JP2014236163A - 合焦方法、合焦装置、露光方法、およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第1面と該第1面より下方に位置する第2面とを含む表面を有する対象物の前記第2面に光学系の焦点を合わせる合焦方法は、前記光学系の光軸に平行な第1方向に対して第1入射角θ1で前記第1面に投光し、前記第1面の面位置を計測する工程と、前記第1方向に対して前記第1角度より小さな第2入射角θ2で前記第2面に投光し、前記第2面の面位置を計測する工程と、前記第1面の面位置の計測結果に基づいて、前記光学系の焦点が前記第1面に合う合焦条件を取得する工程と、前記第1面の面位置の計測結果と前記第2面の面位置の計測結果とに基づいて前記第1面と前記第2面との間の段差量の情報を取得する工程と、前記合焦条件と前記段差量の情報とに基づいて前記光学系の焦点を前記第2面に合わせる工程と、を含む。
【選択図】図1
Description
図1は、本発明の第1実施形態の露光装置の全体構成の概略を模式的に表したものである。露光装置EXは、概略すると以下のように動作する。基板ステージ1は、露光の対象物である基板2を保持して移動可能である。制御部9は、基板ステージ1の位置を管理し、実質的に、投影光学系(光学系)3の投影領域と基板2との相対位置を管理する。制御部9は、面位置計測器6を用いて、投影光学系3の焦点を露光対象領域に合わせる。制御部9および面位置計測器6は、投影光学系3の焦点を基板表面に合わせる合焦装置を構成している。基板2転写用のパターンが形成されたレチクル(マスク)5は、レチクルステージ4上に保持され、不図示の照明光学系はレチクル5を照明する。照明されたレチクル5のパターンは投影光学系3により基板2の上に投影される。
次に、本発明の第2実施形態を図5に示す。符号で図1と同じものは、機能が同じものである。第2実施形態においても第1実施形態同様に、露光対象領域に第2面Pcを持つ領域が存在する場合に第2面Pcの面位置を計測する場合について説明する。第1実施形態との相違点は、第2実施形態がアライメント検出器ASを含んだ構成であり、第2実施形態では、第2面の位置のマッピングとショット領域の配列の情報を取得するグローバルアライメントとを同時に行うことができる。
デバイス(半導体デバイス、液晶表示デバイス等)の製造方法について説明する。デバイスは、ウエハに集積回路を作る前工程と、前工程で作られたウエハ上の集積回路チップを製品として完成させる後工程を経ることにより製造される。前工程は、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたウエハを露光する工程と、ウエハを現像する工程を含む。後工程は、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディング)と、パッケージング工程(封入)を含む。液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板に感光剤を塗布する工程と、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたガラス基板を露光する工程と、ガラス基板を現像する工程を含む。本実施形態のデバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。
Claims (10)
- 第1面と該第1面より下方に位置する第2面とを含む表面を有する対象物の前記第2面に光学系の焦点を合わせる合焦方法であって、
前記光学系の光軸に平行な第1方向に対して第1角度をなす第1入射角で前記第1面に投光し前記第1面で反射された光を受光することにより前記第1面の面位置を計測する第1工程と、
前記第1方向に対して前記第1角度より小さな第2角度をなす第2入射角で前記第2面に投光し前記第2面で反射された光を受光することにより前記第2面の面位置を計測する第2工程と、
前記第1面の面位置の計測結果に基づいて、前記光学系の焦点が前記第1面に合う合焦条件を取得する第3工程と、
前記第1面の面位置の計測結果と前記第2面の面位置の計測結果とに基づいて前記第1面と前記第2面との間の段差量の情報を取得する第4工程と、
前記合焦条件と前記段差量の情報とに基づいて前記光学系の焦点を前記第2面に合わせる第5工程と、
を含むことを特徴とする合焦方法。 - 前記第1工程および前記第3工程を実行した後に、前記第3工程で取得された前記合焦条件に基づいて前記光学系の焦点が前記第1面に合うように前記対象物を前記第1方向に沿って移動する第6工程をさらに含み、
前記第6工程で前記合焦条件を満たしている前記対象物の前記第1方向における位置を保持しつつ前記第2工程を実行し、その後に前記第4工程を実行し、
前記第5工程で、前記合焦条件を満たしている前記対象物を前記第1方向に沿って前記段差量だけ移動する、ことを特徴とする請求項1に記載の合焦方法。 - 前記第1面は、前記第2面を取り囲むように設定される、ことを特徴とする請求項1または2に記載の合焦方法。
- 前記第1角度は70°以上であり、前記第2角度は15°以下である、ことを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の合焦方法。
- 前記第1面の面位置を計測する第1計測器は、光を前記第1面に投光する投光部と前記第1面で反射された光を受光する受光部とを含み、前記投光部と前記受光部とは、前記第1方向と直交する方向に沿って前記光学系を挟んで互いに反対側となるように配置され、前記第2面の面位置を計測する第2計測器は、前記光学系の光軸からずれた位置に配置されている、ことを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1項に記載の合焦方法。
- 第1面と該第1面より下方に位置する第2面とを含む表面を有する対象物の前記第2面に光学系の焦点を合わせる合焦装置であって、
前記光学系の光軸に平行な第1方向に対して第1角度をなす第1入射角で前記第1面に投光し前記第1面で反射された光を受光することにより前記第1面の面位置を計測する第1計測器と、
前記第1方向に対して前記第1角度より小さな第2角度をなす第2入射角で前記第2面に投光し前記第2面で反射された光を受光することにより前記第2面の面位置を計測する第2計測器と、
前記第1面の面位置の計測結果に基づいて前記光学系の焦点が前記第1面に合う合焦条件を取得し、前記第1面の面位置の計測結果と前記第2面の面位置の計測結果とに基づいて前記第1面と前記第2面との間の段差量の情報を取得し、前記合焦条件と前記段差量の情報とに基づいて前記光学系の焦点を前記第2面に合わせる制御部と、
を備えることを特徴とする合焦装置。 - 基板上の複数のショット領域のそれぞれに露光を行う露光方法であって、
前記複数のショット領域のそれぞれは、第1面と該第1面より下方に位置する第2面とを含む表面を有し、
前記露光方法は、
請求項1ないし5のいずれか1項に記載の合焦方法によって投影光学系の焦点を対象ショット領域の前記第2面に合わせる工程と、
前記工程で前記投影光学系の焦点に合わされた前記対象ショット領域の前記第2面を露光する工程と、
を含む、ことを特徴とする露光方法。 - 前記第3工程で、前記複数のショット領域のうち一部のショット領域の前記第2面の面位置を計測し、前記第4工程で、前記一部のショット領域の前記第2面の面位置の計測結果を用いて前記対象ショット領域の前記第2面の段差量を推定する、ことを特徴とする請求項7に記載の露光方法。
- 前記複数のショット領域のうち一部のショット領域の前記第2面が存在する領域には、アライメントマークが設けられており、
前記投影光学系の焦点を対象ショット領域の前記第2面に合わせる工程は、前記アライメントマークを計測し、該アライメントマークの計測結果に基づいてショット領域の配列の情報を取得する工程を含む、ことを特徴とする請求項7または8に記載の露光方法。 - 請求項7ないし9のいずれか1項に記載の露光方法によって基板を露光する工程と、
前記工程で露光された基板を現像する工程と、
を含む、ことを特徴とするデバイス製造方法。
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