JP2014147502A - 光干渉断層撮像装置およびその制御方法 - Google Patents
光干渉断層撮像装置およびその制御方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】 光干渉断層撮像装置が、異なる時間に取得された被検眼の複数の画像に基づいて前記被検眼の回転量を取得する移動量取得手段と、前記取得された回転量に基づいて走査手段による1つの走査と次の走査との間で走査位置を補正するように、該走査手段を制御する制御手段と、を有する。
【選択図】 図15
Description
被検眼の複数の画像それぞれを異なる時間に取得する画像取得手段と、
走査手段を介して測定光が照射された前記被検眼からの戻り光と、前記測定光に対応する参照光とを干渉させた干渉光に基づいて、前記被検眼の複数の断層画像を取得する断層画像取得手段と、
前記複数の画像に基づいて前記被検眼の移動量のうち少なくとも回転量を取得する移動量取得手段と、
前記取得された回転量に基づいて前記走査手段による1つの走査と次の走査との間で走査位置を補正するように、前記走査手段を制御する制御手段と、を有する。
まず、第1の実施形態について、図面を用いて説明する。
図1を参照して、第1実施形態に係る光干渉断層撮像装置の概略構成を説明する。光干渉断層撮像装置は、走査部を介して測定光が照射された被検眼からの戻り光と、測定光に対応する参照光とを干渉させた干渉光に基づいて、被検眼の断層画像を取得する。光断層画像撮像装置は、光学ヘッド部100と、分光器200と、制御部300とを備える。以下、光学ヘッド部100、分光器200、および制御部300の構成を順に説明する。
光学ヘッド部100は、被検眼Eの前眼Eaや、被検眼眼底Erの2次元像および断層画像を撮像するための測定光学系で構成されている。以下、光学ヘッド部100の内部について説明する。被検眼Eに対向して対物レンズ101−1が設置されており、その光軸上に設けられた、光路分離部と機能する第1ダイクロイックミラー102および第2ダイクロイックミラー103によって光路が分離される。すなわち、OCT光学系の測定光路L1、眼底観察光路と固視灯光路L2、および前眼観察光路L3に波長帯域ごとに分岐される。
制御部300は、光学ヘッド部100および分光器200の各部と接続されている。具体的には制御部300は、光学ヘッド部100内の赤外線CCD142と接続されており、被検眼Eの前眼部Eaの観察画像を生成可能に構成されている。また、制御部300は、光学ヘッド部100内のAPD115とも接続されており、被検眼Eの眼底Erの観察画像を生成可能にも構成されている。さらに、制御部300は、光学ヘッド部100内のヘッド駆動部140とも接続されており、光学ヘッド部100を被検眼Eに対して3次元的に駆動可能に構成されている。
次に図2のフローチャートを参照して、本実施形態に係る光干渉断層撮像装置を用いた被検眼Eのアライメント方法を説明する。撮影に先立ち、まず検者は被検者を装置の前に着座させる。
次に図3のフローチャートを参照して、被検眼Eの状態を観察するために測定光を被検眼Eの眼底部Erに照射する際、被検眼Eの動きに伴って生じる測定光照射位置のずれを補正する眼底トラッキング方法を説明する。
次に、本実施形態の光干渉断層撮像装置を用いた断層画像の撮影方法について説明する。
ところで、複数の断層画像を撮影するために前述したような複数回の走査を行う場合、それら複数の走査に要する時間は1回の走査と比べて長くなる。例えば本実施形態に係る光干渉断層撮像装置では、眼底Er上でX方向に10mmの走査をY方向に0.078mmずつずらしながら128回繰り返すことができるものとする。そして、それら128回の走査によって128枚の断層画像を取得し、眼底Er上の10mm×10mmの範囲の三次元情報を生成することができる。そして、本実施形態に係る光干渉断層撮像装置では、一枚の断層画像は合計1024のAスキャンから構成され、一つのAスキャンに要する時間は14.3マイクロ秒である。従って、一枚の断層画像を得るために1024×14.3マイクロ秒=14.6ミリ秒を必要とし、全128枚の断層画像を得るためには少なくとも14.6ミリ秒/枚×128枚=1.87秒を必要とする。
一枚の断層画像を取得するための走査を行っている間に眼底トラッキングを行った場合にも、撮影される断層画像には大きな影響が生じる。前述したように、本実施形態に係る光干渉断層撮像装置では、一枚の断層画像を得るために14.6ミリ秒を必要とする。従って、複数枚の断層画像を撮影する場合、約14.6ミリ秒の周期で眼底Er上を複数回走査することになる。この周期は一枚の断層画像を形成するために必要なAスキャンの本数と、一つのAスキャンを取得するために必要となる時間に依存している。一方、本実施形態に係る光干渉断層撮像装置では、眼底トラッキングによる走査位置の補正周期は33.3ミリ秒である。この周期は、補正のための位置ずれ量算出に用いられる眼底Erの観察画像の取得間隔に依存している。
