JP2014225530A - 半導体装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】トランジスタのチャネル領域に余剰電荷が蓄積してしまうことを防止する。【解決手段】半導体装置1は、主面10aを有するp型の半導体基板10と、主面10aに埋め込まれて活性領域K1の一端を区画する素子分離用絶縁膜131と、活性領域K1を通過するように主面10aに設けられたゲートトレンチGT1内にゲート絶縁膜30を介して埋め込まれたゲート電極311と、ゲートトレンチGT1と素子分離用絶縁膜131との間に配置される半導体ピラーP1と、半導体ピラーP1の上部に配置されるn型の上部拡散層201と、ゲートトレンチGT1の下方から半導体ピラーP1の下方にかけて配置されるn型の下部拡散層211と、素子分離用絶縁膜131と半導体ピラーP1の間に配置された、下部拡散層211の不純物濃度より高い濃度のp型の不純物を含有する側面拡散層111とを備える。【選択図】図1

Description

本発明は、半導体装置に関し、特に、トランジスタのゲート電極が半導体基板に埋め込まれた構造を有する半導体装置に関する。
近年、DRAM(Dynamic Random Access Memory)などの半導体装置ではトランジスタの微細化傾向が著しく、短チャネル効果が顕著になってきている。これは、DRAMの例で言えば、メモリセルのリテンション特性や書き込み特性の悪化に直結する問題である。
そこで、最近では、平面的なチャネル領域を有する従来のプレーナ型トランジスタに代えて、3次元構造のチャネル領域を有するトランジスタの利用が検討されている。このようなトランジスタの具体的な例としては、特許文献4,5に開示されるトレンチ型トランジスタや、特許文献1〜3に開示されるフィン型トランジスタが知られている。いずれの型においても、平面内だけではなく高さ方向にもチャネルを形成できることから、プレーナ型トランジスタに比べて長いチャネル長を得ることができ、したがって短チャネル効果を抑制することが可能になる。また、ゲート電極が半導体基板に埋め込まれた構造となっている場合、半導体基板の表面からゲート電極が突出することがないので、上層に設けられる各種の構成(DRAMの例では、セルキャパシタやビット線など)のレイアウトや加工が容易になるというメリットも得られる。
特開2005−064500号公報 特開2007−027753号公報 特開2007−305827号公報 特開2012−134439号公報 特開2012−248686号公報
ところで、特許文献5に開示されるDRAMでは、半導体基板の主面に、第1の方向に延在する活性領域と、第1の方向と交差する第2の方向にそれぞれ延在し、かつ活性領域と交差するように配置される第1及び第2のトレンチとが設けられる。活性領域の第1の方向の一端(第1のトレンチに近い方の端部)は第1の素子分離領域によって区画され、活性領域の第1の方向の他端(第2のトレンチに近い方の端部)は第2の素子分離領域によって区画される。
活性領域内には、2つのセルトランジスタ(第1及び第2のセルトランジスタ)が設けられる。第1及び第2のトレンチそれぞれの内部にはゲート絶縁膜を介してゲート電極を埋め込まれており、第1のトレンチに埋め込まれたゲート電極は第1のセルトランジスタのゲート電極を構成し、第2のトレンチに埋め込まれたゲート電極は第2のセルトランジスタのゲート電極を構成する。
活性領域内には、第1及び第2のトレンチの間に位置するトレンチ間領域と、第1のトレンチと第1の素子分離領域の間に位置する第1の半導体ピラーと、第2のトレンチと第2の素子分離領域の間に位置する第2の半導体ピラーとが区画される。このうちトレンチ間領域には、ビット線と接続される不純物拡散層(以下、「ビット線拡散層」と称する)が設けられる。ビット線拡散層は第1及び第2のセルトランジスタに共通であり、トレンチ間領域の下方から第1及び第2のトレンチそれぞれの下面に沿う領域にも延在する。一方、第1の半導体ピラーの上部には、第1のセルトランジスタに対応する第1のセルキャパシタと接続される不純物拡散層(上部拡散層)が設けられる。これにより、第1の半導体ピラーには、第1のセルトランジスタのチャネル領域が形成される。同様に、第2の半導体ピラーの上部には、第2のセルトランジスタに対応する第2のセルキャパシタと接続される不純物拡散層(上部拡散層)が設けられる。これにより、第2の半導体ピラーには、第2のセルトランジスタのチャネル領域が形成される。
ビット線拡散層のうち第1及び第2のトレンチそれぞれの下面に沿う領域に延在する部分は、第1及び第2のトレンチを形成した後、これらの底面に不純物イオンを注入することによって形成される。こうして底面にもビット線拡散層を形成するのは、上部拡散層における接合電界を緩和し、メモリセルのリテンション特性を向上させるためである。しかし一方で、微細化が進展して第1及び第2の半導体ピラーの幅が狭くなると、第1及び第2のトレンチの底面に注入した不純物イオンの一部が、第1及び第2の半導体ピラーを抜けて第1及び第2の素子分離領域まで達してしまう場合がある。そうすると、ビット線拡散層が第1及び第2の半導体ピラーの下部を塞ぐ形となり、第1及び第2の半導体ピラーに形成されるチャネル領域と、第1及び第2の半導体ピラーの下方に広がる半導体基板内の領域(以下、「下方領域」と称する)とが、ビット線拡散層によって分離されることになる。
