JP2014153483A - Display device and electronic apparatus - Google Patents

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寛 佐野
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a display device and an electronic apparatus, capable of suppressing the occurrence of defective sealing.SOLUTION: The display device comprises: a TFT substrate 161; a counter substrate 162 arranged opposite to the TFT substrate 161; a liquid crystal 164 interposed between the TFT substrate 161 and the counter substrate 162; and a light-blocking layer 200 formed on a main surface of the counter substrate 162. The TFT substrate 161 and the counter substrate 162 each include through holes H penetrating therethrough. The light-blocking layer 200 is a region having a light-blocking material on the main surface, and surrounds a light-blocking material non-forming region containing no light-blocking material, on an inner wall of the light-blocking material. The inner wall of the light-blocking material is located outside the holes of the counter substrate 162.

Description

本技術は、液晶を備える表示装置に関する。また、本技術は、液晶を備える表示装置を備えた電子機器に関する。   The present technology relates to a display device including a liquid crystal. The present technology also relates to an electronic device including a display device including a liquid crystal.

近年、時計、車両のメータ等の電子機器に備えられる表示装置においては、高級感の向上等の観点から、駆動手段により回転軸を介して回転される指針を有するアナログ表示手段と、液晶パネルを有する液晶表示手段とを組み合わせた構成が採用されている。このような表示装置では、貫通孔を液晶パネルに形成し、その貫通孔に回転軸を貫通させる。   In recent years, in display devices provided in electronic devices such as watches and vehicle meters, an analog display means having a pointer rotated by a drive means via a rotating shaft and a liquid crystal panel are provided from the viewpoint of improving a sense of quality. A combination of liquid crystal display means is employed. In such a display device, a through hole is formed in the liquid crystal panel, and the rotation shaft is passed through the through hole.

特許文献1には、第1の基板と、前記第1の基板に対向して配置した第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板との間に液晶を囲んで配置した第1のシール部材と、前記第1のシール部材に囲まれた領域内に配置された第2のシール部材と、を含み、前記第1の基板、前記第2の基板および第2のシール部材を貫通する貫通孔が設けられた液晶パネルが記載されている。特許文献1に記載の技術によれば、製造時或いは使用時における破損を抑制することができる。   In Patent Document 1, a first substrate, a second substrate disposed to face the first substrate, and a liquid crystal are disposed between the first substrate and the second substrate. A first seal member; and a second seal member disposed in a region surrounded by the first seal member, wherein the first substrate, the second substrate, and the second seal member The liquid crystal panel provided with the through-hole which penetrates is described. According to the technique described in Patent Document 1, it is possible to suppress damage during manufacture or use.

特開2010−139657号公報JP 2010-139657 A

特許文献1には、貫通孔をドリル、レーザ等により形成することが記載されている。しかしながら、貫通孔をドリルで形成する場合は、まず径の小さいドリルで所望の貫通孔の径より小さい孔を開け、その後径の大きいドリルで小さい孔を所望の径の貫通孔にまで大きくする必要があるので、工程が多く、製造コストが上昇し、製造時間が長くなる。また、貫通孔をドリルで形成する場合は、微小なパーティクルが発生するので、製造品質に影響を及ぼす可能性がある。   Patent Document 1 describes that a through hole is formed by a drill, a laser, or the like. However, when forming a through hole with a drill, it is necessary to first drill a hole smaller than the diameter of the desired through hole with a small diameter drill, and then increase the small hole to a through hole with the desired diameter with a large diameter drill. Therefore, there are many processes, the manufacturing cost increases, and the manufacturing time becomes long. Further, when the through hole is formed by a drill, fine particles are generated, which may affect the manufacturing quality.

また、貫通孔をレーザで形成する場合、レーザが照射された近傍が加熱され、液晶を封止するシール部材が熱の影響で劣化し、液晶の封止不良が発生する可能性がある。この点に関して、特許文献1では考慮されていない。   Further, when the through hole is formed by a laser, the vicinity of the laser irradiation is heated, and the sealing member for sealing the liquid crystal is deteriorated by the influence of heat, which may cause a sealing failure of the liquid crystal. In this regard, Patent Document 1 does not consider this point.

本技術はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、封止不良を抑制することができる表示装置及び表示装置を備えた電子機器を提供することにある。   The present technology has been made in view of such a problem, and an object of the present technology is to provide a display device capable of suppressing a sealing failure and an electronic apparatus including the display device.

本開示による表示装置は、第1の基板と、前記第1の基板に対向して配置された第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板との間に挿設された液晶と、前記第2の基板の前記第1の基板側の第1の面に配置された遮光層と、を備え、前記第1の基板及び前記第2の基板を貫通する貫通孔が形成されており、前記遮光層は、前記第1の面において遮光材料がある領域であり、前記遮光材料の内壁で当該遮光材料のない遮光材料非形成領域を取り囲み、該内壁が前記第2の基板の前記貫通孔より外側にある。   A display device according to the present disclosure is inserted between a first substrate, a second substrate disposed to face the first substrate, and the first substrate and the second substrate. A liquid crystal and a light shielding layer disposed on a first surface of the second substrate on the first substrate side, and a through-hole penetrating the first substrate and the second substrate is formed. The light-shielding layer is a region having a light-shielding material on the first surface, and an inner wall of the light-shielding material surrounds a light-shielding material non-formation region without the light-shielding material, and the inner wall is formed on the second substrate. Outside the through hole.

本開示による電子機器は、上記表示装置と、前記表示装置に入力信号を供給する制御装置と、を有する。   An electronic apparatus according to the present disclosure includes the display device and a control device that supplies an input signal to the display device.

本開示による表示装置及び電子機器では、封止不良を抑制することができる。   In the display device and the electronic apparatus according to the present disclosure, sealing failure can be suppressed.

本開示による表示装置及び電子機器によれば、レーザが照射された近傍の加熱を抑制することで、液晶を封止するシール部材が熱の影響で劣化することを抑制することができる。これにより、封止不良を抑制することができる。   According to the display device and the electronic apparatus according to the present disclosure, it is possible to suppress deterioration of the seal member that seals the liquid crystal due to the influence of heat by suppressing heating in the vicinity of the laser irradiation. Thereby, sealing failure can be suppressed.

図1は、本実施形態に係る表示装置のシステム構成例を表すブロック図である。FIG. 1 is a block diagram illustrating a system configuration example of a display device according to the present embodiment. 図2は、本実施形態に係る表示装置の画素を駆動する駆動回路を示す回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram showing a drive circuit for driving the pixels of the display device according to the present embodiment. 図3は、本実施形態に係るメータユニットの概略構成図である。FIG. 3 is a schematic configuration diagram of the meter unit according to the present embodiment. 図4は、図3に示すメータユニットに備えられる液晶表示装置の液晶パネル部分の断面を模式的に示す図である。FIG. 4 is a diagram schematically showing a cross section of a liquid crystal panel portion of the liquid crystal display device provided in the meter unit shown in FIG. 図5は、図4に示す液晶表示装置に備えられる液晶パネルの平面図である。FIG. 5 is a plan view of a liquid crystal panel provided in the liquid crystal display device shown in FIG. 図6は、図5に示す液晶パネルの断面図である。6 is a cross-sectional view of the liquid crystal panel shown in FIG. 図7−1は、液晶パネルの貫通孔の近傍部分の断面図である。FIG. 7A is a cross-sectional view of the vicinity of the through hole of the liquid crystal panel. 図7−2は、図7−1の対向基板の貫通孔の近傍部分の平面図である。FIG. 7-2 is a plan view of the vicinity of the through hole of the counter substrate of FIG. 図7−3は、図7−1の対向基板の貫通孔の近傍部分の下面図である。FIG. 7C is a bottom view of the vicinity of the through hole of the counter substrate in FIG. 図8は、液晶パネルの貫通孔の近傍部分の平面図である。FIG. 8 is a plan view of the vicinity of the through hole of the liquid crystal panel. 図9は、貼り合わせ基板の貫通孔を形成する予定の部分の断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view of a portion where a through hole of the bonded substrate is to be formed. 図10は、貼り合わせ基板の対向基板に対してレーザ光を照射する様子を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view illustrating a state in which a counter substrate of a bonded substrate is irradiated with laser light. 図11は、レーザ発振器と対向基板とブラックマトリクスとの位置関係を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing the positional relationship among the laser oscillator, the counter substrate, and the black matrix.

本開示を実施するための形態(実施形態)につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本開示が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成要素は適宜組み合わせることが可能である。なお、説明は以下の順序で行う。
<1.表示装置の構成>
<1−1.表示装置のシステム構成例>
<2.適用例(電子機器)>
<2−1.電子機器の構成>
上記実施の形態に係る表示装置が電子機器に適用されている例
<2−2.液晶パネルの製造方法>
<3.本開示の構成>
A mode (embodiment) for carrying out the present disclosure will be described in detail with reference to the drawings. The present disclosure is not limited by the contents described in the following embodiments. The constituent elements described below include those that can be easily assumed by those skilled in the art and those that are substantially the same. Furthermore, the constituent elements described below can be appropriately combined. The description will be given in the following order.
<1. Configuration of display device>
<1-1. Example of system configuration of display device>
<2. Application example (electronic equipment)>
<2-1. Configuration of electronic equipment>
Example in which display device according to above-described embodiment is applied to electronic device <2-2. Manufacturing method of liquid crystal panel>
<3. Configuration of the present disclosure>

<1.表示装置の構成>
図1は、本実施形態に係る表示装置のシステム構成例を表すブロック図である。なお、表示装置1が本開示の「表示装置」の一具体例に相当する。
<1. Configuration of display device>
FIG. 1 is a block diagram illustrating a system configuration example of a display device according to the present embodiment. The display device 1 corresponds to a specific example of “display device” of the present disclosure.

