JP2014195777A - 濾布の再生方法、及びバグフィルタ装置 - Google Patents

Abstract

【課題】本発明は、バグフィルタ装置に過度の負担を掛けることなく、効果的にバグフィルタ装置に備えられた濾布を再生することができる新規な濾布の再生方法、及びバグフィルタ装置を提供することを目的とする。【解決手段】バグフィルタ装置１によるガスの処理中、一の集塵室２Ａ内に配された濾布３を再生する必要が生じた場合に、前記濾布３に捕集された煤塵を払い落とす払い落とし工程と、薬剤を噴射する第一薬剤噴射工程と、を並行して実行することによって、前記濾布３を薬剤にて保護しながら、前記濾布３に捕集された煤塵を払い落とした後、前記集塵室２Ａへのガス導入量を調整する導入量調整工程と、薬剤を噴射する第二薬剤噴射工程と、を実行することによって、前記濾布３に対して薬剤層を形成する。【選択図】図１

Description

本発明は、バグフィルタ装置における濾布の再生方法、及びバグフィルタ装置に関する。

バグフィルタ装置と称される集塵装置は、集塵室内に配された濾布にガスを通過させて、ガス中に含まれる煤塵を濾過捕集する仕組みとなっている。現在、実用に供されているバグフィルタ装置においては、ガス中に含まれる酸性ガスを中和して濾布を保護すべく、煙道を通じて前記集塵室内に導入されるガスに消石灰などのアルカリ成分からなる薬剤を同伴させ、もって、前記濾布の表面に前記煤塵と薬剤との混合物からなる粉塵層を形成させるタイプのものが主流となっている。

ところで、前記バグフィルタ装置の煤塵捕集能は、前記粉塵層の成長と共に向上するが、前記濾布の表面に形成された粉塵層が厚くなるにつれて、圧力損失が上昇する。そのため、前記バグフィルタ装置においては、定期的に、或いは、圧力損失が一定値以上に上昇した時点で、前記濾布から前記粉塵層を払い落とし、もって、前記濾布を再生させる必要が生じる。

但し、前記粉塵層が払い落とされた直後の前記バグフィルタ装置は、前記濾布において前記粉塵層が未完成のため煤塵処理能力が低く、しかも酸性ガスの中和能も低いものとなる。

そのため、前記粉塵層の払い落としの後、濾過作業を再開する前に、前記濾布の表面に薬剤の層（プレコート層）を形成する方法が提案されている（例えば、下記特許文献１、２参照。）。

特開平５‐１２３５１５号公報 特開平７‐１６３７０５号公報

しかしながら、前記特許文献１及び前記特許文献２に提案された方法は、いずれも、複数の集塵室を有するバグフィルタ装置において、粉塵層の払い落としが必要とされる一の集塵室へのガスの導入を遮断した上で、払い落とし作業を実行することから、払い落とし作業中、一の集塵室へのガスの導入が遮断された分、他の集塵室へのガス導入量が増加する。

ここで、焼却処理施設などは、施設全体の設置スペースをできるだけ少なくすることが求められている。従って、バグフィルタ装置は、施設から排出されるガスを処理し得る必要最小限の処理能を有するできるだけ小型のものが選択されているのが現状である。

そのため、一の集塵室に対する払い落とし作業の際に、一の集塵室へのガスの導入が遮断されて、他の集塵室へのガス導入量が増加すると、他の集塵室において過度の負荷が掛かったり、ガスの処理が不十分となったりする場合がある。

本発明は、前記技術的課題を解決するために開発されたものであって、バグフィルタ装置に過度の負担を掛けることなく、効果的にバグフィルタ装置に備えられた濾布を再生することができる新規な濾布の再生方法、及びバグフィルタ装置を提供することを目的とする。

本発明の濾布の再生方法は、ガス発生源から煙道を通じて集塵室内に輸送されたガス中に含まれる煤塵を、前記集塵室内に配された濾布にて濾過捕集するバグフィルタ装置における濾布の再生方法であって、前記バグフィルタ装置として、複数の集塵室と、各集塵室に配された濾布と、各集塵室にガスを導く、前記煙道の下流側が複数に分岐されて形成された複数の導入管と、前記濾布に捕集された煤塵を払い落とすための払い落とし手段と、前記煙道内に配された、前記導入管のいずれかに向けて薬剤を噴射することができるように薬剤噴射方向が変更可能となされた薬剤噴射ノズルと、前記導入管へのガス導入量を調整する弁体と、を具備してなるものを用い、ガスの処理中、各集塵室内に配された濾布を再生する必要が生じた場合に、前記払い落とし手段にて、複数の集塵室のうちの一の集塵室内に配された濾布に捕集された煤塵を払い落とす払い落とし工程と、前記薬剤噴射ノズルの薬剤噴射方向を一の集塵室内にガスを導入する一の導入管に向けた上で、前記薬剤噴射ノズルから薬剤を噴射する第一薬剤噴射工程と、を並行して実行することによって、一の集塵室内に配された濾布を薬剤にて保護しながら、一の集塵室内に配された濾布に捕集された煤塵を払い落とした後、前記弁体にて、前記一の集塵室にガスを導入する一の導入管以外の他の導入管へのガス導入量を減じる導入量調整工程と、前記薬剤噴射ノズルから薬剤を噴射する第二薬剤噴射工程と、を実行することによって、一の集塵室内に配された濾布に対して薬剤層を形成し、もって、一の集塵室内に配された濾布を再生し、その後、順次、一の集塵室以外の他の集塵室から別の一の集塵室を選択し、選択された別の一の集塵室に対し、前記払い落とし工程と、前記第一薬剤噴射工程と、を並行して実行した後、前記導入量調整工程と、前記第二薬剤噴射工程と、を実行することによって、各集塵室内に配された濾布を順次再生することを特徴とする（以下、本発明方法と称する。）。

