JP2003021843A - Liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display device

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JP2003021843A
JP2003021843A JP2001208948A JP2001208948A JP2003021843A JP 2003021843 A JP2003021843 A JP 2003021843A JP 2001208948 A JP2001208948 A JP 2001208948A JP 2001208948 A JP2001208948 A JP 2001208948A JP 2003021843 A JP2003021843 A JP 2003021843A
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JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
pixel electrode
pixel
switching element
counter electrode
Prior art date
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Application number
JP2001208948A
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Japanese (ja)
Inventor
Nagatoshi Kurahashi
永年 倉橋
Yoshiaki Nakayoshi
良彰 仲吉
Kazuhiko Yanagawa
和彦 柳川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent a liquid crystal from being affected by material in a sealing material. SOLUTION: A switching element operated by a scanning signal from a gate signal line, a pixel electrode to which a video signal from a drain signal line is supplied via the switching element and a counter substrate generating an electric field between the counter substrate and the pixel electrode are formed in each pixel area of the surface on the liquid crystal side of one substrate of substrates disposed opposite to each other via a liquid crystal. The counter substrate is formed on the upper surface of an insulation coating film formed by covering the switching element and the pixel electrode and connected to a circular bus line enclosing the periphery of the assembling body of each pixel area and the bus line is formed within the area enclosed by the sealing material both for sealing the liquid crystal and for fixing the one substrate to the other substrate.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置に係
り、特に横電界方式と称される液晶表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to a liquid crystal display device called an in-plane switching mode.

【0002】[0002]

【従来の技術】横電界方式と称される液晶表示装置は、
液晶を介して対向配置される各透明基板のうち一方の透
明基板の液晶側の各画素領域に、画素電極とこの画素電
極との間に電界を生じせしめる対向電極とが形成され、
該電界のうち透明基板とほぼ平行な成分によって液晶の
光透過率を制御させるようになっている。
2. Description of the Related Art A liquid crystal display device called a horizontal electric field type is
A pixel electrode and a counter electrode for generating an electric field between the pixel electrode and the pixel electrode are formed in each pixel region on the liquid crystal side of one transparent substrate among the transparent substrates arranged to face each other via the liquid crystal,
The light transmittance of the liquid crystal is controlled by the component of the electric field that is substantially parallel to the transparent substrate.

【0003】そして、このような構成をアクティブマト
リクス型に適用させたものとして、前記一方の透明基板
の液晶側の面に、そのx方向に延在しy方向に並設させ
たゲート信号線とy方向に延在しx方向に並設させたド
レイン信号線とで囲まれた各領域を画素領域とし、これ
ら各画素領域に、ゲート信号線からの走査信号によって
作動するスイッチング素子と、このスイッチング素子を
介してドレイン信号線からの映像信号が供給される前記
画素電極と、この画素電極に近接させて配置される前記
対向電極とが形成されている。
As an application of such a structure to an active matrix type, a gate signal line extending in the x direction and arranged side by side in the y direction is formed on the liquid crystal side surface of the one transparent substrate. Each region surrounded by drain signal lines extending in the y direction and arranged in parallel in the x direction is defined as a pixel region, and a switching element that operates by a scanning signal from the gate signal line is provided in each of these pixel regions and the switching element. The pixel electrode to which the video signal from the drain signal line is supplied via the element and the counter electrode which is arranged close to the pixel electrode are formed.

【0004】なお、一方の透明基板に対する他方の透明
基板との固着は、液晶の封入を兼ねるシール材によって
なされ、このシール材に囲まれた領域に前記各画素領域
の集合体からなる液晶表示部が形成されている。
The one transparent substrate and the other transparent substrate are fixed to each other by a sealing material which also serves as an encapsulation of the liquid crystal, and a liquid crystal display section composed of an assembly of the respective pixel areas is surrounded by the sealing material. Are formed.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな液晶表示装置において、液晶表示部の周辺に表示不
良が発生しやすいことが確認されるに至った。
However, it has been confirmed that in such a liquid crystal display device, a display defect is likely to occur around the liquid crystal display portion.

【0006】そこで、この原因を追求した結果、シール
材中の材料であって液晶に対して汚染源となる材料が液
晶中に侵入するためであることが判明した。
Then, as a result of pursuing this cause, it was found that the material in the sealing material, which is a contamination source for the liquid crystal, penetrates into the liquid crystal.

【0007】横電界方式の場合、画素電極と対向電極と
の間に発生させる電界は比較的小さいため、液晶の挙動
において前記材料による影響は無視し得ないものとなっ
ている。
In the case of the horizontal electric field system, the electric field generated between the pixel electrode and the counter electrode is relatively small, and therefore the influence of the above-mentioned material on the behavior of the liquid crystal cannot be ignored.

【0008】本発明は、このような事情に基づいてなさ
れたものであり、その目的はシール材中の材料による液
晶への影響を防止するようにした液晶表示装置を提供す
ることにある。
The present invention has been made under these circumstances, and an object thereof is to provide a liquid crystal display device in which the influence of the material in the sealing material on the liquid crystal is prevented.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
Among the inventions disclosed in the present application, a brief description will be given to the outline of typical ones.
It is as follows.

【0010】手段1.本発明による液晶表示装置は、た
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面の各画素領域に、ゲート信号線から
の走査信号により作動されるスイッチング素子と、この
スイッチング素子を介してドレイン信号線からの映像信
号が供給される画素電極と、この画素電極との間に電界
を発生せしめる対向電極とが形成され、前記対向電極は
前記スイッチング素子および画素電極をも被って形成さ
れる絶縁被膜の上面に形成され、かつ前記各画素領域の
集合体の周辺を囲む環状のバスラインに接続され、該バ
スラインは前記液晶の封入を兼ねて前記一方の基板と他
方の基板の固着を図るシール材に囲まれた領域内に形成
されていることを特徴とするものである。
Means 1. A liquid crystal display device according to the present invention includes, for example, a switching element operated by a scanning signal from a gate signal line in each pixel region on the liquid crystal side surface of one of the substrates opposed to each other with a liquid crystal interposed therebetween. A pixel electrode to which a video signal from the drain signal line is supplied via the switching element and a counter electrode for generating an electric field between the pixel electrode and the pixel electrode are formed, and the counter electrode is the switching element and the pixel electrode. Is formed on the upper surface of the insulating coating formed to cover the periphery of the aggregate of the pixel regions, and the bus line also serves as the liquid crystal encapsulation. It is characterized in that it is formed in a region surrounded by a sealing material for fixing the other substrate.

