JP2014149546A - Liquid crystal display device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lateral electric field type liquid crystal display device that suppresses a display defect due to static electricity to be charged on a light shielding layer, and suppresses a leakage of light from backlight.SOLUTION: A normally black mode lateral electric field type liquid crystal display device 10 has: a first substrate 11 and a second substrate 28 that have a liquid crystal 43 encapsulated, and have a periphery adhered by sealant 36; a display area 37 formed on an inner side surrounded by the sealant 36 of both substrates 11 and 28 and a non-display area 38 formed in a periphery of the display area; a lower electrode 22 and an upper second electrode 24 that are formed on the first substrate 11; and a light shield layer 32 that is formed to extend over the display area 37 and the non-display area 38 of the second substrate 28. The light shield layer 32 has a light shield layer non-forming area 32a so as to surround the display area 37 in the non-display area 38, and the upper electrode 24 is connected to common electrode potential.

Description

本発明は、液晶表示装置に関し、特に、遮光層に帯電する静電気による表示不良を抑制し、しかも、バックライトの光漏れをも抑制した横電界方式の液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to a horizontal electric field type liquid crystal display device that suppresses display defects due to static electricity charged in a light shielding layer and further suppresses light leakage of a backlight.

一般に、液晶表示装置は、一対の基板を備えた液晶表示装置の表示面側とは反対側に光源としてのバックライトを配置し、このバックライトから照射される光を液晶表示装置内に透過させて、所望の画像や映像を表示させている。このとき、液晶表示装置の表示領域の周辺である非表示領域(額縁領域ともいう)には、遮光層が形成されているため、バックライトの光漏れを抑制することができる。   Generally, in a liquid crystal display device, a backlight as a light source is disposed on the side opposite to the display surface side of a liquid crystal display device including a pair of substrates, and light emitted from the backlight is transmitted through the liquid crystal display device. Thus, a desired image or video is displayed. At this time, since a light shielding layer is formed in a non-display area (also referred to as a frame area) that is the periphery of the display area of the liquid crystal display device, light leakage of the backlight can be suppressed.

しかし、光漏れを抑制するための遮光層を、カラーフィルター層等を備える第2基板の端部まで連続的に形成すると、遮光層の端部から浸入した静電気が、遮光層を経て表示領域まで浸入することがある。特にFFS(Fringe Field Switching)モードないしIPS(In-Plane Switching)モードで作動する横電界方式の液晶表示装置では、第1基板に液晶駆動用の一対の電極が形成されており、カラーフィルター基板には液晶駆動用の電極は形成されていないので、遮光層に浸入した静電気によって表示領域の液晶分子が駆動されてしまい、表示不良が発生するおそれがある。そのため、遮光層の端部から静電気が浸入しないようにするために、非表示領域で遮光層を分断することが行われているが、遮光層を分断するとその部分から光漏れが発生するという課題がある。   However, if the light shielding layer for suppressing light leakage is continuously formed up to the end of the second substrate having the color filter layer or the like, static electricity that has entered from the end of the light shielding layer passes through the light shielding layer to the display area. May penetrate. In particular, in a lateral electric field type liquid crystal display device operating in an FFS (Fringe Field Switching) mode or an IPS (In-Plane Switching) mode, a pair of electrodes for driving a liquid crystal is formed on a first substrate, and the color filter substrate is formed on the color filter substrate. Since no electrode for driving the liquid crystal is formed, the liquid crystal molecules in the display region are driven by static electricity that has entered the light shielding layer, which may cause display defects. Therefore, in order to prevent static electricity from entering from the end of the light shielding layer, the light shielding layer is divided in the non-display area. However, if the light shielding layer is divided, light leakage occurs from that portion. There is.

このような課題を解決するために、下記特許文献1には表示領域の周辺部のブラックマトリクスを配置できない部分を偏光板にて遮光する横電界方式の液晶表示装置の発明が開示されている。すなわち、下記特許文献1に開示されている液晶表示装置では、液晶層を介して互に対向して配置される透明基板のうち、一方の透明基板の液晶層側の面に画素電極と共通電極とが備えられ、他方の透明基板上に、樹脂組成物からなるブラックマトリクスが備えられ、このブラックマトリクスの外周囲の大きさが筐体の開口領域の大きさよりも小さく形成され、対向する透明基板に配置された少なくとも1つの偏光板の大きさが筐体の開口領域の大きさよりも大きく形成されている。   In order to solve such a problem, the following Patent Document 1 discloses an invention of a lateral electric field type liquid crystal display device in which a portion where a black matrix around a display region cannot be arranged is shielded by a polarizing plate. That is, in the liquid crystal display device disclosed in Patent Document 1 below, a pixel electrode and a common electrode are formed on the surface of one transparent substrate on the liquid crystal layer side among the transparent substrates arranged to face each other with a liquid crystal layer interposed therebetween. A black matrix made of a resin composition is provided on the other transparent substrate, and the size of the outer periphery of the black matrix is smaller than the size of the opening region of the housing. The size of the at least one polarizing plate arranged in is larger than the size of the opening region of the housing.

下記特許文献1に開示された液晶表示装置では、ブラックマトリクスが備えられていない部分に偏光板が形成されることにより、バックライトの光漏れは、偏光板で遮光できるので、画像表示領域の端部から筐体までの領域におけるバックライトの光漏れを確実に防止できるとされている。   In the liquid crystal display device disclosed in the following Patent Document 1, since the polarizing plate is formed in a portion where the black matrix is not provided, the light leakage of the backlight can be blocked by the polarizing plate. It is said that the light leakage of the backlight in the region from the part to the housing can be surely prevented.

特開平09−258203号公報JP 09-258203 A

しかしながら、上記特許文献1に記載された発明では、筐体が直接偏光板に接触しないようにして偏光板にキズが付かないようにするための構成が複雑となり、しかも、偏光板と筐体との位置あわせを高精度に行う必要が生じる。   However, in the invention described in Patent Document 1, the configuration for preventing the polarizing plate from being scratched by preventing the casing from directly contacting the polarizing plate is complicated, and the polarizing plate and the casing Need to be aligned with high accuracy.

