JP2014134642A - マイクロミラーデバイス及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】反射面(12B)を有するミラー部(12)を特定の回転軸を中心に回転可能に支持する支持可動部(14,16)と、支持可動部(14,16)に連結され、圧電体の変形によって屈曲変位を行う圧電アクチュエータ部(20,22)と、圧電アクチュエータ部(20,22)を屈曲変位可能に支持する固定フレーム部(26)と、を備える。支持可動部(14,16)は金属ガラス材料で構成される。金属ガラスは過冷却液体領域の温度に加熱処理することで残留応力を開放することができる。シリコンよりもヤング率の低い金属ガラス材料が好ましい。応力開放リフローによる圧電性能の劣化を回避するために、Nbを6〜20%ドープしたPZT膜を用いることが好ましい。
【選択図】図1
Description
(式中、A:Aサイトの元素であり、Pbを含む少なくとも1種の元素。
B:Bサイトの元素であり、Ti,Zr,V,Nb,Ta,Sb,Cr,Mo,W,Mn,Mg,Sc,Co,Cu,In,Sn,Ga,Zn,Cd,Fe,及びNiからなる群より選ばれた少なくとも1種の元素。
O:酸素元素。
Aサイト元素とBサイト元素と酸素元素のモル比は1:1:3が標準であるが、これらのモル比はペロブスカイト構造を取り得る範囲内で基準モル比からずれてもよい。)
圧電アクチュエータ部に用いる圧電材料をPb含有系にすることで高い駆動変位をデバイスに与えることができる。
(式中、A:Aサイトの元素であり、Pbを含む少なくとも1種の元素。
Mが、Mg, V, Nb,Ta,及びSbからなる群より選ばれた少なくとも1種の元素である。
Nb等の元素をドープしたPZTは圧電定数が高いため、小型で大きな変位が得られるデバイスの作製に好適である。
金属ガラスはガラス転移点(「ガラス転移温度」と同義)を持つ非晶質の金属である。金属ガラスは、従来の多結晶合金に比べて格段に優れた機械的特性・耐食性を示し、組成によっては電磁特性などの機能を発現させることもできる。特に金属ガラスは、弾性特性に優れており、例えば、2%にも及ぶ弾性歪限界を呈する。金属ガラスは、結晶化温度Txとガラス転移温度Tgの間(Tg<Tx)の過冷却液体温度領域において、酸化物ガラスと同様に温度に比例して粘性が低下するため、この温度範囲においては樹脂と同様な成形性で容易に変形させることができる。
図10から図12で説明したとおり、従来MEMSスキャナの構造主材料として用いられてきたシリコン(Si)は脆性材料であり、小型で実用に耐える共振スキャナは実現できていなかった。このような問題を解決する一つの手段として、トーションバー部を構成する材料として、シリコンよりも破壊強度の強い材料を用いる方法を検討した。
次に、圧電アクチュエータ部20、22の構造について説明する。本例のMEMSスキャナデバイス10は、ミラー部12をy方向の両側から挟むように一対の圧電アクチュエータ部20、22が配置される。圧電アクチュエータ部20、22は、長手方向がx軸の方向に向いたカンチレバー(片持ち梁)構造のアクチュエータであり(図3参照)、圧電体の変形によって屈曲変位を行う。圧電アクチュエータ部20、22は、x軸方向の一方の端部が固定フレーム部26に固定支持され、反対側の端部は、カンチレバー構造によって変位できる非拘束端となっている。
実施例1に係るMEMSデバイスの製造方法を説明する。実施例1として以下の手順によりMEMSスキャナデバイス10(図1から図3参照)を作製した。
図4には、dの距離を変えた設計によるMEMSスキャナデバイスの各デザイン(サンプル番号1〜4)の共振周波数を示した。各デザイン(サンプル番号1〜4)について、圧電アクチュエータ部(圧電アクチュエータ部)20、22の上部−下部電極間に交流電圧を印加することで、駆動の確認を行った。共振周波数に対応する周波数の交流電圧を印加したとき(駆動周波数が共振周波数と一致するとき)、ミラーが大きく傾き運動することを確認できた。
