JP2014216648A - ウェハハンドリングをモニタリングするためのシステム及び方法並びにウェハハンドリングマシン - Google Patents

ウェハハンドリングをモニタリングするためのシステム及び方法並びにウェハハンドリングマシン Download PDF

Info

Publication number
JP2014216648A
JP2014216648A JP2014085665A JP2014085665A JP2014216648A JP 2014216648 A JP2014216648 A JP 2014216648A JP 2014085665 A JP2014085665 A JP 2014085665A JP 2014085665 A JP2014085665 A JP 2014085665A JP 2014216648 A JP2014216648 A JP 2014216648A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sensor
wafer handling
handling machine
wafer
controller
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2014085665A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6325325B2 (ja
Inventor
スティーブンブラッドリーマイナー
Bradley Miner Stephen
ブラッドリー マイナー スティーブン
ジョン フォスナイト ウィリアム
John Fosnight William
ジョン フォスナイト ウィリアム
ガラハー ライアン
Gallagher Ryan
ガラハー ライアン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
GlobalFoundries Inc
Original Assignee
GlobalFoundries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by GlobalFoundries Inc filed Critical GlobalFoundries Inc
Publication of JP2014216648A publication Critical patent/JP2014216648A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6325325B2 publication Critical patent/JP6325325B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67259Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
    • H01L21/67265Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection of substrates stored in a container, a magazine, a carrier, a boat or the like
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B19/00Programme-control systems
    • G05B19/02Programme-control systems electric
    • G05B19/418Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM]
    • G05B19/4184Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM] characterised by fault tolerance, reliability of production system
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B19/00Programme-control systems
    • G05B19/02Programme-control systems electric
    • G05B19/418Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM]
    • G05B19/41875Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM] characterised by quality surveillance of production
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67259Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/6735Closed carriers
    • H01L21/67389Closed carriers characterised by atmosphere control
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67763Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68707Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a robot blade, or gripped by a gripper for conveyance
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00Program-control systems
    • G05B2219/30Nc systems
    • G05B2219/37Measurements
    • G05B2219/37224Inspect wafer
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00Program-control systems
    • G05B2219/30Nc systems
    • G05B2219/45Nc applications
    • G05B2219/45031Manufacturing semiconductor wafers
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P90/00Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
    • Y02P90/02Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S901/00Robots
    • Y10S901/02Arm motion controller
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S901/00Robots
    • Y10S901/27Arm part

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Quality & Reliability (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Robotics (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Testing And Monitoring For Control Systems (AREA)

Abstract

【課題】ウェハハンドリングをモニタリングするためのシステム、マシン及び方法を提供する。【解決手段】センサ110及び制御器114を含み、センサは、組み立てられたウェハハンドリングマシンに固定することが可能である。制御器は、センサと電子的に通信し且つ制御ロジックを含む。制御ロジックは、ウェハハンドリングマシンが位置合わせされているときにセンサの基準出力を記憶するように構成され且つ基準出力とセンサの現在出力の差がスレッショルドを超えるときに表示信号を生成するように構成される。【選択図】図1

