JP2014188733A - 加飾プレートの製造方法および加飾プレート - Google Patents

Abstract

【課題】プレート部材の主表面に形成された凹部または凸部の少なくとも一方と、この凹部または凸部を覆うように形成された反射膜とを備えた加飾プレートにおいて、意匠性の向上が図られた、加飾プレートの製造方法および加飾プレートを提供する。
【解決手段】加飾プレートの製造方法は、厚さ方向に配列する第１主表面１７および第２主表面１６を有し、第１主表面１７に凹部５１または凸部５０の少なくとも一方が一体的に形成された透明基板１４を形成する工程と、凹部５１または凸部５０の少なくとも一方が形成された第１主表面１７上に光干渉膜である反射層３１を形成する工程と、反射層３１上に遮光層３２を形成する工程とを備え、反射層３１は、入射した光の一部を反射する。
【選択図】図５

Description

本発明は、加飾プレートの製造方法および加飾プレートに関する。

従来から加飾ガラスについて各種提案されている。たとえば、特開２０１１−２５１５３８号公報（特許文献１）に記載された装飾体は、光を透過する透明層と、透明層下に設けられた画素層と、画素層下に設けられた平凸レンズ層と、平凸レンズ層下に設けられた反射層とを含む。画素層は、複数の画素を含む。平凸レンズ層は、アレイ状に配列する複数の平凸レンズを含む。平凸レンズの平面側から目視した際に、画素越しに目視できる球面状の平凸レンズが反射層で反射された光を集光することによって、画素の集合体からなる画像が現出する。

特開２０１１−２５１５３８号公報 特開２００７−３８５５１号公報

特開２０１１−２５１５３８号公報（特許文献１）に記載された装飾体は、外光を用いて、観察者に画像を視認させる必要がある。装飾体に設けられた反射層は入射した外光を全反射すると共に、平凸レンズは、反射した光を所定位置に集光する必要がある。

その一方で、複数の画素を用いて画像を表示することを目的とせず、ガラス部材の主表面に形成した凹凸部と、この凹凸部を覆う反射層とで装飾性の向上を図る場合には、外光からの光をそのまま反射したのでは、加飾ガラスの意匠性が悪い。

本発明は、上記のような課題に鑑みてなされたものであって、その目的は、プレート部材の主表面に形成された凹部または凸部の少なくとも一方と、この凹部または凸部を覆うように形成された反射膜とを備えた加飾プレートにおいて、意匠性の向上が図られた、加飾プレートの製造方法および加飾プレートを提供することである。

本発明に係る加飾プレートの製造方法は、厚さ方向に配列する第１主表面および第２主表面を有し、上記第１主表面に凹部または凸部の少なくとも一方が一体的に形成された透明基板を形成する工程と、上記凹部または上記凸部の少なくとも一方が形成された上記第１主表面上に光干渉膜である反射層を形成する工程と、上記反射層上に遮光層を形成する工程とを備え、上記反射層は、入射した光の一部を反射する。

好ましくは、上記透明基板は、ダイレクト成形によって形成されたガラス部材であり、上記凹部および上記凸部は、上記ダイレクト成形によって形成されている。

好ましくは、上記ガラス部材は、リヒートプレス成形によって形成されたガラス部材であり、上記凹部または上記凸部は、上記リヒートプレス成形によって形成されている。

好ましくは、上記透明基板は、透明樹脂部材である。
好ましくは、上記透明樹脂部材上に形成された上記反射層に装飾を施す工程をさらに備える。

好ましくは、上記反射層を真空薄膜製法で形成することで、上記反射層に装飾を施す。
好ましくは、上記真空薄膜製法は、ＲＡＳ（Radical Assisted Sputtering）法またはイオンビームアシスト蒸着（Ion-beam. Assisted Deposition：ＩＡＤ）法である。

