第61/439,353号(2011年2月3日出願)、米国仮特許出願第61/444,079号(2011年2月17日出願)、米国仮特許出願第61/469,316号(2011年3月30日出願)、米国仮特許出願第61/533,641号(2011年9月12日出願)、米国仮特許出願第61/533,677号(2011年9月12日出願)、米国仮特許出願第61/533,786号(2011年9月12日出願)、米国仮特許出願第61/545,481号(2011年10月10日出願)、米国仮特許出願第61/563,491号(2011年11月23日出願)、および米国仮特許出願第61/594,128号(2012年2月2日出願)の利益を主張し、これらの出願のすべては、その全体が参照することによって本明細書に援用される。
本開示は、放射線ベースの皮膚科治療のデバイスおよび方法、例えば、部分治療を提供するためのレーザベースのデバイス、または任意の他の好適な種類の皮膚科治療を提供するための任意の他の種類の放射線源を使用するデバイスに関する。
組織の光ベースの治療は、除毛、皮膚の若返り、しわ治療、にきび治療、血管病変(例えば、クモ状静脈、びまん性発赤等)の治療、セルライトの治療、色素沈着病変(例えば、染み、そばかす、ほくろ等)の治療、刺青除去、および種々の他の治療等の種々の用途に使用される。そのような治療は、概して、特定の用途に応じて、いくつかある性質の中でも、切除または非切除であり得る、光化学的、光生物学的、熱的、または他の方式で組織を治療するように、個人の身体上の組織の領域、例えば、皮膚または内部組織に光またはレーザ放射線を送達することを含む。
図2は、ある実施形態による、デバイス10の側面を制御するための制御システム18の例示的構成要素を図示する。制御システム18は、制御電子機器30、センサ26、ユーザインターフェース28、およびいくつかの制御サブシステム52を含んでもよい。制御サブシステム52は、デバイス10の1つ以上の構成要素(例えば、放射線エンジン12、ファン34、ディスプレイ32等)を制御するように構成されている。いくつかの実施形態では、制御サブシステム52は、放射線源制御システム130、変位ベースの制御システム132、ユーザインターフェース制御システム134、温度制御システム136、バッテリ/電力制御システム138、および/または本明細書で開示される機能性のうちのいずれかを制御するための任意の他の好適な制御システムを含んでもよい。ユーザインターフェース制御システム134は、ユーザインターフェースセンサ制御システム140と、ユーザ入力/ディスプレイ/フィードバック制御システム142とを含んでもよい。
(a)(以下で論議される)治療モードを選択する、および/または切り替えること、
(b)放射線エンジン12のオン/オフ状態(別々に、またはグループとして個々の光源を制御することを伴い得る)、およびそのようなオン/オフ状態のタイミング、例えば、パルスオン時間(パルス幅)、パルスオフ時間、パルス負荷サイクル、パルス周波数、時間的パルスパターン等を制御すること、
(c)(例えば、放射線エンジン12に供給される電力を制御することによって)放射線の1つ以上のパラメータ、例えば、波長、強度、出力、フルエンス等を制御すること、および/または
(d)放射線源14の任意の他の側面を制御すること。
上記で論議されたように、デバイス10は、1つ以上のエネルギービーム60を治療領域40に送達して、所望の皮膚科治療を提供するように構成されている。デバイス10は、治療領域40の中に種々の治療パターンを生成するようにビーム60を送達してもよい。例えば、種々の治療パターンは、手動の滑走モードでデバイス10を操作すること、打刻モードでデバイス10を操作すること、連続波(CW)放射を提供すること、パルス放射を提供すること、直接暴露放射を提供すること、間接暴露放射を提供すること、近接近放射を提供すること、遠接近放射を提供すること、任意の他のモード、またはそれらの任意の組み合わせ等の任意の組み合わせによって生成されてもよい。
上記で論議されたように、デバイス10のいくつかの実施形態は、ビーム60を送達または処理するための放射線源14の下流にいずれの光学機器16も含まない、「直接暴露デバイス」である。しかしながら、いくつかの直接暴露デバイスは、例えば、放射線源および/またはデバイスの他の内部構成要素を保護するために、放射線源14の下流に平面的または実質的に平面的な窓44(例えば、薄いサファイアまたはBK−7様ガラス窓、あるいは薄膜または同等物)を含んでもよい。