また、第1基板側に金属性材料で形成された配線等を形成することにより、光漏れを抑制することも考えられる。しかしながら、画素周辺部には、狭額縁化するために、第1基板側に金属配線等を配置できない場合がある。特に、液晶表示装置を液晶滴下(ODF:One Drop Fill)法を用いて製造する場合、光硬化性材料からなるシール材に紫外線を照射して硬化させる必要がある。この光照射は、第2基板には遮光層が形成されているため、第1基板側から行う必要があるので、アレイ基板側に光漏れ防止用の遮光膜を形成することは困難となる。   It is also conceivable to suppress light leakage by forming a wiring or the like formed of a metallic material on the first substrate side. However, in some cases, metal wiring or the like cannot be arranged on the first substrate side in order to narrow the frame around the pixel. In particular, when a liquid crystal display device is manufactured using a liquid crystal dropping (ODF: One Drop Fill) method, it is necessary to cure the sealing material made of a photocurable material by irradiating with ultraviolet rays. Since this light irradiation has to be performed from the first substrate side since the light shielding layer is formed on the second substrate, it is difficult to form a light shielding film for preventing light leakage on the array substrate side.

本発明者等は、表示領域及び非表示領域に跨って形成された遮光層に帯電する静電気による表示の不具合を抑制するために、遮光層を非表示領域で分断するという構成を採用し、しかも、この遮光層の分断された領域からの光漏れを抑制すべく種々検討を重ねてきた。その結果、遮光層の分断された領域の液晶を常にノーマリーブラックモードで表示させることによって解決できることを見出し、本発明を完成するに至ったものである。すなわち、本発明の目的は、横電界方式の液晶表示装置において、遮光層に帯電する静電気による表示の不具合を抑制し、且つバックライトの光漏れをも抑制した横電界方式の液晶表示装置を提供することにある。   The present inventors have adopted a configuration in which the light shielding layer is divided in the non-display area in order to suppress display defects due to static electricity charged in the light shielding layer formed across the display area and the non-display area. Various studies have been made to suppress light leakage from the divided region of the light shielding layer. As a result, the inventors have found that the problem can be solved by always displaying the liquid crystal in the divided region of the light shielding layer in the normally black mode, and have completed the present invention. That is, an object of the present invention is to provide a horizontal electric field type liquid crystal display device which suppresses display defects due to static electricity charged in the light shielding layer and also suppresses light leakage of the backlight in the horizontal electric field type liquid crystal display device. There is to do.

上記目的を達成するため、本発明の液晶表示装置は、内部に液晶が封入され、周囲がシール材で貼り合わされている第1基板及び第2基板と、第1基板に絶縁層を挟んで形成された上電極及び下電極と、第1基板の外部側に配置されたバックライト光源と、を有し、上電極と下電極との間に生じる電界によって液晶が駆動されるノーマリーブラックモードの横電界方式の液晶表示装置であって、第1基板及び第2基板のシール材で囲まれた内側に形成された領域であって、領域内で上電極と下電極とが平面視で重畳する表示領域と、表示領域の周囲に形成された非表示領域と、第2基板の非表示領域に形成される遮光層であって、シール材で囲まれた内側に表示領域を囲むように当該遮光層が形成されていない遮光層非形成領域を有する遮光層と、を有し、上電極は、共通電極電位に接続されている。   In order to achieve the above object, a liquid crystal display device of the present invention is formed by sandwiching an insulating layer between a first substrate and a second substrate in which liquid crystal is sealed and a periphery is bonded with a sealing material. A normally black mode in which the liquid crystal is driven by an electric field generated between the upper electrode and the lower electrode, and the backlight source disposed on the outer side of the first substrate. A horizontal electric field type liquid crystal display device, which is a region formed on the inner side surrounded by the sealing material of the first substrate and the second substrate, and the upper electrode and the lower electrode overlap each other in plan view. A display region, a non-display region formed around the display region, and a light-shielding layer formed in the non-display region of the second substrate, wherein the light-shielding layer surrounds the display region surrounded by a sealing material A light-shielding layer having a light-shielding layer non-formation region where no layer is formed If has, the upper electrodes are connected to the common electrode potential.

本発明の液晶表示装置においては、第2基板の非表示領域に、表示領域を囲むように遮光層の形成されていない遮光層非形成領域が形成されている。これにより、液晶表示装置の端部から静電気が遮光層に浸入しても、その静電気は遮光層非形成領域を超えて、更に遮光層を伝わって表示領域内に浸入することがなくなるので、表示不良の発生が抑制される。   In the liquid crystal display device of the present invention, the non-light-shielding layer non-forming region where the light-shielding layer is not formed is formed in the non-display region of the second substrate so as to surround the display region. As a result, even if static electricity enters the light-shielding layer from the edge of the liquid crystal display device, the static electricity does not penetrate the light-shielding layer and enter the display area beyond the light-shielding layer non-formation region. The occurrence of defects is suppressed.

加えて、本発明の液晶表示装置では、上電極は平面視で遮光層非形成領域の全てと重畳する位置まで延在されている。そして、上電極は、共通電極電位に接続されているので、液晶分子に対して基準電位となるため、上電極に印加されている電位によっては液晶分子は駆動されない。そのため、本発明の液晶表示装置では、遮光層非形成領域においては常時ノーマリーブラックモードが維持されているので、遮光層非形成領域においてバックライトからの光が外部へ出てくることがなく、周辺領域でもコントラストが良好な横電界方式の液晶表示装置が得られる。   In addition, in the liquid crystal display device of the present invention, the upper electrode extends to a position overlapping with all of the light shielding layer non-formation region in plan view. Since the upper electrode is connected to the common electrode potential, it becomes a reference potential with respect to the liquid crystal molecules, so that the liquid crystal molecules are not driven by the potential applied to the upper electrode. Therefore, in the liquid crystal display device of the present invention, the normally black mode is always maintained in the light shielding layer non-forming region, so that light from the backlight does not come out to the outside in the light shielding layer non-forming region, A horizontal electric field type liquid crystal display device with good contrast even in the peripheral region can be obtained.