好ましくは、上記反射層に装飾を施す工程は、上記透明樹脂および上記反射層に加熱処理を施す工程である。

好ましくは、上記加熱処理を施す工程は、上記遮光層を形成した後に上記遮光層を加熱乾燥する工程である。

好ましくは、上記第１主表面に上記凸部が形成され、上記第１主表面からの上記凸部の高さは、４０μｍより小さい。

本発明に係る加飾ガラスは、厚さ方向に配列する第１主表面および第２主表面を含み、上記第１主表面に凹部または凸部の少なくとも一方が一体的に形成された透明基板と、上記第１主表面を覆うように形成された反射層と、上記反射層上に形成された遮光層と、を備え、上記反射層は、光干渉膜であり、入射した光の一部を反射する。

好ましくは、上記透明基板は、透明樹脂によって形成されている。
好ましくは、上記反射層には、シワまたは割れが形成されている。

好ましくは、上記加飾プレートは、ディスプレイ装置の表示領域を覆うように設けられるカバープレートである。

本発明に係る、加飾プレートの製造方法および加飾プレートによれば、意匠性の向上が図られた加飾ガラスを得ることができる。

実施の形態１におけるディスプレイ装置を示す分解斜視図である。 図１に示すＩＩ−ＩＩ線における断面図である。 実施の形態１におけるディスプレイ装置を示す斜視図である。 図３に示すＩＩＩ−ＩＩＩ線における断面図である。 図４中のＸで囲まれた領域の部分拡大断面図である。 実施の形態１における加飾カバープレートの製造工程の第１工程を示す断面図である。 実施の形態１におけるガラス基板を示す断面図である。 実施の形態１におけるガラス基板の凸部の領域の部分拡大断面図である。 実施の形態１における加飾カバープレートの製造工程の第２工程を示す断面図である。 実施の形態１における加飾カバープレートの製造工程の第３工程を示す断面図である。 実施の形態１における加飾カバープレートの製造工程の第４工程を示す断面図である。 実施の形態２における加飾カバープレートおよびディスプレイ装置を示す断面図である。 実施例１に係る加飾カバープレートの加飾層を示す断面図である。 図１３に示すように光を入射させたときの光の反射率（％）を示す図である。 実施の形態３における加飾カバープレートの形態を示す部分拡大断面図である。 実施の形態３における加飾カバープレートの凸部および反射層を模式的に示す図である。 実施の形態３における加飾カバープレートの変形例における、主表面側から観察したときの平面図である。 図１７におけるＸＶＩＩ−ＸＶＩＩＩ線における断面図である。 凸部の表面にシワが形成された加飾カバープレートの製造方法を示す断面図である。 凸部の表面に現れたシワを模式的に示す平面図である。

本発明に基づいた実施の形態および各実施例について、以下、図面を参照しながら説明する。実施の形態および各実施例の説明において、個数、量などに言及する場合、特に記載がある場合を除き、本発明の範囲は必ずしもその個数、量などに限定されない。実施の形態および各実施例の説明において、同一の部品、相当部品に対しては、同一の参照番号を付し、重複する説明は繰り返さない場合がある。

本実施の形態に係る加飾ガラス、当該加飾プレートを備えた画像表示装置および加飾プレートの製造方法について説明する。ディスプレイ装置１００は、上方に向けて開口する開口部が形成されたケース１と、ケース１内に収容された表示ユニット２と、表示ユニット２の上面に配置された接着フィルム３と、接着フィルム３上に配置された加飾カバープレート４とを備える。

図２は、図１に示すＩＩ−ＩＩ線における断面図である。この図２に示すように、ケース１は、有底状に形成されている。表示ユニット２は、液晶表示装置１０と、液晶表示装置１０上に設けられたタッチパネル１１とを含む。液晶表示装置１０は、画像が表示される画像表示領域１２と、画像が表示されない非表示領域１３とを含む。

