JP2014236154A - Electronic device, inspection method and wiring board - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress failure of an electronic device due to disconnection of a wiring board.SOLUTION: A semiconductor package 1A includes a package board 10A, and a semiconductor chip 20 mounted on the package board 10A. The package board 10A is provided with a base plate 11, monitor wiring 50 arranged on the base plate 11, and monitor terminals 60, 70 arranged at both ends of the monitor wiring 50, respectively. The monitor wiring 50 is provided with a hole, and has such a structure that the stress generated in the package board 10A is easily concentrated. Since the semiconductor package 1A is monitored by using the monitor wiring 50 provided with the hole, failure of the semiconductor package 1A due to disconnection of the package board 10A is prevented or discovered in an early stage.

Description

本発明は、電子装置、電子装置の検査方法、及び配線基板に関する。   The present invention relates to an electronic device, an inspection method for an electronic device, and a wiring board.

配線基板上に半導体チップ等の電子部品を搭載した電子装置が知られている。また、製造された電子装置について、導通検査を行い、不良品をスクリーニングする技術が知られている。   There is known an electronic device in which an electronic component such as a semiconductor chip is mounted on a wiring board. Further, a technique for conducting a continuity test on a manufactured electronic device and screening a defective product is known.

特開2005−347651号公報JP 2005-347651 A

電子装置では、その製造時や使用時に、外力や熱に起因して生じる応力、そのような応力に起因して生じるクラックによって、配線基板内の配線が断線し、不良が発生する場合がある。   In an electronic device, the wiring in the wiring board may be disconnected due to a stress caused by external force or heat during the manufacture or use, or a crack caused by such a stress, resulting in a defect.

本発明の一観点によれば、第1配線基板と、前記第1配線基板上に搭載された第1電子部品とを含み、前記第1配線基板は、第1基板と、前記第1基板上に配置され、第1開口部を有する第1配線と、前記第1配線の両端にそれぞれ配置された第1端子及び第2端子とを備える電子装置が提供される。   According to one aspect of the present invention, a first wiring board and a first electronic component mounted on the first wiring board, wherein the first wiring board includes the first board and the first board. There is provided an electronic device including a first wiring having a first opening and a first terminal and a second terminal respectively disposed at both ends of the first wiring.

また、本発明の一観点によれば、第1配線基板と、前記第1配線基板上に搭載された第1電子部品とを含み、前記第1配線基板が、第1基板と、前記第1基板上に配置され、第1開口部を有する第1配線と、前記第1配線の両端にそれぞれ配置された第1端子及び第2端子とを備える電子装置を検査する検査方法であって、前記第1端子と前記第2端子を用いて前記第1配線をモニタ部に電気的に接続する工程と、前記モニタ部によって、前記第1配線に第1電気信号を供給する工程と、前記モニタ部によって、前記第1電気信号をモニタする工程とを含む検査方法が提供される。   According to another aspect of the present invention, the electronic device includes a first wiring board and a first electronic component mounted on the first wiring board, wherein the first wiring board includes the first board and the first board. An inspection method for inspecting an electronic device including a first wiring arranged on a substrate and having a first opening, and a first terminal and a second terminal respectively arranged at both ends of the first wiring, Electrically connecting the first wiring to the monitor using the first terminal and the second terminal; supplying a first electrical signal to the first wiring by the monitor; and the monitor Provides an inspection method including the step of monitoring the first electrical signal.

開示の技術によれば、電子装置を、その配線基板内に設けた開口部を有する配線を用いてモニタすることが可能になり、配線基板の断線による電子装置の不良を、未然に防ぐ、或いは早期に発見することが可能になる。   According to the disclosed technology, the electronic device can be monitored using a wiring having an opening provided in the wiring board, and a failure of the electronic device due to the disconnection of the wiring board can be prevented in advance, or It becomes possible to discover early.

半導体パッケージの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a semiconductor package. 第1の実施の形態に係る半導体パッケージの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the semiconductor package which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施の形態に係るモニタ配線の第1構成例を示す図である。It is a figure which shows the 1st structural example of the monitor wiring which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施の形態に係るモニタ配線の第1変形例を示す図である。It is a figure which shows the 1st modification of the monitor wiring which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施の形態に係るモニタ配線の第2構成例を示す図である。It is a figure which shows the 2nd structural example of the monitor wiring which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施の形態に係るモニタ配線の感度の説明図である。It is explanatory drawing of the sensitivity of the monitor wiring which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施の形態に係るモニタ配線の配置例を示す図である。It is a figure which shows the example of arrangement | positioning of the monitor wiring which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施の形態に係るモニタ配線の第2変形例を示す図である。It is a figure which shows the 2nd modification of the monitor wiring which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施の形態に係るモニタ配線の第3変形例を示す図である。It is a figure which shows the 3rd modification of the monitor wiring which concerns on 1st Embodiment. モニタ部の構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of a monitor part. モニタ部を設けた半導体パッケージの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the semiconductor package which provided the monitor part. モニタ部を設けた電子装置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the electronic device which provided the monitor part. 第1の実施の形態に係るモニタ配線の別の配置例を示す図である。It is a figure which shows another example of arrangement | positioning of the monitor wiring which concerns on 1st Embodiment. 第2の実施の形態に係るモニタ配線の第1構成例を示す図である。It is a figure which shows the 1st structural example of the monitor wiring which concerns on 2nd Embodiment. 第2の実施の形態に係る第1構成例のモニタ配線の応力方向と応力集中の説明図である。It is explanatory drawing of the stress direction and stress concentration of the monitor wiring of the 1st structural example which concerns on 2nd Embodiment. 第2の実施の形態に係るモニタ配線の配置例を示す図である。It is a figure which shows the example of arrangement | positioning of the monitor wiring which concerns on 2nd Embodiment. 第2の実施の形態に係るモニタ配線の第2構成例を示す図である。It is a figure which shows the 2nd structural example of the monitor wiring which concerns on 2nd Embodiment. 第2の実施の形態に係る第2構成例のモニタ配線の応力方向と応力集中の説明図である。It is explanatory drawing of the stress direction and stress concentration of the monitor wiring of the 2nd structural example which concerns on 2nd Embodiment. 第3の実施の形態に係るモニタ配線の構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of the monitor wiring which concerns on 3rd Embodiment. 第4の実施の形態に係る半導体パッケージの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the semiconductor package which concerns on 4th Embodiment. 第5の実施の形態に係るパッケージ基板製造方法の一例を示す図(その1)である。It is FIG. (1) which shows an example of the package substrate manufacturing method which concerns on 5th Embodiment. 第5の実施の形態に係るパッケージ基板製造方法の一例を示す図(その2)である。It is FIG. (2) which shows an example of the package substrate manufacturing method which concerns on 5th Embodiment. 第6の実施の形態に係る電子装置の第1構成例を示す図である。It is a figure which shows the 1st structural example of the electronic device which concerns on 6th Embodiment. 第6の実施の形態に係る電子装置の第2構成例を示す図である。It is a figure which shows the 2nd structural example of the electronic device which concerns on 6th Embodiment. 第6の実施の形態に係る電子装置の第3構成例を示す図である。It is a figure which shows the 3rd structural example of the electronic device which concerns on 6th Embodiment.

まず、電子装置として半導体装置(半導体パッケージ)を例に、それに生じる不良の一例について述べる。
図1は半導体パッケージの一例を示す図である。図1(A)は半導体パッケージの一例の要部を透視的に見た平面模式図、図1(B)は図1(A)のL1−L1断面模式図である。
First, taking an example of a semiconductor device (semiconductor package) as an electronic device, an example of a defect that occurs will be described.
FIG. 1 is a diagram illustrating an example of a semiconductor package. FIG. 1A is a schematic plan view of a principal part of an example of a semiconductor package seen through, and FIG. 1B is a schematic cross-sectional view taken along line L1-L1 of FIG.

図1(A)及び図1(B)には、電子装置の一例として、パッケージ基板(配線基板)10上に半導体チップ(半導体素子)20が搭載された半導体パッケージ1を図示している。尚、図1(A)には、半導体パッケージ1の角部(コーナー部)の構成例を図示している。   1A and 1B illustrate a semiconductor package 1 in which a semiconductor chip (semiconductor element) 20 is mounted on a package substrate (wiring substrate) 10 as an example of an electronic device. FIG. 1A shows a configuration example of a corner portion (corner portion) of the semiconductor package 1.

パッケージ基板10は、図1(B)に示すように、基板11と、その基板11に設けられた導電部12とを有している。基板11には、コア基板とその上に設けられる絶縁層が含まれる。導電部12には、配線及びビアが含まれる。導電部12のうち、基板11上に設けられた最上層の配線12a上には、半導体チップ20と接続される部分(縦横に配列された端子12b)を除き、ソルダーレジスト等の保護膜13が設けられている。   As shown in FIG. 1B, the package substrate 10 includes a substrate 11 and a conductive portion 12 provided on the substrate 11. The substrate 11 includes a core substrate and an insulating layer provided thereon. The conductive portion 12 includes wiring and vias. Of the conductive portion 12, a protective film 13 such as a solder resist is formed on the uppermost wiring 12 a provided on the substrate 11, except for a portion connected to the semiconductor chip 20 (terminals 12 b arranged vertically and horizontally). Is provided.

半導体チップ20は、図1(B)に示すように、パッケージ基板10の端子12bに対応して縦横に配列された端子21を有している。半導体チップ20は、その端子21の配設面側が、パッケージ基板10の端子12bの配設面側に向けて配置され、対応する端子21と端子12bが半田等のバンプ30を用いて電気的に接続されている。即ち、半導体チップ20は、パッケージ基板10上にフリップチップ接続されている。   As shown in FIG. 1B, the semiconductor chip 20 has terminals 21 arranged vertically and horizontally corresponding to the terminals 12 b of the package substrate 10. The semiconductor chip 20 is disposed such that the terminal 21 is disposed on the side where the terminal 21 is disposed toward the surface 12b of the package substrate 10, and the corresponding terminal 21 and the terminal 12 b are electrically connected using bumps 30 such as solder. It is connected. That is, the semiconductor chip 20 is flip-chip connected to the package substrate 10.

バンプ30を用いて接続された半導体チップ20とパッケージ基板10の間には、図1(B)に示すように、アンダーフィル樹脂40が充填されている。
上記のような半導体パッケージ1では、パッケージ基板10及び半導体チップ20に用いられている材料の違いから、パッケージ基板10と半導体チップ20の間に、熱膨張係数差が存在する。このような半導体パッケージ1では、その使用時に熱(外部環境の熱、半導体チップ20の動作に伴い発生する熱等)が印加され、また、その熱が冷却されることで、熱膨張、熱収縮が起こり、上記熱膨張係数差に起因して、クラックが形成される場合がある。
An underfill resin 40 is filled between the semiconductor chip 20 connected using the bumps 30 and the package substrate 10 as shown in FIG.
In the semiconductor package 1 as described above, a difference in thermal expansion coefficient exists between the package substrate 10 and the semiconductor chip 20 due to a difference in materials used for the package substrate 10 and the semiconductor chip 20. In such a semiconductor package 1, heat (heat of the external environment, heat generated by the operation of the semiconductor chip 20, etc.) is applied at the time of use, and the heat is cooled so that thermal expansion and contraction are achieved. And cracks may be formed due to the difference in thermal expansion coefficient.

半導体パッケージ1に形成されるクラックの一例として、図1(B)に示すようなクラック100がある。このクラック100は、例えば、まずアンダーフィル樹脂40内に形成され、その後、使用時の加熱と冷却による熱膨張と熱収縮によってパッケージ基板10と半導体チップ20の変形が繰り返されることで、パッケージ基板10まで延びるように成長していく。加熱と冷却によるパッケージ基板10の変形、その変形による応力は、中央部よりもその外側の方が大きくなるため、クラック100は、図1(A)に示すように、より外側の領域で生じ易く、斜めに隣接するバンプ30間を結ぶ方向(同心円状)に生じ易い。パッケージ基板10まで延びたクラック100が、その内部の配線12a等を切断すると、パッケージ基板10に断線不良が発生する。クラック100はアンダーフィル樹脂40内だけでなく、ソルダーレジスト等の保護膜13内に発生する場合もある。   An example of a crack formed in the semiconductor package 1 is a crack 100 as shown in FIG. For example, the crack 100 is first formed in the underfill resin 40, and then the package substrate 10 and the semiconductor chip 20 are repeatedly deformed by thermal expansion and contraction due to heating and cooling during use. Will grow to extend. Since the deformation of the package substrate 10 due to heating and cooling and the stress due to the deformation are larger on the outer side than on the central part, the crack 100 is likely to occur in the outer region as shown in FIG. It tends to occur in a direction (concentric circle) connecting the bumps 30 adjacent to each other obliquely. When the crack 100 extending to the package substrate 10 cuts the internal wiring 12a and the like, a disconnection failure occurs in the package substrate 10. The crack 100 may occur not only in the underfill resin 40 but also in the protective film 13 such as a solder resist.

このように、半導体パッケージ1には、加熱と冷却が繰り返されることで経時的に成長するクラック100によって、パッケージ基板10で断線が発生し、不良に至る場合がある。   As described above, in the semiconductor package 1, the package substrate 10 may be disconnected due to the crack 100 that grows with time due to repeated heating and cooling, leading to defects.

尚、ここではパッケージ基板10と半導体チップ20の間にアンダーフィル樹脂40を設け、そこに形成されて成長するクラック100によって、パッケージ基板10の配線12aが断線する場合を例示する。パッケージ基板10と半導体チップ20の間には、アンダーフィル樹脂40を設けないようにすることもでき、このような場合でも、上記のようなパッケージ基板10の変形により、パッケージ基板10自体にその配線12aが断線するようなクラックが生じ得る。また、パッケージ基板10と半導体チップ20の間にアンダーフィル樹脂40を設けた場合に、アンダーフィル樹脂40からのクラックの成長ではなく、パッケージ基板10の変形によってそれ自体に生じるクラックで配線12aが断線することも起こり得る。   Here, the case where the underfill resin 40 is provided between the package substrate 10 and the semiconductor chip 20 and the wiring 12a of the package substrate 10 is disconnected due to the crack 100 formed and grown there is illustrated. The underfill resin 40 may not be provided between the package substrate 10 and the semiconductor chip 20. Even in such a case, the wiring of the package substrate 10 itself is caused by the deformation of the package substrate 10 as described above. Cracks such as disconnection of 12a may occur. In addition, when the underfill resin 40 is provided between the package substrate 10 and the semiconductor chip 20, the wiring 12 a is disconnected not by the growth of cracks from the underfill resin 40 but by the cracks generated by the deformation of the package substrate 10. It can happen.