なお、本発明の横電界方式の液晶表示装置は、絶縁層を挟んで形成された上電極及び下電極が平面視で互いに重畳するFFSモードの液晶表示装置であっても、平面視で互いに重畳しないIPSモードの液晶表示装置であっても等しく適用できる。また、本発明における「平面視」とは、液晶表示装置の表示面側から液晶表示装置を視認した場合の構成を示す意味で用いられている。   Note that the horizontal electric field type liquid crystal display device of the present invention overlaps each other in a plan view even in an FFS mode liquid crystal display device in which an upper electrode and a lower electrode formed with an insulating layer interposed therebetween overlap each other in a plan view. Even an IPS mode liquid crystal display device that is not applicable is equally applicable. Further, “planar view” in the present invention is used to mean a configuration when the liquid crystal display device is viewed from the display surface side of the liquid crystal display device.

さらに、本発明の液晶表示装置では、遮光層非形成領域においては、第1基板に遮光用の金属を設ける必要がないので、ODF法で製造される液晶表示装置でも遮光層非形成領域における光漏れを抑制することができる。   Further, in the liquid crystal display device of the present invention, since it is not necessary to provide a light shielding metal on the first substrate in the light shielding layer non-forming region, even in the liquid crystal display device manufactured by the ODF method, the light in the light shielding layer non-forming region is provided. Leakage can be suppressed.

また、本発明の液晶表示装置においては、遮光層は、金属性材料で形成されていることが好ましい。   In the liquid crystal display device of the present invention, the light shielding layer is preferably formed of a metallic material.

金属製の遮光層は、樹脂製の遮光層に比べ、薄く形成しても遮光の精度が高いが、導電性が高いために、表示画質が外部からの静電気の影響を受け易い。そのため、従来の横電界方式の液晶表示装置では樹脂製の遮光層が多く使用されている。しかしながら、本発明の液晶表示装置によれば、第2基板の非表示領域に、表示領域を囲むように遮光層が形成されていない遮光層非形成領域を形成しているので、遮光層が導電率の高い金属製のものであっても、外部から浸入した静電気が表示画質に悪影響を及ぼすことが少なくなる。   The metal light-shielding layer has a high light-shielding accuracy even if it is formed thinner than the resin light-shielding layer, but the display image quality is easily affected by external static electricity because of its high conductivity. For this reason, a resin-made light shielding layer is often used in a conventional horizontal electric field type liquid crystal display device. However, according to the liquid crystal display device of the present invention, since the non-light-shielding layer-free region is formed in the non-display region of the second substrate so as to surround the display region, the light-shielding layer is electrically conductive. Even if it is made of a metal with a high rate, static electricity that has entered from the outside is less likely to adversely affect the display image quality.

また、本発明の液晶表示装置においては、遮光層非形成領域に位置する上電極に重畳して位置決めマークが形成されているものとすることができる。   In the liquid crystal display device of the present invention, the positioning mark may be formed so as to overlap with the upper electrode located in the light shielding layer non-forming region.

従来の液晶表示装置では、第1基板及び第2基板の貼り合わせの際に用いられる位置決めマークは、遮光層の陰となり見難いものが多い。本発明の液晶表示装置によれば、遮光層非形成領域に位置する上電極には位置決めマークが形成されている。この位置決めマークは、第1基板及び第2基板を貼り合わせる際に遮光層非形成領域を介して視認できるため、第1基板及び第2基板の貼り合わせを正確にかつ容易に行うことができる。なお、この位置決めマークは、第1基板及び第2基板の間に液晶が封入されて液晶表示装置が完成した後には、遮光層非形成領域では光が透過しないため、液晶表示装置の使用時に使用者に視認されるおそれはない。   In a conventional liquid crystal display device, a positioning mark used for bonding the first substrate and the second substrate is often behind the light shielding layer and is difficult to see. According to the liquid crystal display device of the present invention, the positioning mark is formed on the upper electrode located in the light shielding layer non-forming region. Since this positioning mark can be visually recognized through the light shielding layer non-formation region when the first substrate and the second substrate are bonded together, the bonding of the first substrate and the second substrate can be performed accurately and easily. This positioning mark is used when the liquid crystal display device is used because light is not transmitted through the region where the light shielding layer is not formed after the liquid crystal is sealed between the first substrate and the second substrate and the liquid crystal display device is completed. There is no fear of being visually recognized by a person.

また、本発明の液晶表示装置においては、位置決めマークは、複数個形成されていることが好ましい。   In the liquid crystal display device of the present invention, it is preferable that a plurality of positioning marks are formed.

位置決めマークが複数個形成されていれば、位置あわせ精度がより向上するため、上記本発明の効果がより良好に奏されるようになる。   If a plurality of positioning marks are formed, the alignment accuracy is further improved, so that the effects of the present invention can be achieved better.

また、本発明の液晶表示装置においては、位置決めマークは、下電極の駆動用スイッチング素子の電極と同材料で形成されていることが好ましい。   In the liquid crystal display device of the present invention, the positioning mark is preferably formed of the same material as the electrode of the lower electrode driving switching element.

