JP2014206707A - Optical hard coat material and display device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ハードコート材に関し、特に、陰極管表示装置(CRT)、液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、有機ELディスプレイの様なディスプレイの表示画面に適用されるハードコート層を設けた光学用ハードコート材及び光学用ハードコート材を備えた表示装置に関する。 The present invention relates to a hard coat material, and in particular, a hard coat layer applied to a display screen of a display such as a cathode ray tube display (CRT), a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), or an organic EL display. The present invention relates to an optical hard coat material provided with a display device and an optical hard coat material.
液晶表示装置(LCD)又は陰極管表示装置(CRT)等の画像表示装置における画像表示面は、取り扱い時にキズがつかない様に、硬度を付与することが要求される。これに対して、基材フィルムにハードコート(HC)層を形成させた光学積層体を利用することにより、画像表示装置の画像表示面の硬度を向上させることが検討されている。 An image display surface in an image display device such as a liquid crystal display device (LCD) or a cathode ray tube display device (CRT) is required to have hardness so as not to be scratched during handling. On the other hand, it has been studied to improve the hardness of the image display surface of the image display device by using an optical laminate in which a hard coat (HC) layer is formed on a base film.
プラスチック表面を硬質化する技術としては、オルガノシロキサン系、メラミン系等の熱硬化性樹脂をコーティングしたり、真空蒸着法やスパッタリング法等で金属薄膜を形成する方法、あるいは多官能アクリレート系の活性エネルギー線硬化性樹脂をコーティングする方法などが挙げられる。透明性の高いプラスチック基材フィルムの中でも、トリアセチルセルロース(TAC)フィルムや、アクリルフィルムは、透明性に優れている点から、主に液晶表示体(LCD)用の基材フィルムとして用いられる。 Technologies to harden the plastic surface include coating a thermosetting resin such as organosiloxane and melamine, forming a metal thin film by vacuum deposition or sputtering, or polyfunctional acrylate-based active energy. Examples thereof include a method of coating a linear curable resin. Among the highly transparent plastic substrate films, triacetyl cellulose (TAC) films and acrylic films are mainly used as substrate films for liquid crystal displays (LCDs) because of their excellent transparency.
しかしながら、アクリルフィルム支持基材とする従来のハードコート材においては、アクリル基材の屈曲性の悪さから、屈曲性と硬度の両立がとれないことが課題となる。また、アクリル基材の使用においては、アクリル基材とハードコート層の密着性がとれないことも課題となる。さらには、ロールtoロールプロセスで製膜を行った場合においては、フィルムの滑り性の悪さが原因で、ブロッキング(貼り付き)が発生してしまい、剥離する際にフィルム表面が荒れてしまうことも課題となっている。そこで、屈曲性と硬度の両立および良好な密着性、またロール状にした際の耐ブロッキング性を得るための方法が提案されている。 However, in the conventional hard coat material used as the acrylic film supporting substrate, it is a problem that both flexibility and hardness cannot be achieved due to the poor flexibility of the acrylic substrate. Moreover, in the use of an acrylic base material, it becomes a subject that the adhesiveness of an acrylic base material and a hard-coat layer cannot be taken. Furthermore, when film formation is performed by a roll-to-roll process, blocking (adhesion) occurs due to poor slipperiness of the film, and the film surface may be roughened when peeling. It has become a challenge. In view of this, a method has been proposed for achieving both flexibility and hardness, good adhesion, and blocking resistance when formed into a roll.
特許文献1においては、透明基材上に、柔軟性を付与するためのウレタンアクリレートおよび硬度を付与するためのコロイダルシリカを含有するハードコートを形成し、屈曲性および表面硬度の両立を試みている。しかしながら、アクリル基材の使用時においては、屈曲性が不十分なものとなってしまう。 In Patent Document 1, a hard coat containing urethane acrylate for imparting flexibility and colloidal silica for imparting hardness is formed on a transparent substrate to try to achieve both flexibility and surface hardness. . However, when the acrylic base material is used, the flexibility is insufficient.
また、特許文献2においては、透明基材上に伸び率を制御したハードコート層を、基材上に二層積層する手法が提案されている。しかしながら、この手法においてはアクリル基材を使用した際には、表面硬度が不十分であるという問題があった。
また、特許文献3においては、フィルムの両端にテープ等のスペーサーを挟む方法、フィルム表面に微細な凹凸を付与する方法で耐ブロッキング性の発現を提案されている。しかし、これらの方法では、フィルム加工時にテープを除去する工程が煩雑であるほか、フィルム表面の微細な凹凸によりフィルムの透明性が劣化するという問題が発生する。
Further,
本発明は、アクリル基材の一方の面に屈曲性、密着性、表面硬度、耐ブロッキング性に優れ、透明性の劣化のないハードコート層を有する光学用ハードコート材の提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide an optical hard coat material having a hard coat layer which is excellent in flexibility, adhesion, surface hardness, blocking resistance and has no deterioration in transparency on one surface of an acrylic substrate. To do.
上記の課題を解決するための手段として、請求項1に記載の発明は、アクリル基材の一方の面に、第一ハードコート層、第二ハードコート層、低屈折率層が順次積層された光学用ハードコート材であって、
前記第一ハードコート層の単層での、深さ50nmにおける超微小押し込み硬度が0.20GPa以上0.40GPa以下の範囲で、
かつ、前記第二ハードコート層の単層での、深さ50nmにおける超微小押し込み硬度が0.40GPa以上0.60GPa以下の範囲で、
かつ、前記第二ハードコート層表面の算術平均粗さ(Ra)が3〜50nm以下の範囲で、
かつ、前記第一ハードコート層の膜厚が0.1〜10μmの範囲で、かつ前記第二ハードコート層の膜厚が1〜5μmの範囲で、
あることを特徴とする光学用ハードコート材である。
As means for solving the above-mentioned problems, in the invention according to claim 1, the first hard coat layer, the second hard coat layer, and the low refractive index layer are sequentially laminated on one surface of the acrylic substrate. An optical hard coat material,
In the single hard layer of the first hard coat layer, the ultra fine indentation hardness at a depth of 50 nm is in the range of 0.20 GPa or more and 0.40 GPa or less,
And in the range of 0.40 GPa or more and 0.60 GPa or less ultra-fine indentation hardness at a depth of 50 nm in the single layer of the second hard coat layer,
And the arithmetic mean roughness (Ra) of said 2nd hard-coat layer surface is 3-50 nm or less in range,
And the thickness of the first hard coat layer is in the range of 0.1 to 10 μm, and the thickness of the second hard coat layer is in the range of 1 to 5 μm.
There is an optical hard coat material.
また、請求項2に記載の発明は、前記第一ハードコート層が、単官能または二官能の(メタ)アクリレート、三官能以下のウレタン(メタ)アクリレートの中から選ばれる重合性化合物の電離放射線硬化型組成物であることを特徴とする請求項1に記載の光学用ハードコート材である。
In the invention according to
また、請求項3に記載の発明は、前記第二ハードコート層が粒径50〜700nmの微粒子を、前記第二ハードコート層形成用塗液の全固形分に対して0.5〜5.0重量%含有していることを特徴とする請求項1または2に記載の光学用ハードコート材である。
In the invention according to
また、請求項4に記載の発明は、前記第二ハードコート層上に、硬化時の屈折率が1.30より大きく、1.40未満の低屈折率層が形成され、視感平均反射率が0.5〜1.5%で、かつ、全光線透過率が94.0%以上であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の光学用ハードコート材である。
In the invention according to
また、請求項5に記載の発明は、請求項1〜4のいずれか一項に記載の光学用ハードコート材を備えたことを特徴とする表示装置である。
The invention according to
本発明の請求項1によれば、十分な硬さを有し、さらにアクリル基材の一方の面に第一ハードコート層と第二ハードコート層を積層するにあたり、前記第一ハードコート層の硬化後の硬度が、前記第二ハードコート層の硬化後の硬度より低くすることにより、アクリル基材と前記第一ハードコート層と第二ハードコート層との硬度に傾斜を持たせることができ、屈曲性と密着性に優れたハードコート材が得られ、前記第一ハードコート層の膜厚を0.1〜10μmの範囲にすることで、前記第一ハードコート層をアクリル基材と第二ハードコート層との密着性を向上させるためのプライマーの作用効果が得られ、また、硬度の決め手となる第二ハードコート層の膜厚を1〜5μmにすることで、十分な硬度が得られる。 According to the first aspect of the present invention, when the first hard coat layer and the second hard coat layer are laminated on one surface of the acrylic substrate, the first hard coat layer has a sufficient hardness. By making the hardness after curing lower than the hardness after curing of the second hard coat layer, the hardness of the acrylic substrate, the first hard coat layer, and the second hard coat layer can be inclined. A hard coat material excellent in flexibility and adhesiveness is obtained, and the first hard coat layer is formed in a range of 0.1 to 10 μm so that the first hard coat layer and the acrylic base material The effect of the primer for improving the adhesion to the two hard coat layers is obtained, and sufficient hardness is obtained by setting the film thickness of the second hard coat layer, which is the decisive factor of the hardness, to 1 to 5 μm. It is done.