図4〜7は、部分治療を提供するための直接暴露デバイスとして構成されたデバイス10の例示的実施形態を図示する。図4に示されるように、例示的デバイス10は、両方ともデバイス筐体24に収納された1つ以上のパルス化レーザビーム60を放出するように構成された1つ以上のレーザ(例えば、1つ以上の端面放射型レーザダイオード、レーザダイオードバー、またはVCSEL)を含むレーザエンジン12と、1つ以上のバッテリ20とを含んでもよい。いくつかの実施形態では、レーザエンジン12は、単一のパルス化ビーム60を放出するように構成された単一のビーム源、例えば、単一のビーム60を放出するように構成された端面放射型レーザダイオードまたはVCSELを含む。他の実施形態では、レーザエンジン12は、複数の離散パルス化ビーム60を放出するように構成された複数のビーム源、例えば、(例えば、図30〜34を参照して以下で論議されるように)複数の離散ビーム60を放出するように構成された、例えば、複数の端面放射型レーザダイオード、レーザダイオードバー、複数のレーザダイオードバー、複数のVCSEL、またはVCSELを含む。
上記で論議されたように、いくつかの実施形態では、デバイス10は、例えば、1つ以上のセンサ26(例えば、変位センサ100、速度/移動センサ102、および/または滞留センサ116)からのフィードバックに基づいて、治療スポット重複の発生または可能性を防止する、制限する、または低減させるように構成されてもよい。例えば、いくつかの実施形態では、パルスレートは、例えば、異なる手動移動速度および/またはユーザの異なる快適性レベルあるいは疼痛許容レベルに適応するように、デバイス10によって自動的に調整可能、またはユーザによって手動で調整可能であってもよい。
(例えば、1つ以上のパルス化ビーム源を有する)パルス化放射線源14を含む実施形態では、パルスレート周波数(PRF)は、(a)手動の滑走速度、(b)本明細書では「連続スポット間隔」と呼ばれる、連続パルスによって生成される治療スポット間の間隔、および(c)個々の治療スポットの「不鮮明化」または「ぶれ」の量を含む、デバイス10の1つ以上の他の構成または動作パラメータと機能的に相互に関係してもよい。治療スポットの「不鮮明化」または「ぶれ」の量は、瞬間治療スポットサイズの面積に対するぶれた治療スポットの面積62(デバイス10の移動によって引き起こされるぶれを有する)の比として定義される「ぶれファクター」によって定量化されてもよい。したがって、例示として、1.0というぶれファクターはぶれがないことを示し、2.0というぶれファクターは、治療スポットサイズ面積の2倍増を示し、3.0というぶれファクターは、治療スポットサイズ面積の3倍増を示す。
(a)デバイス10がPRFおよび/または少なくとも1つの他のパルスタイミングパラメータを選択または設定すること、例えば、
(i)ユーザ選択された動作モード、治療レベル、または他のユーザ入力に基づいて、PRFおよび/または少なくとも1つの他のパルスタイミングパラメータを自動的に選択すること、または
(ii)ユーザ入力とは無関係に(例えば、デバイス選択された動作モード、治療レベル、または他のレベルに基づいて、または(例えば、移動/速度センサ102を使用して)治療の一部分または動作の治療前期間中の検出された滑走速度に基づいて、(例えば、移動/速度センサ102を使用して)以前に行われた治療から検出および記憶された滑走速度に基づいて、(例えば、温度センサ106によって検出される皮膚温度、または例えば、色素センサ110によって検出される皮膚の色として)リアルタイムまたは別様にセンサ26によって検出される1つ以上のパラメータに基づいて、あるいはリアルタイムまたは別様に収集される任意の他のデータまたは信号に基づいて)、PRFおよび/または少なくとも1つの他のパルスタイミングパラメータを自動的に選択すること、および/または
(b)例えば、(i)1つ以上のセンサ26からのフィードバック、例えば、変位センサ100によって検出されるデバイス変位、移動/速度センサ102によって検出される滑走速度、皮膚接触センサ104、温度センサ106によって検出される皮膚温度、放射線センサ108によって検出される送達された放射線、色素センサ110によって検出される皮膚の色、眼の安全センサ114からの信号、滞留センサ116によって検出される滞留状態、および/またはローラベースのセンサ118によって検出されるデバイス変位および/または滑走速度に基づいて、および/または(ii)リアルタイムまたは別様に収集される任意の他のデータまたは信号に基づいて、デバイス10が治療期間中に(例えば、リアルタイムで、または実質的にリアルタイムで)PRFおよび/または少なくとも1つの他のパルスタイミングパラメータを動的に調整すること。