非表示領域１３には、たとえば、使用者によって操作されるボタン２０、図示しない駆動回路およびスピーカなどが設けられている。駆動回路には、配線基板、プリント基板および電子機器などが含まれる。

タッチパネル１１は、少なくとも画像表示領域１２を覆うように設けられている。タッチパネル１１は、画像表示領域１２に表示された画像を観察者が観察可能なように形成されている。タッチパネル１１は、透明基板と、この透明基板の上面上に形成された透明電極と、この透明電極を覆うように形成された透明樹脂などを含む。タッチパネル１１は、使用者が指などで触った位置を検知可能なように形成されている。タッチパネル１１には、静電容量方式、抵抗膜方式などの各種の方式がある。タッチパネル１１は、必ずしも必須の構成ではない。

接着フィルム３は、粘着性のシートであり、加飾カバープレート４を接着フィルム３の上面上に接着させる。接着フィルム３には、ボタン２０の形状に対応した開口部２１が形成されている。スピーカーの形状に対応した開口部を形成してもよい。

加飾カバープレート４は、板状に形成された透明基板としてのガラス基板１４を含み、その厚さ方向に配列する主表面１６と主表面１７とを有する。主表面１６は、ディスプレイ装置１００の外表面側の面である。主表面１７は、ディスプレイ装置１００の内側に位置する面である。ガラス基板１４の主表面１７側には、加飾層１５が形成されている。

加飾層１５は、非表示領域１３の上方に形成されている。加飾層１５には、画像表示領域１２およびタッチパネル１１が外部から観察可能なように開口部１８が形成されている。加飾層１５の具体的な構成については後述する。

図３は、ディスプレイ装置１００を示す斜視図であり、図４は、図３に示すＩＩＩ−ＩＩＩ線における断面図である。

図３および図４において、ボタン２０は、接着フィルム３に形成された開口部２１と、加飾カバープレート４に形成された開口部２２とを通り外部に露出する。

ディスプレイ装置１００を外部から観察すると、観察者は、加飾層１５が形成された加飾領域Ｒ１３では、ガラス基板１４を通して加飾層１５を観察する。これにより、非表示領域１３に設けられた駆動回路などが観察者によって見られることが抑制されている。加飾層１５が形成される領域および形状は、非表示領域１３の形状に合わせて適宜変更される。

観察者がディスプレイ装置１００を観察すると、観察者は、加飾層１５が形成されていない観察領域Ｒ１２において、ガラス基板１４、開口部１８および接着フィルム３を通して、タッチパネル１１および画像表示領域１２を観察する。

図５は、図４中のＸで囲まれた領域の部分拡大断面図であり、加飾層１５およびその周囲に位置する部材の構成を示す断面図である。この図５に示すように、加飾層１５は、ガラス基板１４の主表面１７に形成されている。

加飾層１５は、主表面１７に間隔をあけて、ガラス基板１４に対して一体的に形成された複数の凸部５０と、この凸部５０を覆うように形成された反射層３１と、この反射層３１を覆うように形成された遮光層３２とを含む。

遮光層３２としては、たとえば、黒色樹脂などを採用することができる。遮光層３２の膜厚は、数μｍ〜数十μｍ程度であり、たとえば、４０μｍ以下である。換言すれば、加飾層１５の主表面１７からの高さＨ２は、４０μｍ以下とされている。

本実施の形態では、隣接する凸部５０同士の間において凹部が形成され、全体として、加飾層１５には、凹凸形状が形成される。

凸部５０の高さＨ１は、たとえば、４０μｍより低い。好ましくは、凸部５０の高さＨ１は、２０μｍ未満である。さらに、好ましくは、凸部５０の高さＨ１は、１μｍ以上１０μｍ以下である。

反射層３１は、複数の光学薄膜層３３，３４を積層させることで形成されている。光学薄膜層３３，３４は、互いに光学的効果が異なる金属酸化物、シリコン酸化膜などから形成されている。