また、本発明の請求項2によれば、前記第一ハードコート層が、一官能または二官能の(メタ)アクリレート、三官能以下のウレタン(メタ)アクリレートの中から選ばれる重合性化合物の電離放射線硬化物から成ることにより、硬化後の前記第一ハードコート層よりも前記第二ハードコート層の硬度を高くすることができ、アクリル基材と前記第一ハードコート層と第二ハードコート層との硬度に傾斜を持たせることができる。
According to
また、本発明の請求項3によれば、前記第二ハードコート層が50nm以上700nm以下の微粒子を、0.5〜5.0重量部の含有量にすることにより、添加量を抑えつつフィルム表面に微細な凹凸を付与することができるため、ヘイズ値の上昇を抑え、かつ、耐ブロッキング性を付与することができる。
Moreover, according to
また、本発明の請求項4によれば、前記第二ハードコート層上に、硬化時の屈折率が1.30より大きく、1.40未満である低屈折率層を形成し、視感平均反射率が0.5%〜1.5%、全光線透過率94.0%以上にすることで、優れた反射防止効果を得ることができる。
According to
上記で説明した様に本発明によれば、屈曲性に優れ、かつ、密着性に優れ、かつ、耐ブロッキング性に優れ、優れた表面硬度を有するハードコート材を提供することができる。 As described above, according to the present invention, it is possible to provide a hard coat material having excellent flexibility, excellent adhesion, excellent blocking resistance, and excellent surface hardness.
以下本発明を実施するための形態を、図面を用いて詳細に説明する。 DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
図1に本発明に係るハードコート材の一実施形態の膜式断面図を示した。本発明のハードコート材にあっては、アクリル基材11上に、第一ハードコート層12、微粒子131を有する第二ハードコート13を順次積層してなることを特徴とする。
FIG. 1 shows a film cross-sectional view of one embodiment of a hard coat material according to the present invention. The hard coat material of the present invention is characterized in that a first
図2に本発明に係る反射防止機能を有するハードコート材の一実施形態の模式断面図を示した。すなわち、図1に示した構成の第二ハードコート層13の上に、さらに低屈折率層14を形成してなる反射防止効果を有するハードコート材であることを特徴とする。
FIG. 2 shows a schematic cross-sectional view of an embodiment of a hard coat material having an antireflection function according to the present invention. That is, it is a hard coat material having an antireflection effect obtained by forming a low
本発明の実施の形態に係る第一ハードコート層12は、深さ50nmの超微小押し込み硬度が0.20GPa以上0.40GPa以下の範囲である電離放射線硬化型組成物の硬化膜である特徴を有する。また、第二ハードコート層13は、深さ50nmの超微小押し込み硬度が0.40GPa以上0.80GPa以下の範囲である電離放射線硬化型組成物の硬化膜である特徴を有する。なお、本発明に係る電離放射線硬化型組成物には、紫外線硬化型材料、電子線硬化型材料等の電離放射線硬化型材料を使用することができる。
The first
前記第一ハードコート層に用いられる電離放射線硬化型材料としては、一官能(単官能)や二官能のアクリレート化合物を用いることができる。 As the ionizing radiation curable material used for the first hard coat layer, monofunctional (monofunctional) or bifunctional acrylate compounds can be used.
例えば、単官能の(メタ)アクリレート化合物としては、2‐ヒドロキシエチル(メタ
)アクリレート、2‐ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2‐ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、n‐ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t‐ブチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、アクリロイルモルフォリン、N‐ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリールアクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2‐エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、セチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、2‐エトキシエチル(メタ)アクリレート、3‐メトキシブチル(メタ)アクリレート、エチルカルビトール(メタ)アクリレート、リン酸(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸(メタ)アクリレート、フェノキシ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシ(メタ)アクリレート、ノニルフェノール(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール(メタ)アクリレート、メトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシプロピレングリコール(メタ)アクリレート、2‐(メタ)アクリロイルオキシエチル‐2‐ヒドロキシプロピルフタレート、2‐ヒドロキシ‐3‐フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、2‐(メタ)アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、2‐(メタ)アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、2‐(メタ)アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、2‐(メタ)アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、ヘキサフルオロプロピル(メタ)アクリレート、オクタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、オクタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、2−アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される1価のモノ(メタ)アクリレートを有するアダマンチルアクリレートなどのアダマンタン誘導体モノ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
For example, monofunctional (meth) acrylate compounds include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl ( (Meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, acryloylmorpholine, N-vinylpyrrolidone, tetrahydrofurfuryl acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) ) Acrylate, isodecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, cetyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, benzyl (Meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, 3-methoxybutyl (meth) acrylate, ethyl carbitol (meth) acrylate, phosphoric acid (meth) acrylate, ethylene oxide modified phosphoric acid (meth) acrylate, phenoxy (meta ) Acrylate, ethylene oxide modified phenoxy (meth) acrylate, propylene oxide modified phenoxy (meth) acrylate, nonylphenol (meth) acrylate, ethylene oxide modified nonylphenol (meth) acrylate, propylene oxide modified nonylphenol (meth) acrylate, methoxydiethylene glycol (meth) Acrylate, methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, methoxypropylene glycol (meth) acrylate 2- (meth) acryloyloxyethyl-2-hydroxypropyl phthalate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl hydrogen phthalate, 2- (meth) acryloyloxypropyl hydrogen Phthalate, 2- (meth) acryloyloxypropyl hexahydrohydrogen phthalate, 2- (meth) acryloyloxypropyl tetrahydrohydrogen phthalate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, trifluoroethyl (meth) acrylate, tetrafluoropropyl (meth) acrylate , Hexafluoropropyl (meth) acrylate, octafluoropropyl (meth) acrylate, octafluoropropyl (meth) acrylate, 2 -Adamantane derivatives mono (meth) acrylates such as adamantyl acrylate having a monovalent mono (meth) acrylate derived from adamantane and adamantanediol.
例えば二官能の(メタ)アクリレート化合物としては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレートなどのジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 For example, bifunctional (meth) acrylate compounds include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, and nonanediol di (meth) acrylate. , Ethoxylated hexanediol di (meth) acrylate, propoxylated hexanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) ) Acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, ethoxylated neopentyl glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol (Meth) acrylate, di (meth) acrylate, such as hydroxypivalic acid neopentyl glycol di (meth) acrylate.
第二ハードコート層で用いられる電離放射線効果型材料としては、前記の一官能や二官能アクリレート化合物に加えて、以下の多官能重合性化合物を使用することができる。 As the ionizing radiation effect material used in the second hard coat layer, the following polyfunctional polymerizable compounds can be used in addition to the monofunctional or bifunctional acrylate compounds.
多官能の(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス2‐ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート等のトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート等の3官能の(メタ)アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ(メタ)アクリレート等の3官能以上の多官能(メタ)アクリレート化合物や、これら(メタ)アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能(メタ)アクリレート化合物等が挙げられる。 Examples of the polyfunctional (meth) acrylate compound include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and tris-2-hydroxyethyl isocyanate. Trifunctional such as tri (meth) acrylate such as nurate tri (meth) acrylate and glycerin tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tri (meth) acrylate (Meth) acrylate compounds, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) ) Acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ditrimethylolpropane penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, ditrimethylolpropane hexa (meth) acrylate and more polyfunctional (meth) acrylates Examples thereof include a compound and a polyfunctional (meth) acrylate compound in which a part of these (meth) acrylates is substituted with an alkyl group or ε-caprolactone.