ところで、上記のようなパッケージ基板10の断線は、発生するか否か、或いは発生する時期が、半導体パッケージ1の使用環境や動作状況によって変化し得る。そのため、パッケージ基板10の断線によって半導体パッケージ1が不良になる時期を予測することは必ずしも容易でない。パッケージ基板10の断線によって半導体パッケージ1が不良になる前に、パッケージ基板10に断線が発生する可能性が高まったことを知ることができれば、その半導体パッケージ1を交換する等の対策を講じることが可能になる。   By the way, whether or not the disconnection of the package substrate 10 as described above occurs or when it occurs may vary depending on the use environment and the operation state of the semiconductor package 1. Therefore, it is not always easy to predict when the semiconductor package 1 becomes defective due to the disconnection of the package substrate 10. If it is possible to know that the possibility of the disconnection of the package substrate 10 has increased before the semiconductor package 1 becomes defective due to the disconnection of the package substrate 10, measures such as replacement of the semiconductor package 1 can be taken. It becomes possible.

そこで、以上のような点に鑑み、半導体パッケージのパッケージ基板に、以下に実施の形態として述べるような配線(モニタ配線)を設ける。
まず、第1の実施の形態について説明する。
In view of the above, wiring (monitor wiring) described below as an embodiment is provided on the package substrate of the semiconductor package.
First, the first embodiment will be described.

図2は第1の実施の形態に係る半導体パッケージの一例を示す図である。図2(A)は第1の実施の形態に係る半導体パッケージの一例の要部を透視的に見た平面模式図、図2(B)は図2(A)のL2−L2断面模式図である。尚、図2(A)には、第1の実施の形態に係る半導体パッケージのコーナー部の構成例を図示している。また、便宜上、図2(B)では、配線として、モニタ配線以外の配線は図示を省略している。   FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a semiconductor package according to the first embodiment. FIG. 2A is a schematic plan view of a principal part of an example of the semiconductor package according to the first embodiment seen through, and FIG. 2B is a schematic L2-L2 cross-sectional view of FIG. is there. FIG. 2A shows a configuration example of the corner portion of the semiconductor package according to the first embodiment. For convenience, in FIG. 2B, wirings other than the monitor wiring are not illustrated.

図2(A)及び図2(B)に示す半導体パッケージ1Aは、パッケージ基板10Aと、パッケージ基板10A上に搭載された半導体チップ20を有している。
パッケージ基板10Aは、図2(B)に示すように、基板11と、その基板11に設けられた導電部12とを有している。基板11には、コア基板とその上に設けられる絶縁層が含まれる。導電部12には、配線及びビアが含まれる。導電部12のうち、基板11上に設けられた最上層の配線12a(信号配線、電源配線)上には、半導体チップ20と接続される部分(縦横に配列された端子12b)を除き、ソルダーレジスト等の保護膜13が設けられている。
A semiconductor package 1A shown in FIGS. 2A and 2B includes a package substrate 10A and a semiconductor chip 20 mounted on the package substrate 10A.
As shown in FIG. 2B, the package substrate 10 </ b> A includes a substrate 11 and a conductive portion 12 provided on the substrate 11. The substrate 11 includes a core substrate and an insulating layer provided thereon. The conductive portion 12 includes wiring and vias. Of the conductive portion 12, on the uppermost layer wiring 12a (signal wiring, power supply wiring) provided on the substrate 11, a portion connected to the semiconductor chip 20 (terminals 12b arranged in the vertical and horizontal directions) is excluded. A protective film 13 such as a resist is provided.

半導体チップ20は、図2(B)に示すように、パッケージ基板10の端子12bに対応して縦横に配列された端子21を有している。パッケージ基板10Aと半導体チップ20は、対応するように縦横に配列された互いの端子12bと端子21がバンプ30を用いて電気的に接続され、半導体チップ20がパッケージ基板10上にフリップチップ接続されている。   As shown in FIG. 2B, the semiconductor chip 20 has terminals 21 arranged vertically and horizontally corresponding to the terminals 12b of the package substrate 10. The package substrate 10 </ b> A and the semiconductor chip 20 are electrically connected to each other using bumps 30 between the terminals 12 b and the terminals 21 that are arranged vertically and horizontally to correspond to each other, and the semiconductor chip 20 is flip-chip connected to the package substrate 10. ing.

半導体チップ20とパッケージ基板10の間には、図2(B)に示すように、アンダーフィル樹脂40が充填されている。
半導体パッケージ1Aのパッケージ基板10Aには、図2(A)及び図2(B)に示すように、半導体チップ20が搭載される領域(搭載領域)ARに、モニタ配線50が設けられている。モニタ配線50の両端には、モニタ端子60及びモニタ端子70が設けられている。モニタ配線50、モニタ端子60及びモニタ端子70は、例えば、パッケージ基板10Aの基板11上に設けられる最上層の配線12a及び端子12bと同じ層内に設けられる。モニタ配線50、モニタ端子60及びモニタ端子70には、例えば、最上層の配線12a及び端子12bと同じ材料が用いられる。モニタ端子60及びモニタ端子70は、例えば、端子12b群と共に、基板11上に縦横に配列されて設けられる。
As shown in FIG. 2B, an underfill resin 40 is filled between the semiconductor chip 20 and the package substrate 10.
On the package substrate 10A of the semiconductor package 1A, as shown in FIGS. 2A and 2B, a monitor wiring 50 is provided in a region (mounting region) AR on which the semiconductor chip 20 is mounted. A monitor terminal 60 and a monitor terminal 70 are provided at both ends of the monitor wiring 50. For example, the monitor wiring 50, the monitor terminal 60, and the monitor terminal 70 are provided in the same layer as the uppermost wiring 12a and the terminal 12b provided on the substrate 11 of the package substrate 10A. For example, the same material as the uppermost wiring 12a and the terminal 12b is used for the monitor wiring 50, the monitor terminal 60, and the monitor terminal 70. For example, the monitor terminal 60 and the monitor terminal 70 are arranged on the substrate 11 in the vertical and horizontal directions together with the terminal 12b group.

モニタ配線50は、図2(A)及び図2(B)に示すように、縦横に配列される端子12b群内の、隣接する端子12b間の領域(それらに接続されるバンプ30間に対応する領域)を通るように、設けられている。上記のように、配線12aの断線を引き起こし得るクラックは、パッケージ基板10の中央部よりも比較的変形が大きくなる外側の領域で生じ易く、斜めに隣接するバンプ30間を結ぶ方向D(図2(A)に鎖線で図示)に生じ易い。そのため、モニタ配線50は、例えば、図2(A)及び図2(B)に示すように、パッケージ基板10Aのコーナー部のような端部領域に、クラックが生じ易い方向Dと交差するようにして、設けられる。   As shown in FIGS. 2A and 2B, the monitor wiring 50 corresponds to a region between adjacent terminals 12b in a group of terminals 12b arranged vertically and horizontally (between the bumps 30 connected to them). Area). As described above, a crack that can cause disconnection of the wiring 12a is likely to occur in an outer region where deformation is relatively larger than the central portion of the package substrate 10, and a direction D (see FIG. 2) connecting the bumps 30 adjacent to each other diagonally. (A) is easy to occur. Therefore, for example, as shown in FIGS. 2 (A) and 2 (B), the monitor wiring 50 intersects the end region such as the corner portion of the package substrate 10A with a direction D where a crack is likely to occur. Provided.

モニタ配線50は、パッケージ基板10Aの加熱及び冷却に伴う変形により生じる応力に対し、基板11上の最上層の配線12a及び基板11内層の配線12c(信号配線、電源配線)に比べて、より小さな応力で断線が起こるような構造とされる。   The monitor wiring 50 is smaller than the wiring 12a on the uppermost layer on the substrate 11 and the wiring 12c (signal wiring, power supply wiring) on the inner layer of the substrate 11 with respect to the stress caused by deformation due to heating and cooling of the package substrate 10A. The structure is such that disconnection occurs due to stress.

図3は第1の実施の形態に係るモニタ配線の第1構成例を示す図である。図3(A)は第1の実施の形態に係るモニタ配線の第1構成例の要部平面模式図、図3(B)は図3(A)のモニタ配線が切断された状態の一例の要部平面模式図である。   FIG. 3 is a diagram illustrating a first configuration example of the monitor wiring according to the first embodiment. FIG. 3A is a schematic plan view of an essential part of the first configuration example of the monitor wiring according to the first embodiment, and FIG. 3B is an example of a state in which the monitor wiring of FIG. It is a principal part plane schematic diagram.

図3(A)に示すモニタ配線50は、その長手方向(配線長方向)Xに延びる中心線C上に配列された、少なくとも1つ、ここでは一例として複数の円形状の孔51aを有している。例えば、複数の孔51aのサイズ(径)は同一又は略同一とされ、孔51aからモニタ配線50の短手方向(配線幅方向)Yのエッジ52及びエッジ53までの距離d1及び距離d2が同一又は略同一とされる。   The monitor wiring 50 shown in FIG. 3A has at least one, here a plurality of circular holes 51a, as an example, arranged on a center line C extending in the longitudinal direction (wiring length direction) X. ing. For example, the sizes (diameters) of the plurality of holes 51a are the same or substantially the same, and the distance d1 and the distance d2 from the hole 51a to the edge 52 and the edge 53 in the short direction (wiring width direction) Y of the monitor wiring 50 are the same. Or it is made substantially the same.

このような構成を有するモニタ配線50に対し、パッケージ基板10Aの変形によって配線長方向Xの応力が印加された場合を想定する。この場合、モニタ配線50には、孔51aとエッジ52及びエッジ53との間の部位、即ち、部分的に配線幅が狭くなっている部位54及び部位55(図3(A)の点線で囲んだ部位)に応力が集中し易くなる。モニタ配線50に、このように応力が集中し易い部位54及び部位55を設けておくことで、配線長方向Xの応力が印加された時には、図3(B)に示すように、その部位54及び部位55でモニタ配線50が断線し易くなる。   Assume that a stress in the wiring length direction X is applied to the monitor wiring 50 having such a configuration by deformation of the package substrate 10A. In this case, the monitor wiring 50 is surrounded by a portion between the hole 51a and the edge 52 and the edge 53, that is, a portion 54 and a portion 55 in which the wiring width is partially narrowed (dotted line in FIG. 3A). The stress tends to concentrate on the part). By providing the monitor wiring 50 with the portion 54 and the portion 55 where stress is easily concentrated, when the stress in the wiring length direction X is applied, as shown in FIG. In addition, the monitor wiring 50 is easily disconnected at the portion 55.

モニタ配線50は、例えば、パッケージ基板10Aの、端子12b(バンプ30)に接続される信号配線等の配線12a及び内層の配線12cと同一又は略同一の配線幅とすることができる。信号配線等の配線12a及び配線12cには、このモニタ配線50のような孔51aは設けない。そして、パッケージ基板10Aには、孔51aを有することで所定の部位54及び部位55で応力が集中し易くそこで断線し易いモニタ配線50を、上記図2(A)のように、クラックが生じ易い方向Dと交差するように設ける。孔51aを有するモニタ配線50を、クラックが生じ易い方向Dと交差するように設けることで、パッケージ基板10Aの変形によって所定の方向(方向Dと交差する方向)に生じる応力に対し、信号配線等の配線12a及び配線12cよりも先にモニタ配線50が断線し易くなる。   For example, the monitor wiring 50 can have the same or substantially the same wiring width as the wiring 12a such as the signal wiring connected to the terminal 12b (bump 30) and the inner layer wiring 12c of the package substrate 10A. Holes 51a like the monitor wiring 50 are not provided in the wiring 12a and the wiring 12c such as signal wiring. The package substrate 10A has a hole 51a, so that stress is easily concentrated at the predetermined portion 54 and the portion 55, and the monitor wiring 50 that is likely to be disconnected there is easily cracked as shown in FIG. 2A. Provided to intersect with direction D. By providing the monitor wiring 50 having the holes 51a so as to intersect the direction D where cracks are likely to occur, signal wiring and the like against stress generated in a predetermined direction (direction intersecting the direction D) due to deformation of the package substrate 10A. The monitor wiring 50 is likely to break before the wiring 12a and the wiring 12c.

モニタ配線50には、モニタ端子60及びモニタ端子70を用いて、電気信号、例えば、一定の電圧を印加したり一定の電流を流したりしておき、その電気信号をモニタすることで、モニタ配線50の断線の有無を検出する。モニタ配線50は、信号配線等の配線12a及び配線12cよりも断線し易いため、電気信号をモニタしてその断線を検出することで、配線12a等が断線する前に、より断線し易いモニタ配線50が断線するような応力がパッケージ基板10Aに生じたことを知ることが可能になる。   The monitor wiring 50 uses the monitor terminal 60 and the monitor terminal 70 to apply an electrical signal, for example, a constant voltage or a constant current, and monitor the electrical signal to monitor wiring. The presence or absence of 50 breaks is detected. Since the monitor wiring 50 is easier to disconnect than the wiring 12a and the wiring 12c such as the signal wiring, the monitor wiring is more easily disconnected before the wiring 12a is disconnected by monitoring the electrical signal and detecting the disconnection. It becomes possible to know that the stress that breaks 50 occurs in the package substrate 10A.

つまり、モニタ配線50の断線を検出することで、配線12a等が断線する前にその断線の可能性が高まったこと、半導体パッケージ1Aが不良になる可能性が高まったことを知り、配線12a等の断線、半導体パッケージ1Aの不良を未然に防ぐことが可能になる。或いは、モニタ配線50の断線を検出することで、配線12a等の断線、半導体パッケージ1Aの不良を、早期に発見することが可能になる。   That is, by detecting the disconnection of the monitor wiring 50, it is known that the possibility of the disconnection before the wiring 12a or the like is disconnected and the possibility that the semiconductor package 1A becomes defective is increased. It is possible to prevent the disconnection of the semiconductor package and the defect of the semiconductor package 1A. Alternatively, by detecting the disconnection of the monitor wiring 50, it is possible to detect the disconnection of the wiring 12a and the like and the defect of the semiconductor package 1A at an early stage.