本発明方法においては、前記第一薬剤噴射工程では、前記第二薬剤噴射工程において単位時間当たりに噴射される薬剤噴射量の５〜２０％の薬剤噴射量にて薬剤を噴射することが好ましい態様となる。

本発明方法においては、前記導入量調整工程では、他の導入管の各々へ対するガス導入量を、一の導入管へのガス導入量に対し、１〜３割減じることが好ましい態様となる。

本発明のバグフィルタ装置は、ガス発生源から煙道を通じて集塵室内に輸送されたガス中に含まれる煤塵を、前記集塵室内に配された濾布にて濾過捕集するバグフィルタ装置であって、複数の集塵室と、各集塵室に配された濾布と、各集塵室の下部側から各集塵室内に向かってガスを導入する、前記煙道の下流側が複数に分岐されて形成された複数の導入管と、前記濾布を通過したガスを各集塵室の上部側から排出する排出管と、前記濾布に捕集された煤塵を払い落とすための払い落とし手段と、前記煙道内に配された、前記導入管のいずれかに向けて薬剤を噴射することができるように薬剤噴射方向が変更可能となされた薬剤噴射ノズルと、前記導入管へのガス導入量を調整する弁体と、前記煙道と前記排出管との間の差圧を計測する差圧計と、制御部と、を具備してなり、前記制御部は、ガスの処理中、前記差圧計によって計測された差圧が一定値以上となった旨の信号を受けた際に、前記払い落とし手段に対し、一の集塵室に配された濾布に捕集された煤塵を払い落とす旨の命令を与えると共に、前記薬剤噴射ノズルに対し、薬剤噴射方向を一の集塵室内にガスを導入する一の導入管に向けた上で、前記薬剤噴射ノズルから薬剤を噴射する旨の命令を与え、前記払い落とし工程開始後所定時間経過の後、前記弁体に対し、前記一の集塵室にガスを導入する一の導入管以外の他の導入管へのガス導入量を減じる旨の命令を与えると共に、前記薬剤噴射ノズルに対し、薬剤を噴射する旨の命令を与えることによって、前記一の集塵室に配された濾布を再生した後、引き続き、一の集塵室以外の他の集塵室に配された濾布を同様の手順にて順次再生する制御を行うものであることを特徴とする（以下、本発明装置と称する。）。

本発明装置においては、前記導入管が、前記煙道の下流側が二股に分岐されて形成されてなり、前記弁体が、前記煙道の分岐点において備えられたダンパであるものが好ましい態様となる。

本発明によれば、バグフィルタ装置に過度の負担を掛けることなく、効果的にバグフィルタ装置に備えられた濾布を再生することができる。

図１は、本発明装置の概略図である。 図２は、本発明装置における制御部の論理演算を示すフローチャートである。 図３（ａ）〜（ｅ）は、本発明装置にて、本発明方法を実行している様子を段階的に示す説明図である。

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明するが、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。

図１に、本発明方法が実施される本発明装置１の概略図を示す。本発明装置１は、焼却炉等のガス発生源（図示せず）から煙道９を通じて集塵室２内に輸送されたガス中に含まれる煤塵を、前記集塵室２内に配された濾布３にて濾過捕集する集塵装置（バグフィルタ装置）である。

本発明装置１は、隣接する二つの集塵室（第一集塵室２Ａ、第二集塵室２Ｂ）２と、各集塵室２Ａ、２Ｂに配された濾布３と、各集塵室２Ａ、２Ｂの下部側から各集塵室２Ａ、２Ｂ内に向かってガスを導入する導入管（第一導入管４Ａ、第二導入管４Ｂ）４と、前記濾布３を通過したガスを各集塵室２Ａ、２Ｂの上部側から排出する排出管５と、前記濾布３に捕集された煤塵を払い落とすための払い落とし手段６と、前記煙道９内に配された薬剤噴射ノズル７１と、各導入管４Ａ、４Ｂへのガス導入量を調整する弁体８と、制御部１０と、を具備してなる。

前記集塵室２Ａ、２Ｂは、集塵塔２０内を仕切る仕切り板２００によって前記第一集塵室２Ａと前記第二集塵室２Ｂとの二つの室内に区分けされている。各集塵室２Ａ、２Ｂは、いずれも、濾過室２１と、前記濾過室２１の下方に連設された、各集塵室２Ａ、２Ｂに共通のホッパ室２２と、前記濾過室２１の上方に位置する、各集塵室２Ａ、２Ｂに共通の清浄ガス室２３とによって構成されている。

