JP2014508091A - 熱処理可能な被覆ガラス板 - Google Patents

Abstract

被覆ガラス板であって、少なくとも、順に、以下の層：ガラス基板、該ガラス基板から順に、Ｚｎ及びＳｎの酸化物及び／又はＳｎの酸化物を基とする層と、金属酸化物及び／又はケイ素の（酸化）窒化物及び／又はアルミニウムの（酸化）窒化物を基とする分離層と、Ｚｎの酸化物を基とするトップ層とを有する下部反射防止層、並びに銀を基とする機能層を有する被覆ガラス板。

Description

本発明は、低放射率及び／又は日照調整のコーティングを有する熱処理可能な被覆ガラス板に関するものである。本発明はさらに、上記ガラス板の製造方法に関するものである。

安全性を付与するために強化され、及び／又は屈曲された熱処理ガラス板は、例えば、建築又は自動車用の板ガラスといった多数の応用分野に必要とされている。ガラス板を熱的に強化し及び／又は屈曲するためには、使用するガラスの軟化点付近又はそれ以上の温度で当該ガラス板を熱処理し、その後、急冷によって強化するか、又は屈曲手段を用いて屈曲するかのいずれかが必要であることが知られている。ソーダ石灰シリカタイプの標準フロートガラスにおける上記温度範囲は通常、約５８０〜６９０℃であり、実際の強化及び／又は屈曲の処理を開始する前の数分間の間、ガラス板をこの温度範囲に保持する。

以下の記載及び請求項における「熱処理」、「熱処理した」及び「熱処理可能な」との用語は、前述したような熱屈曲処理及び／又は強化処理、並びに被覆ガラス板が最大数分間、例えば、最大約１０分間の間、約５８０〜６９０℃の範囲の温度に達する他の熱処理のことを言う。被覆ガラス板が熱処理可能であるかは、重大な損傷なく熱処理に耐えるかどうかで判断され、熱処理により生じる典型的な損傷とは、高ヘイズ値、ピンホール又はスポットである。

米国特許出願第２００９／０１９７０７７号には、アルミニウム及び／又は窒化ケイ素を基とする少なくとも１つの誘電体層と、ＺｎＳｎＯ_ｘ：Ｓｂ等の非晶性の混合酸化物の少なくとも１つの平滑層と、ＺｎＯ等のぬれ層と、銀を基とする機能層と、例えばＮｉＣｒ又はＴｉを基とする遮断層と、ＺｎＯの層と、アルミニウム及び／又は窒化ケイ素の層とで相次いでコーティングしたガラスが記載されている。かかる被覆ガラスは、低シート抵抗を呈するといわれている。

国際公開第２０１０／０７３０４２号には、化学的及び機械的にロバスト性のある熱処理可能な被覆ガラス板であって、かかるガラス板から順に、少なくとも８ｎｍの厚さを有するケイ素の（酸化）窒化物のベース層、Ｚｎ及びＳｎの酸化物の中間層、及び金属酸化物のトップ層の下部反射防止層と、銀を基とする機能層と、バリア層と、１０ｎｍ超の厚さを有するアルミニウムの（酸化）窒化物層を有する上部反射防止層とを有する。

独国特許出願第１９９２２１６２（Ａ１）号には、透明層系、特に、板ガラスの断熱・遮光コーティングであって、低誘電体の２つのベース層の間に薄い金属又は金属化合物の変更層を有するものが記載されている。変更層には、金属又は準化学量論的な酸化物あるいは窒化物が使用されているが、酸化物や窒化物では、望ましい光学的特性の向上が実現できないことが分かっている。

米国特許出願第２００９／０１９７０７７号 国際公開第２０１０／０７３０４２号 独国特許出願第１９９２２１６２（Ａ１）号

また、準化学量論的なＮｉＣｒＯ_ｘは、良好な熱処理性を示すので、犠牲バリア層として使用されることも周知である（例えば、米国特許出願第２００９／０１９７０７７号及び国際公開第２０１０／０７３０４２号を参照）。しかしながら、厳密な化学量論の層を堆積するために必要な臨界条件のため、ＮｉＣｒＯ_ｘ層が存在することで、製造が複雑化する。さらに、ＮｉＣｒＯ_ｘの使用は、熱処理中のコーティングスタックの光学的特性、すなわち、光透過率、色、吸収及び光反射率の大幅な変化につながり、その結果、単一材料（single stock）の被覆ガラス板（すなわち、熱処理の有りと無しとで、実質的に同一の光学的特性を有する被覆ガラス板）を実現することが困難になる。そのため、強化の前後でニュートラルな反射色（無色）及び低ヘイズを呈することが可能な被覆ガラス板を提供することが理想的であると考えられる。また、強化時において光透過百分率（ΔＴ_Ｌ）及び反射色（Δａ*、Δｂ*）の変化がより少ない被覆ガラス板を提供することが望ましいとも考えられる。したがって、銀を基とする機能層の上方に準化学量論的なＮｉＣｒＯ_ｘの犠牲バリア層を設ける必要なく、熱処理性が良好な上に上述した光学的利点を呈する被覆ガラス板が所望されている。

本発明の発明者らは、低放射率及び／又は日照調整のコーティングの熱処理性特性を表示する場合に一般的に用いられるパラメータ「ヘイズ」では、被覆ガラス板のコーティング、熱処理、加工及び／又は出荷の際に生じ得るあらゆるタイプの欠陥を十分には反映できないため、しばしば不十分であることを見出した。熱処理可能とされている低放射率及び／又は日照調整コーティングのガラスであっても、熱処理前後の保管時、輸送時及び使用時における一般的な環境の影響と、通常の出荷及び処理の工程でかかる被覆ガラス板に作用する機械的及び化学的条件とをシミュレートしたテスト又はその他のテストに、可視損傷なく耐えられないものがあることを本発明者らは見出した。いくつかの公知の熱処理可能な被覆ガラス板には、熱処理中に、光学的特性、特に、反射色の重大かつ顕著な変化が見られた。