Description

本開示は半導体ウェハハンドリングに関する。より具体的には、本開示は、半導体ウェハハンドリングの間に可能性がある傷(scratches)を検出するためにマシン位置合わせをモニタリングすることに関する。
集積回路及び他の微小デバイスの製造には、種々のマシンにおいて実行される種々の処理ステップが伴う。半導体材料の薄い薄片(ウェハ)は、典型的にはロボットウェハハンドラを用いて異なるマシン間で動かされ又は渡される。ロボットウェハハンドラの部品は、部品磨耗又は人間との偶発的な干渉に起因して位置合わせから外れてしまうことがある。例えば、ウェハハンドラの部品上での0.1度の傾斜の結果、ハンドリングに際してロボットアームがウェハを傷つけることがある。
傷ついたウェハは通常は廃棄され、ツール時間及び材料の損失が結果としてもたらされる。更に、典型的なウェハ処理手順では、幾つもの処理ステップを経てウェハが検査されて初めて傷を検出することができる。幾つもの処理ステップの間、位置合わせから外れたツールによって何百ものウェハに傷がついてしまうかもしれない。
ツールによって傷がつけられているかどうかをチェックするために、追加的なステップが追加され得る。追加的なステップは、典型的には、ウェハ及び欠陥ツール(defect tool)を用いて週1回のベースで行われる。これらのステップはサイクルタイムやウェハにコストがかかるし、依然として一定期間は未検出の傷が生じてしまう可能性がある。その間ずっと、何千ものウェハが傷つけられてしまうかもしれない。追加的なステップの頻度を増すと、更に多くのツールタイムが損失することになる。
そこで、可能性のあるウェハ傷に対してウェハハンドリングをモニタリングするためのシステム及び方法を提供することが望ましい。また、改良されたウェハハンドリングマシンを提供することが望ましい。更に、他の望ましい特徴及び特性は、後続の詳細な説明及び添付の特許請求の範囲と共に添付図面、概要及びこの背景技術から明らかになろう。
ウェハハンドリングをモニタリングするためのシステム、マシン及び方法がここに開示される。1つの実施形態においては、ウェハハンドリングをモニタリングするためのシステムは、センサ及び制御器を含む。センサは、組み立てられたウェハハンドリングマシンに固定されるように構成される。制御器は、センサと電子的に通信し且つ制御ロジックを含む。制御ロジックは、ウェハハンドリングマシンが位置合わせされているときにセンサの基準出力を記憶するように構成され且つ基準出力とセンサの現在出力の差がスレッショルドを超えるときに表示信号を生成するように構成される。
別の例示的な実施形態においては、ウェハハンドリングマシンは、ロードポート、ロボットアーム、センサ、制御器及び自動制御モジュールを含む。ロードポートはウェハを保持することが可能であり、またロボットアームはウェハを拾うこと及び動かすことが可能である。センサはロードポート及びロボットアームの少なくとも一方の外側に固定される。制御器は、ウェハハンドリングマシンが位置合わせされているときにセンサの基準出力を記憶することと、基準出力とセンサの現在出力の差がスレッショルドを超えるときに表示信号を生成することと、のための制御ロジックを含む。自動制御モジュールは、ロボットアームの動きを制御するように構成され、また制御器から分離されている。
別の例示的な実施形態においては、ウェハハンドリングをモニタリングする方法が提供される。この方法は、ウェハハンドリングマシンが位置合わせされているときに、ウェハハンドリングマシンに固定されるセンサの基準出力を記憶することと、基準出力とセンサの現在出力の差がスレッショルドを超えるときに表示信号を生成することと、を含む。
以下の図面と共に本開示の例示的な実施形態を下記で説明し、図面において同様の参照符号は同様の要素を示す。
図1は幾つかの実施形態に係るモニタリングシステムのブロック図である。 図2Aは幾つかの実施形態に係る図1のモニタリングシステムを含むウェハハンドリングマシンの斜視図(その1)である。 図2Bは幾つかの実施形態に係る図1のモニタリングシステムを含むウェハハンドリングマシンの斜視図(その2)である。 図3は幾つかの実施形態に係るウェハハンドリングをモニタリングするための方法のフロー図である。
以下の詳細な説明は、本来的に単に例示的なものであり、主題の実施形態又はそのような実施形態の応用及び使用を限定することは意図されていない。ここで用いられる語「例示的な」は、「例、事例又は実例として機能する」ことを意味する。例示的なものとしてここに説明されるいかなる実装も、他の実装に対して必ずしも望ましい又は有利なものとして解釈されるべきではない。また、先の技術分野、背景、概要又は以下の詳細な説明において表現される又は暗示されるいかなる理論にも制約されることは意図されていない。
以下の説明は、要素、ノード又は特徴が「接続され(connected)」又は「結合され(coupled)」ていることを参照する。明示的に別段の定めをした場合を除き、ここで用いられる「結合され」は、1つの要素/ノード/特徴が別の要素/ノード/特徴と直接的に結び付けられ(joined to)ること(又は直接的若しくは間接的に通信すること)を意味し、必ずしも機械的であることを意味するとは限らない。同様に、明示的に別段の定めをした場合を除き、「接続」は、1つの要素/ノード/特徴が別の要素/ノード/特徴と直接的に結び付けられること(又は直接的に通信すること)を意味し、必ずしも機械的であることを意味するとは限らない。