尚、上記のような孔51aを有するモニタ配線50は、パッケージ基板10A内の任意の箇所に設けることが可能である。但し、信号配線等の配線12a及び配線12cの断線、半導体パッケージ1Aの不良を未然に防ぐ、或いは早期に発見するためには、上記のように、クラックが生じ易い方向Dと交差するように設けることが好ましい。更に、半導体パッケージ1Aにおいて、パッケージ基板10Aの変形によって生じる応力は、平面方向については、半導体チップ20の搭載領域の中央部よりも端部で大きくなり、また、厚み方向については、基板11の内層よりも表層で大きくなる。そのため、上記のような孔51aを有するモニタ配線50は、パッケージ基板10Aの端部に設けることが好ましく、また、基板11の表層に設けることが好ましい。更に、配線12a等を断線させるクラックは、パッケージ基板10Aの、半導体チップ20の搭載領域ARで生じ易いため、そのような搭載領域ARに上記のような孔51aを有するモニタ配線50を設けることが好ましい。   Note that the monitor wiring 50 having the hole 51a as described above can be provided at any location in the package substrate 10A. However, in order to prevent disconnection of the wiring 12a and the wiring 12c such as signal wiring and the defect of the semiconductor package 1A in advance or to find out early, the wiring 12a and the wiring 12c are provided so as to intersect with the direction D in which cracks are likely to occur as described above. It is preferable. Further, in the semiconductor package 1A, the stress generated by the deformation of the package substrate 10A is larger at the end than in the center of the mounting region of the semiconductor chip 20 in the plane direction, and the inner layer of the substrate 11 in the thickness direction. Than the surface layer. Therefore, the monitor wiring 50 having the hole 51a as described above is preferably provided at the end portion of the package substrate 10A, and is preferably provided on the surface layer of the substrate 11. Furthermore, since a crack that breaks the wiring 12a and the like is likely to occur in the mounting area AR of the semiconductor chip 20 of the package substrate 10A, the monitor wiring 50 having the hole 51a as described above is provided in the mounting area AR. preferable.

上記のように、孔51aを有するモニタ配線50は、孔51aとエッジ52及びエッジ53との間の部位54及び部位55に応力が集中し易い構造とし、その部位54及び部位55で断線し易い構造としている。このようなモニタ配線50では、孔51aのサイズ(径)を調整することで、断線のし易さ、断線する応力の大きさを調整することができる。   As described above, the monitor wiring 50 having the hole 51a has a structure in which stress is easily concentrated on the portion 54 and the portion 55 between the hole 51a and the edge 52 and the edge 53, and is easily disconnected at the portion 54 and the portion 55. It has a structure. In such monitor wiring 50, by adjusting the size (diameter) of the hole 51a, the ease of disconnection and the magnitude of the stress to be disconnected can be adjusted.

図4は第1の実施の形態に係るモニタ配線の第1変形例を示す図である。図4(A)及び図4(B)は第1の実施の形態に係るモニタ配線の第1変形例の要部平面模式図である。   FIG. 4 is a diagram illustrating a first modification of the monitor wiring according to the first embodiment. FIGS. 4A and 4B are schematic plan views of relevant parts of a first modification of the monitor wiring according to the first embodiment.

モニタ配線50に設ける孔51aのサイズを大きくすれば、図4(A)に示すように、孔51aから配線幅方向Yのエッジ52及びエッジ53までの距離d1及び距離d2が短くなり、部位54及び部位55の幅が狭くなる。そのため、孔51aのサイズを大きくしたモニタ配線50は、より小さな応力で断線するようになる。逆に、モニタ配線50に設ける孔51aのサイズを小さくすれば、図4(B)に示すように、距離d1及び距離d2が長くなり、部位54及び部位55の幅が広くなるため、モニタ配線50は、より大きな応力で断線するようになる。モニタ配線50に設ける孔51aのサイズは、パッケージ基板10Aに生じ得る応力に基づいて、設定することができる。   If the size of the hole 51a provided in the monitor wiring 50 is increased, the distance d1 and the distance d2 from the hole 51a to the edge 52 and the edge 53 in the wiring width direction Y are shortened as shown in FIG. And the width | variety of the site | part 55 becomes narrow. Therefore, the monitor wiring 50 in which the size of the hole 51a is increased is disconnected with a smaller stress. On the contrary, if the size of the hole 51a provided in the monitor wiring 50 is reduced, the distance d1 and the distance d2 become longer and the widths of the portion 54 and the portion 55 become wider as shown in FIG. 50 becomes disconnected by a larger stress. The size of the hole 51a provided in the monitor wiring 50 can be set based on the stress that can occur in the package substrate 10A.

また、モニタ配線50の、断線する応力の大きさは、設ける孔51aのサイズのほか、形状によって調整することもできる。
図5は第1の実施の形態に係るモニタ配線の第2構成例を示す図である。図5(A)は第1の実施の形態に係るモニタ配線の第2構成例の要部平面模式図、図5(B)は図5(A)のモニタ配線が切断された状態の一例の要部平面模式図である。
Further, the magnitude of the disconnecting stress of the monitor wiring 50 can be adjusted by the shape of the hole 51a provided.
FIG. 5 is a diagram illustrating a second configuration example of the monitor wiring according to the first embodiment. FIG. 5A is a schematic plan view of a main part of the second configuration example of the monitor wiring according to the first embodiment, and FIG. 5B is an example of a state in which the monitor wiring of FIG. It is a principal part plane schematic diagram.

モニタ配線50には、上記のような円形状の孔51aのほか、図5(A)に示すような菱形状の孔51bを設けることもできる。このような菱形状の孔51bは、モニタ配線50に少なくとも1つ設けることができ、ここでは一例として複数の孔51bを設けた場合を例示している。例えば、複数の孔51bのサイズは同一又は略同一とされる。孔51bは、図5(A)に示すように、一対の対向する頂点が配線長方向Xに延びる中心線C上に位置するように配列され、もう一対の対向する頂点から配線幅方向Yのエッジ52及びエッジ53までの距離d3及び距離d4が同一又は略同一とされる。   In addition to the circular hole 51a as described above, the monitor wiring 50 may be provided with a diamond-shaped hole 51b as shown in FIG. Such a diamond-shaped hole 51b can be provided in the monitor wiring 50, and here, a case where a plurality of holes 51b are provided is illustrated as an example. For example, the sizes of the plurality of holes 51b are the same or substantially the same. As shown in FIG. 5A, the holes 51b are arranged such that a pair of opposing vertices are positioned on a center line C extending in the wiring length direction X, and the other pair of opposing vertices are arranged in the wiring width direction Y. The distance d3 and the distance d4 to the edge 52 and the edge 53 are the same or substantially the same.

このような菱形状の孔51bを設けたモニタ配線50では、パッケージ基板10Aの変形によって配線長方向Xの応力が印加された時に、孔51aの対向する頂点とエッジ52及びエッジ53との間の部位54及び部位55に応力が集中し易くなる。そして、図5(B)に示すように、その部位54及び部位55でモニタ配線50が断線し易くなる。   In the monitor wiring 50 provided with such a diamond-shaped hole 51b, when stress in the wiring length direction X is applied by deformation of the package substrate 10A, the gap between the opposing vertex of the hole 51a and the edge 52 and the edge 53 is reduced. The stress tends to concentrate on the part 54 and the part 55. Then, as shown in FIG. 5B, the monitor wiring 50 is easily disconnected at the part 54 and the part 55.

図6は第1の実施の形態に係るモニタ配線の感度の説明図である。
図6には、円形状の孔51aを設けたモニタ配線50(M1)と、菱形状の孔51bを設けたモニタ配線50(M2)の、断線する応力(F)の相対的な大きさを示している。尚、ここでは、円形状の孔51aを設けた場合のエッジ52及びエッジ53までの距離d1及び距離d2と、菱形状の孔51bを設けた場合のエッジ52及びエッジ53までの距離d3及び距離d4を同じにしている。図6に示すように、菱形状の孔51bを設けた場合には、円形状の孔51aを設けた場合に比べて、断線に至るまでの応力が相対的に大きくなる。
FIG. 6 is an explanatory diagram of the sensitivity of the monitor wiring according to the first embodiment.
FIG. 6 shows the relative magnitude of the disconnecting stress (F) between the monitor wiring 50 (M1) provided with the circular hole 51a and the monitor wiring 50 (M2) provided with the diamond-shaped hole 51b. Show. Here, the distance d1 and distance d2 to the edge 52 and the edge 53 when the circular hole 51a is provided, and the distance d3 and the distance to the edge 52 and the edge 53 when the diamond-shaped hole 51b is provided. d4 is made the same. As shown in FIG. 6, when the diamond-shaped hole 51b is provided, the stress until disconnection is relatively larger than when the circular hole 51a is provided.

このようにモニタ配線50に設ける孔の形状によって、モニタ配線50の断線のし易さ(感度)を調整することができる。半導体パッケージ1Aのパッケージ基板10Aに生じ得る応力に基づき、上記図2(A)のモニタ配線50として、上記図5に示すような菱形状の孔51bを有するものを配置してもよい。   Thus, the ease of disconnection (sensitivity) of the monitor wiring 50 can be adjusted by the shape of the hole provided in the monitor wiring 50. Based on the stress that can occur in the package substrate 10A of the semiconductor package 1A, the monitor wiring 50 shown in FIG. 2A may be provided with a diamond-shaped hole 51b as shown in FIG.

また、図7は第1の実施の形態に係るモニタ配線の配置例を示す図である。図7は第1の実施の形態に係る半導体パッケージの一例の要部を透視的に見た平面模式図である。尚、図7には、第1の実施の形態に係る半導体パッケージのコーナー部の構成例を図示している。   FIG. 7 is a view showing an example of the arrangement of monitor wirings according to the first embodiment. FIG. 7 is a schematic plan view of a principal part of an example of the semiconductor package according to the first embodiment seen through. FIG. 7 shows a configuration example of the corner portion of the semiconductor package according to the first embodiment.

上記のように、半導体パッケージ1Aにおいて、パッケージ基板10Aの変形によって生じる応力は、平面方向については、半導体チップ20の搭載領域ARの中央部よりも端部で大きくなる。そこで、上記図6の知見に基づき、図7に示すように、パッケージ基板10Aの、半導体チップ20の搭載領域ARの端部に対応する、比較的大きな応力が生じる領域(端部領域)10Aaには、円形状の孔51aを設けたモニタ配線50を配置する。一方、パッケージ基板10Aの端部領域10Aaよりも内部の、比較的小さな応力が生じる領域(内部領域)10Abには、菱形状の孔51bを設けたモニタ配線50を配置する。   As described above, in the semiconductor package 1A, the stress generated by the deformation of the package substrate 10A is larger at the end than in the center of the mounting area AR of the semiconductor chip 20 in the planar direction. Therefore, based on the knowledge shown in FIG. 6, as shown in FIG. 7, a region (end region) 10 </ b> Aa in which a relatively large stress is generated corresponding to the end of the mounting region AR of the semiconductor chip 20 of the package substrate 10 </ b> A. Arranges the monitor wiring 50 provided with a circular hole 51a. On the other hand, a monitor wiring 50 provided with a diamond-shaped hole 51b is arranged in a region (internal region) 10Ab in which a relatively small stress is generated inside the end region 10Aa of the package substrate 10A.

このように形状の異なる孔51a及び孔51bを設けたモニタ配線50を配置することで、パッケージ基板10Aの、半導体チップ20の搭載領域ARにおける、モニタ配線50による断線検出感度の均一化を図ることができる。   By arranging the monitor wiring 50 provided with the holes 51a and 51b having different shapes in this way, the disconnection detection sensitivity by the monitor wiring 50 in the mounting area AR of the semiconductor chip 20 of the package substrate 10A is made uniform. Can do.

尚、端部領域10Aaに菱形状の孔51bを設けたモニタ配線50を配置し、内部領域10Abに円形状の孔51aを設けたモニタ配線50を配置してもよい。
また、モニタ配線50に、上記図5で述べたような菱形状の孔51bを設ける場合も、上記図4で円形状の孔51aについて述べたのと同様に、菱形状の孔51bのサイズを調整することで、断線する応力の大きさを調整することができる。
Note that the monitor wiring 50 provided with the diamond-shaped holes 51b may be arranged in the end region 10Aa, and the monitor wiring 50 provided with the circular holes 51a may be arranged in the inner region 10Ab.
In addition, when the monitor wiring 50 is provided with the diamond-shaped hole 51b as described in FIG. 5, the size of the diamond-shaped hole 51b is set in the same manner as described for the circular hole 51a in FIG. By adjusting, the magnitude of the breaking stress can be adjusted.

端部領域10Aaと内部領域10Abには、形状は同じで、サイズが異なる孔51a又は51bを設けたモニタ配線50を配置してもよい。
また、上記図3及び図5には、円形状の孔51a、菱形状の孔51bを、それぞれ中心線C上に1列で設ける場合を例示したが、孔51a、孔51bは、それぞれ複数列設けることもできる。
Monitor wiring 50 provided with holes 51a or 51b having the same shape but different sizes may be disposed in the end region 10Aa and the inner region 10Ab.
3 and 5 illustrate the case where the circular holes 51a and the diamond-shaped holes 51b are provided in one row on the center line C, respectively, the holes 51a and the holes 51b each include a plurality of rows. It can also be provided.

図8は第1の実施の形態に係るモニタ配線の第2変形例を示す図、図9は第1の実施の形態に係るモニタ配線の第3変形例を示す図である。図8及び図9はそれぞれ、第1の実施の形態に係るモニタ配線の第2変形例及び第3変形例の要部平面模式図である。   FIG. 8 is a diagram showing a second modification of the monitor wiring according to the first embodiment, and FIG. 9 is a diagram showing a third modification of the monitor wiring according to the first embodiment. FIG. 8 and FIG. 9 are schematic plan views of main parts of a second modification and a third modification of the monitor wiring according to the first embodiment, respectively.

モニタ配線50には、図8に示すように、円形状の孔51aを複数列(ここでは一例として2列)、設けることができる。この場合、孔51aは、互いの列の孔51a同士が、所定の方向、例えば、クラックが生じ易い方向Dに並ぶように設けたり、或いはここでは図示を省略するが、配線幅方向Yに並ぶように設けたりすることもできる。   As shown in FIG. 8, the monitor wiring 50 can be provided with a plurality of circular holes 51 a (here, two rows as an example). In this case, the holes 51a are provided so that the holes 51a in the respective rows are arranged in a predetermined direction, for example, the direction D in which cracks are likely to occur, or are arranged in the wiring width direction Y, although illustration is omitted here. It can also be provided.