表示装置1は、透過型、又は半透過型の液晶表示装置であり、表示パネル2と、ドライバIC3と、を備えている。図示しないフレキシブルプリント基板(FPC:Flexible Printed Circuits)は、ドライバIC3への外部信号又はドライバIC3を駆動する駆動電力を伝送する。表示パネル2は、透光性絶縁基板、例えばガラス基板11と、ガラス基板11の表面にあり、液晶セルを含む画素がマトリクス状(行列状)に多数配置されてなる表示エリア部21と、水平ドライバ(水平駆動回路)23と、垂直ドライバ(垂直駆動回路)22と、を備えている。ガラス基板11は、能動素子(例えば、トランジスタ)を含む多数の画素回路がマトリクス状に配置形成される第1の基板と、この第1の基板と所定の間隙をもって対向して配置される第2の基板とによって構成される。第1の基板と第2の基板との間隙は、第1の基板上の各所に配置形成されるフォトスペーサによって所定の間隙に保持される。そして、これら第1の基板、第2の基板間に液晶が封入される。   The display device 1 is a transmissive or transflective liquid crystal display device, and includes a display panel 2 and a driver IC 3. A flexible printed circuit (FPC) (not shown) transmits an external signal to the driver IC 3 or driving power for driving the driver IC 3. The display panel 2 includes a translucent insulating substrate, for example, a glass substrate 11, a display area portion 21 that is provided on the surface of the glass substrate 11, and includes a large number of pixels including liquid crystal cells arranged in a matrix (matrix), and a horizontal A driver (horizontal drive circuit) 23 and a vertical driver (vertical drive circuit) 22 are provided. The glass substrate 11 includes a first substrate on which a large number of pixel circuits including active elements (for example, transistors) are arranged and formed in a matrix, and a second substrate that is arranged to face the first substrate with a predetermined gap. And the substrate. The gap between the first substrate and the second substrate is held at a predetermined gap by photo spacers arranged and formed at various locations on the first substrate. Then, liquid crystal is sealed between the first substrate and the second substrate.

<1−1.表示装置のシステム構成例>
表示パネル2は、ガラス基板11上に、表示エリア部21と、インターフェース(I/F)及びタイミングジェネレータの機能を備えるドライバIC3と、垂直ドライバ22及び水平ドライバ23と、を備えている。
<1-1. Example of system configuration of display device>
The display panel 2 includes a display area unit 21, a driver IC 3 having functions of an interface (I / F) and a timing generator, a vertical driver 22, and a horizontal driver 23 on a glass substrate 11.

表示エリア部21は、液晶層を含む画素Vpixが、表示上の1画素を構成するユニットがM行×N列に配置されたマトリクス(行列状)構造を有している。なお、この明細書において、行とは、一方向に配列されるN個の画素Vpixを有する画素行をいう。また、列とは、行が配列される方向と直交する方向に配列されるM個の画素Vpixを有する画素列をいう。そして、MとNとの値は、垂直方向の表示解像度と水平方向の表示解像度に応じて定まる。表示エリア部21は、画素VpixのM行N列の配列に対して行ごとに走査線24、24、24・・・24が配線され、列ごとに信号線25、25、25・・・25が配線されている。以後、本実施形態においては、走査線24、24、24・・・24を代表して走査線24のように表記し、信号線25、25、25・・・25を代表して信号線25のように表記することがある。また、本実施形態においては、走査線24、24、24・・・24の任意の3本の走査線を走査線24、24m+1、24m+2(ただし、mはm≦M−2を満たす自然数)のように表記し、信号線25、25、25・・・25の任意の3本の信号線を信号線25、25n+1、25n+2(ただし、nはn≦N−2を満たす自然数)のように表記する。 The display area unit 21 has a matrix (matrix) structure in which pixels Vpix including a liquid crystal layer are arranged in M rows × N columns that constitute one pixel on the display. In this specification, a row refers to a pixel row having N pixels Vpix arranged in one direction. A column refers to a pixel column having M pixels Vpix arranged in a direction orthogonal to the direction in which rows are arranged. The values of M and N are determined according to the vertical display resolution and the horizontal display resolution. In the display area unit 21, scanning lines 24 1 , 24 2 , 24 3 ... 24 M are wired for each row with respect to the arrangement of M rows and N columns of the pixels Vpix, and the signal lines 25 1 , 25 2 for each column. , 25 3 ... 25 N are wired. Hereinafter, in the present embodiment, the scanning lines 24 1 , 24 2 , 24 3 ... 24 M are represented as the scanning lines 24 and the signal lines 25 1 , 25 2 , 25 3. N may be represented as a signal line 25. Further, in the present embodiment, arbitrary three scanning lines of the scanning lines 24 1 , 24 2 , 24 3 ... 24 M are scanned lines 24 m , 24 m + 1 , 24 m + 2 (where m is m ≦ M −2), and any three signal lines 25 1 , 25 2 , 25 3 ... 25 N are signal lines 25 n , 25 n + 1 , 25 n + 2 (where n Is a natural number satisfying n ≦ N−2.

表示装置1には、外部から外部信号である、マスタークロック、水平同期信号及び垂直同期信号が入力され、ドライバIC3に与えられる。ドライバIC3は、外部電源の電圧振幅のマスタークロック、水平同期信号及び垂直同期信号を、液晶の駆動に必要な内部電源の電圧振幅にレベル変換し、マスタークロック、水平同期信号及び垂直同期信号を生成する。ドライバIC3は、生成したマスタークロック、水平同期信号及び垂直同期信号をそれぞれ垂直ドライバ22及び水平ドライバ23に与える。ドライバIC3は、画素Vpix毎の駆動電極に対して各画素共通に与えるコモン電位(対向電極電位)VCOMを生成して表示エリア部21に与える。   A master clock, a horizontal synchronization signal, and a vertical synchronization signal, which are external signals, are input to the display device 1 from the outside, and are supplied to the driver IC 3. The driver IC 3 converts the level of the master clock, horizontal synchronization signal, and vertical synchronization signal of the voltage amplitude of the external power source into the voltage amplitude of the internal power source necessary for driving the liquid crystal, and generates the master clock, horizontal synchronization signal, and vertical synchronization signal. To do. The driver IC 3 supplies the generated master clock, horizontal synchronization signal, and vertical synchronization signal to the vertical driver 22 and the horizontal driver 23, respectively. The driver IC 3 generates a common potential (counter electrode potential) VCOM that is commonly applied to each pixel with respect to the drive electrode for each pixel Vpix, and supplies the common potential to the display area unit 21.

垂直ドライバ22は、垂直クロックパルスに同期してドライバIC3から出力される表示データを1水平期間で順次サンプリングしラッチする。垂直ドライバ22は、ラッチされた1ライン分のデジタルデータを垂直走査パルスとして順に出力し、表示エリア部21の走査線24、24m+1、24m+2・・・に与えることによって画素Vpixを行単位で順次選択する。垂直ドライバ22は、例えば、走査線24、24m+1、24m+2・・・の表示エリア部21の上寄り、垂直走査上方向から、表示エリア部21の下寄り、垂直走査下方向へ順にデジタルデータを出力する。また、垂直ドライバ22は、走査線24、24m+1、24m+2・・・の表示エリア部21の下寄り、垂直走査下方向から、表示エリア部21の上寄り、垂直走査上方向へ順にデジタルデータを出力することもできる。 The vertical driver 22 sequentially samples and latches display data output from the driver IC 3 in one horizontal period in synchronization with the vertical clock pulse. The vertical driver 22 sequentially outputs the latched digital data for one line as a vertical scanning pulse, and applies the pixel Vpix to the scanning lines 24 m , 24 m + 1 , 24 m + 2. Select sequentially with. The vertical driver 22 is, for example, digitally sequentially from the upper side of the display area 21 of the scanning lines 24 m , 24 m + 1 , 24 m + 2. Output data. Further, the vertical driver 22 digitally sequentially scans the scanning lines 24 m , 24 m + 1 , 24 m + 2 ... From the lower side of the display area 21, the lower side of the vertical scanning, the upper side of the display area unit 21, and the upper side of the vertical scanning. Data can also be output.

水平ドライバ23には、例えば6ビットのR(赤)、G(緑)、B(青)のデジタル映像データVsigが与えられる。水平ドライバ23は、垂直ドライバ22による垂直走査によって選択された行の各画素Vpixに対して、画素ごとに、もしくは複数画素ごとに、あるいは全画素一斉に、信号線25を介して表示データを書き込む。   For example, 6-bit R (red), G (green), and B (blue) digital video data Vsig is supplied to the horizontal driver 23. The horizontal driver 23 writes display data via the signal line 25 to each pixel Vpix in the row selected by the vertical scanning by the vertical driver 22 for each pixel, for every plurality of pixels, or for all the pixels at once. .

表示装置1は、液晶素子に同極性の直流電圧が印加され続けることによって液晶の比抵抗(物質固有の抵抗値)等が劣化する可能性がある。表示装置1は、液晶の比抵抗(物質固有の抵抗値)等の劣化を防ぐため、駆動信号のコモン電位を基準として映像信号の極性を所定の周期で反転させる駆動方式が採られる。   In the display device 1, there is a possibility that the specific resistance (resistance value specific to the substance) of the liquid crystal may be deteriorated by continuously applying the DC voltage having the same polarity to the liquid crystal element. The display device 1 employs a driving method in which the polarity of the video signal is inverted at a predetermined cycle with reference to the common potential of the driving signal in order to prevent deterioration of the specific resistance (substance specific to the substance) of the liquid crystal.

この液晶表示パネルの駆動方式として、ライン反転、ドット反転、フレーム反転などの駆動方式が知られている。ライン反転は、1ライン(1画素行)に相当する1H(Hは水平期間)の時間周期で映像信号の極性を反転させる駆動方式である。ドット反転は、互いに隣接する上下左右の画素毎に映像信号の極性を交互に反転させる駆動方式である。フレーム反転は、1画面に相当する1フレーム毎に全画素に書き込む映像信号を一度に同じ極性で反転させる駆動方式である。表示装置1は、上記の各駆動方式のいずれを採用することも可能である。   As driving methods for this liquid crystal display panel, driving methods such as line inversion, dot inversion, and frame inversion are known. Line inversion is a driving method in which the polarity of a video signal is inverted at a time period of 1H (H is a horizontal period) corresponding to one line (one pixel row). The dot inversion is a driving method in which the polarity of the video signal is alternately inverted for each of the upper, lower, left and right adjacent pixels. Frame inversion is a driving method that inverts video signals to be written to all pixels for each frame corresponding to one screen at the same polarity. The display device 1 can employ any of the above driving methods.

