JP2014241019A - 半導体集積回路及び情報処理装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】電源電圧の変動に関わらず、少なくとも一部の内部回路に適切な駆動電圧を効率的または安定的に供給する。
【解決手段】実施形態によれば、半導体集積回路は、レギュレータ110と、レベルシフタ140と、スイッチ回路130とを備える。レギュレータ110は、第1の端子と第2の端子と第3の端子とを持ち、第1の端子と第3の端子との間の電位差である入力電圧を変換することによって、第2の端子と第3の端子との間の電位差である出力電圧を得る。レベルシフタ140は、一端と他端とを持ち、一端と他端との間の電圧レベルを調整する。スイッチ回路130は、スイッチ131と、レギュレータ110の第3の端子をレベルシフタ140の一端に選択的に接続するスイッチ132と、スイッチ133と含む。
【選択図】図1
【解決手段】実施形態によれば、半導体集積回路は、レギュレータ110と、レベルシフタ140と、スイッチ回路130とを備える。レギュレータ110は、第1の端子と第2の端子と第3の端子とを持ち、第1の端子と第3の端子との間の電位差である入力電圧を変換することによって、第2の端子と第3の端子との間の電位差である出力電圧を得る。レベルシフタ140は、一端と他端とを持ち、一端と他端との間の電圧レベルを調整する。スイッチ回路130は、スイッチ131と、レギュレータ110の第3の端子をレベルシフタ140の一端に選択的に接続するスイッチ132と、スイッチ133と含む。
【選択図】図1
Description
実施形態は、半導体集積回路及び情報処理装置に関する。
近年、例えば相補型金属酸化膜半導体(CMOS)を利用することにより、半導体集積回路が大規模化されつつある。この結果、半導体集積回路は、例えば、アナログ信号処理回路、デジタル信号処理回路、メモリ回路などの様々な内部回路を組み込むことが可能となる。半導体集積回路の大規模化及び高機能化を促進するために、CMOSは微細化されている。
CMOSは微細化によって耐電圧が低下するので、内部回路は高い駆動電圧を利用できない。現在、内部回路の規定電圧は例えば1.2Vであり、この場合に当該内部回路は駆動電圧が大凡1.0V以上1.4V以下の範囲にあれば正常に動作できる。
実施形態は、電源電圧の変動に関わらず、少なくとも一部の内部回路に適切な駆動電圧を効率的または安定的に供給することを目的とする。
実施形態によれば、半導体集積回路は、第1のレギュレータと、第1の内部回路と、レベルシフタと、スイッチ回路とを備える。第1のレギュレータは、第1の端子と第2の端子と第3の端子とを持ち、第1の端子と第3の端子との間の電位差である第1の入力電圧を変換することによって、第2の端子と第3の端子との間の電位差である第1の出力電圧を得る。第1の内部回路は、第1の出力電圧によって駆動される。レベルシフタは、一端と他端とを持ち、一端と他端との間の電圧レベルを調整する。スイッチ回路は、第1のレギュレータの第3の端子を第1の電位に選択的に接続する第1のスイッチと、第1のレギュレータの第3の端子をレベルシフタの一端に選択的に接続する第2のスイッチと、第1のレギュレータの第3の端子を第2の電位に選択的に接続する第3のスイッチと含む。
以下、図面を参照しながら実施形態の説明が述べられる。尚、以降、説明済みの要素と同一または類似の要素には同一または類似の符号が付され、重複する説明は基本的に省略される。
(第1の実施形態)
図1に例示されるように、第1の実施形態に係る半導体集積回路は、電池100と、レギュレータ110と、第1の内部回路120と、スイッチ回路130と、レベルシフタ140と、第2の内部回路150とを備える。
図1に例示されるように、第1の実施形態に係る半導体集積回路は、電池100と、レギュレータ110と、第1の内部回路120と、スイッチ回路130と、レベルシフタ140と、第2の内部回路150とを備える。