前記濾布３は、前記集塵室２Ａ、２Ｂのそれぞれにおける前記濾過室２１内に懸架された状態にて配されている。更に詳しくは、前記濾布３は、織布や不織布などの布基材が袋状に形成されたものであり、袋の口部を前記清浄ガス室２３に開口させた状態にて、前記濾過室２１内に懸架されている。従って、前記濾過室２１内に導入されたガスは、袋状に形成された前記濾布３の表面から袋の内部に向かって通過し、袋の口部を通じて前記清浄ガス室２３に導かれる。ガス中に含まれる煤塵は、袋状に形成された前記濾布３の表面から袋の内部に向かって通過する際に濾過捕集される。

前記導入管４Ａ、４Ｂは、前記煙道９の下流側が二股に分岐されて形成されたものである。従って、前記煙道９を通じて輸送されるガス（例えば、酸性有害ガスや煤塵を含む燃焼ガス）は、前記煙道９の下流側に存する煙道分岐点９１に導かれ、前記煙道分岐点９１によって二股に分岐された前記導入管４Ａ、４Ｂの各々を経由して各集塵室２Ａ、２Ｂに流入する。

前記排出管５は、前記清浄ガス室２３に連通させた状態にて取り付けられている。従って、前記濾布３を通過して、前記清浄ガス室２３に至ったガス（清浄ガス）は、前記排出管５を通じて図示しない煙突まで導かれて排出される。なお、前記排出管５には、前記排出管５を通過するガス中の酸性ガス濃度を計測する濃度計ＣＭが配設されている。又、前記排出管５には、前記煙道９と前記排出管５との差圧、即ち、本発明装置１全体の圧力損失を計測する差圧計ＰＭが設けられている。

前記払い落とし手段６は、前記清浄ガス室２３内に配置されている。本実施形態においては、前記払い落とし手段６として、圧縮空気の噴射により、前記濾布３の表面に形成された粉塵層を除去するパルスジェット方式を採用している。更に詳しくは、前記払い落とし手段６は、袋状に形成された前記濾布３の内部に向かって圧縮空気を噴射し、前記濾布３の内部から外部に向かって圧縮空気を通過させることによって、前記濾布３の表面に形成された粉塵層を吹き飛ばす（逆洗する）ものである。なお、前記濾布３の表面から払い落とされた粉塵は、前記ホッパ室２２に上に落下する。

前記薬剤噴射ノズル７１は、薬剤（例えば、消石灰）を貯留する薬剤貯留槽７２と、前記薬剤を引出す搬出装置７３と、前記薬剤を搬送する搬送装置７４と、薬剤輸送管７５とからなる薬剤供給装置７の下流末端に配されてなり、前記薬剤貯留槽７２に貯留された薬剤を、前記導入管４Ａ、４Ｂのいずれかに向けて噴射するものである。前記薬剤噴射ノズル７１は、前記導入管４Ａ、４Ｂのいずれかに向けて薬剤を噴射することができるように薬剤噴射方向が変更可能となされている。

前記弁体８は、可動式のダンパである。前記弁体８は、前記煙道９が二股に分岐される前記煙道分岐点９１に取り付けられており、二つの前記導入管４Ａ、４Ｂから選ばれた一の導入管（例えば、第一導入管４Ａ）側寄りに傾くことによって、一の導入管４Ａの流路の入口を狭窄するものである。

前記制御部１０は、前記濃度計ＣＭと、前記差圧計ＰＭと、前記払い落とし手段６と、前記薬剤供給装置７、前記弁体８と接続されている。前記制御部１０は、各計測器ＣＭ、ＰＭから伝達された信号を受けて、前記払い落とし手段６、前記薬剤供給装置７、及び前記弁体８に対し所定の命令を与えるものである。

更に詳しくは、前記制御部１０は、図２に示すフローチャートに基づく論理演算を繰り返すことによって、図３に示すように、前記払い落とし手段６、前記薬剤供給装置７、及び前記弁体８の動作を制御し、もって本発明方法を実行するものである。以下、図２のフローチャート及び図３（ａ）〜（ｅ）を参照しながら、前記制御部１０による制御の様子と、本発明方法とを説明する。

図３（ａ）は、本発明装置１の通常時の稼動状態を示す図である。この時点で、前記弁体８は、各導入管４Ａ、４Ｂのいずれも狭窄しない中立位置となされる。これより、前記煙道９を輸送されてきたガスは、前記煙道分岐点９１にてほぼ等量に二分割され、各導入管４Ａ、４Ｂのそれぞれを通じて各集塵室２Ａ、２Ｂ内に導かれる。各集塵室２Ａ、２Ｂ内に導入されたガス中に含まれる煤塵は、前記濾布３を通過する際に濾過捕集され、前記濾布３の表面に堆積する。前記濾布３を通過したガスは、前記清浄ガス室２３内に移行し、前記排出管５を通じて排出される。

この本発明装置１の通常稼動時において、前記制御部１０は、前記差圧計ＰＭの値を常時監視する（Ｓ１）。そして、前記差圧計ＰＭの値が所定値以上となった時点で、前記制御部１０は、図３（ｂ）に示すように、前記薬剤噴射ノズル７１を前記第一導入管４Ａに向け（Ｓ２）、前記薬剤噴射ノズル７１から薬剤を噴射させる第一薬剤噴射工程を実行しながら（Ｓ３）、前記払い落とし手段６を作動させる払い落とし工程を実行する（Ｓ４）。