本明細書で論議される種々の特徴および構成のうちのいずれかは、種々の異なる治療を提供するために、任意の好適な方式で組み合わせられてもよい。例示的パラメータ値を伴ういくつかの例示的構成が、以下で提供される。これらは実施例にすぎないことを理解されたい。
上記で論議されたように、いくつかの実施形態では、放射線源14は、単一のレーザビームを生成する単一のエミッタ(すなわち、単一のビーム源)を含む、端面放射型レーザダイオード(または複数の端面放射型レーザダイオード)である。典型的な端面放射型レーザダイオードでは、放出されたビームは、ファスト軸方向にほぼ45°およびスロー軸で約10°のビーム発散を有する。
上記で論議されたように、いくつかの実施形態では、放射線源14は、離散レーザビームを生成する離散ビーム源としての役割を各々果たす複数のエミッタを含む、レーザダイオードバー(または複数のレーザダイオードバー)である。典型的なレーザダイオードバーでは、レーザダイオードバーの各ビーム源(エミッタ)から放出されるビームは、ファスト軸方向にほぼ45°およびスロー軸方向に約10°のビーム発散を有する。
上記で論議されたように、いくつかの実施形態では、デバイス10は、1つ以上の治療ビームを生成するための1つ以上のVCSEL(垂直共振器面発光レーザ)レーザを含む。VCSELは、(例えば、図27〜29に示されるように)単一のエネルギービーム、または(例えば、図30〜34に示されるように)複数の離散エネルギービームを生成するように構成されてもよい。いくつかの実施形態では、VCSELは、例えば、部分治療を提供するよう、皮膚の上に離間した治療スポット62の配列(1Dまたは2D)を作成するための離散レーザビームの配列(1Dまたは2D)を生成するように構成することができる。
デバイス10のいくつかの実施形態は、(例えば、下流の光学機器を有しない端面放射型レーザダイオードを使用して)実質的に発散的なエネルギービーム60を送達することによって、および/または1つ以上のセンサ26を含む眼の安全制御システムを使用して、および/または任意の他の好適な方式によって、眼に安全な放射線を提供する。例えば、いくつかのレーザベースの実施形態または設定(直接暴露実施形態および複数の直接暴露実施形態を含む)では、デバイス10は、便宜上「レベル1の眼の安全」と本明細書で呼ばれるIEC 60825−1によるClass 1Mまたはより良好な(Class 1等)眼の安全分類を満たす。他のレーザベースの実施形態または設定(直接暴露実施形態および複数の直接暴露実施形態を含む)では、本デバイスは、便宜上「レベル2の眼の安全」と本明細書で呼ばれる、次の分類閾値までの差の25%未満だけ、IEC 60825−1 Class 1Mの眼の安全分類から外れる。なおも他のレーザベースの実施形態または設定(直接暴露実施形態および複数の直接暴露実施形態を含む)では、本デバイスは、便宜上「レベル3の眼の安全」と本明細書で呼ばれる、次の分類閾値までの差の50%未満だけ、IEC 60825−1 Class 1Mの眼の安全分類から外れる。いくつかのランプベースの実施形態では、本デバイスは、IEC 62471による「免除」または「低リスク」の眼の安全分類を満たす。
AELエネルギーは、直径が7mmの円形開口を有する光源から70mmにおいて測定される(発散ビームに適用可能であるIEC 60825−1:2007の表11で説明される条件2測定設定)。この式では、(秒単位の)tは、1ミリ秒から350ミリ秒の範囲内の光源パルス持続時間である。典型的な単一のビームレーザダイオード源については、このパルス持続時間は、1から10ミリ秒の範囲内である。したがって、対応するAELは、0.8から1.4mJである。
式中、(mJ単位の)Qは、治療面における光源エネルギーであり、ΦFおよびΦSは各々、ファスト軸およびスロー軸におけるビーム発散である。Class 1Mの眼の安全分類を達成するために、AEは、対応するパルス持続時間のAELよりも低くなければならない。