電池100は、電源電圧(=VBAT[V])を発生する。ここで、電池100の一端(高電位端子)の電位と他端(低電位端子)の電位との間の電位差が電源電圧である。尚、図1の例では、電池100の他端は接地されているので、その電位は接地電位に等しい。
レギュレータ110は、第1の端子(即ち、入力端子)と、第2の端子(即ち、出力端子)と、第3の端子とを備える。レギュレータ110は、入力電圧を変換することによって安定した出力電圧(=VDD1[V])を得る。ここで、入力電圧は入力端子の電位と第3の端子の電位との電位差であり、出力電圧は出力端子の電位と第3の端子の電位との電位差である。尚、図1の例では、レギュレータ110の入力端子は電池100の一端に接続されているので、当該入力端子の電位は電池100の一端の電位に等しい。レギュレータ110の出力電圧は、第1の内部回路120の駆動電圧として使用される。
第1の内部回路120は、レギュレータ110の出力電圧によって駆動される。前述の通り、レギュレータ110の出力電圧とは、レギュレータ110の第2の端子の電位と第3の端子の電位との電位差である。
スイッチ回路130は、単極3投のスイッチに相当する。スイッチ回路130は、例えば、スイッチ131、スイッチ132及びスイッチ133を含む。スイッチ回路130は、スイッチ131、スイッチ132及びスイッチ133のオンオフを制御することによって、レギュレータ110の第3の端子の接続(即ち、第3の端子の電位)を選択する。尚、レギュレータ110は、第3の端子の電位を基準に出力電圧を発生するので、当該第3の端子の電位の変動に関わらず第1の内部回路に供給される駆動電圧は一定である。
具体的には、スイッチ回路130は、スイッチ131をオンにすることによって、レギュレータ110の第3の端子を後述される第2の内部回路150の一端に接続させることができる。即ち、スイッチ131は、レギュレータ110の第3の端子を第2の内部回路の一端に選択的に接続する。スイッチ回路130は、スイッチ132をオンにすることによって、レギュレータ110の第3の端子を後述されるレベルシフタ140の一端に接続させることができる。即ち、スイッチ132は、レギュレータ110の第3の端子をレベルシフタ140の一端に選択的に接続する。スイッチ回路130は、スイッチ133をオンにすることによって、レギュレータ110の第3の端子を電池100の他端に接続させることができる。即ち、スイッチ133は、レギュレータ110の第3の端子を電池100の他端に選択的に接続する。
レベルシフタ140は電圧レベルを調整する。具体的には、レベルシフタ140は、一端(高電位端子)と他端(低電位端子)との間の電位差を低電圧から高電圧にシフトさせたり、高電圧から定電圧にシフトさせたりすることができる。尚、図1の例では、レベルシフタ140の他端は接地されているので、その電位は接地電位に等しい。
第2の内部回路150は、スイッチ133のオン時には、第1の内部回路120と縦積みされる。即ち、スイッチ133のオン時において、第2の内部回路150の一端(高電位端子)の電位は前述のレギュレータ110の第3の端子の電位に等しく、当該電位と他端(低電位端子)との間の電位差が第2の内部回路150の駆動電圧(=VDD2[V])として使用される。尚、図1の例では、第2の内部回路150の他端は接地されているので、その電位は接地電位に等しい。
本実施形態に係る半導体集積回路は、図2に例示されるものであってよい。図2において、レギュレータ110は、BGR(Band Gap Reference)111と、増幅器112と、抵抗器R1と、抵抗器R2と、トランジスタM1とを備える。
トランジスタM1のソース端子は、BGR111の第1の端子に接続されている。トランジスタM1のドレイン端子は、抵抗器R1の一端(高電位端子)に接続されている。トランジスタM1のゲート端子は、増幅器112の出力端子に接続されている。