本明細書中で上述した「単一材料の被覆ガラス板」とは、熱処理時に、ΔＴ_Ｌ≦２％、好適にはΔＴ_Ｌ≦１．５％（ここで、ΔＴ_Ｌは、熱処理時の透過率百分率の変化である）を示し、ＲｆΔＥ^＊≦３、好適には、ＲｆΔＥ^＊≦２（ここで、熱処理時のフィルム側の反射光の変化ＲｆΔＥ^＊＝ＳＱＲ［（Ｌ^＊ _１−Ｌ^＊ _２）^２＋（ａ^＊ _１−ａ^＊ _２）^２＋（ｂ^＊ _１−ｂ^＊ _２）^２］であり、Ｌ^＊ _ｉ、ａ^＊ _ｉ及びｂ^＊ _ｉは、熱処理前後のフィルム側の反射色値である）を示すガラス板と定義される。色の変化ΔＥ^＊は、Ｄ６５光源及び１０°での１９７６ ＣＩＥ（Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊）により定義される。

従って、本発明は、単一材料（single stock）の被覆ガラス板を提供することを目的とする。特に、熱処理済み及び未熱処理の被覆ガラス板を、被覆ガラス板のやむを得ない製造誤差よりも著しく大きな反射色の差がなく互いに隣接してグレーズすることができるよう、熱処理により生じる反射色の改変を低減すべきである。

本発明の第一の側面によれば、被覆ガラス板であって、少なくとも、順に、以下の層：
ガラス基板、
該ガラス基板から順に、
Ｚｎ及びＳｎの酸化物及び／又はＳｎの酸化物を基とする層と、
金属酸化物及び／又はケイ素の（酸化）窒化物及び／又はアルミニウムの（酸化）窒化物を基とする分離層と、
Ｚｎの酸化物を基とするトップ層と
を有する下部反射防止層、並びに
銀を基とする機能層
を有する被覆ガラス板を提供する。

本発明の被覆ガラス板は、銀を基とする機能層の上方にＮｉＣｒＯ_ｘを含む犠牲バリア層を設ける必要なく、良好な熱処理性を実現する。上記被覆ガラス板は、強化の前後で、ニュートラルな反射色（無色）と、特に低いヘイズとを呈し得る。また、上記ガラス板は、従来のガラス板に比べて、強化時の光透過率（ΔＴ_Ｌ）及び反射色（Δａ^＊及びΔｂ^＊）の変化が小さい。強化時の反射色の変化が小さいと、加工上の理由及び品質管理等の面で効果的である。単一材料の被覆ガラス板の利点とは、２つの製品をストックする必要性を回避できる点、例えば、ひとたび強化すれば、アニーリングしたバージョンの光学的特性に匹敵する別の強化したバージョンをストックする必要がなくなる点である。そのため、強化されるべき板ガラスと、強化されるべきでない板ガラスとを、分離することなく一緒に保管することができる。

本発明の以下の説明においては、特に断りがない限り、パラメータの許容範囲の上限値又は下限値の代替値の記載及びそうした代替値の１つが他の値より一層好適である旨の記載は、上記パラメータの中間値（上記代替値のうち、一層好適なものと一層は好適でないものとの間のいずれかの値）そのものが、上記一層は好適でない値及び当該一層は好適でない値と上記中間値との間のいずれかの値よりも好適であることを示唆しているものとして理解されたい。

本発明の文脈中、層が特定の１つ又は複数の材料を「基とする」と言う場合、これは、層が、主に対応する１つ又は複数の材料から構成されることを意味し、通常は、そうした１つ又は複数の材料を少なくとも約５０％含むことを意味している。

上記被覆ガラス板はさらに、上記ガラス基板と、Ｚｎ及びＳｎの酸化物及び／又はＳｎの酸化物を基とする上記層との間に設けられた、ケイ素の（酸化）窒化物及び／又はアルミニウムの（酸化）窒化物を基とするベース層を有することができる。

上記被覆ガラス板はさらに、ガラス基板から順に、銀を基とする機能層の上方に設けられたバリア層を有することができる。

上記被覆ガラス板はさらに、ガラス基板から順に、銀を基とする機能層及び任意のバリア層の上方に設けられた上部反射防止層を有することができる。

好適には、上記被覆ガラス板は、少なくとも、順に、以下の層：
ガラス基板、
該ガラス基板から順に、
ケイ素の（酸化）窒化物及び／又はアルミニウムの（酸化）窒化物を基とするベース層と、
Ｚｎ及びＳｎの酸化物及び／又はＳｎの酸化物を基とする層と、
金属酸化物及び／又はケイ素の（酸化）窒化物及び／又はアルミニウムの（酸化）窒化物を基とする分離層と、
Ｚｎの酸化物を基とするトップ層と
を有する下部反射防止層、
銀を基とする機能層、
バリア層、並びに
上部反射防止層
を有する。

ケイ素の（酸化）窒化物及び／又はアルミニウムの（酸化）窒化物を基とする上記ベース層の厚さは、少なくとも５ｎｍ、好適には５〜６０ｎｍ、より好適には１０〜５０ｎｍ、より一層好適には２０〜４０ｎｍ、最も好適には２０〜３５ｎｍとすることができる。このベース層は、様々な用途を有するが、中でも、ガラス側の拡散層としての機能を果たす。

「ケイ素の（酸化）窒化物」との語は、Ｓｉの窒化物（ＳｉＮ_ｘ）及びＳｉの酸化窒化物（ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ）の両方を含み、「アルミニウムの（酸化）窒化物」との語は、Ａｌの窒化物（ＡｌＮ_ｘ）及びＡｌの酸化窒化物（ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ）の両方を含む。Ｓｉの窒化物、Ｓｉの酸化窒化物、Ａｌの窒化物及びＡｌの酸化窒化物の層は、実質的に化学量論的（例えば、Ｓｉの窒化物＝Ｓｉ_３Ｎ_４、ｘ＝１．３３）であることが好適であるが、コーティングの熱処理性に悪影響を及ぼさない限り、準化学量論的又はさらには超化学量論的であってもよい。ケイ素の（酸化）窒化物及び／又はアルミニウムの（酸化）窒化物を基とするベース層の１つの好適な組成は、実質的に化学量論的な混合窒化物Ｓｉ_９０Ａｌ_１０Ｎ_ｘである。