概して、ここに提供される実施形態は、傾斜センサ及び変位センサを利用して、ウェハツールのフレーム、チャンバ及びロードポートが位置合わせを保っていることを確認する。従って、位置合わせから外れたツールによりウェハが傷つくことが低減される。システムは、異なる部品及び構成を有する種々のウェハハンドリングマシンと共に用いられてよい。
図1は幾つかの実施形態に従うモニタリングシステム100のブロック図である。モニタリングシステム100は、複数のセンサ110と、撮像デバイス112と、制御器114と、を含む。モニタリングシステム100は、工場自動化インフラストラクチャ116とワイヤレス通信し得る。センサ110は第1の相互接続120を介して制御器114と電子的に通信し、撮像デバイス112は第2の相互接続122を介して制御器114と電子的に通信する。本例では、相互接続120,122は絶縁された導電性線群である。例えば、各センサは、制御器114との別個の通信のために内部接続120内に別個の線を有していてよい。尚、センサ110及び撮像デバイス112は、本開示の範囲を逸脱することなく、ワイヤレス通信による等の他の方法で制御器114と通信してもよい。
センサ110は、後で説明されるように、半導体デバイス製造のために用いられるウェハハンドリングマシンに固定されるように構成される。本例におけるセンサ110は、レベルセンサ又は傾斜センサ130、温度センサ132、振動センサ134及び高調波センサ136を含み、それぞれ複数あってよい。これらセンサ110は、ほぼリアルタイムの傷検出を可能にする。例えば振動センサ134は、ロボットが振動しており傷を生じさせる可能性のある場合を検出し得る。高調波センサ136は、マシンの高調波が経時的に変化しているかどうかを決定するために用いられてよく、この高調波の経時的な変化は、位置合わせ外れやウェハ傷の危険性を示すことができる。センサ130,132,134,136は個別に設けられてよく、又は1つのセンサハウジング内に一緒にパッケージ化されてよい。幾つかの実施形態では、傾斜センサ130のみが用いられる。
幾つかの実施形態では、これらセンサ110は微小電気機械システム(MEMS)センサである。センサ110は、制御器114による解析のために第1の相互接続120への出力信号を生成する。例えばある傾斜センサ130は、地球の重力に対する当該レベルセンサ130の方位を示すアナログの電圧信号又は電流信号を生成してよい。生成された信号の大きさは、次いでウェハハンドリングマシンの位置合わせがいつ変化したのかを決定するために制御器114によって解析されてよい。
撮像デバイス112は、ウェハハンドリングマシンに固定され且つ異なるハンドリング周期における同じ部分での画像を捕捉するように構成される。例えば撮像デバイス112は、後で説明されるように、アームがロードポート(load port)に進入する度にロボットアームの画像を捕捉してよい。捕捉された画像は、ウェハハンドリングマシンの部品(component)の高さがいつ位置合わせから外れたのかを決定するために制御器114によって解析されてよい。例えば、ウォームギア又はボールスクリューが摩滅してロボットアームの垂直位置合わせを基準高さ(reference height)から変化させてしまうことがある。
本例では、撮像デバイス112は電化結合素子(CCD)カメラである。撮像デバイス112は、第2の相互接続122上に信号を生成して、デジタル画像を解析のために制御器114へ転送する。尚、撮像デバイス112は単一画像を転送してもよいし、本開示の範囲から逸脱することなく実質的に連続的なビデオを転送してもよい。幾つかの実施形態では、制御器114の画像比較機能(以下に説明)は、撮像デバイス112内に組み込まれている。
制御器114は、ウェハハンドリングマシンの位置合わせの変化を解析するために、センサ110及び撮像デバイス112により生成された信号を受信する。制御器114は、複数のセンサ入力140と、撮像デバイス入力142と、パワーサプライ144と、制御ロジック146と、基準捕捉ボタン147と、ワイヤレスモデム148と、を含む。センサ入力140は、センサ110と電子的に結合されて、センサ110によって生成された出力信号を受信する。例えばセンサ入力140は、傾斜センサ130の傾斜角を示す傾斜センサ130によって生成されたアナログ出力を受信してよい。撮像デバイス入力142は、撮像デバイス112に電子的に結合されて、撮像デバイス112によって生成された画像を受信する。例えば撮像デバイス入力142は、ウェハハンドリングマシンのロボットアームの高さを示す撮像デバイス112からのデジタル画像を受信してよい。
制御ロジック146は、後で説明する種々のタスクを実行可能な任意の制御回路を含んでいてよい。例えば制御ロジック146は、特定用途向け集積回路(ASIC)、電子回路、1つ以上のソフトウェアプログラム若しくはファームウェアプログラムを実行するプロセッサ(共有プロセッサ、専用プロセッサ又はグループプロセッサ)及びメモリ、組み合わせ論理回路、並びに/又は説明される機能を提供する他の適切な部品を含み得る。幾つかの実施形態では、制御ロジック146は、ハードウェアベースのロジックであってよく、あるいはハードウェア要素、ファームウェア要素及び/又はソフトウェア要素の組み合わせを含んでいてよい。