【0011】手段2.本発明による液晶表示装置は、た
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面の各画素領域に、ゲート信号線から
の走査信号により作動されるスイッチング素子と、この
スイッチング素子を介してドレイン信号線からの映像信
号が供給される画素電極と、この画素電極との間に電界
を発生せしめる対向電極とが形成され、前記対向電極は
前記スイッチング素子および画素電極をも被って形成さ
れる有機材料層からなる絶縁被膜の上面に形成され、か
つ前記各画素領域の集合体の周辺を囲む環状の前記対向
電極と同材料のバスラインに一体に接続され、該バスラ
インは前記液晶の封入を兼ねて前記一方の基板と他方の
基板の固着を図るシール材に囲まれた領域内に形成され
ていることを特徴とするものである。
Means 2. A liquid crystal display device according to the present invention includes, for example, a switching element operated by a scanning signal from a gate signal line in each pixel region on the liquid crystal side surface of one of the substrates opposed to each other with a liquid crystal interposed therebetween. A pixel electrode to which a video signal from the drain signal line is supplied via the switching element and a counter electrode for generating an electric field between the pixel electrode and the pixel electrode are formed, and the counter electrode is the switching element and the pixel electrode. Is formed on the upper surface of an insulating coating formed of an organic material layer that covers the pixel electrode, and is integrally connected to a bus line made of the same material as the annular counter electrode surrounding the periphery of the aggregate of the pixel regions, The bus line is formed in a region surrounded by a sealing material for fixing the one substrate and the other substrate while also enclosing the liquid crystal.

【0012】手段3.本発明による液晶表示装置は、た
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面の各画素領域に、ゲート信号線から
の走査信号により作動されるスイッチング素子と、この
スイッチング素子を介してドレイン信号線からの映像信
号が供給される画素電極と、この画素電極との間に電界
を発生せしめる対向電極とが形成され、前記対向電極は
前記スイッチング素子および画素電極をも被って形成さ
れる絶縁被膜の上面に形成され、かつ前記各画素領域の
集合体の周辺を囲む環状のバスラインに接続され、該バ
スラインは前記液晶の封入を兼ねて前記一方の基板と他
方の基板の固着を図るシール材に囲まれた領域内に形成
され、かつその全域が配向膜によって被われていること
を特徴とするものである。
Means 3. A liquid crystal display device according to the present invention includes, for example, a switching element operated by a scanning signal from a gate signal line in each pixel region on the liquid crystal side surface of one of the substrates opposed to each other with a liquid crystal interposed therebetween. A pixel electrode to which a video signal from the drain signal line is supplied via the switching element and a counter electrode for generating an electric field between the pixel electrode and the pixel electrode are formed, and the counter electrode is the switching element and the pixel electrode. Is formed on the upper surface of the insulating coating formed to cover the periphery of the aggregate of the pixel regions, and the bus line also serves as the liquid crystal encapsulation. It is characterized in that it is formed in a region surrounded by a sealing material for fixing the other substrate, and the whole region is covered with an alignment film.

【0013】手段4.本発明による液晶表示装置は、た
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面の各画素領域に、ゲート信号線から
の走査信号により作動されるスイッチング素子と、この
スイッチング素子を介してドレイン信号線からの映像信
号が供給される画素電極と、この画素電極との間に電界
を発生せしめる対向電極とが形成され、前記対向電極は
前記スイッチング素子および画素電極をも被って形成さ
れる絶縁被膜の上面に形成され、かつ前記各画素領域の
集合体の周辺を囲む環状のバスラインに接続され、該バ
スラインは前記液晶の封入を兼ねて前記一方の基板と他
方の基板の固着を図るシール材に囲まれた領域内に形成
され、他方の基板の液晶側の面に形成されたブラックマ
トリクスよりも外方に延在されて形成されていることを
特徴とするものである。
Means 4. A liquid crystal display device according to the present invention includes, for example, a switching element operated by a scanning signal from a gate signal line in each pixel region on the liquid crystal side surface of one of the substrates opposed to each other with a liquid crystal interposed therebetween. A pixel electrode to which a video signal from the drain signal line is supplied via the switching element and a counter electrode for generating an electric field between the pixel electrode and the pixel electrode are formed, and the counter electrode is the switching element and the pixel electrode. Is formed on the upper surface of the insulating coating formed to cover the periphery of the aggregate of the pixel regions, and the bus line also serves as the liquid crystal encapsulation. It is formed in a region surrounded by a sealing material that secures the other substrate, and is formed so as to extend outside the black matrix formed on the liquid crystal side surface of the other substrate. And it is characterized in that is.

【0014】手段5.本発明による液晶表示装置は、た
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面の各画素領域に、ゲート信号線から
の走査信号により作動されるスイッチング素子と、この
スイッチング素子を介してドレイン信号線からの映像信
号が供給される画素電極と、この画素電極との間に電界
を発生せしめる対向電極とが形成され、前記対向電極は
前記スイッチング素子および画素電極をも被って形成さ
れる絶縁被膜の上面に形成され、かつ前記各画素領域の
集合体の周辺を囲む環状のバスラインに接続され、該バ
スラインは前記液晶の封入を兼ねて前記一方の基板と他
方の基板の固着を図るシール材に囲まれた領域内に形成
され、かつその長手方向に沿って孔が形成されているこ
とを特徴とするものである。
Means 5. A liquid crystal display device according to the present invention includes, for example, a switching element operated by a scanning signal from a gate signal line in each pixel region on the liquid crystal side surface of one of the substrates opposed to each other with a liquid crystal interposed therebetween. A pixel electrode to which a video signal from the drain signal line is supplied via the switching element and a counter electrode for generating an electric field between the pixel electrode and the pixel electrode are formed, and the counter electrode is the switching element and the pixel electrode. Is formed on the upper surface of the insulating coating formed to cover the periphery of the aggregate of the pixel regions, and the bus line also serves as the liquid crystal encapsulation. It is characterized in that it is formed in a region surrounded by a sealing material for fixing the other substrate and a hole is formed along the longitudinal direction thereof.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明による液晶表示装置
の実施例を図面を用いて説明をする。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of a liquid crystal display device according to the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0016】実施例1. 《等価回路》図2は、本発明による液晶表示装置の一実
施例を示す等価回路図である。同図は等価回路図である
が、実際の幾何学的配置に対応させて描いている。
Example 1. << Equivalent Circuit >> FIG. 2 is an equivalent circuit diagram showing an embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention. Although this figure is an equivalent circuit diagram, it is drawn corresponding to the actual geometrical arrangement.

【0017】図2において、液晶を介して互いに対向配
置される一対の透明基板SUB1、SUB2があり、該
液晶は一方の透明基板SUB1に対する他方の透明基板
SUB2の固定を兼ねるシール材SLによって封入され
ている。
In FIG. 2, there are a pair of transparent substrates SUB1 and SUB2 arranged to face each other with a liquid crystal interposed therebetween, and the liquid crystal is enclosed by a sealing material SL which also fixes one transparent substrate SUB1 to the other transparent substrate SUB2. ing.

【0018】シール材SLによって囲まれた前記一方の
透明基板SUB1の液晶側の面には、そのx方向に延在
しy方向に並設されたゲート信号線GLとy方向に延在
しy方向に並設されたドレイン信号線DLとが形成され
ている。
On the liquid crystal side surface of the one transparent substrate SUB1 surrounded by the sealing material SL, the gate signal lines GL extending in the x direction and juxtaposed in the y direction and the y direction extending in the y direction are formed. A drain signal line DL is formed side by side in the direction.

【0019】各ゲート信号線GLと各ドレイン信号線D
Lとで囲まれた領域は画素領域を構成するとともに、こ
れら各画素領域のマトリクス状の集合体は液晶表示部A
Rを構成するようになっている。
Each gate signal line GL and each drain signal line D
The region surrounded by L and L constitutes a pixel region, and the matrix-shaped aggregate of these pixel regions is the liquid crystal display unit A.
It constitutes R.