ケイ素の（酸化）窒化物及び／又はアルミニウムの（酸化）窒化物の層はそれぞれ、窒素及びアルゴンを含むスパッタ雰囲気中で、Ｓｉ及び／又はＡｌを基とするターゲットから反応的にスパッタすることができる。ケイ素の（酸化）窒化物及び／又はアルミニウムの（酸化）窒化物を基とするベース層の酸素の含有量は、スパッタ雰囲気の残留酸素に、又は当該スパッタ雰囲気に加えた酸素の調整量に起因するものと考えられる。一般的には、ケイ素の（酸化）窒化物及び／又はアルミニウムの（酸化）窒化物の酸素含量がその窒素含量よりも著しく低ければ、すなわち、層における原子比Ｏ／Ｎが、１を大幅に下回る状態が維持されれば、好適である。下部反射防止層のベース層における酸素含有量は僅かとして、Ｓｉ窒化物及び／又はアルミニウム窒化物を使用することが最も好適である。上記特徴は、上記ベース層の屈折率が、確実に無酸素のＳｉ窒化物及び／又はアルミニウム窒化物の層の屈折率と著しく異ならないようにすることにより、調節され得る。

下部反射防止層のベース層に必須のバリア及び保護性能が失われない限りにおいて、混合したＳｉ及び／又のターゲットを使用すること、又は、そうでなければ、この層のＳｉ及び／又はＡｌの成分に金属又は半導体を付加することも本発明の範囲に含まれる。Ａｌターゲット及びＳｉターゲットの混合は公知かつ定着しており、その他の混合ターゲットも例外ではない。付加成分は、典型的には、最大で約１０〜１５重量％の量で存在し得る。Ａｌは、一般的に、混合したＳｉのターゲットに約１０重量％の量で存在する。

下部反射防止層のＺｎ及びＳｎの酸化物及び／又はＳｎの酸化物を基とする層は、緻密かつ熱的に安定な層を提供し、熱処理後のヘイズ減少に寄与することにより、熱処理中の安定性を向上させる機能を果たす。下部反射防止層の、Ｚｎ及びＳｎの酸化物及び／又はＳｎの酸化物を基とする層は、厚さが、少なくとも０、５ｎｍ、好適には０．５〜１０ｎｍ、より好適には０．５〜９ｎｍ、より一層好適には１〜８ｎｍ、より一層好適には１〜７ｎｍ、より一層好適には２〜６ｎｍ、より一層好適には３〜６ｎｍ、最も好適には３〜５ｎｍである。上記厚さの上限値である約８ｎｍは、光学干渉条件のため、また、機能層の反射防止にかかる光学干渉の境界条件を維持するために必要とされるベース層の厚さが減少して、熱処理性が低下することから、好適である。

前記下部反射防止層のＺｎ及びＳｎの酸化物及び／又はＳｎの酸化物を基とする層は、上記ケイ素の（酸化）窒化物及び／又はアルミニウムの（酸化）窒化物を基とするベース層の上に直接設けられていることが好適である。

前記下部反射防止層のＺｎ及びＳｎの酸化物（略称：ＺｎＳｎＯ_ｘ）を基とする層は、金属含有量全体に対し、好適には約１０〜９０重量％のＺｎ及び約９０〜１０重量％のＳｎ、より好適には約４０〜６０重量％のＺｎ及び約４０〜６０重量％のＳｎ、好適にはそれぞれ約５０重量％のＺｎ及びＳｎを含む。その他の好適な態様において、前記下部反射防止層の、Ｚｎ及びＳｎの酸化物を基とする層は、最大１８重量％のＳｎ、より好適には最大１５重量％のＳｎ、より一層好適には最大１０重量％のＳｎを含むことができる。Ｚｎ及びＳｎの酸化物を基とする層は、Ｏ_２存在下における混合したＺｎＳｎターゲットの反応的スパッタリングにより堆積することができる。

前記金属酸化物及び／又はケイ素の（酸化）窒化物及び／又はアルミニウムの（酸化）窒化物を基とする分離層の厚さは、少なくとも０．５ｎｍ、好適には０．５〜６ｎｍ、より好適には０．５〜５ｎｍ、より一層好適には０．５ｎｍ〜４ｎｍ、最も好適には０．５〜３ｎｍとすることができる。このような好適な厚さにより、熱処理時のヘイズをさらに改善することができる。分離層は、堆積処理及び後の熱処理における保護をもたらす。金属酸化物の分離層は、堆積された直後に、実質的に十分に酸化されるか、又は、後の酸化層の堆積中に酸化されて、実質的に十分に酸化された層となる。

分離層は、例えば、実質的に化学量論的又は僅かに準化学量論的な酸化物として、僅かに準化学量論的なチタニウム酸化物を基とするセラミックのターゲット（例えば、ＴｉＯ_１．９８ターゲット）からの非反応性スパッタリングを用いることにより、Ｏ_２存在下においてＴｉを基とするターゲットの反応的なスパッタリングにより、又は、後に酸化されるＴｉを基とする薄膜を堆積することにより可能である。本発明の文脈中、「実質的に化学量論的な酸化物」とは、少なくとも９５％、最大で１０５％が化学量論的な酸化物を意味しており、「僅かに準化学量論的な酸化物」とは、少なくとも９５％でかつ１００％未満が化学量論的な酸化物を意味している。

分離層が金属酸化物を基とする場合は、当該分離層は、Ｔｉ、ＮｉＣｒ、ＩｎＳｎ、Ｚｒ、Ａｌ及び／又はＳｉの酸化物を基とする層を有することができる。

分離層は、基とする金属酸化物及び／又はケイ素の（酸化）窒化物及び／又はアルミニウムの（酸化）窒化物に加えて、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ａｌ、Ｎｂ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ及びＳｉの元素のうちの少なくとも１つから、又はこれらの物質のうちの少なくとも１つを基とする合金から選択される１つ又はそれ以上の他の化学元素（例えば、ドーパント又は合金類(alloyants)として用いられるもの）をさらに含むことができる。

Ｚｎの酸化物を基とするトップ層は主に、後に堆積される、銀を基とする機能層のための成長促進層としての機能を果たす。また、Ｚｎの酸化物を基とするトップ層は、最大約１０重量％の量のＡｌ又はＳｎ等の金属と任意に混合される（ここで、重量％は、ターゲット金属の量を示す）。上記Ａｌ又はＳｎ等の金属の典型的な量は、約２重量％であり、実際にはＡｌが好適とされる。ＺｎＯ及び混合Ｚｎ酸化物は、後に堆積される銀を基とする機能層の所定の厚さでの、低シート抵抗の実現を補助する成長促進層として極めて効果的であることが証明されている。下部反射防止層のこのトップ層は、Ｏ_２存在下で、Ｚｎターゲットから反応的にスパッタすること、又は、酸素を全く含まないか、あるいは少量のみ（通常は、せいぜい約５体積％）含む雰囲気中で、セラミックターゲット（例えば、ＺｎＯ：Ａｌを基とする）をスパッタすることにより堆積することが好適である。Ｚｎの酸化物を基とするトップ層の厚さは、少なくとも２ｎｍ、好適には２〜１５ｎｍ、さらに好適には３〜１２ｎｍ、より一層好適には４ｎｍ〜１０ｎｍ、より一層好適には５〜８ｎｍとすることができる。