前記払い落とし工程において、前記払い落とし手段６は、前記清浄ガス室２３側から前記第一集塵室２Ａ内に配された前記濾布３に向かって圧縮空気を吹き付け、前記濾布３の表面に堆積された粉塵層を払い落とす。この際、前記弁体８は、各導入管４Ａ、４Ｂのいずれも狭窄しない中立位置となされたままであることから、前記第一集塵室２Ａ内には、通常稼動時とほぼ同量のガスが継続して導入されるが、前記払い落とし工程と並行して、前記第一薬剤噴射工程が実行されているから、ガス中に含まれる酸性ガスが薬剤によって中和される。これによって、前記払い落とし工程の実行中、前記第一集塵室２Ａ内に配された前記濾布３が保護される。なお、前記第一薬剤噴射工程は、前記濾布３の表面に薬剤のプレコートを形成させるために行うものではないことから、前記第一薬剤噴射工程における薬剤の噴射量は、前記濾布３を保護するに十分な量であれば良い。具体的には、後述する前記濾布３の表面に薬剤のプレコートを形成させる工程（第二薬剤噴射工程）において単位時間当たりに噴射される薬剤噴射量の５〜２０％の薬剤噴射量にて薬剤を噴射する。

前記払い落とし手段６の作動後、所定時間が経過した後（Ｓ５）、前記制御部１０は、図３（ｃ）に示すように、前記弁体８を前記第二導入管４Ｂ側に傾けて、前記第二導入管４Ｂの入口側の流路を狭窄し（Ｓ６）、もって、前記第二導入管４Ｂを通じて前記第二集塵室２Ｂに導入されるガスの導入量を減じる導入量調整工程を実行する。

前記導入量調整工程においては、可及的にガスの導入量が増加する前記第一集塵室２Ａに対して過度の負荷を与えることを回避すべく、前記第二集塵室２Ｂに導入されるガスの導入量が、前記第一集塵室２Ａに導入されるガスの導入量に対し、１〜３割減となるようにすることが好ましい。ガスの導入量の増減は、前記弁体８による流路の狭窄の程度を調整することによって行うことができる。通常、前記弁体８による流路の狭窄の程度は、１／３〜２／３とされる。

前記導入量調整工程の実行後、前記制御部１０は、前記薬剤噴射ノズル７１から比較的多量（前記第一薬剤噴射工程において単位時間当たりに噴射される薬剤噴射量の５〜２０倍）の薬剤を噴射する第二薬剤噴射工程を実行する（Ｓ７）。

前述の如く、前記導入量調整工程を実行することによって、前記第二集塵室２Ｂに導入されるガスの導入量を減じた分、前記第一導入管４Ａを通じて前記第一集塵室２Ａに導入されるガスの導入量は増加する。これより、前記薬剤噴射ノズル７１から噴射される薬剤は、優先的に前記第一集塵室２Ａに導入されて、前記第一集塵室２Ａに配された前記濾布３の表面にプレコート層（特許請求の範囲における「薬剤層」に相当。）を形成する。

前記第二薬剤噴射工程の実行後、所定時間が経過した後（Ｓ８）、前記制御部１０は、前記弁体８を中立位置に戻し（Ｓ９）、引き続き、Ｓ１０〜Ｓ１６を順に実行する。即ち、今度は、前記第二集塵室２Ｂに配された前記濾布３を再生させる（図３（ｄ）〜（ｅ）参照）。

なお、本実施形態においては、本発明装置１の稼動中、前記制御部１０は、常に前記差圧計ＰＭの値を監視しているが（Ｓ１）、同時に、前記排出管５を通過するガス中の酸性ガス濃度を計測する濃度計ＣＭの値も監視している（Ｓ１７）。前記濃度計ＣＭの値が一定値以上になるということは、前記濾布３の表面に形成したプレコート層の中和能が低下したことを意味する。

そして、前記濃度計ＣＭの値が所定値以上となった場合に、前記制御部１０は、前記薬剤噴射ノズル７１を前記第一導入管４Ａに向け（Ｓ１８）、前記薬剤噴射ノズル７１から薬剤を噴射させる（Ｓ１９）。

噴射された薬剤は、ガスに同伴された状態にて前記第一集塵室２Ａ内に導入され、前記濾布３の表面（正確には、前記濾布３の表面に堆積した粉塵層の表面）に薬剤とガス中に含まれる煤塵の混合物からなる粉塵層を形成する。薬剤の噴射後一定時間経過の後（Ｓ２０）、前記第二集塵室２Ｂ内に配された前記濾布３に対しても同様の工程（Ｓ２１〜Ｓ２３）を実行し、薬剤とガス中に含まれる煤塵の混合物からなる粉塵層を形成する。その後、前記制御部１０は、酸性ガス濃度が一定値以下となったか否かを再度確認し（Ｓ１７）、酸性ガス濃度が一定値以下となっていない場合は、前記Ｓ１８〜Ｓ２３を繰り返し行う。即ち、この工程は、酸性ガスに対する中和能が回復するまで繰り返される。

本発明方法を実行する本発明装置１は前記構成を有し、前記払い落とし工程と並行して、前記第一薬剤噴射工程を実行しているから、ガス中に含まれる酸性ガスが薬剤によって中和される。これによって、前記払い落とし工程の実行中、前記濾布３が保護される。