抵抗器R1及び抵抗器R2は、直列に接続されている。具体的には、抵抗器R1の一端はレギュレータ110の出力端子に相当し、抵抗器R1の他端(低電位端子)は抵抗器R2の一端(高電位端子)及び増幅器112の非反転入力端子に接続されている。抵抗器R2の一端は抵抗器R1の他端に接続され、抵抗器R2の他端(低電位端子)はBGR111の第3の端子に接続されている。
BGR111は、第1の端子(即ち、入力端子)、第2の端子(即ち、出力端子)、第3の端子を備える。BGR111の入力端子は、レギュレータ110の入力端子に相当する。BGR112の出力端子は、増幅器112の反転入力端子に接続されている。BGRの第3の端子は、レギュレータ110の第3の端子に相当する。
BGR111は、入力電圧に依存しない安定した参照電圧を発生できる。BGR111は、参照電圧を増幅器112の反転入力端子に印加する。ここで、入力電圧はBGR111の入力端子の電位と第3の端子の電位との電位差であり、出力電圧はBGR111の出力端子の電位と第3の端子の電位との電位差である。
増幅器112の非反転入力端子は、抵抗器R1の他端及び抵抗器R2の一端に接続されている。増幅器112の反転入力端子は、BGR111の出力端子に接続されている。増幅器112の出力端子は、トランジスタM1のゲート端子に接続されている。増幅器112は、トランジスタM1のゲート電位を負帰還制御する。即ち、仮想接地が成立するならば、増幅器112の非反転入力端子の電位と反転入力端子の電位と電位差は略0となる。
故に、図2のレギュレータ110は、安定した出力電圧(抵抗器R1の一端の電位と抵抗器R2の他端の電位との電位差)を得ることができる。具体的には、図2のレギュレータ110の出力電圧は、概ね、BGR111の参照電圧を(R1+R2)/R2倍したものに等しい。但し、R1は抵抗器R1の抵抗値[Ω]を意味し、R2は抵抗器R2の抵抗値[R2]を意味するものとする。即ち、図2のレギュレータ110によれば、R1及びR2を適切に選択することで所望の出力電圧を得ることができる。
図2のレベルシフタ140は、トランジスタM2、M3及びM4と、スイッチS4、S5及びS6とを備える。トランジスタM2、M3及びM4の各々は、ダイオード接続されており、それぞれ約0.4Vの電圧降下を提供する。トランジスタM2、M3及びM4は、直列に接続されている。尚、図2の例では、トランジスタM4のソース端子は接地されている。
スイッチS4は、トランジスタM2と並列に接続され、オン状態ではトランジスタM2のバイパスを提供する。スイッチS5は、トランジスタM3と並列に接続され、オン状態ではトランジスタM3のバイパスを提供する。スイッチS6は、トランジスタM4と並列に接続され、オン状態ではトランジスタM4のバイパスを提供する。
レベルシフタ140は、レギュレータ110の第3の端子の電位を低電位(即ち、接地電位)から高電位(第2の内部回路150の一端の電位)へシフトさせる段階において使用される。
即ち、スイッチ131(S1)のオン時に、スイッチ132(S2)に加えてレベルシフタ140内の全てのスイッチS4、S5及びS6が全てオンにされる。このとき、レベルシフタ140の電圧は0Vとなる。次に、スイッチ131(S1)がオフにされ、更に例えばスイッチS6がオフにされる。このとき、レベルシフタ140の電圧は0.4Vとなる。それから、例えば、スイッチS5、スイッチS4が順番にオフにされ、レベルシフタ140の電圧は0.8V、1.2Vとなる。最後に、スイッチ133(S3)がオン状態にされると共にスイッチ132(S2)がオフにされる。
同様に、レベルシフタ140は、レギュレータ110の第3の端子の電位を高電位から低電位へシフトさせる段階においても使用される。このとき、レベルシフタ140は、レギュレータ110の第3の端子の電位を低電位から高電位へシフトさせる段階とは逆順で動作すればよい。