図2は、本実施形態の表示装置の画素を駆動する駆動回路を示す回路図である。表示エリア部21には、各画素Vpixの薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transistor)素子Trに表示データとして画素信号を供給する信号線25、25n+1、25n+2、各TFT素子Trを駆動する走査線24、24m+1、24m+2等の配線が形成されている。信号線25、25n+1、25n+2は、上述したガラス基板11の表面と平行な平面に延在する。画素Vpixは、TFT素子Tr及び液晶LCを備えている。TFT素子Trは、薄膜トランジスタにより構成されるものであり、この例では、nチャネルのMOS(Metal Oxide Semiconductor)型のTFTで構成されている。TFT素子Trのソース又はドレインの一方は信号線25、25n+1、25n+2に接続され、ゲートは走査線24、24m+1、24m+2に接続され、ソース又はドレインの他方は不図示の画素電極に接続されている。液晶LCは、画素電極と共通電極VCOMによって生ずる電界により、電界に沿った方向に整列する。 FIG. 2 is a circuit diagram showing a drive circuit for driving the pixels of the display device of this embodiment. The display area 21 includes signal lines 25 n , 25 n + 1 , 25 n + 2 for supplying pixel signals as display data to thin film transistor (TFT) elements Tr of each pixel Vpix, and scanning lines for driving the TFT elements Tr. Wirings such as 24 m , 24 m + 1 , and 24 m + 2 are formed. The signal lines 25 n , 25 n + 1 , 25 n + 2 extend in a plane parallel to the surface of the glass substrate 11 described above. The pixel Vpix includes a TFT element Tr and a liquid crystal LC. The TFT element Tr is composed of a thin film transistor. In this example, the TFT element Tr is composed of an n-channel MOS (Metal Oxide Semiconductor) TFT. One of the source or drain of the TFT element Tr is connected to the signal lines 25 n , 25 n + 1 , 25 n + 2 , the gate is connected to the scanning lines 24 m , 24 m + 1 , 24 m + 2, and the other of the source or drain is a pixel (not shown). Connected to the electrode. The liquid crystal LC is aligned in the direction along the electric field by the electric field generated by the pixel electrode and the common electrode VCOM.

画素Vpixは、走査線24、24m+1、24m+2により、表示エリア部21の同じ行に属する他の画素Vpixと互いに接続されている。走査線24、24m+1、24m+2は、垂直ドライバ22と接続され、垂直ドライバ22から走査信号の垂直走査パルスVgateが供給される。また、画素Vpixは、信号線25、25n+1、25n+2により、表示エリア部21の同じ列に属する他の画素Vpixと互いに接続されている。信号線25、25n+1、25n+2は、水平ドライバ23と接続され、水平ドライバ23より画素信号が供給される。共通電極VCOMは、図1のドライバIC3と接続され、ドライバIC3から駆動信号が供給される。 The pixel Vpix is connected to other pixels Vpix belonging to the same row of the display area unit 21 by scanning lines 24 m , 24 m + 1 , and 24 m + 2 . The scanning lines 24 m , 24 m + 1 , and 24 m + 2 are connected to the vertical driver 22, and a vertical scanning pulse Vgate of a scanning signal is supplied from the vertical driver 22. The pixel Vpix is connected to other pixels Vpix belonging to the same column of the display area unit 21 by signal lines 25 n , 25 n + 1 , and 25 n + 2 . The signal lines 25 n , 25 n + 1 , 25 n + 2 are connected to the horizontal driver 23, and pixel signals are supplied from the horizontal driver 23. The common electrode VCOM is connected to the driver IC 3 in FIG. 1, and a drive signal is supplied from the driver IC 3.

図1に示す垂直ドライバ22は、垂直走査パルスを、図2に示す走査線24、24m+1、24m+2を介して、画素VpixのTFT素子Trのゲートに印加することにより、表示エリア部21にマトリクス状に形成されている画素Vpixのうちの1行(1水平ライン)を表示駆動の対象として順次選択する。図1に示す水平ドライバ23は、画素信号を、図2に示す信号線25、25n+1、25n+2を介して、垂直ドライバ22により順次選択される1水平ラインを含む各画素Vpixにそれぞれ供給する。そして、これらの画素Vpixでは、供給される画素信号を選択期間に画素Vpix内に保持し、選択期間以外の期間も次のフレームまで表示する。 The vertical driver 22 shown in FIG. 1 applies a vertical scanning pulse to the gate of the TFT element Tr of the pixel Vpix via the scanning lines 24 m , 24 m + 1 and 24 m + 2 shown in FIG. One row (one horizontal line) of the pixels Vpix formed in a matrix is sequentially selected as a display drive target. The horizontal driver 23 shown in FIG. 1 supplies the pixel signal to each pixel Vpix including one horizontal line sequentially selected by the vertical driver 22 via the signal lines 25 n , 25 n + 1 , and 25 n + 2 shown in FIG. To do. In these pixels Vpix, the supplied pixel signal is held in the pixel Vpix during the selection period, and the period other than the selection period is also displayed until the next frame.

上述したように、表示装置1は、垂直ドライバ22が走査線24、24m+1、24m+2を順次走査するように駆動することにより、1水平ラインが順次選択される。また、表示装置1は、1水平ラインに属する画素Vpixに対して、水平ドライバ23が画素信号を供給することにより、1水平ラインずつ表示が行われる。 As described above, in the display device 1, one horizontal line is sequentially selected by driving the vertical driver 22 to sequentially scan the scanning lines 24 m , 24 m + 1 , and 24 m + 2 . In the display device 1, the horizontal driver 23 supplies a pixel signal to the pixels Vpix belonging to one horizontal line, so that display is performed for each horizontal line.

また、表示エリア部21は、カラーフィルタを有する。カラーフィルタは、格子形状のブラックマトリクス76aと、画素Vpixに対応する開口部76bと、を有する。開口部76bは、例えば、赤(R)、緑(G)、青(B)の3色に着色された色領域を含む。なお、カラーフィルタは、異なる色に着色されていれば、他の色の組み合わせであってもよい。一般に、カラーフィルタは、緑(G)の色領域の輝度が、赤(R)の色領域及び青(B)の色領域の輝度よりも高い。カラーフィルタは、無くてもよく、この場合白色となる。あるいは、カラーフィルタに光透過性の樹脂を用いて白色としてもよい。   The display area unit 21 has a color filter. The color filter includes a lattice-shaped black matrix 76a and an opening 76b corresponding to the pixel Vpix. The opening 76b includes, for example, a color region colored in three colors of red (R), green (G), and blue (B). The color filter may be a combination of other colors as long as it is colored in a different color. Generally, in the color filter, the luminance of the green (G) color region is higher than the luminance of the red (R) color region and the blue (B) color region. The color filter may be omitted, and in this case, it becomes white. Alternatively, the color filter may be white by using a light transmissive resin.

ブラックマトリクス76aは、図2に示すように画素Vpixの外周を覆うように形成されている。つまり、ブラックマトリクス76aは、二次元配置された画素Vpixと画素Vpixとの境界に配置されることで、格子形状となる。これにより、各画素Vpixの隙間から光が漏れるのを防ぎ、コントラストの低下を抑制することができる。ブラックマトリクス76aは、光の吸収率が高い材料、例えば、金属クロム(Cr)、酸化クロム(CrO)、樹脂等で形成されている。このように、ブラックマトリクス76aは、光の透過を抑制する遮光層である。開口部76bは、ブラックマトリクス76aの格子形状で形成されている開口であり、画素Vpixに対応して配置されている。 The black matrix 76a is formed so as to cover the outer periphery of the pixel Vpix as shown in FIG. That is, the black matrix 76a has a lattice shape by being arranged at the boundary between the two-dimensionally arranged pixels Vpix and the pixels Vpix. Thereby, it is possible to prevent light from leaking from the gaps between the pixels Vpix, and to suppress a reduction in contrast. The black matrix 76a is formed of a material having a high light absorption rate, for example, metal chromium (Cr), chromium oxide (CrO 2 ), resin, or the like. Thus, the black matrix 76a is a light shielding layer that suppresses light transmission. The opening 76b is an opening formed in the lattice shape of the black matrix 76a, and is arranged corresponding to the pixel Vpix.

開口部76bは、例えば、赤(R)、緑(G)、青(B)の3色に着色された色領域を含む。カラーフィルタは、開口部76bに例えば赤(R)、緑(G)、青(B)の3色に着色されたカラーフィルタの色領域を周期的に配列して、図2に示す各画素VpixにR、G、Bの3色の色領域が規則的に対応付けられている。   The opening 76b includes, for example, a color region colored in three colors of red (R), green (G), and blue (B). The color filter periodically arranges color regions of color filters colored in, for example, three colors of red (R), green (G), and blue (B) in the opening 76b, and each pixel Vpix shown in FIG. Are regularly associated with three color regions of R, G, and B.

表示エリア部21は、正面に直交する方向から見た場合、走査線24と信号線25がカラーフィルタのブラックマトリクス76aと重なる領域に配置されている。つまり、走査線24及び信号線25は、正面に直交する方向から見た場合、ブラックマトリクス76aの後ろに隠されることになる。また、表示エリア部21は、ブラックマトリクス76aが配置されていない領域が開口部76bとなる。   The display area 21 is arranged in a region where the scanning lines 24 and the signal lines 25 overlap with the black matrix 76a of the color filter when viewed from the direction orthogonal to the front. That is, the scanning line 24 and the signal line 25 are hidden behind the black matrix 76a when viewed from the direction orthogonal to the front. Further, in the display area portion 21, a region where the black matrix 76a is not disposed becomes an opening 76b.

<2.適用例>
次に、本実施形態に係る表示装置を、自動車のインストルメントパネルに配設されるメータユニットに適用した場合を例に挙げて説明する。
<2. Application example>
Next, a case where the display device according to the present embodiment is applied to a meter unit disposed in an automobile instrument panel will be described as an example.