位置決めマークが、下電極の駆動用スイッチング素子の電極と同材料で形成されていれば、下電極の駆動用スイッチング素子の電極と同時に形成できるので、別途位置決めマーク形成用の工程及び材料を用いる必要がなくなる。そのため、本発明の液晶表示装置によれば、特に製造工数を増加させることなく、位置決めマークを形成することができるようになる。なお、下電極の駆動用スイッチング素子としては、一般的には薄膜トランジスター(TFT:Thin Film Transistor)が採用されているが、この場合には位置決めマークをゲート電極又はソース電極と同じ材料で形成すればよい。   If the positioning mark is formed of the same material as the electrode of the lower electrode driving switching element, it can be formed at the same time as the electrode of the lower electrode driving switching element. Therefore, it is necessary to use a process and material for forming the positioning mark separately. Disappears. Therefore, according to the liquid crystal display device of the present invention, the positioning mark can be formed without particularly increasing the number of manufacturing steps. In general, a thin film transistor (TFT) is used as a switching element for driving the lower electrode. In this case, the positioning mark is made of the same material as the gate electrode or the source electrode. That's fine.

本発明の実施形態1及び2にかかる液晶表示装置の平面図である。It is a top view of the liquid crystal display device concerning Embodiment 1 and 2 of this invention. 実施形態1及び2の液晶表示装置の1画素領域の拡大平面図である。3 is an enlarged plan view of one pixel region of the liquid crystal display devices of Embodiments 1 and 2. FIG. 図2のIII−III線で切断した断面図である。It is sectional drawing cut | disconnected by the III-III line of FIG. 図4Aは実施形態1の液晶表示装置における図1のIVA−IVA線での断面図であり、図4Bは図1のIVB部の拡大図である。4A is a cross-sectional view taken along line IVA-IVA of FIG. 1 in the liquid crystal display device of Embodiment 1, and FIG. 4B is an enlarged view of the IVB portion of FIG. 実施形態1の液晶表示装置の駆動時を示す図4Aに対応する断面図である。FIG. 4B is a cross-sectional view corresponding to FIG. 4A showing when the liquid crystal display device of Embodiment 1 is driven. 図6Aは実施形態2の液晶表示装置における図4Bに対応する拡大図であり、図6Bは図6AのVIB部の拡大図である。6A is an enlarged view corresponding to FIG. 4B in the liquid crystal display device of Embodiment 2, and FIG. 6B is an enlarged view of a VIB portion of FIG. 6A.

以下、本発明を実施するための形態について、実施形態及び図面を参照しながら詳細に説明する。ただし、以下に示す実施形態は、本発明の電気光学装置の技術思想を具体化するために横電界方式のFFSモードの液晶表示装置を例にとって説明するものであって、本発明をこの実施形態に記載されたFFSモードの液晶表示装置に特定することを意図するものではなく、本発明は特許請求の範囲に含まれるその他の実施形態のものにも等しく適応し得るものである。なお、この明細書における説明のために用いられた各図面においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせて表示しており、必ずしも実際の寸法に比例して表示されているものではない。   Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the embodiments and the drawings. However, in the following embodiment, a lateral electric field type FFS mode liquid crystal display device will be described as an example in order to embody the technical idea of the electro-optical device of the present invention. The present invention is not intended to be specific to the FFS mode liquid crystal display device described in the above, and the present invention is equally applicable to other embodiments included in the claims. In each drawing used for the description in this specification, each layer and each member are displayed in different scales so that each layer and each member can be recognized on the drawing. However, it is not necessarily displayed in proportion to the actual dimensions.

[実施形態1]
まず、図1を参照して、実施形態1の液晶表示装置10の構成について説明する。図1に示すように、実施形態1の液晶表示装置10は、ガラス等からなる第1透明基板12上に各種配線等を形成したアレイ基板11(本発明の「第1基板」に対応)とガラス等からなる第2透明基板29上にカラーフィルター層等を形成したカラーフィルター基板28(本発明の「第2基板」に対応)が対向配置されている。そして、このアレイ基板11とカラーフィルター基板28はシール材36で貼り合わされており、このシール材36で形成された空間内に液晶43(図3参照)が封入されている。また、シール材36で囲まれた内側の下電極22及び上電極24が平面視で重畳するように形成されている部分(図2及び図3参照)が表示領域37となり、その外周側及びシール材36の外周側が非表示領域38(「額縁領域」とも言う)となっている。なお、シール材で囲まれた内側の表示領域37及び非表示領域38には液晶43が配置されている。
[Embodiment 1]
First, the configuration of the liquid crystal display device 10 of Embodiment 1 will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 1, the liquid crystal display device 10 of Embodiment 1 includes an array substrate 11 (corresponding to the “first substrate” of the present invention) in which various wirings are formed on a first transparent substrate 12 made of glass or the like. A color filter substrate 28 (corresponding to the “second substrate” of the present invention) in which a color filter layer or the like is formed on a second transparent substrate 29 made of glass or the like is disposed oppositely. The array substrate 11 and the color filter substrate 28 are bonded together by a sealing material 36, and a liquid crystal 43 (see FIG. 3) is sealed in a space formed by the sealing material 36. Further, a portion (see FIGS. 2 and 3) formed so that the inner lower electrode 22 and the upper electrode 24 surrounded by the sealing material 36 overlap in a plan view becomes a display region 37, and the outer peripheral side and the seal The outer peripheral side of the material 36 is a non-display area 38 (also referred to as “frame area”). Note that a liquid crystal 43 is disposed in the inner display area 37 and non-display area 38 surrounded by the sealing material.

なお、アレイ基板11はカラーフィルター基板28と対向配置させたときに所定スペースの張出した部分が形成されるようにカラーフィルター基板28より若干サイズが大きいものが使用されている。この張出した部分は、液晶43を駆動するためのドライバーIC42等が配置される実装領域12aとなっている。また、実施形態1の液晶表示装置10では、液晶注入口39がシール材36により形成され、この液晶注入口39を封止材40で封止した例を示している。   The array substrate 11 has a size slightly larger than that of the color filter substrate 28 so that a protruding portion of a predetermined space is formed when the array substrate 11 is arranged opposite to the color filter substrate 28. This overhanging portion is a mounting region 12a in which a driver IC 42 for driving the liquid crystal 43 and the like are disposed. In the liquid crystal display device 10 according to the first embodiment, an example in which the liquid crystal injection port 39 is formed by the sealing material 36 and the liquid crystal injection port 39 is sealed by the sealing material 40 is shown.

