JP2014202853A - Antireflection film, polarizing plate with antireflection film, and transmissive liquid crystal display - Google Patents

Antireflection film, polarizing plate with antireflection film, and transmissive liquid crystal display Download PDF

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靖史 薮原
Yasushi Yabuhara
靖史 薮原
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antireflection film having excellent hard coat property, transparency, scratch resistance and blocking resistance, and to provide a polarizing plate with an antireflection film and a transmissive liquid crystal display.SOLUTION: The antireflection film comprises a transparent substrate 11, a hard coat layer 12 on at least one surface of the transparent substrate 11, a high refractive index layer 13 on the hard coat layer 12, and a low refractive index layer 14 on the high refractive index layer 13. The high refractive index layer 13 includes high refractive index microparticles 131 and microparticles 132 having an average particle diameter 0.8 to 1.2 times as the total film thickness of the high refractive index layer 13 and the low refractive index layer 14. A refractive index n(Ha) of the hard coat layer 12, a refractive index n(Hi) of the high refractive index layer, and a refractive index n(L) of the low refractive index layer 14 are in a relationship of n(L)<n(Ha)<n(Hi). On a surface of the low refractive index layer 14, the center line average height is 0.003 to 0.020 μm and the average interval of projections and recesses is 0.030 to 1.000 mm; and the antireflection film has a haze value of 0.3% or less.

Description

本発明は、優れたハードコート性、透明性および耐擦傷性を備え、さらに耐ブロッキング性にも優れた反射防止フィルム、ならびに該反射防止フィルムを使用した反射防止フィルム付偏光板および透過型液晶ディスプレイに関する。   The present invention relates to an antireflection film having excellent hard coat properties, transparency and scratch resistance, and also excellent in blocking resistance, and a polarizing plate with an antireflection film and a transmissive liquid crystal display using the antireflection film About.

一般にディスプレイは、室内外での使用を問わず、外光等が入射する環境下で使用される。この外光等の入射光は、ディスプレイ表面等において正反射され、それによる反射像が表示画像と混合することにより、画面表示品質を低下させてしまう。そのため、ディスプレイ表面等に反射防止機能を付与することは必須であり、反射防止機能の高性能化や、反射防止機能以外の機能との複合化が求められている。   Generally, a display is used in an environment where external light or the like is incident, regardless of whether the display is used indoors or outdoors. Incident light such as external light is specularly reflected on the display surface and the like, and the reflected image thereby mixes with the display image, thereby degrading the screen display quality. For this reason, it is essential to provide an antireflection function to the display surface and the like, and there is a demand for higher performance of the antireflection function and to combine it with functions other than the antireflection function.

また、一般に反射防止機能は、透明基材上に金属酸化物等の透明薄膜からなる多層膜を反射防止層として形成することで得られる。多層膜を形成する方法として、化学蒸着(CVD)法や、物理蒸着(PVD)法といったドライコーティング法が提案されている。また、反射防止層の形成方法として、大面積化、連続生産および低コスト化が可能であるウェットコーティング法も提案されている。   In general, the antireflection function can be obtained by forming a multilayer film made of a transparent thin film such as a metal oxide as an antireflection layer on a transparent substrate. As a method for forming a multilayer film, a dry coating method such as a chemical vapor deposition (CVD) method or a physical vapor deposition (PVD) method has been proposed. In addition, as a method for forming the antireflection layer, a wet coating method capable of increasing the area, continuously producing, and reducing the cost has been proposed.

また、これらの反射防止層は、その表面が比較的柔軟であることから、表面硬度を付与するために、一般にアクリル多官能化合物の重合体からなるハードコート層を設け、その上に反射防止層を形成するという手法が用いられている。   In addition, since these antireflection layers have a relatively soft surface, a hard coat layer generally made of a polymer of an acrylic polyfunctional compound is provided to provide surface hardness, and the antireflection layer is provided thereon. The method of forming is used.

また、ディスプレイ表面に用いられる場合、視認性を高くするために、反射防止フィルムは高い透明性が要求される。反射防止フィルムの透明性を向上させるために、反射防止フィルム表面を平滑にし、外光の散乱をなくす方法がある。   In addition, when used on the display surface, the antireflection film is required to have high transparency in order to increase visibility. In order to improve the transparency of the antireflection film, there is a method of smoothing the surface of the antireflection film and eliminating scattering of external light.

しかし、この方法では、その平滑さ故にフィルムの滑り性が悪く、フィルムを重ねたり、ロール状にしたりする場合、ブロッキング(貼り付き)が発生してしまい、剥離する際にフィルム表面が荒れてしまう。そこで、このようなブロッキングの改良法としては、フィルムの両端にテープ等のスペーサーを挟む方法や、フィルム表面に微細な凹凸を付与する方法等がある。   However, with this method, the slipperiness of the film is poor due to its smoothness, and when the films are stacked or rolled, blocking (sticking) occurs, and the film surface becomes rough when peeling. . Thus, as an improved method of such blocking, there are a method of sandwiching a spacer such as a tape at both ends of the film, a method of giving fine irregularities on the film surface, and the like.

特開2003−045234号公報JP 2003-045234 A 特開2005−144858号公報JP 2005-144858 A 特開2012−27401号公報JP 2012-27401 A 特開2012−133079号公報JP 2012-133079 A

しかし、これらの方法では、フィルム加工時にテープを除去する工程が煩雑であるほか、フィルム表面に微細な凹凸を付与することによりフィルムの透明性が劣化するという問題が発生する。   However, in these methods, the process of removing the tape at the time of film processing is complicated, and there is a problem that the transparency of the film is deteriorated by providing fine irregularities on the film surface.

本発明は、上記の問題を解決するためになされたものであり、優れたハードコート性、透明性および耐擦傷性を備え、さらに耐ブロッキング性にも優れた反射防止フィルム、ならびに該反射防止フィルムを使用した反射防止フィルム付偏光板および透過型液晶ディスプレイを提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above problems, and has an antireflection film having excellent hard coat properties, transparency and scratch resistance, and also excellent in blocking resistance, and the antireflection film. An object of the present invention is to provide a polarizing plate with an antireflection film and a transmissive liquid crystal display.

上記の課題を解決するために、本発明の反射防止フィルムは、反射防止フィルムであって、透明基材と、透明基材の少なくとも一方の面上にハードコート層と、ハードコート層上に高屈折率層と、高屈折率層上に低屈折率層とを備え、高屈折率層は、高屈折率微粒子と、高屈折率層の膜厚と低屈折率層の膜厚とを合わせた膜厚の0.8〜1.2倍の平均粒子径を有する微粒子とを含み、ハードコート層の屈折率n(Hard)と、高屈折率層屈折率n(High)と、低屈折率層の屈折率n(Low)とが、n(Low)<n(Hard)<n(High)であり、低屈折率層の表面の中心線平均高さ(Ra)が0.003〜0.020μmであり、かつ、低屈折率層の表面の凹凸の平均間隔(Sm)が0.030〜1.000mmであり、反射防止フィルムのヘイズ値が0.3%以下であることを特徴とする。   In order to solve the above problems, the antireflection film of the present invention is an antireflection film, comprising a transparent substrate, a hard coat layer on at least one surface of the transparent substrate, and a high height on the hard coat layer. A refractive index layer and a low refractive index layer are provided on the high refractive index layer, and the high refractive index layer is a combination of the high refractive index fine particles and the thicknesses of the high refractive index layer and the low refractive index layer. Including a fine particle having an average particle diameter of 0.8 to 1.2 times the film thickness, a refractive index n (Hard) of the hard coat layer, a high refractive index layer refractive index n (High), and a low refractive index layer N (Low) is n (Low) <n (Hard) <n (High), and the centerline average height (Ra) of the surface of the low refractive index layer is 0.003 to 0.020 μm. And the average interval (Sm) of the irregularities on the surface of the low refractive index layer is 0.030 to 1.000 mm, Haze value of antireflection film is equal to or less than 0.3%.

また、本発明の反射防止フィルム付偏光板は、上記の反射防止フィルムと、反射防止フィルムの透明基材のハードコート層が形成された面とは反対の面側に配置された偏光板とを備えていることを特徴とする。   Moreover, the polarizing plate with an antireflection film of the present invention comprises the above antireflection film and a polarizing plate disposed on the side opposite to the surface on which the hard coat layer of the transparent base material of the antireflection film is formed. It is characterized by having.

さらに、本発明の透過型液晶ディスプレイは、上記の反射防止フィルム付偏光板と、液晶セルと、偏光板と、バックライトユニットとを備え、反射防止フィルム付偏光板において反射防止フィルムを備える面とは反対の面側に、液晶セルと、前記偏光板と、前記バックライトユニットとがこの順に保持されていることを特徴とする。   Furthermore, the transmissive liquid crystal display of the present invention includes the above-described polarizing plate with an antireflection film, a liquid crystal cell, a polarizing plate, and a backlight unit, and a surface having an antireflection film in the polarizing plate with an antireflection film; The liquid crystal cell, the polarizing plate, and the backlight unit are held in this order on the opposite surface side.

本発明によれば、優れたハードコート性、透明性および耐擦傷性を備え、さらに耐ブロッキング性にも優れた反射防止フィルム、ならびに該反射防止フィルムを使用した反射防止フィルム付偏光板および透過型液晶ディスプレイを提供することができる。   According to the present invention, an antireflection film having excellent hard coat properties, transparency and scratch resistance, and also excellent in blocking resistance, a polarizing plate with an antireflection film and a transmission type using the antireflection film A liquid crystal display can be provided.

本発明の実施の形態1に係る反射防止フィルムを示す概略断面図Schematic sectional view showing an antireflection film according to Embodiment 1 of the present invention. 本発明の実施の形態2に係る反射防止フィルム付偏光板を示す概略断面図Schematic sectional view showing a polarizing plate with an antireflection film according to Embodiment 2 of the present invention 本発明の実施の形態3に係る、反射防止フィルム付偏光板を備えた透過型液晶ディスプレイを示す概略断面図The schematic sectional drawing which shows the transmissive liquid crystal display provided with the polarizing plate with an antireflection film based on Embodiment 3 of this invention. 本発明の実施の形態4に係る、反射防止フィルム付偏光板を備えた透過型液晶ディスプレイを示す概略断面図The schematic sectional drawing which shows the transmissive liquid crystal display provided with the polarizing plate with an antireflection film based on Embodiment 4 of this invention.