<2−1.電子機器の構成>
図3は、本実施形態に係るメータユニットの概略構成図である。図4は、図3に示すメータユニットに備えられる液晶表示装置の液晶パネル部分の断面を模式的に示す図である。図3に示すメータユニット(電子機器)100は、燃料計、水温計、スピードメータ、タコメータ等、複数の液晶表示装置110を備えている。そして、複数の液晶表示装置110は、ともに、一枚の外装パネル120に覆われている。
<2-1. Configuration of electronic equipment>
FIG. 3 is a schematic configuration diagram of the meter unit according to the present embodiment. FIG. 4 is a diagram schematically showing a cross section of a liquid crystal panel portion of the liquid crystal display device provided in the meter unit shown in FIG. A meter unit (electronic device) 100 shown in FIG. 3 includes a plurality of liquid crystal display devices 110 such as a fuel gauge, a water temperature gauge, a speedometer, and a tachometer. The plurality of liquid crystal display devices 110 are all covered with a single exterior panel 120.

図4に示すように、それぞれの液晶表示装置110は、液晶表示手段としての表示装置130及びアナログ表示手段としてのムーブメント機構150を互いに組み合わせた構成となっている。図4に示すように、表示装置130は、液晶パネル160と、液晶パネル160の背面側に設けられたバックライト180と、液晶パネル160及びバックライト180を収容するフレーム190とを備えている。液晶パネル160は、本実施の形態では、駆動素子としてTFT素子を用いた液晶パネルとして構成されている。   As shown in FIG. 4, each liquid crystal display device 110 has a configuration in which a display device 130 as a liquid crystal display means and a movement mechanism 150 as an analog display means are combined with each other. As shown in FIG. 4, the display device 130 includes a liquid crystal panel 160, a backlight 180 provided on the back side of the liquid crystal panel 160, and a frame 190 that houses the liquid crystal panel 160 and the backlight 180. In the present embodiment, liquid crystal panel 160 is configured as a liquid crystal panel using TFT elements as drive elements.

図5は、図4に示す液晶表示装置に備えられる液晶パネルの平面図である。図6は、図5に示す液晶パネルの断面図である。図5及び図6に示すように、液晶パネル160は、TFT基板(第1の基板)161と、対向基板(第2の基板)162とを有している。そして、TFT基板161と対向基板162との間には、液晶164が封止された液晶領域165が形成されている。   FIG. 5 is a plan view of a liquid crystal panel provided in the liquid crystal display device shown in FIG. 6 is a cross-sectional view of the liquid crystal panel shown in FIG. As shown in FIGS. 5 and 6, the liquid crystal panel 160 includes a TFT substrate (first substrate) 161 and a counter substrate (second substrate) 162. A liquid crystal region 165 in which the liquid crystal 164 is sealed is formed between the TFT substrate 161 and the counter substrate 162.

TFT基板161の主表面161aには、図示しない、TFT素子、画素電極、共通電極、配向膜等が積層するように設けられている。TFT基板161の背面161bには、偏光板163が配置されている。さらに、TFT基板161には、液晶駆動用の駆動IC171及びフレキシブルプリント基板(FPC)172が設けられている。対向基板162の主表面162aには、図示しないカラーフィルタ、配向膜等が積層するように設けられている。対向基板162の背面162bには、偏光板163が配置されている。   A TFT element, a pixel electrode, a common electrode, an alignment film, etc. (not shown) are provided on the main surface 161a of the TFT substrate 161 so as to be laminated. A polarizing plate 163 is disposed on the back surface 161 b of the TFT substrate 161. Further, the TFT substrate 161 is provided with a driving IC 171 for driving liquid crystal and a flexible printed circuit (FPC) 172. On the main surface 162a of the counter substrate 162, a color filter, an alignment film, and the like (not shown) are provided so as to be laminated. A polarizing plate 163 is disposed on the back surface 162 b of the counter substrate 162.

また、TFT基板161の主表面161a及び対向基板162の主表面162aのうちいずれか一方には、TFT基板161と対向基板162との間に液晶164を封止するメインシール166が形成されている。さらに、TFT基板161の主表面161a及び対向基板162の主表面162aのうちいずれか一方には、TFT基板161と対向基板162との間に液晶164を封止する貫通孔シール169が形成されている。   A main seal 166 for sealing the liquid crystal 164 is formed between the TFT substrate 161 and the counter substrate 162 on either the main surface 161 a of the TFT substrate 161 or the main surface 162 a of the counter substrate 162. . Furthermore, a through-hole seal 169 that seals the liquid crystal 164 is formed between the TFT substrate 161 and the counter substrate 162 on either the main surface 161 a of the TFT substrate 161 or the main surface 162 a of the counter substrate 162. Yes.

そして、液晶パネル160は、TFT基板161及び対向基板162を、互いに主表面161a及び主表面162aを対向させた状態で貼り合わせた構造となっている。液晶パネル160では、第1のシール部材であるメインシール166がTFT基板161と対向基板162との間に液晶164を封止することによって、液晶領域165が形成されている。また、液晶パネル160では、液晶領域165内に第2のシール部材である貫通孔シール169が形成されている。   The liquid crystal panel 160 has a structure in which the TFT substrate 161 and the counter substrate 162 are bonded together with the main surface 161a and the main surface 162a facing each other. In the liquid crystal panel 160, a liquid crystal region 165 is formed by a main seal 166 serving as a first seal member sealing the liquid crystal 164 between the TFT substrate 161 and the counter substrate 162. In the liquid crystal panel 160, a through-hole seal 169 that is a second seal member is formed in the liquid crystal region 165.

ここで、図4から図6に示すように、液晶パネル160には、TFT基板161から対向基板162までを貫通する貫通孔Hが設けられている。貫通孔Hは、貫通孔シール169内を貫通するように設けられている。また、貫通孔Hは、TFT基板161の孔の内壁167の径及び対向基板162の孔の内壁168の径が、貫通孔シール169の内径より小さく形成されている。   Here, as shown in FIGS. 4 to 6, the liquid crystal panel 160 is provided with a through hole H penetrating from the TFT substrate 161 to the counter substrate 162. The through hole H is provided so as to penetrate through the through hole seal 169. The through hole H is formed such that the diameter of the inner wall 167 of the hole of the TFT substrate 161 and the diameter of the inner wall 168 of the hole of the counter substrate 162 are smaller than the inner diameter of the through hole seal 169.

これにより、図6に示すように、液晶パネル160では、TFT基板161の孔の内壁167及び対向基板162の孔の内壁168のそれぞれにおける貫通孔Hの周辺を貫通孔シール169が支持する構造となっている。   As a result, as shown in FIG. 6, the liquid crystal panel 160 has a structure in which the through-hole seal 169 supports the periphery of the through-hole H in each of the inner wall 167 of the hole of the TFT substrate 161 and the inner wall 168 of the hole of the counter substrate 162. It has become.

再び図4を参照すると、バックライト180は、プリズムシート181、拡散板182、光源手段183及び反射板184を積層した構成となっている。そして、バックライト180は、液晶パネル160の背面側に配設され、液晶パネル160の表示領域に対して光を照射する。バックライト180には、バックライト貫通孔186が設けられている。ここで、プリズムシート181、拡散板182、光源手段183及び反射板184のそれぞれには、予め、貫通孔186aが設けられている。そして、プリズムシート181、拡散板182、光源手段183及び反射板184を積層するように互いに組み合わせることによって、プリズムシート181、拡散板182、光源手段183及び反射板184のそれぞれに設けられた貫通孔186aが連続した状態となり、バックライト貫通孔186を形成する。このように、プリズムシート181、拡散板182、光源手段183及び反射板184のそれぞれに、予め、貫通孔186aを設けておくことにより、バックライト180を組み立てる際の工数の増加を抑制することが可能となる。   Referring to FIG. 4 again, the backlight 180 has a structure in which a prism sheet 181, a diffusion plate 182, a light source unit 183, and a reflection plate 184 are laminated. The backlight 180 is disposed on the back side of the liquid crystal panel 160 and irradiates the display area of the liquid crystal panel 160 with light. The backlight 180 is provided with a backlight through hole 186. Here, each of the prism sheet 181, the diffusion plate 182, the light source unit 183, and the reflection plate 184 is provided with a through hole 186 a in advance. The prism sheet 181, the diffusion plate 182, the light source unit 183, and the reflection plate 184 are combined with each other so as to be stacked, so that the through holes provided in the prism sheet 181, the diffusion plate 182, the light source unit 183, and the reflection plate 184, respectively. As a result, the backlight through hole 186 is formed. As described above, by providing the through holes 186a in advance in each of the prism sheet 181, the diffusion plate 182, the light source means 183, and the reflection plate 184, it is possible to suppress an increase in man-hours when assembling the backlight 180. It becomes possible.

光源手段183は、本実施の形態では、光源としてのLED183aと、LED183aから照射された光を導光する導光板183bとを有している。   In the present embodiment, the light source means 183 includes an LED 183a as a light source and a light guide plate 183b that guides light emitted from the LED 183a.

図4に示すように、フレーム190は、外周壁191を有し、前面が開放された円筒状に形成されている。フレーム190の底面には、貫通孔190aが設けられている。そして、表示装置130は、液晶パネル160及びバックライト180をフレーム190の外周壁191内に収容することによって形成される。表示装置130では、液晶パネル160の貫通孔H、バックライト180のバックライト貫通孔186及びフレーム190の貫通孔190aが連続した状態となっている。   As shown in FIG. 4, the frame 190 has an outer peripheral wall 191 and is formed in a cylindrical shape whose front surface is open. A through hole 190 a is provided on the bottom surface of the frame 190. The display device 130 is formed by housing the liquid crystal panel 160 and the backlight 180 in the outer peripheral wall 191 of the frame 190. In the display device 130, the through hole H of the liquid crystal panel 160, the backlight through hole 186 of the backlight 180, and the through hole 190a of the frame 190 are continuous.

図4に示すように、ムーブメント機構150は、駆動手段としてのモータ151と、モータ151により回転軸152を介して回転される指針153とを有している。   As shown in FIG. 4, the movement mechanism 150 includes a motor 151 as a driving unit and a pointer 153 that is rotated by a motor 151 via a rotation shaft 152.