次に各基板の構成について、図2及び図3を参照して説明する。先ず、アレイ基板11には、第1透明基板12の表面に例えばMo/Alの2層配線からなるゲート電極Gを含む複数の走査線13が互いに平行になるように形成されている。また、この走査線13が形成された第1透明基板12の表面全体に亘って窒化ケイ素ないしは酸化ケイ素等の透明絶縁材料からなるゲート絶縁膜15が被覆されている。さらに、このゲート絶縁膜15の表面のスイッチング素子としてのTFT20が形成される領域には例えばアモルファスシリコン層からなる半導体層16が形成されている。この半導体層16が形成されている位置の走査線13の領域がTFT20のゲート電極Gを形成する。   Next, the configuration of each substrate will be described with reference to FIGS. First, a plurality of scanning lines 13 including gate electrodes G made of, for example, Mo / Al two-layer wiring are formed on the surface of the first transparent substrate 12 on the array substrate 11 so as to be parallel to each other. A gate insulating film 15 made of a transparent insulating material such as silicon nitride or silicon oxide is coated over the entire surface of the first transparent substrate 12 on which the scanning lines 13 are formed. Further, a semiconductor layer 16 made of, for example, an amorphous silicon layer is formed in a region where the TFT 20 as a switching element is formed on the surface of the gate insulating film 15. The region of the scanning line 13 at the position where the semiconductor layer 16 is formed forms the gate electrode G of the TFT 20.

また、ゲート絶縁膜15の表面には、例えばMo/Al/Moの3層構造の導電性層からなるソース電極Sを含む信号線14及びドレイン電極Dが形成されている。この信号線14のソース電極S部分及びドレイン電極D部分は、いずれも半導体層16の表面に部分的に重なっている。また、このアレイ基板11の表面全体に亘って窒化ケイ素ないしは酸化ケイ素等の透明絶縁材料からなるパッシベーション膜17が被覆されている。さらに、このパッシベーション膜17の表面全体に例えば樹脂材料からなる層間膜21が被覆されており、ドレイン電極Dに対応する位置のパッシベーション膜17及び層間膜21にはコンタクトホール26が形成されている。   Further, on the surface of the gate insulating film 15, a signal line 14 and a drain electrode D including a source electrode S made of a conductive layer having a three-layer structure of, for example, Mo / Al / Mo are formed. Both the source electrode S portion and the drain electrode D portion of the signal line 14 partially overlap the surface of the semiconductor layer 16. The entire surface of the array substrate 11 is covered with a passivation film 17 made of a transparent insulating material such as silicon nitride or silicon oxide. Further, the entire surface of the passivation film 17 is covered with an interlayer film 21 made of, for example, a resin material, and contact holes 26 are formed in the passivation film 17 and the interlayer film 21 at positions corresponding to the drain electrodes D.

そして、図2に示したパターンとなるように、走査線13及び信号線14で囲まれた領域(以下「画素領域41」という)の層間膜21上に、例えばITO(Indium Thin Oxide)ないしIZO(Indium Zinc Oxide)からなる透明導電性材料で下電極22が形成されている。この下電極22はコンタクトホール26を介してドレイン電極Dと電気的に接続されている。そのため、この下電極22は画素電極として作動する。さらに、この下電極22上には電極間絶縁膜23が形成されている。この電極間絶縁膜23には、例えば窒化ケイ素等の絶縁性が良好な透明絶縁材料が使用される。   Then, on the interlayer film 21 in a region surrounded by the scanning lines 13 and the signal lines 14 (hereinafter referred to as “pixel region 41”), for example, ITO (Indium Thin Oxide) or IZO so as to have the pattern shown in FIG. The lower electrode 22 is formed of a transparent conductive material made of (Indium Zinc Oxide). The lower electrode 22 is electrically connected to the drain electrode D through a contact hole 26. Therefore, the lower electrode 22 operates as a pixel electrode. Further, an interelectrode insulating film 23 is formed on the lower electrode 22. For the interelectrode insulating film 23, a transparent insulating material having good insulating properties such as silicon nitride is used.

そして、この電極間絶縁膜23上には画素領域41に複数の、例えば平面視でバー状のスリット25を有するITOないしIZOからなる透明導電性材料で上電極24が形成されている。そして、この基板の表面全体に亘り所定の配向膜(図示せず)が形成されている。この上電極24は、表示領域37の全体に亘って形成されており、非表示領域38において共通配線(図示省略)と電気的に接続されている。そのため、上電極24は共通電極として作動する。この上電極24は、図1及び図4Aに示すように、下電極22に対して非表示領域38の方向に延在された上電極延在部24aが形成されている。   On the interelectrode insulating film 23, the upper electrode 24 is formed of a transparent conductive material made of ITO or IZO having a plurality of, for example, bar-shaped slits 25 in a plan view in the pixel region 41. A predetermined alignment film (not shown) is formed over the entire surface of the substrate. The upper electrode 24 is formed over the entire display area 37 and is electrically connected to a common wiring (not shown) in the non-display area 38. Therefore, the upper electrode 24 operates as a common electrode. As shown in FIGS. 1 and 4A, the upper electrode 24 is formed with an upper electrode extending portion 24a extending in the direction of the non-display region 38 with respect to the lower electrode 22.