セルトランジスタのオンオフ動作では、チャネル領域内に余剰電荷が発生することが分かっている。この余剰電荷は、通常、チャネル領域から下方領域を通してグランド等に放出される。しかしながら、上記のようにチャネル領域と下方領域とが分離されてしまうと、下方領域を通した余剰電荷の放出が機能しなくなる。その結果、チャネル領域に余剰電荷が蓄積し、それによって閾値が変動することにより、セルトランジスタの動作が不安定になってしまう。出願人は、これを「フローティングボディ効果」と呼んでいる。
本発明の一側面による半導体装置は、主面を有する第1導電型の半導体基板と、前記半導体基板に埋め込まれて活性領域の一端を区画する素子分離用絶縁膜と、前記活性領域を通過するように前記半導体基板に設けられたトレンチ内にゲート絶縁膜を介して埋め込まれたゲート電極と、前記トレンチと前記素子分離用絶縁膜との間に配置される半導体ピラーと、前記半導体ピラーの上部に配置される第2導電型の上部拡散層と、前記トレンチの下方から前記半導体ピラーの下方にかけて配置される前記第2導電型の下部拡散層と、前記素子分離用絶縁膜と前記半導体ピラーの間に配置された、前記下部拡散層の不純物濃度より高い濃度の前記第1導電型の不純物を含有する側面拡散層とを備えることを特徴とする。
本発明の他の一側面による半導体装置は、主面を有する第1導電型の半導体基板と、前記半導体基板に埋め込まれて活性領域の一端を区画する第1の素子分離用絶縁膜と、前記半導体基板に埋め込まれて前記活性領域の他端を区画する第2の素子分離用絶縁膜と、前記活性領域を通過するように前記半導体基板に設けられた第1のトレンチ内にゲート絶縁膜を介して埋め込まれた第1のゲート電極と、前記活性領域のうち前記第1のトレンチと前記第2の素子分離用絶縁膜の間の領域を通過するように前記半導体基板に設けられた第2のトレンチ内にゲート絶縁膜を介して埋め込まれた第2のゲート電極と、前記第1のトレンチと前記第1の素子分離用絶縁膜との間に配置される第1の半導体ピラーと、前記第2のトレンチと前記第2の素子分離用絶縁膜との間に配置される第2の半導体ピラーと、前記第1の半導体ピラーの上部に配置される第2導電型の第1の上部拡散層と、前記第2の半導体ピラーの上部に配置される前記第2導電型の第2の上部拡散層と、前記第1のトレンチと前記第2のトレンチの間に配置される前記第2導電型のトレンチ間拡散層と、前記第1の半導体ピラーの下方から前記第2の半導体ピラーの下方にかけて配置され、前記トレンチ間拡散層と接続される前記第2導電型の下部拡散層と、前記第1の素子分離用絶縁膜と前記第1の半導体ピラーの間に配置された、前記第1の下部拡散層の不純物濃度より高い濃度の前記第1導電型の不純物を含有する第1の側面拡散層と、前記第2の素子分離用絶縁膜と前記第2の半導体ピラーの間に配置された、前記第1の下部拡散層の不純物濃度より高い濃度の前記第1導電型の不純物を含有する第2の側面拡散層とを備えることを特徴とする。
本発明のさらに他の一側面による半導体装置は、主面を有する第1導電型の半導体基板と、前記半導体基板に埋め込まれて第1の活性領域の一端及び第2の活性領域の一端を区画する第1の素子分離用絶縁膜と、前記第1の活性領域を通過するように前記半導体基板に設けられた第1のトレンチ内にゲート絶縁膜を介して埋め込まれた第1のゲート電極と、前記第2の活性領域を通過するように前記半導体基板に設けられた第3のトレンチ内にゲート絶縁膜を介して埋め込まれた第3のゲート電極と、前記第1のトレンチと前記第1の素子分離用絶縁膜との間に配置される第1の半導体ピラーと、前記第3のトレンチと前記第1の素子分離用絶縁膜との間に配置される第3の半導体ピラーと、前記第1の半導体ピラーの上部に配置される第2導電型の第1の上部拡散層と、前記第3の半導体ピラーの上部に配置される前記第2導電型の第3の上部拡散層と、前記第1のトレンチの下方から前記第1の半導体ピラーの下方にかけて配置される前記第2導電型の第1の下部拡散層と、前記第3のトレンチの下方から前記第3の半導体ピラーの下方にかけて配置される前記第2導電型の第2の下部拡散層と、前記第1の素子分離用絶縁膜と前記第1の半導体ピラーの間に配置された、前記第1の下部拡散層の不純物濃度より高い濃度の前記第1導電型の不純物を含有する第1の側面拡散層と、前記第1の素子分離用絶縁膜と前記第3の半導体ピラーの間に配置された、前記第2の下部拡散層の不純物濃度より高い濃度の前記第1導電型の不純物を含有する第3の側面拡散層とを備えることを特徴とする。
本発明によれば、側面拡散層によって、半導体ピラー内に形成されるチャネル領域と、半導体ピラーの下方に広がる半導体基板内の領域(下方領域)との電気的接続が確保される。したがって、チャネル領域に余剰電荷が蓄積してしまうことを防止できる。
(a)は、(b)に示したB−B線に対応する、本発明の好ましい第1の実施の形態による半導体装置1の水平断面図であり、(b)は、(a)に示したA−A線に対応する半導体装置1の断面図である。 (a)は、製造工程における半導体装置1の平面図であり、(b)は、(a)に示したA−A線に対応する半導体装置1の断面図である。 (a)は、製造工程における半導体装置1の平面図であり、(b)は、(a)に示したA−A線に対応する半導体装置1の断面図である。 (a)は、製造工程における半導体装置1の平面図であり、(b)は、(a)に示したA−A線に対応する半導体装置1の断面図である。 (a)は、製造工程における半導体装置1の平面図であり、(b)は、(a)に示したA−A線に対応する半導体装置1の断面図である。 (a)は、製造工程における半導体装置1の平面図であり、(b)は、(a)に示したA−A線に対応する半導体装置1の断面図である。 (a)は、製造工程における半導体装置1の平面図であり、(b)は、(a)に示したA−A線に対応する半導体装置1の断面図である。 (a)は、(b)に示したB−B線に対応する、本発明の好ましい第2の実施の形態による半導体装置1の水平断面図であり、(b)は、(a)に示したA−A線に対応する半導体装置1の断面図である。 (a)は、製造工程における半導体装置1の平面図であり、(b)は、(a)に示したA−A線に対応する半導体装置1の断面図である。