制御ロジック146は、図3を参照して後で説明する動作の少なくとも幾つかを実行するように構成される。例えば制御ロジック146は、基準捕捉ボタン147が押されているときに、センサ110及び撮像デバイス112からの基準出力を捕捉し、そして記憶してよい。制御ロジック146は、更に、センサ110及び撮像デバイス112の出力信号を、記憶された基準出力と比較する。基準出力とセンサ110によって生成された現在の出力の差がスレッショルドを越える場合、制御ロジック146は表示信号を生成する。
基準出力を記憶し現在の値を基準出力と比較することによって、Z方向に関するセンサのレベルを規定するようにセンサが構成されている場合に、コストのかかるキャリブレーション手順の必要性を低減することができる。例えば、一時的に図2を参照すると、技術者は、柱222及びロードポート212の両者がZ方向に対して同一の極めて小さな角度となるように柱222及びロードポート212を手動で位置合わせしてよい。そのような位置合わせは、ウェハのハンドリングに際してウェハの傷を招くことはなく、従って基準出力の記憶に適している。
再び図1を参照すると、ワイヤレスモデム148は、表示信号をインフラストラクチャ116内のワイヤレスモデム150へ送る。尚、ワイヤレスモデム148,150は任意の適切なワイヤレスプロトコルを利用してよい。幾つかの実施形態では、ワイヤレスモデム148,150は有線ネットワーク通信で置換される。
インフラストラクチャ116のモニタリングアプリケーション152は、警告を送り、表示信号が生じているウェハハンドリングマシンへの更なるウェハの配送を禁止する。例えばモニタリングアプリケーション152は、ウェハハンドリングマシンが修理されるべきである旨を、ポケットベル、eメール、携帯メール又は別の方法で技術者に警告する。ウェハ配送を禁止することは、全ての継続中の製造物を別のウェハハンドリングマシン又はロードポートへ経路付けることを含んでいてよい。
次いで図2A及び2Bを参照すると、幾つかの実施形態に従いモニタリングシステム100が組み込まれている設備フロントエンドモジュール(equipment front end module)(EFEM)200の斜視図が示されている。概して、EFEM200は、種々の処理設備へと半導体ウェハをロードするためのウェハハンドリングマシンである。例えばEFEM200は、真空処理のための処理ツール、ウェハの測定を行う計測ステージ、ウェハを洗浄する湿式シンク等へとウェハをロードすることができる。尚、モニタリングシステム100は、本開示の範囲から逸脱することなしに、ウェハがハンドリングされる任意の設備(例えばロボット内部ツール、処理チャック等)に組み込まれていてよい。
EFEM200は、ロボットアーム210と、第1のロードポート212と、第2のロードポート214と、第3のロードポート216と、ロボットアームの動きを制御するための自動制御モジュール218と、を含む。ロボットアーム210は、トラック220、柱222及びエンドイフェクタ224を含む。ロボットアーム210は、X軸に沿って平行移動して(translates)ロードポート212,214,216の各々にアクセスする。柱222は自身が伸縮することでエンドイフェクタ224をZ軸に沿って平行移動させる。また、柱222はそれ自身が回転することでエンドイフェクタ224をY軸に沿って移動させる。
EFEM200の動作の間、前面開口統一化ポッド(front opening unified pods)(FOUPs)230がロードポート212,214,216上に置かれる。FOUPs230の各々は当初、積み重ねられた複数の半導体ウェハ232と1つのドア234とを含む。半導体ウェハ232は、例えば、半導体製造処理の種々の段階における結晶シリコンの薄片であってよい。ドア234は、当該FOUP230が置かれているロードポート内のメカニズムによって開けられてよい。これら半導体ウェハ232は、エンドイフェクタ224が最上部のウェハ232を移動させるためにFOUP230内のウェハ232間に入ることを可能にするよう、垂直方向で間隔を置かれている。エンドイフェクタ224がウェハを傷つけることを防止するために、EFEM200の部品は使用前に技術者によって位置合わせされる。
傾斜センサ130は、EFEM200の種々の部品の位置合わせをモニタリングするために、それら部品にそれぞれ固定されてよい。センサ130は任意の適切な形態で固定され得る。幾つかの実施形態では、センサ130は、EFEM200の最終的な組み立ての後にEFEM200に固定される。従って、センサ130は、工場内で既に利用されているであろう種々のマシンの任意の部品に固定されるように構成される。本例では、傾斜センサ130は、粘着ストリップ(adhesive strips)を用いてEFEM200の複数の部品の外側に固定される。本例では、傾斜センサ130は、柱222、EFEM200のベース、及びロードポート212,214,216の各々に固定される。撮像デバイス112は、エンドイフェクタ224がロードポートに入る近くでEFEM200に固定される。
制御器114が自動制御モジュール218から独立していることで、種々のマシン上でのシステム100の利用が促進される。例えば制御器114は、位置合わせの外れを表示する上で、EFEM200の製造元により使用されるソフトウェアのタイプによって限定されない。幾つかの実施形態では、システム100は、各々が異なる自動化制御モジュールを含む工場内の異なるマシンの間で運ばれる。