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1に係る反射防止フィルム1を示す概略断面図である。反射防止フィルム1は、図1に示すように、透明基材11の少なくとも一方の面上に、ハードコート層形成用塗液から形成されたハードコート層12と、高屈折率微粒子131と微粒子132を含む高屈折率層形成用塗液から形成された高屈折率層13と、低屈折率微粒子141を含む低屈折率層形成用塗液から形成された低屈折率層14とを順次積層した積層体である。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an antireflection film 1 according to Embodiment 1 of the present invention. As shown in FIG. 1, the antireflection film 1 includes a hard coat layer 12 formed from a hard coat layer forming coating solution, high refractive index fine particles 131, and fine particles 132 on at least one surface of a transparent substrate 11. A high refractive index layer 13 formed from a coating solution for forming a high refractive index layer containing, and a low refractive index layer 14 formed from a coating solution for forming a low refractive index layer containing fine particles of low refractive index 141 were sequentially laminated. It is a laminate.

図1は、透明基材11の上面(表側の面)にだけ、ハードコート層12と、高屈折率層13と、低屈折率層14とを形成した反射防止フィルム1の一例である。   FIG. 1 is an example of the antireflection film 1 in which a hard coat layer 12, a high refractive index layer 13, and a low refractive index layer 14 are formed only on the upper surface (front surface) of the transparent substrate 11.

まず、透明基材11について説明する。透明基材11としては、種々の有機高分子からなるフィルムを用いることができる。例えば、ディスプレイ等の光学部材に通常使用される基材を用いることができる。透明基材11としては、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性等の諸物性を考慮して、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、6−ナイロン、6,6−ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子からなるものを用いることができる。特に、トリアセチルセルロースフィルム等のセルロース系フィルムを好適に用いることができる。セルロース系フィルムは、複屈折が少なく、透明性、屈折率、分散等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性等の諸物性に優れている。さらに、セルロース系フィルムは、溶剤によって容易に溶解または膨潤するので、最も好ましく用いられる。   First, the transparent substrate 11 will be described. As the transparent substrate 11, films made of various organic polymers can be used. For example, the base material normally used for optical members, such as a display, can be used. As the transparent substrate 11, in consideration of optical properties such as transparency and refractive index of light, and various physical properties such as impact resistance, heat resistance and durability, polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polyethylene terephthalate, Polyesters such as polyethylene naphthalate, celluloses such as triacetyl cellulose, diacetyl cellulose and cellophane, polyamides such as 6-nylon and 6,6-nylon, acrylics such as polymethyl methacrylate, polystyrene, polyvinyl chloride, polyimide , Polyvinyl alcohol, polycarbonate, an organic polymer such as ethylene vinyl alcohol can be used. In particular, a cellulose film such as a triacetyl cellulose film can be suitably used. Cellulosic films have little birefringence, and are excellent in optical properties such as transparency, refractive index and dispersion, and various physical properties such as impact resistance, heat resistance and durability. Furthermore, the cellulose-based film is most preferably used because it is easily dissolved or swelled by a solvent.

透明基材11に、各種安定剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加してもよい。また、透明基材11の厚さは特に限定されるものではない。しかしながら透明基材11の厚さは、20μm以上、200μm以下が好ましい。ただし、透明基材11として、トリアセチルセルロースフィルムを用いる場合には、透明基材11の厚さは、40μm以上、80μm以下が好ましい。   Various stabilizers, ultraviolet absorbers, plasticizers, lubricants, colorants, antioxidants, flame retardants, and the like may be added to the transparent substrate 11. Moreover, the thickness of the transparent base material 11 is not specifically limited. However, the thickness of the transparent substrate 11 is preferably 20 μm or more and 200 μm or less. However, when a triacetyl cellulose film is used as the transparent substrate 11, the thickness of the transparent substrate 11 is preferably 40 μm or more and 80 μm or less.

次に、透明基材11上に形成されるハードコート層12について説明する。ハードコート層12を形成するためには、まず、バインダマトリックス形成材料と透明基材11を溶解または膨潤させる溶剤とを含むハードコート層形成用塗液を使用して塗膜を形成する。ハードコート層形成用塗液の塗工方法として、例えば、湿式成膜法を採用し、ハードコート層形成用塗液を透明基材11上に塗布し、透明基材11上に塗膜を形成する。その後、該塗膜に電離放射線を照射し、該塗膜を硬化させることにより、ハードコート層12を形成することができる。   Next, the hard coat layer 12 formed on the transparent substrate 11 will be described. In order to form the hard coat layer 12, first, a coating film is formed using a hard coat layer forming coating solution containing a binder matrix forming material and a solvent that dissolves or swells the transparent substrate 11. As a coating method of the hard coat layer forming coating solution, for example, a wet film forming method is adopted, and the hard coat layer forming coating solution is applied onto the transparent substrate 11 to form a coating film on the transparent substrate 11. To do. Thereafter, the hard coat layer 12 can be formed by irradiating the coating film with ionizing radiation and curing the coating film.

ハードコート層形成用塗液は、バインダマトリックス形成材料として、電離放射線硬化型材料であるアクリル系材料を含んでいることが好ましい。アクリル系材料としては、多価アルコールの(メタ)アクリル酸エステルのような単官能または多官能の(メタ)アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコールおよび(メタ)アクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン(メタ)アクリレート化合物を使用することができる。また、これらの他にも、電離放射線硬化型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。   The coating liquid for forming a hard coat layer preferably contains an acrylic material that is an ionizing radiation curable material as a binder matrix forming material. Acrylic materials are synthesized from monofunctional or polyfunctional (meth) acrylate compounds such as (meth) acrylic acid esters of polyhydric alcohols, diisocyanates and polyhydric alcohols, and hydroxy esters of (meth) acrylic acid. Such a polyfunctional urethane (meth) acrylate compound can be used. In addition to these, as ionizing radiation curable materials, polyether resins having an acrylate functional group, polyester resins, epoxy resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins, etc. should be used. Can do.

なお、本発明において、「(メタ)アクリル」とは、「アクリル」と「メタクリル」の両方を示し、「(メタ)アクリレート」とは「アクリレート」と「メタクリレート」の両方を示し、「(メタ)アクリロイル」とは、「アクリロイル」と「メタクリロイル」の両方を示している。例えば、「ウレタン(メタ)アクリレート」は「ウレタンアクリレート」と「ウレタンメタクリレート」の両方を示している。   In the present invention, “(meth) acryl” means both “acryl” and “methacryl”, “(meth) acrylate” means both “acrylate” and “methacrylate”, and “(meth) acrylate” The term “) acryloyl” refers to both “acryloyl” and “methacryloyl”. For example, “urethane (meth) acrylate” indicates both “urethane acrylate” and “urethane methacrylate”.

単官能の(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、アクリロイルモルフォリン、N−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリールアクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、セチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート、3−メトキシブチル(メタ)アクリレート、エチルカルビトール(メタ)アクリレート、リン酸(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸(メタ)アクリレート、フェノキシ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシ(メタ)アクリレート、ノニルフェノール(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール(メタ)アクリレート、メトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシプロピレングリコール(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチル−2−ヒドロキシプロピルフタレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、ヘキサフルオロプロピル(メタ)アクリレート、オクタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、オクタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、2−アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される1価のモノ(メタ)アクリレートを有するアダマンチルアクリレート等のアダマンタン誘導体モノ(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Examples of the monofunctional (meth) acrylate compound include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl ( (Meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, acryloylmorpholine, N-vinylpyrrolidone, tetrahydrofurfuryl acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) ) Acrylate, isodecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, cetyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, benzyl (Meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, 3-methoxybutyl (meth) acrylate, ethyl carbitol (meth) acrylate, phosphoric acid (meth) acrylate, ethylene oxide modified phosphoric acid (meth) acrylate, phenoxy (meta) ) Acrylate, ethylene oxide modified phenoxy (meth) acrylate, propylene oxide modified phenoxy (meth) acrylate, nonylphenol (meth) acrylate, ethylene oxide modified nonylphenol (meth) acrylate, propylene oxide modified nonylphenol (meth) acrylate, methoxydiethylene glycol (meth) Acrylate, methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, methoxypropylene glycol (meth) acrylate 2- (meth) acryloyloxyethyl-2-hydroxypropyl phthalate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl hydrogen phthalate, 2- (meth) acryloyloxypropyl hydrogen Phthalate, 2- (meth) acryloyloxypropyl hexahydrohydrogen phthalate, 2- (meth) acryloyloxypropyl tetrahydrohydrogen phthalate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, trifluoroethyl (meth) acrylate, tetrafluoropropyl (meth) acrylate , Hexafluoropropyl (meth) acrylate, octafluoropropyl (meth) acrylate, octafluoropropyl (meth) acrylate, 2 -Adamantane derivative mono (meth) acrylates such as adamantyl acrylate having a monovalent mono (meth) acrylate derived from adamantane and adamantanediol.

2官能の(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等のジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Examples of the bifunctional (meth) acrylate compound include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, and nonanediol di (meth). Acrylate, ethoxylated hexanediol di (meth) acrylate, propoxylated hexanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di ( (Meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, ethoxylated neopentyl glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol Di (meth) acrylate, di (meth) acrylate, such as hydroxypivalic acid neopentyl glycol di (meth) acrylate.

3官能以上の(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス2−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート等のトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート等の3官能の(メタ)アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ(メタ)アクリレート等の3官能以上の多官能(メタ)アクリレート化合物や、これら(メタ)アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能(メタ)アクリレート化合物等が挙げられる。   Examples of the trifunctional or higher functional (meth) acrylate compound include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and tris 2-hydroxyethyl. 3 such as tri (meth) acrylate such as isocyanurate tri (meth) acrylate and glycerol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tri (meth) acrylate Functional (meth) acrylate compounds, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra Trifunctional or more polyfunctional (meth) such as (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ditrimethylolpropane penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, ditrimethylolpropane hexa (meth) acrylate Examples thereof include acrylate compounds and polyfunctional (meth) acrylate compounds in which a part of these (meth) acrylates is substituted with an alkyl group or ε-caprolactone.

アクリル系材料の中でも、所望する分子量、分子構造を設計することができ、形成されるハードコート層12の物性のバランスを容易にとることが可能であるといった理由から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネートおよび水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。   Among acrylic materials, a polyfunctional urethane acrylate is preferably used because the desired molecular weight and molecular structure can be designed and the physical properties of the hard coat layer 12 to be formed can be easily balanced. Can be used. The urethane acrylate is obtained by reacting a polyhydric alcohol, a polyvalent isocyanate, and a hydroxyl group-containing acrylate.