レベルシフタ140によって調整可能な電圧レベルの範囲は、0[V]からVDD2[V]までに概ね一致する。但し、0[V]及びVDD2[V]は、上記範囲の境界に完全に一致する必要はない。即ち、上記範囲の下限値は0[V]を基準に第1の許容幅を持ち、上記範囲の上限値はVDD2[V]を基準に第2の許容幅を持つ。第1の許容幅及び第2の許容幅は、スイッチ回路130に含まれるスイッチのオンオフの変更時に第1の内部回路120が誤動作をしない(例えば、第1の内部回路120に含まれる論理回路のロジックが反転しない)ように設計的に定められる。
以上説明したように、第1の実施形態に係る半導体集積回路は、スイッチ回路に含まれるスイッチのオンオフを制御することによって、レギュレータの第3の端子の接続を選択できる。例えば、レギュレータの第3の端子が第2の内部回路の一端(高電位端子)に接続される場合に、第1の内部回路及び第2の内部回路は縦積みされる。故に、レギュレータは、第1の内部回路に対して適切な駆動電圧を効率的に(低損失で)供給できる。他方、レギュレータの第3の端子が電池の他端(低電位端子)に接続される場合に、当該第3の端子の電位と共にレギュレータの入力端子及び出力端子の電位も降下する。故に、レギュレータは、電池の出力電圧の低下時であっても第1の内部回路に対して適切な駆動電圧を安定的に供給できる。更に、レギュレータの第3の端子の電位を高電位または低電位にシフトさせる段階では、レベルシフタが利用されるので急激な電位の変化による第1の内部回路の誤動作を抑制できる。尚、レギュレータは、第3の端子の電位を基準に出力電圧を発生するので、当該第3の端子の電位の変動に関わらず第1の内部回路に供給される駆動電圧は一定である。
(第2の実施形態)
図3に例示されるように、第2の実施形態に係る半導体集積回路は、電池100と、第1のレギュレータ110と、第1の内部回路120と、スイッチ回路130と、レベルシフタ140と、第2の内部回路250と、第2のレギュレータ260とを備える。尚、第1のレギュレータ110は、図1のレギュレータ110と同一または類似である。
図3に例示されるように、第2の実施形態に係る半導体集積回路は、電池100と、第1のレギュレータ110と、第1の内部回路120と、スイッチ回路130と、レベルシフタ140と、第2の内部回路250と、第2のレギュレータ260とを備える。尚、第1のレギュレータ110は、図1のレギュレータ110と同一または類似である。
第2の内部回路250は、スイッチ133のオン時には、第1の内部回路120と縦積みされる。即ち、スイッチ133のオン時において、第2の内部回路250の一端(高電位端子)の電位は第1のレギュレータ110の第3の端子の電位に等しく、当該電位と他端(低電位端子)との間の電位差が第2の内部回路250の駆動電圧(=VDD2[V])として使用される。尚、図3の例では、第2の内部回路250の他端は接地されているので、その電位は接地電位に等しい。他方、第2の内部回路250は、スイッチ133のオフ時には、第1の内部回路120と並列に接続される。
第2のレギュレータ260は、第1の端子(即ち、入力端子)と、第2の端子(即ち、出力端子)と、第3の端子とを備える。第2のレギュレータ260は、入力電圧を変換することによって安定した出力電圧(=VDD2[V])を得る。ここで、入力電圧は入力端子の電位と第3の端子の電位との電位差であり、出力電圧は出力端子の電位と第3の端子の電位との電位差である。第2のレギュレータ260の出力電圧は、第2の内部回路250の駆動電圧として使用される。
尚、図3の例では、第2のレギュレータ260の入力端子は電池100の一端に接続されているので、当該入力端子の電位は電池100の一端の電位に等しい。但し、第2のレギュレータ260の入力端子は、電池100の一端の代わりに第1のレギュレータ130の第3の端子に接続されてもよい。また、第2のレギュレータ260の第3の端子は電池100の他端に接続されているので、当該第3の端子の電位は電池100の他端の電位に等しい。