図5は圧電アクチュエータ部20、22に駆動電圧を供給する駆動回路の構成例を示した図である。本実施形態のMEMSスキャナデバイス10(図1〜図3参照)は、一対の圧電アクチュエータ部20、22に対して、同時に同じ駆動電圧を印加することよって、ミラー部12の両側の圧電アクチュエータ部20、22を同方向に変位させる。このため、一対の圧電アクチュエータ部20、22に駆動用の電力を供給する電力供給源として、共通の(同じ)駆動回路及び制御回路を用いることができる。圧電アクチュエータ部20、22に供給する駆動波形として、共振を励起する周波数の交流信号やパルス波形信号を用いることができる。ミラー部12が回転軸40(図2参照)を中心に回転運動を行う共振モードの共振周波数の付近でミラー部12を共振駆動させることができる。
トーションバー材料として金属ガラス薄膜を用いると、残留応力の開放が可能であるという利点がある。通常、成膜直後の薄膜には遍く残留応力が内包されており、このような薄膜を自立させてトーションバーとして用いると、撓みによって設計通りの構造が作成できない場合がある。
[非特許文献4]J. Schroers, B. Lohwongwatana, W. L. Johnson, A. Peker, Appl. Phys. Lett. 87 (2005) 061912.
[非特許文献5]J. Schroers et al., Journalof Microelectromechanical Systems, Vol.16, No.2 (2007) 1057
ただし、アクチュエータ用途の場合は、駆動時のデバイス発熱に対する安定性などを考慮すると、ガラス転移温度Tgが150℃以上、好ましくは200℃以上、より好ましくは300℃以上であることが望ましい。
本実施形態に好適な圧電体としては、下記式で表される1種又は2種以上のペロブスカイト型酸化物(P)を含むもの(不可避不純物を含んでいてもよい)が挙げられる。
(式中、A:Aサイトの元素であり、Pbを含む少なくとも1種の元素。
B:Bサイトの元素であり、Ti,Zr,V,Nb,Ta,Sb,Cr,Mo,W,Mn,Sc,Co,Cu,In,Sn,Ga,Zn,Cd,Fe,及びNiからなる群より選ばれた少なくとも1種の元素。
O:酸素元素。
Aサイト元素とBサイト元素と酸素元素のモル比は1:1:3が標準であるが、これらのモル比はペロブスカイト構造を取り得る範囲内で基準モル比からずれてもよい。)
上記一般式で表されるペロブスカイト型酸化物としては、チタン酸鉛、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)、ジルコニウム酸鉛、チタン酸鉛ランタン、ジルコン酸チタン酸鉛ランタン、マグネシウムニオブ酸ジルコニウムチタン酸鉛、ニッケルニオブ酸ジルコニウムチタン酸鉛、亜鉛ニオブ酸ジルコニウムチタン酸鉛等の鉛含有化合物、及びこれらの混晶系;チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウムバリウム、チタン酸ビスマスナトリウム、チタン酸ビスマスカリウム、ニオブ酸ナトリウム、ニオブ酸カリウム、ニオブ酸リチウム、ビスマスフェライト等の非鉛含有化合物、及びこれらの混晶系が挙げられる。
(式中、A:Aサイトの元素であり、Pbを含む少なくとも1種の元素。
Mが、V、Nb、Ta、及びSbからなる群より選ばれた少なくとも1種の元素である。
0<x<b、0<y<b、0<b−x−y。
a:b:c=1:1:3が標準であるが、これらのモル比はペロブスカイト構造を取り得る範囲内で基準モル比からずれてもよい。)