ハードコート層形成用塗液に含まれる溶剤としては、透明基材11を溶解または膨潤させる溶剤を用いる。透明基材11を溶解または膨潤させる溶剤を含むハードコート層形成用塗液を用いてハードコート層12を形成することにより、透明基材11とハードコート層12との密着性を向上させることができる。すなわち、透明基材11の成分とハードコート層12の成分とが混在したハードコート層12を形成することができ、得られる反射防止フィルム1において干渉ムラの発生を防ぐことができる。   As the solvent contained in the hard coat layer forming coating solution, a solvent that dissolves or swells the transparent substrate 11 is used. The adhesion between the transparent substrate 11 and the hard coat layer 12 can be improved by forming the hard coat layer 12 using a hard coat layer forming coating solution containing a solvent that dissolves or swells the transparent substrate 11. it can. That is, the hard coat layer 12 in which the components of the transparent substrate 11 and the hard coat layer 12 are mixed can be formed, and the occurrence of interference unevenness can be prevented in the obtained antireflection film 1.

透明基材11としてセルロース系フィルムを用いた場合、セルロース系フィルム表面を溶解または膨潤させる溶剤としては、例えば、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、1,3,5−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、またアセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸n−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン醸エチル、酢酸n−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらにメチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類が挙げられ、これらを単独で、もしくは2種類以上組み合わせて用いることができる。また、酢酸メチル、酢酸エチル、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、アセトンおよびシクロヘキサノンの少なくとも1種類を用いることが好ましい。   When a cellulose film is used as the transparent substrate 11, examples of the solvent for dissolving or swelling the cellulose film surface include dibutyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, diethoxyethane, propylene oxide, 1,4-dioxane, Ethers such as 1,3-dioxolane, 1,3,5-trioxane, tetrahydrofuran, anisole and phenetole, and acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, dipropyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, and methyl Ketones such as cyclohexanone, ethyl formate, propyl formate, n-pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, methyl propionate, propion brewed ethyl, n-pentyl acetate, Beauty γ- esters such as butyrolactone, further methyl cellosolve, cellosolve, butyl cellosolve, cellosolve such as cellosolve acetate and the like, can be used in combination these alone, or two or more kinds. Further, it is preferable to use at least one of methyl acetate, ethyl acetate, methyl ethyl ketone, acetylacetone, acetone, and cyclohexanone.

また、ハードコート層12に四級アンモニウムカチオンや導電性金属微粒子等を添加し、ハードコート層12に導電性を付与しても構わない。   Further, quaternary ammonium cations or conductive metal fine particles may be added to the hard coat layer 12 to impart conductivity to the hard coat layer 12.

ハードコート層12の形成方法としては、ウェットコーティング法とされる、ディップコーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、エアドクターコーティング法、プレードコーティング法、ワイヤードクターコーティング法、ナイフコーティング法、リバースコーティング法、トランスファロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キスコーティング法、キャストコーティング法、スロットオリフィスコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等を採用することができ、透明基材11の少なくとも一方の面上にハードコート層形成用塗液を塗布することにより形成することができる。特に、ハードコート層12は、薄く、均一に層を形成する必要性があることから、マイクログラビアコーティング法を用いることが好ましい。また、ハードコート層12として、厚い層を構成する必要が生じた場合には、ダイコーティング法を用いることが好ましい。   The hard coat layer 12 is formed by a wet coating method, such as a dip coating method, a spin coating method, a flow coating method, a spray coating method, a roll coating method, a gravure roll coating method, an air doctor coating method, a blade coating method. , Wire doctor coating method, knife coating method, reverse coating method, transfer roll coating method, micro gravure coating method, kiss coating method, cast coating method, slot orifice coating method, calendar coating method, die coating method, etc. It can be formed by applying a hard coat layer forming coating solution on at least one surface of the transparent substrate 11. In particular, since the hard coat layer 12 is thin and needs to be formed uniformly, it is preferable to use a microgravure coating method. Moreover, when it becomes necessary to form a thick layer as the hard coat layer 12, it is preferable to use a die coating method.

ハードコート層12を形成する際の塗膜の硬化方法としては、例えば、紫外線照射、加熱等を採用することができる。紫外線照射の場合、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、フュージョンランプ等を使用することができる。紫外線照射量は、通常100〜800mJ/cmであることが好ましい。 As a method for curing the coating film when forming the hard coat layer 12, for example, ultraviolet irradiation, heating, or the like can be employed. In the case of ultraviolet irradiation, a high pressure mercury lamp, a halogen lamp, a xenon lamp, a fusion lamp, or the like can be used. It is preferable that the ultraviolet irradiation amount is usually 100 to 800 mJ / cm 2 .

ハードコート層12の膜厚は、3μm以上であれば十分な強度となるが、塗工精度、取扱いの点から、5μm以上、10μm以下の範囲であることが好ましい。ハードコート層12の膜厚が10μmを超えると、硬化収縮による透明基材11の反り、ゆがみ、折れが発生する虞がある。また、ハードコート層12の膜厚が5μm以上、7μm以下の範囲であると、ハードコート層12としては非常に好ましい。   If the film thickness of the hard coat layer 12 is 3 μm or more, the strength is sufficient, but it is preferably in the range of 5 μm or more and 10 μm or less from the viewpoint of coating accuracy and handling. If the thickness of the hard coat layer 12 exceeds 10 μm, the transparent substrate 11 may be warped, distorted, or broken due to curing shrinkage. Moreover, it is very preferable as the hard coat layer 12 when the film thickness of the hard coat layer 12 is in the range of 5 μm or more and 7 μm or less.

次に、ハードコート層12上に形成される高屈折率層13について説明する。高屈折率層13は、高屈折率微粒子131と、高屈折率層13の膜厚と低屈折率層14の膜厚とを合わせた膜厚の0.8〜1.2倍の平均粒子径を有する微粒子132とを含む高屈折率層形成塗液をハードコート層12の表面に塗布し、湿式成膜法により形成することができる。なお、このとき高屈折率層13単層の膜厚(d)は、その膜厚(d)に高屈折率層13の屈折率(n)を乗じることによって得られる光学膜厚(n)が可視光の波長の1/2と等しくなるように設計されることが好ましい。高屈折率層形成塗液としては、バインダマトリックス形成材料に高屈折率微粒子131を分散させたものを用いることができる。 Next, the high refractive index layer 13 formed on the hard coat layer 12 will be described. The high refractive index layer 13 has an average particle diameter of 0.8 to 1.2 times the total thickness of the high refractive index fine particles 131 and the total thickness of the high refractive index layer 13 and the low refractive index layer 14. A coating liquid for forming a high refractive index layer containing fine particles 132 having the above can be applied to the surface of the hard coat layer 12 and formed by a wet film formation method. At this time, the film thickness (d 1 ) of the single layer of the high refractive index layer 13 is obtained by multiplying the film thickness (d 1 ) by the refractive index (n 1 ) of the high refractive index layer 13 ( n 1 d 1 ) is preferably designed to be equal to half the wavelength of visible light. As the coating solution for forming a high refractive index layer, a liquid in which high refractive index fine particles 131 are dispersed in a binder matrix forming material can be used.

高屈折率微粒子131としては、例えば、ZrO、TiO、NbO、ITO、ATO、SbO、Sb、SnO、In、ZnO等の高屈折率材料からなる微粒子を用いることができる。 As the high refractive index fine particles 131, for example, fine particles made of a high refractive index material such as ZrO 2 , TiO 2 , NbO, ITO, ATO, SbO 2 , Sb 2 O 3 , SnO 2 , In 2 O 3 , and ZnO are used. be able to.

高屈折率微粒子131の平均粒子径は、1nm以上、100nm以下であることが好ましい。高屈折率微粒子131の平均粒子径が100nmを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、高屈折率層13のヘイズ値が高くなってしまい、反射防止フィルム1の透明性が低下する虞がある。一方、高屈折率微粒子131の平均粒子径が1nm未満の場合、粒子の凝集により、高屈折率層13における粒子の不均一性等の問題が生じる虞がある。   The average particle diameter of the high refractive index fine particles 131 is preferably 1 nm or more and 100 nm or less. When the average particle diameter of the high refractive index fine particles 131 exceeds 100 nm, light is remarkably reflected by Rayleigh scattering, the haze value of the high refractive index layer 13 is increased, and the transparency of the antireflection film 1 may be reduced. is there. On the other hand, when the average particle diameter of the high refractive index fine particles 131 is less than 1 nm, there is a possibility that problems such as nonuniformity of particles in the high refractive index layer 13 may occur due to aggregation of the particles.

微粒子132は、高屈折率層13の膜厚と低屈折率層14の膜厚とを合わせた膜厚の0.8〜1.2倍の平均粒子径を有し、好ましくは反射防止フィルム1のヘイズ値が後述する範囲となるようにすることができるものであればよく、特に限定されない。微粒子132としては、例えば、ポリメチルメタクリレート微粒子、ポリメチルメタクリレート−ポリスチレン共重合体微粒子等の透光性の有機樹脂粒子や、シリカ等の可視光散乱を起こさない大きさの無機フィラー等を用いることができる。   The fine particles 132 have an average particle diameter of 0.8 to 1.2 times the total thickness of the high refractive index layer 13 and the low refractive index layer 14, and preferably the antireflection film 1. The haze value is not particularly limited as long as the haze value can fall within the range described below. As the fine particles 132, for example, translucent organic resin particles such as polymethyl methacrylate fine particles and polymethyl methacrylate-polystyrene copolymer fine particles, inorganic fillers having a size that does not cause visible light scattering such as silica, and the like are used. Can do.

微粒子132の平均粒子径は、高屈折率層13の膜厚と低屈折率層14の膜厚とを合わせた膜厚の0.8〜1.2倍、好ましくは0.9〜1.1倍である。微粒子132の平均粒子径が、高屈折率層13の膜厚と低屈折率層14の膜厚とを合わせた膜厚の0.8倍未満の場合、バインダマトリックス内に微粒子132が埋没してしまい、反射防止フィルム1の表面に凹凸を付与することができず、耐ブロッキング性の向上効果を発現させることができない。一方、微粒子132の平均粒子径が高屈折率層13の膜厚と低屈折率層14の膜厚とを合わせた膜厚の1.2倍を超える場合、反射防止フィルム1表面の凹凸が大きくなってしまい、この凹凸部により表面に傷が付きやすくなってしまう。   The average particle diameter of the fine particles 132 is 0.8 to 1.2 times, preferably 0.9 to 1.1, of the total thickness of the high refractive index layer 13 and the low refractive index layer 14. Is double. When the average particle diameter of the fine particles 132 is less than 0.8 times the total thickness of the high refractive index layer 13 and the low refractive index layer 14, the fine particles 132 are buried in the binder matrix. Consequently, the surface of the antireflection film 1 cannot be provided with unevenness, and the effect of improving the blocking resistance cannot be exhibited. On the other hand, when the average particle diameter of the fine particles 132 exceeds 1.2 times the total thickness of the high refractive index layer 13 and the low refractive index layer 14, the surface of the antireflection film 1 has large unevenness. Therefore, the surface is easily scratched by the uneven portion.