また、多官能のウレタン(メタ)アクリレート化合物としては、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートトルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、トルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマーなどを用いることができる。 Polyfunctional urethane (meth) acrylate compounds include pentaerythritol triacrylate hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer, dipentaerythritol pentaacrylate hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer, pentaerythritol triacrylate toluene diisocyanate urethane prepolymer, dipentaerythritol. Pentaacrylate, toluene diisocyanate urethane prepolymer, pentaerythritol triacrylate isophorone diisocyanate urethane prepolymer, dipentaerythritol pentaacrylate isophorone diisocyanate urethane prepolymer, and the like can be used.
また、第一ハードコート層12の膜厚は0.1〜10μmの範囲であり、第二ハードコート層13の膜厚は1〜5μmの範囲が好ましい。第一ハードコート層12の膜厚が0.1μm以下であると柔軟性がとれず屈曲性が悪化し、10μm以上であると表面硬度が低くなってしまう。また、第二ハードコート層13の膜厚が1μm未満であると表面硬度が低くなり、10μmより厚いと屈曲性が悪化してしまう。
The film thickness of the first
また、第二ハードコート層13に添加する微粒子の種類は、平均粒子径が50nm〜700nmの平均粒子径を有し、好ましくはヘイズ値が0.5%以下となる様にすることができるものであればよく、特に限定されない。例えば、ポリメチルメタクリレート微粒子、ポリメチルメタクリレート−ポリスチレン共重合体微粒子等の透光性の有機樹脂粒子や、シリカ等の無機フィラーでもよい。
The kind of fine particles added to the second
微粒子の平均粒子径は、50nm〜700nm、好ましくは80〜500nmである。微粒子の平均粒子径が50nm未満の場合、バインダマトリックス内に微粒子が埋没してしまい、第二ハードコート層13上に凹凸を付与することができず、耐ブロッキング性の向上効果が発現しない。一方、微粒子の平均粒子径が700nmを超える場合、光が著しく散乱してしまい、ヘイズ値が上昇してしまう。
The average particle diameter of the fine particles is 50 nm to 700 nm, preferably 80 to 500 nm. When the average particle diameter of the fine particles is less than 50 nm, the fine particles are buried in the binder matrix, and unevenness cannot be imparted on the second
前記微粒子の含有量は、前記第二ハードコート層13形成用塗液の全固形分100重量部に対して0.5〜5.0重量部、好ましくは0.8〜3.0重量部である。微粒子の含有量が0.5重量部未満の場合、微粒子が少なく、耐ブロッキング性を発現するほどの凹凸を光学用ハードコート材上に付与することができない。一方、微粒子の含有量が5.0重量部を超える場合、微粒子での光散乱が起こってしまい、ヘイズ値が上昇してしまう。
The content of the fine particles is 0.5 to 5.0 parts by weight, preferably 0.8 to 3.0 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total solid content of the coating liquid for forming the second
前記微粒子の平均粒子径を、50nm〜700nmとし、含有量を0.5〜5.0重量部として得られる本発明のハードコートは、第二ハードコート層13表面の中心線平均粗さ(Ra)が3〜50nm、好ましくは5〜30nmとなることで、耐ブロッキング性が発現し、ヘイズ値の上昇を抑制できる。第二ハードコート層13表面の中心線平均粗さが3nm未満の場合、第二ハードコート層13表面が平坦となってしまい、ブロッキングが発生しやすくなる恐れがある。一方、第二ハードコート層13の中心線平均粗さが50nmを超える場合、表面の凹凸により反射防止フィルムが白化している様に見える恐れがある。
The hard coat of the present invention obtained by setting the average particle diameter of the fine particles to 50 nm to 700 nm and the content to 0.5 to 5.0 parts by weight, the center line average roughness (Ra ) Is 3 to 50 nm, preferably 5 to 30 nm, blocking resistance is exhibited, and an increase in haze value can be suppressed. When the center line average roughness on the surface of the second
また、第二ハードコート層13の膜厚は、屈曲性および表面硬度の観点では、1μm〜
10μmとしなければならないが、微粒子の添加による耐ブロッキング性の付与を行うためには、第二ハードコート層13の膜厚は5μm以下としなくてはならない。第二ハードコート層13の膜厚を5μmより厚くしてしまうと、微粒子がバインダマトリクス内に埋没してしまい、第二ハードコート層13上に凹凸を付与することができず、耐ブロッキング性の向上効果が発現しない。
The film thickness of the second
The thickness of the second
本発明の光学用ハードコート材は、第二ハードコート層13が帯電防止効果を有するハードコート層(帯電防止ハードコート)であってもよい。
The optical hard coat material of the present invention may be a hard coat layer (antistatic hard coat) in which the second
第一ハードコート層12及び第二ハードコート層13を形成する組成物には、必要に応じて、例えば、塗工適性を向上させるために溶媒を加えることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、n‐ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール及びフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、及びメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸n‐ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸n‐ペンチル、及びγ‐プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、n‐プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール等のアルコール類、水等の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。
A solvent can be added to the composition forming the first
また、第一ハードコート層12および第二ハードコート層13を形成する組成物には、その組成物を塗布する際のハジキ、ムラといった塗膜欠陥の発生を防止するために、表面調整剤と呼ばれる添加剤を加えても良い。表面調整剤は、その働きに応じて、レベリング剤、消泡剤、界面張力調整剤、表面張力調整剤とも呼ばれるが、いずれも形成される塗膜(防眩層)の表面張力を低下させる働きを備える。
In addition, in the composition forming the first
また、第一ハードコート層12および第二ハードコート層13の形成用組成物においては、先に述べた表面調整剤のほかにも、他の添加剤を加えても良い。機能性添加剤としては紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、密着性向上剤、硬化剤などを用いることができる。
In addition, in the composition for forming the first
本発明に係る光学用ハードコート材は、上記の添加剤などで調整した第一ハードコート層12および第二ハードコート層13組成物をアクリル基材上に塗布し、必要に応じて乾燥を行った後に、紫外線もしくは電子線等の電離放射線を照射することにより作製することができる。
The optical hard coat material according to the present invention is obtained by applying the composition of the first
前記組成物の塗布には、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーター等の塗布装置を用いることができる。また、第一ハードコート層12および第二ハードコート層13の二層を連続して塗布することもできる。
For the application of the composition, a coating apparatus such as a roll coater, a reverse roll coater, a gravure coater, a micro gravure coater, a knife coater, a bar coater, a wire bar coater, a die coater, or a dip coater can be used. Also, two layers of the first
また、前記電離放射線としては、紫外線、電子線を用いることができる。紫外線硬化の場合は、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク等の光源が利用できる。また、電子線硬化の場合はコックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される電子線が利用できる。 Further, as the ionizing radiation, ultraviolet rays and electron beams can be used. In the case of ultraviolet curing, a light source such as a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a carbon arc, or a xenon arc can be used. In the case of electron beam curing, electron beams emitted from various electron beam accelerators such as cockloftwald type, bandegraph type, resonant transformer type, insulated core transformer type, linear type, dynamitron type, and high frequency type can be used. .
なお、前記電離放射線の照射前後に、乾燥工程もしくは加熱工程を設けてもよい。特に、前記組成物が溶媒を含む場合、形成された塗膜の溶媒を除去するために電離放射線を照射する前に乾燥工程を設ける必要がある。乾燥手段としては加熱、送風、熱風などが例示される。 In addition, you may provide a drying process or a heating process before and after irradiation of the said ionizing radiation. In particular, when the composition contains a solvent, it is necessary to provide a drying step before irradiation with ionizing radiation in order to remove the solvent of the formed coating film. Examples of the drying means include heating, air blowing, and hot air.
また、本発明に係る反射防止機能を有するハードコート材(以下、単に反射防止ハードコート材2と記す)は、反射防止機能を呈する低屈折率層14を前記第二ハードコート層13の上に形成することで得られる。
Further, the hard coat material having an antireflection function according to the present invention (hereinafter simply referred to as an antireflection hard coat material 2) has a low
前記低屈折率層を形成する方法としては、低屈折率層形成用組成物をハードコート層表面に塗布し反射防止層を形成する湿式成膜法による方法と、真空蒸着法やスパッタリング法やCVD法といった真空中で反射防止層を形成する真空成膜法による方法に分けられる。特に、低屈折率粒子とバインダマトリクスを含む低屈折率層形成用の組成物を用い、湿式成膜法(塗布)により低屈折率層を形成する方法は、生産性に優れ安価に製造することができる点で好ましい。 As the method for forming the low refractive index layer, a wet film forming method in which a composition for forming a low refractive index layer is applied to the surface of the hard coat layer to form an antireflection layer, a vacuum deposition method, a sputtering method, or a CVD method. The method can be divided into vacuum deposition methods that form an antireflection layer in a vacuum. In particular, a method for forming a low refractive index layer by a wet film-forming method (coating) using a composition for forming a low refractive index layer containing low refractive index particles and a binder matrix should be excellent in productivity and inexpensive. It is preferable at the point which can do.