以下、添付図面を参照しながら、本発明の好ましい実施の形態について詳細に説明する。なお、以下の説明で用いる図面では、発明の特徴を分かりやすくするために、便宜上、特徴となる部分を拡大して示している場合がある。この場合、各構成要素の寸法比率などは、必ずしも実際のものと同じにはならない。また、以下の説明において例示される材料、寸法等は一例であって、本発明はそれらに必ずしも限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲で適宜変更して実施することが可能である。
まず、図1を参照しながら、本発明の第1の実施の形態による半導体装置1の構造について説明する。なお、図1(b)では、後述する層間絶縁膜42より上に位置する構成の図示を省略している。
半導体装置1はDRAMとして機能させるものであり、半導体基板10の主面10aに、複数のメモリセルがマトリックス状に並べて配置されるメモリセル領域と、メモリセル領域内の各メモリセルの動作を制御するための回路が形成される周辺回路領域とが配置された構成を有している。図1(a)には、このうちメモリセル領域の一部のみを示している。半導体基板10の種類は特に限定されないが、p型(第1導電型)のシリコン単結晶基板を半導体基板10として用いることが好適である。以下では、半導体基板10はp型のシリコン単結晶基板であるとして説明する。
図1(a)に示すように、半導体基板10の主面10aには、複数の活性領域Kがマトリックス状に並べて配置される。各活性領域Kはそれぞれ2つのメモリセルに対応しており、具体的には、1つの活性領域K内に2つのセルトランジスタとそれぞれに対応するセルキャパシタが配置される。
各活性領域Kは、半導体基板10の主面10aに埋め込まれたそれぞれ複数の素子分離用絶縁膜13,14(素子分離領域)によって区画される。素子分離用絶縁膜13は、Y方向(第1の方向)に延在するトレンチ内に埋め込まれた絶縁膜によって構成され、素子分離用絶縁膜14は、X方向(第1の方向と交差する方向。第2の方向))に延在するトレンチ内に埋め込まれた絶縁膜によって構成される。素子分離用絶縁膜13,14は、図1(b)に示すように、ライナー酸化膜12を介して、対応するトレンチに埋め込まれる。なお、図1(a)ではライナー酸化膜12の図示を省略している。
素子分離用絶縁膜13,14の底面と半導体基板10の主面10aとの間は、図1(b)に示すように、素子形成領域A1である。一方、素子形成領域A1より半導体基板10の内側の領域は、下方領域A2である。下方領域A2には、図示しない端子を通じて、外部から基板電位が供給されている。
素子分離用絶縁膜13の配置間隔はリソグラフィの最小加工寸法に、素子分離用絶縁膜14の配置間隔はリソグラフィの最小加工寸法の5倍に、それぞれ等しくなるよう設定される。したがって、活性領域KのX方向の長さは最小加工寸法の5倍に等しくなり、Y方向の長さは最小加工寸法に等しくなる。つまり、活性領域KはX方向に延在している。なお、図1(a)では活性領域Kを長方形として描いているが、平行四辺形や角丸長方形などの他の形状とすることも可能である。
ここで、図1(a)(b)及び後掲の各図には、活性領域K,Kのように、符号に下付の数字を付したものがある。この下付数字は説明の便宜上付加しているもので、具体的な構造は、下付数字がないものと同一である。図示するように、活性領域K,K(第1及び第2の活性領域)はX方向(第2の方向)に隣接して配置される。活性領域KのX方向の一端及び活性領域KのX方向の一端はそれぞれ、素子分離用絶縁膜13(第1の素子分離用絶縁膜)によって区画される。活性領域KのX方向の他端は、素子分離用絶縁膜13(第2の素子分離用絶縁膜)によって区画される。
半導体基板10の主面10aには、さらに、それぞれY方向に延在する複数のゲートトレンチGTが設けられる。これら複数のゲートトレンチGTは、1つの活性領域Kを2本のゲートトレンチGTが通過するように配置される。図1(a)に示すように、活性領域Kを通過するゲートトレンチGTは、ゲートトレンチGT,GT(第1及び第2のトレンチ)の2本である。ゲートトレンチGTは、ゲートトレンチGTと素子分離用絶縁膜13の間の領域を通過するように配置される。また、活性領域Kを通過する2本のゲートトレンチGTのうち活性領域Kに近い位置を通過するものは、ゲートトレンチGT(第3のトレンチ)である。
ゲートトレンチGTには、ゲート絶縁膜30を介して、対応するセルトランジスタの制御端子を構成するゲート電極31が埋め込まれる。例えば、ゲートトレンチGTにはゲート電極31(第1のゲート電極)が、ゲートトレンチGTにはゲート電極31(第2のゲート電極)が、ゲートトレンチGTにはゲート電極31(第3のゲート電極)がそれぞれ埋め込まれる。ゲート電極31はゲートトレンチGTの下部に埋め込まれており、ゲートトレンチGTの上部には、ゲート電極31の上面を覆うキャップ絶縁膜33が埋め込まれている。キャップ絶縁膜33の上面は、半導体基板10の主面10aを覆う層間絶縁膜15の上面と同一の平面を構成している。各ゲートトレンチGT内のゲート電極31はそれぞれ、DRAMのワード線を構成する。