また、カラーフィルター基板28は、図3に示すように、ガラス基板等からなる第2透明基板29の表面に、アレイ基板11の走査線13、信号線14、TFT20及び非表示領域38に対応する位置を被覆するように遮光層32が形成されている。この非表示領域38に形成される遮光層32は、例えばクロム金属製の薄膜によってカラーフィルター基板28の端部32bまで形成されており、さらに非表示領域38には表示領域37を囲むように遮光層32が形成されていない遮光層非形成領域32aが設けられている(図1参照)。この遮光層非形成領域32aはアレイ基板11に形成された上電極延在部24aと平面視で重畳される位置に形成されている。なお、遮光層非形成領域32aの詳細な構成については後述する。   Further, as shown in FIG. 3, the color filter substrate 28 corresponds to the scanning line 13, the signal line 14, the TFT 20, and the non-display area 38 of the array substrate 11 on the surface of the second transparent substrate 29 made of a glass substrate or the like. A light shielding layer 32 is formed so as to cover the position. The light shielding layer 32 formed in the non-display area 38 is formed up to the end 32b of the color filter substrate 28 by, for example, a thin film made of chromium metal, and further the light shielding so as to surround the display area 37 in the non-display area 38. A light shielding layer non-formation region 32a in which the layer 32 is not formed is provided (see FIG. 1). The light shielding layer non-forming region 32a is formed at a position overlapping the upper electrode extension 24a formed on the array substrate 11 in plan view. The detailed configuration of the light shielding layer non-forming region 32a will be described later.

そして、遮光層32が形成された第2透明基板29の表面には、複数色、例えば赤、緑、青の3色からなるカラーフィルター層33が形成されている。さらに、遮光層32及び、カラーフィルター層33の表面を被覆するように透明樹脂からなるオーバーコート層34が形成されている。また、オーバーコート層34の表面には、カラーフィルター基板28の表面全体に亘り、配向膜(図示省略)が形成されている。また、アレイ基板11及び、カラーフィルター基板28の外面には互いにクロスニコル配置された偏光板27、35がそれぞれ設けられている。そのため、この液晶表示装置10は、ノーマリーブラックモードで作動する。   On the surface of the second transparent substrate 29 on which the light shielding layer 32 is formed, a color filter layer 33 composed of a plurality of colors, for example, three colors of red, green, and blue, is formed. Further, an overcoat layer 34 made of a transparent resin is formed so as to cover the surfaces of the light shielding layer 32 and the color filter layer 33. An alignment film (not shown) is formed on the surface of the overcoat layer 34 over the entire surface of the color filter substrate 28. Further, polarizing plates 27 and 35 arranged in crossed Nicols are provided on the outer surfaces of the array substrate 11 and the color filter substrate 28, respectively. Therefore, the liquid crystal display device 10 operates in a normally black mode.

そして、これらのアレイ基板11とカラーフィルター基板28のいずれか一方にシール材36を塗布し貼り合わせを行う。その後、シール材36で形成した液晶注入口39から液晶43を注入し、液晶注入口39を封止材40で封止し、実装領域12aにドライバーIC42等を設置することで、実施形態1の液晶表示装置10となる。   Then, a sealing material 36 is applied to one of the array substrate 11 and the color filter substrate 28 and bonded. Thereafter, the liquid crystal 43 is injected from the liquid crystal injection port 39 formed by the sealing material 36, the liquid crystal injection port 39 is sealed by the sealing material 40, and the driver IC 42 and the like are installed in the mounting region 12a. The liquid crystal display device 10 is obtained.

次に、図4及び図5を参照して、カラーフィルター基板28に形成された遮光層非形成領域32aとアレイ基板11に形成された上電極延在部24aの詳細な構成について説明する。   Next, a detailed configuration of the light shielding layer non-forming region 32a formed on the color filter substrate 28 and the upper electrode extending portion 24a formed on the array substrate 11 will be described with reference to FIGS.

図4A及び図4Bに示すように、実施形態1の液晶表示装置10では、遮光層32は、カラーフィルター基板28の端部32bまで形成されており、また、非表示領域38において表示領域37を囲むように遮光層32が形成されていない遮光層非形成領域32aが設けられている。一方、アレイ基板11には、下電極22に比べて非表示領域38の方向に延在された上電極延在部24aが形成されている。そして、この遮光層非形成領域32aと上電極延在部24aは、平面視で重畳するように形成されている。   As shown in FIGS. 4A and 4B, in the liquid crystal display device 10 of the first embodiment, the light shielding layer 32 is formed up to the end portion 32b of the color filter substrate 28, and the display area 37 is formed in the non-display area 38. A light shielding layer non-forming region 32a where the light shielding layer 32 is not formed is provided so as to surround. On the other hand, the array substrate 11 is formed with an upper electrode extending portion 24 a that extends in the direction of the non-display area 38 compared to the lower electrode 22. And this light shielding layer non-formation area | region 32a and the upper electrode extension part 24a are formed so that it may overlap with planar view.

このように構成することより、液晶表示装置10の遮光層32の端部32bから静電気が浸入しても、その静電気は遮光層非形成領域32aを超えて表示領域37内に浸入することがなくなるので、表示不良の発生が抑制される。   With this configuration, even when static electricity enters from the end portion 32b of the light shielding layer 32 of the liquid crystal display device 10, the static electricity does not enter the display region 37 beyond the light shielding layer non-formation region 32a. Therefore, the occurrence of display defects is suppressed.

さらに、実施形態1の液晶表示装置10では、上電極24は平面視で遮光層非形成領域32aの全てと重畳する位置まで延在されている。実施形態1の液晶表示装置10では、上電極24の電位は液晶分子に対して基準電位となるので、上電極24に印加されている電位によっては液晶分子は駆動されない。そのため、図5に示すように、遮光層非形成領域32aにおいては常時ノーマリーブラックモードが維持され、黒表示44となっているため、図4Bで示す遮光層非形成領域32aから光が外部へ出ていくことがなく、周辺領域のコントラストが良好な液晶表示装置を得ることができる。   Furthermore, in the liquid crystal display device 10 according to the first embodiment, the upper electrode 24 extends to a position overlapping with all of the light shielding layer non-forming region 32a in plan view. In the liquid crystal display device 10 according to the first embodiment, the potential of the upper electrode 24 becomes a reference potential with respect to the liquid crystal molecules, so that the liquid crystal molecules are not driven by the potential applied to the upper electrode 24. Therefore, as shown in FIG. 5, the normally black mode is always maintained in the non-light-shielding layer non-forming region 32a, and the black display 44 is obtained. Therefore, light is transmitted from the non-light-shielding layer non-forming region 32a shown in FIG. A liquid crystal display device with good contrast in the peripheral region can be obtained without going out.