又、前記濾布３の表面にプレコート層を形成するにあたり、前記導入量調整工程を実行することによって、前記第二集塵室２Ｂに導入されるガスの導入量を減じた分、前記第一導入管４Ａを通じて前記第一集塵室２Ａに導入されるガスの導入量を増加させているから、前記薬剤噴射ノズル７１から噴射される薬剤は、優先的に前記第一集塵室２Ａに導入されて、前記第一集塵室２Ａに配された前記濾布３の表面にプレコート層を効率良く形成する。

更に、一の集塵室（例えば、前記第一集塵室２Ａ）に配された前記濾布３を再生させるにあたり、一の集塵室２Ａ内にはガスが継続して導入されているから、一の集塵室２Ａに配された前記濾布３の再生中、他の集塵室（例えば、前記第二の集塵室２Ｂ）へのガス導入量は増加しない。これより、他の集塵室２Ｂにおいて過度の負荷が掛かったり、ガスの処理が不十分となったりすることが好適に防止される。

なお、本発明は、その精神または主要な特徴から逸脱することなく、他のいろいろな形で実施することができる。そのため、上述の実施例はあらゆる点で単なる例示にすぎず、限定的に解釈してはならない。本発明の範囲は特許請求の範囲によって示すものであって、明細書本文には、なんら拘束されない。さらに、特許請求の範囲の均等範囲に属する変形や変更は、全て本発明の範囲内のものである。

本発明は、例えば、焼却処理設備などから排出されるガスを濾過捕集する装置として好適に利用することができる。

１ 本発明装置
２ 集塵室
２Ａ 第一集塵室
２Ｂ 第二集塵室
２１ 濾過室
２２ ホッパ室
２３ 清浄ガス室
３ 濾布
４ 導入管
４Ａ 第一導入管
４Ｂ 第二導入管
５ 排出管
６ 払い落とし手段
７ 薬剤供給装置
７１ 薬剤噴射ノズル
７２ 薬剤貯留槽
７３ 搬出装置
７４ 搬送装置
７５ 薬剤輸送管
８ 弁体
９ 煙道
９１ 煙道分岐点
１０ 制御部
２０ 集塵塔
２００ 仕切り板
ＣＭ 濃度計
ＰＭ 差圧計

特開平５−１２３５１５号公報 特開平９−１０５３１号公報

本発明の濾布の再生方法は、燃焼ガス発生源から煙道を通じて集塵室内に輸送された燃焼ガス中に含まれる煤塵を、前記集塵室内に配された濾布にて濾過捕集するバグフィルタ装置における濾布の再生方法であって、前記バグフィルタ装置として、複数の集塵室と、各集塵室に配された濾布と、各集塵室に燃焼ガスを導く、前記煙道の下流側が複数に分岐されて形成された複数の導入管と、前記濾布に捕集された煤塵を払い落とすための払い落とし手段と、前記煙道内に配された、前記導入管のいずれかに向けて薬剤を噴射することができるように薬剤噴射方向が変更可能となされた薬剤噴射ノズルと、前記導入管への薬剤が同伴される燃焼ガス導入量を調整する弁体と、を具備してなるものを用い、燃焼ガスの処理中、各集塵室内に配された濾布を再生する必要が生じた場合に、前記払い落とし手段にて、複数の集塵室のうちの一の集塵室内に配された濾布に捕集された煤塵を払い落とす払い落とし工程と、前記薬剤噴射ノズルの薬剤噴射方向を一の集塵室内に燃焼ガスを導入する一の導入管に向けた上で、前記薬剤噴射ノズルから薬剤を噴射する第一薬剤噴射工程と、を並行して実行することによって、一の集塵室内に配された濾布を薬剤にて保護しながら、一の集塵室内に配された濾布に捕集された煤塵を払い落とした後、前記弁体にて、前記一の集塵室に燃焼ガスを導入する一の導入管以外の他の導入管への燃焼ガス導入量を減じる導入量調整工程と、前記一の導入管に向けた薬剤噴射ノズルから薬剤を噴射する第二薬剤噴射工程と、を実行することによって、一の集塵室に優先的に薬剤を導入して、当該一の集塵室内に配された濾布に対して薬剤層を形成し、もって、一の集塵室内に配された濾布を再生し、その後、順次、一の集塵室以外の他の集塵室から別の一の集塵室を選択し、選択された別の一の集塵室に対し、
前記払い落とし工程と、前記第一薬剤噴射工程と、を並行して実行した後、前記導入量調整工程と、前記第二薬剤噴射工程と、を実行することによって、各集塵室内に配された濾布を順次再生することを特徴とする（以下、本発明方法と称する。）。

本発明方法においては、前記導入量調整工程では、他の導入管の各々へ対する燃焼ガス導入量を、一の導入管への燃焼ガス導入量に対し、１〜３割減じることが好ましい態様となる。