図1に関して上記で論議されたように、デバイス10は、デバイス10の種々の制御可能な動作パラメータ(例えば、放射線エンジン12、ファン34、ディスプレイ32等の動作側面)を制御するように構成された制御システム18を含んでもよい。いくつかの実施形態では、制御システム18は、(例えば、滑走モードまたは打刻モードでデバイス10を操作している間に)デバイス10が皮膚の表面を横断して移動させられている場合またはときに、皮膚に対するデバイス10の変位を決定し、決定された変位に基づいてデバイス10の1つ以上の制御可能な動作パラメータを制御するように構成された変位監視および制御システム132(略して「変位ベースの制御システム132」)を含んでもよい。例えば、変位ベースの制御システム132は、例えば、放射線源14の放射線モードを制御すること、放射線源14のオン/オフ状態を制御すること、そのようなオン/オフ状態のタイミング(例えば、パルスオン時間、パルスオフ時間、パルス負荷サイクル、パルス周波数)を制御すること、放射線のパラメータ(例えば、波長、強度、電力、フルエンス等)を制御すること、光学機器16のパラメータを制御すること、および/またはデバイス10の任意の他の制御可能な動作パラメータ等の、放射線源14の1つ以上の動作側面を制御してもよい。
図37は、ある実施形態による、変位ベースの制御システム132において使用するための例示的単一ピクセル変位センサ100Aを図示する。変位センサ100Aは、光源310Aと、光検出器312Aと、入力および出力部分314および316を有する導光部313と、半ボールレンズ318と、ボールレンズ320と、少なくともレンズ318および320(および/またはセンサ100Aの他の構成要素)を収納するための筐体322と、マイクロコントローラ330とを含む。
(a)ピーク362の未加工振幅、
(b)1つ以上の他のピーク362(例えば、1つ以上の隣接ピーク362)の振幅に対するピーク362の振幅、
(c)1つ以上の谷364(例えば、1つ以上の隣接谷364)の振幅に対するピーク362の振幅、
(d)谷364の未加工振幅、
(e)1つ以上の他の谷364(例えば、1つ以上の隣接谷364)の振幅に対する谷364の振幅、
(f)1つ以上の谷364(例えば、1つ以上の隣接谷364)の振幅に対する谷364の振幅、
(g)信号360の特定の部分に対する信号362の振幅の増加率(すなわち、信号360の正の傾斜)、
(h)信号362の特定の部分に対する信号360の振幅の減少率(すなわち、信号360の負の傾斜)、
(i)隣接ピーク362(D1、D2、D3等)の間のx方向、
(j)隣接谷364の間のx方向距離、または
(k)任意の他の好適な基準。
dif1p=dif1(dif1>0)
dif1p=0(dif1<=0)
ハイパスフィルタ処理信号「dif1」から形成される。
dif1n=dif1(dif1<0)
dif1n=0(dif1>=0)
から同様に作成される。
上述のように、いくつかの実施形態では、変位センサ100は、2つのピクセル(すなわち、2つの信号360を生成するための2つの反射光線)、3つのピクセル、4つのピクセル、またはそれ以上を採用する、マルチピクセル変位センサ100である。例えば、いくつかの実施形態は、皮膚に沿って変位を検出するためのコンピュータ入力用の光学マウスで使用される種類のマルチピクセル撮像相関センサ100Dを採用する。
いくつかの実施形態では、デバイス10は、変位センサ100、または滞留センサ116として、または移動/速度センサ102、または全てとして機能する、1つ以上のローラベースのセンサ118を含んでもよい。ローラベースのセンサ118は、デバイス10の治療先端部42に、またはその付近に配設されてもよく、筐体24の周辺または隣接部分の先頭表面と略同一平面であるか、またはそこからわずかに前方に突出する、先頭表面を有する、ローラ450を含んでもよい。いくつかの実施形態では、ローラ450の先頭表面は、例えば、窓44へのローラ405の接近、および/またはデバイス10がユーザによって皮膚に押し付けられる力に応じて、皮膚表面からの治療窓44の距離(該当する場合)に影響を及ぼし得るか、または及ぼし得ない、皮膚接触表面74を画定してもよい。
デバイス10の1つ以上のセンサ46は、容量センサであってもよく、またはそれを含んでもよい。上記で論議されたように、皮膚接触センサ104は、センサ104が皮膚と接触しているか、または十分接近しているか否かを決定するように、信号振幅が分析される、容量センサであってもよい。加えて、変位センサ100、移動/速度センサ102、および/または滞留センサ116のうちのいずれかは、容量センサであってもよく、または他の種類のセンサに加えて容量センサを含んでもよい(例えば、センサ100、102、または116は、例えば、冗長性を提供するように、所望の機能性を提供するための容量センサに加えて、光学反射率/レミタンスセンサを含んでもよい)。
