JP2014135438A - Wafer processing unit - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、半導体ウェーハなどの被加工物の搬入及び搬出に用いられるカセットを昇降可能なウェーハ処理装置に関する。 The present invention relates to a wafer processing apparatus capable of moving up and down a cassette used for loading and unloading a workpiece such as a semiconductor wafer.
従来、この種のウェーハ処理装置として、複数枚の半導体ウェーハが収容されたカセットを昇降可能な切削装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。特許文献1に記載の切削装置では、複数枚の半導体ウェーハが収容されたカセットが配設された昇降板を昇降させることによりカセットを所望の高さに位置付け、カセット内から引き出された半導体ウェーハに対して加工処理を施すと共に加工処理後の半導体ウェーハをカセット内に収容するように構成されている。
Conventionally, as this type of wafer processing apparatus, a cutting apparatus capable of moving up and down a cassette in which a plurality of semiconductor wafers are accommodated is known (for example, see Patent Document 1). In the cutting apparatus described in
しかしながら、サイズの大きな被加工物(例えば、450mmのウェーハ)を複数枚収容したカセットを昇降させる場合には、特許文献1のようにカセットが載置された昇降板を昇降させる構造では、カセット及び昇降板を昇降させるための昇降機構には相当な強度が必要となって、装置コストが増大して経済的でないという問題がある。また、大口径のウェーハなどの重量物を昇降させるので、昇降に伴い昇降機構の消耗が激しくなってトラブルが多発する可能性もある。
However, when raising and lowering a cassette containing a plurality of large workpieces (for example, 450 mm wafers), in the structure for raising and lowering the raising and lowering plate on which the cassette is placed as in
本発明はこのような実情に鑑みてなされたものであり、大口径のウェーハなどの重量物を昇降させる場合であっても、昇降機構を高出力化させることなく、昇降機構の重量化に伴うトラブルを防止可能なウェーハ処理装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and even when a heavy object such as a large-diameter wafer is lifted or lowered, the lifting mechanism is increased in weight without increasing the output of the lifting mechanism. An object is to provide a wafer processing apparatus capable of preventing trouble.
本発明のウェーハ処理装置は、ウェーハを収容するためのカセットを載置するカセット載置手段と、ウェーハ処理領域に搬送されたウェーハを処理するウェーハ処理手段と、該カセット及び該ウェーハ処理領域の間でウェーハを搬送する搬送手段と、を備えるウェーハの処理装置であって、該カセットは、対向して形成された一対の側板と、ウェーハを出し入れする開口部と、ウェーハを背部で支持する背止部と、該側板に複数形成されたウェーハを収容する収容棚と、を有し、該カセット載置手段は、該カセットを上面に載置する載置台と、該載置台を上下に昇降させる昇降手段と、該昇降手段に平行して配設されたシリンダー及び該シリンダー内に昇降可能に形成され該載置台に固定されたピストンから構成されたエアーシリンダーと、該載置台の自重を打ち消す圧力の圧縮エアーを該シリンダー内に供給するエアー供給部とを有すること、を特徴とする。 The wafer processing apparatus of the present invention includes a cassette mounting means for mounting a cassette for accommodating wafers, a wafer processing means for processing a wafer transferred to a wafer processing area, and between the cassette and the wafer processing area. A wafer processing apparatus comprising: a pair of side plates formed opposite to each other; an opening for loading and unloading the wafer; and a back support for supporting the wafer by a back portion. And a storage shelf for storing a plurality of wafers formed on the side plate, and the cassette mounting means includes a mounting table for mounting the cassette on an upper surface, and a lift for moving the mounting table up and down. An air cylinder comprising: a means; a cylinder disposed in parallel with the lifting means; and a piston formed in the cylinder so as to be movable up and down and fixed to the mounting table; Compressed air pressure to counteract the weight of the mounting table to have an air supply unit for supplying into the cylinder, characterized.