たとえば、光学薄膜層３３，３４をＲＡＳ（Radical Assisted Sputtering）法で形成する場合には、ＳｉＯ_２，Ｎｂ_２Ｏ_５などを採用することができる。光学薄膜層３３，３４をイオンビームアシスト蒸着（Ion-beam Assisted Deposition：ＩＡＤ）法で形成する場合には、ＳｉＯ_２，Ｎｂ_２Ｏ_５、ＴｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Substance Ｈ４（メルク社製：ＬａＴｉＯ_ｘ）などを採用することができる。このように、遮光層３２の上面上に、光の屈折率の異なる屈折率材料を積層することで、反射層３１は、光干渉膜として機能する。

反射層３１が設けられていないと、遮光層３２の屈折率と樹脂部３０の屈折率とが近いため、観察者は、凸部５０によって形成された凹凸を視認し難い。このため、反射層３１が形成されていない場合には、加飾層１５の意匠効果が低くなる。

本実施の形態に係る加飾層１５においては、凸部５０を覆う反射層３１が形成されている。この構成により、反射層３１からの反射光によって、複数の凸部５０によって形成された凹凸形状を明瞭に観察者は観察することができる。

このように、樹脂部３０上に光干渉膜である反射層３１を形成することで、観察者は、主表面１７に形成された凹凸形状を良好に視認することができる。

たとえば、反射層３１は、特定の波長域の光の反射率が高く、反射層３１を観察する方向の角度依存性を有する。

このため、反射層３１を見る方向によっては、例えば反射層３１が青色に見え、反射層３１を見る方向を変えると、反射層３１が紫色に見えたりする。

本実施の形態では、反射層３１は光学薄膜層３３，３４の２層で構成されているが、これに限るものではない。反射層３１は、１層でもいいし、３層以上でもよい。反射させたい色調に応じて、層数、膜厚、膜材料を適宜選択すればよい。反射色は無色（遮光層３２のため黒色）であっても凹凸形状を明瞭に観察することができるが、反射光に色がついているほうが意匠効果は高い。

図５において、接着フィルム３は、加飾層１５を覆うと共に、開口部１８内に入り込み、開口部１８内に位置する主表面１７にも接触しており、加飾カバープレート４と表示ユニット２とを接着している。接着フィルム３としては、加飾カバープレート４と表示ユニット２とを接着する部材であれば、接着剤でもよく、両面テープであってもよい。

図６から図１１を用いて加飾カバープレート４の製造方法について説明する。図６に示すように、まず、成形用金型６０を準備する。下型６１の上面には平坦面状の成形面６３が形成されている。上型６２の下面には凹形状のキャビティー６６が形成されている。次に、成形面６３に、溶融ガラス７０（カバー本体素材）を成形面６３上に供給する。

上型６２が下型６１に向けて下降し、溶融ガラス７０がキャビティー６６内に入り込む。その後、溶融ガラス７０が冷却されることで、ガラス基板１４が形成される。このように、ガラス基板１４をダイレクトプレス法で形成してもよい。ダイレクトプレス法に限定されず、リヒートプレス法でガラス基板１４を形成するようにしてもよい。リヒートプレス法を使用する場合、ガラス板材から所定の形状を有するガラスゴブを形成し、そのガラスゴブを金型上で再溶融する。その後、再溶融したガラスゴブをプレス加工することにより、図７に示す、ガラス基板１４を得ることができる。ガラス基板１４には、上述したダイレクトプレス法およびリヒートプレス法で製造されたガラスに限定されず、フロートガラス、研磨ガラスであってもよい。

図７および図８に示すように、本実施の形態では、ガラス基板１４の主表面１７に複数の凸部５０が一体的に形成される。

次に、図９に示すように、凸部５０を覆うように、主表面１７上に光学薄膜層３３および光学薄膜層３４を形成する。光学薄膜層３３，３４は、たとえば、真空蒸着法、スパッタリング法などの真空薄膜製法を採用する。

