JP2009269057A - Laser beam machining method and apparatus - Google Patents

Laser beam machining method and apparatus Download PDF

Info

Publication number
JP2009269057A
JP2009269057A JP2008122272A JP2008122272A JP2009269057A JP 2009269057 A JP2009269057 A JP 2009269057A JP 2008122272 A JP2008122272 A JP 2008122272A JP 2008122272 A JP2008122272 A JP 2008122272A JP 2009269057 A JP2009269057 A JP 2009269057A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser
laser beam
processing method
thin plate
laser processing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2008122272A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5539625B2 (en
Inventor
Takahiro Nagashima
崇弘 長嶋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Miyachi Technos Corp
Original Assignee
Miyachi Technos Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Miyachi Technos Corp filed Critical Miyachi Technos Corp
Priority to JP2008122272A priority Critical patent/JP5539625B2/en
Publication of JP2009269057A publication Critical patent/JP2009269057A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5539625B2 publication Critical patent/JP5539625B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress damage and the like as little as possible and to efficiently perform highly accurate machining in drilling or gouging a thin plate. <P>SOLUTION: Drilling of a round hole 30 is performed on a thin glass plate 12. A laser beam L is scanned quadruply in order of scanning lines 42a, 42b, 42c and 42d, inside the contour 40 of the round hole 30 viewed from above, of a target as a reference, within a range of a machining width H from the contour 40 and nearly in parallel to the contour 40. By machining in such steps, the side face of the round hole 30 can be formed with high accuracy. In the case of gouging, the laser beam L is scanned multiply from the outside to the inside of a component 31 to be gouged. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、レーザ光を用いて薄板に孔開け加工やくり抜き加工を施すレーザ加工方法及びレーザ加工装置に関する。   The present invention relates to a laser processing method and a laser processing apparatus that perform drilling and punching processing on a thin plate using laser light.

近年、FPD(フラットパネルディスプレイ)や携帯電話等に用いられる液晶ディスプレイ等には、板厚1mm以下の薄いガラス板が用いられている。このガラス板の板厚はディスプレイの薄型化に伴って一層薄くなっており、板厚が0.2mm以下と極めて薄いものも用いられている。さらに、いわゆる有機ELディスプレイでは、可撓性を有したディスプレイも開発されており、この場合、可撓性を有すると共に極めて薄いフィルムが用いられている。   In recent years, a thin glass plate having a thickness of 1 mm or less is used for a liquid crystal display or the like used for an FPD (flat panel display), a cellular phone, or the like. The thickness of the glass plate is further reduced as the display is made thinner, and an extremely thin plate thickness of 0.2 mm or less is also used. Furthermore, as a so-called organic EL display, a flexible display has been developed. In this case, a flexible and extremely thin film is used.

脆性材料であるガラス板等に孔開け加工やくり抜き加工を行う場合、ダイヤモンドカッター等によって機械的な加工を行うことがあるが、上記のような極めて板厚の薄い薄板を加工する場合には、カッターによる機械的応力によって当該薄板が破損し、また加工に相当の時間を要する。   When drilling or punching into a glass plate that is a brittle material, it may be mechanically processed with a diamond cutter, etc., but when processing a thin plate with a very thin thickness as described above, The thin plate is damaged by the mechanical stress by the cutter, and it takes a considerable time for processing.

特許文献1には、板厚1mmのガラス板に微細な貫通孔を開ける場合に、パルス発振YAGレーザを用いて加工を行う従来技術が記載されている。この従来技術では、YAGレーザがガラスに吸収されて発生する高熱を利用し、当該ガラスを直線状に溶融させつつ直線状の貫通孔を開けている。   Patent Document 1 describes a conventional technique in which processing is performed using a pulsed YAG laser when a fine through hole is formed in a glass plate having a thickness of 1 mm. In this prior art, the high temperature generated by the YAG laser being absorbed by the glass is used to open the linear through-hole while melting the glass linearly.

特開2000−61667号公報JP 2000-61667 A

ところで、上記従来技術のように単なる直線状の微細な貫通孔を開ける場合以外にも、例えば、ガラス板等の薄板に所定形状の孔開け加工をする場合や所定形状にくり抜き加工をして該くり抜きした部品を製品として使用したい場合には、切断部の外観品質を高くし、加工精度を高くすることが要求される。また、生産効率の向上のためには、加工時間を短縮する必要もある。   By the way, in addition to the case where a simple straight through-hole is formed as in the above-described prior art, for example, when a predetermined shape is drilled in a thin plate such as a glass plate or the like, When it is desired to use a hollowed part as a product, it is required to increase the appearance quality of the cut portion and increase the processing accuracy. Moreover, in order to improve production efficiency, it is necessary to shorten processing time.

しかしながら、機械的な加工方法ではエッジ欠けの発生により薄板が所望の加工寸法を超えて破損する可能性があり、また、上記特許文献1に記載の加工方法でも薄板が所望の加工寸法を超えて溶融する可能性があり、これらの加工方法では高精度で所望の加工形状を得ることが難しい。つまり、特許文献1に記載の加工方法では、単なる貫通孔を開けることしか想定しておらず、所定の形状に孔開けやくり抜きを行うことまでは考慮されていない。   However, in the mechanical processing method, there is a possibility that the thin plate may be damaged beyond the desired processing dimension due to the occurrence of edge chipping. In the processing method described in Patent Document 1, the thin plate exceeds the desired processing size. There is a possibility of melting, and it is difficult to obtain a desired processing shape with high accuracy by these processing methods. That is, in the processing method described in Patent Document 1, it is assumed that only a through hole is formed, and no consideration is given to performing drilling or punching into a predetermined shape.

さらに、上記した可撓性を有する薄板の場合、機械的加工を行う際には材料に撓みが生じるため加工が難しく、特許文献1に記載の加工方法では上記と同様に所望の加工寸法を得ることが難しい。   Furthermore, in the case of the above-described thin plate having flexibility, the processing is difficult because the material is bent during the mechanical processing, and the processing method described in Patent Document 1 obtains a desired processing dimension as described above. It is difficult.

さらにまた、脆性材料の加工をする場合、薄板からくり抜き部品又は残余部をくり抜くときに、抜き出しにくく、無理な力を掛けると割れが生じてしまう。   Furthermore, when processing a brittle material, it is difficult to extract a punched part or a remaining part from a thin plate, and cracking occurs when an excessive force is applied.

本発明は、上記従来の課題を考慮してなされたものであり、薄板に孔開け加工やくり抜き加工を施す場合に、材料の破損等を可及的に抑え、しかも高精度な加工を高効率で行うことができるレーザ加工方法及びレーザ加工装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of the above-described conventional problems, and in the case of drilling or punching a thin plate, material damage is suppressed as much as possible, and highly accurate processing is highly efficient. It is an object of the present invention to provide a laser processing method and a laser processing apparatus that can be performed by the above method.