微粒子132の含有量は、高屈折率層形成用塗液の全固形分100重量部に対して0.5〜3.0重量部、好ましくは0.8〜2.5重量部である。微粒子132の含有量が0.5重量部未満の場合、ブロッキングを防ぐほどの凹凸を反射防止フィルム1の表面に付与することができない。一方、微粒子132の含有量が3.0重量部を超える場合、微粒子132を分散させることが困難となり、微粒子132の偏在を引き起こしてしまう。   The content of the fine particles 132 is 0.5 to 3.0 parts by weight, preferably 0.8 to 2.5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total solid content of the coating liquid for forming a high refractive index layer. When the content of the fine particles 132 is less than 0.5 parts by weight, the unevenness enough to prevent blocking cannot be imparted to the surface of the antireflection film 1. On the other hand, when the content of the fine particles 132 exceeds 3.0 parts by weight, it becomes difficult to disperse the fine particles 132, thereby causing uneven distribution of the fine particles 132.

なお、平均粒子径が高屈折率層13の膜厚と低屈折率層14の膜厚とを合わせた膜厚の0.8〜1.2倍である微粒子132を、高屈折率層用形成塗液に添加する代わりに、ハードコート層形成用塗液に添加して、反射防止フィルム1の表面に凹凸を付ける場合、ハードコート層12はある程度膜厚を有していなければ、ハードコート性を発現しない。それ故に、反射防止フィルム1の表面に凹凸を付与しようとすると、添加する微粒子132の粒子径も大きくする必要がある。ここで、微粒子132の粒子径を大きくすると、反射防止フィルム1のヘイズ値が上昇するという問題が起こる。また、最表面である低屈折率層14に高屈折率層13の膜厚と低屈折率層14の膜厚を合わせた膜厚の0.8〜1.2倍である微粒子132を添加するよりも、内部である高屈折率層13に添加することで、反射防止フィルム1の表面の凹凸がなだらかとなり、凹凸起因によるキズ付きを防ぐことができる。   The fine particles 132 having an average particle diameter of 0.8 to 1.2 times the total thickness of the high refractive index layer 13 and the low refractive index layer 14 are formed for the high refractive index layer. In the case where the surface of the antireflection film 1 is roughened by adding to the coating liquid for forming the hard coat layer instead of adding to the coating liquid, if the hard coat layer 12 does not have a certain thickness, the hard coat properties Is not expressed. Therefore, in order to give unevenness to the surface of the antireflection film 1, it is necessary to increase the particle diameter of the fine particles 132 to be added. Here, when the particle diameter of the fine particles 132 is increased, there arises a problem that the haze value of the antireflection film 1 is increased. Further, fine particles 132 that are 0.8 to 1.2 times the total thickness of the high refractive index layer 13 and the low refractive index layer 14 are added to the low refractive index layer 14 that is the outermost surface. In addition, by adding to the internal high-refractive index layer 13, unevenness on the surface of the antireflection film 1 becomes gentle, and scratches due to unevenness can be prevented.

高屈折率層13を形成するためのバインダマトリックス形成材料としては、電離放射線硬化型材料を含む。電離放射線硬化型材料としては、1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能性モノマー、又は、単官能性モノマーを含有する電離放射線硬化型樹脂が用いられる。電離放射線硬化型材料としては、例えば、ハードコート層12に用いられる電離放射線硬化型材料として例示した単官能または多官能の(メタ)アクリレート化合物であるアクリル系材料を用いることができる。   The binder matrix forming material for forming the high refractive index layer 13 includes an ionizing radiation curable material. As the ionizing radiation curable material, a polyfunctional monomer having two or more (meth) acryloyl groups in one molecule or an ionizing radiation curable resin containing a monofunctional monomer is used. As the ionizing radiation curable material, for example, an acrylic material that is a monofunctional or polyfunctional (meth) acrylate compound exemplified as the ionizing radiation curable material used for the hard coat layer 12 can be used.

アクリル系材料の中でも、所望する分子量、分子構造を設計することができ、形成される高屈折率層13の物性のバランスを容易にとることが可能である点から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネートおよび水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。   Among acrylic materials, a polyfunctional urethane acrylate is preferably used because the desired molecular weight and molecular structure can be designed, and the physical properties of the formed high refractive index layer 13 can be easily balanced. Can be used. The urethane acrylate is obtained by reacting a polyhydric alcohol, a polyvalent isocyanate, and a hydroxyl group-containing acrylate.

なお、高屈折率層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒を加えることができる。溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼン等の芳香族炭化水素類、n−ヘキサン等の炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸n−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸n−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、水等の中から、塗工適性等を考慮して適宜選択して用いることができる。   In addition, a solvent can be added to the coating liquid for forming a high refractive index layer as necessary. Examples of the solvent include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, cyclohexane and cyclohexylbenzene, hydrocarbons such as n-hexane, dibutyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, diethoxyethane, propylene oxide, dioxane, dioxolane. , Ethers such as trioxane, tetrahydrofuran, anisole and phenetole, and methyl isobutyl ketone, methyl butyl ketone, acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, dipropyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, and methylcyclohexanone Ketones, ethyl formate, propyl formate, n-pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, methyl propionate, propionic acid From among esters such as til, n-pentyl acetate, and γ-ptyrolactone, cellosolves such as methyl cellosolve, cellosolve, butyl cellosolve, cellosolve acetate, alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, water, etc. It can be appropriately selected and used in consideration of coating suitability and the like.

また、バインダマトリックス形成材料として電離放射線硬化型材料を用い、紫外線を照射することにより高屈折率層13を形成する場合には、高屈折率層形成用塗液に光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等を用いることができる。   When an ionizing radiation curable material is used as the binder matrix forming material and the high refractive index layer 13 is formed by irradiation with ultraviolet rays, a photopolymerization initiator is added to the coating solution for forming the high refractive index layer. As the photopolymerization initiator, for example, acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, and the like can be used.

高屈折率層13を形成する方法としては、高屈折率層形成用塗液をハードコート層12の表面に塗布し、高屈折率層13を形成する湿式成膜法による方法と、真空蒸着法、スパッタリング法、CVD法といった真空中で高屈折率層13を形成する真空成膜法による方法とに分けられるが、特に限定されるものではない。しかしながら、本発明においては、安価に反射防止フィルム1を製造することができるという点から、湿式成膜法を採用することが好ましい。   As a method for forming the high refractive index layer 13, a high refractive index layer forming coating solution is applied to the surface of the hard coat layer 12 to form the high refractive index layer 13, and a vacuum deposition method. However, the method is not particularly limited, but can be divided into a vacuum film forming method for forming the high refractive index layer 13 in a vacuum such as a sputtering method and a CVD method. However, in the present invention, it is preferable to employ a wet film forming method from the viewpoint that the antireflection film 1 can be produced at low cost.

次に、高屈折率層13上に形成される低屈折率層14について説明する。低屈折率層14は、低屈折率微粒子141を含む低屈折率層形成塗液を、高屈折率層13の表面に塗布し、湿式成膜法により形成することができる。なお、このとき反射防止層である低屈折率層14単層の膜厚(d)は、その膜厚(d)に低屈折率層14の屈折率(n)を乗じることによって得られる光学膜厚(n)が可視光の波長の1/4と等しくなるように設計されることが好ましい。低屈折率層形成塗液としては、バインダマトリックス形成材料に低屈折率微粒子141を分散させたものを用いることができる。 Next, the low refractive index layer 14 formed on the high refractive index layer 13 will be described. The low refractive index layer 14 can be formed by applying a low refractive index layer forming coating liquid containing the low refractive index fine particles 141 to the surface of the high refractive index layer 13 and performing wet film formation. At this time, the film thickness (d 2 ) of the single layer of the low refractive index layer 14 that is the antireflection layer is obtained by multiplying the film thickness (d 2 ) by the refractive index (n 2 ) of the low refractive index layer 14. The optical film thickness (n 2 d 2 ) is preferably designed to be equal to ¼ of the wavelength of visible light. As the coating solution for forming a low refractive index layer, a coating liquid in which low refractive index fine particles 141 are dispersed in a binder matrix forming material can be used.

低屈折率微粒子141としては、例えば、LiF、MgF、3NaF・AlFまたはAlF(いずれも、屈折率1.4)、もしくはNaAlF(氷晶石、屈折率1.33)等の低屈折率材料からなる微粒子を用いることができる。また、粒子内部に空隙を有するシリカ粒子を好適に用いることができる。粒子内部に空隙を有するシリカ粒子は、空隙の部分を空気の屈折率(約1)とすることができるので、非常に低い屈折率を備える低屈折率微粒子とすることができる。具体的には、多孔質シリカ粒子、シェル(殻)構造のシリカ粒子を用いることができる。 As the low refractive index fine particles 141, for example, low refraction such as LiF, MgF, 3NaF.AlF or AlF (all having a refractive index of 1.4), or Na 3 AlF 6 (cryolite, refractive index of 1.33) or the like. Fine particles made of a rate material can be used. Moreover, the silica particle which has a space | gap inside particle | grains can be used suitably. The silica particles having voids inside the particles can have a void portion having a refractive index of air (about 1), and thus can be made into low refractive index fine particles having a very low refractive index. Specifically, porous silica particles and silica particles having a shell structure can be used.

低屈折率微粒子141の平均粒子径は、1nm以上、100nm以下であることが好ましい。低屈折率微粒子141の平均粒子径が100nmを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、低屈折率層14が白化して反射防止フィルム1の透明性が低下する虞がある。一方、低屈折率微粒子141の平均粒子径が1nm未満の場合、粒子の凝集により、低屈折率層14における粒子の不均一性等の問題が生じる虞がある。   The average particle diameter of the low refractive index fine particles 141 is preferably 1 nm or more and 100 nm or less. When the average particle diameter of the low refractive index fine particles 141 exceeds 100 nm, light is remarkably reflected by Rayleigh scattering, and the low refractive index layer 14 may be whitened to lower the transparency of the antireflection film 1. On the other hand, when the average particle diameter of the low refractive index fine particles 141 is less than 1 nm, there is a possibility that problems such as non-uniformity of particles in the low refractive index layer 14 may occur due to aggregation of the particles.

低屈折率層14を形成するためのバインダマトリックス形成材料としては、電離放射線硬化型材料を含む。電離放射線硬化型材料としては、1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能性モノマー、又は、単官能性モノマーを含有する電離放射線硬化型樹脂が用いられる。電離放射線硬化型材料としては、高屈折率層13に用いられる電離放射線硬化型材料として例示したアクリル系材料を用いることができる。   The binder matrix forming material for forming the low refractive index layer 14 includes an ionizing radiation curable material. As the ionizing radiation curable material, a polyfunctional monomer having two or more (meth) acryloyl groups in one molecule or an ionizing radiation curable resin containing a monofunctional monomer is used. As the ionizing radiation curable material, acrylic materials exemplified as the ionizing radiation curable material used for the high refractive index layer 13 can be used.