次に、図１０に示すように、光学薄膜層３４上に遮光層３２を印刷する。次に、印刷された遮光層３２を乾燥させるために、遮光層３２が形成されたガラス基板１４に加熱処理を施す。

遮光層３２から露出する光学薄膜層３３，３４を除去することで、加飾カバープレート４を作製することができる。画像表示領域１２を覆う領域から光学薄膜層３３，３４を除去する方法としては、ガラス基板１４の遮光層３２を有さない領域（画像表示領域１２を覆う領域）に予めマスク処理を行った後に光学薄膜層３３，３４を形成し、マスクをガラス基板１４から剥離してもよい。

作製された加飾カバープレート４と、表示ユニット２などを組み付けて（図１および図２中のＡＲ１方向）ディスプレイ装置１００を作製する際には、図２に示すように、表示ユニット２と加飾カバープレート４とを接着フィルム３で接着させる。

この際、図５において、加飾層１５の高さＨ２が４０μｍ以下であるので、開口部１８の内周面と主表面１７とによって形成される角部に空気（気泡）が残留することを抑制することができる。

凸部５０の高さＨ１も４０μｍよりも小さく、このような高さに凸部５０を設定することで、凸部５０の間に気泡が入り込むことを抑制することができると共に、加飾層１５の高さＨ２を４０μｍ以下にすることができる。

凸部５０の高さは、好ましくは、高さＨ１は、２０μｍ未満である。このような高さに設定することで、遮光層３２の膜厚を確保しつつ、加飾層１５の高さＨ２が４０μｍ以下とすることができる。

凸部５０の高さＨ１は、１μｍ以上１０μｍ以下であり、１μｍよりも小さくなると、観察者が凸部５０によって形成された凹凸形状を視認し難くなる。凸部５０の高さを１０μｍ以下とすることで、遮光層３２の膜厚を確保しつつ、加飾層１５を薄くすることができる。これに伴い、加飾カバープレート４も薄くすることができる。

（実施の形態２）
図１２を用いて、本実施の形態２に係る加飾カバープレート４およびディスプレイ装置について説明する。

図１２は、実施の形態１に係る加飾カバーガラス４の変形例を示す断面図である。この図２４に示す例においては、加飾層１５は、主表面１７に間隔をあけて、ガラス基板１４に対して一体的に形成された複数の凹部５１と、この凹部５１の内表面を覆うように形成された反射層３１と、反射層３１を覆うように形成された遮光層３２とを含む。

この図１２に示す例においても、加飾層１５は、非表示領域１３の上方に形成されている。このように、図１２に示す例においては、ガラス基板１４の主表面１７に複数の凹部５１を形成することで、主表面１７に凹凸形状を形成している。凹部５１は、ガラス基板１４をダイレクトプレスで形成するときに、同時に主表面１７に形成される。

ダイレクトプレス法でガラス基板１４を成形する場合に限られず、リヒートプレス法でガラス基板１４および凹部５１を形成するようにしてもよい。

図１３および図１５を用いて、実施例１に係る加飾カバープレート４の反射特性について説明する。

図１３は、実施例１に係る加飾カバープレート４の加飾層１５を示す断面図である。この図１３に示す例においては、光学薄膜層３３はSubstance Ｈ４であり、この光学薄膜層３３の屈折率（ｎ）は、５００ｎｍの光において、１．８５である。この光学薄膜層３３の膜厚は、１０７．２７（ｎｍ）である。

光学薄膜層３４は、ＴｉＯ２である。光学薄膜層３４の屈折率（ｎ）は、５００ｎｍの光において、２．２である。この光学薄膜層３３の膜厚は、２７．１１（ｎｍ）である。

図１４は、上記図１３に示すように光を入射させたときの光の反射率（％）を示すグラフである。このグラフに示すように、波長によって光の反射率が変化することが分かる。反射光の色度は、加飾カバープレート４に対して垂直方向から観察した場合、白色光源に対して、Ｘ＝０．２１４およびＹ＝０．１３５である。