なお、遮光層32は一般的に樹脂製又は金属製で形成されているが、金属製で遮光層を形成した方が、樹脂製の遮光層に比べ薄く形成しても遮光の精度が高いので好ましい。そのため、実施形態1の液晶表示装置10であれば、遮光層32を金属製で形成したとしても、金属製の遮光層32は静電気が表示領域37内に浸入しやすいという課題を、表示領域37と非表示領域38の遮光層32に遮光層非形成領域32aを形成することにより解決され、液晶表示装置10の端部の遮光層32から浸入した静電気による表示不良を抑制することができるようになる。   The light shielding layer 32 is generally made of resin or metal. However, the light shielding layer made of metal has a higher light shielding accuracy even if formed thinner than the resin light shielding layer. preferable. Therefore, in the liquid crystal display device 10 of Embodiment 1, even if the light shielding layer 32 is made of metal, the metal light shielding layer 32 has a problem that static electricity easily enters the display region 37. This is solved by forming the light shielding layer non-forming region 32a in the light shielding layer 32 of the non-display region 38, so that display defects due to static electricity entering from the light shielding layer 32 at the end of the liquid crystal display device 10 can be suppressed. Become.

[実施形態2]
次に、実施形態2の液晶表示装置10'を、図1〜図3及び図6を参照して説明する。なお、実施形態2の液晶表示装置10'は、実施形態1の液晶表示装置10に対し、上電極延在部24aにマークを形成したものであり、実施形態1の液晶表示装置10と共通する構成部分には同一の参照符号を付し、それらの詳細な説明は省略する。
[Embodiment 2]
Next, the liquid crystal display device 10 ′ according to the second embodiment will be described with reference to FIGS. 1 to 3 and FIG. Note that the liquid crystal display device 10 ′ of the second embodiment is obtained by forming marks on the upper electrode extension portion 24a with respect to the liquid crystal display device 10 of the first embodiment, and is common to the liquid crystal display device 10 of the first embodiment. Components are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

図6A及び図6Bに示すように、実施形態2の液晶表示装置10'には、アレイ基板11に形成された上電極延在部24aと重畳するように位置決めのマーク45が形成されている。この位置決めのマーク45はカラーフィルター基板28に形成された遮光層非形成領域32aから視認できる位置に形成されている。なお、位置決めのマーク45は、アレイ基板11の表示領域37内に形成されたTFT20のゲート電極G又はソース電極Sの形成時に同一の材料を用いて同時に形成することができる。   As shown in FIGS. 6A and 6B, in the liquid crystal display device 10 ′ of the second embodiment, a positioning mark 45 is formed so as to overlap with the upper electrode extension 24a formed on the array substrate 11. The positioning mark 45 is formed at a position that is visible from the light shielding layer non-forming region 32 a formed on the color filter substrate 28. The positioning mark 45 can be formed simultaneously using the same material when forming the gate electrode G or the source electrode S of the TFT 20 formed in the display region 37 of the array substrate 11.

このような構成とすることにより、遮光層非形成領域32aまで延在された上電極延在部24aと重畳する位置に形成された位置決めのマーク45をカラーフィルター基板28に形成された遮光層非形成領域32aから視認することができるため、基板の貼り合わせを容易に行うことができ、アレイ基板11とカラーフィルター基板28の貼り合わせの精度を向上させることができる。さらに、この位置決めのマーク45は、アレイ基板11及びカラーフィルター基板28との間に液晶43が封入され、液晶表示装置10が駆動されると、この部分は常に黒表示となるため、液晶表示装置10'の使用時に使用者に視認されるおそれはない。   With such a configuration, the positioning mark 45 formed at the position overlapping the upper electrode extension 24 a extending to the light shielding layer non-forming region 32 a is not formed on the light shielding layer formed on the color filter substrate 28. Since it can be visually recognized from the formation region 32a, the substrates can be easily bonded together, and the accuracy of the bonding between the array substrate 11 and the color filter substrate 28 can be improved. Further, the positioning mark 45 is such that when the liquid crystal 43 is sealed between the array substrate 11 and the color filter substrate 28 and the liquid crystal display device 10 is driven, this portion is always displayed in black. There is no fear of being visually recognized by the user when 10 ′ is used.

なお、位置決めのマーク45は複数形成されていてもよい。位置決めのマーク45を複数形成すると、位置合わせの精度がさらに高くなる。また、実施形態2の液晶表示装置10'では、位置決めのマーク45は十字状に形成された場合を示したが、これに限らず位置合わせの確認ができるような形状であれば、任意の形状を採用できる。   A plurality of positioning marks 45 may be formed. When a plurality of positioning marks 45 are formed, the alignment accuracy is further increased. Further, in the liquid crystal display device 10 ′ of the second embodiment, the positioning mark 45 is formed in a cross shape. However, the shape is not limited to this, and any shape may be used as long as the alignment can be confirmed. Can be adopted.

