JP2014225317A - マイクロアクチュエータおよびディスクドライブ - Google Patents
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- 238000002161 passivation Methods 0.000 claims abstract description 69
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 38
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 113
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 98
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 15
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 11
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims description 9
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 9
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 7
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims description 5
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 5
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 4
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 25
- 239000000463 material Substances 0.000 description 22
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 22
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 5
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910002367 SrTiO Inorganic materials 0.000 description 2
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005380 borophosphosilicate glass Substances 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 239000012777 electrically insulating material Substances 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003209 poly(hydridosilsesquioxane) Polymers 0.000 description 2
- 230000036316 preload Effects 0.000 description 2
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
- REHONNLQRWTIFF-UHFFFAOYSA-N 3,3',4,4',5-pentachlorobiphenyl Chemical compound C1=C(Cl)C(Cl)=CC=C1C1=CC(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C1 REHONNLQRWTIFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBZHKWVYRQRZQC-UHFFFAOYSA-N [Si+4].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O Chemical compound [Si+4].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O PBZHKWVYRQRZQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000012876 topography Methods 0.000 description 1
- 230000002463 transducing effect Effects 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/4806—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed specially adapted for disk drive assemblies, e.g. assembly prior to operation, hard or flexible disk drives
- G11B5/4873—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed specially adapted for disk drive assemblies, e.g. assembly prior to operation, hard or flexible disk drives the arm comprising piezoelectric or other actuators for adjustment of the arm
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/4806—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed specially adapted for disk drive assemblies, e.g. assembly prior to operation, hard or flexible disk drives
- G11B5/4826—Mounting, aligning or attachment of the transducer head relative to the arm assembly, e.g. slider holding members, gimbals, adhesive
- G11B5/483—Piezoelectric devices between head and arm, e.g. for fine adjustment
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/01—Manufacture or treatment
- H10N30/08—Shaping or machining of piezoelectric or electrostrictive bodies
- H10N30/081—Shaping or machining of piezoelectric or electrostrictive bodies by coating or depositing using masks, e.g. lift-off
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/01—Manufacture or treatment
- H10N30/08—Shaping or machining of piezoelectric or electrostrictive bodies
- H10N30/082—Shaping or machining of piezoelectric or electrostrictive bodies by etching, e.g. lithography
-
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/704—Piezoelectric or electrostrictive devices based on piezoelectric or electrostrictive films or coatings
- H10N30/706—Piezoelectric or electrostrictive devices based on piezoelectric or electrostrictive films or coatings characterised by the underlying bases, e.g. substrates
- H10N30/708—Intermediate layers, e.g. barrier, adhesion or growth control buffer layers
-
