JP2014150206A - Conveyance device of plate-like material - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、各種板状物を保持して搬送する板状物の搬送装置に関する。 The present invention relates to a plate-like material conveying apparatus that holds and conveys various plate-like materials.
例えば、半導体デバイス製造プロセスにおいては、略円盤形状である半導体ウエーハの表面に格子状に形成された分割予定ライン(ストリート)によって区画された各領域にそれぞれIC、LSI等のデバイスを形成し、該デバイスが形成された領域を分割予定ラインに沿って分割することにより個々のデバイスチップを製造している。 For example, in a semiconductor device manufacturing process, devices such as IC and LSI are formed in each region partitioned by division lines (streets) formed in a lattice shape on the surface of a semiconductor wafer having a substantially disk shape, Individual device chips are manufactured by dividing a region in which devices are formed along a predetermined division line.
半導体ウエーハを個々のデバイスに分割する分割装置としては、一般にダイシング装置と呼ばれる切削装置が用いられており、この切削装置は非常に薄い切刃が有する切削ブレードによって半導体ウエーハを分割予定ラインに沿って切削する。このようにして分割されたデバイスは、パッケージングされて携帯電話やパソコン等の各種電気機器に広く利用されている。 As a dividing device that divides a semiconductor wafer into individual devices, a cutting device called a dicing device is generally used. This cutting device uses a cutting blade of a very thin cutting edge to divide the semiconductor wafer along a planned dividing line. To cut. The devices thus divided are packaged and widely used in various electric devices such as mobile phones and personal computers.
半導体ウエーハのダイシングに際しては、半導体ウエーハは外周部が環状フレームに貼着されたダイシングテープに貼着され、半導体ウエーハがダイシングテープを介して環状フレームに支持された状態で個々のデバイスに分割される。 When dicing a semiconductor wafer, the semiconductor wafer is attached to a dicing tape whose outer peripheral portion is attached to an annular frame, and the semiconductor wafer is divided into individual devices while being supported by the annular frame via the dicing tape. .
しかし、近年、電気機器の軽量化、小型化を達成するために、ウエーハの厚さをより薄く、例えば50μm程度で分割する技術として、所謂先ダイシング法と称する分割技術が開発され実用化されている(例えば、特開平11−40520号公報参照)。 However, in recent years, in order to achieve weight reduction and downsizing of electrical equipment, a splitting technique called a so-called dicing method has been developed and put into practical use as a technique for splitting a wafer with a thinner thickness, for example, about 50 μm. (For example, refer to Japanese Patent Laid-Open No. 11-40520).
この先ダイシング法は、半導体ウエーハの表面から分割予定ラインに沿って所定の深さ(デバイスの仕上がり厚さに相当する深さ)の分割溝を形成し、その後、表面に分割溝が形成された半導体ウエーハの裏面を研削して該裏面に分割溝を表出させ個々のデバイスに分割する技術であり、デバイスの厚さを50μm程度に加工することが可能である。 This tip dicing method is a semiconductor in which a dividing groove having a predetermined depth (a depth corresponding to the finished thickness of the device) is formed along the line to be divided from the surface of the semiconductor wafer, and then the dividing groove is formed on the surface. This is a technique in which the back surface of a wafer is ground and a dividing groove is exposed on the back surface to divide the wafer into individual devices. The thickness of the device can be processed to about 50 μm.
この先ダイシング法では、ウエーハを環状フレームに固定することなくチャックテーブルに搬送し、チャックテーブルによりウエーハを直接吸引保持する。先ダイシング法でのウエーハの搬送には、例えばベルヌーイの原理(定理)を利用して半導体ウエーハを非接触で吸引保持する搬送装置が用いられる(例えば、特開平5−36816号公報参照)。 In this tip dicing method, the wafer is conveyed to the chuck table without being fixed to the annular frame, and the wafer is directly sucked and held by the chuck table. For transporting a wafer by the first dicing method, for example, a transport device that sucks and holds a semiconductor wafer in a non-contact manner using Bernoulli's principle (theorem) is used (see, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 5-36816).
一般的に、ウエーハの外周には表面から裏面に至る円弧面を呈した面取り部が形成されている。従って、ウエーハの裏面を研削してウエーハを薄化すると、面取り部に円弧面と研削面とによって形成されたナイフエッジが残存して危険であるとともに、外周に欠けが生じてデバイスの品質を低下させてしまう。 Generally, a chamfered portion having an arc surface extending from the front surface to the back surface is formed on the outer periphery of the wafer. Therefore, if the wafer is thinned by grinding the backside of the wafer, the knife edge formed by the arc surface and the ground surface remains in the chamfered part, which is dangerous and the outer periphery is chipped, resulting in a deterioration in device quality. I will let you.