この構成によれば、カセットが載置された載置台は、昇降手段と共に載置台の自重を打ち消す圧力の圧縮エアーを供給するエアーシリンダーによって昇降されるので、大口径のウェーハなどの重量物を昇降させる場合でも、高出力の昇降機構を設ける必要がなく、装置コストの増大を防止することができる。また、カセットを昇降させるカセット載置手段を簡易な構成とすることができるので、装置の軽量化が図れ、大口径化による重量化に伴うトラブルを防止することができる。 According to this configuration, the mounting table on which the cassette is mounted is moved up and down by the air cylinder that supplies the compressed air with a pressure that cancels the weight of the mounting table together with the lifting and lowering means. Even in this case, it is not necessary to provide a high-output lifting mechanism, and an increase in device cost can be prevented. In addition, since the cassette mounting means for raising and lowering the cassette can have a simple configuration, the apparatus can be reduced in weight, and troubles associated with weight increase due to the increase in diameter can be prevented.
本発明によれば、大口径のウェーハなどの重量物を昇降させる場合であっても、昇降機構を高出力化させることなく、昇降機構の重量化に伴うトラブルを防止可能なウェーハ処理装置を提供することができる。 According to the present invention, even when a heavy object such as a large-diameter wafer is moved up and down, a wafer processing apparatus capable of preventing troubles associated with the weight of the lifting mechanism without increasing the lifting mechanism is provided. can do.
以下、本発明の実施の形態に係るウェーハ処理装置について添付図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の説明においては、本発明を、被加工物(ウェーハ)を切削加工する加工装置に適用した例について説明するが、この構成に限定されるものではない。本発明は、複数の被加工物を収容するカセットを昇降可能な構成を備えるものであれば、どのような装置にも適用可能である。 Hereinafter, a wafer processing apparatus according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the following description, an example in which the present invention is applied to a processing apparatus for cutting a workpiece (wafer) will be described, but the present invention is not limited to this configuration. The present invention can be applied to any apparatus as long as it has a configuration capable of moving up and down a cassette that accommodates a plurality of workpieces.
以下、本発明の第1の実施の形態について添付図面を参照して詳細に説明する。図1は、本発明の第1の実施の形態に係る加工装置の斜視図である。 Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a perspective view of a processing apparatus according to the first embodiment of the present invention.
図1に示すように、加工装置(ウェーハ処理装置)1は、略直方体状の基台2と、基台2上に設けられた切削ユニット3及び洗浄ユニット4と、を備えている。この加工装置1では、基台2上に載置されたカセット9内からウェーハ(被加工物)Wが切削加工領域(ウェーハ処理領域)まで搬送されて切削ユニット3により切削加工が行われ、切削加工後のウェーハWが洗浄領域(ウェーハ処理領域)まで搬送されて洗浄ユニット4により洗浄され、洗浄後のウェーハWがカセット9に搬入されるように構成されている。
As shown in FIG. 1, a processing apparatus (wafer processing apparatus) 1 includes a substantially rectangular
ウェーハWは、例えば、略円盤状に形成されており、表面に格子状に配列されたストリート(図示省略)によって複数の領域に区画され、この区画された領域にIC、LSI、LED等のデバイス(図示省略)が形成されている。また、ウェーハWは、粘着テープTを介して金属性の環状フレームFに支持され、カセット9内に収容された状態で加工装置1に搬入および搬出される。ウェーハWとしては、チップ実装用として被加工物の裏面に設けられるDAF(Die Attach Film)等の粘着部材、半導体製品のパッケージ、シリコン、ガリウム砒素、セラミック、ガラス、サファイヤ(Al2O3)系の無機材料基板、LCDドライバー等の各種電気部品やミクロンオーダーの加工位置精度が要求される各種加工材料が含まれる。なお、図1では、被加工物として、粘着テープTを介して環状フレームFに支持されたウェーハWを用いたが、粘着テープT及び環状フレームFを備えないウェーハW単体を用いてもよい。