図3を参照すると、幾つかの実施形態に従いウェハハンドリングをモニタリングする方法300がフロー図の形態で示されている。動作302においては、ウェハハンドリングツールが設置される。例えば、完全に組み立てられたEFEM200が工場内に設置されてよい。本例では、ウェハハンドリングマシンは、内蔵式位置合わせ検出機能は有していない。動作304においては、ウェハハンドリングツールが位置合わせされる。例えば、技術者が水準器又は他の機器を用いてツールの各部品を手動で水平にしてよい。
動作306においては、組み立てられたウェハハンドリングツールにセンサがそれぞれ固定される。例えば、技術者は、粘着ストリップを用いてセンサ110をEFEM200に固定してよい。センサ110は、ウェハハンドリングツールの任意の部品に固定されてよい。例えば、EFEM200の柱222、ベース及びロードポート212,214,216に傾斜センサ130がそれぞれ固定されてよい。システム100のモジュール的性質及び製造元無依存の特性により、製造において既に用いられているツールへのセンサの組み込みが容易になる。
動作308においては、ウェハハンドリングマシンが位置合わせされている間に、基準出力が捕捉され記憶される。例えば、技術者は、基準捕捉ボタン147を押して、EFEM200が位置合わせされていることを表示する。次いで制御器114は、ボタン147が押されたときにセンサ110によって生成された出力を記憶する。既述したように、傾斜センサ130によって生成された出力は、傾斜センサ130の角度、従って柱222又はロードポート212,214,216の角度に対応する。
動作310においては、撮像デバイスがウェハハンドリングツールに固定される。例えば撮像デバイス112は、ロードポート212に隣接するEFEM200に固定されてよい。動作312においては、ツールが位置合わせされている間に基準画像が捕捉され記憶される。例えば、基準捕捉ボタン147が押されているときに、制御器114は、エンドイフェクタ224がロードポート214に入るハンドリング周期の一部分で基準画像を記憶してよい。
動作314においては、基準出力及び基準画像は、センサからの現在の出力及び撮像デバイスからの照合画像と比較される。例えば制御器114は、センサ110の基準出力とセンサ110によって現在生成されている出力との差を計算してよい。同様に、制御器114は、動作312において記憶された基準画像を、現在のハンドリング周期の当該一部分でエンドイフェクタ224がロードポート214に入る各タイミングで捕捉される照合画像と比較してよい。その結果、制御器114は、エンドイフェクタ224の現在の位置をエンドイフェクタ224の知らされた基準位置と比較して、エンドイフェクタ224がZ方向で位置合わせから外れているかどうかを決定することが可能である。
動作316は、ツールが位置合わせから外れているかどうかを決定する。例えば制御器114は、基準出力の1つとセンサの少なくとも1つの現在の出力との差がスレッショルドを超えているときに、ツールが位置合わせから外れていると決定してよい。幾つかの実施形態では、傾斜センサ130のためのスレッショルドは、位置合わせされた位置からの0.1度の変化に対応する。
ツールが位置合わせから外れていない場合には、動作314は繰り返されて、ツールの位置合わせを継続的にモニタリングする。ツールが位置合わせから外れている場合には、動作317において表示信号が生成される。例えば制御器114は、表示信号を生成してこれをワイヤレスモデム148を用いて工場自動化インフラストラクチャ116へ通信してよい。
動作318においては、位置合わせから外れたツールへのウェハ配送が禁止される。例えば第1のロードポート212が位置合わせから外れている場合、制御器114の制御ロジック146は、更なるウェハ配送を第1のロードポート212から第2及び第3のロードポート214,216へ経路変更するよう工場自動化インフラストラクチャ116に指示してよい。幾つかの実施形態では、柱222が位置合わせから外れている場合、インフラストラクチャ116は、更なるウェハ搬送を別のマシンへと経路変更する。
動作320においては、オペレータは、ツールが修理を必要としていることを通知される。例えば制御器114又はインフラストラクチャ116は、eメール通知、携帯メール通知、ポケットベル通知、又は他の通知を技術者に対して作成してよい。尚、本開示の範囲から逸脱することなく、任意の適切な種類の通知が包含され得る。
ここに提供される実施形態は、ウェハハンドリングのモニタリングのための有益な属性を提示する。モジュール的なモニタリングシステムを既存のマシン上で利用することによって、ウェハハンドリングに際しての傷を低減することができる。システムのモジュール的な性質は、可搬性、及びシステムの寿命を通しての異なるマシン上での利用を促進する。マシンが位置合わせされている間に基準レベルを記憶することによって、ツール製造業者により提案されるコストのかかるキャリブレーションサービスへの依存を低減することができる。加えて、システム及び方法は、中央施設からの、ツール位置合わせのほぼリアルタイムでのモニタリングを可能にする。
上述の詳細な説明においては、少なくとも1つの例示的な実施形態が説明されてきたが、多数の代替案が存在することが理解されるべきである。また、単一又は複数の例示的な実施形態は単なる例であり、本発明の範囲、適用性又は構成を限定するものではけっしてないことが理解されるべきである。むしろ、上述の詳細な説明は、単一又は複数の例示的な実施形態を実装するための便利な指針を当業者に提供するはずである。添付の特許請求の範囲に記載される発明及びその法的な均等なものの範囲から逸脱することなしに、要素の機能及び配置において種々の変更がなされ得ることが理解されるべきである。