ここで、VDD2が1.2[V]であると仮定する。更に、電池100がリチウムイオン電池であるとすれば、その出力電圧(即ち、電源電圧)は大凡3[V]である。これらの仮定の下で、第1の内部回路120及び第2の内部回路250を並列接続すると、1.8(=3−1.2)[V]の損失が生じる。故に、第1の内部回路120及び第2の内部回路250は、基本的には、縦積みされることが好ましい。具体的には、スイッチ131をオンにしてスイッチ132及び133をオフにすると、第1の内部回路120及び第2の内部回路250は縦積みされる。尚、第1のレギュレータ110の第3の端子の電位を低電位から高電位にシフトさせるための技法は、第1の実施形態において説明されている。VDD1も1.2[V]であるならば、第1の内部回路120及び第2の内部回路250が縦積みされることにより、上記損失は0.6(=3.0−2.4)[V]まで削減される。
反面、電池100の出力電圧の低下時には、第1の内部回路120及び第2の内部回路250は並列接続されることが好ましい。具体的には、スイッチ131及び132をオフにしてスイッチ133をオンにすると、第1の内部回路120及び第2の内部回路250は並列接続される。尚、第1のレギュレータ110の第3の端子の電位を高電位から低電位にシフトさせるための技法は、第1の実施形態において説明されている。第1の内部回路120及び第2の内部回路250が並列接続されることにより、電池100の出力電圧の低下時にもVDD1及びVDD2を安定的に供給することが可能となる。尚、電池100の出力電圧の低下時とは、例えば、当該出力電圧が第1の内部回路120の動作可能電圧(例えば、1.0[V]〜1.4[V])と第2の内部回路250の動作可能電圧(例えば、1.0[V]〜1.4[V])との合計(或いは、これにマージンを加えたもの)以下になる時などを指す。
以上説明したように、第2の実施形態に係る半導体集積回路は、第2の内部回路に安定した駆動電圧を供給する第2のレギュレータを備える。この半導体集積回路は、基本的には、第1の内部回路及び第2の内部回路を縦積みすることによって、これらの内部回路に対して適切な駆動電圧を効率的に供給できる。更に、この半導体集積回路は、電池の出力電圧の低下時には、第1の内部回路及び第2の内部回路を並列接続することによって、これらの内部回路に対して適切な駆動電圧を安定的に供給できる。
(第3の実施形態)
図4に例示されるように、第3の実施形態に係る半導体集積回路は、電池100と、第1のレギュレータ110と、第1の内部回路120と、スイッチ回路130と、レベルシフタ140と、第2の内部回路250と、第2のレギュレータ260と、電圧検出回路370とを備える。
図4に例示されるように、第3の実施形態に係る半導体集積回路は、電池100と、第1のレギュレータ110と、第1の内部回路120と、スイッチ回路130と、レベルシフタ140と、第2の内部回路250と、第2のレギュレータ260と、電圧検出回路370とを備える。
電圧検出回路370は、電池100の出力電圧を検出し、検出結果に応じた制御信号をスイッチ回路130へ出力する。例えば、電圧検出回路370は、電池100の出力電圧が閾値以上である場合には、第1の内部回路120及び第2の内部回路250が縦積みされるようにスイッチ回路130へ制御信号を出力する。具体的には、スイッチ131をオンにしてスイッチ132及び133をオフにすると、第1の内部回路120及び第2の内部回路250は縦積みされる。尚、第1のレギュレータ110の第3の端子の電位を低電位から高電位にシフトさせるための技法は、第1の実施形態において説明されている。
他方、電圧検出回路370は、電池100の出力電圧が閾値未満である場合には、第1の内部回路120及び第2の内部回路250が並列接続されるようにスイッチ回路130へ制御信号を出力する。具体的には、スイッチ131及び132をオフにしてスイッチ133をオンにすると、第1の内部回路120及び第2の内部回路250は並列接続される。尚、第1のレギュレータ110の第3の端子の電位を高電位から低電位にシフトさせるための技法は、第1の実施形態において説明されている。