活性領域Kは、2本のゲートトレンチGTによって3つの領域に分割される。このうち、ゲートトレンチGT間の領域(トレンチ間領域)には、n型(第2導電型)の不純物イオンを含むトレンチ間拡散層32が配置される。他の2つの領域はそれぞれ半導体ピラーPを構成し、対応するセルトランジスタのチャネル領域となる。
活性領域Kに関して具体的に説明すると、ゲートトレンチGTとゲートトレンチGTとの間にはトレンチ間拡散層32(第1の接続用拡散層)が配置され、ゲートトレンチGTと素子分離用絶縁膜13との間には半導体ピラーP(第1の半導体ピラー)が配置され、ゲートトレンチGTと素子分離用絶縁膜13との間には半導体ピラーP(第2の半導体ピラー)が配置される。また、活性領域Kに関しては、ゲートトレンチGTと素子分離用絶縁膜13との間に半導体ピラーP(第3の半導体ピラー)が配置され、ゲートトレンチGTともう1本のゲートトレンチGTとの間にはトレンチ間拡散層32(第2の接続用拡散層)が配置される。
トレンチ間拡散層32の上面は、上述した層間絶縁膜15を貫通するビット線コンタクトプラグ39を介して、ビット線BLの下面と接触している。ビット線BLは、後述するセルキャパシタCを避けるように図示したV方向(X方向に対して所定角度傾いた方向)及びW方向(X方向に対して、V方向とは逆方向に所定角度傾いた方向)に折れ曲がりながら、全体としてX方向に延在するスネークライン状の導電体である。図1(b)に示すように、ビット線BLの上面はカバー絶縁膜40で覆われ、ビット線BL及びカバー絶縁膜40の側面にはライナー膜41が設けられる。層間絶縁膜15の上面には層間絶縁膜42が形成されており、カバー絶縁膜40の上面は、層間絶縁膜42の上面と同一の平面を構成している。図1(a)から理解されるように、各ビット線BLは、X方向に並ぶ複数の活性領域Kそれぞれのトレンチ間拡散層32と共通に接続される。
各半導体ピラーPの上部には、n型の不純物イオンを含む上部拡散層20が配置される。例えば、半導体ピラーPの上部には上部拡散層20(第1の上部拡散層)が、半導体ピラーPの上部には上部拡散層20(第2の上部拡散層)が、半導体ピラーPの上部には上部拡散層20(第3の上部拡散層)がそれぞれ埋め込まれる。
上部拡散層20は、図1(b)に示すように、層間絶縁膜15,42を貫通する容量コンタクトプラグ43を介して、対応するセルキャパシタCの一方電極(下部電極)に接続される。例えば、上部拡散層20〜20はそれぞれ、セルキャパシタC〜C(第1乃至第3のセルキャパシタ)の一方電極に接続される。各セルキャパシタCの他方電極(上部電極)は、共通のプレート電極45に接続される。プレート電極45には、外部から接地電位が供給される。
素子形成領域A1の下部には、活性領域Kごとに、n型の不純物イオンを含む下部拡散層21が配置される。詳しくは後述するが、下部拡散層21は、各ゲートトレンチGTの底面にn型の不純物イオンを注入することによって形成される。
活性領域Kの例で言えば、半導体ピラーPの下方から半導体ピラーPの下方にかけて、下部拡散層21(第1の下部拡散層)が配置される。このように配置される下部拡散層21は、当然、ゲートトレンチGT,GT及びトレンチ間拡散層32の下方にも形成される。下部拡散層21のうちトレンチ間拡散層32の下方に形成される部分は、上面でトレンチ間拡散層32と接続される。活性領域Kにも同様に、トレンチ間拡散層32と接続される下部拡散層21(第2の下部拡散層)が配置される。
以上説明した構成により、それぞれの活性領域K内には、それぞれセルキャパシタCとビット線BLとの間に接続された2つのセルトランジスタが構成される。活性領域Kを例に取って説明すると、1つ目のセルトランジスタは、上部拡散層20をソース/ドレインの一方とし、下部拡散層21及びトレンチ間拡散層32をソース/ドレインの他方とし、ゲート電極31をゲート電極とするMOSFET(metal-oxide-semiconductor field-effect transistor)である。このセルトランジスタのチャネル領域は、半導体ピラーP内に形成される。2つ目のセルトランジスタは、上部拡散層20をソース/ドレインの一方とし、下部拡散層21及びトレンチ間拡散層32をソース/ドレインの他方とし、ゲート電極31をゲート電極とするMOSFETである。このセルトランジスタのチャネル領域は、半導体ピラーP内に形成される。セルトランジスタの動作については、後ほどさらに詳しく説明する。
素子分離用絶縁膜13と半導体ピラーPの間には、下部拡散層21の不純物濃度より高い濃度のp型の不純物を含有する側面拡散層11が配置される。側面拡散層11は、素子分離用絶縁膜13の半導体ピラーPと対向する側面に形成される他、素子分離用絶縁膜13の底面にも形成される。
活性領域K,Kに着目してより具体的に説明すると、まず素子分離用絶縁膜13は、底面131aと、半導体ピラーPと対向する側面131bと、半導体ピラーPと対向する側面131cとを有して構成される。このうち側面131bには側面拡散層11(第1の側面拡散層)が形成され、側面131cには側面拡散層11(第3の側面拡散層)が形成される。これら側面拡散層11,11は、底面131aに形成された側面拡散層11とともに、一体として1つの側面拡散層11を構成している。また、素子分離用絶縁膜13は、底面132aと、半導体ピラーPと対向する側面132cと、側面132bの反対側に位置する側面132bとを有して構成される。このうち側面132cには側面拡散層11(第2の側面拡散層)が形成される。側面拡散層11は、底面132a及び側面132bのそれぞれに形成された側面拡散層11とともに、一体として1つの側面拡散層11を構成している。