Claims (20)

  1. ウェハハンドリングをモニタリングするためのシステムであって、
    組み立てられたウェハハンドリングマシンに固定されることが可能なセンサと、
    前記センサと電子的に通信する制御器と、を備え、
    前記制御器は、
    前記ウェハハンドリングマシンが位置合わせされているときに前記センサの基準出力を記憶することと、
    前記基準出力と前記センサの現在出力の差がスレッショルドを超えるときに表示信号を生成することと、のための制御ロジックを含むシステム。
  2. 組み立てられたウェハハンドリングマシンに固定された傾斜センサを含む請求項1に記載のシステム。
  3. 前記センサは、振動センサ、温度センサ及び高調波センサを含む複数のセンサを備える請求項2に記載のシステム。
  4. 撮像デバイスを更に備え、
    前記制御器は、
    ハンドリング周期の一部分の間に前記ウェハハンドリングマシンの部品の基準高さを示す前記撮像デバイスからの基準画像を記憶することと、
    別のハンドリング周期の当該一部分の間に前記撮像デバイスからの照合画像を捕捉することと、
    前記基準高さと前記照合画像における当該ウェハハンドリング部品の高さの差がスレッショルドを超えていることを前記基準画像と前記照合画像の差が示すときに前記表示信号を生成することと、のための制御ロジックを更に含む請求項1に記載のシステム。
  5. 前記制御器は前記ウェハハンドリングマシンへの半導体ウェハの自動化された配送の禁止を前記表示信号に基づき指令することのための制御ロジックを更に含む請求項1に記載のシステム。
  6. 前記制御器は前記表示信号を通信するためのワイヤレスモデムを更に含む請求項1に記載のシステム。
  7. 前記制御器はボタンを更に含み、前記制御ロジックは前記ボタンが押されているときに前記基準出力を記憶するように更に構成される請求項1に記載のシステム。
  8. ウェハを保持することが可能なロードポートと、
    前記ウェハを拾うこと及び動かすことが可能なロボットアームと、
    前記ロードポート及び前記ロボットアームの少なくとも一方の外側に固定されたセンサと、
    前記ウェハハンドリングマシンが位置合わせされているときに前記センサの基準出力を記憶することと、前記基準出力と前記センサの現在出力の差がスレッショルドを超えるときに表示信号を生成することと、のための制御ロジックを含む制御器と、
    前記ロボットアームの動きを制御するための自動制御モジュールと、を備え、
    前記自動制御モジュールは前記制御器から分離されているウェハハンドリングマシン。
  9. 前記センサは傾斜センサを含む請求項8に記載のウェハハンドリングマシン。
  10. 前記センサは、振動センサ、温度センサ及び高調波センサを含む複数のセンサを備える請求項8に記載のウェハハンドリングマシン。
  11. 撮像デバイスを更に備え、
    前記制御器は、
    ハンドリング周期の一部分の間に前記ロボットアームが基準高さにあるときに前記撮像デバイスからの基準画像を記憶することと、
    別のハンドリング周期の当該一部分の間に前記撮像デバイスからの照合画像を捕捉することと、
    前記基準高さと前記照合画像における前記ロボットアームの高さの差がスレッショルドを超えていることを前記基準画像と前記照合画像の差が示すときに前記表示信号を生成することと、のための制御ロジックを更に含む請求項8に記載のウェハハンドリングマシン。
  12. 前記制御器は前記ウェハハンドリングマシンへの半導体ウェハの自動化された配送の禁止を前記表示信号に基づき指令することのための制御ロジックを更に含む請求項8に記載のウェハハンドリングマシン。
  13. 前記制御器は前記表示信号を通信するためのワイヤレスモデムを更に含む請求項8に記載のウェハハンドリングマシン。
  14. 前記制御器はボタンを更に含み、前記制御ロジックは前記ボタンが押されているときに前記基準出力を記憶するように更に構成される請求項8に記載のウェハハンドリングマシン。
  15. ウェハハンドリングをモニタリングする方法であって、
    ウェハハンドリングマシンが位置合わせされているときに、前記ウェハハンドリングマシンに固定されるセンサの基準出力を記憶することと、
    前記基準出力と前記センサの現在出力の差がスレッショルドを超えるときに表示信号を生成することと、を備える方法。
  16. 組み立てられた半導体ウェハハンドリングマシンの部品に前記センサを固定することを更に備える請求項15に記載の方法。
  17. 前記センサを固定することは、傾斜センサ、振動センサ、温度センサ及び高調波センサの少なくとも1つを固定することを更に含む請求項16に記載の方法。
  18. 組み立てられた半導体ウェハハンドリングマシンに撮像デバイスを固定することと、
    ハンドリング周期の一部分の間に前記ウェハハンドリングマシンのウェハハンドリング部品が基準位置にあるときに前記撮像デバイスからの基準画像を記憶することと、
    別のハンドリング周期の当該一部分の間に前記撮像デバイスからの照合画像を捕捉することと、
    前記基準高さと前記照合画像における前記ウェハハンドリング部品の高さの差がスレッショルドを超えていることを前記基準画像と前記照合画像の差が示すときに前記表示信号を生成することと、を更に備える請求項15に記載の方法。
  19. 前記ウェハハンドリングマシンへの半導体ウェハの自動化された配送を前記表示信号に基づき禁止することを更に備える請求項15に記載の方法。
  20. 前記ウェハハンドリングマシンのロボットアームに傾斜センサを固定することと、前記ウェハハンドリングマシンのロードポートに傾斜センサを固定することとを更に備える請求項15に記載の方法。
JP2014085665A 2013-04-29 2014-04-17 ウェハハンドリングをモニタリングするためのシステム及び方法並びにウェハハンドリングマシン Active JP6325325B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US13/872,734 2013-04-29
US13/872,734 US9442482B2 (en) 2013-04-29 2013-04-29 System and method for monitoring wafer handling and a wafer handling machine