低放射率及び／又は日照調整コーティングの分野ではよくあるように、銀を基とする機能層は、添加剤がなく、実質的に銀から成り得る。しかしながら、ドープ剤及び合金添加剤等の付加、さらには非常に薄い金属又は金属化合物の層の膜の付加によって銀を基とする機能層の性質に変更を加えることも、銀を基とする機能層が高光透過性／低光吸収性ＩＲ反射層としての機能を果たすために不可欠な性質が実質的に損なわれない限り、本発明の範囲に含まれる。

銀を基とする機能層の厚さは、その技術的な目的により決定される。通常の低放射率及び／又は日照調整の目的において、銀を基とする１つの層の好適な層厚は、５〜２０ｎｍ、より好適には５〜１５ｎｍ、より一層好適には５〜１３ｎｍ、より一層好適には８〜１２ｎｍ、最も好適には１０〜１１ｎｍである。こうした層厚であれば、熱処理後の単一の銀コーティングで、８６％超の光透過値及び０．０５未満の垂直放射率を容易に実現することができる。より優れた日照調整性能が目的であれば、銀を基とする機能層の厚さを十分に増加させるか、又は、間隔を空けたいくつかの機能層を後述するように設けることができる。

好適には、下部反射防止層におけるＺｎの酸化物を基とするトップ層は、銀を基とする機能層と直接接触している。好適には、ガラス基板と、銀を基とする機能層との間に設けられた層は、上に挙げた下部反射防止層の４つの層から成る。

本発明は主に、銀を基とする機能層を１つのみ有する低放射率及び／又は日照調整コーティングに関するものであるが、本発明の概念を、２つ又はさらにそれ以上の銀を基とする機能層を有する低放射率及び／又は日照調整コーティングに適用することも本発明の範囲に含まれる。銀を基とする機能層を２つ以上設けることで、それぞれの機能層は、介在する誘電体層（「中央反射防止層」と呼称する）によって間隔が空けられ、ファブリペロータイプの干渉フィルタを形成し、その結果、当技術分野ではよく知られているように、低放射率及び／又は日照調整コーティングの光学的特性は、それぞれの用途用にさらに最適化することができる。銀を基とする機能層はそれぞれ、介在する中央反射防止層により、隣接する銀を基とする機能層から間隔を空けられているのが好ましい。介在する中央反射防止層は、ケイ素の（酸化）窒化物及び／又はアルミニウムの（酸化）窒化物を基とするベース層と、Ｚｎ及びＳｎの酸化物及び／又はＳｎの酸化物を基とする層と、金属酸化物及び／又はケイ素の（酸化）窒化物及び／又はアルミニウムの（酸化）窒化物を基とする分離層と、Ｚｎの酸化物を基とするトップ層とのうち１つ又は複数の組み合わせを有することができる。

いくつかの好適な態様において、銀を基とする機能層はそれぞれ、介在する中央反射防止層により、隣接する銀を基とする機能層から間隔を空けられ、
ここで、中央反射防止層はそれぞれ、少なくとも、
間に中央反射防止層が設けられた銀を基とする機能層のうち、最もガラス基板の近くに位置する銀を基とする機能層から順に、
ケイ素の（酸化）窒化物及び／又はアルミニウムの（酸化）窒化物を基とするベース層と、Ｚｎ及びＳｎの酸化物及び／又はＳｎの酸化物を基とする層と、Ｚｎの酸化物を基とするトップ層とを有する。

いくつかの場合において、２つの銀を基とする機能層の間に設けられたそれぞれの中央反射防止層は、少なくとも、下方の機能層から順に、ケイ素の（酸化）窒化物及び／又はアルミニウムの（酸化）窒化物を基とするベース層と、Ｚｎ及びＳｎの酸化物及び／又はＳｎの酸化物を基とする層と、金属酸化物及び／又はケイ素の（酸化）窒化物及び／又はアルミニウムの（酸化）窒化物を基とする分離層と、Ｚｎの酸化物を基とするトップ層とを有する。

銀を基とする機能層の上方に好適に設けられたバリア層は、ＺｎＯ：Ａｌ等の金属酸化物を基とする１つ又は複数の層を含むことができる。また、バリア層は、０．５〜２０ｎｍ、好適には１〜１０ｎｍ、より好適には１〜８ｎｍ、より一層好適には１〜７ｎｍ、最も好適には２〜６ｎｍの全厚を有することができる。こうしたバリア層の厚さにより、堆積を容易にすることができる。バリア層が混合金属酸化物ターゲットからスパッタした混合金属酸化物の層を含む場合は、堆積処理中に銀を基とする機能層を優位に保護できること、及び、熱処理中に高い光学安定性を実現できることが分かっている。

熱処理中の板ガラスの色（及び光透過率）の改変を最小限にすることが望まれるため、実質的に化学量論的な金属酸化物を含むバリア層が好適である。金属性又は高亜酸化のバリア層よりもむしろ金属酸化物を基とするバリア層を使用することにより、熱処理時におけるコーティングの著しく優れた光学安定性、及び、熱処理時における光学的改変の低減を維持する際の効果的な補助をもたらすことができる。

銀を基とする機能層と直接接触するバリア層の少なくとも一部分は、銀の損傷を防ぐために、酸化物ターゲットの非反応性スパッタリングを用いて堆積されるのが好ましい。

本発明の好適な態様による上部反射防止層は、２０〜５０ｎｍ、好適には２５〜５０ｎｍ、より好適には３０〜５０ｎｍ、より一層好適には３５〜４５ｎｍの全厚を有することができる。

上部反射防止層は、Ｚｎ及びＳｎの酸化物及び／又はＳｎの酸化物等の金属酸化物を基とする層を有することができる。上部反射防止層の金属酸化物を基とする上記層は、バリア層と直接接触することができる。