アクリル系材料の中でも、所望する分子量、分子構造を設計することができ、形成される低屈折率層14の物性のバランスを容易にとることが可能である点から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネートおよび水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。   Among acrylic materials, a polyfunctional urethane acrylate is preferably used because the desired molecular weight and molecular structure can be designed, and the physical properties of the low refractive index layer 14 to be formed can be easily balanced. Can be used. The urethane acrylate is obtained by reacting a polyhydric alcohol, a polyvalent isocyanate, and a hydroxyl group-containing acrylate.

なお、低屈折率層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、例えば、高屈折率層13の用いられる溶媒として例示したものを用いることができる。また、添加剤としては、例えば、表面調整剤、レベリング剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、光増感剤等が挙げられる。   In addition, a solvent and various additives can be added to the coating liquid for low refractive index layer formation as needed. As the solvent, for example, those exemplified as the solvent used for the high refractive index layer 13 can be used. Examples of the additive include a surface conditioner, a leveling agent, a refractive index adjuster, an adhesion improver, and a photosensitizer.

また、バインダマトリックス形成材料として電離放射線硬化型材料を用い、紫外線を照射することにより低屈折率層14を形成する場合には、低屈折率層形成用塗液に光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、高屈折率層13形成用塗液に加えられる光重合開始剤として例示したものを用いることができる。   When an ionizing radiation curable material is used as the binder matrix forming material and the low refractive index layer 14 is formed by irradiating ultraviolet rays, a photopolymerization initiator is added to the low refractive index layer forming coating solution. As a photoinitiator, what was illustrated as a photoinitiator added to the coating liquid for high refractive index layer 13 formation can be used.

低屈折率層14を形成する方法としては、低屈折率層形成用塗液を高屈折率層13の表面に塗布し、高屈折率層13を形成する方法として例示した方法を採用することができる。   As a method for forming the low refractive index layer 14, a method exemplified as a method for forming the high refractive index layer 13 by applying a coating solution for forming a low refractive index layer on the surface of the high refractive index layer 13 may be adopted. it can.

また、ハードコート層屈折率n(Hard)と高屈折率層屈折率n(High)と低屈折率層屈折率n(Low)の高さは、n(Low)<n(Hard)<n(High)であることが好ましい。これを満たさない場合、良好な反射防止機能を得られることができない。   The heights of the hard coat layer refractive index n (Hard), the high refractive index layer refractive index n (High), and the low refractive index layer refractive index n (Low) are n (Low) <n (Hard) <n ( High). If this is not satisfied, a good antireflection function cannot be obtained.

なお、反射防止フィルム1においては、透明基材11とハードコート層12との間、またはハードコート層12と高屈折率層13との間、高屈折率層13と低屈折率層14との間に、他の機能層を設けてもかまわない。他の機能層としては、例えば、電磁波シールド性能を有する電磁波シールド層、赤外線吸収性能を有する赤外線吸収層、紫外線吸収性能を有する紫外線吸収層等を挙げることができる。   In the antireflection film 1, between the transparent substrate 11 and the hard coat layer 12, or between the hard coat layer 12 and the high refractive index layer 13, and between the high refractive index layer 13 and the low refractive index layer 14. Another functional layer may be provided between them. Examples of other functional layers include an electromagnetic shielding layer having electromagnetic shielding performance, an infrared absorbing layer having infrared absorbing performance, and an ultraviolet absorbing layer having ultraviolet absorbing performance.

かくして得られる反射防止フィルム1は、低屈折率層14表面の中心線平均高さ(Ra)が好ましくは0.003〜0.020μm、さらに好ましくは0.005〜0.015μmであり、かつ、該低屈折率層14表面の凹凸の平均間隔(Sm)が好ましくは0.030〜1.000mm、さらに好ましくは0.050〜0.800mmである。また、反射防止フィルム1のヘイズ値は0.3%以下であることが好ましく、さらには0.25%以下であることが好ましい。低屈折率層14表面の中心線平均高さ(Ra)が0.003μm未満の場合、または、低屈折率層14表面の凹凸の平均間隔(Sm)が1.000mmを超える場合、反射防止フィルム1の表面が平坦となってしまい、ブロッキングが発生しやすくなる虞がある。一方、低屈折率層14表面の中心線平均高さ(Ra)が0.020μmを超える場合、または低屈折率層14表面の凹凸の平均間隔(Sm)が0.030mm未満である場合、表面の凹凸により反射防止フィルム1が白化しているように見える虞がある。また、反射防止フィルム1のヘイズ値が0.3%を超える場合、反射防止フィルムの透明性が低くなる虞がある。   The antireflection film 1 thus obtained has a center line average height (Ra) of the surface of the low refractive index layer 14 of preferably 0.003 to 0.020 μm, more preferably 0.005 to 0.015 μm, and The average interval (Sm) of the irregularities on the surface of the low refractive index layer 14 is preferably 0.030 to 1.000 mm, more preferably 0.050 to 0.800 mm. Further, the haze value of the antireflection film 1 is preferably 0.3% or less, and more preferably 0.25% or less. When the center line average height (Ra) on the surface of the low refractive index layer 14 is less than 0.003 μm, or when the average interval (Sm) of the irregularities on the surface of the low refractive index layer 14 exceeds 1.000 mm, the antireflection film There is a possibility that the surface of 1 becomes flat and blocking is likely to occur. On the other hand, when the centerline average height (Ra) of the surface of the low refractive index layer 14 exceeds 0.020 μm, or when the average interval (Sm) of irregularities on the surface of the low refractive index layer 14 is less than 0.030 mm, the surface There is a possibility that the antireflection film 1 appears to be whitened due to the unevenness. Moreover, when the haze value of the antireflection film 1 exceeds 0.3%, the transparency of the antireflection film may be lowered.

反射防止フィルム1は、ディスプレイ部材、画像装置の一部として好適に用いることができる。   The antireflection film 1 can be suitably used as a part of a display member or an image device.

(実施の形態2)
図2は、実施の形態1に係る反射防止フィルム1を備えた、本発明の実施の形態2に係る反射防止フィルム付偏光板200を示す概略断面図である。
(Embodiment 2)
FIG. 2: is a schematic sectional drawing which shows the polarizing plate 200 with an antireflection film which concerns on Embodiment 2 of this invention provided with the antireflection film 1 which concerns on Embodiment 1. FIG.

図2に示すように、反射防止フィルム付偏光板200は、反射防止フィルム1と偏光板2とを備えている。具体的に、該反射防止フィルム1の透明基材11のハードコート層12が形成されていない面側に、偏光層23および透明基材21からなる偏光板2が配置されている。すなわち、透明基材11の一方の面(図2では上面)に、透明基材11側から順に、ハードコート層12、高屈折率層13および低屈折率層14が積層されており、透明基材11のもう一方の面(図2では下面)に、透明基材11側から順に、偏光層23および透明基材21が積層されている。なお、これら偏光層23および透明基材21は、特定に限定されるものではなく、通常、反射防止フィルム付偏光板に用いられるものを適宜用いることができる。   As illustrated in FIG. 2, the polarizing plate 200 with an antireflection film includes an antireflection film 1 and a polarizing plate 2. Specifically, the polarizing plate 2 composed of the polarizing layer 23 and the transparent substrate 21 is disposed on the surface of the transparent substrate 11 of the antireflection film 1 where the hard coat layer 12 is not formed. That is, a hard coat layer 12, a high refractive index layer 13, and a low refractive index layer 14 are laminated in this order from one side of the transparent substrate 11 (the upper surface in FIG. 2) from the transparent substrate 11 side. On the other surface of the material 11 (the lower surface in FIG. 2), a polarizing layer 23 and a transparent substrate 21 are laminated in this order from the transparent substrate 11 side. In addition, these polarizing layers 23 and the transparent base material 21 are not specifically limited, What is normally used for a polarizing plate with an antireflection film can be used suitably.

(実施の形態3)
図3は、本発明の実施の形態3に係る、反射防止フィルム付偏光板200aを備えた透過型液晶ディスプレイ300の一例を示す概略断面図である。
(Embodiment 3)
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an example of a transmissive liquid crystal display 300 including the polarizing plate 200a with an antireflection film according to Embodiment 3 of the present invention.

透過型液晶ディスプレイ300は、反射防止フィルム付偏光板200aと、液晶セル3と、偏光板4と、バックライトユニット5とを備え、該反射防止フィルム付偏光板200aにおいて、反射防止フィルム1が形成されている面とは反対の面側に、液晶セル3と、偏光板4と、バックライトユニット5とがこの順に保持されている。液晶セル3は、反射防止フィルム付偏光板200aにおいて、透明基材11に対してハードコート層12が形成された側とは反対側に保持されている。反射防止フィルム付偏光板200aは、反射防止フィルム1と、該反射防止フィルム1の透明基材11側に偏光板2aを備えている。偏光板2aは、透明基材11側から順に、透明基材22と偏光層23と透明基材21とが積層されたものである。液晶セル3は、反射防止フィルム付偏光板200aの低屈折率層14が形成されている面とは反対の面側、すなわち、透明基材21側に保持されている。このとき、透過型液晶ディスプレイ300において、反射防止フィルム1側が観察側、すなわち、ディスプレイ表面となる。   The transmissive liquid crystal display 300 includes a polarizing plate 200a with an antireflection film, a liquid crystal cell 3, a polarizing plate 4, and a backlight unit 5. The antireflection film 1 is formed in the polarizing plate 200a with an antireflection film. The liquid crystal cell 3, the polarizing plate 4, and the backlight unit 5 are held in this order on the side opposite to the surface that is provided. The liquid crystal cell 3 is held on the side opposite to the side on which the hard coat layer 12 is formed with respect to the transparent substrate 11 in the polarizing plate 200a with an antireflection film. The antireflection film-attached polarizing plate 200 a includes an antireflection film 1 and a polarizing plate 2 a on the transparent base material 11 side of the antireflection film 1. The polarizing plate 2a is formed by laminating a transparent substrate 22, a polarizing layer 23, and a transparent substrate 21 in order from the transparent substrate 11 side. The liquid crystal cell 3 is held on the surface side opposite to the surface on which the low refractive index layer 14 of the polarizing plate 200a with antireflection film is formed, that is, on the transparent substrate 21 side. At this time, in the transmissive liquid crystal display 300, the antireflection film 1 side is the observation side, that is, the display surface.

透過型液晶ディスプレイ300は、反射防止フィルム1の透明基材11と、偏光板2aの透明基材22とを別々に備える。   The transmissive liquid crystal display 300 includes the transparent base material 11 of the antireflection film 1 and the transparent base material 22 of the polarizing plate 2a separately.