【0020】また、x方向に並設される各画素領域のそ
れぞれにはそれら各画素領域内に走行された共通の対向
電圧信号線CLが形成されている。この対向電圧信号線
CLは各画素領域の後述する対向電極CTに映像信号に
対して基準となる電圧を供給するための信号線となるも
のである。
Further, a common counter voltage signal line CL running in each pixel area is formed in each of the pixel areas arranged in parallel in the x direction. The counter voltage signal line CL serves as a signal line for supplying a reference voltage for a video signal to a counter electrode CT described later in each pixel region.

【0021】さらに、これら各対向電圧信号線CLは対
向電極バスラインCBLを介して対向電圧端子CTMか
ら電圧が供給されるようになっている。対向電極バスラ
インCBLは液晶表示部ARとシール材SLとの間の領
域において該液晶表示部ARを囲む環状のパターンで形
成されている。
Further, a voltage is supplied to each of these counter voltage signal lines CL from a counter voltage terminal CTM via a counter electrode bus line CBL. The counter electrode bus line CBL is formed in an annular pattern surrounding the liquid crystal display part AR in the region between the liquid crystal display part AR and the seal material SL.

【0022】各画素領域には、その片側のゲート信号線
GLからの走査信号によって作動される薄膜トランジス
タTFTと、この薄膜トランジスタTFTを介して片側
のドレイン信号線DLからの映像信号が供給される画素
電極PXが形成されている。
In each pixel region, a thin film transistor TFT operated by a scanning signal from the gate signal line GL on one side and a pixel electrode to which a video signal from the drain signal line DL on one side is supplied via the thin film transistor TFT. PX is formed.

【0023】この画素電極PXは、前記対向電圧信号線
CLと接続された対向電極CTとの間に電界を発生さ
せ、この電界によって液晶の光透過率を制御させるよう
になっている。
This pixel electrode PX generates an electric field between the counter voltage signal line CL and the counter electrode CT connected thereto, and the electric field controls the light transmittance of the liquid crystal.

【0024】前記ゲート信号線GLのそれぞれの一端は
前記シール材SLを超えて延在され、その延在端は垂直
走査駆動回路Vの出力端子が接続される端子を構成する
ようになっている。また、前記垂直走査駆動回路Vの入
力端子は透明基板SUB1の外部に配置されるプリント
基板からの信号が入力されるようになっている。
One end of each of the gate signal lines GL extends beyond the sealing material SL, and the extending end constitutes a terminal to which the output terminal of the vertical scanning drive circuit V is connected. . Further, a signal from a printed circuit board arranged outside the transparent substrate SUB1 is input to the input terminal of the vertical scanning drive circuit V.

【0025】垂直走査駆動回路Vは複数個の半導体装置
からなり、互いに隣接する複数のゲート信号線どおしが
グループ化され、これら各グループ毎に一個の半導体装
置があてがわれるようになっている。
The vertical scanning drive circuit V comprises a plurality of semiconductor devices, a plurality of gate signal lines adjacent to each other are grouped, and one semiconductor device is applied to each of these groups. There is.

【0026】同様に、前記ドレイン信号線DLのそれぞ
れの一端は前記シール材SLを超えて延在され、その延
在端は映像信号駆動回路Heの出力端子が接続される端
子を構成するようになっている。また、前記映像信号駆
動回路Heの入力端子は透明基板SUB1の外部に配置
されるプリント基板からの信号が入力されるようになっ
ている。
Similarly, one end of each of the drain signal lines DL extends beyond the sealing material SL, and the extended end constitutes a terminal to which the output terminal of the video signal driving circuit He is connected. Has become. Further, the input terminal of the video signal drive circuit He is adapted to receive a signal from a printed circuit board arranged outside the transparent substrate SUB1.

【0027】この映像信号駆動回路Heも複数個の半導
体装置からなり、互いに隣接する複数のドレイン信号線
DLどおしがグループ化され、これら各グループ毎に一
個の半導体装置があてがわれるようになっている。
The video signal drive circuit He is also composed of a plurality of semiconductor devices, and a plurality of drain signal lines DL adjacent to each other are grouped so that one semiconductor device is assigned to each group. Has become.

【0028】前記各ゲート信号線GLは、垂直走査回路
Vからの走査信号によって、その一つが順次選択される
ようになっている。
One of the gate signal lines GL is sequentially selected by the scanning signal from the vertical scanning circuit V.

【0029】また、前記各ドレイン信号線DLのそれぞ
れには、映像信号駆動回路Heによって、前記ゲート信
号線GLの選択のタイミングに合わせて映像信号が供給
されるようになっている。 《画素の構成》図3は、前記画素領域の構成の一実施例
を示す平面図で、図2の丸印内に示す構成を示してい
る。また、図3のIV−IV線における断面を図4に示して
いる。
Further, a video signal is supplied to each of the drain signal lines DL by a video signal drive circuit He at the timing of selecting the gate signal line GL. << Structure of Pixel >> FIG. 3 is a plan view showing an embodiment of the structure of the pixel region, and shows the structure shown in the circle in FIG. A cross section taken along line IV-IV in FIG. 3 is shown in FIG.

【0030】図3において、透明基板SUB1の液晶側
の面に、まず、x方向に延在しy方向に並設される一対
のゲート信号線GLが形成されている。
In FIG. 3, a pair of gate signal lines GL extending in the x direction and arranged in parallel in the y direction are first formed on the surface of the transparent substrate SUB1 on the liquid crystal side.

【0031】これらゲート信号線GLは後述の一対のド
レイン信号線DLとともに矩形状の領域を囲むようにな
っており、この領域を画素領域として構成するようにな
っている。
These gate signal lines GL surround a rectangular region together with a pair of drain signal lines DL which will be described later, and this region is constituted as a pixel region.

【0032】このようにゲート信号線GLが形成された
透明基板SUB1の表面にはたとえばSiNからなる絶
縁膜GIが該ゲート信号線GLをも被って形成されてい
る。
An insulating film GI made of, for example, SiN is formed on the surface of the transparent substrate SUB1 on which the gate signal lines GL have been formed as described above so as to cover the gate signal lines GL as well.

【0033】この絶縁膜GIは、後述のドレイン信号線
DLの形成領域においては前記ゲート信号線GLに対す
る層間絶縁膜としての機能を、後述の薄膜トランジスタ
TFTの形成領域においてはそのゲート絶縁膜としての
機能を、後述の容量素子Cstgの形成領域においては
その誘電体膜としての機能を有するようになっている。
The insulating film GI functions as an interlayer insulating film for the gate signal line GL in the formation region of the drain signal line DL described later, and as a gate insulation film in the formation region of the thin film transistor TFT described later. In the formation region of the capacitive element Cstg, which will be described later, the film has a function as a dielectric film.

【0034】そして、この絶縁膜GIの表面であって、
前記ゲート信号線GLの一部に重畳するようにしてたと
えばアモルファスSiからなる半導体層ASが形成され
ている。
On the surface of this insulating film GI,
A semiconductor layer AS made of, for example, amorphous Si is formed so as to overlap a part of the gate signal line GL.

