JP2014227446A - シリカ−コポリマー架橋複合体及びその製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】触媒担体、吸着剤、徐放性材料、低屈折率用材料等にもちいることができる、空隙を有する樹脂架橋体を核として調製される溶媒に均一に分散し得る多孔質のシリカ−ポリマー複合粒子を提供すること。
【解決手段】下記式(1):
HO(CH2CH2O)20(CH2CH(CH3)O)70(CH2CH2O)20H (1)で表されるブロックコポリマーとトリスヒドロキシアミノメタンからなる空隙を有する球状の樹脂架橋体を核として、該空隙を有する球状の樹脂架橋体に支持された一次粒子径3〜30nmのコロイダルシリカの粒子集合体を外殻として有する直径20〜500nmのシリカ−コポリマー架橋複合体による。
【選択図】なし

Description

本発明は、コロイダルシリカの粒子集合体が、空隙を有する球状の樹脂架橋体に支持されて外殻を形成するシリカ−コポリマー架橋複合体に関する。
従来より、界面活性剤などを鋳型として調製される多孔質シリカ粒子は、制御された細孔構造を有することを特徴として、触媒担体、吸着剤、徐放性材料、低屈折率用材料等として幅広い分野で注目されている。
例えば、非特許文献1では、塩酸酸性で、ポリ(エチレングリコール)−block−ポリ(プロピレングリコール)−block−ポリ(エチレングリコール)(Pluronic(登録商標)P123)、TMOS(テトラメチルオルトシリケート)、及びアミノプロピルトリエトキシシランから歪形状のシリカ粒子が得られている。また、非特許文献2では、TEOS(テトラエチルオルトシリケート)をトリス(ヒドロキシメチル)アミノメタン存在下で反応させることで、平面状に凝集したシリカ多孔質体が得られている。また、塩酸酸性でポリ(エチレングリコール)−block−ポリ(プロピレングリコール)−block−ポリ(エチレングリコール)(Pluronic(登録商標)F127)、疎水性ヒュームドシリカ、及びTEOSから多孔質シリカの粉末が得られている(特許文献1を参照)。しかし、いずれの場合も溶媒に均一に分散した状態の多孔質シリカ粒子を得るには至っていない。
特開2011−6273号公報
Journal of Colloid and Interface Science 12,2010,352(2):401−4 Chem. Commun.,2011,47,10933−10935
本発明の課題は、上述の従来技術の問題点を解決することにあり、空隙を有する樹脂架橋体を核として調製される溶媒に均一に分散し得る多孔質のシリカ−ポリマー複合粒子を提供することを課題とする。
本発明は第1観点として、下記式(1):
HO(CH2CH2O)20(CH2CH(CH3)O)70(CH2CH2O)20H (1)で表されるブロックコポリマーとトリスヒドロキシアミノメタンからなる空隙を有する球状の樹脂架橋体を核として、該空隙を有する球状の樹脂架橋体に支持された一次粒子径3〜30nmのコロイダルシリカの粒子集合体を外殻として有する直径20〜500nmのシリカ−コポリマー架橋複合体であり、
第2観点として、細孔容積が0.8〜2mL/gである第1観点に記載のシリカ−コポリマー架橋複合体であり、
第3観点として、前記式(1)で表されるブロックコポリマーに対するトリスヒドロキシアミノメタンの質量比が0.2〜1.0である第1観点又は第2観点に記載のシリカ−
コポリマー架橋複合体であり、
第4観点として、第1観点〜第3観点のいずれか一つに記載のシリカ−コポリマー架橋複合体のコロイド分散体であり、
第5観点として、前記式(1)で表されるブロックコポリマー、トリスヒドロキシアミノメタン、テトラアルコキシシラン及び水を、テトラアルコキシシラン1モルに対して、前記ブロックコポリマーを0.001〜0.01モル、トリスヒドロキシアミノメタンを0.01〜0.1モルで混合し、10〜150℃で加熱することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載のシリカ−コポリマー架橋複合体の製造方法である。
本発明によれば、空隙を有する球状の樹脂架橋体を核として、該空隙を有する球状の樹脂架橋体に支持された一次粒子径3〜30nmのコロイダルシリカの粒子集合体を外殻として有する直径20〜500nmのシリカ−コポリマー架橋複合体をコロイド分散体の状態で得ることができ、触媒担体、吸着剤、徐放性材料、低屈折率用材料等として有効に利用できる。