上記閾値は、例えば、第1の内部回路120の動作可能電圧(例えば、1.0[V]〜1.4[V])と第2の内部回路250の動作可能電圧(例えば、1.0[V]〜1.4[V])との合計(或いは、これにマージンを加えたもの)である。
以上説明したように、第3の実施形態に係る半導体集積回路は、電池の出力電圧を検出し、検出結果に応じた制御信号をスイッチ回路へ出力する電圧検出回路を備える。電池の出力電圧が閾値以上であるならば、第1の内部回路及び第2の内部回路は自動的に縦積みされ、これらの内部回路に対して適切な駆動電圧が効率的に供給される。更に、電池の出力電圧が閾値未満であるならば、第1の内部回路及び第2の内部回路は自動的に並列接続され、これらの内部回路に対して適切な駆動電圧が安定的に供給される。
尚、図4は、第2の実施形態に係る半導体集積回路に対して電圧検出回路を適用したものを示している。しかしながら、本実施形態に係る半導体集積回路は、第1の実施形態に係る半導体集積回路に対して電圧検出回路を適用したものであってもよい。
(第4の実施形態)
ある種の半導体メモリを含む半導体集積回路は、メモリアクセス(即ち、書き込みまたは読み出し)が実行される通常モードに加えて、消費電力低減のために用意された待機モードをサポートする。待機モードにおいて、半導体メモリの状態は保持されるが、当該半導体メモリへのアクセスは実行されない。半導体メモリの大規模化によりメモリセルの総数が増加すると、これらメモリセルからの合計のリーク電流は軽視できないほどに増大する。第4の実施形態は、半導体メモリを含む半導体集積回路の待機モード時に前述の第1乃至第3の実施形態を適用することによって、リーク電流を効率的に削減する。
ある種の半導体メモリを含む半導体集積回路は、メモリアクセス(即ち、書き込みまたは読み出し)が実行される通常モードに加えて、消費電力低減のために用意された待機モードをサポートする。待機モードにおいて、半導体メモリの状態は保持されるが、当該半導体メモリへのアクセスは実行されない。半導体メモリの大規模化によりメモリセルの総数が増加すると、これらメモリセルからの合計のリーク電流は軽視できないほどに増大する。第4の実施形態は、半導体メモリを含む半導体集積回路の待機モード時に前述の第1乃至第3の実施形態を適用することによって、リーク電流を効率的に削減する。
図5に例示されるように、第4の実施形態に係る半導体集積回路は、電池100と、DC−DCコンバータ491と、スイッチ492と、第1のレギュレータ110と、第1の内部回路420と、スイッチ回路130と、レベルシフタ140と、第2の内部回路450と、第2のレギュレータ260と、ワード線用スイッチ481と、ビット線用スイッチ482とを備える。
DC−DCコンバータ491は、高負荷時(例えば、後述される通常モード時)に、効率的な電圧降下が可能である。故に、通常モードでは、DC−DCコンバータ491に並列に接続されたスイッチ492はオフとなる。即ち、DC−DCコンバータ491が使用され、第1の内部回路410及び第2の内部回路450の駆動電圧は効率的に生成される。
他方、低負荷時(例えば、後述される待機モード時)に、DC−DCコンバータ491における電力損失は大きくなる(即ち、効率が低下する)。故に、待機モードでは、DC−DCコンバータ491に並列に接続されたスイッチ492はオンとなる。即ち、DC−DCコンバータ491は使用されない。
第1の内部回路420及び第2の内部回路450は、いずれも半導体メモリ(SRAM)回路である。即ち、第1の内部回路420及び第2の内部回路450は、複数(図5の例では8個)のメモリセルを含む。