【0035】この半導体層ASは、薄膜トランジスタT
FTのそれであって、その上面にドレイン電極SD1お
よびソース電極SD2を形成することにより、ゲート信
号線GLの一部をゲート電極とする逆スタガ構造のMI
S型トランジスタを構成することができる。
This semiconductor layer AS is a thin film transistor T.
By forming the drain electrode SD1 and the source electrode SD2 on the upper surface of the FT, the MI of the inverted stagger structure in which a part of the gate signal line GL is used as the gate electrode.
An S-type transistor can be constructed.

【0036】ここで、前記ドイレン電極SD1およびソ
ース電極SD2はドレイン信号線DLの形成の際に同時
に形成されるようになっている。
Here, the drain electrode SD1 and the source electrode SD2 are formed at the same time when the drain signal line DL is formed.

【0037】すなわち、y方向に延在されx方向に並設
されるドレイン信号線DLが形成され、その一部が前記
半導体層ASの上面にまで延在されてドレイン電極SD
1が形成され、また、このドレイン電極SD1と薄膜ト
ランジスタTFTのチャネル長分だけ離間されてソース
電極SD2が形成されている。
That is, the drain signal line DL extending in the y direction and arranged in parallel in the x direction is formed, and a part of the drain signal line DL extends to the upper surface of the semiconductor layer AS to form the drain electrode SD.
1 is formed, and the source electrode SD2 is formed apart from the drain electrode SD1 by the channel length of the thin film transistor TFT.

【0038】このソース電極SD2は半導体層AS面か
ら画素領域側へ延在され、その延在部は、たとえば、図
中(+)y方向へ延在した後、(+)x方向へ、さらに
(−)y方向へというように“コ”字状のパターンをな
し、画素電極PXとして形成されている。
The source electrode SD2 extends from the surface of the semiconductor layer AS toward the pixel region side, and the extending portion extends, for example, in the (+) y direction in the drawing, and then in the (+) x direction. The pixel electrode PX is formed as a “U” -shaped pattern such as in the (−) y direction.

【0039】この場合の画素電極PXは、画素領域内に
そのy方向に延在しx方向に並設される2本の画素電極
(画素電極群)として形成されるようになっている。
In this case, the pixel electrode PX is formed as two pixel electrodes (pixel electrode group) extending in the y direction in the pixel region and juxtaposed in the x direction.

【0040】ここで、該画素電極PXの材料として、上
述のようにドレイン信号線DLと同じ材料で構成したも
のである。しかし、これに限定されることはなく、該ド
レイン信号線DLと異なる材料で構成するようにしても
よい。この場合、該ドレイン信号線DLの形成工程と異
なる工程で形成せざるを得なくなるが、たとえばITO
(Indium Tin Oxide)等のような透光性の材料で構成す
ることができ、画素の開口率を向上させることができる
ようになる。
Here, the material of the pixel electrode PX is made of the same material as the drain signal line DL as described above. However, the present invention is not limited to this, and the drain signal line DL may be made of a different material. In this case, there is no choice but to form the drain signal line DL in a step different from the step of forming the drain signal line DL.
(Indium Tin Oxide) or the like can be used for the translucent material, and the aperture ratio of the pixel can be improved.

【0041】なお、半導体層ASとドレイン電極SD1
およびソース電極SD2との界面には高濃度の不純物が
ドープされた薄い層が形成され、この層はコンタクト層
として機能するようになっている。
The semiconductor layer AS and the drain electrode SD1
A thin layer doped with a high concentration of impurities is formed at the interface with the source electrode SD2, and this layer functions as a contact layer.

【0042】このコンタクト層は、たとえば半導体層A
Sの形成時に、その表面にすでに高濃度の不純物層が形
成されており、その上面に形成したドレイン電極SD1
およびソース電極SD2のパターンをマスクとしてそれ
から露出された前記不純物層をエッチングすることによ
って形成することができる。
This contact layer is, for example, the semiconductor layer A.
When S is formed, a high-concentration impurity layer is already formed on the surface thereof, and the drain electrode SD1 formed on the upper surface of the impurity layer is formed.
And the impurity layer exposed from the pattern of the source electrode SD2 as a mask may be etched.

【0043】このように薄膜トランジスタTFT、ドイ
レン信号線DL、ドレイン電極SD1、およびソース電
極SD2が形成された透明基板SUB1の表面にはたと
えばSiNからなる保護膜PSV1、さらにその上面に
有機材料層からなる保護膜PSV2が形成されている。
As described above, the transparent substrate SUB1 on which the thin film transistor TFT, the drain signal line DL, the drain electrode SD1 and the source electrode SD2 are formed has a protective film PSV1 made of, for example, SiN, and an organic material layer on the upper surface thereof. A protective film PSV2 is formed.

【0044】この保護膜PSV1、PSV2は前記薄膜
トランジスタTFTの液晶との直接の接触を回避させて
該薄膜トランジスタTFTの特性劣化を防止せんとする
もので、有機材料層からなる保護膜PSV2を用いてい
るのは保護膜全体として誘電率を下げるためである。
The protective films PSV1 and PSV2 are intended to prevent direct contact of the thin film transistor TFT with the liquid crystal to prevent characteristic deterioration of the thin film transistor TFT, and the protective film PSV2 made of an organic material layer is used. The reason is to lower the dielectric constant of the entire protective film.

【0045】保護膜PSV2の上面には対向電極CTが
形成されている。この対向電極CTは、少なくとも画素
領域の中央を図中y方向に延在する対向電極CT、該画
素領域の両脇に配置されているドレイン信号線DLに重
畳しかつ該ドレイン信号線DLよりも幅の広い画素電極
CTからなる電極群から構成されている。
A counter electrode CT is formed on the upper surface of the protective film PSV2. The counter electrode CT overlaps with the counter electrode CT extending at least in the y direction in the drawing in the center of the pixel region, and the drain signal line DL arranged on both sides of the pixel region and more than the drain signal line DL. The electrode group is composed of a wide pixel electrode CT.

【0046】ここで、ドレイン信号線DLに重畳する対
向電極CTの幅が該ドレイン信号線DLのそれよりも大
きく形成されている理由は、該ドレイン信号線DLから
の電界がその上方の対向電極CTに終端させやすくし
て、画素電極PXに終端するのを防止するためである。
画素電極PXに該電界が終端した場合にそれがノイズと
なってしまうからである。
The reason why the width of the counter electrode CT overlapping the drain signal line DL is larger than that of the drain signal line DL is that the electric field from the drain signal line DL is above the counter electrode. This is to facilitate termination to CT and prevent termination to the pixel electrode PX.
This is because if the electric field ends in the pixel electrode PX, it becomes noise.

【0047】そして、これら各対向電極CTは、ゲート
信号線GLに重畳された前記対向電極CTと同じ材料か
らなる導電層と一体的に形成されることにより、互いに
電気的に接続されるようになっている。
Then, each of the counter electrodes CT is integrally formed with a conductive layer made of the same material as that of the counter electrode CT overlapped with the gate signal line GL so that they are electrically connected to each other. Has become.