（実施の形態３）
図１５に、実施の形態３における加飾カバープレート４を示す。上記図５で示した実施の形態１における加飾カバープレート４と基本的構成は同じである。相違点は、実施の形態１における加飾カバープレート４は、透明基板としてガラス基板１４が用いられていたが、本実施の形態では、透明基板として透明樹脂基板１４Ａが用いられている。その他の構成は、実施の形態１における加飾カバープレート４と同じである。

透明樹脂基板１４Ａの材料としては、たとえば、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂およびエポキシ系樹脂などを採用することができる。

この透明樹脂基板１４Ａを用いた加飾カバープレート４においても、上記実施の形態１における加飾カバープレート４と同様の作用効果を得ることができる。さらに、透明樹脂基板１４Ａを用いた加飾カバープレート４においては、以下の作用効果を得ることができる。

図１６は、透明樹脂基板１４Ａの主表面１７側から観察したときの平面図である。図１６において、反射層３１のうち、凸部５０上に位置する部分には、割れ３５が形成されている。

このように、反射層３１に割れ３５が形成されることで、樹脂部３０によって形成された凹凸形状の視認性をさらに向上させることができる。凹凸形状にマット状の装飾を施すことができ、意匠効果も高まる。

［変形例］
図１７から図１９を用いて、実施の形態３における加飾カバープレート４の変形例について説明する。図１７は、変形例に係る加飾カバープレート４の一部を模式的に示した図である。図１８は、図１８におけるＸＶＩＩＩ−ＸＶＩＩＩ線における断面図である。図１７は、樹脂基板１４Ａの主表面１６側から観察したときの平面図である。

これら図１７および図１８に示すように、凸部５０の表面には、シワ３６が形成されており、光学薄膜層３３，３４は、シワ３６が形成された凸部５０の表面に沿って形成されている。

このように、シワ３６が形成されることで、凸部５０によって形成される凹凸形状にシボ調の装飾、マット状の装飾を施すことができる。これにより、加飾カバープレート４の意匠性を高めることができる。

このように、凸部５０の表面にシワ３６が形成された加飾カバープレート４の製造方法について、図１９を用いて説明する。

図１９に示すように、光学薄膜層３３，３４を凸部５０の上面に形成する工程において、光学薄膜層３３，３４を、ＲＡＳ（Radical Assisted Sputtering）法またはイオンビームアシスト蒸着（Ion-beam. Assisted Deposition：ＩＡＤ）法で形成する。

上記２つの真空薄膜法によれば、応力の高い光学薄膜層３３，３４を形成することができる。これにより、凸部５０が光学薄膜層３３，３４からの応力によって変形して、凸部５０の表面にシワ３６が形成される。

図２０は、凸部５０の表面に現れたシワを模式的に示す平面図である。図２０に示すように、凸部５０の表面にシワ３６が形成される。シワ３６は、反射層３１のうち、凸部５０上に位置する部分に形成され、反射層３１のうち、主表面１７上に位置する部分には殆ど形成されない。

このように、凸部５０の上面に光学薄膜層３３，３４を形成した後、遮光層３２を印刷し、その後、遮光層３２から露出する光学薄膜層３３，３４を除去することで、変形例に係る加飾カバープレート４を形成することができる。

上記実施の形態１から３においては、加飾層１５に複数の凸部５０、凹部５１などを形成することで、主表面１７に凹凸形状を形成しているが、凸部、凹部などで文字、イラストを形成してもよい。

上記実施の形態１から３においては、加飾カバープレート４をディスプレイ装置１００のカバーガラスに適用した例について説明したが、加飾カバープレート４の適用例としては、たとえば、デジタルカメラ、携帯電話の通信機器の筐体の加飾プレートにも適用することができる。