本発明に係るレーザ加工方法は、レーザ光を用いて薄板に孔開け加工又はくり抜き加工を施すレーザ加工方法であって、前記レーザ光を、前記孔開け加工又は前記くり抜き加工によって得られる目的物の平面視である目的物図形の輪郭線を基準とした一方の側で該輪郭線を含み所定幅の範囲で、該輪郭線と略平行に、多重に走査することを特徴とする。   The laser processing method according to the present invention is a laser processing method for performing drilling or hollowing on a thin plate using a laser beam, wherein the laser beam is an object obtained by the drilling or hollowing. One side with respect to the contour line of the object figure in plan view is characterized in that multiple scanning is performed in a range of a predetermined width including the contour line and substantially parallel to the contour line.

また、本発明に係るレーザ加工装置は、パルス状のレーザ光を発振するレーザ光発振手段と、前記レーザ光を加工物である薄板に照射するレーザ光出射手段と、を有し、前記レーザ光出射手段は、前記レーザ光を所定のパターンに走査するレーザ光走査手段を備え、該レーザ光走査手段は、前記薄板に対する孔開け加工又はくり抜き加工によって得られる目的物の平面視である目的物図形の輪郭線を基準とした一方の側で該輪郭線を含み所定幅の範囲で、該輪郭線と略平行に、多重に走査することを特徴とする。   The laser processing apparatus according to the present invention further includes a laser beam oscillation unit that oscillates a pulsed laser beam, and a laser beam emitting unit that irradiates the thin plate as a workpiece with the laser beam. The emitting means includes laser light scanning means for scanning the laser light in a predetermined pattern, and the laser light scanning means is a target object figure that is a plan view of an object obtained by punching or punching the thin plate. In other words, a plurality of scans are performed in parallel with the contour line within a predetermined width including the contour line on one side with respect to the contour line.

このように、目的物の輪郭線に対して略平行に多重でレーザ光を走査することにより、材料の破損等を可及的に抑え、しかも高精度な加工を高効率で行うことができる。薄板とは1mm以下である。平行とは一致する状態を含み得る。   In this way, by scanning the laser beam in a multiple manner substantially parallel to the contour line of the target object, damage to the material can be suppressed as much as possible, and high-precision processing can be performed with high efficiency. The thin plate is 1 mm or less. Parallel may include matching states.

前記目的物は孔であって、加工される孔の内側から外側へ向かって、多重に前記レーザ光を走査してもよい。このような順序で加工をすることにより、目的物である孔の側面を高精度に形成することができる。   The object may be a hole, and the laser beam may be scanned in multiple directions from the inside to the outside of the hole to be processed. By processing in this order, the side surface of the hole, which is the object, can be formed with high accuracy.

前記目的物はくり抜き部品であって、加工されるくり抜き部品よりも外側から内側へ向かって、多重に前記レーザ光を走査してもよい。このような順序で加工をすることにより、目的物であるくり抜き部品の側面を高精度に形成することができる。   The object is a hollow part, and the laser beam may be scanned in multiple directions from the outside to the inside of the hollow part to be processed. By processing in this order, the side surface of the cut-out component that is the object can be formed with high accuracy.

多重に走査する走査線のピッチは、集光点におけるレーザ光径の0.5〜10倍に設定してもよい。   You may set the pitch of the scanning line scanned in multiple to 0.5-10 times the laser beam diameter in a condensing point.

前記レーザ光はパルス状に照射され、そのパルス幅は、100ps〜50nsに設定してもよい。   The laser beam may be irradiated in a pulse shape, and the pulse width may be set to 100 ps to 50 ns.

前記薄板は略水平に配設され、前記レーザ光を前記薄板の上面側から照射して下面側へと透過させ、該レーザ光の集光点を前記薄板の下側面に設定してもよい。これにより、集光点でない箇所においてもレーザ光が適度に作用して加工を促進する。   The thin plate may be disposed substantially horizontally, and the laser light may be irradiated from the upper surface side of the thin plate and transmitted to the lower surface side, and the condensing point of the laser light may be set on the lower surface of the thin plate. As a result, the laser beam acts appropriately even at a location that is not the condensing point to promote processing.

前記レーザ光はグリーンレーザであってもよい。グリーンレーザでは、ガラスをほぼ完全に透過するので、熱が発生しにくく、クラックの発生を抑えて高精度の加工が可能となる。   The laser beam may be a green laser. Since the green laser transmits almost completely through the glass, heat is not easily generated, and high-precision processing is possible by suppressing the generation of cracks.

前記レーザ光走査手段は、ガルバノ・スキャナであると高速且つ高精度にレーザ光を照射させることができるので、孔開け加工又はくり抜き加工を高速且つ高精度に行うことができる。   If the laser beam scanning means is a galvano scanner, it can irradiate laser beam at high speed and with high accuracy, so that drilling or punching can be performed at high speed and with high accuracy.

本発明に係るレーザ加工方法及びレーザ加工装置では、目的物の輪郭線に対して略平行に多重でレーザ光を走査することにより、材料の破損等を可及的に抑え、しかも高精度な加工を高効率で行うことができる。   In the laser processing method and the laser processing apparatus according to the present invention, the laser beam is scanned in multiples substantially parallel to the contour line of the target object, thereby suppressing damage to the material as much as possible and high-precision processing. Can be performed with high efficiency.

以下、本発明に係るレーザ加工方法及びレーザ加工装置について実施の形態を挙げ、添付の図面を参照しながら説明する。   Embodiments of a laser processing method and a laser processing apparatus according to the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.

図1は本実施形態におけるレーザ加工装置10を示す斜視図である。本実施の形態に係るレーザ加工装置10は、制御電源ユニット1と、レーザ光発振手段としてのレーザ発振ユニット16と、レーザ光出射手段としてのレーザヘッド21と、操作盤6と、ステージ18と、用力室5とを備えている。用力室5には、電力系の部品・回路基板やチラー装置(図示せず)等が収容されている。   FIG. 1 is a perspective view showing a laser processing apparatus 10 in the present embodiment. The laser processing apparatus 10 according to the present embodiment includes a control power supply unit 1, a laser oscillation unit 16 as a laser beam oscillation unit, a laser head 21 as a laser beam emission unit, an operation panel 6, a stage 18, A utility chamber 5 is provided. The utility chamber 5 accommodates power system components, circuit boards, chiller devices (not shown), and the like.

レーザ加工装置10の基本構成において、制御電源ユニット1には主に制御基盤(図示せず)等が内蔵されており、その周りに操作盤(例えば、キーボードやポインティングデバイス等)6及びディスプレイ3が設けられている。   In the basic configuration of the laser processing apparatus 10, the control power supply unit 1 mainly includes a control board (not shown) and the like, and an operation panel (for example, a keyboard and a pointing device) 6 and a display 3 are disposed around the control board. Is provided.