そして、液晶表示装置110は、表示装置130及びムーブメント機構150を互いに組み合わせることによって形成される。ムーブメント機構150のモータ151は、液晶パネル160及びバックライト180を収容したフレーム190の背面側に配設される。そして、ムーブメント機構150の回転軸152が、液晶パネル160の貫通孔H、バックライト180のバックライト貫通孔186及びフレーム190の貫通孔190aに挿通される。これにより、ムーブメント機構150の指針153が、液晶パネル160の表示面側に配設される。そして、図3に示すように、液晶表示装置110では、液晶パネル160の表示面に目盛表示、警告表示等を表示することができるとともに、ムーブメント機構150の指針153が液晶パネル160の表示面側において回転することが可能となっている。   The liquid crystal display device 110 is formed by combining the display device 130 and the movement mechanism 150 with each other. The motor 151 of the movement mechanism 150 is disposed on the back side of the frame 190 that houses the liquid crystal panel 160 and the backlight 180. Then, the rotation shaft 152 of the movement mechanism 150 is inserted into the through hole H of the liquid crystal panel 160, the backlight through hole 186 of the backlight 180, and the through hole 190a of the frame 190. Thereby, the pointer 153 of the movement mechanism 150 is disposed on the display surface side of the liquid crystal panel 160. As shown in FIG. 3, in the liquid crystal display device 110, scale display, warning display, and the like can be displayed on the display surface of the liquid crystal panel 160, and the pointer 153 of the movement mechanism 150 is displayed on the display surface side of the liquid crystal panel 160. Can be rotated.

このように、液晶表示装置110では、ムーブメント機構150の回転軸152が、液晶パネル160の貫通孔Hに挿通される。ここで、上述したように、液晶パネル160では、TFT基板161の孔の内壁167及び対向基板162の孔の内壁168の周辺を貫通孔シール169が支持する構造となっている。   As described above, in the liquid crystal display device 110, the rotation shaft 152 of the movement mechanism 150 is inserted into the through hole H of the liquid crystal panel 160. Here, as described above, the liquid crystal panel 160 has a structure in which the through hole seal 169 supports the periphery of the inner wall 167 of the hole of the TFT substrate 161 and the inner wall 168 of the hole of the counter substrate 162.

また、液晶表示装置110では、液晶パネル160の背面側に設けられたバックライト180を備えている。そして、ムーブメント機構150のモータ151が、バックライト180の背面側に配設され、ムーブメント機構150の回転軸152が、バックライト180を貫通するバックライト貫通孔186に挿通されている。従って、液晶表示装置110によれば、簡易な構成で表示装置を実現することが可能となる。   In addition, the liquid crystal display device 110 includes a backlight 180 provided on the back side of the liquid crystal panel 160. The motor 151 of the movement mechanism 150 is disposed on the back side of the backlight 180, and the rotating shaft 152 of the movement mechanism 150 is inserted into the backlight through hole 186 that penetrates the backlight 180. Therefore, according to the liquid crystal display device 110, a display device can be realized with a simple configuration.

図7−1は、液晶パネルの貫通孔の近傍部分の断面図である。図7−2は、対向基板の貫通孔の近傍部分の平面図(対向基板からTFT基板に向かう方向から対向基板を視た図)である。図7−3は、対向基板の貫通孔の近傍部分の下面図(TFT基板から対向基板に向かう方向から対向基板を視た図)である。図8は、液晶パネルの貫通孔の近傍部分の平面図である。遮光層200は、例えばブラックマトリクス76aと同じ遮光材料がある領域(遮光材料形成領域)である。遮光層200の遮光材料形成領域は、遮光材料がない領域(遮光材料非形成領域)を取り囲む。遮光層200は、例えば、光の吸収率が高い材料、例えば、金属クロム(Cr)、酸化クロム(CrO)、樹脂等で形成されていれば、ブラックマトリクス76aと同じ遮光材料でなくてもよい。遮光層200は、遮光材料形成領域と、遮光材料形成領域の内側にある遮光材料非形成領域との境界に、遮光層200の内側の縁である内壁200a(遮光材料非形成領域の外縁)がある。 FIG. 7A is a cross-sectional view of the vicinity of the through hole of the liquid crystal panel. FIG. 7-2 is a plan view of a portion in the vicinity of the through hole of the counter substrate (view of the counter substrate from the direction from the counter substrate toward the TFT substrate). FIG. 7C is a bottom view (a view of the counter substrate viewed from the direction from the TFT substrate toward the counter substrate) of the vicinity of the through hole of the counter substrate. FIG. 8 is a plan view of the vicinity of the through hole of the liquid crystal panel. The light shielding layer 200 is an area (light shielding material forming area) where the same light shielding material as the black matrix 76a is present, for example. The light shielding material forming region of the light shielding layer 200 surrounds a region where there is no light shielding material (light shielding material non-formation region). The light shielding layer 200 may not be the same light shielding material as the black matrix 76a as long as it is made of a material having a high light absorption rate, for example, metal chromium (Cr), chromium oxide (CrO 2 ), resin, or the like. Good. The light shielding layer 200 has an inner wall 200a (an outer edge of the light shielding material non-forming region) that is an inner edge of the light shielding layer 200 at the boundary between the light shielding material forming region and the light shielding material non-forming region inside the light shielding material forming region. is there.

図7−1に示すように、TFT基板161の孔の内壁167の径及び対向基板162の孔の内壁168の径は、貫通孔シール169の内壁169aの径よりも小さくなっている。また、図7−2及び図7−3に示すように、貫通孔H、対向基板162の内壁168、貫通孔シール169の内壁169a、遮光層200の内壁200aは、同心円状になっている。また、図7−3に示すように、TFT基板161から対向基板162に向かう方向から対向基板162を視ると、貫通孔シール169によって遮光層200の内壁200aは覆われている。   As shown in FIG. 7A, the diameter of the inner wall 167 of the hole of the TFT substrate 161 and the diameter of the inner wall 168 of the hole of the counter substrate 162 are smaller than the diameter of the inner wall 169a of the through-hole seal 169. 7-2 and 7-3, the through hole H, the inner wall 168 of the counter substrate 162, the inner wall 169a of the through hole seal 169, and the inner wall 200a of the light shielding layer 200 are concentric. 7C, when the counter substrate 162 is viewed from the direction from the TFT substrate 161 toward the counter substrate 162, the inner wall 200a of the light shielding layer 200 is covered with the through-hole seal 169.

また、図7−1及び図8に示すように、遮光層200は、中央付近に孔が設けられる形状であり、当該遮光層200の孔は、遮光材料非形成領域であって、液晶パネル160の貫通孔Hを囲むように設けられる。遮光材料非形成領域は、遮光層200の遮光材料がないだけで、遮光材料以外の材料があってもよい。図7−1に示すように、遮光層200の内壁200aの内径(遮光材料非形成領域の外縁)は、貫通孔シール169の内壁169aの径よりも大きくなっている。そして、遮光層200は、貫通孔シール169によって外部とは遮断されている。遮光層200の内壁200aの径は、貫通孔シール169の内壁169aの径よりも大きくなっている。このように、遮光層200は、遮光材料がある領域であり、遮光材料の内壁200aで当該遮光材料のない遮光材料非形成領域を取り囲む。内壁200aの内径は、対向基板162の内壁168の内径より大きい。このため、内壁200aは、内壁168より外側にある。なお、上述した内壁200aは、円形であるがこれに限られず、内壁168より外側にあれば、多角形、楕円などでもよい。   Further, as shown in FIGS. 7A and 8B, the light shielding layer 200 has a shape in which a hole is provided near the center, and the hole of the light shielding layer 200 is a light shielding material non-formation region, and the liquid crystal panel 160. It is provided so as to surround the through hole H. In the light shielding material non-formation region, not only the light shielding material of the light shielding layer 200 but the material other than the light shielding material may exist. As shown in FIG. 7A, the inner diameter of the inner wall 200a of the light shielding layer 200 (the outer edge of the light shielding material non-forming region) is larger than the diameter of the inner wall 169a of the through-hole seal 169. The light shielding layer 200 is blocked from the outside by a through-hole seal 169. The diameter of the inner wall 200 a of the light shielding layer 200 is larger than the diameter of the inner wall 169 a of the through-hole seal 169. As described above, the light shielding layer 200 is a region where the light shielding material is present, and the inner wall 200a of the light shielding material surrounds the light shielding material non-formation region without the light shielding material. The inner diameter of the inner wall 200 a is larger than the inner diameter of the inner wall 168 of the counter substrate 162. For this reason, the inner wall 200a is located outside the inner wall 168. The above-described inner wall 200a is circular, but is not limited thereto, and may be a polygon, an ellipse, or the like as long as it is outside the inner wall 168.

これにより、遮光層200を外気から保護することができ、遮光層200の外気による劣化を抑制することができる。   Thereby, the light shielding layer 200 can be protected from the outside air, and deterioration of the light shielding layer 200 due to the outside air can be suppressed.

図8に示すように、走査線24、24m+1、24m+2及び信号線25、25n+1、25n+2は、液晶パネル160の貫通孔Hの近傍部分、貫通孔Hの周に並行に、貫通孔Hを迂回するように配置されている。 As shown in FIG. 8, the scanning lines 24 m , 24 m + 1 , 24 m + 2 and the signal lines 25 n , 25 n + 1 , 25 n + 2 are parallel to the vicinity of the through hole H of the liquid crystal panel 160 and the periphery of the through hole H. It arrange | positions so that the through-hole H may be detoured.

<2−2.液晶パネルの製造方法>
次に、本開示の実施の形態に係る液晶パネルの製造方法について説明する。まず、TFT基板161の主表面161a上に、TFT素子、画素電極、共通電極、配向膜等を積層するように形成する。次に、TFT基板161の主表面161a上の配向膜に対して液晶を配向させるラビング処理を行う。次に、TFT基板161に対して、TFT基板161と対向基板162とを電気的に接続させるための導電材を塗布する導電材塗布処理を行う。
<2-2. Manufacturing method of liquid crystal panel>
Next, a method for manufacturing a liquid crystal panel according to an embodiment of the present disclosure will be described. First, a TFT element, a pixel electrode, a common electrode, an alignment film, and the like are stacked on the main surface 161a of the TFT substrate 161. Next, a rubbing process for aligning the liquid crystal is performed on the alignment film on the main surface 161 a of the TFT substrate 161. Next, a conductive material application process for applying a conductive material for electrically connecting the TFT substrate 161 and the counter substrate 162 to the TFT substrate 161 is performed.