側面拡散層11の具体的な不純物濃度は、半導体基板10の不純物濃度や、下部拡散層21の不純物濃度に応じて、適宜決定される。具体的な例を挙げると、半導体基板10に含まれるp型不純物の濃度が5×1015atoms/cmであり、下部拡散層21に含まれるn型不純物の濃度が1×1019atoms/cmである場合、側面拡散層11に含まれるp型不純物の濃度を1×1019atoms/cmより高い濃度とする必要がある。一方、側面拡散層11に含まれるp型不純物の濃度の上限は特にないが、過度に高濃度化すると接合電界が高くなり接合リーク電流が増加するおそれがあるので、5×1019atoms/cm以下に留めることが好ましい。まとめると、側面拡散層11に含まれるp型不純物の濃度は、下部拡散層21に含まれるn型不純物の濃度より高く、かつ、下部拡散層21に含まれるn型不純物の濃度より0.5桁多い濃度以下とすることが好ましいと言える。側面拡散層11の不純物濃度をこのように設定するのは、側面拡散層11の形成後に下部拡散層21を形成するためのn型不純物のイオン注入を行う際、仮に側面拡散層11にn型不純物が侵入してきたとしても、側面拡散層11をp型に維持するためである。したがって、側面拡散層11は、下部拡散層21の形成後にもp型の状態を維持している。
また、側面拡散層11のうち素子分離用絶縁膜13の側面に形成される部分の厚み(X方向の幅)は、半導体ピラーPのX方向の幅の1/2以下とすることが好ましく、1/5以下とすることがより好ましく、1/10以下とすることがさらに好ましい。
以下、活性領域K内の半導体ピラーPをチャネル領域とするセルトランジスタを例に挙げつつ、側面拡散層11を設けることによって奏される効果について、詳しく説明する。
ゲート電極31に所定の正電圧を印加すると、半導体ピラーPの内部にチャネルが形成される。これにより、上部拡散層20と下部拡散層21とが導通し、セルトランジスタがオン状態となる。一方、ゲート電極31への上記正電圧の印加を停止すると、半導体ピラーP内のチャネルが消滅して上部拡散層20と下部拡散層21とが非導通状態となり、セルトランジスタがオフ状態となる。
このようなセルトランジスタのオンオフ動作に伴い、半導体ピラーPのチャネル領域には、余剰電荷(正孔)が発生する。側面拡散層11は、この余剰電荷の逃げ道として機能する。すなわち、チャネル領域内に発生した余剰電荷は、側面拡散層11を通じて下方領域A2に漏洩し、下方領域A2に接続されている基板電位供給用の電源配線を通じて外部に放出されることとなる。したがって、チャネル領域に余剰電荷が蓄積してしまうことを防止できる。
以上説明したように、本実施の形態による半導体装置1によれば、側面拡散層11によって、半導体ピラーP内に形成されるチャネル領域と、半導体ピラーPの下方に広がる半導体基板内の領域(下方領域A2)との電気的接続が確保される。したがって、チャネル領域に余剰電荷が蓄積してしまうことを防止できるので、セルトランジスタの動作の安定化が可能になる。
次に、本実施の形態による半導体装置1の製造方法について、図2〜図6を参照しながら説明する。
まず初めに、図2(a)(b)に示すように、半導体基板10の主面10aにレジスト90を塗布し、フォトリソグラフィ及びドライエッチングを用いて、それぞれY方向に延在する複数の素子分離溝H1を形成する。なお、素子分離溝H1は、いわゆるダブルパターニング法を用いて形成してもよい。素子分離溝H1を形成した後には、いわゆる斜め注入により、素子分離溝H1のX方向の両側面H1,H1に、半導体基板10内の不純物と同特性(=p型)の不純物をイオン注入する。不純物の濃度は、上述したように、後に形成する下部拡散層21に含まれるn型不純物の濃度より高く、かつ、下部拡散層21に含まれるn型不純物の濃度より0.5桁多い濃度以下とする。こうしてイオン注入した不純物は、素子分離溝H1ごとに一体化し、側面拡散層11を構成する。側面拡散層11は、側面H1,H1だけでなく素子分離溝H1の底面H1にも形成されるが、これは意図的なものではない。ただし、側面拡散層11と半導体基板10とは同特性であるので、底面H1に側面拡散層11が形成されても、特に問題となることはない。
次に、図3(a)(b)に示すように、熱酸化により、各素子分離溝H1の内表面にライナー酸化膜12(シリコン酸化膜)を形成する。なお、図3(a)では、ライナー酸化膜12の描画を省略している。その後、各素子分離溝H1の内部にシリコン酸化膜を埋め込むことにより、それぞれY方向に延在する複数の素子分離用絶縁膜13を形成する。このとき埋め込むシリコン酸化膜としては、AMD社製のFlowable−CVDシリコン酸化膜を用いることが好適である。
続いて、図4(a)(b)に示すように、フォトリソグラフィ及びドライエッチングを用いて、それぞれX方向に延在する複数の素子分離溝を半導体基板10の表面に形成し、素子分離用絶縁膜13の形成時と同様にして熱酸化膜の形成及びシリコン酸化膜の埋め込みを行うことにより、それぞれX方向に延在する複数の素子分離用絶縁膜14を形成する。これにより、マトリクス状に配置された複数の活性領域Kが区画される。その後、各活性領域Kの上面に、半導体基板10内の不純物と逆特性(=n型)の不純物を、低エネルギーでイオン注入する。これにより、各活性領域Kの上部に、後に上部拡散層20となる不純物拡散層50が形成される。