The wafer W is formed in a substantially disk shape, for example, and is partitioned into a plurality of regions by streets (not shown) arranged in a lattice pattern on the surface, and devices such as IC, LSI, LED, etc. are formed in the partitioned regions. (Not shown) is formed. The wafer W is supported by the metallic annular frame F via the adhesive tape T, and is carried into and out of the
切削ユニット3は、ウェーハWを保持可能なチャックテーブル11と、切削ブレード12を有する一対のブレードユニット13とを相対移動させてウェーハWを格子状に切削加工可能に構成されている。
The
チャックテーブル11は、円板状に形成されている。チャックテーブル11の外縁部には、ウェーハWの環状フレームFを支持する複数のフレーム支持部14が、周方向に等間隔で設けられている。チャックテーブル11の上面には、多孔質材料からなる吸着チャック15が形成されている。吸着チャック15は、基台2内に配設された負圧生成源(図示省略)に接続されており、吸着チャック15にウェーハWが吸着保持されるように構成されている。また、チャックテーブル11は、基台2内に配設された回転駆動機構(図示省略)に接続され、吸着保持したウェーハWを回転可能に構成されている。このように構成されたチャックテーブル11は、チャックテーブル11をX軸方向に搬送可能なテーブル搬送機構の一部を構成するベーステーブル16上に設けられている。テーブル搬送機構は、基台2の内部に配設された駆動手段(図示省略)に接続され、切削加工前のウェーハWを着脱する基台2上の着脱位置と切削ユニット3による加工位置との間で、チャックテーブル11をX軸方向に往復移動可能に構成されている。
The chuck table 11 is formed in a disc shape. A plurality of frame support
切削ユニット3は、テーブル搬送機構を跨ぐように立設した門型の柱部17を備えている。柱部17の前面には、チャックテーブル11の上方において一対のブレードユニット13をY軸方向に移動させる一対のブレードユニット移動機構18が設けられている。ブレードユニット移動機構18は、Y軸方向に延びる一対のガイドレール19をスライド可能に設けられた一対のY軸テーブル20を備えている。Y軸テーブル20には、柱部17の前面部においてY軸方向に延在するボールネジ21が螺合され、ボールネジ21の一端には駆動モータ22が連結されている。また、ブレードユニット移動機構18は、各Y軸テーブル20の前面に配置され、Z軸方向に延びる一対のガイドレール24をスライド可能なZ軸テーブル23を備えている。各Z軸テーブル23には、Y軸テーブル20の前面部においてZ軸方向に延在するボールネジ25が螺合され、ボールネジ25の一端には駆動モータ26が連結されている。また、各Z軸テーブル23の下端部にブレードユニット13が取り付けられている。このように構成された切削ユニット3では、加工位置に配置されたチャックテーブル11の位置が調整されると共にブレードユニット移動機構18でブレードユニット13の位置が調整され、チャックテーブル11上のウェーハWに対して、高速回転した切削ブレード12が切り込まれて切削加工が行われる。
The
また、基台2上には、着脱位置のチャックテーブル11に隣接して、カセット9が上面に載置されるカセット載置台(載置台)70を備えたカセット載置手段5が設けられている。
Further, on the
カセット9は、天板91、底板92、対向する一対の側板93及び背止部95により方形箱状に形成されており、背止部95との対向する側には、ウェーハWを出し入れするための開口部94が形成されている。背止部95は板状に形成されており、カセット9の背部(奥)側でウェーハWを支持するように構成されている。両側板93の対向する内壁面には、ウェーハWを収容するための収容棚96が、Z軸方向に等間隔で複数形成されている(図2及び図3参照)。各収容棚96は、カセット9の内側に向かって突出すると共に背止部95から開口部94側に向かって延在するように形成されている(図2参照)。このように構成されたカセット9は、各収容棚96にウェーハWの環状フレームF部分が載置され、カセット9の開口部94をチャックテーブル11側に向けた状態でカセット載置台70に載置される。
The cassette 9 is formed in a rectangular box shape by a
カセット載置手段5は、昇降手段71(図2参照)及びエアーシリンダー72(図2参照)により、複数のウェーハWが収容されたカセット9が載置されたカセット載置台70を昇降可能に構成されている。カセット載置台70はカセット9を載置した状態で昇降することで、高さ(Z軸)方向においてウェーハWのカセット9からの引出位置及びカセット9への押込位置を調整している。なお、カセット載置手段5の詳細な構成については後述する。 The cassette mounting means 5 is configured to be able to move up and down a cassette mounting table 70 on which a cassette 9 containing a plurality of wafers W is mounted by an elevating means 71 (see FIG. 2) and an air cylinder 72 (see FIG. 2). Has been. The cassette mounting table 70 is moved up and down with the cassette 9 placed thereon, thereby adjusting the drawing position of the wafer W from the cassette 9 and the pushing position into the cassette 9 in the height (Z-axis) direction. The detailed configuration of the cassette mounting means 5 will be described later.