いくつかの実施形態では、制御システム18は、(a)治療領域40内で生成された治療スポット62の総数、(b)治療領域40に送達されたエネルギーの総量、(c)全治療時間、または任意の他の好適な区切り等の1つ以上の「治療区切り」に基づいて、個々の治療期間を定義して制御する。
いくつかの実施形態では、デバイス10は、治療放射線源14からの光への意図しない眼の暴露を防止するのに役立つために、デバイス10の治療出力開口の付近で角膜(または他の眼組織あるいは特徴)の存在を検出するように構成された、光学的な眼の安全センサ114を含む。例えば、光学的な眼の安全センサ114は、皮膚および角膜の存在を区別し、デバイス10が意図した治療領域40のみを治療することを可能にするように構成されてもよい。眼の安全センサ114は、眼の損傷リスクが主に角膜にある、1400nmよりも大きい波長の赤外線治療光にとって、あるいは網膜の危険が存在する紫外線、可視光、および/または近赤外線にとって、特に重要であり得る。いくつかの実施形態では、光学的な眼の安全センサ114は、比較的低費用、小型、手持ち式エンクロージャ(例えば、小さくて軽量)内に容易に包装され、かつ一般的に入手可能な部品から組み立てられる。眼の安全センサの別の例示的実施形態は、眼の形状、色、または他の特徴に対するパターン認識を有する撮像センサである。
いくつかの実施形態では、デバイス10は、1つ以上の眼の安全センサ114と、1つ以上の皮膚接触センサ104とを含む、多重センサ制御/安全システムを含む。
(a)10mVの眼の安全閾値:眼の安全センサ114は、反射率フィードバック信号524の振幅が10mVを下回る場合に、起こり得る角膜の存在を決定する、および
(b)50pFの接触センサ閾値:接触センサ104は、接触センサ信号552の振幅が50pFを下回る場合に、非接触状態を決定する、
を特定してもよい。
(a)反射率フィードバック信号524に対する15mVの眼の安全閾値、および
(b)信号552に対する70pFの接触センサ閾値
を特定してもよい。
ESF指数=信号524の振幅*W1+信号552の振幅*W2 (1)
式中、W1およびW2は、任意の好適な定数(0を含む)を表す。
別の例示的アルゴリズムが、式(2)として提供され、
ESF指数=(信号524の振幅+C1)*(信号552の振幅+C2) (2)
式中、C1およびC2は、任意の好適な定数(0を含む)を表す。
いくつかの実施形態では、眼の安全センサ114は、デバイス10の現在のユーザに対して個別に較正することができる。図53は、1人または複数のユーザのために眼の安全センサ114を較正するための例示的方法650を図示する。較正プロセスがステップ652〜660で行われる。ステップ652では、ユーザが、例えば、デバイス10からの指示に応じて、ユーザの皮膚に対してデバイス10の適用端部42を設置する。デバイス10は、身体のある部分、例えば、顔または手の甲に対して適用端部42を設置するように、ユーザに指示してもよい。センサ114が、ステップ654で起動され、反射/レミタンスフィードバック信号524を記録する。ステップ656では、ユーザが、例えば、デバイス10からの指示に応じて、皮膚を横断してデバイス10の適用端部42を移動させてもよい。センサ114は、ステップ658で、皮膚の上の適用端部42の種々の場所で反射率フィードバック信号524を記録し続けてもよい。
いくつかの実施形態では、眼の安全機能性を提供することに加えて、眼の安全センサ114はまた、図37〜39に示される単一ピクセル変位センサ100A、100B、または100Cに関して上記で論議されたように同様に動作する、変位センサとして使用されてもよい。例えば、眼の安全センサ114および変位センサ100A/100B/100Cの機能性は、単一のセンサ100/114に組み込まれてもよい。したがって、単一の光源および単一の検出器が、上記で説明される眼の安全および変位監視特徴の両方を提供するために使用されてもよい。統合変位/眼の安全センサ100/114は、1つ以上のマイクロコントローラ、または両方のセンサの機能性を提供するための他のプロセッサを含む。
デバイス10の別の例示的実施形態が、図54および55に示され、以下で論議される。
Claims (55)
- 放射線ベースの皮膚科治療を提供するための自己内蔵型手持ち式デバイスであって、該デバイスは、
ユーザによって手で持たれるように構成されたデバイス本体と、
該デバイス本体の中に支持されるレーザデバイスであって、該レーザデバイスは、レーザ放射線を放出するように構成されたレーザビーム源を含む、レーザデバイスと、