バックライトユニット5は、光源と光拡散板と(図示しない)を備える。液晶セル3は、図示しないが、一方の透明基材に電極が設けられ、もう一方の透明基材に電極およびカラーフィルタを備えており、両電極間に液晶が封入された構造となっている。液晶セル3を挟むように設けられる偏光板2aにおいては、透明基材21と、透明基材22との間に偏光層23が挟持され、偏光板4においては、透明基材41と、透明基材42との間に偏光層43が挟持された構造となっている。   The backlight unit 5 includes a light source and a light diffusion plate (not shown). Although not shown, the liquid crystal cell 3 has a structure in which an electrode is provided on one transparent base material, an electrode and a color filter are provided on the other transparent base material, and liquid crystal is sealed between both electrodes. . In the polarizing plate 2 a provided so as to sandwich the liquid crystal cell 3, the polarizing layer 23 is sandwiched between the transparent substrate 21 and the transparent substrate 22, and in the polarizing plate 4, the transparent substrate 41 and the transparent substrate The polarizing layer 43 is sandwiched between the material 42.

(実施の形態4)
図4は、本発明の実施の形態4に係る、反射防止フィルム付偏光板200を備えた透過型液晶ディスプレイの他の一例を示す概略断面図である。
(Embodiment 4)
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing another example of a transmissive liquid crystal display provided with polarizing plate 200 with an antireflection film according to Embodiment 4 of the present invention.

図4に示す透過型液晶ディスプレイ400は、反射防止フィルム付偏光板200と、液晶セル3と、偏光板4と、バックライトユニット5とを備え、該反射防止フィルム付偏光板200において、反射防止フィルムが形成されている面とは反対の面側に、液晶セル3と、偏光板4と、バックライトユニット5とがこの順に保持されている。反射防止フィルム付偏光板200は、反射防止フィルム1と、該反射防止フィルム1の透明基材11側に偏光板2を備えている。偏光板2は、透明基材11側から順に、偏光層23と透明基材21とが積層されたものである。液晶セル3は、反射防止フィルム付偏光板200の低屈折率層14が形成されている面とは反対の面側、すなわち、透明基材21側に保持されている。このとき、透過型液晶ディスプレイ400において、反射防止フィルム1側が観察側、すなわち、ディスプレイ表面となる。   A transmissive liquid crystal display 400 shown in FIG. 4 includes a polarizing plate 200 with an antireflection film, a liquid crystal cell 3, a polarizing plate 4, and a backlight unit 5. The liquid crystal cell 3, the polarizing plate 4, and the backlight unit 5 are held in this order on the surface opposite to the surface on which the film is formed. The polarizing plate with antireflection film 200 includes an antireflection film 1 and a polarizing plate 2 on the transparent base material 11 side of the antireflection film 1. In the polarizing plate 2, a polarizing layer 23 and a transparent substrate 21 are laminated in order from the transparent substrate 11 side. The liquid crystal cell 3 is held on the surface side opposite to the surface on which the low refractive index layer 14 of the polarizing plate 200 with an antireflection film is formed, that is, on the transparent substrate 21 side. At this time, in the transmissive liquid crystal display 400, the antireflection film 1 side is the observation side, that is, the display surface.

透過型液晶ディスプレイ400は、反射防止フィルム1のハードコート層12が形成されていない面、すなわち、透明基材11面に、偏光板2として、偏光層23と透明基材22とがこの順に設けられている。   In the transmissive liquid crystal display 400, a polarizing layer 23 and a transparent substrate 22 are provided in this order as the polarizing plate 2 on the surface of the antireflection film 1 on which the hard coat layer 12 is not formed, that is, the surface of the transparent substrate 11. It has been.

透過型液晶ディスプレイ300と同様に、バックライトユニット5は、光源と光拡散板と(図示しない)を備える。液晶セル3は、図示しないが、一方の透明基材に電極が設けられ、もう一方の透明基材に電極およびカラーフィルタを備えており、両電極間に液晶が封入された構造となっている。液晶セル3を挟むように設けられる偏光板2(反射防止フィルム付偏光板200の一部)においては透明基材21と、透明基材11との間に偏光層23が挟持され、偏光板4においては、透明基材41と、透明基材42との間に偏光層43が挟持された構造となっている。   Similar to the transmissive liquid crystal display 300, the backlight unit 5 includes a light source and a light diffusion plate (not shown). Although not shown, the liquid crystal cell 3 has a structure in which an electrode is provided on one transparent base material, an electrode and a color filter are provided on the other transparent base material, and liquid crystal is sealed between both electrodes. . In the polarizing plate 2 (a part of the polarizing plate 200 with an antireflection film) provided so as to sandwich the liquid crystal cell 3, a polarizing layer 23 is sandwiched between the transparent substrate 21 and the transparent substrate 11, and the polarizing plate 4. , The polarizing layer 43 is sandwiched between the transparent base material 41 and the transparent base material 42.

なお、本発明の透過型液晶ディスプレイ300および400は、他の機能性部材を備えていてもよい。他の機能性部材としては、例えば、バックライトから発せられる光を有効に使うための、拡散フィルム、プリズムシート、輝度向上フィルムや、液晶セルや偏光板の位相差を補償するための位相差フィルム等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Note that the transmissive liquid crystal displays 300 and 400 of the present invention may include other functional members. Other functional members include, for example, a diffusion film, a prism sheet, a brightness enhancement film for effectively using light emitted from a backlight, and a phase difference film for compensating for a phase difference between a liquid crystal cell and a polarizing plate. However, it is not limited to these.

(実施例)
以下に、ハードコート層形成用塗液、高屈折率層形成用塗液および低屈折率層形成用塗液の調製例、ならびにこれらを用いた実施例および比較例を示す。
(Example)
Hereinafter, preparation examples of a coating liquid for forming a hard coat layer, a coating liquid for forming a high refractive index layer, and a coating liquid for forming a low refractive index layer, and examples and comparative examples using these are shown.

調製例1(ハードコート層形成用塗液)
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PE3A)15.0重量部と、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(PE4A)15.0質量部と、ウレタンアクリレート(UA)25重量部と、光重合開始剤(イルガキュア184(Irg.184)、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製)1重量部と、レベリング剤(BYK−340、ビックケミー・ジャパン(株)製)0.1重量部とを用い、これらをメチルエチルケトン(MEK)43.9重量部に溶解してハードコート層形成用塗液1を調製した。表1にハードコート層形成用塗液の組成を示す。
Preparation Example 1 (hard coat layer forming coating solution)
15.0 parts by weight of pentaerythritol triacrylate (PE3A), 15.0 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate (PE4A), 25 parts by weight of urethane acrylate (UA), and a photopolymerization initiator (Irgacure 184 (Irg. 184)) 1 part by weight of Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) and 0.1 part by weight of a leveling agent (BYK-340, manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.), these are 43.9 parts by weight of methyl ethyl ketone (MEK). The coating liquid 1 for hard-coat layer formation was prepared by melt | dissolving in a part. Table 1 shows the composition of the hard coat layer forming coating solution.

Figure 2014202853
Figure 2014202853

調製例2(高屈折率層形成用塗液1)
ATO微粒子分散液(平均粒子径5nm、固形分20%、溶剤エタノール)20.35重量部と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)5.81重量部と、重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製)0.58重量部と、シリカ微粒子分散液(平均粒子径200nm、固形分30%、溶剤エタノール)0.58重量部とを、溶媒であるエタノール(EtOH)72.67重量部で希釈して高屈折率層形成用塗液1を調製した。
Preparation Example 2 (Coating liquid 1 for forming a high refractive index layer)
ATO fine particle dispersion (average particle size 5 nm, solid content 20%, solvent ethanol) 20.35 parts by weight, dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) 5.81 parts by weight, polymerization initiator (Irgacure 184, Ciba Specialty) -Chemicals Co., Ltd. 0.58 weight part and silica fine particle dispersion (average particle diameter 200nm, solid content 30%, solvent ethanol) 0.58 weight part, ethanol (EtOH) 72.67 which is a solvent. The coating solution 1 for forming a high refractive index layer was prepared by diluting with parts by weight.

調製例3(高屈折率層形成用塗液2)
ATO微粒子分散液(平均粒子径5nm、固形分20%、溶剤エタノール)20.35重量部と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート5.81重量部と、重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製)0.58重量部と、シリカ微粒子分散液(平均粒子径230nm、固形分30%、溶剤エタノール)0.87重量部とを、溶媒であるエタノール72.67重量部で希釈して高屈折率層形成用塗液2を調製した。
Preparation Example 3 (High Refractive Index Layer Coating Liquid 2)
ATO fine particle dispersion (average particle size 5 nm, solid content 20%, solvent ethanol) 20.35 parts by weight, dipentaerythritol hexaacrylate 5.81 parts by weight, polymerization initiator (Irgacure 184, Ciba Specialty Chemicals ( Co., Ltd.) 0.58 parts by weight and silica fine particle dispersion (average particle size 230 nm, solid content 30%, solvent ethanol) 0.87 parts by weight were diluted with 72.67 parts by weight of ethanol as a solvent. A coating liquid 2 for forming a high refractive index layer was prepared.

調製例4(高屈折率層形成用塗液3)
ATO微粒子分散液(平均粒子径5nm、固形分20%、溶剤エタノール)20.35重量部と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート5.81重量部と、重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製)0.58重量部と、シリカ微粒子分散液(平均粒子径250nm、固形分30%、溶剤エタノール)0.58重量部とを、溶媒であるエタノール72.67重量部で希釈して高屈折率層形成用塗液3を調製した。
Preparation Example 4 (Coating liquid 3 for forming a high refractive index layer)
ATO fine particle dispersion (average particle size 5 nm, solid content 20%, solvent ethanol) 20.35 parts by weight, dipentaerythritol hexaacrylate 5.81 parts by weight, polymerization initiator (Irgacure 184, Ciba Specialty Chemicals ( Co., Ltd.) 0.58 parts by weight and silica fine particle dispersion (average particle size 250 nm, solid content 30%, solvent ethanol) 0.58 parts by weight were diluted with 72.67 parts by weight of ethanol as a solvent. A coating solution 3 for forming a high refractive index layer was prepared.

調製例5(高屈折率層形成用塗液4)
ATO微粒子分散液(平均粒子径5nm、固形分20%、溶剤エタノール)20.35重量部と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート5.81重量部と、重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製)0.58重量部と、シリカ微粒子分散液(平均粒子径300nm、固形分30%、溶剤エタノール)0.29重量部とを、溶媒であるエタノール72.67重量部で希釈して高屈折率層形成用塗液4を調製した。
Preparation Example 5 (High refractive index layer forming coating solution 4)
ATO fine particle dispersion (average particle size 5 nm, solid content 20%, solvent ethanol) 20.35 parts by weight, dipentaerythritol hexaacrylate 5.81 parts by weight, polymerization initiator (Irgacure 184, Ciba Specialty Chemicals ( Co., Ltd.) 0.58 parts by weight and silica fine particle dispersion (average particle size 300 nm, solid content 30%, solvent ethanol) 0.29 parts by weight were diluted with 72.67 parts by weight of ethanol as a solvent. A coating solution 4 for forming a high refractive index layer was prepared.