次に、図5(a)(b)に示すように、シリコン窒化膜である層間絶縁膜15を例えば20nm厚で全面に成膜し、さらにレジスト91を塗布する。そして、フォトリソグラフィ及びドライエッチングを用いて、それぞれY方向に延在する複数のゲートトレンチGTを形成する。なお、ゲートトレンチGTの形成にも、いわゆるダブルパターニング法を用いてもよい。これにより、ゲートトレンチGTと素子分離用絶縁膜13の間に、図5(b)に示した半導体ピラーP,P,Pを含む複数の半導体ピラーPが形成される。また、隣接するゲートトレンチGTの間には、半導体ピラーPTが形成される。
ゲートトレンチGTを形成したら、次に、ゲートトレンチGTの底面に、半導体基板10内の不純物と逆特性(=n型)の不純物をイオン注入する。これにより、下部拡散層21が形成される。なお、こうしてゲートトレンチGTの底面に下部拡散層21を形成するのは、上部拡散層20(ストレージノード側拡散層)における接合電界を緩和し、メモリセルのリテンション特性を向上させるためである。また、ゲートトレンチGTの底面へのイオン注入は、具体的には、LCI(Local Channel Implant)法によって行うことが好適である。
ゲートトレンチGTの底面に注入した不純物イオンは、図5(b)に示すように、半導体ピラーPの下方にも大きく張り出し、側面拡散層11まで達する。しかし、上述したように、側面拡散層11の不純物濃度を下部拡散層21の不純物濃度よりも高くしているため、側面拡散層11はp型の状態で維持される。したがって、下部拡散層21の形成後においても、半導体ピラーPと下方領域A2とは、側面拡散層11を通じて電気的に接続されている。
次に、図6(a)(b)に示すように、熱酸化によってゲートトレンチGTの内表面にゲート絶縁膜30を形成し、さらに、ゲートトレンチGTを埋める膜厚でタングステン膜を成膜した後、このタングステン膜のエッチバックを行うことによって、ゲートトレンチGT内にゲート電極31を形成する。なお、タングステン膜のエッチバックは、ゲート電極31の上面が上部拡散層20の下面よりも下に位置する程度まで行う。その後、シリコン窒化膜を成膜し、エッチバックを行うことにより、ゲートトレンチGTの内部にキャップ絶縁膜33で埋め込む。こうして形成されたキャップ絶縁膜33は、層間絶縁膜15と一体化する。
次に、図7(a)(b)に示すように、全面にレジスト92を塗布し、フォトリソグラフィ及びドライエッチングを用いて、層間絶縁膜15に、半導体ピラーPT(隣接するゲートトレンチGT間の領域)を露出させるビット線コンタクト溝H2を形成する。そして、このビット線コンタクト溝H2を通して半導体ピラーPT内に、半導体基板10内の不純物と逆特性(=n型)の不純物をイオン注入する。これにより、隣接するゲートトレンチGT間の領域に、トレンチ間拡散層32が形成される。このときのイオン注入は、トレンチ間拡散層32と、その下の下部拡散層21とが一体化するように実施する。その後は、図1(a)(b)に示したように、ビット線BL、容量コンタクトプラグ43、セルキャパシタCなど形成することにより、本実施の形態による半導体装置1が完成する。
以上説明したように、本実施の形態による半導体装置1の製造方法によれば、素子分離用絶縁膜13と半導体ピラーPの間に側面拡散層11を形成することが可能になる。したがって、安定して動作するセルトランジスタを備える半導体装置1を得ることが可能になる。
次に、図8を参照しながら、本発明の第2の実施の形態による半導体装置1の構造について説明する。なお、図8(b)でも、層間絶縁膜42より上に位置する構成の図示を省略している。
本実施の形態による半導体装置1は、素子分離用絶縁膜13と半導体基板10の間にBSG(Boron Silicon Glass)膜60が設けられる点で第1の実施の形態による半導体装置1と相違し、その他の点では第1の実施の形態による半導体装置1と同一である。なお、図8ではライナー酸化膜12を描画していないが、実際にはライナー酸化膜12も第1の実施の形態と同様に形成される。以下では、相違点に着目して説明する。
図8(a)(b)に示すように、本実施の形態による半導体装置1では、素子分離用絶縁膜13と半導体基板10の間にBSG膜60が設けられる。このBSG膜60は、半導体装置1の製造時に、半導体基板10内に側面拡散層11を構成するp型不純物としてのボロンを供給するためのもの(不純物供給膜)である。したがって、本実施の形態では、側面拡散層11に含有される不純物はボロンとなっている。以下、本実施の形態による半導体装置1の製造方法について詳しく説明する。
本実施の形態による半導体装置1の製造方法では、まず図9(a)(b)に示すように、半導体基板10の主面10aにレジスト90を塗布し、フォトリソグラフィ及びドライエッチングを用いて、それぞれY方向に延在する複数の素子分離溝H1を形成する。この素子分離溝H1自体は、第1の実施の形態で形成したものと同一である。本実施の形態では、その後、この素子分離溝H1の内表面に、5nm厚程度の薄いBSG膜60を形成する。そして、熱処理を行うことにより、BSG膜60中のボロンを半導体基板10内に拡散させる。これにより、図9(b)に示すように、側面拡散層11が形成される。このときボロンを拡散させる範囲は、後に形成されるゲートトレンチGTまでの距離の半分以下とする。この方法によっても、素子分離溝H1の底面にも側面拡散層11が形成されるが、第1の実施の形態でも説明したように、これが特に問題となることはない。その後は、第1の実施の形態と同様の工程を実施することにより、本実施の形態による半導体装置1が完成する。
以上説明したように、本実施の形態による半導体装置1の製造方法によっても、素子分離用絶縁膜13と半導体ピラーPの間に側面拡散層11を形成することが可能になる。したがって、安定して動作するセルトランジスタを備える半導体装置1を得ることが可能になる。