上部反射防止層の金属酸化物を基とする上記層は、少なくとも０．５ｎｍ、好適には０．５〜３５ｎｍ、より好適には０．５〜２５ｎｍ、より一層好適には２〜２０ｎｍ、より一層好適には５〜１８ｎｍ、最も好適には５〜１６ｎｍの厚さを有することができる。金属酸化物を基とする上記層がＺｎ及びＳｎの酸化物である場合は、当該層は、金属含有量全体に対し、好適には約１０〜９０重量％のＺｎ及び約９０〜１０重量％のＳｎ、より好適には約４０〜６０重量％のＺｎ及び約４０〜６０重量％のＳｎ、好適にはそれぞれ約５０重量％のＺｎ及びＳｎを含む。その他の好適な態様において、前記上部反射防止層のＺｎ及びＳｎの酸化物を基とする上記層は、最大１８重量％のＳｎ、より好適には最大１５重量％のＳｎ、より一層好適には最大１０重量％のＳｎを含むことができる。上記層は、Ｏ_２存在下における混合したＺｎＳｎターゲットの反応的スパッタリングにより堆積することができ、また、上記反射防止層の反射防止性能に寄与する。

上部反射防止層は、アルミニウムの（酸化）窒化物、及び／又は、ケイ素の（酸化）窒化物、及び／又は、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ及び／又はＺｒの酸化物を基とする層を含むことができる。前記層は、少なくとも５ｎｍ、好適には５〜５０ｎｍ、より好適には１０〜４０ｎｍ、より一層好適には１５〜３５ｎｍ、最も好適には１５〜３０ｎｍの厚さを有することができる。

アルミニウムの（酸化）窒化物、及び／又は、ケイ素の（酸化）窒化物、及び／又は、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ及び／又はＺｒの酸化物を基とする層は、場合によっては上部反射防止層の大部分を構成することができ、安定性（熱処理中の、より優れた保護）及び拡散バリア性能を提供する。かかる層は、好適には、Ｎ_２含有雰囲気中で、例えばＳｉ_９０Ａｌ_１０ ターゲットといったＳｉあるいはＡｌのターゲット又はＳｉＡｌの混合ターゲットの反応性スパッタリングにより、Ａｌ窒化物及び／又はＳｉ窒化物の層として堆積される。アルミニウムの（酸化）窒化物及び／又はケイ素の（酸化）窒化物を基とする層の組成は、実質的に化学量論的なＳｉ_９０Ａｌ_１０Ｎ_ｘとすることができる。

好適には、上部反射防止層が、
金属酸化物を基とする層と、
アルミニウムの（酸化）窒化物及び／又はケイ素の（酸化）窒化物を基とする層と
を有する。

上部反射防止層のアルミニウムの（酸化）窒化物及び／又はケイ素の（酸化）窒化物を基とする層は、介在する追加的な誘電体層を設けることなく、本明細書中で定義される上部反射防止層における金属酸化物を基とする層と直接接触することができる。

好適には、上部反射防止層は、バリア層から順に、アルミニウムの（酸化）窒化物及び／又はケイ素の（酸化）窒化物を基とする層と、金属酸化物を基とする層とを有する。好適には、上部反射防止層は、前述したバリア層から順に、これら２つの層から成る。

別の態様においては、上部反射防止層が、バリア層から順に、
金属酸化物を基とする層と、
アルミニウムの（酸化）窒化物及び／又はケイ素の（酸化）窒化物を基とする層と
を有する。

好適には、上部反射防止層が、
Ｚｎ及びＳｎの酸化物及び／又はＳｎの酸化物を基とする層と、
アルミニウムの（酸化）窒化物及び／又はケイ素の（酸化）窒化物を基とする層と
を有する。

機械的及び／又は化学的なロバスト性（例えば、耐ひっかき性）を向上させるために、上部反射防止層のトップ層（最外層）として保護層を堆積することができる。上記保護層は、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ及び／又はＺｒの酸化物を基とする層を含むことができる。

熱処理中のコーティングの光吸収を最小化し、及び光透過率の上昇を防止するために、上部反射防止層及び下部反射防止層の全ての層は、実質的に化学量論的な組成で堆積されることが好適である。

被覆ガラス板の光学的特性をさらに最適化するため、上部反射防止層及び／又は下部反射防止層は、低放射率及び／又は日照調整コーティングの誘電体層用として一般的に知られている適切な材料、特に、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｎｂ、Ｃｅ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｚｒ、Ａｌ及び／又はＳｉの酸化物、及び／又は、Ｓｉ及び／又はＡｌの（酸化）窒化物あるいはそれらの組み合わせの１つ又は複数から選択される材料からなる追加的な部分層を有することができる。ただし、かかる追加的な部分層を追加する場合には、それにより本明細書中で目的とする熱処理性が損なわれないことを確認する必要がある。

当然のことながら、いずれの追加的な部分層も、例えばドープ剤又は反応性スパッタガスの反応性生物など、その性質を改変し、及び／又はその製造を容易化する添加剤を含有することができる。酸化物を基とする層の場合においては、窒素をスパッタ雰囲気に付加して、酸化物ではなく酸化窒化物を形成することができ、また、窒化物を基とする層の場合においては、酸素をスパッタ雰囲気に付加して、窒化物ではなく酸化窒化物を形成することができる。

上述したような追加的な部分層を本発明のガラス板の基本となる一連の層に付加する場合には、適切な材料、構造及び厚さの選択を行うことにより、高い熱的安定性等、主として目的とする性質が著しく損なわれないように留意する必要がある。

本発明の別の側面によれば、本発明による被覆ガラス板の製造方法であって、
ガラス基板を準備し、次いで、該ガラス基板に、
ケイ素の（酸化）窒化物及び／又はアルミニウムの（酸化）窒化物を基とするベース層、
Ｚｎ及びＳｎの酸化物及び／又はＳｎの酸化物を基とする層、
少なくとも窒素を含むスパッタ雰囲気中において、金属酸化物ターゲットからスパッタすること、又は、金属層を堆積してその後酸化させることによりなる金属酸化物を基とし、及び／又は、Ｓｉ及び／又はＡｌを基とするターゲットから反応的にスパッタすることによりなるケイ素の（酸化）窒化物及び／又はアルミニウムの（酸化）窒化物を基とする分離層、
Ｚｎの酸化物を基とするトップ層、
銀を基とする機能層、
バリア層、並びに
上部反射防止層
を相次いで付与する工程を含み、
前記銀を基とする機能層と直接接触する前記バリア層の任意の部分は、０〜最大５体積％の酸素を含む雰囲気中でスパッタすることにより堆積される、被覆ガラス板の製造方法を提供する。