ワード線用スイッチ481は、第1の内部回路420及び第2の内部回路450に含まれる複数のメモリセルとXデコーダとの間に設けられたワード線の開放/短絡を切り替える。具体的には、ワード線用スイッチ481は、通常モード(即ち、メモリセルへのアクセスが実行される期間)において、ワード線を短絡する。他方、ワード線用スイッチ481は、待機モード(即ち、メモリセルへのアクセスが実行されない期間)において、ワード線を開放する。ワード線を開放することによって、ワード線を介した電流リーク及びメモリセルの誤動作を防止できる。
ビット線用スイッチ482は、第1の内部回路420及び第2の内部回路450に含まれる複数のメモリセルとYデコーダとの間に設けられたビット線の開放/短絡を切り替える。具体的には、ビット線用スイッチ482は、通常モード(即ち、メモリセルへのアクセスが実行される期間)において、ビット線を短絡する。他方、ビット線用スイッチ482は、待機モード(即ち、メモリセルへのアクセスが実行されない期間)において、ビット線を開放する。ビット線を開放することによって、ビット線を介した電流リーク及びメモリセルの誤動作を防止できる。
第1の内部回路420及び第2の内部回路450は、通常モードにおいて、並列接続される。即ち、スイッチ回路130において、スイッチ131及び132がオフであり、スイッチ133がオンである。
第1の内部回路420及び第2の内部回路450は、通常モードから待機モードに遷移する場合に、リーク電流を削減するために縦積みされてよい。即ち、スイッチ133がオフにされると共にスイッチ132がオンにされる。それから、レベルシフタ140はその一端と他端との間の電圧レベルを低電圧から高電圧にシフトさせる。それから、スイッチ132がオフにされると共にスイッチ131がオンにされる。尚、電池100の電源電圧の低下時には、誤動作を回避するために、第1の内部回路420及び第2の内部回路450は並列接続のままであってよい。例えば、電池100の電源電圧が、第1の内部回路420及び第2の内部回路450の待機モードにおける規定電圧(例えば、0.7[V])の2倍未満であるならば、第1の内部回路420及び第2の内部回路450は縦積みされなくてよい。
他方、第1の内部回路420及び第2の内部回路450は、待機モードから通常モードに遷移する場合には、並列接続される。即ち、スイッチ131がオフにされると共にスイッチ132がオンにされる。それから、レベルシフタ140はその一端と他端との間の電圧レベルを高電圧から低電圧にシフトさせる。それから、スイッチ132がオフにされると共にスイッチ133がオンにされる。
以上説明したように第4の実施形態に係る半導体集積回路は、メモリアクセスが実行されない待機モードにおいて、複数のメモリセルを含む第1の内部回路及び第2の内部回路を縦積みにすると共にワード線及びビット線を短絡する。従って、この半導体集積回路によれば、ビット線及びワード線を介した電流リーク及び誤動作を防止しながら、メモリセルからのリーク電流を削減することができる。更に、前述の第1乃至第3の実施形態と同様に、第1の内部回路及び第2の内部回路に対して適切な駆動電圧を効率的に供給することができる。
前述の第1乃至第4の実施形態に係る半導体集積回路は、種々の情報処理装置に搭載可能である。これらの情報処理装置によれば、第1乃至第4の実施形態と同一または類似の効果を享受できる。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
100・・・電池
110,260・・・レギュレータ
111・・・BGR
112・・・増幅器
120,150,250,420,450・・・内部回路
130・・・スイッチ回路
131,132,133・・・スイッチ
140・・・レベルシフタ
370・・・電圧検出回路
481・・・ワード線用スイッチ
482・・・ビット線用スイッチ
110,260・・・レギュレータ
111・・・BGR
112・・・増幅器
120,150,250,420,450・・・内部回路
130・・・スイッチ回路
131,132,133・・・スイッチ