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2014216648A true JP2014216648A (ja) 2014-11-17
JP6325325B2 JP6325325B2 (ja) 2018-05-16

Family

ID=50819545

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014085665A Active JP6325325B2 (ja) 2013-04-29 2014-04-17 ウェハハンドリングをモニタリングするためのシステム及び方法並びにウェハハンドリングマシン

Country Status (7)

Country Link
US (2) US9442482B2 (ja)
EP (2) EP3185282B1 (ja)
JP (1) JP6325325B2 (ja)
KR (2) KR20140128861A (ja)
CN (1) CN104124189B (ja)
DE (1) DE102014204945A1 (ja)
TW (1) TWI670154B (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20230136318A (ko) * 2022-03-18 2023-09-26 주식회사 테스 기판 처리 시스템

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9442482B2 (en) * 2013-04-29 2016-09-13 GlobalFoundries, Inc. System and method for monitoring wafer handling and a wafer handling machine
US10780586B2 (en) 2013-08-09 2020-09-22 Nidec Sankyo Corporation Horizontal articulated robot with bevel gears
JP6374156B2 (ja) * 2013-08-09 2018-08-15 日本電産サンキョー株式会社 水平多関節ロボットおよび水平多関節ロボットの製造方法
US20150185731A1 (en) * 2013-12-26 2015-07-02 Hyundai Motor Company Work-in-process inspection system using motion detection, and method thereof
TWI639906B (zh) * 2017-06-16 2018-11-01 中原大學 主動式組裝系統、主動式組裝之方法及其定位組裝裝置
US10714364B2 (en) 2017-08-31 2020-07-14 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Apparatus and method for inspecting wafer carriers
TWI693564B (zh) * 2018-01-05 2020-05-11 竹陞科技股份有限公司 機台自動化管理系統及其方法
US11247330B2 (en) * 2018-10-19 2022-02-15 Asm Ip Holding B.V. Method for teaching a transportation position and alignment jig
US11094570B2 (en) * 2019-03-29 2021-08-17 Hirata Corporation Load port having movable member that abuts a pin
JP7319162B2 (ja) * 2019-10-02 2023-08-01 株式会社荏原製作所 搬送異常予測システム
WO2021086745A1 (en) * 2019-11-01 2021-05-06 Lam Research Corporation Wafer handling robot with gravitational field sensor
CN111430265B (zh) * 2019-11-28 2023-09-12 合肥晶合集成电路股份有限公司 一种机台视窗的遮挡装置、方法及半导体设备
CN111092039B (zh) * 2019-12-30 2022-04-15 武汉大学 一种晶片传输系统
CN111107324A (zh) * 2019-12-31 2020-05-05 上海陛通半导体能源科技股份有限公司 晶圆传输系统的监控装置及其监控方法
US11302545B2 (en) * 2020-03-20 2022-04-12 Nanya Technology Corporation System and method for controlling semiconductor manufacturing equipment
CN111554601B (zh) * 2020-04-27 2021-12-28 上海果纳半导体技术有限公司 晶圆前端传送系统
TWI777213B (zh) * 2020-08-05 2022-09-11 華邦電子股份有限公司 運輸監控方法及其系統
CN114446844A (zh) * 2020-11-03 2022-05-06 长鑫存储技术有限公司 传送装置及半导体生产设备
CN113031669B (zh) * 2021-02-10 2022-04-22 国机集团科学技术研究院有限公司 一种高品质晶体培植类关键工艺环境振动控制技术分析方法
CN114084619B (zh) * 2021-11-24 2023-06-20 华中科技大学鄂州工业技术研究院 一种产线智能控制系统及方法
US11728194B2 (en) * 2021-12-07 2023-08-15 Nanya Technology Corporation Wafer handling apparatus and method of operating the same

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09232404A (ja) * 1996-02-19 1997-09-05 Yaskawa Electric Corp ウェハ搬送装置
JP2005175083A (ja) * 2003-12-09 2005-06-30 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置および基板処理方法

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0597637B1 (en) 1992-11-12 2000-08-23 Applied Materials, Inc. System and method for automated positioning of a substrate in a processing chamber
JPH10313037A (ja) 1997-05-06 1998-11-24 Applied Materials Inc 基板搬送システムの監視装置
US6466231B1 (en) 1998-08-07 2002-10-15 Hewlett-Packard Company Appliance and method of using same for capturing images
JP2001082925A (ja) 1999-09-14 2001-03-30 Sony Corp 紫外光の焦点位置制御機構及び方法、並びに、検査装置及び方法
JP3694808B2 (ja) * 2001-04-13 2005-09-14 株式会社安川電機 ウェハ搬送用ロボットの教示方法および教示用プレート
US7085622B2 (en) * 2002-04-19 2006-08-01 Applied Material, Inc. Vision system
US7233841B2 (en) * 2002-04-19 2007-06-19 Applied Materials, Inc. Vision system
US6813543B2 (en) * 2002-10-08 2004-11-02 Brooks-Pri Automation, Inc. Substrate handling system for aligning and orienting substrates during a transfer operation
KR101015778B1 (ko) * 2003-06-03 2011-02-22 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 기판 처리장치 및 기판 수수 위치의 조정 방법
KR100577582B1 (ko) * 2004-06-09 2006-05-08 삼성전자주식회사 반도체 포토 스피너 설비 및 이를 이용한 웨이퍼 티칭불량방지방법
JP2006278396A (ja) 2005-03-28 2006-10-12 Tokyo Electron Ltd 処理装置及びプログラム
US20060215347A1 (en) 2005-03-28 2006-09-28 Tokyo Electron Limited Processing apparatus and recording medium
EP2998894B1 (en) 2005-07-11 2021-09-08 Brooks Automation, Inc. Intelligent condition monitoring and fault diagnostic system
US8014887B2 (en) * 2006-03-22 2011-09-06 Hitachi Kokusai Electric Inc. Substrate processing apparatus
US8260461B2 (en) * 2007-08-30 2012-09-04 Applied Materials, Inc. Method and system for robot calibrations with a camera
US8224607B2 (en) * 2007-08-30 2012-07-17 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for robot calibrations with a calibrating device
CN101911279B (zh) * 2007-12-27 2012-05-16 朗姆研究公司 用于动态对准束校准的系统和方法
CN101680756B (zh) * 2008-02-12 2012-09-05 松下电器产业株式会社 复眼摄像装置、测距装置、视差算出方法以及测距方法
JP2009229184A (ja) 2008-03-21 2009-10-08 Kansai Electric Power Co Inc:The 高調波探査方法および高調波探査装置
JP2009233788A (ja) 2008-03-27 2009-10-15 Daihen Corp 搬送用ロボットの制御方法
US8624989B2 (en) 2008-07-01 2014-01-07 Sony Corporation System and method for remotely performing image processing operations with a network server device
TWI496732B (zh) * 2009-07-31 2015-08-21 Murata Machinery Ltd 供工具利用之緩衝儲存和運輸裝置
JP5387444B2 (ja) 2010-02-25 2014-01-15 株式会社ニコン 搬送装置および基板接合装置
JP2011192676A (ja) 2010-03-11 2011-09-29 Nikon Corp 基板処理装置、積層半導体装置製造方法及び積層半導体装置
JP5477133B2 (ja) * 2010-04-09 2014-04-23 日新イオン機器株式会社 ウェーハハンドリング方法およびイオン注入装置
US9442482B2 (en) * 2013-04-29 2016-09-13 GlobalFoundries, Inc. System and method for monitoring wafer handling and a wafer handling machine