治療期間中に皮膚の表面を横断して手動で移動させられるように構成された適用端部と、
該皮膚に向かってレーザ放射線を放出して皮膚科治療を提供するよう、該レーザビーム源を制御するように構成された電子機器と
を備え、該デバイスは、該レーザ源の下流に光学機器を含まない、デバイス。 - 前記レーザビーム源の下流に窓またはフィルムをさらに備える、請求項1に記載のデバイス。
- 前記適用端部が前記皮膚と接触しているとき、前記レーザビーム源は、空隙のみによって前記皮膚表面から分離される、請求項1に記載のデバイス。
- 一連のパルス化ビームを前記皮膚まで放出して該皮膚の上に治療スポットの配列を生成するよう、前記レーザビーム源をパルス化するように構成された電子機器をさらに備え、該皮膚の上に生成された隣接した治療スポットは、該隣接した治療スポットの間の治療されない皮膚の領域によって相互から離間されている、請求項1に記載のデバイス。
- 各治療スポットは、1.0mm2未満の瞬間的な面積を有する、請求項4に記載のデバイス。
- 各治療スポットは、0.4mm2未満の瞬間的な面積を有する、請求項4に記載のデバイス。
- 各治療スポットは、0.1mm2未満の瞬間的な面積を有する、請求項4に記載のデバイス。
- 各治療スポットは、0.05mm2未満の瞬間的な面積を有する、請求項4に記載のデバイス。
- 前記パルス化レーザビーム源によって放出される各ビームは、前記デバイス本体に対して同一の固定伝搬経路を有する、請求項4に記載のデバイス。
- 前記ビーム源は、1から50Hzの間のパルス繰返し周波数でパルス化ビームを放出するように構成されている、請求項4に記載のデバイス。
- 前記ビーム源は、15から25Hzの間のパルス繰返し周波数でパルス化ビームを放出するように構成されている、請求項4に記載のデバイス。
- 変位制御システムをさらに備え、該変位制御システムは、
前記皮膚に対する前記デバイスの変位を決定するように構成された変位センサと、
該皮膚に対する該デバイスの該決定された変位に基づいて、該デバイスの少なくとも1つの動作パラメータを制御するように構成された電子機器と
を含む、請求項4に記載のデバイス。 - 前記適用端部が前記デバイスと接触しているか否かを決定するための信号を生成するように構成された少なくとも1つの接触センサと、
該少なくとも1つの接触センサからの信号に基づいて、該デバイスの少なくとも1つの動作パラメータを制御するように構成された制御装置と
をさらに備える、請求項1に記載のデバイス。 - 前記パルス化レーザビーム源によって放出される各ビームは、前記デバイス本体に対して同一の固定伝搬経路を有する、請求項1に記載のデバイス。
- 前記レーザビーム源は、エミッタ表面を有し、
該エミッタ表面は、前記適用端部が前記皮膚と接触しているときに、該レーザビーム源の該エミッタ表面が前記皮膚表面から10mm未満だけ離間されるように配設される、請求項1に記載のデバイス。 - 前記レーザビーム源は、エミッタ表面を有し、
該エミッタ表面は、前記適用端部が前記皮膚と接触しているときに、該レーザビーム源の該エミッタ表面が前記皮膚表面から2mm未満だけ離間されるように配設される、請求項1に記載のデバイス。 - 前記レーザビーム源は、エミッタ表面を有し、
該エミッタ表面は、前記適用端部が前記皮膚と接触しているときに、該レーザビーム源の該エミッタ表面が前記皮膚表面から1mm未満だけ離間されるように配設される、請求項1に記載のデバイス。 - 前記レーザビーム源は、エミッタ表面を有し、
該エミッタ表面は、前記適用端部が前記皮膚と接触しているときに、該レーザビーム源の該エミッタ表面が前記皮膚表面から0.5mm未満だけ離間されるように配設される、請求項1に記載のデバイス。 - 前記レーザデバイスは、複数のレーザビーム源を備え、各レーザビーム源は、レーザビームを生成するように構成されている、請求項1に記載のデバイス。
- 前記レーザデバイスは、単一のレーザビーム源を備える、請求項1に記載のデバイス。
- 前記単一のレーザビーム源は、一連のパルス化ビームを前記皮膚まで放出して、該皮膚の上に治療スポットの配列を生成するようにパルス化され、該皮膚の上に生成された隣接した治療スポットは、該隣接した治療スポットの間の治療されない皮膚の領域によって相互から離間され、