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は、上記の実施形態に限定されることなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。
例えば、上記各実施の形態では側面拡散層11を素子分離用絶縁膜13の底面及びX方向の両側面の全体に形成していたが、側面拡散層11は、上記のようにチャネル領域内に発生した余剰電荷の逃げ道としての役割を果たすものであるから、下部拡散層21と素子分離用絶縁膜13の間にあってこれらが直接接触することを防止できれば足りる。したがって、側面拡散層11を素子分離用絶縁膜13の底面及びX方向の両側面の全体に形成することは必須ではなく、少なくともチャネル領域内に発生した余剰電荷の逃げ道としての機能が発揮できる部分(下部拡散層21と素子分離用絶縁膜13の間)に形成すればよい。
A1 素子形成領域
A2 下方領域
BL ビット線
C,C〜C セルキャパシタ
GT,GT〜GT ゲートトレンチ
H1 素子分離溝
H2 ビット線コンタクト溝
K,K,K 活性領域
P,P〜P,PT 半導体ピラー
1 半導体装置
10 半導体基板
11,11〜11 側面拡散層
12 ライナー酸化膜
13,13,13,14 素子分離用絶縁膜
15,42 層間絶縁膜
20,20〜20 上部拡散層
21,21,21 下部拡散層
30 ゲート絶縁膜
31,31〜31 ゲート電極
32,32,32 トレンチ間拡散層
33 キャップ絶縁膜
39 ビット線コンタクトプラグ
40 カバー絶縁膜
41 ライナー膜
43 容量コンタクトプラグ
45 プレート電極
50 不純物拡散層
60 BSG膜
90,91 レジスト

Claims (14)

  1. 第1導電型の半導体基板と、
    前記半導体基板に埋め込まれて活性領域の一端を区画する素子分離用絶縁膜と、
    前記活性領域を通過するように前記半導体基板に設けられたトレンチ内にゲート絶縁膜を介して埋め込まれたゲート電極と、
    前記トレンチと前記素子分離用絶縁膜との間に配置される半導体ピラーと、
    前記半導体ピラーの上部に配置される第2導電型の上部拡散層と、
    前記トレンチの下方から前記半導体ピラーの下方にかけて配置される前記第2導電型の下部拡散層と、
    前記素子分離用絶縁膜と前記半導体ピラーの間に配置された、前記下部拡散層の不純物濃度より高い濃度の前記第1導電型の不純物を含有する側面拡散層と
    を備えることを特徴とする半導体装置。
  2. 前記素子分離用絶縁膜及び前記トレンチはそれぞれ第1の方向に延在し、
    前記活性領域は、前記第1の方向と交差する第2の方向に延在し、
    前記側面拡散層は、前記素子分離用絶縁膜の前記半導体ピラーと対向する側面に設けられる
    ことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
  3. 前記側面拡散層は、前記素子分離用絶縁膜の前記第2の方向の両側面及び底面に形成される
    ことを特徴とする請求項2に記載の半導体装置。
  4. 前記上部拡散層に接続されるセルキャパシタと、
    前記トレンチを挟んで前記半導体ピラーの反対側に配置され、前記下部拡散層と接続される接続用拡散層と、
    前記接続用拡散層に接続されるビット線とをさらに備え、
    前記ゲート電極はワード線である
    ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の半導体装置。
  5. 前記素子分離用絶縁膜と前記側面拡散層の間に配置された不純物供給膜
    をさらに備えることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の半導体装置。
  6. 第1導電型の半導体基板と、
    前記半導体基板に埋め込まれて活性領域の一端を区画する第1の素子分離用絶縁膜と、
    前記半導体基板に埋め込まれて前記活性領域の他端を区画する第2の素子分離用絶縁膜と、
    前記活性領域を通過するように前記半導体基板に設けられた第1のトレンチ内にゲート絶縁膜を介して埋め込まれた第1のゲート電極と、
    前記活性領域のうち前記第1のトレンチと前記第2の素子分離用絶縁膜の間の領域を通過するように前記半導体基板に設けられた第2のトレンチ内にゲート絶縁膜を介して埋め込まれた第2のゲート電極と、
    前記第1のトレンチと前記第1の素子分離用絶縁膜との間に配置される第1の半導体ピラーと、
    前記第2のトレンチと前記第2の素子分離用絶縁膜との間に配置される第2の半導体ピラーと、
    前記第1の半導体ピラーの上部に配置される第2導電型の第1の上部拡散層と、
    前記第2の半導体ピラーの上部に配置される前記第2導電型の第2の上部拡散層と、
    前記第1のトレンチと前記第2のトレンチの間に配置される前記第2導電型のトレンチ間拡散層と、
    前記第1の半導体ピラーの下方から前記第2の半導体ピラーの下方にかけて配置され、前記トレンチ間拡散層と接続される前記第2導電型の下部拡散層と、
    前記第1の素子分離用絶縁膜と前記第1の半導体ピラーの間に配置された、前記第1の下部拡散層の不純物濃度より高い濃度の前記第1導電型の不純物を含有する第1の側面拡散層と、
    前記第2の素子分離用絶縁膜と前記第2の半導体ピラーの間に配置された、前記第1の下部拡散層の不純物濃度より高い濃度の前記第1導電型の不純物を含有する第2の側面拡散層と