一方、対向基板162の主表面162a上に、カラーフィルタ、ブラックマトリクス、配向膜等を積層するように形成する。次に、対向基板162に対して、TFT基板161と同様にラビング処理を行う。次に、対向基板162に対して、メインシール166を形成するメインシール形成処理を行う。メインシール166は、対向基板162の主表面162aにおいて、液晶パネル160が形成された際に液晶を封入した液晶領域165となる領域を囲うようにシール剤を塗布することにより形成される。シール剤の塗布は、ディスペンサ描画技術等によって行われる。   On the other hand, a color filter, a black matrix, an alignment film, and the like are stacked on the main surface 162a of the counter substrate 162. Next, a rubbing process is performed on the counter substrate 162 in the same manner as the TFT substrate 161. Next, a main seal forming process for forming the main seal 166 is performed on the counter substrate 162. The main seal 166 is formed by applying a sealing agent on the main surface 162a of the counter substrate 162 so as to surround a region to be a liquid crystal region 165 enclosing liquid crystal when the liquid crystal panel 160 is formed. The sealant is applied by a dispenser drawing technique or the like.

次に、対向基板162に対して、液晶164を封止する貫通孔シール169を形成する貫通孔シール形成処理を行う。貫通孔シール169は、対向基板162の主表面162aにおいて、後述する貫通孔形成処理において貫通孔Hを形成する予定の位置を囲む環状となるようにシール剤を塗布して形成される。その際、貫通孔シール169は、遮光層200の内壁200aを覆うように形成される。シール剤の塗布は、ディスペンサ描画技術等によって行われる。   Next, a through-hole seal forming process for forming a through-hole seal 169 that seals the liquid crystal 164 is performed on the counter substrate 162. The through-hole seal 169 is formed by applying a sealing agent on the main surface 162a of the counter substrate 162 so as to form an annular shape surrounding a position where the through-hole H is to be formed in a through-hole forming process described later. At that time, the through-hole seal 169 is formed so as to cover the inner wall 200 a of the light shielding layer 200. The sealant is applied by a dispenser drawing technique or the like.

ここで、メインシール166及び貫通孔シール169を形成するシール剤としては、加熱することにより熱硬化する熱硬化性を有する材料、紫外線、可視光等を照射することにより光硬化する光硬化性及び熱硬化性をともに有する材料等を用いることができる。また、メインシール166及び貫通孔シール169を形成するシール剤には、TFT基板161及び対向基板162が互いに貼り合わされた際にTFT基板161と対向基板162との間隔を規制するスペーサが内包されていても構わない。この場合、スペーサとしては、例えば、4μmのシリカ球等を用いることができる。   Here, as the sealant that forms the main seal 166 and the through-hole seal 169, a thermosetting material that is thermally cured by heating, photocurability that is photocured by irradiation with ultraviolet rays, visible light, and the like, and A material having both thermosetting properties can be used. In addition, the sealant that forms the main seal 166 and the through-hole seal 169 includes a spacer that regulates the distance between the TFT substrate 161 and the counter substrate 162 when the TFT substrate 161 and the counter substrate 162 are bonded to each other. It doesn't matter. In this case, for example, a 4 μm silica sphere can be used as the spacer.

次に、対向基板162に対して、加熱するベーク処理を行う。ベーク処理では、加熱温度を30℃以上200℃以下の範囲として、30分以内の加熱時間で対向基板162を加熱する。ベーク処理を行うことにより、メインシール166及び貫通孔シール169の粘度を適正な粘度に増加させるとともに、液晶164に影響を与える揮発性成分を揮発させることができる。   Next, a baking process for heating the counter substrate 162 is performed. In the baking process, the counter substrate 162 is heated for a heating time of 30 minutes or less with the heating temperature in the range of 30 ° C. to 200 ° C. By performing the bake treatment, the viscosity of the main seal 166 and the through-hole seal 169 can be increased to an appropriate viscosity, and volatile components that affect the liquid crystal 164 can be volatilized.

次に、対向基板162に対して、液晶滴下処理を行う。液晶滴下処理では、対向基板162の主表面162aを上方に向けた状態で、ディスペンス法等により、それぞれのメインシール166の内側の領域に適量の液晶164を滴下する。   Next, a liquid crystal dropping process is performed on the counter substrate 162. In the liquid crystal dropping process, an appropriate amount of liquid crystal 164 is dropped on the inner area of each main seal 166 by a dispensing method or the like with the main surface 162a of the counter substrate 162 facing upward.

次に、TFT基板161及び対向基板162を互いに貼り合わせる、貼り合わせ処理を行う。貼り合わせ処理では、真空雰囲気内又は減圧雰囲気内において、TFT基板161及び対向基板162を、互いに主表面161a及び主表面162aを対向させた状態で貼り合わせる。そして、TFT基板161及び対向基板162が互いに貼り合わされることにより、貼り合わせ基板170が形成される。なお、上記では液晶滴下法(One Drop Filling:ODF)を用いて、液晶164が挿設された貼り合わせ基板170を形成する例について述べたが、これに限定されない。液晶164が挿設された貼り合わせ基板170を形成する例として、シール剤を硬化させた後に、真空雰囲気中で液晶を注入する、液晶注入法を用いてもよい。   Next, a bonding process is performed in which the TFT substrate 161 and the counter substrate 162 are bonded to each other. In the bonding process, the TFT substrate 161 and the counter substrate 162 are bonded in a vacuum atmosphere or a reduced pressure atmosphere with the main surface 161a and the main surface 162a facing each other. Then, the TFT substrate 161 and the counter substrate 162 are bonded to each other, whereby a bonded substrate 170 is formed. In addition, although the example which forms the bonded substrate board 170 in which the liquid crystal 164 was inserted using the liquid crystal dropping method (One Drop Filling: ODF) was described above, it is not limited to this. As an example of forming the bonded substrate 170 in which the liquid crystal 164 is inserted, a liquid crystal injection method in which liquid crystal is injected in a vacuum atmosphere after the sealant is cured may be used.

図9は、貼り合わせ基板の貫通孔を形成する予定の部分の断面図である。図9に示すように、貼り合わせ基板170に貫通孔を開ける予定の円筒状のカットラインL1の径は、貫通孔シール169の内壁169aの径よりも小さくなっている。   FIG. 9 is a cross-sectional view of a portion where a through hole of the bonded substrate is to be formed. As shown in FIG. 9, the diameter of the cylindrical cut line L <b> 1 that is intended to open a through hole in the bonded substrate 170 is smaller than the diameter of the inner wall 169 a of the through hole seal 169.

これにより、TFT基板161及び対向基板162をカットラインL1でカットする際に、貫通孔シール169が傷つけられてしまうことを抑制することができ、液晶164の封止不良を抑制することができる。   Thereby, when the TFT substrate 161 and the counter substrate 162 are cut along the cut line L1, it is possible to prevent the through-hole seal 169 from being damaged, and to prevent poor sealing of the liquid crystal 164.

また、遮光層200は、TFT基板161及び対向基板162に貫通孔を形成する予定の部分の周囲に、遮光材料が形成されていない遮光材料非形成領域を取り囲む。遮光層200は、当該内壁200aの径が、貫通孔シール169の内壁169aの径よりも大きくなるように配置される。つまり、遮光層200の内壁200aの径(遮光材料非形成領域の外縁)は、カットラインL1の径よりも大きい。また、TFT基板161、対向基板162及び貫通孔シール169によって囲まれた空間201は、貼り合わせ処理が真空雰囲気内又は減圧雰囲気内で行われるので、真空雰囲気又は減圧雰囲気である。   Further, the light shielding layer 200 surrounds a light shielding material non-formation region where the light shielding material is not formed around a portion where through holes are to be formed in the TFT substrate 161 and the counter substrate 162. The light shielding layer 200 is disposed so that the diameter of the inner wall 200 a is larger than the diameter of the inner wall 169 a of the through-hole seal 169. That is, the diameter of the inner wall 200a of the light shielding layer 200 (the outer edge of the light shielding material non-formation region) is larger than the diameter of the cut line L1. The space 201 surrounded by the TFT substrate 161, the counter substrate 162, and the through-hole seal 169 is a vacuum atmosphere or a reduced pressure atmosphere because the bonding process is performed in a vacuum atmosphere or a reduced pressure atmosphere.

貼り合わせ基板170では、メインシール166により、TFT基板161と対向基板162との間に液晶164が封止されている。また、貼り合わせ基板170では、液晶領域165内において貫通孔シール169が形成された状態となっている。   In the bonded substrate 170, the liquid crystal 164 is sealed between the TFT substrate 161 and the counter substrate 162 by the main seal 166. In the bonded substrate 170, a through-hole seal 169 is formed in the liquid crystal region 165.

次に、貼り合わせ基板170に対して、メインシール166及び貫通孔シール169を硬化させる、シール硬化処理を行う。シール硬化処理では、メインシール166及び貫通孔シール169を形成するシール剤に応じて、紫外線の照射による光硬化処理及び加熱による熱硬化処理を適宜組み合わせて行う。なお、該熱硬化処理を行った場合は、該熱硬化処理が本加熱(ベーク)処理となり、先に説明したベーク処理が予備加熱(プリベーク)処理となる。   Next, a seal curing process is performed on the bonded substrate 170 to cure the main seal 166 and the through-hole seal 169. In the seal curing process, depending on the sealant that forms the main seal 166 and the through-hole seal 169, a photo-curing process by ultraviolet irradiation and a heat-curing process by heating are appropriately combined. When the thermosetting process is performed, the thermosetting process is a main heating (baking) process, and the baking process described above is a preheating (pre-baking) process.

次に、貼り合わせ基板170に対して、貫通孔形成処理を行う。貫通孔形成処理では、貼り合わせ基板170に対して、レーザ光を照射することにより貫通孔を形成する。   Next, a through hole forming process is performed on the bonded substrate 170. In the through-hole forming process, the through-hole is formed by irradiating the bonded substrate 170 with laser light.