本発明は、特定のコーティングの製造方法に限定されない。しかしながら、少なくとも１つの層、最も好適には全ての層を、ＤＣモード、パルスモード、中波モード、又はその他の適切なモードでのマグネトロン陰極スパッタリングにより、金属性又は半導体のターゲットを適切なスパッタ雰囲気中で反応的に又は非反応的にスパッタして付与することが特に好適である。スパッタされる材料に応じて、平面状又は回転する管状のターゲットを用いることができる。

コーティング処理は、コーティングの反射防止層の任意の酸化物（又は窒化物）層の酸素欠乏（又は窒素欠乏）を低く維持できるように適切なコーティング条件を設定して実施することにより、熱処理時における被覆ガラス板の光透過率及び色の高い安定性を実現することが好適である。

本発明による熱処理可能な被覆板ガラスの製造に用いられる処理パラメータ、並びに個々の層の厚さ及び材料は、単一の銀を基とする機能層の場合においては（少なくとも、特に高い光学安定性を特徴とする態様においては）、後の熱処理中に、コーティングのシート抵抗が減少し、かつ、被覆ガラス板の光透過率（ΔＴ_Ｌ）の変化率が約２％以下、好適には１．５％以下となるように選択することが好適である。

本発明による低放射率及び／又は日照調整コーティングを有する被覆ガラス板は（適切に設計され、単一の銀を基とする機能層を有するならば）、熱処理前に、少なくとも約８６％の光透過率Ｔ_Ｌを実現することができる。熱処理後の光透過率は、多くの場合、熱処理前の光透過率に比べていくらか高いが、それにもかかわらず、目的であるΔＴ_Ｌ≦２％、好適にはΔＴ_Ｌ≦１．５％を満たすと考えられる。

本明細書及び特許請求の範囲で言及する光透過値は、概して、コーティングなしで８９％の光透過率Ｔ_Ｌを有する厚さ４ｍｍの標準フロートガラス板を有する被覆ガラス板について特定されるものを言う。

通常、被覆ガラス板のニュートラルな反射及び透過色が目的されるが、本発明による被覆ガラス板の色は、製品の所望の外観に応じてそれぞれの層の厚さを適切に適合させることにより、大きく変化し得る。

本発明による被覆ガラス板は、熱処理が必要でない場合であっても、それ自体使用することができる。本発明による被覆ガラス板の主要な利点は、その熱的安定性のため、未熱処理及び熱処理済みの被覆ガラス板を、反射における顕著な色の違いもなく、同一の建物内で使用し、また、隣接してグレーズすることができる点である。

本発明による被覆ガラス板の熱的安定性は、熱処理済みの被覆ガラス板に許容できないレベルのヘイズが見られないという点に表れている。熱処理中にヘイズ値の大幅な上昇が検知されたならば、それは、コーティングが損傷し始めていることを示唆する。

本発明の別の側面によれば、本発明に従った被覆ガラス板を組み入れた多重板ガラスを提供する。例えば、多重板ガラスは、積層ガラス又は断熱ガラスとすることができる。

当然のことながら、本発明の１つの側面に適用可能な任意の特徴は、いかなる組み合わせ及びいかなる数でも用いることができる。また、これらは、本発明に係る別の側面とともに、いかなる組み合わせ及びいかなる数でも用いることができる。これは、下記に限定されるわけではないが、本出願の特許請求の範囲において、他の請求項の従属請求項として使用されるいかなる請求項からの従属請求項を含む。

以下に、本発明の実施形態を、例示のみの目的で説明する。

全ての実施例において、約８９％の光透過率を有する厚さ４ｍｍの標準フロートガラス板に、ＡＣ及び／又はＤＣのマグネトロンスパッタ装置（必要に応じて、中波スパッタリング）を用いてコーティングを堆積した。

Ｚｎ及びＳｎの酸化物（ＺｎＳｎＯ_ｘ、Ｚｎ：Ｓｎの重量比≒５０：５０）の誘電体層の全てを、Ａｒ／Ｏ_２のスパッタ雰囲気中で、亜鉛―スズのターゲットからそれぞれ反応的にスパッタした。

ＴｉＯ_ｘ層を、酸素を加えない純粋なＡｒのスパッタ雰囲気中で、僅かに準化学量論的な導電性のＴｉＯ_ｘターゲット（ｘは約１．９８）から堆積した。

下部反射防止層のＺｎＯ：Ａｌの成長促進トップ層を、Ａｒ／Ｏ_２スパッタ雰囲気中で、ＡｌドープしたＺｎターゲット（Ａｌの含有量は約２重量％）からスパッタした。

全ての実施例において実質的に純粋な銀（Ａｇ）から成る機能層を、酸素を加えないＡｒスパッタ雰囲気中で、１０^−５ｍｂａｒ未満の残留酸素の分圧で、銀ターゲットからスパッタした。

Ａｌドープした酸化亜鉛（ＺｎＯ：Ａｌ）のバリア層を、酸素を加えない純粋なＡｒスパッタ雰囲気中で、導電性のＺｎＯ_ｘ：Ａｌターゲットからスパッタした。

亜酸化ＮｉＣｒＯ_ｘのバリア層は、Ａｒ／Ｏ_２スパッタ雰囲気中で、Ｎｉ_８０Ｃｒ_２０ターゲットからスパッタした。

混合ケイ素・アルミニウム窒化物（Ｓｉ_９０Ａｌ_１０Ｎ_ｘ）の層を、残留酸素のみを含むＡｒ／Ｎ_２スパッタ雰囲気中で、混合したＳｉ_９０Ａｌ_１０ターゲットから反応的にスパッタした。

ＡｌＮの層を、残留酸素のみを含むＡｒ／Ｎ_２スパッタ雰囲気中で、Ａｌターゲットから反応的にスパッタした。

複数の比較例による被覆ガラス板及び本発明による被覆ガラス板における、ヘイズスコア、ヘイズ判定（合否）、ΔＴ_Ｌ（熱処理時の透過率百分率の変化）及びＲｆΔＥ^＊（熱処理時のフィルム側の反射色の変化）