このとき、低屈折率層14は、その膜厚(d)に低屈折率層14の屈折率(n)をかけることによって得られる光学膜厚(nd)が可視光の波長の1/4と等しくなる様に設計され形成される。
At this time, the low
本発明の反射防止ハードコート材2の低屈折率層14は、その屈折率が1.30より大きく、1.40未満であり、視感平均反射率が0.5%以上、1.5%以下が好ましい。屈折率が1.30以下の場合、耐擦傷性が不十分となり、画像表示面での使用が困難となる。また、低屈折率層硬化時の屈折率が1.40以上の場合、平均視感反射率が増加し、反射防止の機能が低下する問題が生じる。
The low
なお、本発明の光学用ハードコート材として、第二ハードコート層13と低屈折率層14の間に、例えば、防眩層、紫外線吸収層、赤外線吸収層等を設けることができるが、全光線透過率の低下を招く恐れがあり、そのバランスを考慮する必要がある。
As the optical hard coat material of the present invention, for example, an antiglare layer, an ultraviolet absorption layer, an infrared absorption layer, and the like can be provided between the second
本発明に係る光学用ハードコート材は、LCD、PDP、CRT、プロジェクション、EL表示体等に用いることができる。以下に本発明の反射防止ハードコート材2を液晶表示体の部材として用いる場合について説明する。
The optical hard coat material according to the present invention can be used for LCD, PDP, CRT, projection, EL display and the like. The case where the antireflection
図3は本発明の反射防止ハードコート材2を用いた偏光板3の模式断面図を示している。すなわち、前記偏光板はアクリル基材11の他方の面に、偏光層23と透明基材21を順次積層して形成されたものである。例えば前記透明基材21がアクリル基材であってもよい。なお、偏光層23としてはヨウ素を添加した延伸ポリビニルアルコールフィルム等を用いることができる。これらは一実施形態であり、特に限定するものではない。
FIG. 3 shows a schematic cross-sectional view of a
図4は本発明の反射防止ハードコート材2を備えた透過型液晶表示体の模式断面図を示している。
FIG. 4 shows a schematic cross-sectional view of a transmissive liquid crystal display body provided with the antireflection
図4は、図3に示した偏光板3を用いた透過型液晶表示体であり、バックライトユニット6、第二の偏光板5、液晶セル4、偏光板3を、順次積層して構成された透過型液晶表示体を示している。すなわち、反射防止ハードコート材2の低屈折率層14側が観察側(表示体の表面)となる。
FIG. 4 shows a transmissive liquid crystal display using the
一方、図5は、バックライトユニット6、第二の偏光板5、液晶セル4、偏光板3´、
反射防止ハードコート材2を順次積層して構成された透過型液晶表示体を示している。該偏光板3´は、偏光層23を両側から透明基板21、22で挟んだ構成からなる。なお、図4、図5に用いられる偏光板3、3´を構成する透明基板21、22及び第二の偏光板5に用いられる透明基板42,43はアクリル基材でもよく、特に限定するものではない。
On the other hand, FIG. 5 shows a backlight unit 6, a second
2 shows a transmissive liquid crystal display body formed by sequentially laminating antireflection
なお、前記バックライトユニット6は、光源と光拡散板を備える。液晶セル4は、一方の透明基材に電極が設けられ、対向する側の透明基材に電極及びカラーフィルターを備えており、両電極間に液晶が封入された構造となっている。
The backlight unit 6 includes a light source and a light diffusing plate. The
以下、実施例により具体的に説明する。ハードコート層形成用として14種の組成物、また、低屈折率層形成用として3種の組成物を下記の組成で調整した。 Hereinafter, specific examples will be described. Fourteen compositions for forming the hard coat layer and three compositions for forming the low refractive index layer were prepared with the following compositions.
第一ハードコート層用組成物として、単層硬度が、0.20〜0.40GPaの範囲に入る2種類の第一ハードコート層用組成物と、比較として範囲から外れる2種類の第一ハードコート層用組成物の組成を下記に示す。 As the composition for the first hard coat layer, two kinds of first hard coat layer compositions whose single layer hardness falls within the range of 0.20 to 0.40 GPa, and two kinds of first hard coats that are out of the range for comparison. The composition of the coating layer composition is shown below.
<第一ハードコート層用組成物1>
三官能ウレタンアクリレート:日本合成化学社製 UV7550‐B 50重量部単官能モノマー:共栄社化学社製 イソアミルアクリレート 50重量部光重合開始剤:BASF社製、イルガキュア184 10重量部溶媒:メチルエチルケトン 100重量部であり、単層硬度は0.26GPaである。
<First hard coat layer composition 1>
Trifunctional urethane acrylate: Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd. UV75550-B 50 parts by weight Monofunctional monomer: Kyoeisha Chemical Co., Ltd. Isoamyl acrylate 50 parts by weight Photopolymerization initiator: BASF, Irgacure 184 10 parts by weight Solvent: Methyl ethyl ketone 100 parts by weight Yes, the single layer hardness is 0.26 GPa.
<第一ハードコート層用組成物2>
三官能ウレタンアクリレート:日本合成化学社製 UV7550−B 70重量部二官能モノマー:共栄社化学社製 30重量部
ポリエチレングリコール#200ジアクリレート
光重合開始剤:BASF社製、イルガキュア184 10重量部溶媒:メチルエチルケトン 100重量部であり、単層硬度は0.35GPaである。
<
Trifunctional urethane acrylate: 70 parts by weight UV7550-B manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd. Bifunctional monomer: 30 parts by weight manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
Polyethylene glycol # 200 diacrylate photopolymerization initiator: BASF Corporation, Irgacure 184 10 parts by weight Solvent: methyl ethyl ketone 100 parts by weight, single layer hardness is 0.35 GPa.
<第一ハードコート層用組成物3(比較用)>
三官能ウレタンアクリレート:日本合成化学社製 UV7550‐B 30重量部単官能モノマー:共栄社化学社製 イソアミルアクリレート 70重量部光重合開始剤:BASF社製、イルガキュア184 10重量部溶媒:メチルエチルケトン 100重量部であり、単層硬度は0.18GPaである。
<First hard coat layer composition 3 (for comparison)>
Trifunctional urethane acrylate: Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd. UV75550-B 30 parts by weight Monofunctional monomer: Kyoeisha Chemical Co., Ltd. Isoamyl acrylate 70 parts by weight Photopolymerization initiator: BASF, Irgacure 184 10 parts by weight Solvent: Methyl ethyl ketone 100 parts by weight Yes, the single layer hardness is 0.18 GPa.
<第一ハードコート層用組成物4(比較用)>
四〜五官能ウレタンアクリレート:日本合成化学社製 UV7650‐B 70重量部三官能モノマー:大阪有機化学社製 V#300 30重量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート
光重合開始剤:BASF社製、イルガキュア184 10重量部溶媒:メチルエチルケト 100重量部であり、単層硬度は0.46GPaである。
<First hard coat layer composition 4 (for comparison)>
4- to 5-functional urethane acrylate: 70 parts by weight of UV7650-B manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd. Trifunctional monomer: 30 parts by weight of V # 300 manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.
Pentaerythritol triacrylate photopolymerization initiator: BASF Corporation, Irgacure 184 10 parts by weight Solvent: methyl ethyl keto 100 parts by weight, single layer hardness is 0.46 GPa.
第二ハードコート層用組成物は、微粒子が添加されており、10種類の第一ハードコート層用組成物作製した。その組成を下記に示す。 Fine particles were added to the composition for the second hard coat layer, and 10 types of compositions for the first hard coat layer were prepared. Its composition is shown below.
<第二ハードコート層用組成物1>
四〜五官能ウレタンアクリレート:日本合成化学社製 UV7650‐B 70重量部三官能モノマー:大阪有機化学社製 V#300 30重量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート
シリカ微粒子分散液:平均粒子径300nm 3重量部
固形分30%、溶剤メチルイソブチルケトン
光重合開始剤:BASF社製、イルガキュア184 10重量部溶媒:メチルエチルケトン 100重量部である。
<Second hard coat layer composition 1>
4- to 5-functional urethane acrylate: 70 parts by weight of UV7650-B manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd. Trifunctional monomer: 30 parts by weight of V # 300 manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.