図10は、貼り合わせ基板の対向基板に対してレーザ光を照射する様子を示す断面図である。貫通孔形成処理では、図10に示すように、レーザ発振器210から出射されるレーザ光Bを、レーザ光Bの焦点が円筒状のカットラインL1を包絡線とする螺旋ラインL2上を移動するように、対向基板162に照射する。   FIG. 10 is a cross-sectional view illustrating a state in which a counter substrate of a bonded substrate is irradiated with laser light. In the through hole forming process, as shown in FIG. 10, the laser beam B emitted from the laser oscillator 210 is moved so that the focal point of the laser beam B moves on a spiral line L2 having a cylindrical cut line L1 as an envelope. Then, the counter substrate 162 is irradiated.

レーザ光Bとしては、例えば、波長532μmの緑色のレーザ光を用いることができる。また、レーザ光Bを対向基板162に照射する際は、レーザ光Bの焦点を螺旋ラインL2上の或る点に合わせてその点に微小なクラックを生じさせ、その後レーザ光Bの焦点を螺旋ラインL2上でクラックの幅に相当する量だけ移動させることを、繰り返すことで行うと良い。このようにレーザ光Bの焦点を螺旋ラインL2上で移動させることにより、螺旋ラインL2上に微小なクラックを連続して形成させることで、対向基板162をカットラインL1でカットすることができる。   As the laser beam B, for example, a green laser beam having a wavelength of 532 μm can be used. Further, when irradiating the counter substrate 162 with the laser beam B, the focal point of the laser beam B is set to a certain point on the spiral line L2, a minute crack is generated at that point, and then the focal point of the laser beam B is spiraled. It is preferable to repeat the movement on the line L2 by an amount corresponding to the width of the crack. Thus, by moving the focal point of the laser beam B on the spiral line L2, the counter substrate 162 can be cut along the cut line L1 by continuously forming minute cracks on the spiral line L2.

ここで、対向基板162にレーザ光Bを照射する際に、カットラインL1の近傍にまで遮光層200の遮光材料が存在していると、遮光層200がレーザ光Bを吸収して熱を発生し、この熱により貫通孔シール169が劣化して液晶164の封止不良が発生する可能性がある。そこで、本実施の形態では、図9に示すように、遮光層200の内壁200aの径は、カットラインL1の径よりも大きくなっている。これにより、遮光層200がレーザ光Bを吸収して熱を発生することを抑制し、貫通孔シール169の劣化を抑制し、液晶164の封止不良が発生することを抑制することができる。   Here, when the counter substrate 162 is irradiated with the laser light B, if the light shielding material of the light shielding layer 200 exists near the cut line L1, the light shielding layer 200 absorbs the laser light B and generates heat. However, this heat may deteriorate the through-hole seal 169 and cause a sealing failure of the liquid crystal 164. Therefore, in the present embodiment, as shown in FIG. 9, the diameter of the inner wall 200a of the light shielding layer 200 is larger than the diameter of the cut line L1. Thereby, it can suppress that the light shielding layer 200 absorbs the laser beam B and generates heat, suppresses deterioration of the through-hole seal 169, and suppresses occurrence of poor sealing of the liquid crystal 164.

なお、TFT基板161及び対向基板162をレーザ光BによってカットラインL1でカットした後に、ドリル等の部材を用いてTFT基板161及び対向基板162の孔の内壁を整えても良い。   In addition, after the TFT substrate 161 and the counter substrate 162 are cut by the laser beam B along the cut line L1, the inner walls of the holes of the TFT substrate 161 and the counter substrate 162 may be prepared using a member such as a drill.

次に、遮光層200の内壁200aとカットラインL1とをどれ位離せば好適であるかについて説明する。図11は、レーザ発振器と対向基板とブラックマトリクスとの位置関係を示す断面図である。図11に示すように、レーザ発振器210と対向基板162との間の距離をA、対向基板162の厚さをB、カットラインL1の直径をCとする。また、対向基板162の背面162bとカットラインL1とが交わる点をDとし、点Dとレーザ発振器210の出射口とを結ぶラインL3と、カットラインL1と、がなす角、つまり入射角をiとする。レーザ発振器210の出射口から出射されたレーザ光は、ラインL3に沿って対向基板162に入射すると、対向基板162によって屈折するが、その屈折光がカットラインL1となす角、つまり屈折角をrとし、その屈折光が対向基板162の主表面162aと交わる点をEとする。また、点EとカットラインL1との間の距離をxとする。   Next, the distance between the inner wall 200a of the light shielding layer 200 and the cut line L1 will be described. FIG. 11 is a cross-sectional view showing the positional relationship among the laser oscillator, the counter substrate, and the black matrix. As shown in FIG. 11, the distance between the laser oscillator 210 and the counter substrate 162 is A, the thickness of the counter substrate 162 is B, and the diameter of the cut line L1 is C. The point where the back surface 162b of the counter substrate 162 and the cut line L1 intersect is D, and the angle formed by the line L3 connecting the point D and the exit of the laser oscillator 210 and the cut line L1, that is, the incident angle is i. And When the laser beam emitted from the emission port of the laser oscillator 210 is incident on the counter substrate 162 along the line L3, the laser beam is refracted by the counter substrate 162, but the angle between the refracted light and the cut line L1, that is, the refraction angle is r. E is the point where the refracted light intersects the main surface 162a of the counter substrate 162. Further, the distance between the point E and the cut line L1 is assumed to be x.

このとき、屈折の法則より次の式(1)が成り立つ。   At this time, the following equation (1) holds from the law of refraction.

Figure 2014153483
Figure 2014153483

式(1)において、右辺の分子「1.458」はガラスの絶対屈折率、右辺の分母「1.000」は空気の絶対屈折率である。   In equation (1), the numerator “1.458” on the right side is the absolute refractive index of glass, and the denominator “1.000” on the right side is the absolute refractive index of air.

ここで、距離Aを70mmと仮定する。また、カットラインL1の直径Cを7mmと仮定すると、カットラインL1の半径は3.5mmとなる。従って、次の式(2)が成り立つ。
tan i=3.5/70 ・・・(2)
Here, it is assumed that the distance A is 70 mm. Assuming that the diameter C of the cut line L1 is 7 mm, the radius of the cut line L1 is 3.5 mm. Therefore, the following equation (2) is established.
tan i = 3.5 / 70 (2)

式(2)より、iの値は次の式(3)の通りとなる。
i=3° ・・・(3)
From equation (2), the value of i is as shown in equation (3) below.
i = 3 ° (3)

式(1)を変形すると、次の式(4)となる。
sin r=sin i/1.458 ・・・(4)
When formula (1) is transformed, the following formula (4) is obtained.
sin r = sin i / 1.458 (4)

式(4)に式(3)を代入し、屈折角rについて解くと、次の式(5)となる。
r=2° ・・・(5)
Substituting equation (3) into equation (4) and solving for the refraction angle r yields the following equation (5).
r = 2 ° (5)

ここで、対向基板162の厚さBを1mmと仮定すると、次の式(6)が成り立つ。
tan2°=x/1 ・・・(6)
Here, assuming that the thickness B of the counter substrate 162 is 1 mm, the following equation (6) is established.
tan2 ° = x / 1 (6)

式(6)をxについて解くと、次の式(7)となる。
x=0.0035(mm) ・・・(7)
When equation (6) is solved for x, the following equation (7) is obtained.
x = 0.0035 (mm) (7)

従って、遮光層200の内壁200aとカットラインL1との距離xを0.0035mm以上とすると好適である。つまり、遮光層200の内壁200aは、対向基板162をカットするカットラインL1と対向基板162の背面162bとの交点Dに入射したレーザ光が屈折して対向基板162の主表面162aから出射する点Eよりも、カットラインL1から離れていると好適である。光の透過を抑制する遮光層200の内壁200aは、対向基板162の背面162bと、カットラインL1によりできる貫通孔Hとが交わる点Dから対向基板162の厚さB分をレーザ光の屈折角rで計算した屈折光が対向基板162の主表面162aから出射する点Eよりも、貫通孔Hから離れている。   Accordingly, the distance x between the inner wall 200a of the light shielding layer 200 and the cut line L1 is preferably 0.0035 mm or more. That is, the inner wall 200a of the light shielding layer 200 is a point where the laser light incident on the intersection D between the cut line L1 for cutting the counter substrate 162 and the back surface 162b of the counter substrate 162 is refracted and emitted from the main surface 162a of the counter substrate 162. It is preferable that it is farther from the cut line L1 than E. The inner wall 200a of the light-shielding layer 200 that suppresses the transmission of light has a refraction angle of the laser beam that is equal to the thickness B of the counter substrate 162 from the point D where the back surface 162b of the counter substrate 162 intersects the through hole H formed by the cut line L1. The refracted light calculated by r is farther from the through hole H than the point E where the refracted light calculated from the main surface 162a of the counter substrate 162 is emitted.

これにより、レーザ光が遮光層200に入射することを抑制できるので、遮光層200がレーザ光を吸収して熱を発生することを抑制し、貫通孔シール169の劣化を抑制し、液晶164の封止不良が発生することを抑制することができる。レーザ光が使用できるので、本実施形態の製造方法は、製造コストの上昇を抑制し、製造時間を短縮する。これにより表示装置は、封止不良が抑制されて、製造品質が向上する。   Thereby, since it can suppress that a laser beam injects into the light shielding layer 200, it suppresses that the light shielding layer 200 absorbs a laser beam and generate | occur | produces a heat | fever, suppresses deterioration of the through-hole seal | sticker 169, and liquid crystal 164 Occurrence of sealing failure can be suppressed. Since laser light can be used, the manufacturing method of this embodiment suppresses an increase in manufacturing cost and shortens manufacturing time. As a result, in the display device, defective sealing is suppressed, and the manufacturing quality is improved.

以上、本開示の実施の形態について説明したが、本開示は上記実施の形態に限定されるものではなく、本開示の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本開示に含まれるものである。   Although the embodiments of the present disclosure have been described above, the present disclosure is not limited to the above embodiments, and modifications, improvements, and the like within a scope that can achieve the object of the present disclosure are included in the present disclosure. is there.