図2に示すように、レーザ発振ユニット16は、レーザ発振器20及び励起部(図示せず)等が内蔵されている。レーザ発振器20としては、例えばQスイッチパルス型のレーザ発振器を用いることができる。レーザ加工装置10において、レーザ発振器20から発振されるレーザ光Lは、パルス状のグリーンレーザ(例えば、第2高調波波長が532nm前後)である。レーザ光Lのパルス幅(時間間隔)は、100ps〜50nsに設定するとよい。   As shown in FIG. 2, the laser oscillation unit 16 includes a laser oscillator 20 and an excitation unit (not shown). As the laser oscillator 20, for example, a Q switch pulse type laser oscillator can be used. In the laser processing apparatus 10, the laser light L oscillated from the laser oscillator 20 is a pulsed green laser (for example, the second harmonic wavelength is around 532 nm). The pulse width (time interval) of the laser light L is preferably set to 100 ps to 50 ns.

レーザヘッド21は、レーザ光走査手段としてのガルバノ・スキャナ26と、fθレンズ(歪曲特性を有する集光レンズ)28とを収容又は装備しており、レーザ発振ユニット16の出射口に一体的に結合されている。ガルバノ・スキャナ26は、互いに直交して配置される一対(X,Y)のXミラー26aとYミラー26bとを有している。Xミラー26aは、レーザ光Lを所定のX方向に走査する。また、Yミラー26bは、レーザ光LをX方向に直交するY方向に走査する。このようなガルバノ・スキャナ26を用いることにより、後述する薄板12に対してレーザ光Lを高速且つ高精度に照射させることができるので、孔開け加工又はくり抜き加工を高速且つ高精度に行うことができる。   The laser head 21 contains or is equipped with a galvano scanner 26 as laser beam scanning means and an fθ lens (a condensing lens having distortion characteristics) 28, and is integrally coupled to the emission port of the laser oscillation unit 16. Has been. The galvano scanner 26 has a pair of (X, Y) X mirrors 26a and Y mirrors 26b arranged orthogonal to each other. The X mirror 26a scans the laser beam L in a predetermined X direction. The Y mirror 26b scans the laser light L in the Y direction orthogonal to the X direction. By using such a galvano scanner 26, it is possible to irradiate a thin plate 12 to be described later with a laser beam L at high speed and with high accuracy, so that drilling or punching can be performed at high speed and with high accuracy. it can.

ステージ18は、レーザヘッド21の出射口に対向してその直下に設けられている。薄板12は、このステージ18上に略水平に載置されている。ステージ18には、図2の矢印A方向に平面的に見て、少なくともレーザ光を照射する領域を囲むように又はその領域を挟んだ両側に受け具19が設けられている。この受け具19により、薄板12をステージ18の表面から所定高さの位置に設置し、薄板12とステージ18の間に間隙Gを形成する。この間隙Gを形成することにより、孔開け加工であればその孔の内側にある加工されない部分を含む加工屑を薄板12の下側に確実に排出することができる。一方、くり抜き加工であればくり抜かれた目的物をステージ18上で受けることができる。   The stage 18 is provided directly below the exit of the laser head 21. The thin plate 12 is placed substantially horizontally on the stage 18. The stage 18 is provided with receiving tools 19 so as to surround at least a region irradiated with the laser beam or on both sides of the region, as viewed in the direction of arrow A in FIG. With this receiving tool 19, the thin plate 12 is placed at a predetermined height from the surface of the stage 18, and a gap G is formed between the thin plate 12 and the stage 18. By forming this gap G, if it is drilling, the processing waste including the unprocessed part inside the hole can be reliably discharged to the lower side of the thin plate 12. On the other hand, the cut object can be received on the stage 18 if it is cut.

なお、受け具19には薄板12を位置不動に固定するための固定手段を設けることが望ましい。この固定手段として、例えば真空吸着装置を用いることができる。この真空吸着装置は、薄板12として、脆性材料、例えば板厚が薄いガラス板を用いる場合において、そのガラス板を破損することなく確実に固定することができる。本実施形態の薄板12は、図3に示すように、例えば液晶用ガラス板であって、板厚は0.2mmである。   In addition, it is desirable to provide the receiving device 19 with a fixing means for fixing the thin plate 12 in a fixed position. As this fixing means, for example, a vacuum suction device can be used. When using a brittle material, for example, a thin glass plate, as the thin plate 12, the vacuum suction device can reliably fix the glass plate without damaging it. As shown in FIG. 3, the thin plate 12 of the present embodiment is a glass plate for liquid crystal, for example, and has a thickness of 0.2 mm.

本実施形態のレーザ加工装置10では、レーザ発振器20より発振出力されたパルスレーザ光Lは、レーザヘッド21内でXミラー26aとYミラー26bの各回転角(振れ角)に応じた反射角で順次反射してからfθレンズ28を通って略垂直下方に出射される。出射されたレーザ光Lはそのまま空中を直進してステージ18上の薄板12の所定位置に集光し、所望の加工が行われる。   In the laser processing apparatus 10 of the present embodiment, the pulsed laser light L oscillated and output from the laser oscillator 20 has a reflection angle corresponding to each rotation angle (deflection angle) of the X mirror 26a and the Y mirror 26b in the laser head 21. After being sequentially reflected, the light passes through the fθ lens 28 and is emitted substantially vertically downward. The emitted laser light L travels straight in the air as it is, and is condensed at a predetermined position of the thin plate 12 on the stage 18 to perform desired processing.

なお、ステージ18は、図1に示すように、水平面内でXY方向に移動及び位置決め可能なXYステージとすることができる。こうすれば、XYステージ18を、ガルバノ・スキャナ26に替えて又はガルバノ・スキャナ26に加えて、薄板12に対してレーザ光Lを照射させる位置を制御する手段として用いることができる。   As shown in FIG. 1, the stage 18 can be an XY stage that can be moved and positioned in the XY directions within a horizontal plane. In this way, the XY stage 18 can be used as means for controlling the position at which the thin plate 12 is irradiated with the laser light L instead of or in addition to the galvano scanner 26.

レーザ加工装置10では薄板12に対してくり抜き加工をして、目的物として、図4Aに示すようなくり抜き部品31を得ることができる。   In the laser processing apparatus 10, the thin plate 12 is cut out, and a hollow part 31 can be obtained as an object as shown in FIG. 4A.

また、レーザ加工装置10では薄板12に対して孔開け加工をして、目的物として図4Bに示すような丸孔30や、図4Cに示すような長孔32を得ることができる。薄板12から得る目的物(つまり、くり抜き部品31、丸孔30、長孔32等)は、1つでもよいし、複数でもよい。   Further, in the laser processing apparatus 10, the thin plate 12 can be drilled to obtain a round hole 30 as shown in FIG. 4B or a long hole 32 as shown in FIG. 4C as an object. The number of objects (that is, the cutout part 31, the round hole 30, the long hole 32, etc.) obtained from the thin plate 12 may be one or plural.