Pentaerythritol triacrylate silica fine particle dispersion: average particle size 300
Solid content 30%, solvent methyl isobutyl ketone photopolymerization initiator: BASF Corporation, Irgacure 184 10 parts by weight Solvent: methyl ethyl ketone 100 parts by weight.
<第二ハードコート層用組成物2>
六官能ウレタンアクリレート:共栄社化学社製 UA306‐I 70重量部三官能モノマー:阪有機化学社製 V#300 30重量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート
シリカ微粒子分散液:平均粒子径300nm 3重量部
固形分30%、溶剤メチルイソブチルケトン
光重合開始剤:BASF社製、イルガキュア184 10重量部溶媒:メチルエチルケトン 100重量部である。
<Second hard
Hexafunctional urethane acrylate: Kyoeisha Chemical Co., Ltd. UA306-I 70 parts by weight Trifunctional monomer: Osaka Organic Chemical Co., Ltd. V # 300 30 parts by weight
Pentaerythritol triacrylate silica fine particle dispersion: average particle size 300
Solid content 30%, solvent methyl isobutyl ketone photopolymerization initiator: BASF Corporation, Irgacure 184 10 parts by weight Solvent: methyl ethyl ketone 100 parts by weight.
<第二ハードコート層用組成物3>
六官能ウレタンアクリレート:共栄社化学社製 UA306‐I 70重量部三官能モノマー:大阪有機化学社製 V#300 30重量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート
シリカ微粒子分散液:平均粒子径500nm 2重量部
固形分30%、溶剤メチルイソブチルケトン
光重合開始剤:BASF社製、イルガキュア184 10重量部溶媒:メチルエチルケトン 100重量部である。
<Second hard
Hexafunctional urethane acrylate: Kyoeisha Chemical Co., Ltd. UA306-I 70 parts by weight Trifunctional monomer: Osaka Organic Chemical Co., Ltd. V # 300 30 parts by weight
Pentaerythritol triacrylate silica fine particle dispersion: average particle diameter 500
Solid content 30%, solvent methyl isobutyl ketone photopolymerization initiator: BASF Corporation, Irgacure 184 10 parts by weight Solvent: methyl ethyl ketone 100 parts by weight.
<第二ハードコート層用組成物4>
六官能ウレタンアクリレート:共栄社化学社製 UA306‐I 70重量部三官能モノマー:大阪有機化学社製 V#300 30重量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート
シリカ微粒子分散液:平均粒子径300nm 1.5重量部
固形分30%、溶剤メチルイソブチルケトン
光重合開始剤:BASF社製、イルガキュア184 10重量部溶媒:メチルエチルケトン 100重量部である。
<Second hard
Hexafunctional urethane acrylate: Kyoeisha Chemical Co., Ltd. UA306-I 70 parts by weight Trifunctional monomer: Osaka Organic Chemical Co., Ltd. V # 300 30 parts by weight
Pentaerythritol triacrylate silica fine particle dispersion: average particle size 300 nm 1.5 parts by weight
Solid content 30%, solvent methyl isobutyl ketone photopolymerization initiator: BASF Corporation, Irgacure 184 10 parts by weight Solvent: methyl ethyl ketone 100 parts by weight.
<第二ハードコート層用組成物5>
四〜五官能ウレタンアクリレート:日本合成化学社製 UV7650‐B 70重量部三官能モノマー:大阪有機化学 V#300 30重量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート
シリカ微粒子分散液:平均粒子径300nm 0.3重量部
固形分30%、溶剤メチルイソブチルケトン
光重合開始剤:BASF社製 イルガキュア184 10重量部溶媒:メチルエチルケトン 100重量部である。
<Second hard
4- to 5-functional urethane acrylate: Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd. UV7650-B 70 parts by weight Trifunctional monomer: Osaka Organic Chemistry V # 300 30 parts by weight
Pentaerythritol triacrylate silica fine particle dispersion: average particle size 300 nm 0.3 parts by weight
Solid content 30%, solvent methyl isobutyl ketone photopolymerization initiator: BASF Corporation Irgacure 184 10 parts by weight Solvent: methyl ethyl ketone 100 parts by weight.
<第二ハードコート層用組成物6>
四〜五官能ウレタンアクリレート:日本合成化学社製 UV7650‐B 70重量部三官能モノマー:大阪有機化学社製 V#300 30重量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート
シリカ微粒子分散液:平均粒子径30nm 3重量部
固形分30%、溶剤メチルイソブチルケトン
光重合開始剤:BASF社製、イルガキュア184 10重量部溶媒:メチルエチルケトン 100重量部である。
<Second hard coat layer composition 6>
4- to 5-functional urethane acrylate: 70 parts by weight of UV7650-B manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd. Trifunctional monomer: 30 parts by weight of V # 300 manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.
Pentaerythritol triacrylate silica fine particle dispersion: average particle size 30
Solid content 30%, solvent methyl isobutyl ketone photopolymerization initiator: BASF Corporation, Irgacure 184 10 parts by weight Solvent: methyl ethyl ketone 100 parts by weight.
<第二ハードコート層用組成物7(比較用)>
四〜五官能ウレタンアクリレート:日本合成化学社製 UV7650‐B 70重量部三官能モノマー:大阪有機化学社製 V#300 30重量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート
シリカ微粒子分散液:平均粒子径300nm 10重量部
固形分30%、溶剤メチルイソブチルケトン
光重合開始剤:BASF社製 イルガキュア184 10重量部溶媒:メチルエチルケトン 100重量部である。
<Second hard coat layer composition 7 (for comparison)>
4- to 5-functional urethane acrylate: 70 parts by weight of UV7650-B manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd. Trifunctional monomer: 30 parts by weight of V # 300 manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.
Pentaerythritol triacrylate silica fine particle dispersion: average particle size 300 nm 10 parts by weight
Solid content 30%, solvent methyl isobutyl ketone photopolymerization initiator: BASF Corporation Irgacure 184 10 parts by weight Solvent: methyl ethyl ketone 100 parts by weight.
<第二ハードコート層用組成物8(比較用)>
四〜五官能ウレタンアクリレート:日本合成化学社製 UV7650‐B 70重量部三官能モノマー:大阪有機化学社製 V#300 30重量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート
シリカ微粒子分散液:平均粒子径1000nm 3重量部
固形分30%、溶剤メチルイソブチルケトン
光重合開始剤:BASF社製 イルガキュア184 10重量部溶媒:メチルエチルケトン 100重量部である。
<Second hard coat layer composition 8 (for comparison)>
4- to 5-functional urethane acrylate: 70 parts by weight of UV7650-B manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd. Trifunctional monomer: 30 parts by weight of V # 300 manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.
Pentaerythritol triacrylate silica fine particle dispersion: average particle diameter 1000
Solid content 30%, solvent methyl isobutyl ketone photopolymerization initiator: BASF Corporation Irgacure 184 10 parts by weight Solvent: methyl ethyl ketone 100 parts by weight.
<第二ハードコート層用組成物9(比較用)>
三官能ウレタンアクリレート:日本合成化学社製 UV7550B 70重量部三官能モノマー:大阪有機化学社製 V#300 30重量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート
シリカ微粒子分散液:平均粒子径300nm 3重量部
固形分30%、溶剤メチルイソブチルケトン
光重合開始剤:BASF社製、イルガキュア184 10重量部溶媒:メチルエチルケトン 100重量部である。
<Second hard coat layer composition 9 (for comparison)>
Trifunctional urethane acrylate: 70 parts by weight of UV7550B manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd. Trifunctional monomer: 30 parts by weight of V # 300 manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.
Pentaerythritol triacrylate silica fine particle dispersion: average particle size 300
Solid content 30%, solvent methyl isobutyl ketone photopolymerization initiator: BASF Corporation, Irgacure 184 10 parts by weight Solvent: methyl ethyl ketone 100 parts by weight.