140・・・レベルシフタ
370・・・電圧検出回路
481・・・ワード線用スイッチ
482・・・ビット線用スイッチ
Claims (10)
- 第1の端子と第2の端子と第3の端子とを持ち、前記第1の端子と前記第3の端子の電位差である第1の入力電圧を変換することによって、前記第2の端子と前記第3の端子の電位差である第1の出力電圧を得る第1のレギュレータと、
前記第1の出力電圧によって駆動される第1の内部回路と、
一端と他端とを持ち、前記一端と前記他端との間の電圧レベルを調整するレベルシフタと、
前記第1のレギュレータの第3の端子を第1の電位に選択的に接続する第1のスイッチと、前記第1のレギュレータの第3の端子を前記レベルシフタの前記一端に選択的に接続する第2のスイッチと、前記第1のレギュレータの第3の端子を第2の電位に選択的に接続する第3のスイッチと含むスイッチ回路と
を具備する半導体集積回路。 - 一端と他端とを持つ第2の内部回路を更に具備し、
前記第1の電位は、前記第2の内部回路の前記一端の電位であり、
前記第2の電位は、接地電位である、
請求項1記載の半導体集積回路。 - 前記レベルシフタは、前記電圧レベルを所定の範囲で調整し、
前記所定の範囲の下限値は、0[V]を基準に第1の許容幅を持ち、
前記所定の範囲の上限値は、前記第2の内部回路の一端と他端との間の電圧を基準に第2の許容幅を持つ、
請求項2記載の半導体集積回路。 - 第1の端子と第2の端子と接地された第3の端子とを持ち、前記第1の端子と前記第3の端子との間の電位差である第2の入力電圧を変換することによって、前記第2の端子と前記第3の端子との間の電位差である第2の出力電圧を得る第2のレギュレータを更に具備し、
前記第2の内部回路は、前記第2の出力電圧によって駆動される、
請求項2記載の半導体集積回路。 - 前記スイッチ回路は、制御信号に基づいて前記第1のスイッチ、前記第2のスイッチ及び前記第3のスイッチのオンオフを設定する、請求項2記載の半導体集積回路。
- 前記第1のレギュレータの第1の端子と接地電位との電位差である電源電圧を検出し、検出結果に応じた制御信号を前記スイッチ回路へ出力する電圧検出回路を更に具備する請求項5記載の半導体集積回路。
- 前記電圧検出回路は、前記電源電圧が閾値以上であれば前記第1のスイッチをオンにするための制御信号を前記スイッチ回路へ出力し、前記電源電圧が前記閾値未満であれば前記第3のスイッチをオンにするための制御信号を前記スイッチ回路へ出力する、請求項6記載の半導体集積回路。
- 複数のメモリセルとXデコーダとの間に設けられたワード線の開放/短絡を切り替えるワード線用スイッチと、
前記複数のメモリセルとYデコーダとの間に設けられたビット線の開放/短絡を切り替えるビット線用スイッチと
を更に具備し、
前記第1の内部回路及び前記第2の内部回路は前記複数のメモリセルの少なくとも一部を含む、
請求項2記載の半導体集積回路。 - 前記第1の内部回路及び前記第2の内部回路は、前記複数のメモリセルへのアクセスが実行される通常モードと、前記複数のメモリセルの状態が保持されて当該複数のメモリセルへのアクセスが実行されない待機モードとをサポートし、
前記第1の内部回路及び前記第2の内部回路が前記通常モードから前記待機モードへ遷移すると、前記ワード線用スイッチ及び前記ビット線用スイッチはワード線及びビット線を開放し、前記スイッチ回路は前記第3のスイッチをオフにすると共に前記第2のスイッチをオンにし、前記第2のスイッチがオンにされた後に前記レベルシフタは前記電圧レベルを低電圧から高電圧にシフトさせ、前記電圧レベルが高電圧にシフトした後に前記スイッチ回路は前記第2のスイッチをオフにすると共に前記第1のスイッチをオンにする、
請求項8記載の半導体集積回路。 - 請求項1記載の半導体集積回路を具備する情報処理装置。
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