ペロブスカイト型酸化物(PX)は、真性PZT、あるいはPZTのBサイトの一部がMで置換されたものである。被置換イオンの価数よりも高い価数を有する各種ドナーイオンを添加したPZTでは、真性PZTよりも圧電性能等の特性が向上することが知られている。Mは、4価のZr,Tiよりも価数の大きい1種又は2種以上のドナーイオンであることが好ましい。かかるドナーイオンとしては、V5+,Nb5+,Ta5+,Sb5+,Mo6+,及びW6+等が挙げられる。
図6に各種金属ガラス材料のヤング率とガラス転移点(ガラス転移温度)を示す。本発明の実施に際しては、図6に例示したいずれの組成の金属ガラス材料も用いることが可能である。しかし、以下の観点から、発明の実施に際して用いるのに好ましい金属ガラス材料が選定される。
実施例2では、実施例1と同様のプロセス(工程1〜工程5)により、Zr55Cu30Al10Ni5金属ガラス薄膜を成膜後に、加熱による残留応力開放リフローを行うプロセスを追加した。
次に、応力開放リフローのプロセスが圧電アクチュエータの性能に及ぼす影響を見積もった。
(リフロー前の変位量−リフロー後の変位量)÷(リフロー前の変位量)×100
で求めた。
ハンドル層300um、ボックス層1um、デバイス層2umのSOI基板上に、スパッタ法で基板温度350℃にてTiを30nm、Ir電極を150nm形成した。
(1)実施例1,2で例示したように、本発明の実施形態によれば、シリコンに比べて壊れ難く、かつ、柔らかい(ヤング率が小さい)材料の金属ガラスを用いて、支持可動部14,16を構成したので、小型で、低周波の共振駆動に適したミラーデバイスを歩留まりよく作製することができる。ここでいう低周波とは、例えば、OCT装置などに好適な50Hzから100Hz程度の範囲の周波数である。
上述の実施形態では、ミラー部12の両側にそれぞれ一本のトーションバー(支持可動部14、16)を接続し、このトーションバーによってミラーの回転中心を支持しているが、ミラー回転軸を安定に支持する方法はこれに限ったものではなく、例えば回転軸に軸対称に配置された複数のバー(支持可動部材)でミラーを支持する構成を採用してもよい。
上述の実施形態では、ミラー部12を挟んでその両側にそれぞれ圧電アクチュエータ部20、22を配置し、各圧電アクチュエータ部20、22はそれぞれ1つの圧電カンチレバーで構成されるものを例示した。
図1から図3で説明した形態は、x軸と平行で、かつミラー部12の中心を通る中心線に対して左右対称の構造を有しているが、かかる対称構造に代えて、矩形のミラー部12の対角部分に支持可動部を設ける形態も可能である。
上述の実施形態では、y軸と平行な回転軸40の周りにミラー部12を回転させる例を説明したが、x軸と平行な回転軸の周りにミラー部を回転させる形態も可能であり、x軸、y軸の2軸で回転可能な構成とすることもできる。
本発明は、レーザー光等の光を反射して光の進行方向を変える光学装置として様々な用途に利用できる。例えば、光偏向器、光走査装置、レーザープリンタ、バーコード読取機、表示装置、各種の光学センサ(測距センサ、形状測定センサ)、光通信装置、レーザープロジェクタ、OCT画像診断装置などに広く適用することができる。
Claims (15)
- 光を反射する反射面を有するミラー部と、
前記ミラー部を特定の回転軸を中心に回転可能に支持する支持可動部と、
前記支持可動部に連結され、圧電体の変形によって屈曲変位を行う圧電アクチュエータ部と、
前記圧電アクチュエータ部の一端が接続され、前記圧電アクチュエータ部を屈曲変位可能に支持する固定フレーム部と、を備え、
前記支持可動部は金属ガラス材料で構成されており、
前記圧電アクチュエータ部に電圧を印加して前記屈曲変位させることによって前記支持可動部を変形させ、前記ミラー部を回転させるマイクロミラーデバイス。 - 前記支持可動部を構成する金属ガラス材料は、シリコンよりもヤング率が小さい材料である請求項1に記載のマイクロミラーデバイス。
- 前記支持可動部を構成する金属ガラス材料は、Zrを含む材料である請求項1又は2に記載のマイクロミラーデバイス。