次に、レーザ加工装置10を用いて行われるレーザ加工方法について詳細に説明する。まず、丸孔30の孔開け加工について説明する。   Next, a laser processing method performed using the laser processing apparatus 10 will be described in detail. First, the drilling process of the round hole 30 will be described.

図5に示すように、丸孔30の孔開け加工では、目的物(つまり、丸孔30)の平面視である目的物図形の輪郭線40を基準とした内側で該輪郭線40を含み加工幅(所定幅)Hの範囲で、該輪郭線40と略平行に、レーザ光Lを4重に走査する。加工幅Hは、H=(N−1)×Pで表される。ここで、Nは走査線42の数(N=4)であり、Pは走査線42のピッチである。第1回目から第4回目の走査線42を、走査線42a、42b、42c及び42dとして区別して図示する。   As shown in FIG. 5, in the drilling process of the round hole 30, the process includes the contour line 40 on the inner side with respect to the contour line 40 of the target object figure in plan view of the target object (that is, the round hole 30). In a range of a width (predetermined width) H, the laser beam L is scanned four times in parallel with the contour line 40. The processing width H is represented by H = (N−1) × P. Here, N is the number of scanning lines 42 (N = 4), and P is the pitch of the scanning lines 42. The first to fourth scanning lines 42 are shown separately as scanning lines 42a, 42b, 42c and 42d.

加工目的物が孔(丸孔30)である場合、加工される孔の内側から外側へ向かって、多重にレーザ光Lを走査する。つまり、第4回目の走査線42dは輪郭線40と一致する。これを強調するため、図5では走査線42dを太線で示している。   When the object to be processed is a hole (round hole 30), the laser light L is scanned in multiple directions from the inside to the outside of the hole to be processed. That is, the fourth scanning line 42 d coincides with the contour line 40. In order to emphasize this, in FIG. 5, the scanning line 42d is indicated by a bold line.

このような順序で加工をすることにより、目的物である孔の側面を高精度に形成することができる。   By processing in this order, the side surface of the hole, which is the object, can be formed with high accuracy.

設計条件によっては、走査線42a、42b、42c及び42dの走査順序は適宜変更してもよく、例えば逆順に行ってもよく、又は走査線42b又は42cを最初に走査してもよい。   Depending on the design conditions, the scanning order of the scanning lines 42a, 42b, 42c, and 42d may be changed as appropriate. For example, the scanning order may be reversed, or the scanning line 42b or 42c may be scanned first.

走査線Nは2以上(つまり、多重)に設定すればよく、例えば3≦N≦10程度が好適である。多重に走査する走査線42のピッチPは、集光点44(図6参照)におけるレーザ光の直径(図6参照)の0.5〜10倍に設定するとよい。   The scanning line N may be set to 2 or more (that is, multiple), and for example, about 3 ≦ N ≦ 10 is preferable. The pitch P of the scanning lines 42 to be scanned in multiples is preferably set to 0.5 to 10 times the diameter of the laser beam (see FIG. 6) at the condensing point 44 (see FIG. 6).

走査線42a、42b及び42cによって走査されて囲まれる図形は、輪郭線40と相似形で、且つ中心(目的物が非円形の場合は重心)を一致させて、各走査線42を略平行にするとよい。   The figure scanned and surrounded by the scanning lines 42a, 42b, and 42c is similar to the outline 40, and the center (the center of gravity when the target is non-circular) is made coincident, and each scanning line 42 is made substantially parallel. Good.

このように、目的物の輪郭線40に対して平行に多重でレーザ光を走査することにより、材料の破損等を可及的に抑え、しかも高精度な加工を高効率で行うことができる。   In this way, by scanning multiple laser beams in parallel to the contour line 40 of the target object, it is possible to suppress damage to the material as much as possible, and to perform highly accurate processing with high efficiency.

図6に示すように、レーザ光Lはパルス状であり、隣接する集光点44同士が重複するように照射するとよく、集光点44におけるレーザ光径rと同じ距離以上(直径を基準にすると50%以上)が重複していると、十分に連続的な走査がなされて好適である。前記の通り、レーザ光Lのパルス幅(時間間隔)は、100ps〜50nsに設定するとよい。   As shown in FIG. 6, the laser light L is pulsed and may be irradiated so that the adjacent condensing points 44 overlap each other. The laser light L at the condensing point 44 is equal to or longer than the laser light diameter r (based on the diameter). If 50% or more) overlap, it is preferable that sufficiently continuous scanning is performed. As described above, the pulse width (time interval) of the laser light L may be set to 100 ps to 50 ns.

図7に示すように、レーザ光Lを薄板12の上面12a側から照射して下面12b側へと透過させる。このとき、レーザ光Lの集光点44を薄板12の下面12bに合わせて設定しておくとよい。こうすると、レーザ光Lが照射されている薄板12の領域内においてレーザ加工が進み、薄板12の上面12a側から薄板12の加工屑が排出される。   As shown in FIG. 7, the laser beam L is irradiated from the upper surface 12a side of the thin plate 12 and transmitted to the lower surface 12b side. At this time, the condensing point 44 of the laser beam L may be set according to the lower surface 12b of the thin plate 12. If it carries out like this, laser processing will progress in the area | region of the thin plate 12 with which the laser beam L is irradiated, and the processing waste of the thin plate 12 will be discharged | emitted from the upper surface 12a side of the thin plate 12. FIG.

本実施形態におけるレーザ加工の原理は、以下のように推定することができる。薄板12に含まれた不純物や欠陥の影響でレーザ光の通過部分において吸収や多光子吸収(尖頭値≧10GW/cm2)が生じ、そこにマイクロクラックが形成される。このクラック表面の凹凸や荒れがレーザ光Lを吸収し、クラック部分が発熱して加工が行われる。 The principle of laser processing in this embodiment can be estimated as follows. Under the influence of impurities and defects contained in the thin plate 12, absorption and multiphoton absorption (peak value ≧ 10 GW / cm 2 ) occur in the laser beam passage portion, and microcracks are formed there. The unevenness or roughness of the crack surface absorbs the laser beam L, and the crack portion generates heat to perform processing.

本実施形態では、薄板12の材料であるガラスに対して透明なレーザ光であるグリーンレーザ(波長532nm)を用いて加工を行うので、余計な発熱やアブレーションが生じない。これにより、熱歪等により割れが発生することなく、実際上は仮想線で示す貫通孔46が形成される。   In the present embodiment, since processing is performed using a green laser (wavelength of 532 nm), which is a transparent laser beam, on the glass that is the material of the thin plate 12, no excessive heat generation or ablation occurs. Thereby, the through-hole 46 shown by the imaginary line is actually formed without cracking due to thermal strain or the like.