    を備えることを特徴とする半導体装置。
  7. 前記第1及び第2の素子分離用絶縁膜並びに前記第1及び第2のトレンチはそれぞれ第1の方向に延在し、
    前記活性領域は、前記第1の方向と交差する第2の方向に延在し、
    前記第1の側面拡散層は、前記第1の素子分離用絶縁膜の前記第1の半導体ピラーと対向する側面に設けられ、
    前記第2の側面拡散層は、前記第2の素子分離用絶縁膜の前記第2の半導体ピラーと対向する側面に設けられる
    ことを特徴とする請求項6に記載の半導体装置。
  8. 前記第1の側面拡散層は、前記第1の素子分離用絶縁膜の前記第2の方向の両側面及び底面に形成され、
    前記第2の側面拡散層は、前記第2の素子分離用絶縁膜の前記第2の方向の両側面及び底面に形成される
    ことを特徴とする請求項7に記載の半導体装置。
  9. 前記第1の上部拡散層に接続される第1のセルキャパシタと、
    前記第2の上部拡散層に接続される第2のセルキャパシタと、
    前記トレンチ間拡散層に接続されるビット線とをさらに備え、
    前記第1及び第2のゲート電極はそれぞれワード線である
    ことを特徴とする請求項6乃至8のいずれか一項に記載の半導体装置。
  10. 第1導電型の半導体基板と、
    前記半導体基板に埋め込まれて第1の活性領域の一端及び第2の活性領域の一端を区画する第1の素子分離用絶縁膜と、
    前記第1の活性領域を通過するように前記半導体基板に設けられた第1のトレンチ内にゲート絶縁膜を介して埋め込まれた第1のゲート電極と、
    前記第2の活性領域を通過するように前記半導体基板に設けられた第3のトレンチ内にゲート絶縁膜を介して埋め込まれた第3のゲート電極と、
    前記第1のトレンチと前記第1の素子分離用絶縁膜との間に配置される第1の半導体ピラーと、
    前記第3のトレンチと前記第1の素子分離用絶縁膜との間に配置される第3の半導体ピラーと、
    前記第1の半導体ピラーの上部に配置される第2導電型の第1の上部拡散層と、
    前記第3の半導体ピラーの上部に配置される前記第2導電型の第3の上部拡散層と、
    前記第1のトレンチの下方から前記第1の半導体ピラーの下方にかけて配置される前記第2導電型の第1の下部拡散層と、
    前記第3のトレンチの下方から前記第3の半導体ピラーの下方にかけて配置される前記第2導電型の第2の下部拡散層と、
    前記第1の素子分離用絶縁膜と前記第1の半導体ピラーの間に配置された、前記第1の下部拡散層の不純物濃度より高い濃度の前記第1導電型の不純物を含有する第1の側面拡散層と、
    前記第1の素子分離用絶縁膜と前記第3の半導体ピラーの間に配置された、前記第2の下部拡散層の不純物濃度より高い濃度の前記第1導電型の不純物を含有する第3の側面拡散層と
    を備えることを特徴とする半導体装置。
  11. 前記第1の素子分離用絶縁膜及び前記第1のトレンチはそれぞれ第1の方向に延在し、
    前記第1及び第2の活性領域はそれぞれ、前記第1の方向と交差する第2の方向に延在し、
    前記第1の側面拡散層は、前記第1の素子分離用絶縁膜の前記第1の半導体ピラーと対向する側面に設けられ、
    前記第3の側面拡散層は、前記第1の素子分離用絶縁膜の前記第3の半導体ピラーと対向する側面に設けられる
    ことを特徴とする請求項10に記載の半導体装置。
  12. 前記第1及び第3の側面拡散層は、前記第1の素子分離用絶縁膜の前記第2の方向の両側面及び底面に一体として形成される
    ことを特徴とする請求項11に記載の半導体装置。
  13. 前記第1の上部拡散層に接続される第1のセルキャパシタと、
    前記第3の上部拡散層に接続される第3のセルキャパシタと、
    前記第1のトレンチを挟んで前記第1の半導体ピラーの反対側に配置され、前記第1の下部拡散層と接続される第1の接続用拡散層と、
    前記第3のトレンチを挟んで前記第3の半導体ピラーの反対側に配置され、前記第2の下部拡散層と接続される第2の接続用拡散層と、
    前記第1及び第2の接続用拡散層のそれぞれに接続されるビット線とをさらに備え、
    前記第1及び第3のゲート電極はそれぞれワード線である
    ことを特徴とする請求項10乃至12のいずれか一項に記載の半導体装置。
  14. 前記半導体基板に埋め込まれて前記第1の活性領域の他端を区画する第2の素子分離用絶縁膜と、
    前記第1の活性領域のうち前記第1のトレンチと前記第2の素子分離用絶縁膜の間の領域を通過するように前記半導体基板に設けられた第2のトレンチ内にゲート絶縁膜を介して埋め込まれた第2のゲート電極と、
    前記第2のトレンチと前記第2の素子分離用絶縁膜との間に配置される第2の半導体ピラーと、
    前記第2の半導体ピラーの上部に配置される前記第2導電型の第2の上部拡散層と、
    前記第1のトレンチと前記第2のトレンチの間に配置される前記第2導電型のトレンチ間拡散層と、
    前記第2の素子分離用絶縁膜と前記第2の半導体ピラーの間に配置された、前記第1の下部拡散層の不純物濃度より高い濃度の前記第1導電型の不純物を含有する第2の側面拡散層とをさらに備え、
    前記第1の下部拡散層は、前記第1の半導体ピラーの下方から前記第2の半導体ピラーの下方にかけて配置され、前記トレンチ間拡散層と接続される
    ことを特徴とする請求項1乃至12のいずれか一項に記載の半導体装置。
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