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/80—Constructional details
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- H10N30/883—Additional insulation means preventing electrical, physical or chemical damage, e.g. protective coatings
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/01—Manufacture or treatment
- H10N30/07—Forming of piezoelectric or electrostrictive parts or bodies on an electrical element or another base
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Abstract
Description
ハードディスクドライブシステム(HDD)は典型的に、1つ以上のデータ記憶ディスクを含む。スライダによって運ばれる変換ヘッドは、ディスク上のデータトラックからの読出またはこれへの書込に用いられる。ヘッドジンバルアセンブリ(HGA)は、トランスデューサが、媒体表面のトポグラフィに従うように複数の軸に沿ってジンバルで支えられるようにすることによって、トラックに隣接したデータトランスデューサヘッドの正確な位置決めを可能にする。マイクロアクチュエータは、HGAの共振モードを低減し、二次位置制御能力を与える。マイクロアクチュエータは、HGAトランスデューサの制御された回転を誘導するように、圧電(PZT)材料または他の材料から形成可能である。動作可能であるが、現在のマイクロアクチュエータ設計に関連の限界は、増大するHGA積層高さの必要性、非対称の駆動および共振特性の導入、増大するHGA予荷重力集中、およびマイクロアクチュエータおよびスライダに別個に電気制御信号をルーティングするためのHGA中の付加的なインターポーザ構造の必要性を含み得る。
本開示は、パシベーション層によってマイクロアクチュエータの保護を与えることにより、ヘッドジンバルアセンブリの改良を提供する。この開示は、マイクロアクチュエータへのパシベーション層の向上した接着を有するいくつかの構造およびそれらの構造を作製する方法を提供する。
本実施形態は、最も一般的には、マイクロアクチュエータに基づくヘッドジンバルアセンブリ(HGA)に関する。圧電(PZT)材料上方にパシベーション層を設けることによってヘッドジンバルアセンブリを保護するための改良が開示される。この開示は、マイクロアクチュエータへのパシベーション層の向上した接着を有するいくつかの構造およびそれらの構造を作製する方法を提供する。
Claims (20)
- マイクロアクチュエータであって、
基板と、
前記基板上のサンドイッチ構造とを備え、前記サンドイッチ構造は、貴金属を備える底部電極と、圧電層と、貴金属を備える頂部電極とからなり、さらに
前記基板および前記サンドイッチ構造上方のパシベーション層を備え、
前記マイクロアクチュエータはさらに、前記底部電極と前記パシベーション層との間に存在する底部接着層および前記頂部電極と前記パシベーション層との間に存在する頂部接着層のうち一方または両方を備える、マイクロアクチュエータ。 - 前記底部接着層および前記頂部接着層の両方を備える、請求項1に記載のマイクロアクチュエータ。
- 前記パシベーション層はオルトケイ酸テトラエチルを含む、請求項1に記載のマイクロアクチュエータ。
- 前記パシベーション層の厚みは1マイクロメートル未満である、請求項1に記載のマイクロアクチュエータ。
- 前記底部電極は白金を含み、前記頂部電極はルテニウムまたは白金を含む、請求項1に記載のマイクロアクチュエータ。
- 前記接着層の一方または両方は、チタン、タンタル、またはクロムを含む、請求項1に記載のマイクロアクチュエータ。
- 前記接着層の厚みは5〜15nmである、請求項6に記載のマイクロアクチュエータ。
- 前記基板と前記サンドイッチ構造との間に誘電層をさらに備える、請求項1に記載のマイクロアクチュエータ。
- マイクロアクチュエータであって、
ケイ素基板と、
前記基板上の底部電極と、
前記底部電極の第1のセクション上のかつこれに接する圧電層と、
前記圧電層の上のかつこれに接する頂部電極と、
前記底部電極の第2のセクション上の底部接着層と、
前記頂部電極上の頂部接着層と、
前記底部接着層および前記頂部接着層上方のパシベーション層とを備える、マイクロアクチュエータ。 - 前記基板上に誘電層をさらに備え、前記底部電極は前記誘電層上にある、請求項9に記載のマイクロアクチュエータ。
- 前記底部電極および前記頂部電極は各々貴金属を含む、請求項9に記載のマイクロアクチュエータ。
- 前記底部電極は白金を含み、前記頂部電極はルテニウムまたは白金を含む、請求項11に記載のマイクロアクチュエータ。
- 前記底部電極および前記頂部電極は各々個別に、白金、イリジウム、ルテニウム、ロジウム、その合金、チタン酸ストロンチウム、またはニッケル酸ランタンを含む、請求項9に記載のマイクロアクチュエータ。
- 前記パシベーション層はオルトケイ酸テトラエチルを含む、請求項9に記載のマイクロアクチュエータ。
- 前記パシベーション層の厚みは1マイクロメートル未満である、請求項14に記載のマイクロアクチュエータ。
- 前記接着層の一方または両方は、チタン、タンタル、またはクロムを含む、請求項9に記載のマイクロアクチュエータ。
- 前記接着層の厚みは5〜15nmである、請求項9に記載のマイクロアクチュエータ。
- ディスクドライブであって、
マイクロアクチュエータと、サスペンションアセンブリと、ヘッドジンバルアセンブリとを備え、
前記マイクロアクチュエータは、ケイ素基板と、白金、イリジウム、ルテニウム、またはロジウムを含む、前記基板上の底部電極と、前記底部電極の第1のセクション上のかつこれに接する圧電層と、前記圧電層の上のかつこれに接する、白金、イリジウム、ルテニウム、またはロジウムを含む頂部電極と、前記底部電極の第2のセクション上の底部接着層と、前記頂部電極上の頂部接着層と、前記底部接着層および前記頂部接着層上方の誘電パシベーション層とを備える、ディスクドライブ。 - 前記パシベーション層はオルトケイ酸テトラエチルを含む、請求項18に記載のディスクドライブ。
- 前記接着層の一方または両方は、チタン、タンタル、またはクロムを含む、請求項18に記載のディスクドライブ。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US13/886,780 US8854772B1 (en) | 2013-05-03 | 2013-05-03 | Adhesion enhancement of thin film PZT structure |
US13/886,780 | 2013-05-03 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014225317A true JP2014225317A (ja) | 2014-12-04 |
JP2014225317A5 JP2014225317A5 (ja) | 2015-04-23 |
Family
ID=50630658
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014095193A Pending JP2014225317A (ja) | 2013-05-03 | 2014-05-02 | マイクロアクチュエータおよびディスクドライブ |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8854772B1 (ja) |
EP (1) | EP2800095A1 (ja) |
JP (1) | JP2014225317A (ja) |
KR (1) | KR101552279B1 (ja) |
CN (1) | CN104218146A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US9786308B1 (en) * | 2016-06-07 | 2017-10-10 | Seagate Technology Llc | Interconnect interposer attachable to a trailing edge of a slider |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20140131289A (ko) | 2014-11-12 |
US8854772B1 (en) | 2014-10-07 |
CN104218146A (zh) | 2014-12-17 |
EP2800095A1 (en) | 2014-11-05 |
KR101552279B1 (ko) | 2015-09-10 |
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