このような貫通孔46が走査線42に沿って形成されるとともに、隣接する他の走査線42における貫通孔46とも連係し、1つの丸孔30が形成されるのである。貫通孔46は、完全に貫通してなくてもよく、貫通孔46が全体的に連係して、丸孔30の内部を取り除くことができればよく、例えば、加工精度に影響のない微小なクラック等を含んでいてもよい。なお、貫通孔46は誇張して図示している。   Such a through hole 46 is formed along the scanning line 42, and is linked with the through hole 46 in another adjacent scanning line 42 to form one round hole 30. The through hole 46 does not have to penetrate completely, and it is sufficient that the through hole 46 is linked together and the inside of the round hole 30 can be removed. For example, a minute crack or the like that does not affect the processing accuracy. May be included. The through hole 46 is exaggerated.

このように、レーザ光Lを用いて4重の走査を行うことにより、概念的には、図8に示すように、4本の筋が設けられて、中央の残余部48が容易に取り除かれて丸孔30が形成される。   Thus, by performing quadruple scanning using the laser light L, conceptually, as shown in FIG. 8, four streaks are provided, and the central remaining portion 48 is easily removed. Thus, a round hole 30 is formed.

レーザ光Lはグリーンレーザであることから、ガラスの薄板12をほぼ完全に透過するので、熱が発生しにくく、有害なクラックの発生を抑えて高精度の加工が可能となる。   Since the laser beam L is a green laser, it passes through the glass thin plate 12 almost completely, so that heat is hardly generated, and generation of harmful cracks can be suppressed and high-precision processing can be performed.

加工幅Hはある程度広く設定してもよく、例えば、丸孔30の直径の3/4程度(加工幅Hとしては最大で3/8程度)の領域を最大の加工範囲とすることができる。   The machining width H may be set to be somewhat wide. For example, an area that is about 3/4 of the diameter of the round hole 30 (the machining width H is about 3/8 at the maximum) can be set as the maximum machining range.

図9に示すように、長孔32の孔開け加工は、丸孔30の孔開け加工と同様に、内側から外側に向かって順に4重の走査線50a、50b、50c及び50dによってレーザ光Lを走査すればよい。   As shown in FIG. 9, in the drilling process of the long hole 32, the laser beam L is sequentially applied by the four scanning lines 50a, 50b, 50c and 50d from the inside to the outside in the same manner as the drilling process of the round hole 30. May be scanned.

次に、四角枠34のくり抜き加工について説明する。四角枠34のくり抜き加工において、丸孔30の孔開け加工と同じ箇所については同符号を付してその詳細な説明を省略する。   Next, the cutting process of the square frame 34 will be described. In the punching process of the rectangular frame 34, the same portions as those in the drilling process of the round holes 30 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

図10に示すように、四角枠34のくり抜き加工では、目的物(つまり、くり抜き部品31)の平面視である目的物図形の輪郭線60を基準とした内側で該輪郭線60を含み加工幅Hの範囲で、該輪郭線60と略平行に、レーザ光Lを4重に走査する。第1回目から第4回目の走査線62を、走査線62a、62b、62c及び62dとして区別して図示する。   As shown in FIG. 10, in the hollowing of the square frame 34, the machining width including the contour 60 on the inner side with respect to the contour 60 of the target object in plan view of the target (that is, the hollow part 31). In the range of H, the laser light L is scanned four times in parallel with the contour line 60. The first to fourth scanning lines 62 are shown separately as scanning lines 62a, 62b, 62c and 62d.

加工目的物がくり抜き部品31である場合、該くり抜き部品31の輪郭線60よりも外側から内側へ向かって、多重にレーザ光Lを走査する。つまり、第4回目の走査線62dは輪郭線60と一致する。これを強調するため、図10では走査線62dを太線で示している。   When the object to be processed is the cutout part 31, the laser beam L is scanned in multiple directions from the outside to the inside of the outline 60 of the cutout part 31. That is, the fourth scanning line 62 d matches the contour line 60. In order to emphasize this, in FIG. 10, the scanning line 62d is indicated by a bold line.

このような順序で加工をすることにより、目的物であるくり抜き部品31の側面を高精度に形成することができる。   By processing in this order, the side surface of the cut-out component 31 that is the object can be formed with high accuracy.

設計条件によっては、走査線62a、62b、62c及び62dの走査順序は適宜変更してもよく、例えば逆順に行ってもよく、又は走査線62b又は62cを最初に走査してもよい。   Depending on the design conditions, the scanning order of the scanning lines 62a, 62b, 62c, and 62d may be changed as appropriate, for example, the scanning order may be reversed, or the scanning line 62b or 62c may be scanned first.

パルス幅、走査線N、ピッチP、隣接する集光点44同士の重複幅等は、丸孔30の孔開け加工の場合と同様である。図9に示す長孔32の場合は、端部の円弧径を基準として同様の範囲に設定すればよい。   The pulse width, the scanning line N, the pitch P, the overlapping width between adjacent condensing points 44 and the like are the same as in the case of drilling the round hole 30. In the case of the long hole 32 shown in FIG. 9, the same range may be set based on the arc diameter of the end.

なお、上記の例では、目的物の輪郭線40、60に対して相似形状にレーザ光Lを複数回走査したが、これに限らず、実質的に平行で且つ多重に走査すればよいのであって、例えば、図11に示すように、丸孔30の孔開け加工をする場合に螺旋状に走査をしてもよい。つまり、輪郭線40の内部の始点Sを基準として、螺旋状の走査線70で走査して、最後には輪郭線40に沿って1周の走査をする。この場合のピッチP及び加工幅Hは、図5に示す加工と同様に設定すればよい。仮想線で示すように、最初の始点S’は、隣接する走査線70に接していてもよい。このような加工によれば、1本の走査線70により孔開け加工(又はくり抜き加工)を行うことができて簡便である。   In the above example, the laser beam L is scanned a plurality of times in a similar shape with respect to the contour lines 40 and 60 of the target object. However, the present invention is not limited to this. For example, as shown in FIG. 11, when the hole 30 is drilled, scanning may be performed spirally. In other words, scanning is performed with the spiral scanning line 70 with the starting point S inside the contour line 40 as a reference, and finally, one round of scanning is performed along the contour line 40. The pitch P and the machining width H in this case may be set similarly to the machining shown in FIG. As indicated by a virtual line, the first start point S ′ may be in contact with the adjacent scanning line 70. According to such processing, it is possible to perform drilling (or punching) with one scanning line 70, which is convenient.