<第二ハードコート層用組成物10(比較用)>
十官能ウレタンアクリレート:日本合成化学社製 UV1700B 70重量部三官能モノマー:大阪有機化学社製 V#300 30重量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート
シリカ微粒子分散液:平均粒子径300nm 3重量部
固形分30%、溶剤メチルイソブチルケトン
光重合開始剤:BASF社製、イルガキュア184 10重量部溶媒:メチルエチルケトン 100重量部である。
<Second hard coat layer composition 10 (for comparison)>
10 functional urethane acrylate: Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd. UV1700B 70 parts by weight Trifunctional monomer: Osaka Organic Chemical Co., Ltd. V # 300 30 parts by weight
Pentaerythritol triacrylate silica fine particle dispersion: average particle size 300
Solid content 30%, solvent methyl isobutyl ketone photopolymerization initiator: BASF Corporation, Irgacure 184 10 parts by weight Solvent: methyl ethyl ketone 100 parts by weight.
低屈折率層組成物は、硬化時の屈折率を1.30、1.36、1.40に変えた3種類の組成を下記に示す。 The low refractive index layer composition has the following three types of compositions in which the refractive index during curing is changed to 1.30, 1.36, and 1.40.
<低屈折率層組成物1>
多孔質シリカ微粒子分散液:平均粒子径50nm 14.94重量部
固形分20%、溶剤:メチルイソブチルケトン
EO変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 1.99重量部
日本化薬製 DPEA‐12
光重合開始剤:BASF社製 イルガキュア184 0.07重量部アルキルポリエーテル変性シリコーンオイル 0.20重量部
GE東芝シリコーン社製 TSF4460
溶媒:メチルイソブチルケトン 82重量部である。
<Low refractive index layer composition 1>
Porous silica fine particle dispersion: average particle size 50 nm 14.94 parts by weight
Solid content 20%, solvent: methyl isobutyl ketone EO-modified dipentaerythritol hexaacrylate 1.99 parts by weight
DPEA-12 made by Nippon Kayaku
Photopolymerization initiator: BASF's Irgacure 184 0.07 part by weight Alkyl polyether-modified silicone oil 0.20 part by weight
TSF4460 made by GE Toshiba Silicone
Solvent: 82 parts by weight of methyl isobutyl ketone.
<低屈折率層用組成物2>
多孔質シリカ微粒子分散液:平均粒子径50nm 16.12重量部
固形分20%、溶剤:メチルイソブチルケトン
EO変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 0.81重量部
日本化薬製 DPEA‐12
光重合開始剤: 0.07重量部
チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製 イルガキュア184
アルキルポリエーテル変性シリコーンオイル 0.20重量部
GE東芝シリコーン社製 TSF4460
溶媒:メチルイソブチルケトン 82重量部である。
<
Porous silica fine particle dispersion: average particle size 50 nm 16.12 parts by weight
20% solid content, solvent: 0.81 parts by weight of methyl isobutyl ketone EO-modified dipentaerythritol hexaacrylate
DPEA-12 made by Nippon Kayaku
Photopolymerization initiator: 0.07 parts by weight
Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals
Alkyl polyether modified silicone oil 0.20 parts by weight
TSF4460 made by GE Toshiba Silicone
Solvent: 82 parts by weight of methyl isobutyl ketone.
<低屈折率層用組成物3>
多孔質シリカ微粒子分散液:平均粒子径50nm 13.02重量部
固形分20%、溶剤:メチルイソブチルケトン
EO変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 3.91重量部
日本化薬製 DPEA‐12
光重合開始剤 0.07重量部
チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製 イルガキュア184
アルキルポリエーテル変性シリコーンオイル 0.20重量部
GE東芝シリコーン社製 TSF4460
溶媒:メチルイソブチルケトン 82重量部である。
<
Porous silica fine particle dispersion: average particle size 50 nm 13.02 parts by weight
Solid content 20%, solvent: methyl isobutyl ketone EO-modified dipentaerythritol hexaacrylate 3.91 parts by weight
DPEA-12 made by Nippon Kayaku
Photopolymerization initiator 0.07 parts by weight
Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals
Alkyl polyether modified silicone oil 0.20 parts by weight
TSF4460 made by GE Toshiba Silicone
Solvent: 82 parts by weight of methyl isobutyl ketone.
第一ハードコート層として第一ハードコート層用組成物1を、第二ハードコート層として第二ハードコート層用組成物1を、低屈折率層組成物として低屈折率層組成物1を用い厚み80μmのアクリル基材の一方の面に、第一ハードコート層用組成物1を硬化後の膜厚が5μmとなる様に塗布し、さらに第二ハードコート層用組成物1を硬化後の膜厚が3μmとなる様に塗布し、80℃・60秒オーブンで乾燥後、紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン、光源Hバルブ)を用いて、照射線量300mJ/cm2で紫外線を照射してハードコート層を形成した。 The first hard coat layer composition 1 is used as the first hard coat layer, the second hard coat layer composition 1 is used as the second hard coat layer, and the low refractive index layer composition 1 is used as the low refractive index layer composition. The first hard coat layer composition 1 is applied to one surface of an acrylic substrate having a thickness of 80 μm so that the film thickness after curing is 5 μm, and the second hard coat layer composition 1 is further cured. The film is applied to a thickness of 3 μm, dried in an oven at 80 ° C. for 60 seconds, and then irradiated with ultraviolet rays at an irradiation dose of 300 mJ / cm 2 using an ultraviolet irradiation device (Fusion UV System Japan, light source H bulb). A hard coat layer was formed.
その上に、低屈折率層用組成物1を乾燥後の膜厚が100nmとなる様に塗布した。その後、紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン社製 光源Hバルブ)を用いて、照射線量192mJ/cm2で紫外線照射して低屈折率層を形成し、反射防止ハード
コート材を作製した。
On top of this, the composition 1 for a low refractive index layer was applied so that the film thickness after drying was 100 nm. Thereafter, using a UV irradiation device (light source H bulb manufactured by Fusion UV System Japan), a low refractive index layer was formed by UV irradiation at an irradiation dose of 192 mJ / cm 2 to prepare an antireflection hard coat material.
実施例1における第二ハードコート層として第二ハードコート層用組成物2を用い、第二ハードコート層の単層時の硬度を上昇させた以外は同一条件で反射防止ハードコート材を作製した。
An antireflective hard coat material was produced under the same conditions except that the
実施例1における第一ハードコート層として第一ハードコート層用組成物2を用い、第一ハードコート層の単層時の硬度を上昇させた以外は、同一条件で反射防止ハードコート材を作製した。
An anti-reflective hard coat material was produced under the same conditions except that the
実施例1における第一ハードコート層の膜厚と、第二ハードコート層の膜厚を厚くした以外は、同一条件で反射防止ハードコート材を作製した。 An antireflection hard coat material was produced under the same conditions except that the film thickness of the first hard coat layer and the film thickness of the second hard coat layer in Example 1 were increased.
実施例1における第一ハードコート層の膜厚と、第二ハードコート層の膜厚を薄くした以外は、同一条件で反射防止ハードコート材を作製した。 An antireflection hard coat material was produced under the same conditions except that the film thickness of the first hard coat layer and the film thickness of the second hard coat layer in Example 1 were reduced.
実施例1における第二ハードコート層として、微粒子径を大きくし、添加量を少なくした第二ハードコート層用組成物3を用いた以外は同一条件で反射防止ハードコート材を作製した。
As the second hard coat layer in Example 1, an antireflection hard coat material was produced under the same conditions except that the
実施例1における第二ハードコート層として、微粒子の添加量を少なくした第二ハードコート層用組成物4を用いた以外は同一条件で反射防止ハードコート材を作製した。
As the second hard coat layer in Example 1, an antireflection hard coat material was produced under the same conditions except that the second hard
実施例1における第二ハードコート層として、微粒子が添加されていない第一ハードコート層用組成物4を用いた以外は同一条件で反射防止ハードコート材を作製した。
As the second hard coat layer in Example 1, an antireflection hard coat material was produced under the same conditions except that the
実施例1における第二ハードコート層として、微粒子の添加量を実施例1の10分の1とした第二ハードコート層用組成物5を用いた同一条件で反射防止ハードコート材を作製した。
As the second hard coat layer in Example 1, an antireflection hard coat material was produced under the same conditions using the second hard
実施例1における第二ハードコート層として、実施例1における添加微粒子大きさを、実施例1の10分の一した第二ハードコート層用組成物7を用いた以外は同一条件で反射防止ハードコート材を作製した。 As the second hard coat layer in Example 1, the antireflective hard was used under the same conditions except that the composition 7 for the second hard coat layer in which the added fine particle size in Example 1 was 1/10 of that in Example 1 was used. A coating material was prepared.