【0048】換言すれば、各対向電極CTは、液晶表示
部ARの全域に形成した導電層に、図中y方向に延在す
る前記画素電極PXの形成部分とその両脇の部分を穴開
けをすることによって形成されている。
In other words, for each counter electrode CT, the conductive layer formed over the entire area of the liquid crystal display portion AR is provided with a hole at the portion where the pixel electrode PX extending in the y direction in the drawing and the portions on both sides thereof are punched. It is formed by

【0049】このように構成された対向電極CTは前記
画素電極PXのうち図中x方向に延在する部分と重畳さ
れて形成され、この重畳部において容量素子Cstgが
形成されるようになっている。
The counter electrode CT thus constructed is formed so as to overlap the portion of the pixel electrode PX extending in the x direction in the drawing, and the capacitive element Cstg is formed at this overlapping portion. There is.

【0050】この容量素子Cstgは、たとえば画素電
極PXに供給された映像信号を比較的長く蓄積させる等
の機能をもたせるようになっている。
The capacitive element Cstg has a function of accumulating, for example, a video signal supplied to the pixel electrode PX for a relatively long time.

【0051】ここで、前記対向電極CTは、金属からな
る非透光性の材料(たとえば、Al、Cr、Mo、T
a、W、Ti、Ni、Cu等)で構成してもよく、ま
た、開口率の向上を図るため、たとえばITO、IZO
等のような透光性の材料で構成してもよい。
Here, the counter electrode CT is made of a non-translucent material (for example, Al, Cr, Mo, T) made of metal.
a, W, Ti, Ni, Cu, etc.), and in order to improve the aperture ratio, for example, ITO, IZO
It may be made of a translucent material such as.

【0052】そして、このように対向電極CTが形成さ
れた透明基板の上面には該対向電極CTをも被って配向
膜(図示せず)が形成されている。この配向膜は液晶と
直接に当接する膜で、その表面に形成されたラビングに
よって該液晶の分子の初期配向方向を決定づけるように
なっている。 《対向電極のバスライン》図1は、上述した画素を有す
る液晶表示装置の一実施例を示す平面図で、図2に対応
した図となっている。
An alignment film (not shown) is formed on the upper surface of the transparent substrate on which the counter electrode CT is thus formed so as to cover the counter electrode CT. This alignment film is a film that directly contacts the liquid crystal, and the rubbing formed on the surface determines the initial alignment direction of the molecules of the liquid crystal. << Bus Line of Counter Electrode >> FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of the liquid crystal display device having the above-described pixel, and is a view corresponding to FIG.

【0053】図1において、シール材SLの内側であっ
て液晶表示部ARの外側の領域には対向電極バスライン
CBLが形成され、この対向電極バスラインCBLは比
較的幅が広く(少なくとも対向電圧信号線CLよりも太
く)形成されているとともに、該液晶表示部ARを囲む
ようにして形成されている。
In FIG. 1, a counter electrode bus line CBL is formed in a region inside the seal material SL and outside the liquid crystal display portion AR, and the counter electrode bus line CBL has a relatively wide width (at least a counter voltage). It is formed thicker than the signal line CL) and is formed so as to surround the liquid crystal display portion AR.

【0054】この対向電極バスラインCBLは、図3に
て示した対向電極CTの延在部として構成してもよく、
また、該対向電極CTとは異なる導電層として構成して
もよい。
The counter electrode bus line CBL may be formed as an extension of the counter electrode CT shown in FIG.
Further, it may be configured as a conductive layer different from the counter electrode CT.

【0055】このように形成することによって、シール
材SLを構成する材料のうち液晶に対しての汚染物が液
晶表示部ARの該液晶中に侵入する際に、比較的幅広に
形成された前記対向電極バスラインCBL上を通らなく
てはならず、該対向電極バスラインCBLにトラップさ
れるようになる。
By forming in this way, when a contaminant to the liquid crystal among the materials forming the seal material SL enters the liquid crystal of the liquid crystal display section AR, it is formed relatively wide. It must pass over the counter electrode bus line CBL and is trapped by the counter electrode bus line CBL.

【0056】これにより、シール材SL中の該汚染物に
よる液晶表示に影響を与えることを回避することができ
るようになる。特に、いわゆる横電界を用いる液晶表示
装置では、液晶分子が基板に平行な面内で回転するた
め、該回転運動により汚染物が拡散されやすいため、対
向電極バスラインCBLによる信頼性向上の効果がいっ
そう顕著に生じるものである。
As a result, it is possible to avoid the influence of the contaminants in the seal material SL on the liquid crystal display. Particularly, in a liquid crystal display device using a so-called lateral electric field, liquid crystal molecules rotate in a plane parallel to the substrate, and contaminants are easily diffused by the rotational movement. Therefore, the counter electrode bus line CBL improves reliability. It is even more prominent.

【0057】また、前記対向電極バスラインCBLは、
対向電圧端子CTMと各対向電極CTとの間に比較的幅
の広い対向電極バスラインCBLが介在される構成とな
ることから、これらの導電層の全体の抵抗を下げること
ができ、たとえば対向電圧信号の波形歪み等を減少させ
ることができる。
The counter electrode bus line CBL is
Since the counter electrode bus line CBL having a relatively wide width is interposed between the counter voltage terminal CTM and each counter electrode CT, the resistance of the entire conductive layer can be reduced. It is possible to reduce signal waveform distortion and the like.

【0058】なお、このようなアクティブマトリクス型
の液晶表示装置においては、その液晶表示部ARとシー
ル材SLとの間の領域に、いわゆるダミー画素領域を形
成する場合が通常である。
In such an active matrix type liquid crystal display device, a so-called dummy pixel region is usually formed in a region between the liquid crystal display portion AR and the seal material SL.

【0059】ここで、ダミー画素領域とは、液晶表示に
寄与する画素領域と同様な構成となっており、たとえば
表示に寄与する画素領域と容量等を等しくさせて、該ダ
ミー画素領域の周辺の液晶表示に寄与する画素領域の表
示不良を回避するため等に設けられるものである。
Here, the dummy pixel region has the same structure as the pixel region that contributes to the liquid crystal display. For example, the pixel region that contributes to display is made to have the same capacitance and the like, and the dummy pixel region is surrounded by the dummy pixel region. It is provided in order to avoid display defects in the pixel region that contributes to liquid crystal display.

【0060】このため、このダミー画素領域が形成され
ている領域に前記対向電極バスラインCBLを形成する
ことにより、いわゆるデッドスペースを有効に利用でき
る効果を奏する。
Therefore, by forming the counter electrode bus line CBL in the area where the dummy pixel area is formed, there is an effect that a so-called dead space can be effectively used.

【0061】実施例2.図5は、上述した実施例1の構
成を前提として、前記対向電極バスラインCBLと透明
基板SUB2側に形成されたブラックマトリクスBMの
位置関係を示した断面図である。この断面図は図1のV
−V線におけるそれを示している。
Example 2. FIG. 5 is a cross-sectional view showing the positional relationship between the counter electrode bus line CBL and the black matrix BM formed on the transparent substrate SUB2 side on the premise of the configuration of the first embodiment described above. This cross-sectional view is V of FIG.
It is shown on the -V line.