本発明者は、薄板12として、脆性材料の無アルカリガラス、青板ガラス、ほうケイ酸ガラスで実験を行って、良好な結果が得られており、これ以外にもサファイアガラス、セラミックス、シリコンウェハにも適用可能であると考えられる。薄板12は脆性材料に限らず、例えば、有機ELディスプレイ等に使用される可撓性フィルムにも適用可能である。   The present inventor conducted experiments with a brittle material such as non-alkali glass, blue plate glass, and borosilicate glass as the thin plate 12, and obtained good results. In addition, sapphire glass, ceramics, and silicon wafers were used. Is also considered applicable. The thin plate 12 is not limited to a brittle material, and can be applied to, for example, a flexible film used for an organic EL display or the like.

本実施の形態に係るレーザ加工方法及びレーザ加工装置10を脆性材料に適用すると、材質に割れが生じることなく、くり抜き部品31又は残余部48を容易にくり抜くことができる。特に、脆性材料の加工をする場合、くり抜き部品31及び残余部48が薄板12から確実に離れて、無理な力を掛けずに簡便且つ確実に抜き出すことができ、割れが生じない。   When the laser processing method and the laser processing apparatus 10 according to the present embodiment are applied to a brittle material, the cut-out component 31 or the remaining portion 48 can be easily cut out without causing a crack in the material. In particular, when processing a brittle material, the cut-out component 31 and the remaining portion 48 are reliably separated from the thin plate 12 and can be easily and reliably extracted without applying an excessive force, and no cracks are generated.

本実施の形態に係るレーザ加工方法及びレーザ加工装置10を脆性材料以外に適用すると、仮に材料が撓んでしまっても、くり抜き部品31又は残余部48を容易にくり抜くことができる。可撓性を有する薄板の場合で、撓みが生じても容易な加工が可能である。   When the laser processing method and the laser processing apparatus 10 according to the present embodiment are applied to a material other than a brittle material, the cutout part 31 or the remaining portion 48 can be easily cut out even if the material is bent. In the case of a thin plate having flexibility, even if bending occurs, easy processing is possible.

また、本実施の形態に係るレーザ加工方法及びレーザ加工装置10は、レーザ光Lを用いた簡便な方法であり、短時間で孔開け加工及びくり抜き加工を行うことができる。   The laser processing method and the laser processing apparatus 10 according to the present embodiment are a simple method using the laser beam L, and can perform drilling and punching in a short time.

さらに、本実施の形態に係るレーザ加工方法及びレーザ加工装置10は、機械的な加工方法と異なり、エッジ欠けの発生により薄板が所望の加工寸法を超えて破損することがない。さらにまた、上記特許文献1に記載の加工方法と異なり、薄板12が所望の加工寸法を超えて溶融することがなく、高精度である。   Furthermore, unlike the mechanical processing method, the laser processing method and the laser processing apparatus 10 according to the present embodiment do not damage the thin plate beyond the desired processing dimensions due to the occurrence of edge chipping. Furthermore, unlike the processing method described in Patent Document 1, the thin plate 12 does not melt beyond a desired processing dimension and is highly accurate.

レーザ光Lは、グリーンレーザに限らず、例えば紫外線レーザ(例えば、第3高調波(355nm)や第4高調波(266nm)等)や赤外線レーザ(基本波(1064nm)等)でもよい。加工物の材料が樹脂である場合には、レーザ光Lはグリーンレーザか、又はそれより波長の短いレーザ(例えば第3高調波等)を用いるとよい。   The laser beam L is not limited to a green laser, and may be, for example, an ultraviolet laser (for example, third harmonic (355 nm), fourth harmonic (266 nm), etc.) or an infrared laser (fundamental wave (1064 nm), etc.). When the material of the workpiece is resin, the laser light L may be a green laser or a laser having a shorter wavelength (for example, third harmonic).

複数のレーザ光Lを用いて、例えば、丸孔30、長孔32及び四角枠34について同時に加工をしたり、丸孔30の走査線42a〜42dについて同時に加工をしてもよいことはもちろんである。   Of course, for example, the round hole 30, the long hole 32, and the square frame 34 may be simultaneously processed using the plurality of laser beams L, or the scanning lines 42a to 42d of the round hole 30 may be simultaneously processed. is there.

本発明は、上述の実施の形態に限らず、本発明の要旨を逸脱することなく、種々の構成を採り得ることはもちろんである。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and it goes without saying that various configurations can be adopted without departing from the gist of the present invention.

本実施の形態に係るレーザ加工装置の全体構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the whole structure of the laser processing apparatus which concerns on this Embodiment. レーザ加工装置のブロック構成図である。It is a block block diagram of a laser processing apparatus. 薄板の斜視図である。It is a perspective view of a thin plate. 図4Aは、薄板からくり抜かれる製品の斜視図であり、図4Bは、薄板に開けられた丸孔の斜視図であり、図4Cは、薄板に開けられた長孔の斜視図である。4A is a perspective view of a product cut out from a thin plate, FIG. 4B is a perspective view of a round hole opened in the thin plate, and FIG. 4C is a perspective view of a long hole opened in the thin plate. 丸孔の孔開け工程の説明図である。It is explanatory drawing of the drilling process of a round hole. パルス状のレーザ光を照射する際の複数の集光点を示す図である。It is a figure which shows the several condensing point at the time of irradiating a pulsed laser beam. 薄板に対するレーザ光の集光点の位置を示す図である。It is a figure which shows the position of the condensing point of the laser beam with respect to a thin plate. 薄板における丸孔部分の断面図である。It is sectional drawing of the round hole part in a thin plate. 長孔の孔開け工程の説明図である。It is explanatory drawing of the drilling process of a long hole. 四角枠のくり抜き工程の説明図である。It is explanatory drawing of the hollowing process of a square frame. 螺旋状の走査線に沿って走査をして丸孔の孔開け加工をする工程の説明図である。It is explanatory drawing of the process of scanning along a helical scanning line and carrying out the drilling process of a round hole.