また、モニタ配線50には、図9に示すように、菱形状の孔51bを複数列(ここでは一例として2列)、設けることができる。この場合、孔51bは、互いの列の孔51b同士が、所定の方向、例えば、クラックが生じ易い方向Dに並ぶように設けたり、或いはここでは図示を省略するが、配線幅方向Yに並ぶように設けたりすることもできる。   Further, as shown in FIG. 9, the monitor wiring 50 can be provided with a plurality of rows of rhombus holes 51b (here, two rows as an example). In this case, the holes 51b are provided so that the holes 51b in the respective rows are arranged in a predetermined direction, for example, the direction D in which cracks are likely to occur, or are arranged in the wiring width direction Y although illustration is omitted here. It can also be provided.

以上述べたパッケージ基板10Aのモニタ配線50には、上記のように、モニタ端子60及びモニタ端子70を用いて、所定の電気信号を供給し、その電気信号をモニタすることで、モニタ配線50の断線の有無を検出することができる。このようなモニタ配線50への電気信号の供給とその電気信号のモニタを行う機能部(モニタ部)は、半導体パッケージ1A、或いは半導体パッケージ1Aを用いた電子装置に設けることができる。   As described above, a predetermined electrical signal is supplied to the monitor wiring 50 of the package substrate 10A described above using the monitor terminal 60 and the monitor terminal 70, and the electrical signal is monitored. The presence or absence of disconnection can be detected. Such a function unit (monitor unit) that supplies an electrical signal to the monitor wiring 50 and monitors the electrical signal can be provided in the semiconductor package 1A or an electronic device using the semiconductor package 1A.

図10はモニタ部の構成例を示す図である。図11はモニタ部を設けた半導体パッケージの一例を示す図、図12はモニタ部を設けた電子装置の一例を示す図である。図11及び図12にはそれぞれ、半導体パッケージ及び電子装置の断面を模式的に図示している。   FIG. 10 is a diagram illustrating a configuration example of the monitor unit. FIG. 11 is a diagram illustrating an example of a semiconductor package provided with a monitor unit, and FIG. 12 is a diagram illustrating an example of an electronic device provided with a monitor unit. 11 and 12 schematically show cross sections of the semiconductor package and the electronic device, respectively.

図10に示すモニタ部80は、電気信号供給部81、電気信号検出部82、導通判定部83、及び断線情報出力部84を含む。
電気信号供給部81は、電源(VDD)に接続される。電気信号供給部81は、モニタ端子60及びモニタ端子70に接続され、モニタ端子60とモニタ端子70の間のモニタ配線50に所定の電気信号を供給する。電気信号供給部81は、例えば、モニタ端子60とモニタ端子70の間(モニタ配線50)に一定の電圧を印加し、或いは、モニタ端子60とモニタ端子70の間(モニタ配線50)に一定の電流を流す。
10 includes an electrical signal supply unit 81, an electrical signal detection unit 82, a continuity determination unit 83, and a disconnection information output unit 84.
The electric signal supply unit 81 is connected to a power supply (VDD). The electrical signal supply unit 81 is connected to the monitor terminal 60 and the monitor terminal 70 and supplies a predetermined electrical signal to the monitor wiring 50 between the monitor terminal 60 and the monitor terminal 70. For example, the electric signal supply unit 81 applies a constant voltage between the monitor terminal 60 and the monitor terminal 70 (monitor wiring 50) or constant between the monitor terminal 60 and the monitor terminal 70 (monitor wiring 50). Apply current.

電気信号検出部82は、電気信号供給部81によってモニタ配線50に供給される電気信号を検出する。
導通判定部83は、電気信号検出部82によって検出される電気信号に基づき、モニタ配線50の断線の有無を判定する。導通判定部83は、例えば、電気信号としてモニタ配線50に供給され電気信号検出部82によって検出された電圧或いは電流の変化に基づき、モニタ配線50が導通しているか否かを判定し、その断線の有無を判定する。
The electric signal detector 82 detects an electric signal supplied to the monitor wiring 50 by the electric signal supplier 81.
The continuity determination unit 83 determines whether the monitor wiring 50 is disconnected based on the electrical signal detected by the electrical signal detection unit 82. The continuity determination unit 83 determines, for example, whether or not the monitor wiring 50 is conductive based on a change in voltage or current supplied to the monitor wiring 50 as an electrical signal and detected by the electrical signal detection unit 82, and the disconnection thereof. The presence or absence of is determined.

断線情報出力部84は、導通判定部83によってモニタ配線50が断線していると判定された場合、モニタ配線50の断線を示す情報(DATA)をモニタ部80の外部に出力する。   When the continuity determination unit 83 determines that the monitor wiring 50 is disconnected, the disconnection information output unit 84 outputs information indicating the disconnection of the monitor wiring 50 (DATA) to the outside of the monitor unit 80.

上記のような構成を有するモニタ部80は、例えば、図11に示すように、パッケージ基板10Aに搭載される半導体チップ20に内蔵することができる。
図11に示す半導体パッケージ1Aでは、モニタ配線50両端のモニタ端子60及びモニタ端子70が、バンプ30を介して、半導体チップ20の端子21に電気的に接続される。モニタ端子60及びモニタ端子70が電気的に接続された半導体チップ20の端子21に、上記図10のようなモニタ部80(その電気信号供給部81)が、半導体チップ20内に設けられた配線22を介して、電気的に接続される。モニタ部80は、パッケージ基板10Aの端子12b、バンプ30、半導体チップ20の端子21及び配線22を介して、電源(VDD)に電気的に接続される。モニタ部80(その断線情報出力部84)から出力される、モニタ配線50の断線を示す情報(DATA)は、配線22、端子21、バンプ30を介して、パッケージ基板10A側に出力される。
For example, as shown in FIG. 11, the monitor unit 80 having the above-described configuration can be built in the semiconductor chip 20 mounted on the package substrate 10A.
In the semiconductor package 1 </ b> A shown in FIG. 11, the monitor terminals 60 and the monitor terminals 70 at both ends of the monitor wiring 50 are electrically connected to the terminals 21 of the semiconductor chip 20 through the bumps 30. The monitor unit 80 (its electrical signal supply unit 81) as shown in FIG. 10 is connected to the terminal 21 of the semiconductor chip 20 to which the monitor terminal 60 and the monitor terminal 70 are electrically connected. 22 is electrically connected. The monitor unit 80 is electrically connected to the power supply (VDD) via the terminals 12b of the package substrate 10A, the bumps 30, the terminals 21 of the semiconductor chip 20, and the wirings 22. The information (DATA) indicating the disconnection of the monitor wiring 50 output from the monitor unit 80 (the disconnection information output unit 84) is output to the package substrate 10A side via the wiring 22, the terminal 21, and the bump 30.

このように半導体チップ20に内蔵されたモニタ部80を用いて、パッケージ基板10Aのモニタ配線50の導通状態をモニタし、その断線の有無についての情報を取得する。
また、モニタ部80は、例えば、図12に示すように、半導体パッケージ1Aを配線基板(ボード)上に搭載して電子装置2を得る場合の、そのボード3上に設けることもできる。
Thus, using the monitor unit 80 built in the semiconductor chip 20, the conduction state of the monitor wiring 50 of the package substrate 10 </ b> A is monitored, and information about the presence or absence of the disconnection is acquired.
Further, for example, as shown in FIG. 12, the monitor unit 80 can also be provided on the board 3 when the electronic device 2 is obtained by mounting the semiconductor package 1A on a wiring board (board).

図12に示す電子装置2は、半導体パッケージ1Aと、半導体パッケージ1Aが搭載されたボード3を含む。半導体パッケージ1Aは、バンプ31を介してボード3に電気的に接続される。このボード3上に、上記図10のようなモニタ部80が搭載される。モニタ配線50両端のモニタ端子60及びモニタ端子70は、パッケージ基板10A内の導電部12及びバンプ31を介して、ボード3の端子3b及び配線3aに電気的に接続され、この配線3aにモニタ部80(その電気信号供給部81)が電気的に接続される。モニタ部80は、配線3aを介して、電源(VDD)に電気的に接続され、また、モニタ部80(その断線情報出力部84)から出力される、モニタ配線50の断線を示す情報(DATA)は、配線3aを介して、ボード3側に出力される。   The electronic device 2 shown in FIG. 12 includes a semiconductor package 1A and a board 3 on which the semiconductor package 1A is mounted. The semiconductor package 1 </ b> A is electrically connected to the board 3 through the bumps 31. A monitor unit 80 as shown in FIG. 10 is mounted on the board 3. The monitor terminal 60 and the monitor terminal 70 at both ends of the monitor wiring 50 are electrically connected to the terminal 3b and the wiring 3a of the board 3 through the conductive part 12 and the bump 31 in the package substrate 10A, and the monitor part is connected to the wiring 3a. 80 (the electric signal supply unit 81) is electrically connected. The monitor unit 80 is electrically connected to the power supply (VDD) via the wiring 3a, and is information (DATA) indicating disconnection of the monitor wiring 50 output from the monitor unit 80 (its disconnection information output unit 84). ) Is output to the board 3 side via the wiring 3a.

このように電子装置2のボード3に搭載されたモニタ部80を用いて、パッケージ基板10Aのモニタ配線50の導通状態をモニタし、その断線の有無についての情報を取得する。   As described above, the monitor unit 80 mounted on the board 3 of the electronic device 2 is used to monitor the conduction state of the monitor wiring 50 of the package substrate 10A and acquire information about the presence or absence of the disconnection.

尚、パッケージ基板10A内には、複数のモニタ配線50並びにその両端のモニタ端子60及びモニタ端子70が設けられてもよい。この場合には、例えば、各モニタ配線50にモニタ部80を接続する、或いは、各モニタ配線50を直列又は並列に接続して所定の一対の終端(モニタ端子)にモニタ部80を接続する。   In the package substrate 10A, a plurality of monitor wires 50 and monitor terminals 60 and 70 at both ends thereof may be provided. In this case, for example, the monitor unit 80 is connected to each monitor wiring 50, or the monitor units 80 are connected in series or in parallel to connect the monitor unit 80 to a predetermined pair of terminals (monitor terminals).

ところで、パッケージ基板10Aには、複数方向に応力が生じ得る。このような複数方向の応力に対して感度を持たせるため、上記のような孔51aや孔51bを設けたモニタ配線50を、次の図13のように配置することもできる。   By the way, the package substrate 10A can be stressed in a plurality of directions. In order to give sensitivity to such stresses in a plurality of directions, the monitor wiring 50 provided with the holes 51a and 51b as described above can be arranged as shown in FIG.

図13は第1の実施の形態に係るモニタ配線の別の配置例を示す図である。図13は第1の実施の形態に係る半導体パッケージの一例の要部を透視的に見た平面模式図である。
上記のような孔51aや孔51bを設けたモニタ配線50は、配線長方向Xの応力によって図3(B)や図5(B)のように断線し易く、換言すれば、配線幅方向Yよりも配線長方向Xの応力に対して比較的感度が高い。パッケージ基板10Aにその中央部から外側に向かって応力が生じる場合であれば、図13に示すように、モニタ配線50を、応力に対して比較的感度が高い配線長方向Xがパッケージ基板10Aの中央部から外側に向かう方向となるように、配置する。尚、図13には、モニタ配線50が持つ感度の方向を矢印で図示している。
FIG. 13 is a diagram illustrating another arrangement example of the monitor wiring according to the first embodiment. FIG. 13 is a schematic plan view of a principal part of an example of the semiconductor package according to the first embodiment seen through.
The monitor wiring 50 provided with the holes 51a and 51b as described above is easily disconnected as shown in FIGS. 3B and 5B due to the stress in the wiring length direction X, in other words, in the wiring width direction Y. Is relatively sensitive to stress in the wiring length direction X. If stress is generated in the package substrate 10A from the central portion to the outside, as shown in FIG. 13, the monitor wiring 50 has a relatively high sensitivity to the stress in the wiring length direction X of the package substrate 10A. It arrange | positions so that it may become a direction which goes outside from a center part. In FIG. 13, the direction of sensitivity of the monitor wiring 50 is indicated by arrows.

モニタ配線50を図13のように配置することで、パッケージ基板10Aの複数方向に生じる応力による断線を感度良く検出することができる。
次に、第2の実施の形態について説明する。
By disposing the monitor wiring 50 as shown in FIG. 13, it is possible to detect disconnection due to stress generated in a plurality of directions of the package substrate 10A with high sensitivity.
Next, a second embodiment will be described.

図14は第2の実施の形態に係るモニタ配線の第1構成例を示す図である。図14は第2の実施の形態に係るモニタ配線の第1構成例の要部平面模式図である。
図14に示すモニタ配線50は、上記同様、配線長方向Xに延びる中心線C上に配列された、複数の円形状の孔51aを有する。そして、この図14に示すモニタ配線50は、配線長方向Xと交差(直交)する方向D1(Y)の、孔51aからそれを挟んだ両側のエッジ52及びエッジ53までの距離d5及び距離d6が、同一又は略同一になるような形状(円弧状の外形部分)を有している。図14に示すモニタ配線50は更に、配線長方向Xと交差する別の方向D2の、孔51aからそれを挟んだ両側のエッジ52及びエッジ53までの距離d7及び距離d8が、同一又は略同一になるような形状(円弧状の外形部分)を有している。図14に示すモニタ配線50は更に、配線長方向Xと交差する更に別の方向D3の、孔51aからそれを挟んだ両側のエッジ52及びエッジ53までの距離d9及び距離d10が、同一又は略同一になるような形状(円弧状の外形部分)を有している。図14に示すモニタ配線50において、エッジ52及びエッジ53は、例えば、距離d5及び距離d6、距離d7及び距離d8、並びに、距離d9及び距離d10が、全て同一又は略同一になるような形状とされる。
FIG. 14 is a diagram illustrating a first configuration example of the monitor wiring according to the second embodiment. FIG. 14 is a schematic plan view of an essential part of a first configuration example of the monitor wiring according to the second embodiment.
The monitor wiring 50 shown in FIG. 14 has a plurality of circular holes 51a arranged on the center line C extending in the wiring length direction X as described above. The monitor wiring 50 shown in FIG. 14 has a distance d5 and a distance d6 from the hole 51a to the edge 52 and the edge 53 on both sides across the hole 51a in the direction D1 (Y) intersecting (orthogonal) with the wiring length direction X. However, it has the shape (arc-shaped outer shape part) which becomes the same or substantially the same. Further, the monitor wiring 50 shown in FIG. 14 has the same or substantially the same distance d7 and distance d8 from the hole 51a to the edge 52 and the edge 53 on both sides of the hole 51a in another direction D2 intersecting the wiring length direction X. It has such a shape (arc-shaped outer shape portion). Further, the monitor wiring 50 shown in FIG. 14 has the same or substantially the same distance d9 and distance d10 from the hole 51a to the edge 52 and the edge 53 on both sides of the hole 51a in another direction D3 intersecting the wiring length direction X. They have the same shape (arc-shaped outer shape). In the monitor wiring 50 shown in FIG. 14, the edge 52 and the edge 53 have, for example, a shape such that the distance d5 and the distance d6, the distance d7 and the distance d8, and the distance d9 and the distance d10 are all the same or substantially the same. Is done.