以上、本発明に基づいた各実施の形態および各実施例について説明したが、今回開示された各実施の形態および各実施例はすべての点で例示であって制限的なものではない。本発明の技術的範囲は特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。

本発明は、加飾プレートの製造方法および加飾プレートに適用することができる。

１ ケース、２ 表示ユニット、３ 接着フィルム、４ 加飾カバープレート、１０ 液晶表示装置、１１ タッチパネル、１２ 画像表示領域、１３ 非表示領域、１４ ガラス基板、１４Ａ 透明樹脂基板、１５ 加飾層、１６，１７ 主表面、１８，２１，２２ 開口部、２０ ボタン、３０ 樹脂部、３１ 反射層、３２ 遮光層、３３，３４ 光学薄膜層、３５ 割れ、３６ シワ、５０ 凸部、５１ 凹部、６０ 成形用金型、６１ 下型、６２ 上型、６３ 成形面、６６ キャビティー、７０ 溶融ガラス。

Claims (14)

1. 厚さ方向に配列する第１主表面および第２主表面を有し、前記第１主表面に凹部または凸部の少なくとも一方が一体的に形成された透明基板を形成する工程と、
   前記凹部または前記凸部の少なくとも一方が形成された前記第１主表面上に光干渉膜である反射層を形成する工程と、
   前記反射層上に遮光層を形成する工程とを備え、
   前記反射層は、入射した光の一部を反射する、加飾プレートの製造方法。
2. 前記透明基板は、ダイレクト成形によって形成されたガラス部材であり、前記凹部および前記凸部は、前記ダイレクト成形によって形成された、請求項１に記載の加飾プレートの製造方法。
3. 前記ガラス部材は、リヒートプレス成形によって形成されたガラス部材であり、前記凹部または前記凸部は、前記リヒートプレス成形によって形成された、請求項１に記載の加飾プレートの製造方法。
4. 前記透明基板は、透明樹脂部材である、請求項１に記載の加飾プレートの製造方法。
5. 前記透明樹脂部材上に形成された前記反射層に装飾を施す工程をさらに備えた、請求項４に記載の加飾プレートの製造方法。
6. 前記反射層を真空薄膜製法で形成することで、前記反射層に装飾を施す、請求項５に記載の加飾プレートの製造方法。
7. 前記真空薄膜製法は、ＲＡＳ（Radical Assisted Sputtering）法またはイオンビームアシスト蒸着（Ｉon-beam. Assisted Deposition：ＩＡＤ）法である、請求項６に記載の加飾プレートの製造方法。
8. 前記反射層に装飾を施す工程は、前記透明樹脂および前記反射層に加熱処理を施す工程である、請求項５に記載の加飾プレートの製造方法。
9. 前記加熱処理を施す工程は、前記遮光層を形成した後に前記遮光層を加熱乾燥する工程である、請求項８に記載の加飾プレートの製造方法。
10. 前記第１主表面に前記凸部が形成され、前記第１主表面からの前記凸部の高さは、４０μｍより小さい、請求項１から請求項９のいずれかに記載の加飾プレートの製造方法。
11. 厚さ方向に配列する第１主表面および第２主表面を含み、前記第１主表面に凹部または凸部の少なくとも一方が一体的に形成された透明基板と、
    前記第１主表面を覆うように形成された反射層と、
    前記反射層上に形成された遮光層と、
    を備え、
    前記反射層は、光干渉膜であり、入射した光の一部を反射する、加飾プレート。
12. 前記透明基板は、透明樹脂によって形成された、請求項１１に記載の加飾プレート。
13. 前記反射層には、シワまたは割れが形成された、請求項１１または請求項１２に記載の加飾プレート。
14. 前記加飾プレートは、ディスプレイ装置の表示領域を覆うように設けられるカバープレートである、請求項１１から請求項１３のいずれかに記載の加飾プレート。

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