符号の説明Explanation of symbols

10…レーザ加工装置 12…薄板
26…ガルバノ・スキャナ 26a…Xミラー
26b…Yミラー 28…fθレンズ
30…丸孔 31…くり抜き部品
32…長孔 34…四角枠
40、60…輪郭線
42、42a〜42d、50a〜50d、62、62a〜62d、70…走査線
44…集光点 46…貫通孔
48…残余部
H…加工幅 L…レーザ光
P…ピッチ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Laser processing apparatus 12 ... Thin plate 26 ... Galvano scanner 26a ... X mirror 26b ... Y mirror 28 ... f (theta) lens 30 ... Round hole 31 ... Hollow-out part 32 ... Long hole 34 ... Square frame 40, 60 ... Contour line 42, 42a ˜42d, 50a˜50d, 62, 62a˜62d, 70 ... scanning line 44 ... condensing point 46 ... through hole 48 ... residual portion H ... processing width L ... laser beam P ... pitch

Claims (9)

レーザ光を用いて薄板に孔開け加工又はくり抜き加工を施すレーザ加工方法であって、
前記レーザ光を、前記孔開け加工又は前記くり抜き加工によって得られる目的物の平面視である目的物図形の輪郭線を基準とした一方の側で該輪郭線を含み所定幅の範囲で、該輪郭線と略平行に、多重に走査することを特徴とするレーザ加工方法。
A laser processing method for drilling or punching a thin plate using laser light,
The contour of the laser beam within a predetermined width including the contour line on one side with respect to the contour line of the target object figure which is a plan view of the target object obtained by the punching process or the punching process. A laser processing method characterized by performing multiple scanning substantially parallel to a line.
請求項1記載のレーザ加工方法において、
前記目的物は孔であって、加工される孔の内側から外側へ向かって、多重に前記レーザ光を走査することを特徴とするレーザ加工方法。
The laser processing method according to claim 1,
The target object is a hole, and the laser beam is scanned multiple times from the inside to the outside of the hole to be processed.
請求項1記載のレーザ加工方法において、
前記目的物はくり抜き部品であって、加工されるくり抜き部品よりも外側から内側へ向かって、多重に前記レーザ光を走査することを特徴とするレーザ加工方法。
The laser processing method according to claim 1,
The object is a hollow part, and the laser beam is scanned in multiple directions from the outside to the inside of the hollow part to be machined.
請求項1〜3のいずれか1項に記載のレーザ加工方法において、
多重に走査する走査線のピッチは、集光点におけるレーザ光径の0.5〜10倍に設定することを特徴とするレーザ加工方法。
In the laser processing method of any one of Claims 1-3,
The laser processing method characterized by setting the pitch of the scanning lines to be scanned multiple times to 0.5 to 10 times the laser beam diameter at the condensing point.
請求項1〜4のいずれか1項に記載のレーザ加工方法において、
前記レーザ光はパルス状に照射され、そのパルス幅は、100ps〜50nsに設定することを特徴とするレーザ加工方法。
In the laser processing method of any one of Claims 1-4,
The laser processing method, wherein the laser beam is irradiated in a pulse shape, and the pulse width is set to 100 ps to 50 ns.
請求項1〜5のいずれか1項に記載のレーザ加工方法において、
前記薄板は略水平に配設され、
前記レーザ光を前記薄板の上面側から照射して下面側へと透過させ、該レーザ光の集光点を前記薄板の下側面に設定することを特徴とするレーザ加工方法。
In the laser processing method of any one of Claims 1-5,
The thin plate is disposed substantially horizontally,
A laser processing method, wherein the laser beam is irradiated from the upper surface side of the thin plate and transmitted to the lower surface side, and a condensing point of the laser beam is set on a lower surface of the thin plate.
請求項1〜6のいずれか1項に記載のレーザ加工方法において、
前記レーザ光はグリーンレーザであることを特徴とするレーザ加工方法。
In the laser processing method of any one of Claims 1-6,
The laser processing method, wherein the laser beam is a green laser.
パルス状のレーザ光を発振するレーザ光発振手段と、
前記レーザ光を加工物である薄板に照射するレーザ光出射手段と、を有し、
前記レーザ光出射手段は、前記レーザ光を所定のパターンに走査するレーザ光走査手段を備え、
該レーザ光走査手段は、前記薄板に対する孔開け加工又はくり抜き加工によって得られる目的物の平面視である目的物図形の輪郭線を基準とした一方の側で該輪郭線を含み所定幅の範囲で、該輪郭線と略平行に、多重に走査することを特徴とするレーザ加工装置。
Laser beam oscillation means for oscillating pulsed laser beam;
Laser light emitting means for irradiating a thin plate as a workpiece with the laser light,
The laser light emitting means includes laser light scanning means for scanning the laser light in a predetermined pattern,
The laser beam scanning means includes the contour line on one side with respect to the contour line of the target object as a plan view of the target object obtained by punching or punching the thin plate, and within a predetermined width range. A laser processing apparatus that performs multiple scanning substantially parallel to the contour line.
請求項8記載のレーザ加工装置において、
前記レーザ光走査手段は、ガルバノ・スキャナであることを特徴とするレーザ加工装置。
The laser processing apparatus according to claim 8, wherein
The laser processing apparatus, wherein the laser beam scanning means is a galvano scanner.
JP2008122272A 2008-05-08 2008-05-08 Laser processing method Active JP5539625B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008122272A JP5539625B2 (en) 2008-05-08 2008-05-08 Laser processing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008122272A JP5539625B2 (en) 2008-05-08 2008-05-08 Laser processing method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009269057A true JP2009269057A (en) 2009-11-19
JP5539625B2 JP5539625B2 (en) 2014-07-02

Family

ID=41436067

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008122272A Active JP5539625B2 (en) 2008-05-08 2008-05-08 Laser processing method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5539625B2 (en)

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014001102A (en) * 2012-06-19 2014-01-09 Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd Processing method of glass substrate
JP2014153483A (en) * 2013-02-06 2014-08-25 Japan Display Inc Display device and electronic apparatus
WO2015115604A1 (en) * 2014-02-03 2015-08-06 日本電気硝子株式会社 Laser melt-cutting method and plate-form glass product having melt-cut face
JP2016515944A (en) * 2013-03-21 2016-06-02 コーニング レーザー テクノロジーズ ゲーエムベーハーCORNING LASER TECHNOLOGIES GmbH Apparatus and method for cutting a contour shape from a flat substrate using a laser
CN105669014A (en) * 2014-11-21 2016-06-15 大族激光科技产业集团股份有限公司 Laser scribing glass processing method
EP3311455A4 (en) * 2015-06-16 2019-09-04 Electro Scientific Industries, Inc. Methods and apparatus for processing transparent materials
JP2021514839A (en) * 2019-01-30 2021-06-17 ハンズ レーザー テクノロジー インダストリー グループ カンパニー リミテッド Laser cutting head and laser cutting device for cutting hard and brittle material products
US11130701B2 (en) 2016-09-30 2021-09-28 Corning Incorporated Apparatuses and methods for laser processing transparent workpieces using non-axisymmetric beam spots
US11148225B2 (en) 2013-12-17 2021-10-19 Corning Incorporated Method for rapid laser drilling of holes in glass and products made therefrom
US11345625B2 (en) 2013-01-15 2022-05-31 Corning Laser Technologies GmbH Method and device for the laser-based machining of sheet-like substrates
US11542190B2 (en) 2016-10-24 2023-01-03 Corning Incorporated Substrate processing station for laser-based machining of sheet-like glass substrates
US11556039B2 (en) 2013-12-17 2023-01-17 Corning Incorporated Electrochromic coated glass articles and methods for laser processing the same
US11648623B2 (en) 2014-07-14 2023-05-16 Corning Incorporated Systems and methods for processing transparent materials using adjustable laser beam focal lines
US11697178B2 (en) 2014-07-08 2023-07-11 Corning Incorporated Methods and apparatuses for laser processing materials
US11773004B2 (en) 2015-03-24 2023-10-03 Corning Incorporated Laser cutting and processing of display glass compositions