このようなモニタ配線50が、上記第1の実施の形態で述べたのと同様に、半導体チップ20が搭載されるパッケージ基板10Aに配置される。
図14に示すようなモニタ配線50によれば、パッケージ基板10Aに生じる複数方向の応力に対して感度を持たせることができる。
Such a monitor wiring 50 is arranged on the package substrate 10A on which the semiconductor chip 20 is mounted in the same manner as described in the first embodiment.
According to the monitor wiring 50 as shown in FIG. 14, it is possible to give sensitivity to stresses in a plurality of directions generated on the package substrate 10A.

図15は第2の実施の形態に係る第1構成例のモニタ配線の応力方向と応力集中の説明図である。
図14に示すようなモニタ配線50に、例えば、図15(A)に示すように、配線長方向Xの応力(図15(A)の太矢印)が印加された場合を想定する。この場合、モニタ配線50の、配線長方向Xと直交する方向D1の孔51aとエッジ52の間、孔51aとエッジ53の間、エッジ52とエッジ53の間の部位56(図15(A)の点線で囲んだ部位)に、応力が集中し易く、この部位56でモニタ配線50が断線し易い。
FIG. 15 is an explanatory diagram of the stress direction and stress concentration of the monitor wiring in the first configuration example according to the second embodiment.
Assume that a stress in the wiring length direction X (thick arrow in FIG. 15A) is applied to the monitor wiring 50 as shown in FIG. 14, for example, as shown in FIG. In this case, a portion 56 of the monitor wiring 50 between the hole 51a and the edge 52 in the direction D1 orthogonal to the wiring length direction X, between the hole 51a and the edge 53, and between the edge 52 and the edge 53 (FIG. 15A). The stress is likely to concentrate on the part surrounded by the dotted line), and the monitor wiring 50 is likely to break at this part 56.

また、モニタ配線50に、例えば、図15(B)に示すように、配線長方向Xと交差する方向D2の応力(図15(B)の太矢印)が印加された場合を想定する。この場合は、モニタ配線50の、方向D3の孔51aとエッジ52の間、孔51aとエッジ53の間の部位57(図15(B)の点線で囲んだ部位)に応力が集中し易く、この部位57でモニタ配線50が断線し易い。   Further, for example, as shown in FIG. 15B, it is assumed that stress in the direction D2 intersecting the wiring length direction X (thick arrow in FIG. 15B) is applied to the monitor wiring 50. In this case, stress tends to concentrate on the portion 57 (the portion surrounded by the dotted line in FIG. 15B) between the hole 51a and the edge 52 in the direction D3 and between the hole 51a and the edge 53 of the monitor wiring 50, The monitor wiring 50 is easily disconnected at this portion 57.

また、モニタ配線50に、例えば、図15(C)に示すように、配線長方向Xと交差する方向D3の応力(図15(C)の太矢印)が印加された場合を想定する。この場合は、モニタ配線50の、方向D2の孔51aとエッジ52の間、孔51aとエッジ53の間の部位58(図15(C)の点線で囲んだ部位)に応力が集中し易く、この部位58でモニタ配線50が断線し易い。   Further, it is assumed that, for example, as shown in FIG. 15C, a stress in the direction D3 intersecting the wiring length direction X (thick arrow in FIG. 15C) is applied to the monitor wiring 50. In this case, stress tends to concentrate on the portion 58 (the portion surrounded by the dotted line in FIG. 15C) between the hole 51a and the edge 52 in the direction D2 and between the hole 51a and the edge 53 of the monitor wiring 50. At this portion 58, the monitor wiring 50 is easily disconnected.

このように図14に示すモニタ配線50は、複数方向の応力に対して感度が得られる構造になっている。このようなモニタ配線50によれば、パッケージ基板10Aへの配置の自由度を高めることができる。   As described above, the monitor wiring 50 shown in FIG. 14 has a structure capable of obtaining sensitivity to stress in a plurality of directions. According to such monitor wiring 50, the degree of freedom of arrangement on the package substrate 10A can be increased.

図16は第2の実施の形態に係るモニタ配線の配置例を示す図である。図16は第2の実施の形態に係る半導体パッケージの一例の要部を透視的に見た平面模式図である。
モニタ配線50に、上記図14及び図15に示したような構造を採用し、複数方向の応力に対して感度を持たせた場合には、比較的単純な経路でモニタ配線50を配置することができる。例えば、図16に示すように、モニタ配線50を、その一部が半導体チップ20の搭載領域ARのコーナー部に沿うような配置とし、上記図13のような配置に比べて、より単純な経路とすることができる。尚、図16には、モニタ配線50が持つ感度の方向を矢印で図示している。
FIG. 16 is a diagram illustrating an arrangement example of monitor wirings according to the second embodiment. FIG. 16 is a schematic plan view of a principal part of an example of a semiconductor package according to the second embodiment seen through.
When the structure as shown in FIG. 14 and FIG. 15 is adopted for the monitor wiring 50 and sensitivity is given to stress in a plurality of directions, the monitor wiring 50 is arranged with a relatively simple route. Can do. For example, as shown in FIG. 16, the monitor wiring 50 is arranged so that a part thereof is along the corner portion of the mounting area AR of the semiconductor chip 20, and a simpler route than the arrangement shown in FIG. It can be. In FIG. 16, the direction of sensitivity of the monitor wiring 50 is indicated by arrows.

上記図14及び図15に示したような、複数方向の応力に対して感度を持たせたモニタ配線50によれば、パッケージ基板10A上におけるモニタ配線50の占有面積を小さく抑えることができる。また、パッケージ基板10A上の小面積の領域に、モニタ配線50を配置することができるとも言える。モニタ配線50に、複数方向の応力に対して感度を持たせることで、モニタ配線50を、小面積の領域に配置し、一定の感度でその断線を検出することができる。   According to the monitor wiring 50 that is sensitive to stress in a plurality of directions as shown in FIGS. 14 and 15, the area occupied by the monitor wiring 50 on the package substrate 10A can be kept small. It can also be said that the monitor wiring 50 can be arranged in a small area on the package substrate 10A. By giving the monitor wiring 50 sensitivity to stresses in a plurality of directions, the monitor wiring 50 can be arranged in a small area, and the disconnection can be detected with constant sensitivity.

尚、ここでは、円形状の孔51aを備え、その孔51aから所定方向に所定距離の円弧状の外形部分を有するエッジ52及びエッジ53を備えたモニタ配線50を例示した。このほか、菱形状の孔51bを備えるモニタ配線50についても同様に、エッジ52及びエッジ53を、孔51bから所定方向に所定距離の外形部分を有する形状とし、複数方向の応力に対して感度を持たせた構造とすることができる。   Here, the monitor wiring 50 including the circular hole 51a and the edge 52 and the edge 53 having an arcuate outer shape portion having a predetermined distance in a predetermined direction from the hole 51a is illustrated. In addition, for the monitor wiring 50 including the diamond-shaped hole 51b, similarly, the edge 52 and the edge 53 are formed to have a shape having an outer portion with a predetermined distance in the predetermined direction from the hole 51b, and are sensitive to stress in a plurality of directions. It can be made to have a structure.

また、複数方向の応力に対して感度を持たせるために、モニタ配線50を、次の図17に示すような構造とすることもできる。
図17は第2の実施の形態に係るモニタ配線の第2構成例を示す図である。図17は第2の実施の形態に係るモニタ配線の第2構成例の要部平面模式図である。
Further, in order to give sensitivity to stresses in a plurality of directions, the monitor wiring 50 can be structured as shown in FIG.
FIG. 17 is a diagram illustrating a second configuration example of the monitor wiring according to the second embodiment. FIG. 17 is a schematic plan view of an essential part of a second configuration example of the monitor wiring according to the second embodiment.

図17に示すモニタ配線50は、配線長方向Xに延びる中心線C上に配列された、複数の頂点を有する孔51cを含む。ここでは一例として、8つの頂点を有する孔51cを図示している。そして、この図17に示すモニタ配線50は、配線長方向Xと交差(直交)する方向D1の、孔51cの頂点から両側のエッジ52及びエッジ53までの距離d5及び距離d6が、同一又は略同一になるような形状を有している。図17に示すモニタ配線50は更に、配線長方向Xと交差する別の方向D2の、孔51cの頂点から両側のエッジ52及びエッジ53までの距離d7及び距離d8が、同一又は略同一になるような形状を有している。図17に示すモニタ配線50は更に、配線長方向Xと交差する更に別の方向D3の、孔51cの頂点から両側のエッジ52及びエッジ53までの距離d9及び距離d10が、同一又は略同一になるような形状を有している。図17に示すモニタ配線50において、エッジ52及びエッジ53は、例えば、距離d5及び距離d6、距離d7及び距離d8、並びに、距離d9及び距離d10が、全て同一又は略同一になるような形状とされる。   The monitor wiring 50 shown in FIG. 17 includes holes 51c having a plurality of vertices arranged on a center line C extending in the wiring length direction X. Here, as an example, a hole 51c having eight vertices is illustrated. In the monitor wiring 50 shown in FIG. 17, the distance d5 and the distance d6 from the apex of the hole 51c to the edges 52 and 53 on both sides in the direction D1 intersecting (orthogonal) with the wiring length direction X are the same or substantially the same. They have the same shape. Further, in the monitor wiring 50 shown in FIG. 17, the distance d7 and the distance d8 from the apex of the hole 51c to the edge 52 and the edge 53 on both sides in another direction D2 intersecting the wiring length direction X are the same or substantially the same. It has such a shape. Further, in the monitor wiring 50 shown in FIG. 17, the distance d9 and the distance d10 from the vertex of the hole 51c to the edge 52 and the edge 53 on both sides in another direction D3 intersecting the wiring length direction X are the same or substantially the same. The shape is such that In the monitor wiring 50 shown in FIG. 17, the edge 52 and the edge 53 have, for example, a shape such that the distance d5 and the distance d6, the distance d7 and the distance d8, and the distance d9 and the distance d10 are all the same or substantially the same. Is done.

このようなモニタ配線50が、上記第1の実施の形態で述べたのと同様に、半導体チップ20が搭載されるパッケージ基板10Aに配置される。
図17に示すようなモニタ配線50によっても、パッケージ基板10Aに生じる複数方向の応力に対して感度を持たせることができる。
Such a monitor wiring 50 is arranged on the package substrate 10A on which the semiconductor chip 20 is mounted in the same manner as described in the first embodiment.
Also with the monitor wiring 50 as shown in FIG. 17, it is possible to provide sensitivity to stresses in a plurality of directions generated on the package substrate 10A.

図18は第2の実施の形態に係る第2構成例のモニタ配線の応力方向と応力集中の説明図である。
図17に示すようなモニタ配線50に、例えば、図18(A)に示すように、配線長方向Xの応力(図18(A)の太矢印)が印加された場合を想定する。この場合、モニタ配線50の、配線長方向Xと直交する方向D1の孔51cの頂点とエッジ52の間、孔51cの頂点とエッジ53の間の部位56(図18(A)の点線で囲んだ部位)に、応力が集中し易く、この部位56でモニタ配線50が断線し易い。
FIG. 18 is an explanatory diagram of the stress direction and stress concentration of the monitor wiring in the second configuration example according to the second embodiment.
Assume that a stress in the wiring length direction X (thick arrow in FIG. 18A) is applied to the monitor wiring 50 as shown in FIG. 17, for example, as shown in FIG. In this case, the monitor wiring 50 is surrounded by a portion 56 between the vertex of the hole 51c and the edge 52 in the direction D1 orthogonal to the wiring length direction X and between the vertex of the hole 51c and the edge 53 (dotted line in FIG. 18A). The stress tends to concentrate on the part), and the monitor wiring 50 is likely to break at this part 56.

また、モニタ配線50に、例えば、図18(B)に示すように、配線長方向Xと交差する方向D2の応力(図18(B)の太矢印)が印加された場合を想定する。この場合は、モニタ配線50の、方向D3の孔51cの頂点とエッジ52の間、孔51cの頂点とエッジ53の間の部位57(図18(B)の点線で囲んだ部位)に応力が集中し易く、この部位57でモニタ配線50が断線し易い。   Further, it is assumed that, for example, as shown in FIG. 18B, a stress in the direction D2 intersecting the wiring length direction X (thick arrow in FIG. 18B) is applied to the monitor wiring 50. In this case, stress is applied to the portion 57 (the portion surrounded by the dotted line in FIG. 18B) between the apex and the edge 52 of the hole 51c in the direction D3 and between the apex and the edge 53 of the hole 51c in the monitor wiring 50. It is easy to concentrate, and the monitor wiring 50 is easily disconnected at this portion 57.

また、モニタ配線50に、例えば、図18(C)に示すように、配線長方向Xと交差する方向D3の応力(図18(C)の太矢印)が印加された場合を想定する。この場合は、モニタ配線50の、方向D2の孔51cの頂点とエッジ52の間、孔51cの頂点とエッジ53の間の部位58(図18(C)の点線で囲んだ部位)に応力が集中し易く、この部位58でモニタ配線50が断線し易い。   In addition, for example, as shown in FIG. 18C, it is assumed that stress in a direction D3 intersecting with the wiring length direction X (thick arrow in FIG. 18C) is applied to the monitor wiring 50. In this case, stress is applied to the portion 58 (the portion surrounded by the dotted line in FIG. 18C) between the apex and the edge 52 of the hole 51c in the direction D2 and between the apex and the edge 53 of the hole 51c in the monitor wiring 50. It is easy to concentrate, and the monitor wiring 50 is easily disconnected at this portion 58.

このように図17に示すモニタ配線50も、上記図14等に示したモニタ配線50と同様に、複数方向の応力に対して感度が得られる構造になっており、小面積の領域にモニタ配線50を配置できる等、パッケージ基板10Aへの配置自由度を高めることができる。   As described above, the monitor wiring 50 shown in FIG. 17 has a structure capable of obtaining sensitivity to stresses in a plurality of directions, similarly to the monitor wiring 50 shown in FIG. 14 and the like. The degree of freedom of arrangement on the package substrate 10A can be increased, such as 50 can be arranged.