カセット載置手段5の後方には、搬入搬出部31及び仮置部32が配置されている。搬入搬出部31は、カセット載置手段5によりカセット9の高さが調整された状態で、カセット9内からウェーハWを仮置部32に引き出す他、仮置部32上のウェーハWをカセット9内に押し込むように構成されている。具体的には、搬入搬出部31は、基台2の前面部2aにおいてY軸方向に延在するガイドレール33と、ガイドレール33にスライド可能に係合された搬入搬出アーム34と、を備えている。搬入搬出アーム34は、基台2の上面側に折れ曲がるように逆L字状に形成されており、搬入搬出アーム34の自由端部側で、ウェーハW(環状フレームF)を把持するように構成されている。搬入搬出アーム34には、基台2の前面部2aにおいてY軸方向に延在するボールネジ35が螺合され、ボールネジ35の一端には駆動モータ36が連結されている。また、仮置部32は、互いに接近及び離間可能に構成された一対のガイドレール37を備えており、搬入搬出部31によるウェーハWの引き出し及び押し込みを側方からガイドするように構成されている。
A carry-in / carry-out
チャックテーブル11の上方には、第1の搬送手段(搬送手段)41が設けられている。第1の搬送手段41は、カセット9内のウェーハWを、着脱位置に配置されたチャックテーブル11に搬送する。第1の搬送手段41は、Y軸方向に延在するガイドレール(図示省略)と、ガイドレールにスライド可能に係合された搬送アーム42と、を備えている。搬送アーム42には、Y軸方向に延在するボールネジ(図示省略)が螺合され、ボールネジの一端には駆動モータ(図示省略)が連結されている。この駆動モータによりボールネジが回転駆動され、搬送アーム42がY軸方向に移動される。
A first conveying means (conveying means) 41 is provided above the chuck table 11. The 1st conveyance means 41 conveys the wafer W in the cassette 9 to the chuck table 11 arrange | positioned in the attachment / detachment position. The first transport means 41 includes a guide rail (not shown) extending in the Y-axis direction, and a
搬送アーム42は、上下方向(Z軸方向)に伸縮自在に構成されると共に、切削ユニット3から離間する方向(Y軸方向側)に折り曲げられたL字状に形成されている。搬送アーム42の下端部には、ウェーハWを保持する保持部43が設けられており、保持部43の下面には、複数の吸着パッド44が設けられている。吸着パッド44は、仮置部32に載置された状態のウェーハWが貼付された環状フレームFを吸着保持すると共に、チャックテーブル11上に保持された状態のウェーハWが貼付された環状フレームFを吸着保持する。
The
また、着脱位置のチャックテーブル11を挟んでカセット載置手段5と反対側には、洗浄ユニット4が設けられている。 A cleaning unit 4 is provided on the opposite side of the cassette mounting means 5 with the chuck table 11 in the attachment / detachment position interposed therebetween.