次に、第2の実施形態について、説明する。装置の構成は、第1の実施形態と同様であるため省略する。被検眼のアライメント、眼底のトラッキング、断層画像取得も第1の実施形態と同様に行う。
次に、第3の実施形態について、図14及び図15を用いて説明する。なお、図14は、本実施形態における眼底の回転量を説明するための図である。また、図15は、本実施形態におけるフローチャートである。本実施形態では、眼底の回転量が閾値を超えるか否かを判定する。この判定を断層画像毎に行うことで、眼底の回転に対応する断層画像の歪み具合を判定することができる。そして、本実施形態では、眼底の回転量が閾値以下と判定された断層画像を用いて加算平均等の重ね合わせ処理を行うことで、歪みの低減された断層画像を取得することができる。なお、断層画像の画像処理は、重ね合わせ処理以外に、3次元再構成でも良い。
OCT走査中のライン1402の傾きm2は、以下のようになる。
OCT走査開始後のライン1402とOCT走査中のn[μsec]後のライン1402の回転角度θ1401は、以下のようになる。
次に、眼底の回転量(回転角度)が閾値を超えるか否かを判定するフローについて、図15を用いて説明する。まず、ステップS1501について、制御部300は、本フローを開始する。なお、ステップS1501以降は、H1とH2のブロックを並列で処理する。
次に、第4の実施形態について、図16及び図17を用いて説明する。図16は、本実施形態における眼底のXY方向の移動量を説明するための図である。また、図17は、本実施形態におけるフローチャートである。本実施形態では、眼底のXY方向の移動量が閾値を超えるか否かを判定する。この判定を断層画像毎に行うことで、眼底のXY方向の移動に対応する断層画像の歪み具合を判定することができる。そして、本実施形態では、眼底のXY方向の移動量が閾値以下と判定された断層画像を用いて加算平均等の重ね合わせ処理を行うことで、歪みの低減された断層画像を取得することができる。なお、断層画像の画像処理は、重ね合わせ処理以外に、3次元再構成でも良い。
次に、眼底のXY方向の移動量が閾値を超えるか否かを判定するフローについて、図17を用いて説明する。まず、ステップS1701において、制御部300は、本フローを開始する。なお、ステップS1701以降は、H1とH3のブロックを並列で処理する。また、並列処理ブロックH1は、図15と同様である。
また、本発明は、以下の処理を実行することによっても実現される。即ち、上述した実施形態の機能を実現するソフトウェア(プログラム)を、ネットワーク又は各種記憶媒体を介してシステム或いは装置に供給し、そのシステム或いは装置のコンピュータ(またはCPUやMPU等)がプログラムを読み出して実行する処理である。
Claims (21)
- 被検眼の複数の画像それぞれを異なる時間に取得する画像取得手段と、
走査手段を介して測定光が照射された前記被検眼からの戻り光と、前記測定光に対応する参照光とを干渉させた干渉光に基づいて、前記被検眼の複数の断層画像を取得する断層画像取得手段と、
前記複数の画像に基づいて前記被検眼の移動量のうち少なくとも回転量を取得する移動量取得手段と、
前記取得された回転量に基づいて前記走査手段による1つの走査と次の走査との間で走査位置を補正するように、前記走査手段を制御する制御手段と、
を有することを特徴とする光干渉断層撮像装置。 - 前記複数の断層画像のうち前記取得された回転量が閾値を超えるか否かを判定する判定手段を更に有することを特徴とする請求項1に記載の光干渉断層撮像装置。
- 前記判定手段の判定結果に応じて、前記複数の断層画像それぞれに対して断層画像の歪み具合を示す表示形態を該断層画像に対応した状態で表示手段に表示させる表示制御手段を更に有することを特徴とする請求項2に記載の光干渉断層撮像装置。
- 前記複数の断層画像のうち前記取得された回転量が前記閾値以下である断層画像を画像処理する画像処理手段を更に有することを特徴とする請求項2あるいは3に記載の光干渉断層撮像装置。
- 被検眼の複数の画像それぞれを異なる時間に取得する画像取得手段と、
走査手段を介して測定光が照射された前記被検眼からの戻り光と、前記測定光に対応する参照光とを干渉させた干渉光に基づいて、前記被検眼の複数の断層画像を取得する断層画像取得手段と、
前記複数の画像に基づいて前記被検眼の移動量を取得する移動量取得手段と、
前記取得された移動量に基づいて前記走査手段による1つの走査と次の走査との間で走査位置を補正するように、前記走査手段を制御する制御手段と、
前記複数の断層画像のうち前記取得された移動量が閾値以下である断層画像を画像処理する画像処理手段と、
を有することを特徴とする光干渉断層撮像装置。 - 前記画像処理手段が、前記閾値以下である断層画像を重ね合わせ処理することを特徴とする請求項4あるいは5に記載の光干渉断層撮像装置。
- 前記制御手段が、前記閾値を超える断層画像を記憶手段から削除することを特徴とする請求項2乃至6のいずれか1項に記載の光干渉断層撮像装置。