そこで、特開2000−173961号公報には、ウエーハの裏面を研削する前に切削ブレードでウエーハの面取り部を除去する外周加工方法、所謂エッジトリミング方法が開示されている。 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-173961 discloses a so-called edge trimming method, that is, a peripheral processing method for removing a chamfered portion of a wafer with a cutting blade before grinding the back surface of the wafer.
通常、先ダイシング法で用いられることが多いベルヌーイの原理を利用した搬送装置であるが、このエッジトリミング技術においても、その後の裏面研削に不要な環状フレームへの固定を省くという同様の理由により用いられるようになってきた。 Usually, it is a transfer device that uses Bernoulli's principle, which is often used in the tip dicing method, but this edge trimming technique is also used for the same reason of omitting fixing to an annular frame that is unnecessary for subsequent back surface grinding. Has come to be.
エッジトリミング方法を用いて切削ブレードでウエーハの面取り部を除去するウエーハには様々な状態のものがあり、中にはある程度研削されていたり、他の材料が積層されているために反っていたりするウエーハもある。 There are various types of wafers that use the edge trimming method to remove the chamfered portion of the wafer with a cutting blade, and some of them are ground to some extent or warped because other materials are laminated. There is also a wafer.
その場合、反ったウエーハを搬送できたとしても、搬送先のチャックテーブルに載置する際、ベルヌーイの原理を利用した搬送装置の場合、非接触が原則であるためウエーハをチャックテーブルに向かって押し付けることができないため、ウエーハの反りにより負圧のリークがおきてしまい、チャックテーブルでウエーハをバキューム吸着できないという問題が発生する。 In that case, even if the warped wafer can be transported, when placing it on the chuck table at the transport destination, in the case of the transport device using the Bernoulli principle, the non-contact principle is the principle, so the wafer is pressed against the chuck table. Therefore, a negative pressure leak occurs due to the warp of the wafer, which causes a problem that the wafer cannot be vacuum-adsorbed by the chuck table.
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、反ったウエーハでも非接触状態で搬送してチャックテーブルに押圧してバキューム固定することのできる板状物の搬送装置を提供することである。 The present invention has been made in view of such points, and the object of the present invention is to provide a plate-like object that can be conveyed in a non-contact state even on a warped wafer and pressed against a chuck table to be vacuum fixed. It is to provide a transport device.
本発明によると、板状物を吸引保持する吸引保持手段と、該吸引保持手段を所定の位置から保持テーブルへと移動させる移動手段と、を備えた板状物の搬送装置であって、該吸引保持手段は、該移動手段に連結された支持基台と、該支持基台の下面に配設された非接触式吸引保持器と、該支持基台の下面に配設された流体噴出器と、を有し、該保持テーブルへと搬送した板状物に対し、該非接触式吸引保持器による吸引力を解除する際に、該板状物に対面する該流体噴出器の噴出口から流体を噴出し、該流体の押圧力で該被加工物の反りを矯正することを特徴とする板状物の搬送装置が提供される。 According to the present invention, there is provided a plate-like object conveying apparatus comprising: suction holding means for sucking and holding a plate-like object; and moving means for moving the suction holding means from a predetermined position to a holding table, The suction holding means includes a support base coupled to the moving means, a non-contact type suction holder disposed on the lower surface of the support base, and a fluid ejector disposed on the lower surface of the support base. When the suction force by the non-contact type suction holder is released with respect to the plate-like object conveyed to the holding table, the fluid is ejected from the outlet of the fluid ejector facing the plate-like object. A plate-like object conveying apparatus is provided in which warpage of the workpiece is corrected by the pressing force of the fluid.
本発明の搬送装置によると、ベルヌーイの原理を用いた非接触式吸引保持器とともに、流体を板状物に対して噴射して吸引保持手段に非接触で押圧する流体噴出器を備えているため、反ったウエーハでも非接触状態で搬送して吸引保持手段に押圧してバキューム固定することができる。 According to the transport device of the present invention, the non-contact suction holder using the Bernoulli principle is provided, and the fluid ejector that jets the fluid onto the plate-like object and presses the suction holding means in a non-contact manner is provided. Even a warped wafer can be conveyed in a non-contact state and pressed against the suction holding means to be vacuum fixed.
請求項2記載の発明では、流体噴出器を被加工物の中央領域及び外周領域に対応する位置にそれぞれ備えているため、凸反り、凹反りのどちらの反りの向きにも対応可能であり、ウエーハを平坦に矯正することができる。 In the invention according to claim 2, since the fluid ejector is provided at each of the positions corresponding to the central region and the outer peripheral region of the workpiece, it can correspond to either the direction of the convex warp or the concave warp, The wafer can be straightened.