図1は、実施例1により製造したシリカ−コポリマー架橋複合体の電子顕微鏡写真である。 図2は、実施例2により製造したシリカ−コポリマー架橋複合体の電子顕微鏡写真である。 図3は、実施例3により製造したシリカ−コポリマー架橋複合体の電子顕微鏡写真である。 図4は、実施例4により製造したシリカ−コポリマー架橋複合体の電子顕微鏡写真である。 図5は、実施例5により製造したシリカ−コポリマー架橋複合体の電子顕微鏡写真である。 図6は、実施例6により製造したシリカ−コポリマー架橋複合体の電子顕微鏡写真である。 図7は、実施例7により製造したシリカ−コポリマー架橋複合体の電子顕微鏡写真である。 図8は、実施例8により製造したシリカ−コポリマー架橋複合体の電子顕微鏡写真である。 図9は、比較例1により製造したシリカ−コポリマー架橋複合体の電子顕微鏡写真である。 図10は、比較例2により製造したシリカ−コポリマー架橋複合体の電子顕微鏡写真である。 図11は、実施例1乃至5により製造したシリカ−コポリマー架橋複合体の粒度分布を示す図である。 図12は、実施例6により製造したシリカ−コポリマー架橋複合体の細孔分布を示す図である。
本発明は、下記式(1):
HO(CH2CH2O)20(CH2CH(CH3)O)70(CH2CH2O)20H (1)で表されるブロックコポリマーとトリスヒドロキシアミノメタンからなる空隙を有する球状の樹脂架橋体を核として、該空隙を有する球状の樹脂架橋体に支持された一次粒子径3〜30nmのコロイダルシリカの粒子集合体を外殻として有する直径20〜500nmのシリカ−コポリマー架橋複合体である。
前記式(1)で表されるブロックコポリマーは、ポリ(エチレングリコール)−blo
ck−ポリ(プロピレングリコール)−block−ポリ(エチレングリコール)であり、Pluronic(登録商標)P123として市販品を入手可能である。
本発明のシリカ−コポリマー架橋複合体は、その核である球状の樹脂架橋体が空隙を有しており、これは当該シリカ−コポリマー架橋複合体の透過型電子顕微鏡観察により確認することができる。図1〜図8の透過型電子顕微鏡写真において、一次粒子径3〜30nmの複数のコロイダルシリカが空隙を有する形態で集合しており、その集合体の中心部分に前記の空隙を有する球状の樹脂架橋体が観察される。即ち、一次粒子径3〜30nmのコロイダルシリカの粒子集合体が該空隙を有する球状の樹脂架橋体に支持されて外殻を形成している状態である。
本発明のシリカ−コポリマー架橋複合体の直径は、20〜500nmであり、該架橋複合体の透過型電子顕微鏡観察により確認することができる。
本発明のシリカ−コポリマー架橋複合体の細孔容積は0.8〜2mL/gであり、定容量ガス吸着法を用いて測定することができる。
また、前記ブロックコポリマーとトリスヒドロキシアミノメタンからなる空隙を有する球状の樹脂架橋体において、ブロックコポリマーに対するトリスヒドロキシアミノメタンの質量比は0.2〜1.0であることが好ましい。
本発明のシリカ−コポリマー架橋複合体は、下記式(1):
HO(CH2CH2O)20(CH2CH(CH3)O)70(CH2CH2O)20H (1)で表されるブロックコポリマーとトリスヒドロキシアミノメタンとテトラアルコキシシランとを水中にて、テトラアルコキシシラン1モルに対して、前記ブロックコポリマーを0.001〜0.01モル、トリスヒドロキシアミノメタンを0.01〜0.1モルで混合し、10〜150℃で加熱することにより製造することができる。
本発明のシリカ−コポリマー架橋複合体の製造方法において、水中に添加されるテトラアルコキシシランは、水1000質量部に対して、15〜40質量部であることが望ましい。
用いられるテトラアルコキシシランは、炭素原子数1〜4の直鎖又は分岐を有していても良いアルコキシ基を有しており、4つのアルコキシ基は同じであっても異なっていても良い。好ましい例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等が挙げられる。
本発明のシリカ−コポリマー架橋複合体の製造方法においては、水中にテトラアルコキシシラン、前記ブロックコポリマー、トリスヒドロキシアミノメタンを撹拌下に混合し、撹拌を続けながら10〜100℃の加熱を1〜24時間行うことが好ましい。
テトラアルコキシシラン、前記ブロックコポリマー、トリスヒドロキシアミノメタンを添加する順序は特に制約はない。
本発明のシリカ−コポリマー架橋複合体の製造方法により、前記ブロックコポリマーとトリスヒドロキシアミノメタンからなる空隙を有する球状の樹脂架橋体を核として、該空隙を有する球状の樹脂架橋体に支持された一次粒子径3〜30nmのコロイダルシリカの粒子集合体を外殻として有する直径20〜500nmのシリカ−コポリマー架橋複合体は、コロイド分散体として得られる。該コロイド分散体の固形分濃度は、0.2〜8質量%である。該コロイド分散体の固形分は、該コロイド分散体を100℃で乾燥させた後の質量により測定することができる。
実施例における各物性の測定法及び測定条件は、以下のとおりである。
[1]電子顕微鏡観察
走査型電子顕微鏡(株式会社日立ハイテクノロジー製、日立超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡S−5500)を使用し、加速電圧30kVにて観察した。
[2]粒度分布
動的光散乱式粒子径分布測定装置(株式会社堀場製作所製、nano Partica