- 前記画像取得手段が、前記被検眼の複数の眼底画像を前記複数の画像として取得し、
前記移動量取得手段が、前記複数の眼底画像に基づいて前記被検眼の回転量及びXY方向の移動量を取得し、
前記制御手段が、前記取得された回転量及びXY方向の移動量に基づいて前記1つの走査と次の走査との間で走査位置を補正するように、前記走査手段を制御することを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の光干渉断層撮像装置。 - 前記制御手段が、前記走査手段による1つの主走査と次の主走査との間で前記走査位置の補正を行い且つ前記走査手段による主走査中に前記走査位置の補正を停止するように、前記走査手段を制御することを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の光干渉断層撮像装置。
- 前記制御手段が、前記走査手段による副走査中に前記走査位置の補正を行い且つ前記走査手段による主走査中に該走査位置の補正を停止するように、前記走査手段を制御することを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の光干渉断層撮像装置。
- 走査手段を介して測定光が照射された被検眼からの戻り光と、前記測定光に対応する参照光とを干渉させた干渉光に基づいて、前記被検眼の複数の断層画像を取得する光干渉断層撮像装置の制御方法であって、
異なる時間に取得された前記被検眼の複数の画像に基づいて前記被検眼の移動量のうち少なくとも回転量を取得する工程と、
前記取得された回転量に基づいて前記走査手段による1つの走査と次の走査との間で走査位置を補正するように、前記走査手段を制御する工程と、
を有することを特徴とする光干渉断層撮像装置の制御方法。 - 前記複数の断層画像のうち前記取得された回転量が閾値を超えるか否かを判定する工程を更に有することを特徴とする請求項11に記載の光干渉断層撮像装置の制御方法。
- 前記判定する工程における判定結果に応じて、前記複数の断層画像それぞれに対して断層画像の歪み具合を示す表示形態を該断層画像に対応した状態で表示手段に表示させる表示制御手段を更に有することを特徴とする請求項12に記載の光干渉断層撮像装置の制御方法。
- 前記複数の断層画像のうち前記取得された回転量が前記閾値以下である断層画像を画像処理する工程を更に有することを特徴とする請求項2あるいは3に記載の光干渉断層撮像装置の制御方法。
- 走査手段を介して測定光が照射された被検眼からの戻り光と、前記測定光に対応する参照光とを干渉させた干渉光に基づいて、前記被検眼の複数の断層画像を取得する光干渉断層撮像装置の制御方法であって、
異なる時間に取得された前記被検眼の複数の画像に基づいて前記被検眼の移動量を取得する工程と、
前記取得された移動量に基づいて前記走査手段による1つの走査と次の走査との間で走査位置を補正するように、前記走査手段を制御する工程と、
前記複数の断層画像のうち前記取得された移動量が閾値以下である断層画像を画像処理する工程と、
を有することを特徴とする光干渉断層撮像装置の制御方法。 - 前記画像処理する工程において、前記閾値以下である断層画像を重ね合わせ処理することを特徴とする請求項14あるいは15に記載の光干渉断層撮像装置の制御方法。
- 前記閾値を超える断層画像を記憶手段から削除する工程を更に有することを特徴とする請求項12乃至16のいずれか1項に記載の光干渉断層撮像装置の制御方法。
- 前記複数の画像は、前記被検眼の複数の眼底画像であり、
前記移動量を取得する工程において、前記複数の眼底画像に基づいて前記被検眼の回転量及びXY方向の移動量を取得し、
前記制御する工程において、前記取得された回転量及びXY方向の移動量に基づいて前記1つの走査と次の走査との間で走査位置を補正するように、前記走査手段を制御することを特徴とする請求項11乃至17のいずれか1項に記載の光干渉断層撮像装置の制御方法。 - 前記制御する工程において、前記走査手段による1つの主走査と次の主走査との間で前記走査位置の補正を行い且つ前記走査手段による主走査中に前記走査位置の補正を停止するように、前記走査手段を制御することを特徴とする請求項11乃至18のいずれか1項に記載の光干渉断層撮像装置の制御方法。
- 前記制御する工程において、前記走査手段による副走査中に前記走査位置の補正を行い且つ前記走査手段による主走査中に該走査位置の補正を停止するように、前記走査手段を制御することを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の光干渉断層撮像装置の制御方法。
- 請求項11乃至20のいずれか1項に記載の光干渉断層撮像装置の制御方法の各工程をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
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