実施例1における低屈折率層組成物1の替わりに、低屈折率層組成物2を用いた以外は同一条件で反射防止ハードコート材を作製した。
Instead of the low refractive index layer composition 1 in Example 1, an antireflection hard coat material was produced under the same conditions except that the low refractive
実施例1における低屈折率層組成物1の替わりに、低屈折率層組成物3を用いた以外は同一条件で反射防止ハードコート材を作製した。
Instead of the low refractive index layer composition 1 in Example 1, an antireflection hard coat material was produced under the same conditions except that the low refractive
<比較例1>
実施例1における第二ハードコート層として、微粒子を実施例1の3倍以上添加した第二ハードコート層用組成物7を用いた以外は同一条件で反射防止ハードコート材を作製した。
<Comparative Example 1>
As the second hard coat layer in Example 1, an antireflection hard coat material was produced under the same conditions except that the second hard coat layer composition 7 in which fine particles were added three times or more of Example 1 was used.
<比較例2>
実施例1における第二ハードコート層として、実施例1における添加微粒子大きさを、実施例1の3.3倍以上とした第二ハードコート層用組成物8を用いた以外は同一条件で反射防止ハードコート材を作製した。
<Comparative example 2>
Reflection was performed under the same conditions except that the second hard coat layer in Example 1 used was a composition 8 for the second hard coat layer in which the added fine particle size in Example 1 was 3.3 times or more that in Example 1. A preventive hard coat material was prepared.
<比較例3>
実施例1における第一ハードコート層として、三官能ウレタンアクリレートを少なく、単官能モノマーを多くした第一ハードコート層用組成物3を用いた以外は同一条件で反射防止ハードコート材を作製した。
<Comparative Example 3>
As the first hard coat layer in Example 1, an antireflection hard coat material was produced under the same conditions except that the
<比較例4>
実施例1における第一ハードコート層として、三官能ウレタンアクリレートに替わり四〜五官能ウレタンアクリレートを用い、単官能モノマーを三官能モノマーとし、官能基の数を多くした第一ハードコート層用組成物4を用いた以外は同一条件で反射防止ハードコート材を作製した。
<Comparative example 4>
As the first hard coat layer in Example 1, a tetrafunctional to pentafunctional urethane acrylate was used instead of the trifunctional urethane acrylate, the monofunctional monomer was a trifunctional monomer, and the number of functional groups was increased. An antireflection hard coat material was produced under the same conditions except that 4 was used.
<比較例5>
実施例1における第二ハードコート層用組成物の四〜五官能ウレタンアクリレートに替わりに三官能ウレタンアクリレートとした第二ハードコート層用組成物9を用い、硬化後の単層時の硬度を柔らかくした以外は同一条件で反射防止ハードコート材を作製した。
<Comparative Example 5>
Instead of the tetra- to pentafunctional urethane acrylate of the second hard coat layer composition in Example 1, the second hard coat layer composition 9 was used as a trifunctional urethane acrylate, and the hardness at the time of single layer after curing was softened. An antireflection hard coat material was produced under the same conditions except for the above.
<比較例6>
実施例1における第二ハードコート層用組成物の四〜五官能ウレタンアクリレートに替わりに十官能ウレタンアクリレートを用い、硬化後の単層時の硬度を硬くした以外は同一条件で反射防止ハードコート材を作製した。
<Comparative Example 6>
Anti-reflective hard coat material under the same conditions except that a ten-functional urethane acrylate was used instead of the tetra- to pentafunctional urethane acrylate of the composition for the second hard coat layer in Example 1 and the hardness at the time of single layer after curing was increased. Was made.
<比較例7>
実施例1における第一、第二ハードコート層として、微粒子が添加されている第二ハードコート層用組成物1を用い、膜厚を5μmの厚みとした以外は同一条件で反射防止ハードコート材を作製した。
<Comparative Example 7>
An antireflection hard coat material under the same conditions except that the composition 1 for the second hard coat layer to which fine particles are added is used as the first and second hard coat layers in Example 1 and the film thickness is 5 μm. Was made.
<比較例8>
実施例1における第一ハードコート層の厚みを100分の一とした以外は同一条件で反射防止ハードコート材を作製した。
<Comparative Example 8>
An antireflection hard coat material was produced under the same conditions except that the thickness of the first hard coat layer in Example 1 was set to 1/100.
<比較例9>
実施例1における第一ハードコート層の厚みを3倍とした以外は同一条件で反射防止ハードコート材を作製した。
<Comparative Example 9>
An antireflection hard coat material was produced under the same conditions except that the thickness of the first hard coat layer in Example 1 was tripled.
<比較例10>
実施例1における第二ハードコート層の厚みを、およそ4分の一に薄くした以外は同一条件で反射防止ハードコート材を作製した。
<Comparative Example 10>
An antireflection hard coat material was produced under the same conditions except that the thickness of the second hard coat layer in Example 1 was reduced to about 1/4.
<比較例11>
実施例1における第二ハードコート層の厚みを、5倍に厚くした以外は同一条件で反射防止ハードコート材を作製した。
<Comparative Example 11>
An antireflection hard coat material was produced under the same conditions except that the thickness of the second hard coat layer in Example 1 was increased to 5 times.
<評価及び方法>
実施例1〜12、比較例1〜11で得られたハードコート層及び反射防止ハードコート材について、以下の方法で試験および評価を行った。
<Evaluation and method>
The hard coat layers and antireflection hard coat materials obtained in Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 to 11 were tested and evaluated by the following methods.
<超微小押し込み硬度>
前記ハードコート層の表面から深さ50nmの硬度を、超微小押し込み硬度試験機(MTSシステムズ社製 NanoIndenterSA2)を用いて、圧子:先端曲率半径100nm、稜角度80°の三角錐圧子、押し込み速度=2.0nm/sの条件にて測定した。
<Ultra indentation hardness>
Using a super micro indentation hardness tester (NanoIndenter SA2 manufactured by MTS Systems), the hardness of the hard coat layer is 50 nm deep. Indenter: Triangular pyramid indenter with tip radius of curvature of 100 nm and ridge angle of 80 °, indentation speed = Measurement was performed under the condition of 2.0 nm / s.
<鉛筆硬度試験>
前記反射防止ハードコート材の低屈折率層の表面に、クレメンス型引掻き硬度試験機(テスター産業株式会社製、HA‐301)を用いて、JIS‐K5400‐1990に準拠して、500gの荷重をかけた鉛筆(三菱鉛筆社製 UNI)を用いて、鉛筆硬度を代えて試験を行い、キズによる外観の変化を目視で評価し、キズが観察されない時の上限の鉛筆の硬度を測定値とした。
<Pencil hardness test>
Using a Clemens type scratch hardness tester (manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd., HA-301), a load of 500 g is applied to the surface of the low refractive index layer of the antireflection hard coat material in accordance with JIS-K5400-1990. Using a pencil (Mitsubishi Pencil Co., Ltd. UNI), the pencil hardness was changed and the test was performed to visually evaluate the change in appearance due to scratches, and the upper limit pencil hardness when no scratches were observed was taken as the measured value. .
<屈曲性評価>
K5600‐5‐1に準拠してマンドレル試験を実施し、クラックが発生した時のマンドレル直径を評価した。
クラックの発生した曲率半径が
丸印(○):10mm以下
バツ印(×):10mmより大きい
として評価を行った。
<Flexibility evaluation>
A mandrel test was carried out according to K5600-5-1, and the mandrel diameter when a crack occurred was evaluated.
Evaluation was made assuming that the radius of curvature at which the crack occurred was a circle (◯): 10 mm or less, a cross mark (×): greater than 10 mm.
<平均視感反射率>
前記低屈折率層の表面について、自動分光光度計(日立製作所製、U‐4000)を用い、入射角5°における分光反射率を測定した。また、得られた分光反射率曲線から平均視感反射率を求めた。なお、測定の際にはアクリル基材の低屈折率層の形成されていない面につや消し黒色塗量を塗布し、反射防止の処置を行った。
<Average luminous reflectance>
The surface of the low refractive index layer was measured for spectral reflectance at an incident angle of 5 ° using an automatic spectrophotometer (Hitachi, U-4000). Further, the average luminous reflectance was obtained from the obtained spectral reflectance curve. In the measurement, a matte black coating amount was applied to the surface of the acrylic base material on which the low refractive index layer was not formed, and an antireflection treatment was performed.