例えば、上記実施の形態では、対向基板162に対してメインシール166及び貫通孔シール169を形成している。しかしながら、TFT基板161において、メインシール166及び貫通孔シール169を形成しても構わない。さらに、TFT基板161及び対向基板162のうちいずれか一方において、メインシール166を形成し、他方において、貫通孔シール169を形成しても構わない。   For example, in the above embodiment, the main seal 166 and the through-hole seal 169 are formed on the counter substrate 162. However, the main seal 166 and the through-hole seal 169 may be formed on the TFT substrate 161. Further, the main seal 166 may be formed on one of the TFT substrate 161 and the counter substrate 162, and the through-hole seal 169 may be formed on the other.

また、上記実施の形態では、本開示に係る電子機器を、メータユニットに適用した場合を例にして説明した。本開示に係る電子機器を、メータユニットに限られず、本開示に係る電子機器は、時計など貫通孔がある電子機器であってもよい。   Further, in the above-described embodiment, the case where the electronic apparatus according to the present disclosure is applied to the meter unit has been described as an example. The electronic device according to the present disclosure is not limited to the meter unit, and the electronic device according to the present disclosure may be an electronic device having a through hole such as a watch.

また、本開示は、以下の構成をとることもできる。
<3.本開示の構成>
In addition, the present disclosure can take the following configurations.
<3. Configuration of the present disclosure>

(1)
第1の基板と、
前記第1の基板に対向して配置された第2の基板と、
前記第1の基板と前記第2の基板との間に挿設された液晶と、
前記第2の基板の前記第1の基板側の第1の面に配置された遮光層と、
を備え、
前記第1の基板及び前記第2の基板を貫通する貫通孔が形成されており、
前記遮光層は、前記第1の面において遮光材料がある領域であり、前記遮光材料の内壁で当該遮光材料のない遮光材料非形成領域を取り囲み、該内壁が前記第2の基板の前記貫通孔より外側にある、表示装置。
(1)
A first substrate;
A second substrate disposed opposite the first substrate;
A liquid crystal inserted between the first substrate and the second substrate;
A light shielding layer disposed on a first surface of the second substrate on the first substrate side;
With
A through-hole penetrating the first substrate and the second substrate is formed;
The light shielding layer is a region having a light shielding material on the first surface, and an inner wall of the light shielding material surrounds a light shielding material non-formation region without the light shielding material, and the inner wall is the through hole of the second substrate. A display device on the outer side.

(2)
前記遮光層の前記内壁は、前記第1の面と反対側の第2の面と、前記貫通孔とが交わる点から前記第2の基板の厚み分をレーザ光の屈折角で計算した前記第1の面から出射する点よりも、前記貫通孔から離れている、前記(1)に記載の表示装置。
(2)
The inner wall of the light shielding layer has the second substrate thickness calculated from the refraction angle of the laser beam from the point where the second surface opposite to the first surface intersects the through hole. The display device according to (1), wherein the display device is further away from the through hole than a point that exits from the surface of 1.

(3)
前記第1の基板と前記第2の基板との間に、前記貫通孔を囲むように配置されて前記液晶を封止するとともに、前記遮光層と外部との間を遮断する貫通孔シールを更に備える、前記(1)又は前記(2)に記載の表示装置。
(3)
A through-hole seal is disposed between the first substrate and the second substrate so as to surround the through-hole to seal the liquid crystal and to block between the light-shielding layer and the outside. The display device according to (1) or (2).

(4)
前記貫通孔シールの内径は、前記第1の基板及び前記第2の基板の孔の内径より大きい、前記(3)に記載の表示装置。
(4)
The display device according to (3), wherein an inner diameter of the through-hole seal is larger than inner diameters of holes of the first substrate and the second substrate.

(5)
前記貫通孔は、レーザ光を照射されて形成される、前記(1)から前記(4)のいずれか1つに記載の表示装置。
(5)
The display device according to any one of (1) to (4), wherein the through hole is formed by being irradiated with a laser beam.

(6)
前記貫通孔は、レーザ光を照射することによって前記第1の基板及び前記第2の基板をカットすることで形成されており、前記遮光層の内壁は、前記第2の基板をカットするカットラインと前記第2の基板の前記第2の面との交点に入射した前記レーザ光が屈折して前記第2の基板の前記第1の面から出射する点よりも、前記カットラインから離れている、前記(5)に記載の表示装置。
(6)
The through hole is formed by cutting the first substrate and the second substrate by irradiating a laser beam, and an inner wall of the light shielding layer is a cut line for cutting the second substrate. And the point where the laser beam incident on the intersection of the second substrate and the second surface of the second substrate is refracted and is further away from the cut line than the point where the laser beam is emitted from the first surface of the second substrate. The display device according to (5).

(7)
前記(1)から前記(6)のいずれか1つに記載の表示装置と、前記表示装置に入力信号を供給する制御装置と、を有する電子機器。
(7)
An electronic apparatus comprising: the display device according to any one of (1) to (6); and a control device that supplies an input signal to the display device.

1 表示装置
2 表示パネル
11 ガラス基板
21 表示エリア部
22 垂直ドライバ
23 水平ドライバ
24 走査線
25 信号線
100 メータユニット
110 液晶表示装置
160 液晶パネル
161 TFT基板(第1の基板)
162 対向基板(第2の基板)
169 貫通孔シール
200 ブラックマトリクス
210 レーザ発振器
H 貫通孔
LC 液晶素子
Tr TFT素子
Vpix 画素
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Display apparatus 2 Display panel 11 Glass substrate 21 Display area part 22 Vertical driver 23 Horizontal driver 24 Scan line 25 Signal line 100 Meter unit 110 Liquid crystal display device 160 Liquid crystal panel 161 TFT substrate (1st board | substrate)
162 Counter substrate (second substrate)
169 Through-hole seal 200 Black matrix 210 Laser oscillator H Through-hole LC Liquid crystal element Tr TFT element Vpix Pixel

Claims (7)

第1の基板と、
前記第1の基板に対向して配置された第2の基板と、
前記第1の基板と前記第2の基板との間に挿設された液晶と、
前記第2の基板の前記第1の基板側の第1の面に配置された遮光層と、
を備え、
前記第1の基板及び前記第2の基板を貫通する貫通孔が形成されており、
前記遮光層は、前記第1の面において遮光材料がある領域であり、前記遮光材料の内壁で当該遮光材料のない遮光材料非形成領域を取り囲み、該内壁が前記第2の基板の前記貫通孔より外側にある、
表示装置。
A first substrate;
A second substrate disposed opposite the first substrate;
A liquid crystal inserted between the first substrate and the second substrate;
A light shielding layer disposed on a first surface of the second substrate on the first substrate side;
With
A through-hole penetrating the first substrate and the second substrate is formed;
The light shielding layer is a region having a light shielding material on the first surface, and an inner wall of the light shielding material surrounds a light shielding material non-formation region without the light shielding material, and the inner wall is the through hole of the second substrate. On the outside,
Display device.
前記遮光層の前記内壁は、前記第1の面と反対側の第2の面と、前記貫通孔とが交わる点から前記第2の基板の厚み分をレーザ光の屈折角で計算した前記第1の面から出射する点よりも、前記貫通孔から離れている、
請求項1に記載の表示装置。
The inner wall of the light shielding layer has the second substrate thickness calculated from the refraction angle of the laser beam from the point where the second surface opposite to the first surface intersects the through hole. It is farther from the through hole than the point that exits from the surface of 1.
The display device according to claim 1.
前記第1の基板と前記第2の基板との間に、前記貫通孔を囲むように配置されて前記液晶を封止するとともに、前記遮光層と外部との間を遮断する貫通孔シールを更に備える、
請求項1又は2に記載の表示装置。
A through-hole seal is disposed between the first substrate and the second substrate so as to surround the through-hole to seal the liquid crystal and to block between the light-shielding layer and the outside. Prepare
The display device according to claim 1.
前記貫通孔シールの内径は、前記第1の基板及び前記第2の基板の孔の内径より大きい、
請求項3に記載の表示装置。
The inner diameter of the through-hole seal is larger than the inner diameters of the holes of the first substrate and the second substrate,
The display device according to claim 3.
前記貫通孔は、レーザ光を照射されて形成される、
請求項1から4のいずれか1項に記載の表示装置。
The through hole is formed by being irradiated with a laser beam.
The display device according to claim 1.
前記貫通孔は、レーザ光を照射することによって前記第1の基板及び前記第2の基板をカットすることで形成されており、
前記遮光層の内壁は、前記第2の基板をカットするカットラインと前記第2の基板の前記第2の面との交点に入射した前記レーザ光が屈折して前記第2の基板の前記第1の面から出射する点よりも、前記カットラインから離れている、
請求項5に記載の表示装置。
The through hole is formed by cutting the first substrate and the second substrate by irradiating a laser beam,
The inner wall of the light shielding layer is refracted by the laser beam incident on the intersection of the cut line for cutting the second substrate and the second surface of the second substrate, and the second wall of the second substrate is refracted. It is farther from the cut line than the point exiting from the surface of 1.
The display device according to claim 5.
第1の基板と、前記第1の基板に対向して配置された第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板との間に挿設された液晶と、前記第2の基板の前記第1の基板側の第1の面に配置された遮光層と、を備え、前記第1の基板及び前記第2の基板を貫通する貫通孔が形成されており、前記遮光層は、前記第1の面において遮光材料がある領域であり、前記遮光材料の内壁で当該遮光材料のない遮光材料非形成領域を取り囲み、該内壁が前記第2の基板の前記貫通孔より外側にある、表示装置と、
前記表示装置に入力信号を供給する制御装置と、を有する電子機器。
A first substrate; a second substrate disposed opposite to the first substrate; a liquid crystal interposed between the first substrate and the second substrate; and the second substrate A light shielding layer disposed on a first surface of the substrate on the first substrate side, and a through hole penetrating the first substrate and the second substrate is formed, and the light shielding layer is The first surface is a region having a light shielding material, and the inner wall of the light shielding material surrounds a light shielding material non-formation region without the light shielding material, and the inner wall is outside the through hole of the second substrate. A display device;
And a control device that supplies an input signal to the display device.
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