調製例6(高屈折率層形成用塗液5)
ATO微粒子分散液(平均粒子径5nm、固形分20%、溶剤エタノール)20.35重量部と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート5.81重量部と、重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製)0.58重量部と、シリカ微粒子分散液(平均粒子径100nm、固形分30%、溶剤エタノール)0.58重量部とを、溶媒であるエタノール72.67重量部で希釈して高屈折率層形成用塗液5を調製した。
Preparation Example 6 (Coating liquid 5 for forming a high refractive index layer)
ATO fine particle dispersion (average particle size 5 nm, solid content 20%, solvent ethanol) 20.35 parts by weight, dipentaerythritol hexaacrylate 5.81 parts by weight, polymerization initiator (Irgacure 184, Ciba Specialty Chemicals ( Co., Ltd.) 0.58 parts by weight and silica fine particle dispersion (average particle size 100 nm, solid content 30%, solvent ethanol) 0.58 parts by weight were diluted with 72.67 parts by weight of ethanol as a solvent. A coating solution 5 for forming a high refractive index layer was prepared.

調製例7(高屈折率層形成用塗液6)
ATO微粒子分散液(平均粒子径5nm、固形分20%、溶剤エタノール)20.35重量部と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート5.81重量部と、重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製)0.58重量部と、シリカ微粒子分散液(平均粒子径200nm、固形分30%、溶剤エタノール)0.15重量部とを、溶媒であるエタノール72.67重量部で希釈して高屈折率層形成用塗液6を調製した。
Preparation Example 7 (High refractive index layer-forming coating solution 6)
ATO fine particle dispersion (average particle size 5 nm, solid content 20%, solvent ethanol) 20.35 parts by weight, dipentaerythritol hexaacrylate 5.81 parts by weight, polymerization initiator (Irgacure 184, Ciba Specialty Chemicals ( Co., Ltd.) 0.58 parts by weight and silica fine particle dispersion (average particle size 200 nm, solid content 30%, solvent ethanol) 0.15 parts by weight were diluted with 72.67 parts by weight of ethanol as a solvent. A coating liquid 6 for forming a high refractive index layer was prepared.

調製例8(高屈折率層形成用塗液7)
ATO微粒子分散液(平均粒子径5nm、固形分20%、溶剤エタノール)20.35重量部と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート5.81重量部と、重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製)0.58重量部と、シリカ微粒子分散液(平均粒子径250nm、固形分30%、溶剤エタノール)1.74重量部とを、溶媒であるエタノール72.67重量部で希釈して高屈折率層形成用塗液7を調製した。
Preparation Example 8 (Coating liquid 7 for forming a high refractive index layer)
ATO fine particle dispersion (average particle size 5 nm, solid content 20%, solvent ethanol) 20.35 parts by weight, dipentaerythritol hexaacrylate 5.81 parts by weight, polymerization initiator (Irgacure 184, Ciba Specialty Chemicals ( Co., Ltd.) 0.58 parts by weight and silica fine particle dispersion (average particle size 250 nm, solid content 30%, solvent ethanol) 1.74 parts by weight were diluted with 72.67 parts by weight of ethanol as a solvent. A coating liquid 7 for forming a high refractive index layer was prepared.

調製例9(高屈折率層形成用塗液8)
ATO微粒子分散液(平均粒子径5nm、固形分20%、溶剤エタノール)20.35重量部と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート5.81重量部と、重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製)0.58重量部と、シリカ微粒子分散液(平均粒子径500nm、固形分30%、溶剤エタノール)0.58重量部とを、溶媒であるエタノール72.67重量部で希釈して高屈折率層形成用塗液8を調製した。
Preparation Example 9 (High Refractive Index Layer Coating Liquid 8)
ATO fine particle dispersion (average particle size 5 nm, solid content 20%, solvent ethanol) 20.35 parts by weight, dipentaerythritol hexaacrylate 5.81 parts by weight, polymerization initiator (Irgacure 184, Ciba Specialty Chemicals ( Co., Ltd.) 0.58 parts by weight and 0.58 parts by weight of silica fine particle dispersion (average particle size 500 nm, solid content 30%, solvent ethanol) were diluted with 72.67 parts by weight of ethanol as a solvent. A coating liquid 8 for forming a high refractive index layer was prepared.

表2に、高屈折率層形成用塗液1〜8の組成を示す。   Table 2 shows the compositions of the coating solutions 1 to 8 for forming the high refractive index layer.

Figure 2014202853
Figure 2014202853

調製例10(低屈折率層形成用塗液)
多孔質シリカ微粒子分散液(平均粒子径50nm、固形分20%、溶剤メチルイソブチルケトン)32.08重量部と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート1.68重量部と、重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製)0.07重量部と、レベリング剤(BYK−UV3500、ビックケミー・ジャパン(株)製、固形分>97%)0.18重量部とを、溶媒であるメチルイソブチルケトン(MIBK)66.00重量部で希釈して低屈折率層形成用塗液を調製した。表3に、低屈折率層形成用塗液の組成を示す。
Preparation Example 10 (Coating liquid for forming a low refractive index layer)
Porous silica fine particle dispersion (average particle size 50 nm, solid content 20%, solvent methyl isobutyl ketone) 32.08 parts, dipentaerythritol hexaacrylate 1.68 parts, polymerization initiator (Irgacure 184, Ciba 0.07 part by weight of Specialty Chemicals Co., Ltd.) and 0.18 part by weight of a leveling agent (BYK-UV3500, manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd., solid content> 97%), methyl isobutyl ketone as a solvent (MIBK) Diluted with 66.00 parts by weight to prepare a coating solution for forming a low refractive index layer. Table 3 shows the composition of the coating solution for forming the low refractive index layer.

Figure 2014202853
Figure 2014202853

実施例1(反射防止フィルムの作製)
図1に示す構成の反射防止フィルムを作製した。透明基材として、膜厚80μmのトリアセチルセルロースフィルム(富士フィルム(株)製)を用いた。
Example 1 (Preparation of antireflection film)
An antireflection film having the configuration shown in FIG. 1 was produced. As the transparent substrate, a triacetyl cellulose film (manufactured by Fuji Film Co., Ltd.) having a film thickness of 80 μm was used.

(1)ハードコート層の形成
透明基材の一方の面上に、上記で得たハードコート層形成用塗液を塗布し、80℃で60秒間オーブンにて乾燥した。乾燥後、紫外線照射装置(フュージョンUVシステムズジャパン(株)製、光源Hバルブ)を用い、照射線量200mJ/mで紫外線照射を行い、乾燥膜厚5μmの透明なハードコート層を形成した。
(1) Formation of hard coat layer The coating liquid for forming a hard coat layer obtained above was applied on one surface of a transparent substrate and dried in an oven at 80 ° C for 60 seconds. After drying, using a UV irradiation device (Fusion UV Systems Japan Co., Ltd., light source H bulb), UV irradiation was performed at an irradiation dose of 200 mJ / m 2 to form a transparent hard coat layer having a dry film thickness of 5 μm.

(2)高屈折率層の形成
上記で形成したハードコート層上に、乾燥後の膜厚が150nmとなるように高屈折率層形成用塗液1を塗布し、塗膜を形成した。紫外線照射装置を用い、照射線量200mJ/mで紫外線照射を行って塗膜を硬化させて、高屈折率層を形成した。
(2) Formation of High Refractive Index Layer The high refractive index layer forming coating solution 1 was applied on the hard coat layer formed above so that the film thickness after drying was 150 nm, thereby forming a coating film. Using a UV irradiation device, UV irradiation was performed at an irradiation dose of 200 mJ / m 2 to cure the coating film to form a high refractive index layer.

(3)低屈折率層の形成
上記で形成した高屈折率層上に、乾燥後の膜厚が100nmとなるように低屈折率層形成用塗液を塗布し、塗膜を形成した。紫外線照射装置を用い、照射線量200mJ/mで紫外線照射を行って塗膜を硬化させて、低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを得た。
(3) Formation of low-refractive index layer On the high-refractive index layer formed above, a coating solution for forming a low-refractive index layer was applied so that the film thickness after drying was 100 nm. Using an ultraviolet irradiation device, ultraviolet rays were irradiated at an irradiation dose of 200 mJ / m 2 to cure the coating film to form a low refractive index layer, thereby obtaining an antireflection film.

実施例2(反射防止フィルムの作製)
高屈折率層形成用塗液1のかわりに、高屈折率層形成用塗液2を用いたほかは、実施例1と同様にして反射防止フィルムを得た。
Example 2 (Preparation of antireflection film)
An antireflection film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating solution 2 for forming a high refractive index layer was used instead of the coating solution 1 for forming a high refractive index layer.

実施例3(反射防止フィルムの作製)
高屈折率層形成用塗液1のかわりに、高屈折率層形成用塗液3を用いたほかは、実施例1と同様にして反射防止フィルムを得た。
Example 3 (Preparation of antireflection film)
An antireflection film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating solution 3 for forming a high refractive index layer was used instead of the coating solution 1 for forming a high refractive index layer.

実施例4(反射防止フィルムの作製)
高屈折率層形成用塗液1のかわりに、高屈折率層形成用塗液4を用いたほかは、実施例1と同様にして反射防止フィルムを得た。
Example 4 (Preparation of antireflection film)
An antireflection film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating solution 4 for forming a high refractive index layer was used instead of the coating solution 1 for forming a high refractive index layer.

比較例1(反射防止フィルムの作製)
高屈折率層形成用塗液1のかわりに、高屈折率層形成用塗液5を用いたほかは、実施例1と同様にして反射防止フィルムを得た。
Comparative Example 1 (Preparation of antireflection film)
An antireflection film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the coating solution 5 for forming a high refractive index layer was used instead of the coating solution 1 for forming a high refractive index layer.

比較例2(反射防止フィルムの作製)
高屈折率層形成用塗液1のかわりに、高屈折率層形成用塗液6を用いたほかは、実施例1と同様にして反射防止フィルムを得た。
Comparative Example 2 (Preparation of antireflection film)
An antireflection film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the coating solution 6 for forming a high refractive index layer was used instead of the coating solution 1 for forming a high refractive index layer.