本発明のバグフィルタ装置は、燃焼ガス発生源から煙道を通じて集塵室内に輸送された燃焼ガス中に含まれる煤塵を、前記集塵室内に配された濾布にて濾過捕集するバグフィルタ装置であって、複数の集塵室と、各集塵室に配された濾布と、各集塵室の下部側から各集塵室内に向かって燃焼ガスを導入する、前記煙道の下流側が複数に分岐されて形成された複数の導入管と、前記濾布を通過した清浄ガスを各集塵室の上部側から排出する排出管と、前記濾布に捕集された煤塵を払い落とすための払い落とし手段と、前記煙道内に配された、前記導入管のいずれかに向けて薬剤を噴射することができるように薬剤噴射方向が変更可能となされた薬剤噴射ノズルと、前記導入管への薬剤が同伴される燃焼ガス導入量を調整する弁体と、前記煙道と前記排出管との間の差圧を計測する差圧計と、制御部と、を具備してなり、前記制御部は、燃焼ガスの処理中、前記差圧計によって計測された差圧が一定値以上となった旨の信号を受けた際に、前記払い落とし手段に対し、一の集塵室に配された濾布に捕集された煤塵を払い落とす旨の命令を与えると共に、前記薬剤噴射ノズルに対し、薬剤噴射方向を一の集塵室内に燃焼ガスを導入する一の導入管に向けた上で、前記薬剤噴射ノズルから薬剤を噴射する旨の命令を与え、前記払い落とし工程開始後所定時間経過の後、前記弁体に対し、前記一の集塵室に燃焼ガスを導入する一の導入管以外の他の導入管への燃焼ガス導入量を減じる旨の命令を与えると共に、前記薬剤噴射ノズルに対し、薬剤を噴射する旨の命令を与えることによって、前記一の集塵室に配された濾布を再生した後、引き続き、一の集塵室以外の他の集塵室に配された濾布を同様の手順にて順次再生する制御を行うものであることを特徴とする（以下、本発明装置と称する。）。

図１に、本発明方法が実施される本発明装置１の概略図を示す。本発明装置１は、焼却炉等のガス発生源（図示せず）から煙道９を通じて集塵室２内に輸送された燃焼ガス中に含まれる煤塵を、前記集塵室２内に配された濾布３にて濾過捕集する集塵装置（バグフィルタ装置）である。

本発明装置１は、隣接する二つの集塵室（第一集塵室２Ａ、第二集塵室２Ｂ）２と、各集塵室２Ａ、２Ｂに配された濾布３と、各集塵室２Ａ、２Ｂの下部側から各集塵室２Ａ、２Ｂ内に向かって燃焼ガスを導入する導入管（第一導入管４Ａ、第二導入管４Ｂ）４と、前記濾布３を通過した清浄ガスを各集塵室２Ａ、２Ｂの上部側から排出する排出管５と、前記濾布３に捕集された煤塵を払い落とすための払い落とし手段６と、前記煙道９内に配された薬剤噴射ノズル７１と、各導入管４Ａ、４Ｂへのガス導入量を調整する弁体８と、制御部１０と、を具備してなる。

前記濾布３は、前記集塵室２Ａ、２Ｂのそれぞれにおける前記濾過室２１内に懸架された状態にて配されている。更に詳しくは、前記濾布３は、織布や不織布などの布基材が袋状に形成されたものであり、袋の口部を前記清浄ガス室２３に開口させた状態にて、前記濾過室２１内に懸架されている。従って、前記濾過室２１内に導入された燃焼ガスは、袋状に形成された前記濾布３の表面から袋の内部に向かって通過し、袋の口部を通じて前記清浄ガス室２３に導かれる。燃焼ガス中に含まれる煤塵は、袋状に形成された前記濾布３の表面から袋の内部に向かって通過する際に濾過捕集される。

前記導入管４Ａ、４Ｂは、前記煙道９の下流側が二股に分岐されて形成されたものである。従って、前記煙道９を通じて輸送される燃焼ガス（例えば、酸性有害ガスや煤塵を含む燃焼ガス）は、前記煙道９の下流側に存する煙道分岐点９１に導かれ、前記煙道分岐点９１によって二股に分岐された前記導入管４Ａ、４Ｂの各々を経由して各集塵室２Ａ、２Ｂに流入する。

前記排出管５は、前記清浄ガス室２３に連通させた状態にて取り付けられている。従って、前記濾布３を通過して、前記清浄ガス室２３に至った清浄ガスは、前記排出管５を通じて図示しない煙突まで導かれて排出される。なお、前記排出管５には、前記排出管５を通過する清浄ガス中の酸性ガス濃度を計測する濃度計ＣＭが配設されている。又、前記排出管５には、前記煙道９と前記排出管５との差圧、即ち、本発明装置１全体の圧力損失を計測する差圧計ＰＭが設けられている。

図３（ａ）は、本発明装置１の通常時の稼動状態を示す図である。この時点で、前記弁体８は、各導入管４Ａ、４Ｂのいずれも狭窄しない中立位置となされる。これより、前記煙道９を輸送されてきた燃焼ガスは、前記煙道分岐点９１にてほぼ等量に二分割され、各導入管４Ａ、４Ｂのそれぞれを通じて各集塵室２Ａ、２Ｂ内に導かれる。各集塵室２Ａ、２Ｂ内に導入された燃焼ガス中に含まれる煤塵は、前記濾布３を通過する際に濾過捕集され、前記濾布３の表面に堆積する。前記濾布３を通過した清浄ガスは、前記清浄ガス室２３内に移行し、前記排出管５を通じて排出される。