以下、本発明の実施形態を図面を参照して詳細に説明する。図1を参照すると、本発明実施形態に係る搬送装置2の斜視図が示されている。搬送装置2は、ベース部4と、ベース部4に内蔵されたモータにより矢印R方向に回転される回転部材6と、回転部材6に装着され、回転部材6に内蔵されたエアシリンダ等の駆動手段により矢印Z方向(上下方向)に移動可能な上下移動部材とを含んでいる。回転部材6と上下移動部材8とで移動手段5を構成する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Referring to FIG. 1, a perspective view of a transfer device 2 according to an embodiment of the present invention is shown. The transport device 2 includes a base unit 4, a rotating member 6 that is rotated in the direction of arrow R by a motor built in the base unit 4, and driving of an air cylinder or the like that is mounted on the rotating member 6 and built in the rotating member 6 And a vertically moving member that can be moved in the arrow Z direction (vertical direction) by means. The rotating member 6 and the vertically moving member 8 constitute the moving
上下移動部材8の先端部側面にはアーム10が固定されている。アーム10の先端部には吸引保持手段15が取り付けられている。吸引保持手段15は支持基台12を含んでいる。支持基台12は、図2に最もよく示されるように、環状部材12aと、直線部材12bとから構成される。
An
支持基台12の環状部材12aには、互いに円周方向に120度離間して3つの非接触式吸引保持器14が配設されている。非接触式吸引保持器14は、環状部材12aの裏面から突出するように取り付けられている(図4参照)。一つの非接触式吸引保持器14は、アーム10及び支持基台12の環状部材12aを貫通して環状部材12aの裏面から突出するように配設されている。
Three non-contact
支持基台12の環状部材12aの概略中央部分に、アーム10及び直線部材12bを貫通して直線部材12bから突出するように、非接触式吸引保持器14aが取り付けられている。
A non-contact
非接触式吸引保持器14は電磁切換弁20を介して加圧流体供給源18に接続されている。加圧流体としては、例えば加圧エアが使用される。同様に、非接触式吸引保持器14aは電磁切換弁22を介して加圧流体供給源18に接続されている。
The
更に、支持基台12の環状部材12aには互いに円周方向に120度離間して3個の流体噴出器16が配設されている。各流体噴出器16は環状部材12aを貫通して環状部材12aの裏面から突出している。これらの流体噴出器16は電磁流量調整弁24を介して流体供給源18に接続されている。
Further, three
アーム10及び支持基台12の直線部材12bを貫通して直線部材12bの裏面から突出するように流体噴出器16aが取り付けられている。流体噴出器16aは、電磁流量調整弁26を介して流体供給源18に接続されている。
A
図3を参照すると、非接触式吸引保持器14の縦断面図が示されている。非接触式吸引保持器14はベルヌーイの原理を利用した吸引保持器である。非接触式吸引保持器14の本体28には流体供給源18に接続される流体供給路30が形成されており、流体供給路30は本体28と垂直部材32により画成された環状流体供給路34に接続されている。垂直部材32は円板状水平部材32aと一体的に形成されており、本体28と円板状水平部材32aとの間に環状オリフィス36が形成されている。
Referring to FIG. 3, a longitudinal sectional view of the
流体供給源18から供給された加圧エア等の加圧流体は矢印38で示すように非接触式吸引保持器14の流体供給路30に導入され、流体供給路30から環状流体供給路34に入り環状オリフィス36を通って加速され、矢印40で示すように流体が高速で噴出される。
Pressurized fluid such as pressurized air supplied from the
その結果、ベルヌーイの定理により噴出される流体40で囲まれた中央部分に矢印42で示すように吸引力が発生する。本実施形態の非接触式吸引保持器14はベルヌーイの原理により吸引力を発生させ、この吸引力によりウエーハ等の被加工物を非接触で吸引保持するものである。
As a result, a suction force is generated as indicated by an
次に、図4乃至図7を参照して、本発明実施形態の搬送装置2によりウエーハ11を搬送してチャックテーブル44に載置する搬送装置2の作用について説明する。図4を参照すると、ウエーハ搬送中のチャックテーブル44と共に示した図2のA−A線断面図が示されている。
Next, with reference to FIG. 4 to FIG. 7, the operation of the transport device 2 that transports the
チャックテーブル44はSUS等の金属から形成された枠体46と、枠体46に嵌合されたポーラスセラミックス等の多孔性部材から形成された吸引保持部48とを含んでいる。枠体46に形成された吸引路50は図示しない真空吸引源に接続されている。
The chuck table 44 includes a
ウエーハ搬送中には、電磁切替弁20,22を接続状態に切り替えて、非接触式吸引保持器14,14aでウエーハ11を非接触で吸引保持する。この時には、電磁流量調整弁24は遮断状態に維持する。従って、流体噴出器16は停止状態である。
During the wafer transfer, the
図4で吸引保持手段15を矢印に示すように降下させて、図5に示すようにウエーハ11をチャックテーブル44上に載置する。ウエーハ11をチャックテーブル44上に載置した後、図6に示すように、非接触式吸引保持器14,14aの吸引力を解除する。