特定の方向に沿う前記デバイスの各手動の滑走は、該特定の方向に沿う離間した治療スポットの1次元配列を生成する、請求項20に記載のデバイス。 - 前記皮膚を横断する前記デバイスの1回以上の手動の滑走を含む治療期間中、該治療期間中に生成されたすべての他の治療スポットに対する各治療スポットの場所は、該皮膚を横断する該デバイスの手動の移動に依存する、請求項20に記載のデバイス。
- パルス化された前記レーザビーム源によって放出される各ビームは、前記皮膚表面に対する入射に関して、少なくとも1つの方向において発散性である、請求項1に記載のデバイス。
- 前記レーザビーム源は、端面放射型レーザダイオードを備え、
該端面放射型レーザダイオードによって放出される各パルス化エネルギービームは、前記皮膚表面に対する入射に関して、ファスト軸およびスロー軸の両方において発散性である、請求項1に記載のデバイス。 - 前記レーザデバイスは、固体レーザを備える、請求項1に記載のデバイス。
- 前記レーザデバイスは、端面放射型レーザダイオードを備える、請求項1に記載のデバイス。
- 前記レーザデバイス源は、レーザダイオードバーを備える、請求項1に記載のデバイス。
- 前記レーザデバイスは、VCSELレーザを備える、請求項1に記載のデバイス。
- 前記デバイスの前記適用端部から放出される前記レーザ放射線は、IEC 60825−1によるClass 1Mまたはより良好な眼の安全分類を満たす、請求項1に記載のデバイス。
- 放射線ベースの皮膚科治療を提供するためのデバイスであって、該デバイスは、
ユーザによって手で持たれるように構成されたデバイス本体と、
該デバイス本体の中に支持されたVCSELレーザであって、該VCSELレーザは、レーザ放射線を放出するように構成されたVCSELビーム源を含む、VCSELレーザと、
治療期間中に皮膚の表面を横断して手動で移動させられるように構成された適用端部と、
該皮膚に向かってレーザ放射線を放出して皮膚科治療を提供するよう、該VCSELビーム源を制御するように構成された電子機器と
を備え、
該デバイスは、該レーザ源の下流に光学機器を含まない、デバイス。 - 前記VCSELビーム源の下流に窓またはフィルムをさらに備える、請求項30に記載のデバイス。
- 前記適用端部が前記皮膚と接触しているとき、前記VCSELビーム源は、空隙のみによって前記皮膚表面から分離される、請求項30に記載のデバイス。
- 一連のパルス化ビームを前記皮膚まで放出して、該皮膚の上に治療スポットの配列を生成するよう、前記VCSELビーム源をパルス化するように構成された電子機器をさらに備え、該皮膚の上に生成された隣接した治療スポットは、該隣接した治療スポットの間の治療されない皮膚の領域によって相互から離間される、請求項30に記載のデバイス。
- 各治療スポットは、0.4mm2未満の瞬間的な面積を有する、請求項30に記載のデバイス。
- 各治療スポットは、0.1mm2未満の瞬間的な面積を有する、請求項30に記載のデバイス。
- 前記VCSELビーム源は、エミッタ表面を有し、
該エミッタ表面は、前記適用端部が前記皮膚と接触しているときに、該レーザビーム源の該エミッタ表面が、前記皮膚表面から10mm未満だけ離間されるように配設される、請求項30に記載のデバイス。 - 前記VCSELビーム源は、エミッタ表面を有し、
該エミッタ表面は、前記適用端部が前記皮膚と接触しているときに、該レーザビーム源の該エミッタ表面が、前記皮膚表面から1mm未満だけ離間されるように配設される、請求項30に記載のデバイス。 - 前記VCSELレーザは、単一のVCSELビーム源を備え、該単一のVCSELビーム源は、単一の集合的ビームを生成して単一の治療スポットを生成するように配設された複数のマイクロエミッタを含む、請求項30に記載のデバイス。
- 前記集合的ビームは、軸対称である、請求項38に記載のデバイス。
- 前記VCSELレーザは、前記皮膚の上に複数の離散治療スポットを生成するための複数の離散レーザビームを生成するように構成された複数のVCSELビーム源を備え、各ビーム源は、該皮膚の上に該離散治療スポットのうちの1つを生成するための該複数の離散レーザビームのうちの1つを集合的に生成するように配設された複数のマイクロエミッタを含む、請求項30に記載のデバイス。
- 前記複数の離散レーザビームの各々は、軸対称である、請求項40に記載のデバイス。
- 前記VCSELレーザは、前記皮膚の上に複数の離散治療スポットを生成するための複数のビーム源を提供するように複数のエミッタゾーンの配列に配設された複数のマイクロエミッタを含み、各エミッタゾーンは、該皮膚の上に該離散治療スポットのうちの1つを生成するための離散レーザビームを集合的に生成するように構成された複数のマイクロエミッタを含む、請求項30に記載のデバイス。