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0199790A (en) * 1987-10-12 1989-04-18 Mitsubishi Electric Corp Laser beam cutting method for material easy to stick dross
JP2004058124A (en) * 2002-07-31 2004-02-26 Toyota Motor Corp Method for working hollow formed body
JP2005161322A (en) * 2003-11-28 2005-06-23 Seiko Epson Corp Hard material machining method
JP2007038287A (en) * 2005-08-05 2007-02-15 Sumitomo Heavy Ind Ltd Laser beam machining method, and laser beam machining device
JP2007144503A (en) * 2005-11-30 2007-06-14 Tdk Corp Substrate working method
JP2007185664A (en) * 2006-01-11 2007-07-26 Seiko Epson Corp Laser beam inside-scribing method
JP2007329358A (en) * 2006-06-08 2007-12-20 Apic Yamada Corp System and method for cutting semiconductor

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0199790A (en) * 1987-10-12 1989-04-18 Mitsubishi Electric Corp Laser beam cutting method for material easy to stick dross
JP2004058124A (en) * 2002-07-31 2004-02-26 Toyota Motor Corp Method for working hollow formed body
JP2005161322A (en) * 2003-11-28 2005-06-23 Seiko Epson Corp Hard material machining method
JP2007038287A (en) * 2005-08-05 2007-02-15 Sumitomo Heavy Ind Ltd Laser beam machining method, and laser beam machining device
JP2007144503A (en) * 2005-11-30 2007-06-14 Tdk Corp Substrate working method
JP2007185664A (en) * 2006-01-11 2007-07-26 Seiko Epson Corp Laser beam inside-scribing method
JP2007329358A (en) * 2006-06-08 2007-12-20 Apic Yamada Corp System and method for cutting semiconductor

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014001102A (en) * 2012-06-19 2014-01-09 Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd Processing method of glass substrate
TWI498297B (en) * 2012-06-19 2015-09-01 Mitsuboshi Diamond Ind Co Ltd Glass substrate processing methods
US11345625B2 (en) 2013-01-15 2022-05-31 Corning Laser Technologies GmbH Method and device for the laser-based machining of sheet-like substrates
JP2014153483A (en) * 2013-02-06 2014-08-25 Japan Display Inc Display device and electronic apparatus
JP2016515944A (en) * 2013-03-21 2016-06-02 コーニング レーザー テクノロジーズ ゲーエムベーハーCORNING LASER TECHNOLOGIES GmbH Apparatus and method for cutting a contour shape from a flat substrate using a laser
US11713271B2 (en) 2013-03-21 2023-08-01 Corning Laser Technologies GmbH Device and method for cutting out contours from planar substrates by means of laser
US11148225B2 (en) 2013-12-17 2021-10-19 Corning Incorporated Method for rapid laser drilling of holes in glass and products made therefrom
US11556039B2 (en) 2013-12-17 2023-01-17 Corning Incorporated Electrochromic coated glass articles and methods for laser processing the same
JPWO2015115604A1 (en) * 2014-02-03 2017-03-23 日本電気硝子株式会社 Laser cutting method and sheet glass product having a melting section
WO2015115604A1 (en) * 2014-02-03 2015-08-06 日本電気硝子株式会社 Laser melt-cutting method and plate-form glass product having melt-cut face
US11697178B2 (en) 2014-07-08 2023-07-11 Corning Incorporated Methods and apparatuses for laser processing materials
US11648623B2 (en) 2014-07-14 2023-05-16 Corning Incorporated Systems and methods for processing transparent materials using adjustable laser beam focal lines
CN105669014A (en) * 2014-11-21 2016-06-15 大族激光科技产业集团股份有限公司 Laser scribing glass processing method
US11773004B2 (en) 2015-03-24 2023-10-03 Corning Incorporated Laser cutting and processing of display glass compositions
EP3311455A4 (en) * 2015-06-16 2019-09-04 Electro Scientific Industries, Inc. Methods and apparatus for processing transparent materials
US11130701B2 (en) 2016-09-30 2021-09-28 Corning Incorporated Apparatuses and methods for laser processing transparent workpieces using non-axisymmetric beam spots
US11542190B2 (en) 2016-10-24 2023-01-03 Corning Incorporated Substrate processing station for laser-based machining of sheet-like glass substrates
JP2021514839A (en) * 2019-01-30 2021-06-17 ハンズ レーザー テクノロジー インダストリー グループ カンパニー リミテッド Laser cutting head and laser cutting device for cutting hard and brittle material products
JP7096841B2 (en) 2019-01-30 2022-07-06 ハンズ レーザー テクノロジー インダストリー グループ カンパニー リミテッド Laser cutting heads and laser cutting equipment for cutting hard and brittle material products

Also Published As

Publication number Publication date
JP5539625B2 (en) 2014-07-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5539625B2 (en) Laser processing method
JP5864988B2 (en) Tempered glass sheet cutting method
JP4666391B2 (en) Glass substrate cutting method
TWI637807B (en) Method and apparatus for separation of workpieces
TWI469841B (en) Method and apparatus for machining workpieces using tilted laser scanning
KR20120098869A (en) Laser machining and scribing systems and methods
TWI647187B (en) Method of separating a glass sheet from a carrier
JP2006263754A (en) Laser beam machining method
JP2006035710A (en) Glass processing method using laser and device
JP5314674B2 (en) Processing method of brittle material substrate
JP7146770B2 (en) Method and system for extending the life of optical components in laser processing equipment
JP2005313238A (en) Laser beam machining method
JP2002192368A (en) Laser beam machining device
JP2010138046A (en) Method and device for working material to be cut
JP3867109B2 (en) Laser processing method
JP2007260749A (en) Laser beam machining method and apparatus, and machined product of brittle material
JP4886620B2 (en) Laser cleaving apparatus and substrate manufacturing method
JP2005047290A (en) Laser machining device
JP2007301806A (en) Method for dividing brittle substrate and method for producing element
JPWO2003013816A1 (en) Method and apparatus for scribing brittle material substrate
WO2010092964A1 (en) Method for cutting brittle material substrate
KR20130126287A (en) Substrate cutting and method
JP2006167810A (en) Laser beam machining method
JP2006205260A (en) Device for laser beam machining
JP2006248075A (en) Method and apparatus for working substrate using laser beam

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110426

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120927

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121002

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121130

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130205

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130403

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130806

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20131007

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140401

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5539625

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140501

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350