以上述べた第2の実施の形態に係るモニタ配線50では、孔51a、孔51b及び孔51cのサイズ、エッジ52及びエッジ53までの距離を調整することで、モニタ配線50の、応力による断線の感度を調整することができる。   In the monitor wiring 50 according to the second embodiment described above, the size of the hole 51a, the hole 51b and the hole 51c, and the distance to the edge 52 and the edge 53 are adjusted, so that the disconnection due to stress of the monitor wiring 50 is caused. Sensitivity can be adjusted.

次に、第3の実施の形態について説明する。
図19は第3の実施の形態に係るモニタ配線の構成例を示す図である。図19は第3の実施の形態に係るモニタ配線の構成例の要部平面模式図である。
Next, a third embodiment will be described.
FIG. 19 is a diagram illustrating a configuration example of monitor wiring according to the third embodiment. FIG. 19 is a schematic plan view of an essential part of a configuration example of monitor wiring according to the third embodiment.

図19に示すモニタ配線50は、或る一方向D4に、複数の円形状の孔51aを配列させた構造を有する。このようなモニタ配線50に、図19に示すように、方向D4と交差する方向D5の応力(図19の太矢印)が印加された場合を想定する。この場合、モニタ配線50の、複数の孔51aが配列された方向D4の部位59(図19の点線で囲んだ部位)に応力が集中し易く、この部位59でモニタ配線50が断線し易い。   The monitor wiring 50 shown in FIG. 19 has a structure in which a plurality of circular holes 51a are arranged in a certain direction D4. As shown in FIG. 19, it is assumed that stress in a direction D5 intersecting the direction D4 (thick arrow in FIG. 19) is applied to such a monitor wiring 50. In this case, stress tends to concentrate on the portion 59 (the portion surrounded by the dotted line in FIG. 19) in the direction D4 in which the plurality of holes 51a are arranged in the monitor wiring 50, and the monitor wiring 50 is likely to break at this portion 59.

このようなモニタ配線50が、上記第1及び第2の実施の形態で述べたのと同様に、半導体チップ20が搭載されるパッケージ基板10Aに配置される。このモニタ配線50において、孔51aを配列させる方向D4は、例えば、パッケージ基板10Aの、クラックが生じ易い方向Dとする。   Such a monitor wiring 50 is disposed on the package substrate 10A on which the semiconductor chip 20 is mounted in the same manner as described in the first and second embodiments. In the monitor wiring 50, the direction D4 in which the holes 51a are arranged is, for example, the direction D in which the crack is easily generated in the package substrate 10A.

パッケージ基板10Aの、クラックが生じ易い方向D(生じる応力の方向)がわかっている場合には、その方向Dに孔51aを配列させることで、クラックによるモニタ配線50の断線確率を高め、断線検出感度を高めることができる。更に、パッケージ基板10Aの、斜めに隣接するバンプ30間の領域にクラックが生じ易い場合には、その領域を通るモニタ配線50の部分に、クラックが生じ易い方向Dに配列させた複数の孔51aを設け、断線検出感度を高めてもよい。   When the direction D of the package substrate 10A in which cracks are likely to occur (direction of the generated stress) is known, by arranging the holes 51a in the direction D, the probability of disconnection of the monitor wiring 50 due to cracks is increased, and disconnection detection is performed. Sensitivity can be increased. Further, when a crack is likely to occur in a region between the bumps 30 adjacent to each other on the package substrate 10A, a plurality of holes 51a arranged in the direction D where the crack is likely to be generated in the portion of the monitor wiring 50 passing through the region. May be provided to increase the disconnection detection sensitivity.

尚、ここでは、所定の方向D4に複数の円形状の孔51aを配列させた構造を有するモニタ配線50を例示したが、菱形状の孔51bの場合も同様に、所定の方向D4に複数配列させた構造を有するモニタ配線50を得ることができる。   Note that, here, the monitor wiring 50 having a structure in which a plurality of circular holes 51a are arranged in the predetermined direction D4 is illustrated, but the plurality of arrangements in the predetermined direction D4 is similarly performed in the case of the diamond-shaped holes 51b. The monitor wiring 50 having the above structure can be obtained.

次に、第4の実施の形態について説明する。
上記第1〜第3の実施の形態で述べたようなモニタ配線50は、信号配線、電源配線といった他の配線と共に、パッケージ基板10Aに配置される。ここで、第4の実施の形態として、モニタ配線50と他の配線の配置について説明する。
Next, a fourth embodiment will be described.
The monitor wiring 50 as described in the first to third embodiments is arranged on the package substrate 10A together with other wiring such as signal wiring and power supply wiring. Here, as the fourth embodiment, the arrangement of the monitor wiring 50 and other wiring will be described.

図20は第4の実施の形態に係る半導体パッケージの一例を示す図である。図20は第4の実施の形態に係る半導体パッケージの一例の要部を透視的に見た平面模式図である。尚、図20には、第4の実施の形態に係る半導体パッケージのコーナー部の構成例を図示している。   FIG. 20 is a diagram illustrating an example of a semiconductor package according to the fourth embodiment. FIG. 20 is a schematic plan view of a main part of an example of a semiconductor package according to the fourth embodiment as seen through. FIG. 20 shows a configuration example of the corner portion of the semiconductor package according to the fourth embodiment.

図20に示す半導体パッケージ1Aは、上記第1の実施の形態(図2)で述べたように、パッケージ基板10Aと、その上に搭載された半導体チップ20を有する。パッケージ基板10Aと半導体チップ20は、互いの端子同士(上記の端子12bと端子21)が、図20のバンプ30の箇所で電気的に接続されている。モニタ配線50(図20に太実線で図示)は、パッケージ基板10Aの、隣接するバンプ30間に対応する領域を通るように、設けられている。モニタ配線50とその両端のモニタ端子60及びモニタ端子70は、パッケージ基板10Aに設けられる、半導体チップ20搭載面側の最上層の配線及び端子(上記の配線12a及び端子12b)と同じ層内に設けられている。   A semiconductor package 1A shown in FIG. 20 includes a package substrate 10A and a semiconductor chip 20 mounted thereon as described in the first embodiment (FIG. 2). The package substrate 10 </ b> A and the semiconductor chip 20 are electrically connected to each other (the terminals 12 b and the terminals 21 described above) at the bumps 30 in FIG. 20. The monitor wiring 50 (shown by a thick solid line in FIG. 20) is provided so as to pass through a region corresponding to the space between the adjacent bumps 30 of the package substrate 10A. The monitor wiring 50 and the monitor terminals 60 and 70 at both ends thereof are in the same layer as the uppermost wiring and terminals (the above-described wiring 12a and terminal 12b) on the semiconductor chip 20 mounting surface side provided on the package substrate 10A. Is provided.

バンプ30が接続されるパッケージ基板10Aの端子(上記の端子12b)には、信号配線又は電源配線として、図20に示すように、最上層の配線12a(図20に実線で図示)及び内層の配線12c(図20に点線で図示)が電気的に接続されている。最上層の配線12aは、モニタ配線50を避けて、パッケージ基板10Aの表層に配置される。内層の配線12cは、バンプ30が接続される端子から、最上層の配線12dとその配線12dに接続されたビアホール12eで引き出され、パッケージ基板10Aの内層に配置される。   As shown in FIG. 20, the terminal (the above-mentioned terminal 12b) of the package substrate 10A to which the bump 30 is connected has signal wiring or power supply wiring as shown in FIG. The wiring 12c (shown by a dotted line in FIG. 20) is electrically connected. The uppermost layer wiring 12a is disposed on the surface layer of the package substrate 10A, avoiding the monitor wiring 50. The inner layer wiring 12c is drawn from the terminal to which the bump 30 is connected through the uppermost layer wiring 12d and the via hole 12e connected to the wiring 12d, and is arranged in the inner layer of the package substrate 10A.

パッケージ基板10Aには、例えば、この図20に示すようにして、モニタ配線50、並びに、信号配線又は電源配線として用いられる他の配線12aや配線12c等が配置される。   On the package substrate 10A, for example, as shown in FIG. 20, the monitor wiring 50 and other wiring 12a and wiring 12c used as signal wiring or power wiring are arranged.

次に、第5の実施の形態について説明する。
ここでは、パッケージ基板10Aの製造方法の一例を、第5の実施の形態として説明する。
Next, a fifth embodiment will be described.
Here, an example of a manufacturing method of the package substrate 10A will be described as a fifth embodiment.

図21及び図22は第5の実施の形態に係るパッケージ基板製造方法の一例を示す図である。図21(A)〜図21(D)、図22(A)及び図22(B)には、パッケージ基板製造の各工程の要部断面を模式的に図示している。   21 and 22 are views showing an example of a package substrate manufacturing method according to the fifth embodiment. 21 (A) to 21 (D), 22 (A), and 22 (B) schematically show a cross section of the main part of each process of manufacturing the package substrate.

パッケージ基板10Aは、ビルドアップ工法で製造することができる。この場合、まず、例えば図21(A)に示すようなコア基板11aが形成される。このコア基板11aの基材11aaには、プリプレグ等を用いることができる。所定パターンの配線12fが形成された各基材11aaが積層され、孔開け加工後、メッキ処理でビアホール12gが形成され、更に表裏面に所定パターンの配線12hが形成されて、コア基板11aが形成される。配線12f、ビアホール12g及び配線12hには、銅(Cu)、又はCuを含む材料を用いることができる。   The package substrate 10A can be manufactured by a build-up method. In this case, first, a core substrate 11a as shown in FIG. A prepreg or the like can be used for the base material 11aa of the core substrate 11a. Each base material 11aa on which a predetermined pattern of wiring 12f is formed is laminated, and after drilling, via holes 12g are formed by plating, and further, a predetermined pattern of wiring 12h is formed on the front and back surfaces to form the core substrate 11a. Is done. For the wiring 12f, the via hole 12g, and the wiring 12h, copper (Cu) or a material containing Cu can be used.

コア基板11aの形成後、図21(B)に示すように、ビアホール12gの空洞部を埋め、コア基板11aの表裏面に形成された配線12hを覆うように、絶縁層11abが形成される。絶縁層11abには、熱や光で硬化する樹脂を用いることができる。尚、絶縁層11abの形成において、ビアホール12g内に設ける樹脂と、コア基板11aの表裏面に設ける樹脂は、必ずしも同じ材料であることを要しない。   After the formation of the core substrate 11a, as shown in FIG. 21B, the insulating layer 11ab is formed so as to fill the cavity of the via hole 12g and cover the wiring 12h formed on the front and back surfaces of the core substrate 11a. For the insulating layer 11ab, a resin curable by heat or light can be used. In forming the insulating layer 11ab, the resin provided in the via hole 12g and the resin provided on the front and back surfaces of the core substrate 11a are not necessarily the same material.

絶縁層11abの形成後、図21(C)に示すように、絶縁層11abに、配線12hの所定の部分に達する開口部11acが形成される。開口部11acは、レーザー加工で形成することができる。   After the formation of the insulating layer 11ab, as shown in FIG. 21C, an opening 11ac that reaches a predetermined portion of the wiring 12h is formed in the insulating layer 11ab. The opening 11ac can be formed by laser processing.

開口部11acの形成後、図21(D)に示すように、絶縁層11abを貫通し配線12hに達するビア12i、及び絶縁層11ab上の配線12jが形成される。ビア12i及び配線12jは、メッキ処理と、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術を用いて、形成することができる。ビア12i及び配線12jには、Cu、又はCuを含む材料を用いることができる。   After the opening 11ac is formed, as shown in FIG. 21D, a via 12i that penetrates the insulating layer 11ab and reaches the wiring 12h, and a wiring 12j on the insulating layer 11ab are formed. The via 12i and the wiring 12j can be formed by using a plating process, a photolithography technique, and an etching technique. For the via 12i and the wiring 12j, Cu or a material containing Cu can be used.

その後は、図21(B)〜図21(D)の工程と同様にして、図22(A)に示すように、より上層の絶縁層11ad、絶縁層11adを貫通し下層の配線12jに達するビア12k、及び絶縁層11ad上の配線12mが形成される。ビア12k及び配線12mには、Cu、又はCuを含む材料を用いることができる。尚、パッケージ基板10Aに設ける配線層数に応じて、図21(B)〜図21(D)と同様の工程が繰り返される。   Thereafter, in the same manner as in the steps of FIGS. 21B to 21D, as shown in FIG. 22A, the upper insulating layer 11ad and the insulating layer 11ad are penetrated to reach the lower wiring 12j. A via 12k and a wiring 12m on the insulating layer 11ad are formed. For the via 12k and the wiring 12m, Cu or a material containing Cu can be used. Note that the same steps as in FIGS. 21B to 21D are repeated in accordance with the number of wiring layers provided on the package substrate 10A.

ここでは、便宜上、図22(A)の基板11上の配線12mを最上層の配線(上記の配線12a)とする。この場合、図22(A)の工程では、一方の面側の絶縁層11ad上に、最上層の配線12mと共に、配線12mと同じ材料を用いて、モニタ配線50となる導体パターン50aが形成される。導体パターン50aは、フォトリソグラフィ技術とエッチング技術を用いて、その両端部分に挟まれた領域に上記のような所定形状の孔(上記の孔51a、孔51b又は孔51c)及びエッジ(上記のエッジ52及びエッジ53)を有する構造となるように形成される。   Here, for convenience, the wiring 12m on the substrate 11 in FIG. 22A is assumed to be the uppermost wiring (the wiring 12a described above). In this case, in the process of FIG. 22A, the conductor pattern 50a to be the monitor wiring 50 is formed on the insulating layer 11ad on one side, using the same material as the wiring 12m, together with the wiring 12m on the uppermost layer. The The conductor pattern 50a is formed by using a photolithographic technique and an etching technique in a region sandwiched between both ends of the conductor pattern 50a having a predetermined shape as described above (the hole 51a, the hole 51b or the hole 51c) and an edge (the edge described above). 52 and edge 53).