表１のデータを収集するために用いた手順について、以下に説明する。各列の一番上の層からスタートして順に、層をガラス板に堆積した。

（熱処理性試験）
実施例１乃至９のコーティングの堆積の直後に、被覆ガラス板のコーティング積層のパラメータ（ヘイズ、Ｔ_Ｌ及びＲｆＥ^＊）を測定した。次いで、試料を、約６５０℃で約５分間熱処理した。その後、ヘイズ、Ｔ_Ｌ及びＲｆＥ^＊を再び測定し、それらからΔＴ_Ｌ及びＲｆΔＥ^＊を算出した。結果を、上記の表１に示す。

実施例１乃至９の被覆ガラス板の熱処理時における透過率百分率の変化ΔＴ_Ｌとして記載した値は、ＥＮ１４０に従った測定から得たものである。

色の特性は、定着しているＣＩＥ ＬＡＢのＬ^＊、ａ^＊、ｂ^＊座標を用いて測定及び報告した（例えば、国際公開第２００４／０６３１１１（Ａ１）号の段落［００３０］及び［００３１］を参照）。熱処理時のフィルム側の反射色の変化を示すＲｆΔＥ^＊＝（（Δａ^＊）²＋（Δｂ^＊）²＋（ΔＬ^＊）²）^１／２であり、ΔＬ^＊、Δａ^＊及びΔｂ^＊は、熱処理の前後の各被覆ガラス板の色値Ｌ^＊、ａ^＊及びｂ^＊の差である。ΔＥ^＊値が３以下、好適には最大２ならば、熱処理によりもたらされる色の改変が小さく、また、実際的には目立たないことを示す。

実施例に対して、主観的な目視によるヘイズスコアリングシステムを適用した。以下に説明する品質評価システムは、ＡＳＴＭ Ｄ １００３−６１に従って測定される標準ヘイズ値に十分には反映されない特性である、明光下でのコーティングの見栄えを良好に見分けるため、必要であることが分かった。

この評価システムは、コーティングが損傷し、又は不完全な箇所で局所的な色の差異をもたらす、コーティングにおける可視欠陥のより巨視的な影響を考慮するものである（表１のヘイズスコアを参照）。熱処理後のコーティングにおける可視欠陥の巨視的な影響を、試料を明光下で観察することにより主観的に評価した（全ての実施例では、熱処理前はヘイズを示さない）。評価は、０（完璧で、欠陥なし）〜３（多数の明らかな可視欠陥及び／又はスポットあり）、最高５（高密度のヘイズで、しばしば肉眼でも見える）のスコアを用いた、熱処理後の被覆ガラス試料の外観を評価する完全さ採点（評価）システムに基づく。

目視評価は、（法線入射に対して）約−９０°〜＋９０°の入射角で２つの直交面に向けられた２．５ミリオンキャンドルパワーのビーム（トーチ）（すなわち、トーチをまず水平面とし、次いで、垂直面とする）を、ブラックボックスの前に置かれた被覆ガラス板上に用いることにより行った。ブラックボックスのサイズは、複数の被覆ガラス試料を同時に評価できるよう、十分に大きい。光ビームを観察者側から被覆ガラス板へ当て、上述したように入射角を変化させて、被覆ガラス板を観察し、目視品質を評価した。被覆ガラス板のコーティングが観察者に対向するように、被覆ガラス板をブラックボックスの前に置いた。熱処理後の被覆ガラス板のうち、スコアが３以上のものはいずれも、試験不合格とされる。

比較例１は、ＮｉＣｒＯ_ｘバリア層を備えた「参考」スタックである。比較例１は、ある程度のヘイズ（スコア０〜１）が見られるが、そのレベルは許容可能なものである。一方、ΔＴ_Ｌ値は４．７％と高く、単一材料の被覆ガラス板の定義に該当しないものである。

比較例２は、比較例１と同様の構造を有するものの、ＮｉＣｒＯ_ｘ層が省略され、許容できないヘイズスコア４という結果となる。また、ΔＴ_Ｌ値はやはり１．６％と高く、単一材料の被覆ガラス板の定義に該当しないものである。

比較例３は、比較例２と同様の構造を有するが、追加のバリア層（ＴｉＯ_ｘ）を有する。この追加のバリア層によっては、ヘイズレベルの改善は得られていない（スコア５）。

比較例４は、比較例３と同様であるが、下部反射防止層におけるＳｉ_９０Ａｌ_１０Ｎ_ｘの次にＴｉＯ_ｘ層が挿入され、また、バリア層の順序が逆になっている。この構造では、ヘイズレベルの改善は見られず（スコア５）、また、ΔＴ_Ｌ値は、２．６％と高く、単一材料の被覆ガラス板の定義に該当しないものである。

実施例５は、比較例２と同様であるが、ＴｉＯ_ｘの薄い分離層が追加され、その結果、優れたヘイズスコア０が得られている。また、ΔＴ_Ｌ値及びＲｆΔＥ^＊値は、単一材料の被覆ガラス板の定義に該当する程十分に優れたものである。

実施例６は、実施例５と同様であるが、追加的な部分バリア層（ＴｉＯ_ｘ）が挿入されている。ヘイズスコアは０で、ΔＴ_Ｌ値及びＲｆΔＥ^＊値は単一材料の被覆ガラス板の定義に準拠したものであり、これから分かるように、分離層を使用することにより、バリア層の性質に関わりなく優れた結果が実現できる。

実施例７も、実施例５と同様であるが、スタックの上部にＡｌＮ／ＺｎＳｎＯ_ｘを用いている。ヘイズスコアは０〜１で、ΔＴ_Ｌ値及びＲｆΔＥ^＊値は単一材料の被覆ガラス板の定義に準拠したものであり、これから分かるように、分離層を使用することにより、上部反射防止層の性質に関わりなく優れた結果が実現できる。

実施例８は、実施例７に類似するが、ＺｎＳｎＯ_ｘバリア層が取り除かれている。やはり、上記定義に準拠した、許容可能なヘイズスコア並びにΔＴ_Ｌ値及びＲｆΔＥ^＊値から分かるように、分離層を使用することにより、バリア層の性質に関わりなく優れた結果が実現できる。

実施例９は、Ｓｉ_９０Ａｌ_１０Ｎ_ｘの分離層を用いており、単一材料の被覆ガラス板の定義に準拠したヘイズスコア０〜１並びにΔＴ_Ｌ値及びＲｆΔＥ*値が達成されている。これから分かるように、多くの材料が分離層に適している。

Claims (21)