【0062】ここで、前記ブラックマトリクスBMは、
透明基板SUB2の液晶側の面にて形成された遮光膜に
各画素領域の周辺を除く中央部に開口が形成された構成
となっている。そして、このブラックマトリクスBMの
周辺は液晶表示部ARの外側に位置付けられ、シール材
SLには接触していないようになっている。
Here, the black matrix BM is
The light-shielding film formed on the liquid crystal side surface of the transparent substrate SUB2 has an opening formed in the central portion of each pixel region except the periphery thereof. The periphery of the black matrix BM is positioned outside the liquid crystal display portion AR so that it does not contact the seal material SL.

【0063】一方、透明基板SUB1側に形成されてい
る対向電極バスラインCBLはシール材SLの形成領域
の途中部にまで延在されて、前記ブラックマトリクスB
Mの機能の一部を兼用させている。
On the other hand, the counter electrode bus line CBL formed on the transparent substrate SUB1 side extends up to the middle of the formation region of the sealing material SL, and the black matrix B is formed.
It shares some of M's functions.

【0064】このため、この実施例では、該対向電極バ
スラインCBLはたとえば金属等の不透光性の導電体で
形成されたものとなっている。
Therefore, in this embodiment, the counter electrode bus line CBL is formed of a non-translucent conductor such as metal.

【0065】なお、図5において、透明基板SUB2側
には、説明を簡単にするため、ブラックマトリクスBM
のみが形成されているが、カラー表示用のカラーフィル
タ、表面を平坦化する平坦化膜、配向膜等が形成されて
いることはいうまでもない。
In FIG. 5, the black matrix BM is provided on the transparent substrate SUB2 side for simplification of description.
Although only the color filter is formed, it goes without saying that a color filter for color display, a flattening film for flattening the surface, an alignment film, and the like are formed.

【0066】しかし、必要に応じてカラーフィルタ、平
坦化膜が形成されていない構成となっていてもよいこと
はいうまでもない。
However, it goes without saying that the color filter and the flattening film may not be formed if necessary.

【0067】実施例3.図6は、本発明による液晶表示
装置の他の実施例を示す断面図で、図5と対応した図と
なっている。
Example 3. FIG. 6 is a sectional view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention and corresponds to FIG.

【0068】図5と異なる構成は、透明基板SUB2に
おいてその周辺においてもブラックマトリクスBM
(2)が形成され、このブラックマトリクスBM(2)
は液晶表示部AR側に形成されたブラックマトリクスB
Mとは物理的に分離されて形成されている。
The configuration different from that of FIG. 5 is that the black matrix BM is provided in the periphery of the transparent substrate SUB2.
(2) is formed, and the black matrix BM (2) is formed.
Is a black matrix B formed on the liquid crystal display AR side
It is formed by being physically separated from M.

【0069】この分離個所においては、対向電極バスラ
インCBLと平面的に観て重畳されており、これによ
り、透明基板SUB2においてその全域に遮光膜が形成
されているのと同様の効果を奏するようになっている。
At this separation point, the counter electrode bus line CBL is overlapped with the counter electrode bus line CBL in a plan view, so that the same effect as that of forming the light shielding film over the entire area of the transparent substrate SUB2 can be obtained. It has become.

【0070】この場合、シール材SLは、その一部が透
明基板SUB2と直接に(ブラックマトリクスBMを介
在させることなく)形成されているため、シール材SL
の透明基板SUB2に対する接着の信頼性を保持させる
ことができる。
In this case, since the sealing material SL is partially formed directly on the transparent substrate SUB2 (without interposing the black matrix BM), the sealing material SL is formed.
The reliability of adhesion of the transparent substrate SUB2 to the transparent substrate SUB2 can be maintained.

【0071】実施例4.図7は、本発明による液晶表示
装置の他の実施例を示す断面図で、図6と対応した図と
なっている。
Example 4. FIG. 7 is a sectional view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention and corresponds to FIG.

【0072】図6の場合と比較して異なる構成は、シー
ル材SLの周辺においては、ブラックマトリクスBM、
BM(2)、あるいは対向電極バスラインCBLの少な
くとも一方で遮光がなされているが、シール材SLの形
成部分において遮光がなされていないことにある。
The structure different from the case of FIG. 6 is that the black matrix BM,
Although at least one of the BM (2) and the counter electrode bus line CBL is shielded from light, the light is not shielded at the portion where the seal material SL is formed.

【0073】シール材SLの形成部分において特に遮光
が必要ないという理由、あるいは該シール材SLをその
中に顔料を含ませて遮光材としての機能を持たせること
ができるという理由にもとづく。
This is based on the reason that light shielding is not particularly required in the portion where the sealing material SL is formed, or that the sealing material SL can be made to function as a light shielding material by containing a pigment therein.

【0074】また、このような構成とすることにより、
シール材SLの透明基板SUB1、SUB2に対する接
着の信頼性を保持させることができる。
Further, with such a configuration,
The reliability of adhesion of the seal material SL to the transparent substrates SUB1 and SUB2 can be maintained.

【0075】実施例5.図8は、本発明による液晶表示
装置の他の実施例を示す断面図で、図7と対応した図と
なっている。
Example 5. FIG. 8 is a sectional view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention and corresponds to FIG.

【0076】図7の場合と異なる構成は、液晶表示部A
R側に形成されているブラックマトリクスBMがシール
材SLとその内周側において一部重畳されるようにして
形成されていることにある。
The structure different from the case of FIG.
The black matrix BM formed on the R side is formed so as to partially overlap the sealing material SL on the inner peripheral side thereof.

【0077】この場合、シール材SLにたとえ遮光のた
め顔料が含まれていなくても、信頼性よく遮光ができる
ようになる。
In this case, even if the seal material SL does not contain a pigment for light shielding, the light can be reliably shielded.

【0078】実施例6.図9は、本発明による液晶表示
装置の他の実施例を示す断面図で、図8と対応した図と
なっている。
Example 6. FIG. 9 is a cross-sectional view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention and corresponds to FIG.

【0079】図8の場合と異なる構成は、対向電極バス
ラインCBLは、たとえばITO膜等の透光性の導電膜
で形成され、シール材SLの外方に及んで延在されてい
ることにある。
The configuration different from the case of FIG. 8 is that the counter electrode bus line CBL is formed of a translucent conductive film such as an ITO film and extends to the outside of the seal material SL. is there.

【0080】この場合、液晶の駆動はいわゆるノーマル
ブラックモードとし、該対向電極バスラインCBLを遮
光膜として機能させることができる。
In this case, the liquid crystal can be driven in a so-called normal black mode, and the counter electrode bus line CBL can function as a light shielding film.

【0081】ITO等で形成された対向電極バスライン
CBLをシール材SLの外方に及んで延在させているの
は、遮光膜としての機能を広範囲に及ぼすためと、たと
えシール材SLの外方に及んでも、酸化され難い材料か
ら構成されており、いわゆる電蝕の憂いがないからであ
る。
The counter electrode bus line CBL formed of ITO or the like is extended to the outside of the seal material SL because the function as a light shielding film is exerted over a wide range. This is because it is composed of a material that is difficult to be oxidized even if it is applied to all the users, and there is no fear of so-called electrolytic corrosion.