最上層の配線12m及び導体パターン50aの形成後は、図22(B)に示すように、ソルダーレジスト等の保護膜13が形成される。半導体チップ20が搭載される一方の面10Ac側の保護膜13には、バンプ30が接続される配線12mの部分、及び導体パターン50aの両端部分に、開口部13aが形成される。配線12mの、開口部13aから露出する部分が、バンプ30と接続される端子12bとなる。導体パターン50aの、開口部13aから露出する両端部分が、モニタ端子60及びモニタ端子70となる。導体パターン50aの、モニタ端子60及びモニタ端子70で挟まれた部分が、モニタ配線50となる。また、反対の面10Ad側の保護膜13には、半田ボール等の部材(バンプ)が接続される部分に、開口部13bが形成される。尚、開口部13a及び開口部13bからの露出部には、更に表面処理層、例えばニッケル(Ni)と金(Au)の積層膜を形成してもよい。   After the formation of the uppermost wiring 12m and the conductor pattern 50a, as shown in FIG. 22B, a protective film 13 such as a solder resist is formed. In the protective film 13 on the side of the one surface 10Ac on which the semiconductor chip 20 is mounted, openings 13a are formed at portions of the wiring 12m to which the bumps 30 are connected and at both ends of the conductor pattern 50a. A portion of the wiring 12 m exposed from the opening 13 a becomes a terminal 12 b connected to the bump 30. Both end portions of the conductor pattern 50 a exposed from the opening 13 a become the monitor terminal 60 and the monitor terminal 70. A portion of the conductor pattern 50 a sandwiched between the monitor terminal 60 and the monitor terminal 70 becomes the monitor wiring 50. Further, in the protective film 13 on the opposite surface 10Ad side, an opening 13b is formed at a portion to which a member (bump) such as a solder ball is connected. A surface treatment layer, for example, a laminated film of nickel (Ni) and gold (Au) may be further formed on the exposed portions from the opening 13a and the opening 13b.

以上のような工程により、パッケージ基板10Aが形成される。ここに例示するように、モニタ配線50、モニタ端子60及びモニタ端子70は、パッケージ基板10Aの最上層の配線12a及び端子12bを形成する際に、それらと同じ層内に、それらと同じ材料を用いて、形成することができる。   The package substrate 10A is formed by the process as described above. As exemplified here, the monitor wiring 50, the monitor terminal 60, and the monitor terminal 70 are formed of the same material in the same layer when the uppermost wiring 12a and the terminal 12b of the package substrate 10A are formed. And can be formed.

尚、モニタ配線50、モニタ端子60及びモニタ端子70を、基板11の裏面側(面10Ad側)に設ける場合は、同様に、それらを基板11の裏面側に設ける配線及び端子と共に形成することができる。また、モニタ配線50、モニタ端子60及びモニタ端子70を、基板11の内層に設ける場合も同様に、それらを基板11の内層に設ける配線と共に形成することができる。   When the monitor wiring 50, the monitor terminal 60, and the monitor terminal 70 are provided on the back surface side (surface 10Ad side) of the substrate 11, they are similarly formed together with the wiring and terminals provided on the back surface side of the substrate 11. it can. Similarly, when the monitor wiring 50, the monitor terminal 60, and the monitor terminal 70 are provided in the inner layer of the substrate 11, they can be formed together with the wiring provided in the inner layer of the substrate 11.

次に、第6の実施の形態について説明する。
以上述べたようなモニタ配線50、モニタ端子60及びモニタ端子70を含むパッケージ基板10Aに半導体チップ20が搭載され、半導体パッケージ1Aが得られる。また、このような半導体パッケージ1Aを、半田ボール等の接続部材を用いて別の配線基板(ボード)上に搭載し、電子装置を得ることができる。更に、複数の半導体パッケージ1Aをボード上に搭載した電子装置を得ることもできる。このようにボード上に複数の半導体パッケージ1Aが搭載される電子装置の場合、各半導体パッケージ1Aのモニタ配線50は、そのボードを用いて電気的に接続することができる。
Next, a sixth embodiment will be described.
The semiconductor chip 20 is mounted on the package substrate 10A including the monitor wiring 50, the monitor terminal 60, and the monitor terminal 70 as described above, and the semiconductor package 1A is obtained. In addition, an electronic device can be obtained by mounting such a semiconductor package 1A on another wiring board (board) using a connection member such as a solder ball. Furthermore, an electronic device in which a plurality of semiconductor packages 1A are mounted on a board can be obtained. Thus, in the case of an electronic device in which a plurality of semiconductor packages 1A are mounted on a board, the monitor wiring 50 of each semiconductor package 1A can be electrically connected using the board.

図23は第6の実施の形態に係る電子装置の第1構成例を示す図である。図23は第6の実施の形態に係る電子装置の第1構成例の平面模式図である。
図23に示す電子装置90aは、ボード91と、そのボード91上に搭載された複数(ここでは一例として7つ)の半導体パッケージ1Aを含む。各半導体パッケージ1Aは、半田ボール等の接続部材を用いて、ボード91に電気的に接続されている。
FIG. 23 is a diagram illustrating a first configuration example of an electronic device according to the sixth embodiment. FIG. 23 is a schematic plan view of a first configuration example of an electronic device according to the sixth embodiment.
An electronic device 90a illustrated in FIG. 23 includes a board 91 and a plurality (seven examples here) of semiconductor packages 1A mounted on the board 91. Each semiconductor package 1A is electrically connected to the board 91 using a connection member such as a solder ball.

各半導体パッケージ1Aは、上記のようなモニタ配線50、モニタ端子60及びモニタ端子70が設けられたパッケージ基板10Aを備えている。電子装置90aでは、各半導体パッケージ1Aのモニタ配線50が、ボード91に設けられた接続配線92を用いて、直列接続されている。即ち、ボード91上に搭載された複数の半導体パッケージ1Aの、互いのモニタ配線50のモニタ端子同士(モニタ端子60とモニタ端子70)を接続配線92で繋いでいくことで、複数の半導体パッケージ1Aのモニタ配線50を直列接続する。   Each semiconductor package 1A includes a package substrate 10A provided with the monitor wiring 50, the monitor terminal 60, and the monitor terminal 70 as described above. In the electronic device 90 a, the monitor wiring 50 of each semiconductor package 1 </ b> A is connected in series using the connection wiring 92 provided on the board 91. That is, by connecting the monitor terminals (the monitor terminal 60 and the monitor terminal 70) of the monitor wires 50 of the plurality of semiconductor packages 1A mounted on the board 91 by the connection wires 92, the plurality of semiconductor packages 1A. Are connected in series.

このようにして直列接続されたモニタ配線50群の終端のモニタ端子60及びモニタ端子70に、上記図10及び図12で述べたようなモニタ部80が接続される。モニタ部80により、直列接続されたモニタ配線50群に電気信号が供給され、その電気信号がモニタされることで、モニタ配線50群内の断線の有無が判定される。   The monitor unit 80 as described in FIGS. 10 and 12 is connected to the monitor terminal 60 and the monitor terminal 70 at the end of the monitor wiring 50 group connected in series in this way. The monitor unit 80 supplies an electrical signal to the group of monitor wirings 50 connected in series, and the electrical signal is monitored to determine the presence or absence of disconnection in the monitor wiring 50 group.

このように複数の半導体パッケージ1Aのモニタ配線50を直列接続する電子装置90aでは、接続配線92を、ボード91の比較的小さな面積に配置することができ、ボード91の信号配線、電源配線の配置自由度の低下を抑えることができる。   Thus, in the electronic device 90a in which the monitor wirings 50 of the plurality of semiconductor packages 1A are connected in series, the connection wiring 92 can be arranged in a relatively small area of the board 91, and the signal wiring and power supply wiring of the board 91 are arranged. A decrease in the degree of freedom can be suppressed.

図24は第6の実施の形態に係る電子装置の第2構成例を示す図である。図24は第6の実施の形態に係る電子装置の第2構成例の平面模式図である。
図24に示す電子装置90bは、ボード91上に半田ボール等を用いて搭載された複数(ここでは一例として7つ)の半導体パッケージ1Aのモニタ配線50が、ボード91に設けた接続配線92を用いて、並列接続されている。
FIG. 24 is a diagram illustrating a second configuration example of the electronic device according to the sixth embodiment. FIG. 24 is a schematic plan view of a second configuration example of the electronic device according to the sixth embodiment.
In the electronic device 90b shown in FIG. 24, the monitor wiring 50 of a plurality (seven as an example) of the semiconductor package 1A mounted on the board 91 using solder balls or the like is connected to the connection wiring 92 provided on the board 91. And connected in parallel.

並列接続された各モニタ配線50のモニタ端子60及びモニタ端子70に、上記図10及び図12で述べたようなモニタ部80が接続される。モニタ部80により、各モニタ配線50に電気信号が供給され、その電気信号がモニタされて、各モニタ配線50の断線の有無が判定される。   The monitor unit 80 as described in FIGS. 10 and 12 is connected to the monitor terminal 60 and the monitor terminal 70 of each monitor wiring 50 connected in parallel. The monitor unit 80 supplies an electrical signal to each monitor wiring 50, and the electrical signal is monitored to determine whether or not each monitor wiring 50 is disconnected.

このように複数の半導体パッケージ1Aのモニタ配線50を並列接続する電子装置90bでは、複数のモニタ配線50のうちいずれが断線したか、即ち不良の可能性が高まった半導体パッケージ1Aを比較的容易に特定することができる。   As described above, in the electronic device 90b in which the monitor wirings 50 of the plurality of semiconductor packages 1A are connected in parallel, it is relatively easy to determine which of the plurality of monitor wirings 50 is broken, that is, the semiconductor package 1A in which the possibility of a defect is increased. Can be identified.

図25は第6の実施の形態に係る電子装置の第3構成例を示す図である。図25は第6の実施の形態に係る電子装置の第3構成例の平面模式図である。
図25に示す電子装置90cは、ボード91上に搭載された複数(ここでは一例として7つ)の半導体パッケージ1Aのモニタ配線50が、接続配線92を用いて直列接続されたものと、並列接続されたものとが混在した構成を有する。
FIG. 25 is a diagram illustrating a third configuration example of the electronic device according to the sixth embodiment. FIG. 25 is a schematic plan view of a third configuration example of the electronic device according to the sixth embodiment.
The electronic device 90c shown in FIG. 25 is connected in parallel with the case in which the monitor wirings 50 of a plurality of (seven examples here) semiconductor packages 1A mounted on the board 91 are connected in series using the connection wiring 92. Have a mixed configuration.

直列接続されたモニタ配線50群の終端のモニタ端子60及びモニタ端子70、並びに、並列接続された各モニタ配線50のモニタ端子60及びモニタ端子70に、上記図10及び図12で述べたようなモニタ部80が接続される。モニタ部80により、直列接続されたモニタ配線50群に電気信号が供給され、その電気信号がモニタされて、モニタ配線50群内の断線の有無が判定される。また、モニタ部80により、並列接続された各モニタ配線50に電気信号が供給され、その電気信号がモニタされて、各モニタ配線50の断線の有無が判定される。   As shown in FIG. 10 and FIG. 12, the monitor terminal 60 and the monitor terminal 70 at the end of the monitor wiring 50 group connected in series and the monitor terminal 60 and the monitor terminal 70 of each monitor wiring 50 connected in parallel are connected. A monitor unit 80 is connected. The monitor unit 80 supplies an electrical signal to the monitor wiring 50 group connected in series, and the electrical signal is monitored to determine whether or not there is a disconnection in the monitor wiring 50 group. In addition, the monitor unit 80 supplies an electrical signal to the monitor wirings 50 connected in parallel, and the electrical signals are monitored to determine whether the monitor wirings 50 are disconnected.

複数のモニタ配線50を直列接続した場合には、接続配線92の配置面積を抑えることができ、また、複数のモニタ配線50を並列接続した場合には、断線したモニタ配線50の特定が容易になる。ボード91の信号配線や電源配線の配置、接続配線92が配置可能な面積、不良の可能性のある半導体パッケージ1Aを特定することの重要性等の条件に基づき、この電子装置90cのように、モニタ配線50の直列及び並列の接続形態を混在させてもよい。また、そのような条件に基づき、直列及び並列に接続するモニタ配線50の組み合わせを設定してもよい。   When a plurality of monitor wirings 50 are connected in series, the arrangement area of the connection wiring 92 can be reduced, and when a plurality of monitor wirings 50 are connected in parallel, the disconnected monitor wiring 50 can be easily identified. Become. Based on conditions such as the arrangement of the signal wiring and power supply wiring of the board 91, the area where the connection wiring 92 can be arranged, and the importance of identifying the semiconductor package 1A that may be defective, as in this electronic device 90c, Series and parallel connection forms of the monitor wiring 50 may be mixed. Further, based on such conditions, a combination of monitor wirings 50 connected in series and in parallel may be set.

以上説明した実施の形態に関し、更に以下の付記を開示する。
(付記1) 第1配線基板と、
前記第1配線基板上に搭載された第1電子部品と
を含み、
前記第1配線基板は、
第1基板と、
前記第1基板上に配置され、第1開口部を有する第1配線と、
前記第1配線の両端にそれぞれ配置された第1端子及び第2端子と
を備えることを特徴とする電子装置。
Regarding the embodiment described above, the following additional notes are further disclosed.
(Appendix 1) a first wiring board;
A first electronic component mounted on the first wiring board,
The first wiring board is:
A first substrate;
A first wiring disposed on the first substrate and having a first opening;
An electronic device comprising: a first terminal and a second terminal respectively disposed at both ends of the first wiring.

(付記2) 前記第1配線は、前記第1電子部品と対向する第1領域に配置されていることを特徴とする付記1に記載の電子装置。
(付記3) 前記第1配線は、
前記第1領域の端部領域に配置された第1配線部と、
前記第1領域の、前記端部領域よりも内側の内部領域に配置され、前記第1配線部と異なる大きさの応力で断線する第2配線部と
を有することを特徴とする付記2に記載の電子装置。
(Additional remark 2) The said 1st wiring is arrange | positioned in the 1st area | region facing the said 1st electronic component, The electronic device of Additional remark 1 characterized by the above-mentioned.
(Appendix 3) The first wiring is
A first wiring portion disposed in an end region of the first region;
The second wiring part, which is disposed in an inner region inside the end region of the first region, and is disconnected by a stress having a magnitude different from that of the first wiring portion. Electronic devices.

(付記4) 前記第1配線基板は、
前記第1電子部品が電気的に接続される第3端子群を備え、
前記第1配線の少なくとも一部が、前記第3端子群内の隣接する第3端子間を通ることを特徴とする付記1乃至3のいずれかに記載の電子装置。
(Appendix 4) The first wiring board is:
A third terminal group to which the first electronic component is electrically connected;
4. The electronic device according to any one of appendices 1 to 3, wherein at least a part of the first wiring passes between adjacent third terminals in the third terminal group.