比較例3(反射防止フィルムの作製)
高屈折率層形成用塗液1のかわりに、高屈折率層形成用塗液7を用いたほかは、実施例1と同様にして反射防止フィルムを得た。
Comparative Example 3 (Preparation of antireflection film)
An antireflection film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the coating solution 7 for forming a high refractive index layer was used instead of the coating solution 1 for forming a high refractive index layer.

比較例4(反射防止フィルムの作製)
高屈折率層形成用塗液1のかわりに、高屈折率層形成用塗液8を用いたほかは、実施例1と同様にして反射防止フィルムを得た。
Comparative Example 4 (Preparation of antireflection film)
An antireflection film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating solution 8 for forming a high refractive index layer was used instead of the coating solution 1 for forming a high refractive index layer.

実施例1〜4および比較例1〜4で得られた反射防止フィルムについて、以下の方法で評価を行った。   The antireflection films obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 were evaluated by the following methods.

(ヘイズ値)
上記で得られた反射防止フィルムについて、写像性測定器(日本電色工業(株)製、NDH−2000)を使用し、JIS K 7105−1981に記載の方法に準拠してヘイズ値を測定した。
(Haze value)
About the anti-reflective film obtained above, the haze value was measured based on the method of JIS K 7105-1981 using the image clarity measuring device (Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. make, NDH-2000). .

(平均視感反射率)
上記で得られた反射防止フィルムの低屈折率層の表面について、自動分光光度計((株)日立製作所製、U−4000)を用い、入射角5°における分光反射率を測定した。また、得られた分光反射率曲線から平均視感反射率を求めた。なお、測定の際には、透明基材であるトリアセチルセルロースフィルムのうち反射防止層が形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置を行った。
(Average luminous reflectance)
About the surface of the low refractive index layer of the antireflection film obtained above, the spectral reflectance at an incident angle of 5 ° was measured using an automatic spectrophotometer (manufactured by Hitachi, Ltd., U-4000). Further, the average luminous reflectance was obtained from the obtained spectral reflectance curve. In the measurement, a matte black paint was applied to the surface of the triacetylcellulose film, which is a transparent substrate, on which the antireflection layer was not formed, and antireflection treatment was performed.

(白化)
上記で得られた反射防止フィルムに蛍光灯の光を当て、ハードコート層表面の光の拡散具合を評価した。判定基準を以下に示す。
○:光の拡散具合が小さく、ハードコート層表面が白化していない
×:ハードコート層表面が白化している
(Whitening)
Light from a fluorescent lamp was applied to the antireflection film obtained above, and the light diffusion state on the surface of the hard coat layer was evaluated. Judgment criteria are shown below.
○: Light diffusion is small and the hard coat layer surface is not whitened ×: The hard coat layer surface is whitened

(耐擦傷性)
上記得られた反射防止フィルムの低屈折率層の表面を、スチールウール(日本スチールウール(株)製、ボンスター#0000)を用いて、荷重250g/cmで10往復擦り、傷の有無を目視にて観察して評価した。判定基準を以下に示す。
○:傷が確認されなかった
×:傷が確認された
(Abrasion resistance)
The surface of the low refractive index layer of the obtained antireflection film was rubbed 10 times with steel wool (Nihon Steel Wool Co., Ltd., Bonstar # 0000) at a load of 250 g / cm 2 to visually check for the presence or absence of scratches. It was observed and evaluated. Judgment criteria are shown below.
○: No scratch was confirmed ×: Scratch was confirmed

(低屈折率層表面の中心線平均高さ(Ra))
上記で得られた反射防止フィルムの低屈折率層について、非接触表面・層断面形状計測システム VertScan2.0高精度微細形状測定器(小坂研究所製サーフコーダーET4000A)を用い、低屈折率層表面の中心線平均高さ(Ra)を測定した。
(Center line average height of low refractive index layer surface (Ra))
For the low refractive index layer of the antireflection film obtained above, the surface of the low refractive index layer is measured using a non-contact surface / layer cross-sectional shape measurement system VertScan 2.0 high precision fine shape measuring instrument (Surfcoder ET4000A manufactured by Kosaka Laboratory). The centerline average height (Ra) of was measured.

(低屈折率層表面凹凸の平均間隔(Sm))
上記で得られた反射防止フィルムの低屈折率層について、非接触表面・層断面形状計測システム VertScan2.0高精度微細形状測定器(小坂研究所製サーフコーダーET4000A)を用い、低屈折率層表面凹凸の平均間隔(Sm)を測定した。
(Average spacing (Sm) of surface irregularities of the low refractive index layer)
For the low refractive index layer of the antireflection film obtained above, the surface of the low refractive index layer is measured using a non-contact surface / layer cross-sectional shape measurement system VertScan 2.0 high precision fine shape measuring instrument (Surfcoder ET4000A manufactured by Kosaka Laboratory). The average interval (Sm) of the irregularities was measured.

(耐ブロッキング性)
上記で得られた反射防止フィルムを10cm角にカットし、このカットしたフィルムをガラス板上に5枚重ね、50℃で24時間静置した。その後、フィルム面積(100cm)に占めるブロッキング部分の面積を目視にて観察して評価した。判定基準を以下に示す。
○:フィルム面積に占めるブロッキング部分の面積が50%未満である
×:フィルム面積に占めるブロッキング部分の面積が50%以上である
(Blocking resistance)
The antireflection film obtained above was cut into a 10 cm square, and five of the cut films were stacked on a glass plate and allowed to stand at 50 ° C. for 24 hours. Thereafter, the area of the blocking portion in the film area (100 cm 2 ) was visually observed and evaluated. Judgment criteria are shown below.
○: The area of the blocking portion in the film area is less than 50%. ×: The area of the blocking portion in the film area is 50% or more.

上記で行った評価結果を、以下の表4に示す。   The evaluation results obtained above are shown in Table 4 below.

Figure 2014202853
Figure 2014202853

表4に示す結果から、実施例1〜4で得られた反射防止フィルムは、優れたハードコート性、透明性および耐擦傷性を備え、さらに耐ブロッキング性にも優れたものであることが分かる。   From the results shown in Table 4, it can be seen that the antireflection films obtained in Examples 1 to 4 have excellent hard coat properties, transparency and scratch resistance, and are also excellent in blocking resistance. .

これに対して、比較例1〜2で得られた反射防止フィルムは、耐ブロッキング性に劣り、比較例3〜4で得られた反射防止フィルムは、白化が発生しており透明性が劣ることが分かる。   On the other hand, the antireflection films obtained in Comparative Examples 1 and 2 are inferior in blocking resistance, and the antireflection films obtained in Comparative Examples 3 and 4 are whitened and inferior in transparency. I understand.

本発明の反射防止フィルムは、例えば、LCD、PDP、CRT、プロジェクションディスプレイ、ELディスプレイ等のディスプレイの表示画面に好適に用いることができる。   The antireflection film of the present invention can be suitably used for display screens of displays such as LCD, PDP, CRT, projection display, EL display and the like.

1 反射防止フィルム
11、21、22、41、42 透明基材
12 ハードコート層
13 高屈折率層
131 高屈折率微粒子
132 微粒子
14 低屈折率層
141 低屈折率微粒子
2、2a 偏光板
23、43 偏光層
200、200a 反射防止フィルム付偏光板
3 液晶セル
300、400 透過型液晶ディスプレイ
4 偏光板
5 バックライトユニット
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Antireflection film 11, 21, 22, 41, 42 Transparent base material 12 Hard coat layer 13 High refractive index layer 131 High refractive index fine particle 132 Fine particle 14 Low refractive index layer 141 Low refractive index fine particle 2, 2a Polarizing plate 23, 43 Polarizing layer 200, 200a Polarizing plate with antireflection film 3 Liquid crystal cell 300, 400 Transmission type liquid crystal display 4 Polarizing plate 5 Backlight unit

Claims (3)

反射防止フィルムであって、
透明基材と、
前記透明基材の少なくとも一方の面上にハードコート層と、
前記ハードコート層上に高屈折率層と、
前記高屈折率層上に低屈折率層とを備え、
前記高屈折率層は、
高屈折率微粒子と、
前記高屈折率層の膜厚と前記低屈折率層の膜厚とを合わせた膜厚の0.8〜1.2倍の平均粒子径を有する微粒子とを含み、
前記ハードコート層の屈折率n(Hard)と、前記高屈折率層屈折率n(High)と、前記低屈折率層の屈折率n(Low)とが、n(Low)<n(Hard)<n(High)であり、
前記低屈折率層の表面の中心線平均高さ(Ra)が0.003〜0.020μmであり、かつ、前記低屈折率層の表面の凹凸の平均間隔(Sm)が0.030〜1.000mmであり、前記反射防止フィルムのヘイズ値が0.3%以下であることを特徴とする、反射防止フィルム。
An anti-reflection film,
A transparent substrate;
A hard coat layer on at least one surface of the transparent substrate;
A high refractive index layer on the hard coat layer;
A low refractive index layer on the high refractive index layer,
The high refractive index layer is
High refractive index fine particles,
Including fine particles having an average particle diameter of 0.8 to 1.2 times the total thickness of the high refractive index layer and the low refractive index layer,
The refractive index n (Hard) of the hard coat layer, the refractive index n (High) of the high refractive index layer, and the refractive index n (Low) of the low refractive index layer are n (Low) <n (Hard). <N (High),
The centerline average height (Ra) of the surface of the low refractive index layer is 0.003 to 0.020 μm, and the average interval (Sm) of the irregularities on the surface of the low refractive index layer is 0.030 to 1. An antireflection film having a thickness of .000 mm and a haze value of the antireflection film of 0.3% or less.
請求項1に記載の反射防止フィルムと、前記反射防止フィルムの前記透明基材の前記ハードコート層が形成された面とは反対の面側に配置された偏光板とを備えていることを特徴とする、反射防止フィルム付偏光板。   The antireflection film according to claim 1, and a polarizing plate disposed on a surface opposite to the surface on which the hard coat layer of the transparent substrate of the antireflection film is formed. A polarizing plate with an antireflection film. 請求項2に記載の反射防止フィルム付偏光板と、液晶セルと、偏光板と、バックライトユニットとを備え、前記反射防止フィルム付偏光板において前記反射防止フィルムを備える面とは反対の面側に、前記液晶セルと、前記偏光板と、前記バックライトユニットとがこの順に保持されていることを特徴とする、透過型液晶ディスプレイ。   The polarizing plate with an antireflection film according to claim 2, a liquid crystal cell, a polarizing plate, and a backlight unit, and a surface opposite to a surface having the antireflection film in the polarizing plate with an antireflection film. In addition, the liquid crystal cell, the polarizing plate, and the backlight unit are held in this order.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104617228A (en) * 2014-12-29 2015-05-13 昆山国显光电有限公司 Antireflection film, preparation method of antireflection film, organic electroluminescence device and preparation method of organic electroluminescence device

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