【0082】また、このようにすることによって、対向
電極バスラインCBLへの対向電圧信号の入力のための
端子を任意の個所に形成できるという効果も奏する。
By doing so, there is also an effect that a terminal for inputting a counter voltage signal to the counter electrode bus line CBL can be formed at an arbitrary position.

【0083】実施例7.図10は、本発明による液晶表
示装置の他の実施例を示す断面図で、図1のV−V線に
おける断面を示している。
Example 7. FIG. 10 is a cross-sectional view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention, showing a cross section taken along line VV of FIG.

【0084】この実施例では、対向電極バスラインCB
Lとこの対向電極バスラインCBLの上面に形成される
配向膜ORI1の位置関係を規定している。
In this embodiment, the counter electrode bus line CB is used.
The positional relationship between L and the alignment film ORI1 formed on the upper surface of the counter electrode bus line CBL is defined.

【0085】図10から明らかなように、配向膜ORI
1は対向電極バスラインCBLを完全に被うようして形
成されている。このようにすることによって、対向電極
バスラインCBLに電蝕が生じやすくなるのを該配向膜
ORI1によって防止できる構成となっている。
As is clear from FIG. 10, the alignment film ORI
Reference numeral 1 is formed so as to completely cover the counter electrode bus line CBL. By doing so, the orientation film ORI1 can prevent the occurrence of electrolytic corrosion on the counter electrode bus line CBL.

【0086】実施例8.図11は、本発明による液晶表
示装置の他の実施例を示す断面図で、図1の点線枠Qの
部分における平面図を示している。
Example 8. FIG. 11 is a cross-sectional view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention, which is a plan view of a portion surrounded by a dotted line frame Q in FIG.

【0087】図11において、対向電極バスラインCB
Lにはその長手方向に沿って多数の孔HOLが形成され
ていることにある。この孔HOLは対向電極バスライン
CBLの電蝕防止のためのそれであり、この孔HOLの
存在によって、たとえ対向電極バスラインCBLの周辺
に電蝕が発生しても該孔HOLでくい止められそれ以上
の進展を妨げることができるようになる。
In FIG. 11, the counter electrode bus line CB
A large number of holes HOL are formed in L along the longitudinal direction. This hole HOL is for preventing electrolytic corrosion of the counter electrode bus line CBL, and even if electrolytic corrosion occurs around the counter electrode bus line CBL due to the existence of this hole HOL, it is stopped by the hole HOL. Will be able to hinder the progress of.

【0088】実施例9.図12は、本発明による液晶表
示装置の他の実施例を示す断面図で、図11に対応した
図となっている。
Example 9. FIG. 12 is a sectional view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention and corresponds to FIG.

【0089】図11の場合と異なる構成は、対向電極バ
スラインCBLの一部がシール材SLの外方へ延在さ
れ、この延在部から対向電圧信号が供給されるようにな
っている。
The structure different from the case of FIG. 11 is such that a part of the counter electrode bus line CBL is extended to the outside of the seal material SL and the counter voltage signal is supplied from this extended portion.

【0090】実施例10.図13は、本発明による液晶
表示装置の他の実施例を示す断面図で、図12に対応し
た図となっている。
Example 10. FIG. 13 is a cross-sectional view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention and corresponds to FIG.

【0091】図12の場合と異なる構成は、対向電極バ
スラインCBLの長手方向に形成される電蝕防止用の複
数の孔HOLが幅方向に他段に形成されていることにあ
る。
The configuration different from the case of FIG. 12 is that a plurality of holes HOL for preventing electrolytic corrosion formed in the longitudinal direction of the counter electrode bus line CBL are formed in another stage in the width direction.

【0092】[0092]

【発明の効果】以上説明したことから明らかなように、
本発明による液晶表示装置によれば、シール材中の材料
による液晶への影響を防止することができる。
As is apparent from the above description,
According to the liquid crystal display device of the present invention, it is possible to prevent the material in the sealing material from affecting the liquid crystal.

【0093】[0093]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明による液晶表示装置の一実施例の全体を
示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing an entire embodiment of a liquid crystal display device according to the present invention.

【図2】本発明による液晶表示装置の一実施例の全体を
示す等価回路図である。
FIG. 2 is an equivalent circuit diagram showing an entire embodiment of a liquid crystal display device according to the present invention.

【図3】本発明による液晶表示装置の画素の一実施例を
示す平面図である。
FIG. 3 is a plan view showing an embodiment of a pixel of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図4】図3のIV−IV線における断面図である。FIG. 4 is a sectional view taken along line IV-IV in FIG.

【図5】本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す
部分断面図である。
FIG. 5 is a partial cross-sectional view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図6】本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す
部分断面図である。
FIG. 6 is a partial cross-sectional view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図7】本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す
部分断面図である。
FIG. 7 is a partial cross-sectional view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図8】本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す
部分断面図である。
FIG. 8 is a partial cross-sectional view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図9】本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す
部分断面図である。
FIG. 9 is a partial cross-sectional view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図10】本発明による液晶表示装置の他の実施例を示
す部分断面図である。
FIG. 10 is a partial cross-sectional view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図11】本発明による液晶表示装置の他の実施例を示
す部分平面図である。
FIG. 11 is a partial plan view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図12】本発明による液晶表示装置の他の実施例を示
す部分平面図である。
FIG. 12 is a partial plan view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図13】本発明による液晶表示装置の他の実施例を示
す部分平面図である。
FIG. 13 is a partial plan view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

CBL…対向電極バスライン、SUB1,SUB2…透
明基板、GL…ゲート信号線、DL…ドレイン信号線、
AS…半導体層、TFT…薄膜トランジスタ、PX…画
素電極、CT…対向電極、CL…対向電圧信号線、SL
…シール材。
CBL ... Counter electrode bus lines, SUB1, SUB2 ... Transparent substrate, GL ... Gate signal line, DL ... Drain signal line,
AS ... Semiconductor layer, TFT ... Thin film transistor, PX ... Pixel electrode, CT ... Counter electrode, CL ... Counter voltage signal line, SL
… Sealing material.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 柳川 和彦 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所ディスプレイグループ内 Fターム(参考) 2H089 LA44 MA03Y QA16 RA03 TA02 2H092 GA14 GA21 GA26 GA27 GA32 GA58 HA04 HA06 HA12 JB69 JB74 PA04 QA06    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Kazuhiko Yanagawa             Hitachi, Ltd. 3300 Hayano, Mobara-shi, Chiba             Factory Display Group F-term (reference) 2H089 LA44 MA03Y QA16 RA03                       TA02                 2H092 GA14 GA21 GA26 GA27 GA32                       GA58 HA04 HA06 HA12 JB69                       JB74 PA04 QA06