1. 被覆ガラス板であって、少なくとも、順に、以下の層：
   ガラス基板、
   該ガラス基板から順に、
   Ｚｎ及びＳｎの酸化物及び／又はＳｎの酸化物を基とする層と、
   金属酸化物及び／又はケイ素の（酸化）窒化物及び／又はアルミニウムの（酸化）窒化物を基とする分離層と、
   Ｚｎの酸化物を基とするトップ層と
   を有する下部反射防止層、並びに
   銀を基とする機能層
   を有する被覆ガラス板。
2. 前記ガラス基板と前記Ｚｎ及びＳｎの酸化物及び／又はＳｎの酸化物を基とする層との間に設けられた、ケイ素の（酸化）窒化物及び／又はアルミニウムの（酸化）窒化物を基とするベース層をさらに有する、請求項１に記載のガラス板。
3. 前記ガラス基板から順に、前記銀を基とする機能層の上方に設けられたバリア層をさらに有する、請求項１又は２に記載のガラス板。
4. 請求項１乃至３のいずれかに記載のガラス板であって、少なくとも、順に、以下の層：
   ガラス基板、
   該ガラス基板から順に、
   ケイ素の（酸化）窒化物及び／又はアルミニウムの（酸化）窒化物を基とするベース層と、
   Ｚｎ及びＳｎの酸化物及び／又はＳｎの酸化物を基とする層と、
   金属酸化物及び／又はケイ素の（酸化）窒化物及び／又はアルミニウムの（酸化）窒化物を基とする分離層と、
   Ｚｎの酸化物を基とするトップ層と
   を有する下部反射防止層、
   銀を基とする機能層、
   バリア層、並びに
   上部反射防止層
   を有するガラス板。
5. 前記ケイ素の（酸化）窒化物及び／又はアルミニウムの（酸化）窒化物を基とするベース層は、厚さが２０〜４０ｎｍである、請求項２、請求項２に従属する請求項３又は請求項４に記載のガラス板。
6. 前記下部反射防止層のＺｎ及びＳｎの酸化物及び／又はＳｎの酸化物を基とする層は、厚さが１〜８ｎｍである、請求項１乃至５のいずれかに記載のガラス板。
7. 前記下部反射防止層のＺｎ及びＳｎの酸化物及び／又はＳｎの酸化物を基とする層が、前記ケイ素の（酸化）窒化物及び／又はアルミニウムの（酸化）窒化物を基とするベース層の上に直接設けられている、請求項２、請求項２に従属する請求項３、請求項４、請求項５又は請求項２，４若しくは５に直接的又は間接的に従属する請求項６に記載のガラス板。
8. 前記金属酸化物及び／又はケイ素の（酸化）窒化物及び／又はアルミニウムの（酸化）窒化物を基とする分離層は、厚さが０．５〜５ｎｍである、請求項１乃至７のいずれかに記載のガラス板。
9. 前記分離層が金属酸化物を基とする場合に、該分離層がＴｉ、ＮｉＣｒ、ＩｎＳｎ、Ｚｒ、Ａｌ及び／又はＳｉの酸化物の層を有する、請求項１乃至８のいずれかに記載のガラス板。
10. 前記分離層はさらに、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ａｌ、Ｎｂ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ及びＳｉの元素のうちの少なくとも１つから、又はこれらの物質のうちの少なくとも１つを基とする合金から選択される１つ又はそれ以上の他の化学元素を含む、請求項１乃至９のいずれかに記載のガラス板。
11. 前記Ｚｎの酸化物を基とするトップ層は、厚さが３〜１０ｎｍである、請求項１乃至１０のいずれかに記載のガラス板。
12. 前記銀を基とする機能層は、厚さが５〜２０ｎｍである、請求項１乃至１１のいずれかに記載のガラス板。
13. 前記下部反射防止層における前記Ｚｎの酸化物を基とするトップ層が、前記銀を基とする機能層と直接接触している、請求項１乃至１２のいずれかに記載のガラス板。
14. 前記バリア層は、厚さが１〜１０ｎｍである、請求項３若しくは４、又は請求項３若しくは４に直接的若しくは間接的に従属する請求項５乃至１３のいずれかに記載のガラス板。
15. 前記上部反射防止層が、
    金属酸化物を基とする層と、
    アルミニウムの（酸化）窒化物及び／又はケイ素の（酸化）窒化物を基とする層と
    を有する、請求項４又は請求項４に直接的若しくは間接的に従属する請求項５乃至１４のいずれかに記載のガラス板。
16. 前記上部反射防止層における前記金属酸化物を基とする層は、厚さが２〜２０ｎｍである、請求項１５に記載のガラス板。
17. 前記上部反射防止層における前記アルミニウムの（酸化）窒化物及び／又はケイ素の（酸化）窒化物を基とする層は、厚さが１５〜３５ｎｍである、請求項１５又は１６に記載のガラス板。
18. 前記ガラス板は、銀を基とする機能層を複数有する、請求項１乃至１７のいずれかに記載のガラス板。
19. 前記銀を基とする機能層はそれぞれ、介在する中央反射防止層により、隣接する銀を基とする機能層から間隔が空けられている、請求項１８に記載のガラス板。
20. 請求項１乃至１９のいずれかに記載の被覆ガラス板の製造方法であって、
    ガラス基板を準備し、次いで、該ガラス基板に、
    ケイ素の（酸化）窒化物及び／又はアルミニウムの（酸化）窒化物を基とするベース層、
    Ｚｎ及びＳｎの酸化物及び／又はＳｎの酸化物を基とする層、
    少なくとも窒素を含むスパッタ雰囲気中において、金属酸化物ターゲットからスパッタすること、又は、金属層を堆積してその後酸化させることによりなる金属酸化物を基とし、及び／又は、Ｓｉ及び／又はＡｌを基とするターゲットから反応的にスパッタすることによりなるケイ素の（酸化）窒化物及び／又はアルミニウムの（酸化）窒化物を基とする分離層、
    Ｚｎの酸化物を基とするトップ層、
    銀を基とする機能層、
    バリア層、並びに
    上部反射防止層
    を相次いで付与する工程を含み、
    前記銀を基とする機能層と直接接触する前記バリア層の任意の部分は、０〜最大５体積％の酸素を含む雰囲気中でスパッタすることにより堆積される、被覆ガラス板の製造方法。
21. 請求項１乃至１９のいずれかに記載のガラス板を組み入れた、多重板ガラス。