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09232404A (ja) * 1996-02-19 1997-09-05 Yaskawa Electric Corp ウェハ搬送装置
JP2005175083A (ja) * 2003-12-09 2005-06-30 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置および基板処理方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20230136318A (ko) * 2022-03-18 2023-09-26 주식회사 테스 기판 처리 시스템
KR102717235B1 (ko) 2022-03-18 2024-10-15 주식회사 테스 기판 처리 시스템

Also Published As

Publication number Publication date
US10593575B2 (en) 2020-03-17
EP3185282A1 (en) 2017-06-28
EP3185282B1 (en) 2018-08-29
KR20170072853A (ko) 2017-06-27
DE102014204945A1 (de) 2014-11-13
US20160336206A1 (en) 2016-11-17
US20140324208A1 (en) 2014-10-30
TW201440980A (zh) 2014-11-01
CN104124189B (zh) 2017-09-12
KR20140128861A (ko) 2014-11-06
TWI670154B (zh) 2019-09-01
CN104124189A (zh) 2014-10-29
KR102128995B1 (ko) 2020-07-02
US9442482B2 (en) 2016-09-13
EP2800132A1 (en) 2014-11-05
JP6325325B2 (ja) 2018-05-16
EP2800132B1 (en) 2017-06-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6325325B2 (ja) ウェハハンドリングをモニタリングするためのシステム及び方法並びにウェハハンドリングマシン
CN109427633B (zh) 检测芯片载具的设备、方法及系统
JP2011514006A (ja) 半導体ウェハモニタリング装置および方法
US20100129940A1 (en) Vibration monitoring of electronic substrate handling systems
US20220272278A1 (en) Smart camera substrate
KR102020533B1 (ko) 엔드 이펙터 측정모듈 및 이를 이용한 엔드 이펙터 모니터링 장치
TWI582852B (zh) 用於監測半導體裝置中邊緣斜角去除區域的方法和裝置以及電鍍系統
JP3219171U (ja) ディスプレイ・パネル中の回路および画素の欠陥を発見するためのシステム
CN111554594A (zh) 晶圆传送监测方法及晶圆传送监测装置
US20220392791A1 (en) Measurement jig and processing method
TWI806072B (zh) 用於基板處理監視的設定資訊之設定方法、基板處理裝置之監視方法及基板處理裝置
KR102307841B1 (ko) 피커 유닛 검사 시스템
JP6908858B2 (ja) 筐体
WO2024210135A1 (ja) 基板搬送装置の監視方法、および、基板処理装置
TWI807017B (zh) 基板固持器的檢查方法、基板固持器的檢查裝置、及具備該檢查裝置之鍍覆裝置
KR20170006338A (ko) 웨이퍼 이송 부재를 구비하는 반도체 제조 장치 및 이를 이용한 웨이퍼 이송 방법
KR20100073567A (ko) 반도체 제조 시스템의 이송 로봇 위치 감지 장치 및 그 방법
TW202345211A (zh) 基板處理裝置及基板處理方法
JP2024148634A (ja) 基板搬送装置の監視方法、および、基板処理装置
KR20060025834A (ko) 공정 진행시 반도체 제조 장치 및 웨이퍼의 이상 유무를검출하는 검출 시스템 및 그의 제어 방법
KR20010017667A (ko) 웨이퍼 카세트

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170215

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20180129

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180206

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180228

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180313

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180412

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6325325

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250