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 液晶を介して対向配置される各基板のう
ち一方の基板の液晶側の面の各画素領域に、ゲート信号
線からの走査信号により作動されるスイッチング素子
と、このスイッチング素子を介してドレイン信号線から
の映像信号が供給される画素電極と、この画素電極との
間に電界を発生せしめる対向電極とが形成され、 前記対向電極は前記スイッチング素子および画素電極を
も被って形成される絶縁被膜の上面に形成され、かつ前
記各画素領域の集合体の周辺を囲む環状のバスラインに
接続され、 該バスラインは前記液晶の封入を兼ねて前記一方の基板
と他方の基板の固着を図るシール材に囲まれた領域内に
形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
1. A switching element that is operated by a scanning signal from a gate signal line and a switching element in each pixel region on the liquid crystal side surface of one of the substrates that face each other with a liquid crystal interposed therebetween. A pixel electrode to which a video signal is supplied from the drain signal line via the pixel electrode and a counter electrode for generating an electric field between the pixel electrode and the pixel electrode are formed, and the counter electrode covers the switching element and the pixel electrode. Is formed on the upper surface of the insulating coating and is connected to an annular bus line surrounding the periphery of the aggregate of the pixel regions, and the bus line also serves as an encapsulation of the liquid crystal and is formed between the one substrate and the other substrate. A liquid crystal display device, characterized in that the liquid crystal display device is formed in a region surrounded by a sealing material for fixing.
【請求項2】 液晶を介して対向配置される各基板のう
ち一方の基板の液晶側の面の各画素領域に、ゲート信号
線からの走査信号により作動されるスイッチング素子
と、このスイッチング素子を介してドレイン信号線から
の映像信号が供給される画素電極と、この画素電極との
間に電界を発生せしめる対向電極とが形成され、 前記対向電極は前記スイッチング素子および画素電極を
も被って形成される有機材料層からなる絶縁被膜の上面
に形成され、かつ前記各画素領域の集合体の周辺を囲む
環状の前記対向電極と同材料のバスラインに一体に接続
され、 該バスラインは前記液晶の封入を兼ねて前記一方の基板
と他方の基板の固着を図るシール材に囲まれた領域内に
形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
2. A switching element operated by a scanning signal from a gate signal line and a switching element in each pixel region on a liquid crystal side surface of one of the substrates opposed to each other with a liquid crystal interposed therebetween. A pixel electrode to which a video signal is supplied from the drain signal line via the pixel electrode and a counter electrode for generating an electric field between the pixel electrode and the pixel electrode are formed, and the counter electrode covers the switching element and the pixel electrode. Is formed on the upper surface of an insulating coating made of an organic material layer and is integrally connected to a bus line made of the same material as the annular counter electrode surrounding the periphery of the aggregate of the pixel regions, the bus line being the liquid crystal. A liquid crystal display device, wherein the liquid crystal display device is formed in a region surrounded by a sealing material for fixing one substrate and the other substrate while also encapsulating.
【請求項3】 液晶を介して対向配置される各基板のう
ち一方の基板の液晶側の面の各画素領域に、ゲート信号
線からの走査信号により作動されるスイッチング素子
と、このスイッチング素子を介してドレイン信号線から
の映像信号が供給される画素電極と、この画素電極との
間に電界を発生せしめる対向電極とが形成され、 前記対向電極は前記スイッチング素子および画素電極を
も被って形成される絶縁被膜の上面に形成され、かつ前
記各画素領域の集合体の周辺を囲む環状のバスラインに
接続され、 該バスラインは前記液晶の封入を兼ねて前記一方の基板
と他方の基板の固着を図るシール材に囲まれた領域内に
形成され、かつその全域が配向膜によって被われている
ことを特徴とする液晶表示装置。
3. A switching element which is operated by a scanning signal from a gate signal line, and the switching element are provided in each pixel region on the liquid crystal side surface of one of the substrates opposed to each other through the liquid crystal. A pixel electrode to which a video signal is supplied from the drain signal line via the pixel electrode and a counter electrode for generating an electric field between the pixel electrode and the pixel electrode are formed, and the counter electrode covers the switching element and the pixel electrode. Is formed on the upper surface of the insulating coating and is connected to an annular bus line surrounding the periphery of the aggregate of the pixel regions, and the bus line also serves as an encapsulation of the liquid crystal and is formed between the one substrate and the other substrate. A liquid crystal display device, characterized in that the liquid crystal display device is formed in a region surrounded by a sealing material for fixing, and the entire region is covered with an alignment film.
【請求項4】 液晶を介して対向配置される各基板のう
ち一方の基板の液晶側の面の各画素領域に、ゲート信号
線からの走査信号により作動されるスイッチング素子
と、このスイッチング素子を介してドレイン信号線から
の映像信号が供給される画素電極と、この画素電極との
間に電界を発生せしめる対向電極とが形成され、 前記対向電極は前記スイッチング素子および画素電極を
も被って形成される絶縁被膜の上面に形成され、かつ前
記各画素領域の集合体の周辺を囲む環状のバスラインに
接続され、 該バスラインは前記液晶の封入を兼ねて前記一方の基板
と他方の基板の固着を図るシール材に囲まれた領域内に
形成され、他方の基板の液晶側の面に形成されたブラッ
クマトリクスよりも外方に延在されて形成されているこ
とを特徴とする液晶表示装置。
4. A switching element operated by a scanning signal from a gate signal line and a switching element in each pixel region on a liquid crystal side surface of one of the substrates opposed to each other with a liquid crystal interposed therebetween. A pixel electrode supplied with a video signal from the drain signal line via the pixel electrode and a counter electrode for generating an electric field between the pixel electrode and the pixel electrode are formed, and the counter electrode covers the switching element and the pixel electrode. Is formed on the upper surface of the insulating coating and is connected to an annular bus line surrounding the periphery of the aggregate of the pixel regions, and the bus line also serves as an encapsulation of the liquid crystal and is formed between the one substrate and the other substrate. It is formed in a region surrounded by a sealing material for fixing, and is formed so as to extend outside a black matrix formed on the liquid crystal side surface of the other substrate. Crystal display device.
【請求項5】 液晶を介して対向配置される各基板のう
ち一方の基板の液晶側の面の各画素領域に、ゲート信号
線からの走査信号により作動されるスイッチング素子
と、このスイッチング素子を介してドレイン信号線から
の映像信号が供給される画素電極と、この画素電極との
間に電界を発生せしめる対向電極とが形成され、 前記対向電極は前記スイッチング素子および画素電極を
も被って形成される絶縁被膜の上面に形成され、かつ前
記各画素領域の集合体の周辺を囲む環状のバスラインに
接続され、 該バスラインは前記液晶の封入を兼ねて前記一方の基板
と他方の基板の固着を図るシール材に囲まれた領域内に
形成され、かつその長手方向に沿って孔が形成されてい
ることを特徴とする液晶表示装置。
5. A switching element operated by a scanning signal from a gate signal line and a switching element in each pixel region on the liquid crystal side surface of one of the substrates opposed to each other with a liquid crystal interposed therebetween. A pixel electrode to which a video signal is supplied from the drain signal line via the pixel electrode and a counter electrode for generating an electric field between the pixel electrode and the pixel electrode are formed, and the counter electrode covers the switching element and the pixel electrode. Is formed on the upper surface of the insulating coating and is connected to an annular bus line surrounding the periphery of the aggregate of the pixel regions, and the bus line also serves as an encapsulation of the liquid crystal and is formed between the one substrate and the other substrate. A liquid crystal display device, characterized in that it is formed in a region surrounded by a sealing material to be fixed and holes are formed along the longitudinal direction thereof.
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