In FIG. 4, the suction holding means 15 is lowered as indicated by the arrow, and the
これと同時に、ウエーハ11に対面する流体噴出器16の噴出口から加圧流体を噴出して、流体の押圧力によりウエーハ11の反りを矯正し、チャックテーブル44を矢印Aで示すように負圧吸引して、ウエーハ11をチャックテーブル44で吸引保持する。
At the same time, pressurized fluid is ejected from the ejection port of the
ウエーハ11の載置が完了した吸引保持手段15は、図7に示すように、チャックテーブル44上から退避し、ウエーハ11のチャックテーブル44による吸引保持を継続する。
As shown in FIG. 7, the suction holding means 15 after the placement of the
図8を参照すると、中凸形状に反ったウエーハ11Aの反りの矯正状態を示す図2のB−B線断面図が示されている。この場合には、反りを矯正するために、ウエーハ11Aに対面した流体噴出器16,16aの噴出口から加圧流体を噴出する。
Referring to FIG. 8, a cross-sectional view taken along the line BB of FIG. 2 showing a correction state of the warpage of the
ウエーハ11Aは中央部が中凸に反っているため、矢印52で示すように流体噴出器16aから噴出する噴出流体の量は矢印54で示す流体噴出器16から噴出する噴出流体の量に比べて多くする。
Since the center of the
これにより、ウエーハ11Aには中央部分により大きな押圧力が作用するため、ウエーハ11Aは二点鎖線で示すように反りが矯正されてチャックテーブル44に吸引保持される。尚、特に図示していないが、ウエーハ11Aをチャックテーブル44上に載置した後は、非接触式吸引保持器14,14aの吸引力は解除する。
As a result, a large pressing force acts on the
図9を参照すると、中凹形状に反ったウエーハ11Bの反りの矯正状態を示す図2のB−B線断面図が示されている。この場合には、ウエーハ11Bの外周部分に対面する流体噴出器16からの噴出量を矢印56で示すように多くし、中央部分に配設された流体噴出器16aの噴出量を矢印58で示すように少なくする。
Referring to FIG. 9, there is shown a cross-sectional view taken along the line BB of FIG. 2 showing a correction state of the warpage of the
これにより、ウエーハ11Bの外周部分により大きな押圧力が作用して、ウエーハ11Bは二点鎖線で示すように反りが矯正され、チャックテーブル44に吸引保持される。この場合も、特に図示していないが、ウエーハ11Bをチャックテーブル44上に載置した後は、非接触式吸引保持器14,14aの吸引力を解除する。
As a result, a large pressing force acts on the outer peripheral portion of the
上述した実施形態では、本発明の搬送装置をウエーハ11を搬送する場合について説明したが、搬送対象物はウエーハ11に限定されるものではなく、セラミック基板、ガラス基板等の板状物にも本発明の搬送装置は同様に適用することができる。
In the above-described embodiment, the case where the
2 搬送装置
5 移動手段
10 アーム
12 支持基台
14,14a 非接触式吸引保持器
15 吸引保持手段
16,16a 流体噴出器
18 流体供給源
20,22 電磁切替弁
24,26 電磁流量調整弁
36 環状オリフィス
42 吸引力
44 チャックテーブル
11 ウエーハ
11A 中凸形状に反ったウエーハ
11B 中凹形状に反ったウエーハ
2 Conveying
Claims (2)
該吸引保持手段は、
該移動手段に連結された支持基台と、
該支持基台の下面に配設された非接触式吸引保持器と、
該支持基台の下面に配設された流体噴出器と、を有し、
該保持テーブルへと搬送した板状物に対し、該非接触式吸引保持器による吸引力を解除する際に、該板状物に対面する該流体噴出器の噴出口から流体を噴出し、該流体の押圧力で該被加工物の反りを矯正することを特徴とする板状物の搬送装置。 A plate-like object conveying apparatus comprising: a suction holding means for sucking and holding a plate-like object; and a moving means for moving the suction holding means from a predetermined position to a holding table,
The suction holding means includes
A support base coupled to the moving means;
A non-contact suction holder disposed on the lower surface of the support base;
A fluid ejector disposed on the lower surface of the support base,
When releasing the suction force by the non-contact type suction holder to the plate-like object conveyed to the holding table, the fluid is ejected from the outlet of the fluid ejector facing the plate-like object, and the fluid A plate-like object conveying apparatus, wherein the workpiece is warped with a pressing force of.
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