なお、実施形態1及び2の液晶表示装置は、液晶をシール材で形成した液晶注入口から真空注入法で製造される場合について説明したが、これに限らずODF法を用いて製造する場合でも適用することができる。光硬化性材料からなるシール材の硬化用の紫外線の照射はアレイ基板から行われるため、通常はアレイ基板側に遮光層を形成することができない。本発明の液晶表示装置では、遮光層非形成領域においては、アレイ基板に遮光用の金属を設けることなく遮光ができるので、ODF法で製造される液晶表示装置でも遮光層非形成領域における光漏れを抑制することができる。   In addition, although the liquid crystal display device of Embodiment 1 and 2 demonstrated the case where it manufactured by the vacuum injection method from the liquid crystal injection port which formed the liquid crystal with the sealing material, it is not restricted to this, Even when manufactured using the ODF method Can be applied. Since the irradiation of the ultraviolet rays for curing the sealing material made of the photocurable material is performed from the array substrate, it is usually impossible to form a light shielding layer on the array substrate side. In the liquid crystal display device of the present invention, since light can be shielded without providing a light shielding metal on the array substrate in the light shielding layer non-formation region, light leakage in the light shielding layer non-formation region can be achieved even in a liquid crystal display device manufactured by the ODF method. Can be suppressed.

また、実施形態1及び2の液晶表示装置としては、FFSモードの液晶表示装置の場合を例に取って説明したが、上電極と下電極との間に絶縁層が形成されていれば、IPSモードの液晶表示装置の場合に対しても等しく適用可能である。更に、実施形態1及び2の液晶表示装置では、下電極の駆動用スイッチング素子が薄膜トランジスターTFTの場合について説明したが、これに限らず、2端子素子、例えば薄膜ダイオード等の場合にも適用可能である。   Further, as the liquid crystal display devices of Embodiments 1 and 2, the case of the FFS mode liquid crystal display device has been described as an example. However, if an insulating layer is formed between the upper electrode and the lower electrode, IPS The present invention is equally applicable to the mode liquid crystal display device. Further, in the liquid crystal display devices according to the first and second embodiments, the case where the switching element for driving the lower electrode is a thin film transistor TFT has been described. It is.

10、10':液晶表示装置 11:アレイ基板 12:第1透明基板 12a:実装領域 13:走査線 14:信号線 15:ゲート絶縁膜 16:半導体層 17:パッシベーション膜 20:TFT 21:層間膜 22:下電極 23:電極間絶縁膜 24:上電極 24a:上電極延在部 25:スリット 26:コンタクトホール 27:偏光板 28:カラーフィルター基板 29:第2透明基板 32:遮光層 32a:遮光層非形成領域 32b:端部 33:カラーフィルター層 34:オーバーコート層 35:偏光板 36:シール材 37:表示領域 38:非表示領域 39:液晶注入口 40:封止材 41:画素領域 42:ドライバーIC 43:液晶 44:黒表示 45:位置決めのマーク S:ソース電極 D:ドレイン電極 G:ゲート電極 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10, 10 ': Liquid crystal display device 11: Array substrate 12: 1st transparent substrate 12a: Mounting area 13: Scanning line 14: Signal line 15: Gate insulating film 16: Semiconductor layer 17: Passivation film 20: TFT 21: Interlayer film 22: Lower electrode 23: Interelectrode insulating film 24: Upper electrode 24a: Upper electrode extension 25: Slit 26: Contact hole 27: Polarizing plate 28: Color filter substrate 29: Second transparent substrate 32: Light shielding layer 32a: Light shielding Layer non-formation region 32b: End 33: Color filter layer 34: Overcoat layer 35: Polarizing plate 36: Sealing material 37: Display region 38: Non-display region 39: Liquid crystal injection port 40: Sealing material 41: Pixel region 42 : Driver IC 43: Liquid crystal 44: Black display 45: Positioning mark S: Source electrode D: Drain power G: gate electrode

Claims (5)

内部に液晶が封入され、周囲がシール材で貼り合わされている第1基板及び第2基板と、前記第1基板に絶縁層を挟んで形成された上電極及び下電極と、前記第1基板の外部側に配置されたバックライト光源と、を有し、前記上電極と前記下電極との間に生じる電界によって前記液晶が駆動されるノーマリーブラックモードの横電界方式の液晶表示装置であって、
前記第1基板及び前記第2基板の前記シール材で囲まれた内側に形成された領域であって、領域内で前記上電極と前記下電極とが平面視で重畳する表示領域と、
前記表示領域の周囲に形成された非表示領域と、
前記第2基板の前記非表示領域に形成される遮光層であって、前記シール材で囲まれた内側に前記表示領域を囲むように当該遮光層が形成されていない遮光層非形成領域を有する遮光層と、
を有し、
前記上電極は、共通電極電位に接続されている、
液晶表示装置。
A first substrate and a second substrate in which liquid crystal is sealed and a periphery thereof is bonded with a sealing material; an upper electrode and a lower electrode formed with an insulating layer sandwiched between the first substrate; and the first substrate A normally black mode lateral electric field type liquid crystal display device, wherein the liquid crystal is driven by an electric field generated between the upper electrode and the lower electrode. ,
A region formed on the inner side of the first substrate and the second substrate surrounded by the sealing material, wherein the upper electrode and the lower electrode overlap in a plan view in the region;
A non-display area formed around the display area;
A light-shielding layer formed in the non-display area of the second substrate, the light-shielding layer non-formation area in which the light-shielding layer is not formed so as to surround the display area inside the seal material A light shielding layer;
Have
The upper electrode is connected to a common electrode potential;
Liquid crystal display device.
前記遮光層は、金属性材料で形成されている、
請求項1に記載の液晶表示装置。
The light shielding layer is formed of a metallic material,
The liquid crystal display device according to claim 1.
前記遮光層非形成領域に位置する前記上電極に重畳して位置決めマークが形成されている、
請求項1又は2に記載の液晶表示装置。
A positioning mark is formed so as to overlap with the upper electrode located in the light shielding layer non-formation region,
The liquid crystal display device according to claim 1.
前記位置決めマークは、複数個形成されている、
請求項3に記載の液晶表示装置。
A plurality of the positioning marks are formed,
The liquid crystal display device according to claim 3.
前記位置決めマークは、前記下電極の駆動用スイッチング素子の電極と同材料で形成されている、
請求項3に記載の液晶表示装置。
The positioning mark is made of the same material as the electrode of the switching element for driving the lower electrode,
The liquid crystal display device according to claim 3.
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