(付記5) 前記第1開口部は、複数の孔を含み、
前記複数の孔は、前記第1配線の長手方向に並設されていることを特徴とする付記1乃至4のいずれかに記載の電子装置。
(Supplementary Note 5) The first opening includes a plurality of holes,
The electronic device according to any one of appendices 1 to 4, wherein the plurality of holes are juxtaposed in a longitudinal direction of the first wiring.

(付記6) 前記第1配線は、前記長手方向と交差する第1方向の、それぞれの前記孔を挟んだ両側のエッジが、当該孔から同一又は略同一の距離になる形状を有していることを特徴とする付記5に記載の電子装置。   (Additional remark 6) The said 1st wiring has a shape where the edge of the both sides which pinched | interposed each said hole of the 1st direction crossing the said longitudinal direction becomes the same or substantially the same distance from the said hole. The electronic device according to appendix 5, characterized in that:

(付記7) 前記第1開口部は、複数の孔を含み、
前記複数の孔は、前記第1配線の長手方向と交差する第1方向に並設されていることを特徴とする付記1乃至4のいずれかに記載の電子装置。
(Supplementary Note 7) The first opening includes a plurality of holes,
The electronic device according to any one of appendices 1 to 4, wherein the plurality of holes are arranged in parallel in a first direction intersecting a longitudinal direction of the first wiring.

(付記8) 前記第1端子及び前記第2端子は、前記第1電子部品に電気的に接続されていることを特徴とする付記1乃至7のいずれかに記載の電子装置。
(付記9) 前記第1配線基板が搭載された第3配線基板を更に含み、
前記第1端子及び前記第2端子は、前記第3配線基板に電気的に接続されていることを特徴とする付記1乃至7のいずれかに記載の電子装置。
(Supplementary note 8) The electronic device according to any one of supplementary notes 1 to 7, wherein the first terminal and the second terminal are electrically connected to the first electronic component.
(Supplementary Note 9) Further includes a third wiring board on which the first wiring board is mounted,
The electronic device according to any one of appendices 1 to 7, wherein the first terminal and the second terminal are electrically connected to the third wiring board.

(付記10) 第2配線基板と、
前記第2配線基板上に搭載された第2電子部品と、
前記第1配線基板及び前記第2配線基板が搭載された第3配線基板と
を更に含み、
前記第2配線基板は、
第2基板と、
前記第2基板上に配置され、第2開口部を有する第2配線と、
前記第2配線の両端にそれぞれ配置された第4端子及び第5端子と
を備え、
前記第1配線と前記第2配線は、前記第1端子及び前記第2端子、前記第4端子及び前記第5端子、並びに、前記第3配線基板を用いて、直列又は並列に接続されていることを特徴とする付記1乃至9のいずれかに記載の電子装置。
(Appendix 10) a second wiring board;
A second electronic component mounted on the second wiring board;
A third wiring board on which the first wiring board and the second wiring board are mounted;
The second wiring board is
A second substrate;
A second wiring disposed on the second substrate and having a second opening;
A fourth terminal and a fifth terminal respectively disposed at both ends of the second wiring;
The first wiring and the second wiring are connected in series or in parallel using the first terminal and the second terminal, the fourth terminal and the fifth terminal, and the third wiring board. 10. The electronic device according to any one of appendices 1 to 9, wherein

(付記11) 第1配線基板と、前記第1配線基板上に搭載された第1電子部品とを含み、前記第1配線基板が、第1基板と、前記第1基板上に配置され、第1開口部を有する第1配線と、前記第1配線の両端にそれぞれ配置された第1端子及び第2端子とを備える電子装置を検査する検査方法であって、
前記第1端子と前記第2端子を用いて前記第1配線をモニタ部に電気的に接続する工程と、
前記モニタ部によって、前記第1配線に第1電気信号を供給する工程と、
前記モニタ部によって、前記第1電気信号をモニタする工程と
を含むことを特徴とする検査方法。
(Supplementary Note 11) A first wiring board and a first electronic component mounted on the first wiring board, wherein the first wiring board is disposed on the first board and the first board. An inspection method for inspecting an electronic device including a first wiring having one opening, and a first terminal and a second terminal respectively disposed at both ends of the first wiring,
Electrically connecting the first wiring to a monitor unit using the first terminal and the second terminal;
Supplying a first electrical signal to the first wiring by the monitoring unit;
And a step of monitoring the first electrical signal by the monitoring unit.

(付記12) 前記第1配線は、前記第1電子部品と対向する第1領域に配置されていることを特徴とする付記11に記載の検査方法。
(付記13) 前記電子装置は、第2配線基板と、前記第2配線基板上に搭載された第2電子部品と、前記第1配線基板及び前記第2配線基板が搭載された第3配線基板とを更に含み、
前記第2配線基板は、第2基板と、前記第2基板上に配置され、第2開口部を有する第2配線と、前記第2配線の両端にそれぞれ配置された第4端子及び第5端子とを備え、
前記第1配線と前記第2配線は、前記第1端子及び前記第2端子、前記第4端子及び前記第5端子、並びに、前記第3配線基板を用いて、直列又は並列に接続され、
前記第1配線を前記モニタ部に電気的に接続する工程は、前記第1配線と前記第2配線を前記モニタ部に電気的に接続する工程を含み、
前記第1配線に前記第1電気信号を供給する工程は、前記第1配線と前記第2配線に前記第1電気信号を供給する工程を含むことを特徴とする付記11又は12に記載の検査方法。
(Additional remark 12) The said 1st wiring is arrange | positioned in the 1st area | region facing the said 1st electronic component, The inspection method of Additional remark 11 characterized by the above-mentioned.
(Supplementary Note 13) The electronic device includes a second wiring board, a second electronic component mounted on the second wiring board, and a third wiring board on which the first wiring board and the second wiring board are mounted. And further including
The second wiring substrate includes a second substrate, a second wiring disposed on the second substrate and having a second opening, and a fourth terminal and a fifth terminal respectively disposed at both ends of the second wiring. And
The first wiring and the second wiring are connected in series or in parallel using the first terminal and the second terminal, the fourth terminal and the fifth terminal, and the third wiring board,
Electrically connecting the first wiring to the monitor unit includes electrically connecting the first wiring and the second wiring to the monitor unit;
13. The inspection according to appendix 11 or 12, wherein the step of supplying the first electric signal to the first wiring includes a step of supplying the first electric signal to the first wiring and the second wiring. Method.

(付記14) 基板と、
前記基板上に配置され、開口部を有する配線と、
前記配線の両端にそれぞれ配置された第1端子及び第2端子と
を備えることを特徴とする配線基板。
(Supplementary note 14) a substrate;
A wiring disposed on the substrate and having an opening;
A wiring board comprising: a first terminal and a second terminal respectively disposed at both ends of the wiring.

(付記15) 前記基板は、搭載される電子部品と対向する領域を有し、
前記配線は、前記領域に配置されていることを特徴とする付記14に記載の配線基板。
(Additional remark 15) The said board | substrate has an area | region facing the electronic component mounted,
The wiring board according to appendix 14, wherein the wiring is disposed in the region.

1,1A 半導体パッケージ
2,90a,90b,90c 電子装置
3,91 ボード
3a,12a,12c,12d,12f,12h,12j,12m,22 配線
3b,12b,21 端子
10,10A パッケージ基板
10Aa 端部領域
10Ab 内部領域
10Ac,10Ad 面
11 基板
11a コア基板
11aa 基材
11ab,11ad 絶縁層
11ac,13a,13b 開口部
12 導電部
12e,12g ビアホール
12i,12k ビア
13 保護膜
20 半導体チップ
30,31 バンプ
40 アンダーフィル樹脂
50 モニタ配線
50a 導体パターン
51a,51b,51c 孔
52,53 エッジ
54,55,56,57,58,59 部位
60,70 モニタ端子
80 モニタ部
81 電気信号供給部
82 電気信号検出部
83 導通判定部
84 断線情報出力部
92 接続配線
100 クラック
X,Y,D,D1〜D5 方向
d1〜d10 距離
AR 搭載領域
1, 1A Semiconductor package 2, 90a, 90b, 90c Electronic device 3, 91 Board 3a, 12a, 12c, 12d, 12f, 12h, 12j, 12m, 22 Wiring 3b, 12b, 21 Terminal 10, 10A Package substrate 10Aa End Area 10Ab Internal area 10Ac, 10Ad surface 11 Substrate 11a Core substrate 11aa Base material 11ab, 11ad Insulating layer 11ac, 13a, 13b Opening 12 Conductive part 12e, 12g Via hole 12i, 12k Via 13 Protective film 20 Semiconductor chip 30, 31 Bump 40 Underfill resin 50 Monitor wiring 50a Conductor pattern 51a, 51b, 51c Hole 52, 53 Edge 54, 55, 56, 57, 58, 59 Site 60, 70 Monitor terminal 80 Monitor part 81 Electric signal supply part 82 Electric signal detection part 8 Conducting determination unit 84 disconnected information output unit 92 connection wiring 100 cracks X, Y, D, D1~D5 direction d1~d10 distance AR mounting region

Claims (11)

第1配線基板と、
前記第1配線基板上に搭載された第1電子部品と
を含み、
前記第1配線基板は、
第1基板と、
前記第1基板上に配置され、第1開口部を有する第1配線と、
前記第1配線の両端にそれぞれ配置された第1端子及び第2端子と
を備えることを特徴とする電子装置。
A first wiring board;
A first electronic component mounted on the first wiring board,
The first wiring board is:
A first substrate;
A first wiring disposed on the first substrate and having a first opening;
An electronic device comprising: a first terminal and a second terminal respectively disposed at both ends of the first wiring.
前記第1配線は、前記第1電子部品と対向する第1領域に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の電子装置。   The electronic device according to claim 1, wherein the first wiring is arranged in a first region facing the first electronic component. 前記第1配線は、
前記第1領域の端部領域に配置された第1配線部と、
前記第1領域の、前記端部領域よりも内側の内部領域に配置され、前記第1配線部と異なる大きさの応力で断線する第2配線部と
を有することを特徴とする請求項2に記載の電子装置。
The first wiring is
A first wiring portion disposed in an end region of the first region;
3. The second wiring part, which is disposed in an inner area inside the end area of the first area, and is disconnected by a stress having a magnitude different from that of the first wiring part. The electronic device described.
前記第1配線基板は、
前記第1電子部品が電気的に接続される第3端子群を備え、
前記第1配線の少なくとも一部が、前記第3端子群内の隣接する第3端子間を通ることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の電子装置。
The first wiring board is:
A third terminal group to which the first electronic component is electrically connected;
4. The electronic device according to claim 1, wherein at least a part of the first wiring passes between adjacent third terminals in the third terminal group. 5.
前記第1開口部は、複数の孔を含み、
前記複数の孔は、前記第1配線の長手方向に並設されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の電子装置。
The first opening includes a plurality of holes,
The electronic device according to claim 1, wherein the plurality of holes are arranged in parallel in a longitudinal direction of the first wiring.
前記第1配線は、前記長手方向と交差する第1方向の、それぞれの前記孔を挟んだ両側のエッジが、当該孔から同一又は略同一の距離になる形状を有していることを特徴とする請求項5に記載の電子装置。   The first wiring has a shape in which edges on both sides of each hole in the first direction intersecting the longitudinal direction are the same or substantially the same distance from the hole. The electronic device according to claim 5. 前記第1開口部は、複数の孔を含み、
前記複数の孔は、前記第1配線の長手方向と交差する第1方向に並設されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の電子装置。
The first opening includes a plurality of holes,
5. The electronic device according to claim 1, wherein the plurality of holes are arranged in parallel in a first direction intersecting with a longitudinal direction of the first wiring.
第2配線基板と、
前記第2配線基板上に搭載された第2電子部品と、
前記第1配線基板及び前記第2配線基板が搭載された第3配線基板と
を更に含み、
前記第2配線基板は、
第2基板と、
前記第2基板上に配置され、第2開口部を有する第2配線と、
前記第2配線の両端にそれぞれ配置された第4端子及び第5端子と
を備え、
前記第1配線と前記第2配線は、前記第1端子及び前記第2端子、前記第4端子及び前記第5端子、並びに、前記第3配線基板を用いて、直列又は並列に接続されていることを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の電子装置。
A second wiring board;
A second electronic component mounted on the second wiring board;
A third wiring board on which the first wiring board and the second wiring board are mounted;
The second wiring board is
A second substrate;
A second wiring disposed on the second substrate and having a second opening;
A fourth terminal and a fifth terminal respectively disposed at both ends of the second wiring;
The first wiring and the second wiring are connected in series or in parallel using the first terminal and the second terminal, the fourth terminal and the fifth terminal, and the third wiring board. The electronic device according to claim 1, wherein the electronic device is an electronic device.
第1配線基板と、前記第1配線基板上に搭載された第1電子部品とを含み、前記第1配線基板が、第1基板と、前記第1基板上に配置され、第1開口部を有する第1配線と、前記第1配線の両端にそれぞれ配置された第1端子及び第2端子とを備える電子装置を検査する検査方法であって、
前記第1端子と前記第2端子を用いて前記第1配線をモニタ部に電気的に接続する工程と、
前記モニタ部によって、前記第1配線に第1電気信号を供給する工程と、
前記モニタ部によって、前記第1電気信号をモニタする工程と
を含むことを特徴とする検査方法。
A first wiring board; and a first electronic component mounted on the first wiring board, wherein the first wiring board is disposed on the first board and the first opening. An inspection method for inspecting an electronic device comprising a first wiring having a first terminal and a second terminal respectively disposed at both ends of the first wiring,
Electrically connecting the first wiring to a monitor unit using the first terminal and the second terminal;
Supplying a first electrical signal to the first wiring by the monitoring unit;
And a step of monitoring the first electrical signal by the monitoring unit.
基板と、
前記基板上に配置され、開口部を有する配線と、
前記配線の両端にそれぞれ配置された第1端子及び第2端子と
を備えることを特徴とする配線基板。
A substrate,
A wiring disposed on the substrate and having an opening;
A wiring board comprising: a first terminal and a second terminal respectively disposed at both ends of the wiring.
前記基板は、搭載される電子部品と対向する領域を有し、
前記配線は、前記領域に配置されていることを特徴とする請求項10に記載の配線基板。
The substrate has a region facing an electronic component to be mounted,
The wiring board according to claim 10, wherein the wiring is arranged in the region.
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