<ヘイズ値>
得られた反射防止フィルムについて、写像性測定器(日本電色工業社製 NDH‐2000)を使用し、JIS K 7105−1981に記載の方法に準拠してヘイズ値を測定した。
<Haze value>
About the obtained anti-reflective film, the haze value was measured based on the method as described in JISK7105-1981 using the image clarity measuring device (NDH-2000 by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).
<全光線透過率>
前記反射防止ハードコート材について、写像性測定器(日本電色工業社製 NDH‐2000)を使用して全光線透過率を測定した。測定した結果が、
丸印(○):94%以上
バツ印(×):94%未満
として評価を行った。
<Total light transmittance>
About the said antireflection hard coat material, the total light transmittance was measured using the image clarity measuring device (Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. NDH-2000). The measured result is
Evaluation was performed with a circle mark (◯): 94% or more and a cross mark (x): less than 94%.
<密着性>
前記反射防止ハードコート材の低屈折率層側の表面を、JIS‐K‐5600‐5‐6のクロスカット法に準拠して密着性試験を行った。
カットの間隔を1mmとし、
丸印(○):碁盤目及びカット交差部が全く剥がれていない場合
バツ印(×):少しでも剥がれている場合
として評価を行った。
<Adhesion>
The surface of the antireflective hard coat material on the low refractive index layer side was subjected to an adhesion test in accordance with the cross-cut method of JIS-K-5600-5-6.
The interval between cuts is 1 mm,
Circle mark (◯): When the grid pattern and the cut intersection are not peeled off at all Cross mark (×): Evaluation is made as if even a little peeled off.
<耐擦傷性>
前記反射防止ハードコート材の低屈折率層側の表面を、#0000のスチールウールを用いて200g/cm2の荷重をかけながら10往復し、キズの発生の有無を確認した。
丸印(○):キズがない場合
バツ印(×)キズが発生した場合をバツ印(×)
として評価を行った。
<Abrasion resistance>
The surface of the antireflective hard coat material on the low refractive index layer side was reciprocated 10 times while applying a load of 200 g /
Circle (○): When there is no flaw, a cross mark (×) When a flaw occurs, a cross mark (×)
As an evaluation.
<屈折率測定>
低屈折率層の屈折率は、低屈折率層用組成物をシリコン基板上に膜厚1.0μmになる様に塗布し、低屈折率層を形成する条件で塗膜を形成した。作製した基板を真空紫外域多入射角分光エリプソメーター(J.A.Woollam社製 VUV‐VASE)で測定を行った。
<Refractive index measurement>
As for the refractive index of the low refractive index layer, the composition for low refractive index layer was applied on a silicon substrate so as to have a film thickness of 1.0 μm, and a coating film was formed under the conditions for forming the low refractive index layer. The produced substrate was measured with a vacuum ultraviolet multiple incident angle spectroscopic ellipsometer (VUV-VASE manufactured by JA Woollam).
<中心線平均粗さ(Ra)>
得られた反射防止フィルムについて、非接触表面・層断面形状計測システム(菱化システム社製 VertScan2.0)を用い、低屈折率層表面の中心線平均粗さ(Ra)を測定した。
<Center line average roughness (Ra)>
About the obtained antireflection film, the center line average roughness (Ra) of the surface of the low refractive index layer was measured using a non-contact surface / layer cross-sectional shape measurement system (VertScan 2.0 manufactured by Ryoka System Co., Ltd.).
<耐ブロッキング性>
得られた反射防止フィルムを10cm角にカットし、このカットしたフィルムをガラス板上に5枚重ね、50℃で24時間静置した。その後、フィルム面積(100cm2)に占めるブロッキング部分の面積を目視にて観察した。
丸印(○):フィルム面積に占めるブロッキング部分の面積が50%未満
バツ印(×):50%以上である場合
として評価を行った。
<Blocking resistance>
The obtained antireflection film was cut into a 10 cm square, 5 sheets of this cut film were stacked on a glass plate, and allowed to stand at 50 ° C. for 24 hours. Then, the area of the blocking part which occupies for a film area (100 cm < 2 >) was observed visually.
Circle mark (◯): Evaluation was made when the area of the blocking portion in the film area was less than 50% x (x): 50% or more.
評価結果を表1に示す。 The evaluation results are shown in Table 1.
また、比較例3、4、7より、第一ハードコート層の単層硬度が0.20〜0.40GPaから外れると鉛筆硬度やマンドレル試験が満足しない。第一ハードコート層用組成物のウレタンアクリレート及びモノマーの官能基を減らした比較例3や逆に増やした比較例4や、第二ハードコート層用組成物を用いたものでは、鉛筆硬度やマンドレル試験、密着性が満足しない。 Moreover, when the single-layer hardness of the first hard coat layer deviates from 0.20 to 0.40 GPa from Comparative Examples 3, 4, and 7, the pencil hardness and the mandrel test are not satisfied. In Comparative Example 3 in which the functional groups of the urethane acrylate and monomer in the composition for the first hard coat layer were reduced, and in contrast, in the case of using the composition for the second hard coat layer, and pencil hardness and mandrel The test and adhesion are not satisfactory.
また、比較例5、6より、第二ハードコート層用組成物の四〜五官能ウレタンアクリレートに替わりに三官能ウレタンアクリレートに官能基を減らしたり、四〜五官能ウレタンアクリレートに替わりに十官能ウレタンアクリレートを用いたものは、鉛筆硬度やマンドレル試験、密着性が満足しなくなる。 Further, from Comparative Examples 5 and 6, the functional group is reduced to trifunctional urethane acrylate instead of the tetra to penta functional urethane acrylate of the second hard coat layer composition, or the decafunctional urethane is replaced with the tetra to penta functional urethane acrylate. Those using acrylates do not satisfy pencil hardness, mandrel test, and adhesion.
比較例1〜7で得られたハードコートは、屈曲性、密着性、表面硬度、耐ブロッキング性を全て満たすものを作製することができないことがわかる。 It can be seen that the hard coats obtained in Comparative Examples 1 to 7 cannot be prepared to satisfy all of flexibility, adhesion, surface hardness, and blocking resistance.
1・・・ハードコート材
11・・・アクリル基材
12・・・第一ハードコート層
13・・・第二ハードコート層
14・・・低屈折率層
15・・・微粒子
2・・・反射防止ハードコート材
21・・・透明基材
22・・・透明基材
23・・・偏光層
3・・・反射防止ハードコート材一体型偏光板
31・・・偏光板
4・・・液晶セル
41・・・透明基材
42・・・透明基材
43・・・偏光層
5・・・第二の偏光板
6・・・バックライト
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Hard-
Claims (5)
前記第一ハードコート層の単層での、深さ50nmにおける超微小押し込み硬度が0.20GPa以上0.40GPa以下の範囲で、
かつ、前記第二ハードコート層の単層での、深さ50nmにおける超微小押し込み硬度が0.40GPa以上0.60GPa以下の範囲で、
かつ、前記第二ハードコート層表面の算術平均粗さ(Ra)が3〜50nm以下の範囲で、
かつ、前記第一ハードコート層の膜厚が0.1〜10μmの範囲で、かつ前記第二ハードコート層の膜厚が1〜5μmの範囲で、
あることを特徴とする光学用ハードコート材。 An optical hard coat material in which a first hard coat layer, a second hard coat layer, and a low refractive index layer are sequentially laminated on one surface of an acrylic substrate,
In the single hard layer of the first hard coat layer, the ultra fine indentation hardness at a depth of 50 nm is in the range of 0.20 GPa or more and 0.40 GPa or less,
And in the range of 0.40 GPa or more and 0.60 GPa or less ultra-fine indentation hardness at a depth of 50 nm in the single layer of the second hard coat layer,
And the arithmetic mean roughness (Ra) of said 2nd hard-coat layer surface is 3-50 nm or less in range,
And the thickness of the first hard coat layer is in the range of 0.1 to 10 μm, and the thickness of the second hard coat layer is in the range of 1 to 5 μm.
An optical hard coat material, characterized in that it exists.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013085574A JP2014206707A (en) | 2013-04-16 | 2013-04-16 | Optical hard coat material and display device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013085574A JP2014206707A (en) | 2013-04-16 | 2013-04-16 | Optical hard coat material and display device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014206707A true JP2014206707A (en) | 2014-10-30 |
Family
ID=52120268
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013085574A Pending JP2014206707A (en) | 2013-04-16 | 2013-04-16 | Optical hard coat material and display device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2014206707A (en) |
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