- 前記複数のエミッタゾーンの配列は、実質的に1次元の配列を備える、請求項42に記載のデバイス。
- 前記複数のエミッタゾーンの配列は、実質的に2次元の配列を備える、請求項42に記載のデバイス。
- 前記複数のエミッタゾーンのうちの少なくとも2つは、該少なくとも2つのエミッタゾーンについての少なくとも1つの動作パラメータが独立して制御されることができるように、相互について独立してアドレス指定可能または制御可能である、請求項42に記載のデバイス。
- 前記VCSELレーザをパルス化して一連のパルス化ビームを放出するように構成された電子機器をさらに備え、
該VCSELレーザは、単一のVCSELビーム源を備えることにより、該VCSELレーザのパルス毎に単一の治療スポットを生成する、請求項30に記載のデバイス。 - 前記VCSELレーザをパルス化して一連のパルス化ビームを放出するように構成された電子機器をさらに備え、
該VCSELレーザは、複数の離散VCSELビーム源を備えることにより、該VCSELレーザのパルス毎に複数の離散治療スポットを生成する、請求項30に記載のデバイス。 - 前記VCSELレーザによって放出される前記放射線は、前記皮膚表面に対する入射に関して、少なくとも1つの方向において発散性である、請求項30に記載のデバイス。
- 前記デバイスの前記適用端部から放出される前記レーザ放射線は、IEC 60825−1によるClass 1Mまたはより良好な眼の安全分類を満たす、請求項30に記載のデバイス。
- 前記デバイスは、手動の滑走モードでの動作に対して構成されている、請求項30に記載のデバイス。
- 前記デバイスは、手動の打刻モードでの動作に対して構成されている、請求項30に記載のデバイス。
- 放射線ベースの皮膚科治療を提供するための自己内蔵型手持ち式デバイスであって、該デバイスは、
ユーザによって手で持たれるように構成されたデバイス本体と、
該デバイス本体の中に支持されたレーザデバイスであって、該レーザデバイスは、レーザ放射線を放出するように構成されたレーザビーム源を含む、レーザデバイスと、
治療期間中に皮膚の表面を横断して手動で移動させられるように構成された適用端部と、
一連のパルス化ビームを該皮膚まで放出して、該皮膚の上に治療スポットの配列を生成するよう、該レーザビーム源をパルス化するように構成された電子機器であって、該皮膚の上に生成された隣接した治療スポットは、該隣接した治療スポットの間の治療されない皮膚の領域によって相互から離間される、電子機器と
を備え、
該デバイスは、該レーザ源の下流に光学機器を含まない、デバイス。 - 放射線ベースの皮膚科治療を提供するための自己内蔵型手持ち式デバイスであって、該デバイスは、
ユーザによって手で持たれるように構成されたデバイス本体と、
該デバイス本体の中に支持され、単一のレーザビームを放出するように構成された単一のレーザビーム源と、
治療期間中に皮膚の表面を横断して手動で移動させられるように構成された適用端部と、
該単一のレーザビームを該皮膚に向かって放出して皮膚科治療を提供するよう、該単一のレーザビーム源を制御するように構成された電子機器と
を備え、
該デバイスは、該レーザ源の下流に光学機器を含まない、デバイス。 - 前記単一のレーザビーム源をパルス化して、前記単一のレーザビームを一連のパルスで放出するように構成された電子機器をさらに備える、請求項53に記載のデバイス。
- 放射線ベースの皮膚科治療を提供するための自己内蔵型手持ち式デバイスであって、該デバイスは、
ユーザによって手で持たれるように構成されたデバイス本体と、
該デバイス本体の中に支持されたレーザデバイスであって、該レーザデバイスは、レーザ放射線を放出するように構成されたレーザビーム源を含む、レーザデバイスと、
治療期間中に皮膚の表面を横断して手動で移動させられるように構成された適用端部と、
レーザ放射線を該皮膚に向かって放出して皮膚科治療を提供するよう、該レーザビーム源を制御するように構成された電子機器と
を備え、
該デバイスは、該レーザ源の下流に光学機器を含まず、
変位制御システムが、
該皮膚に対する該デバイスの変位を決定するように構成された変位センサと、
該皮膚に対する該デバイスの該決定された変位に基づいて、該デバイスの少なくとも1つの動作パラメータを制御するように構成された電子機器と
を含む、デバイス。
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