洗浄ユニット4は、円板状に形成されたスピンナーテーブル51と、スピンナーテーブル51の外縁部に設けられた複数のクランプ52と、洗浄液ノズル(図示省略)及びエアーノズル(図示省略)と、を備えている。スピンナーテーブル51は、基台2内に配設された回転駆動機構(図示省略)に接続されてZ軸周りに回転可能に構成されると共に、基台2内に配設された昇降機構(図示省略)により昇降可能に構成されている。スピンナーテーブル51の上面には、多孔質材料からなる吸着チャック53が形成されている。吸着チャック53は、基台2内に配設された負圧生成源(図示省略)に接続されており、吸着チャック53にウェーハWが吸着保持されるように構成されている。このように構成された洗浄ユニット4では、ウェーハWが吸着保持されたスピンナーテーブル51が高速回転されて、洗浄ノズルからウェーハWの表面に洗浄水が噴射されることで、ウェーハWから切削屑等が洗い流される。そして、ウェーハWの洗浄後、回転中のウェーハWに対してエアーノズルから乾燥エアーが吹き付けられることでウェーハWが乾燥される。
The cleaning unit 4 includes a spinner table 51 formed in a disk shape, a plurality of
洗浄ユニット4の上方には、第2の搬送手段(搬送手段)61が設けられている。第2の搬送手段61は、チャックテーブル11上のウェーハWをスピンナーテーブル51上に搬送する一方、スピンナーテーブル51上のウェーハWを仮置部32に搬送する。第2の搬送手段61は、Y軸方向に延在するガイドレール(図示省略)と、ガイドレールにスライド可能に係合された搬送アーム62と、を備えている。搬送アーム62には、Y軸方向に延在するボールネジ(図示省略)が螺合され、ボールネジの一端には駆動モータ(図示省略)が連結されている。この駆動モータによりボールネジが回転駆動され、搬送アーム62がY軸方向に移動される。
A second transport unit (transport unit) 61 is provided above the cleaning unit 4. The
搬送アーム62は、上下方向(Z軸方向)に伸縮自在に構成されている。搬送アーム62の下端部には、ウェーハWを保持する保持部63が設けられており、保持部63の下面には、複数の吸着パッド64が設けられている。吸着パッド64は、スピンナーテーブル51上に保持された状態のウェーハWが貼付された環状フレームFを吸着保持する。
The
次に、図2から図4を参照してカセット載置手段5について説明する。図2は、カセット載置手段5の斜視図である。図3は、カセット載置手段5の断面模式図である。図4は、カセット載置手段5を説明するための模式図である。なお、図4においては、カセット載置台70を点線で示している。 Next, the cassette mounting means 5 will be described with reference to FIGS. FIG. 2 is a perspective view of the cassette mounting means 5. FIG. 3 is a schematic sectional view of the cassette mounting means 5. FIG. 4 is a schematic diagram for explaining the cassette mounting means 5. In FIG. 4, the cassette mounting table 70 is indicated by a dotted line.
図2から図4に示すように、カセット載置手段5は、略直方体形状のカセット載置台70と、カセット載置台70をZ軸方向に昇降させる昇降手段71及びエアーシリンダー72と、昇降手段71を駆動する駆動モータ73と、を備えている。
As shown in FIGS. 2 to 4, the cassette mounting means 5 includes a substantially rectangular parallelepiped cassette mounting table 70, lifting and lowering means 71 and
昇降手段71は、天板74及び底板75と、天板74及び底板75の両端部に設けられたZ軸方向に延在する一対のガイドレール76と、を備えたケーシング77内に設けられている。昇降手段71は、天板74及び底板75に回転可能に軸支されたボールネジ78と、ボールネジ78に螺合されるナット79と、を備えている。ボールネジ78の下端部には、プーリー80が設けられている。ナット79は、カセット載置台70に取付固定されている。また、一対のガイドレール76には、各ガイドレール76上を往復動可能なスライダ81が設けられており、各スライダ81はカセット載置台70に接続されている。これらナット79及び各スライダ81は、後述するエアーシリンダー72を構成するピストン86と協働して、カセット載置台70を下方側から片持ちで支持するように構成されている。
The elevating means 71 is provided in a
駆動モータ73は、ケーシング77外部のモータ支持部82上に設けられている。駆動モータ73の駆動軸にはプーリー83が結合されている。駆動モータ73の駆動軸に結合されたプーリー83と、ボールネジ78に設けられたプーリー80とには、ベルト84が掛け渡されている。このように構成された昇降手段71は、駆動モータ73の回転駆動に伴いプーリー83が回転され、その駆動力がベルト84を介してプーリー80に接続されたボールネジ78に伝達されて、ナット79がZ軸方向に往復動される。
The
ケーシング77内には、昇降手段71と平行してエアーシリンダー72が配設されている。具体的には、エアーシリンダー72は、昇降手段71を構成するボールネジ78と、一方のガイドレール76との間に設けられている。このようにエアーシリンダー72をケーシング77内に配設することで、ケーシング77内のデッドスペースを有効活用することができ、装置の小型化を図ることが可能となる。
An