前記払い落とし工程において、前記払い落とし手段６は、前記清浄ガス室２３側から前記第一集塵室２Ａ内に配された前記濾布３に向かって圧縮空気を吹き付け、前記濾布３の表面に堆積された粉塵層を払い落とす。この際、前記弁体８は、各導入管４Ａ、４Ｂのいずれも狭窄しない中立位置となされたままであることから、前記第一集塵室２Ａ内には、通常稼動時とほぼ同量の燃焼ガスが継続して導入されるが、前記払い落とし工程と並行して、前記第一薬剤噴射工程が実行されているから、燃焼ガス中に含まれる酸性ガスが薬剤によって中和される。これによって、前記払い落とし工程の実行中、前記第一集塵室２Ａ内に配された前記濾布３が保護される。なお、前記第一薬剤噴射工程は、前記濾布３の表面に薬剤のプレコートを形成させるために行うものではないことから、前記第一薬剤噴射工程における薬剤の噴射量は、前記濾布３を保護するに十分な量であれば良い。具体的には、後述する前記濾布３の表面に薬剤のプレコートを形成させる工程（第二薬剤噴射工程）において単位時間当たりに噴射される薬剤噴射量の５〜２０％の薬剤噴射量にて薬剤を噴射する。

前記払い落とし手段６の作動後、所定時間が経過した後（Ｓ５）、前記制御部１０は、図３（ｃ）に示すように、前記弁体８を前記第二導入管４Ｂ側に傾けて、前記第二導入管４Ｂの入口側の流路を狭窄し（Ｓ６）、もって、前記第二導入管４Ｂを通じて前記第二集塵室２Ｂに導入される燃焼ガスの導入量を減じる導入量調整工程を実行する。

前記導入量調整工程においては、可及的に燃焼ガスの導入量が増加する前記第一集塵室２Ａに対して過度の負荷を与えることを回避すべく、前記第二集塵室２Ｂに導入される燃焼ガスの導入量が、前記第一集塵室２Ａに導入される燃焼ガスの導入量に対し、１〜３割減となるようにすることが好ましい。燃焼ガスの導入量の増減は、前記弁体８による流路の狭窄の程度を調整することによって行うことができる。通常、前記弁体８による流路の狭窄の程度は、１／３〜２／３とされる。

前述の如く、前記導入量調整工程を実行することによって、前記第二集塵室２Ｂに導入される燃焼ガスの導入量を減じた分、前記第一導入管４Ａを通じて前記第一集塵室２Ａに導入される燃焼ガスの導入量は増加する。これより、前記薬剤噴射ノズル７１から噴射される薬剤は、優先的に前記第一集塵室２Ａに導入されて、前記第一集塵室２Ａに配された前記濾布３の表面にプレコート層（特許請求の範囲における「薬剤層」に相当。）を形成する。

なお、本実施形態においては、本発明装置１の稼動中、前記制御部１０は、常に前記差圧計ＰＭの値を監視しているが（Ｓ１）、同時に、前記排出管５を通過する清浄ガス中の酸性ガス濃度を計測する濃度計ＣＭの値も監視している（Ｓ１７）。前記濃度計ＣＭの値が一定値以上になるということは、前記濾布３の表面に形成したプレコート層の中和能が低下したことを意味する。

噴射された薬剤は、燃焼ガスに同伴された状態にて前記第一集塵室２Ａ内に導入され、前記濾布３の表面（正確には、前記濾布３の表面に堆積した粉塵層の表面）に薬剤と燃焼ガス中に含まれる煤塵の混合物からなる粉塵層を形成する。薬剤の噴射後一定時間経過の後（Ｓ２０）、前記第二集塵室２Ｂ内に配された前記濾布３に対しても同様の工程（Ｓ２１〜Ｓ２３）を実行し、薬剤と燃焼ガス中に含まれる煤塵の混合物からなる粉塵層を形成する。その後、前記制御部１０は、酸性ガス濃度が一定値以下となったか否かを再度確認し（Ｓ１７）、酸性ガス濃度が一定値以下となっていない場合は、前記Ｓ１８〜Ｓ２３を繰り返し行う。即ち、この工程は、酸性ガスに対する中和能が回復するまで繰り返される。

本発明方法を実行する本発明装置１は前記構成を有し、前記払い落とし工程と並行して、前記第一薬剤噴射工程を実行しているから、燃焼ガス中に含まれる酸性ガスが薬剤によって中和される。これによって、前記払い落とし工程の実行中、前記濾布３が保護される。

又、前記濾布３の表面にプレコート層を形成するにあたり、前記導入量調整工程を実行することによって、前記第二集塵室２Ｂに導入される燃焼ガスの導入量を減じた分、前記第一導入管４Ａを通じて前記第一集塵室２Ａに導入される燃焼ガスの導入量を増加させているから、前記薬剤噴射ノズル７１から噴射される薬剤は、優先的に前記第一集塵室２Ａに導入されて、前記第一集塵室２Ａに配された前記濾布３の表面にプレコート層を効率良く形成する。