SZ−100)を使用して測定した。
[3]細孔分布
細孔分布測定装置(Quantachrome Instruments製、Autosorb 1)を使用し、吸着温度77K、乾燥条件1×10-2Torr、120℃、3時間の条件にて測定した。
[実施例1]
トリスヒドロキシアミノメタン(99質量%、和光純薬株式会社製)0.04g、及びポリ(エチレングリコール)−block−ポリ(プロピレングリコール)−block−ポリ(エチレングリコール)(Pluronic(登録商標)P123、Aldrich製)0.1gをイオン交換水50mLに溶解させた。この水溶液にテトラエトキシシラン(和光純薬株式会社製)2mLを添加し、60℃で24時間撹拌したところ、シリカ−コポリマー架橋複合体の水分散ゾルが得られた。このシリカ−コポリマー架橋複合体を電子顕微鏡で観察した結果、中核部分にコポリマー架橋体が存在し、その周囲を一次粒子径3乃至10nmのコロイダルシリカが取り巻いた直径20乃至30nmの多孔質のシリカ−コポリマー架橋複合体であった。
[実施例2]
撹拌時の温度を25℃とした以外は実施例1と同様の方法で、シリカ−コポリマー架橋複合体を製造した。
[実施例3]
撹拌時の温度を40℃とした以外は実施例1と同様の方法で、シリカ−コポリマー架橋複合体を製造した。
[実施例4]
撹拌時の温度を80℃とした以外は実施例1と同様の方法で、シリカ−コポリマー架橋複合体を製造した。
[実施例5]
撹拌時の温度を100℃とした以外は実施例1と同様の方法で、シリカ−コポリマー架橋複合体を製造した。
[実施例6]
ポリ(エチレングリコール)−block−ポリ(プロピレングリコール)−block−ポリ(エチレングリコール)(Pluronic(登録商標)P123、Aldrich製)の量を0.2gとした以外は実施例1と同様の方法で、シリカ−コポリマー架橋複合体を製造した。このシリカ−コポリマー架橋複合体の細孔分布測定を行ったところ、2乃至50nmのメソ孔以外に、50nm以上のマクロ孔の存在が確認された。また、全細孔容積は1.39mL/gであった。
[実施例7]
ポリ(エチレングリコール)−block−ポリ(プロピレングリコール)−block−ポリ(エチレングリコール)(Pluronic(登録商標)P123、Aldrich製)の量を0.2gとした以外は実施例4と同様の方法で、シリカ−コポリマー架橋
複合体を製造した。
[実施例8]
トリスヒドロキシアミノメタンの量を0.08g、ポリ(エチレングリコール)−block−ポリ(プロピレングリコール)−block−ポリ(エチレングリコール)(Pluronic(登録商標)P123、Aldrich製)の量を0.4g、水の量を100mLとした以外は実施例1と同様の方法で、シリカ−コポリマー架橋複合体を製造した。
[比較例1]
ポリ(エチレングリコール)−block−ポリ(プロピレングリコール)−block−ポリ(エチレングリコール)(Pluronic(登録商標)P123、Aldrich製)の量を0.4gとした以外は実施例1と同様の方法で、シリカ−コポリマー架橋複合体を製造した。
[比較例2]
トリスヒドロキシアミノメタンの代わりに2−アミノ−2−メチル−1−プロパノール(AMP、東京化成工業株式会社製、90質量%以上)0.02gを使用した以外は、実施例1と同様の方法で、シリカ−コポリマー架橋複合体を製造した。
上記の実施例、比較例にて使用した試薬の構成および反応温度を表1に、評価結果を表2に示した。

Claims (5)

  1. 下記式(1):
    HO(CH2CH2O)20(CH2CH(CH3)O)70(CH2CH2O)20H (1)で表されるブロックコポリマーとトリスヒドロキシアミノメタンからなる空隙を有する球状の樹脂架橋体を核として、該空隙を有する球状の樹脂架橋体に支持された一次粒子径3〜30nmのコロイダルシリカの粒子集合体を外殻として有する直径20〜500nmのシリカ−コポリマー架橋複合体。
  2. 細孔容積が0.8〜2mL/gである請求項1に記載のシリカ−コポリマー架橋複合体。
  3. 前記式(1)で表されるブロックコポリマーに対するトリスヒドロキシアミノメタンの質量比が0.2〜1.0である請求項1又は2に記載のシリカ−コポリマー架橋複合体。
  4. 請求項1〜3のいずれか一項に記載のシリカ−コポリマー架橋複合体のコロイド分散体。
  5. 前記式(1)で表されるブロックコポリマー、トリスヒドロキシアミノメタン、テトラアルコキシシラン及び水を、テトラアルコキシシラン1モルに対して、前記ブロックコポリマーを0.001〜0.01モル、トリスヒドロキシアミノメタンを0.01〜0.1モルで混合し、10〜150℃で加熱することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のシリカ−コポリマー架橋複合体の製造方法。
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