エアーシリンダー72は、シリンダー85と、シリンダー85内においてZ軸方向に延在するガイドレール上を往復動可能なピストン86と、から構成されている。ピストン86には、カセット載置台70が取付固定されており、上述したナット79及び各スライダ81と協働して、カセット載置台70を下方側から支持するように構成されている。また、シリンダー85の下端部には、エアー供給源87から送られる圧縮エアーをシリンダー85内部に供給するためのエアー供給部88が設けられている。ここで、エアー供給源87からエアー供給部88に送られる圧縮エアーは、カセット載置台70の自重を打ち消す程度の圧力に設定されている。また、シリンダー85の上端部には、シリンダー85外部に連通した連通孔89が設けられている。カセット載置台70を上昇させる際には、シリンダー85内においてピストン86によって押し込まれるエアーは、連通孔89からシリンダー85外部に逃がされる。
The
次に、図4を参照して、カセット載置手段5による昇降動作について説明する。カセット載置台70を上昇させる場合には、駆動モータ73の回転駆動に伴いプーリー83が回転され、ベルト84を介してプーリー80に連結されたボールネジ78が回転される。このとき、エアー供給源87からエアー供給部88を介してシリンダー85内部に圧縮エアーが供給される。ボールネジ78の回転に伴いナット79が上昇されると共にシリンダー85内への圧縮エアーの流入に伴いピストン86が浮上されると、ナット79及びピストン86に取付けられたカセット載置台70は、両外方のスライダ81によってガイドされながらZ軸方向に上昇されていく(図4A)。上述したように、シリンダー85内部に送られる圧縮エアーは、カセット載置台70の自重を打ち消す程度の圧力に設定されている。そのため、大口径のウェーハWが複数枚収容されたカセット9(図1参照)がカセット載置台70に載置された場合でも、エアーシリンダー72によって供給される圧縮エアーによって、昇降手段71の昇降動作が補助されるため、例えば、駆動モータ73を大型化して昇降機構を高出力化する必要がない。
Next, with reference to FIG. 4, the raising / lowering operation | movement by the cassette mounting means 5 is demonstrated. When the cassette mounting table 70 is raised, the
一方、カセット載置台70を下降させる場合には、駆動モータ73の逆回転駆動に伴いプーリー83が逆回転され、ベルト84を介してプーリー80に連結されたボールネジ78が逆回転される。ボールネジ78の逆回転に伴いナット79が下降されると、シリンダー85内への圧縮エアーに抗してピストン86が下降され、ナット79及びピストン86に取付けられたカセット載置台70は、両外方のスライダ81によってガイドされながらZ軸方向に下降されていく(図4B)。このように昇降手段71及びエアーシリンダー72によって、カセット9を載置したカセット載置台70が昇降されることで、Z軸方向におけるウェーハWの引出位置及び押込位置が調整される。
On the other hand, when lowering the cassette mounting table 70, the
以上のように、本実施の形態に係る加工装置1によれば、カセット9が載置されたカセット載置台70は、昇降手段71と共にこのカセット載置台70の自重を打ち消す圧力の圧縮エアーを供給するエアーシリンダー72によって昇降されるので、大口径のウェーハWなどの重量物を昇降させる場合でも、高出力の昇降機構を設ける必要がなく、装置コストの増大を防止することができる。また、カセット9を昇降させるカセット載置手段5を簡易な構成とすることができるので、装置の軽量化が図れ、大口径化による重量化に伴うトラブルを防止することができる。
As described above, according to the
なお、上記実施の形態では、エアーシリンダー72を一対のガイドレール76間に設ける構成としたが、この構成に限定されるものではない。例えば、図5に示すように、エアーシリンダー72aをケーシング77外部の駆動モータ73の上部に設ける構成にしてもよい。図5は、第2の実施の形態に係るカセット載置手段5aを説明するための模式図である。図5に示すカセット載置手段5aでは、駆動モータ73の上面にエアーシリンダー72aが配設されている。これにより、駆動モータ73の上方のデッドスペースを有効活用することができる。例えば、太径のボールネジ78が用いられ、ケーシング77内にエアーシリンダー72aの配設スペースを確保することが難しい場合に有効である。
In the above embodiment, the
また、上記実施の形態では、エアーシリンダー72に供給される圧縮エアーの圧力を、カセット載置台70の自重を打ち消す圧力に設定する構成としたが、この構成に限定されるものではない。例えば、少なくともカセット載置台70の自重を打ち消す程度の圧力であれば、カセット載置台70に載置されるカセット9の重量に応じて圧縮エアーの圧力を可変させることも可能である。
Moreover, in the said embodiment, although it was set as the structure which sets the pressure of the compressed air supplied to the
また、今回開示された実施の形態は、全ての点で例示であってこの実施の形態に制限されるものではない。本発明の範囲は、上記した実施の形態のみの説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内での全ての変更が含まれることが意図される。 The embodiment disclosed this time is illustrative in all respects and is not limited to this embodiment. The scope of the present invention is shown not by the above description of the embodiments but by the scope of the claims, and is intended to include all modifications within the meaning and scope equivalent to the scope of the claims.