更に、一の集塵室（例えば、前記第一集塵室２Ａ）に配された前記濾布３を再生させるにあたり、一の集塵室２Ａ内には燃焼ガスが継続して導入されているから、一の集塵室２Ａに配された前記濾布３の再生中、他の集塵室（例えば、前記第二の集塵室２Ｂ）への燃焼ガス導入量は増加しない。これより、他の集塵室２Ｂにおいて過度の負荷が掛かったり、燃焼ガスの処理が不十分となったりすることが好適に防止される。

本発明は、例えば、焼却処理設備などから排出される燃焼ガスを濾過捕集する装置として好適に利用することができる。

Claims (5)

1. ガス発生源から煙道を通じて集塵室内に輸送されたガス中に含まれる煤塵を、前記集塵室内に配された濾布にて濾過捕集するバグフィルタ装置における濾布の再生方法であって、
   前記バグフィルタ装置として、
   複数の集塵室と、
   各集塵室に配された濾布と、
   各集塵室にガスを導く、前記煙道の下流側が複数に分岐されて形成された複数の導入管と、
   前記濾布に捕集された煤塵を払い落とすための払い落とし手段と、
   前記煙道内に配された、前記導入管のいずれかに向けて薬剤を噴射することができるように薬剤噴射方向が変更可能となされた薬剤噴射ノズルと、
   前記導入管へのガス導入量を調整する弁体と、
   を具備してなるものを用い、
   ガスの処理中、各集塵室内に配された濾布を再生する必要が生じた場合に、
   前記払い落とし手段にて、複数の集塵室のうちの一の集塵室内に配された濾布に捕集された煤塵を払い落とす払い落とし工程と、
   前記薬剤噴射ノズルの薬剤噴射方向を一の集塵室内にガスを導入する一の導入管に向けた上で、前記薬剤噴射ノズルから薬剤を噴射する第一薬剤噴射工程と、
   を並行して実行することによって、一の集塵室内に配された濾布を薬剤にて保護しながら、一の集塵室内に配された濾布に捕集された煤塵を払い落とした後、
   前記弁体にて、前記一の集塵室にガスを導入する一の導入管以外の他の導入管へのガス導入量を減じる導入量調整工程と、
   前記薬剤噴射ノズルから薬剤を噴射する第二薬剤噴射工程と、
   を実行することによって、一の集塵室内に配された濾布に対して薬剤層を形成し、もって、一の集塵室内に配された濾布を再生し、
   その後、順次、一の集塵室以外の他の集塵室から別の一の集塵室を選択し、
   選択された別の一の集塵室に対し、
   前記払い落とし工程と、前記第一薬剤噴射工程と、
   を並行して実行した後、
   前記導入量調整工程と、前記第二薬剤噴射工程と、
   を実行することによって、
   各集塵室内に配された濾布を順次再生することを特徴とする濾布の再生方法。
2. 請求項１に記載の濾布の再生方法において、
   前記第一薬剤噴射工程では、前記第二薬剤噴射工程において単位時間当たりに噴射される薬剤噴射量の５〜２０％の薬剤噴射量にて薬剤を噴射する濾布の再生方法。
3. 請求項１又は２に記載の濾布の再生方法において、
   前記導入量調整工程では、他の導入管の各々へ対するガス導入量を、一の導入管へのガス導入量に対し、１〜３割減じる濾布の再生方法。
4. ガス発生源から煙道を通じて集塵室内に輸送されたガス中に含まれる煤塵を、前記集塵室内に配された濾布にて濾過捕集するバグフィルタ装置であって、
   複数の集塵室と、
   各集塵室に配された濾布と、
   各集塵室の下部側から各集塵室内に向かってガスを導入する、前記煙道の下流側が複数に分岐されて形成された複数の導入管と、
   前記濾布を通過したガスを各集塵室の上部側から排出する排出管と、
   前記濾布に捕集された煤塵を払い落とすための払い落とし手段と、
   前記煙道内に配された、前記導入管のいずれかに向けて薬剤を噴射することができるように薬剤噴射方向が変更可能となされた薬剤噴射ノズルと、
   前記導入管へのガス導入量を調整する弁体と、
   前記煙道と前記排出管との間の差圧を計測する差圧計と、
   制御部と、
   を具備してなり、
   前記制御部は、ガスの処理中、前記差圧計によって計測された差圧が一定値以上となった旨の信号を受けた際に、前記払い落とし手段に対し、一の集塵室に配された濾布に捕集された煤塵を払い落とす旨の命令を与えると共に、前記薬剤噴射ノズルに対し、薬剤噴射方向を一の集塵室内にガスを導入する一の導入管に向けた上で、前記薬剤噴射ノズルから薬剤を噴射する旨の命令を与え、
   前記払い落とし工程開始後所定時間経過の後、前記弁体に対し、前記一の集塵室にガスを導入する一の導入管以外の他の導入管へのガス導入量を減じる旨の命令を与えると共に、前記薬剤噴射ノズルに対し、薬剤を噴射する旨の命令を与えることによって、前記一の集塵室に配された濾布を再生した後、
   引き続き、一の集塵室以外の他の集塵室に配された濾布を同様の手順にて順次再生する制御を行うものであることを特徴とするバグフィルタ装置。
5. 請求項４に記載のバグフィルタ装置において、
   前記導入管が、前記煙道の下流側が二股に分岐されて形成されてなり、
   前記弁体が、前記煙道の分岐点において備えられたダンパであるバグフィルタ装置。

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