本発明は、大口径のウェーハなどの重量物を昇降させる場合であっても昇降機構を高出力化させることなく、昇降機構の重量化に伴うトラブルを防止できるという効果を有し、例えば、レーザー加工装置、ダイシング装置、研削・研磨装置、洗浄装置、検査装置、ダイボンディング装置などのウェーハ処理装置に有用である。 The present invention has the effect of preventing troubles associated with the weight of the lifting mechanism without increasing the power of the lifting mechanism even when lifting a heavy object such as a large-diameter wafer. It is useful for wafer processing equipment such as processing equipment, dicing equipment, grinding / polishing equipment, cleaning equipment, inspection equipment, and die bonding equipment.
1 加工装置(ウェーハ処理装置)
3 切削ユニット(ウェーハ処理手段)
4 洗浄ユニット(ウェーハ処理手段)
5 カセット載置手段
9 カセット
41 第1の搬送手段(搬送手段)
61 第2の搬送手段(搬送手段)
70 カセット載置台(載置台)
71 昇降手段
72 エアーシリンダー
73 駆動モータ
74 天板
75 底板
76 ガイドレール
77 ケーシング
78 ボールネジ
79 ナット
80 プーリー
81 スライダ
82 モータ支持部
83 プーリー
84 ベルト
85 シリンダー
86 ピストン
87 エアー供給源
88 エアー供給部
89 連通孔
91 天板
92 底板
93 側板
94 開口部
95 背止部
96 収容棚
W ウェーハ
1 Processing equipment (wafer processing equipment)
3 Cutting unit (wafer processing means)
4 Cleaning unit (wafer processing means)
5 cassette placing means 9
61 Second conveying means (conveying means)
70 Cassette mounting table (mounting table)
71 Lifting means 72
Claims (1)
該カセットは、対向して形成された一対の側板と、ウェーハを出し入れする開口部と、ウェーハを背部で支持する背止部と、該側板に複数形成されたウェーハを収容する収容棚と、を有し、
該カセット載置手段は、該カセットを上面に載置する載置台と、該載置台を上下に昇降させる昇降手段と、該昇降手段に平行して配設されたシリンダー及び該シリンダー内に昇降可能に形成され該載置台に固定されたピストンから構成されたエアーシリンダーと、該載置台の自重を打ち消す圧力の圧縮エアーを該シリンダー内に供給するエアー供給部とを有すること、を特徴とするウェーハ処理装置。 Cassette mounting means for placing a cassette for accommodating wafers, wafer processing means for processing wafers transferred to the wafer processing area, and conveying means for transferring wafers between the cassette and the wafer processing area; A wafer processing apparatus comprising:
The cassette includes a pair of side plates formed to face each other, an opening for taking in and out the wafers, a back stopper for supporting the wafers at the back, and a storage shelf for storing a plurality of wafers formed on the side plates. Have
The cassette mounting means includes a mounting table for mounting the cassette on an upper surface, a lifting / lowering means for moving the mounting table up and down, a cylinder disposed in parallel with the lifting / lowering means, and a lifting / lowering in the cylinder. And an air cylinder formed of a piston fixed to the mounting table, and an air supply unit that supplies compressed air having a pressure that cancels the weight of the mounting table into the cylinder. Processing equipment.
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-
2013
- 2013-01-11 JP JP2013003612A patent/JP2014135438A/en active Pending
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