- 前記支持可動部を構成する金属ガラス材料は、Zr-Cu-Al-Ni系である請求項3に記載のマイクロミラーデバイス。
- 前記支持可動部を構成する金属ガラス材料は、ガラス転移温度Tgが150℃以上の材料である請求項1から4のいずれか1項に記載のマイクロミラーデバイス。
- 前記支持可動部を構成する金属ガラス材料は、ガラス転移温度Tgが300℃以上の材料である請求項5に記載のマイクロミラーデバイス。
- 前記支持可動部を構成する金属ガラス材料は、気相成膜によって成膜された薄膜である請求項1から6のいずれか1項に記載のマイクロミラーデバイス。
- 前記ミラー部が前記回転軸を中心に回転運動を行う共振モードの共振周波数の付近で前記ミラー部を共振駆動させる請求項1から7のいずれか1項に記載のマイクロミラーデバイス。
- 前記圧電アクチュエータ部は、振動板、下部電極、圧電体、上部電極の順に積層された圧電ユニモルフカンチレバーで構成されることを特徴とする請求項1から8のいずれか1項に記載のマイクロミラーデバイス。
- 前記圧電アクチュエータ部に用いられる圧電体は1〜10μm厚の薄膜であり、振動板となる基板上に直接成膜された薄膜である請求項1から9のいずれか1項に記載のマイクロミラーデバイス。
- 前記圧電体は、スパッタリング法で成膜された薄膜であることを特徴とする請求項1から10のいずれか1項に記載のマイクロミラーデバイス。
- 前記圧電アクチュエータ部に用いられる圧電体は、下記式(P)で表される1種又は2種以上のペロブスカイト型酸化物であることを特徴とする請求項1から11のいずれか1項に記載のマイクロミラーデバイス。
一般式ABO3・・・(P)
(式中、A:Aサイトの元素であり、Pbを含む少なくとも1種の元素。
B:Bサイトの元素であり、Ti,Zr,V,Nb,Ta,Sb,Cr,Mo,W,Mn,Mg,Sc,Co,Cu,In,Sn,Ga,Zn,Cd,Fe,及びNiからなる群より選ばれた少なくとも1種の元素。
O:酸素元素。
Aサイト元素とBサイト元素と酸素元素のモル比は1:1:3が標準であるが、これらのモル比はペロブスカイト構造を取り得る範囲内で基準モル比からずれてもよい。) - 前記圧電アクチュエータ部に用いられる圧電体は、下記式(PX)で表される1種又は2種以上のペロブスカイト型酸化物であることを特徴とする請求項1から11のいずれか1項に記載のマイクロミラーデバイス。
Aa(Zrx,Tiy,Mb−x−y)bOc・・・(PX)
(式中、A:Aサイトの元素であり、Pbを含む少なくとも1種の元素。
Mが、Mg, V, Nb,Ta,及びSbからなる群より選ばれた少なくとも1種の元素である。
0<x<b、0<y<b、0≦b−x−y。
a:b:c=1:1:3が標準であるが、これらのモル比はペロブスカイト構造を取り得る範囲内で基準モル比からずれてもよい。) - 前記ペロブスカイト型酸化物(PX)は、Nbを含むと共に、Nb/(Zr+Ti+Nb)モル比が0.06以上0.20以下であることを特徴とする請求項13に記載のマイクロミラーデバイス。
- 請求項1から14のいずれか1項に記載のマイクロミラーデバイスを製造する方法であって、
基板上に下部電極を形成する下部電極形成工程と、
前記基板上の前記下部電極の上に圧電体膜を積層して形成する圧電体膜形成工程と、
前記基板上の前記圧電体膜の上に上部電極を積層して形成する上部電極形成工程と、
前記基板上に金属ガラス膜を形成する金属ガラス膜形成工程と、
前記金属ガラス膜形成工程の後に、前記金属ガラス膜の結晶化温度Txとガラス転移温度Tgとの間の過冷却液体領域の温度で加熱処理し、前記金属ガラス膜の残留応力を開放する応力開放リフロー工程と、
前記基板の一部を除去する加工を行う加工工程と、
を含むマイクロミラーデバイスの製造方法。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016033651A (ja) * | 2014-07-29 | 2016-03-10 | 株式会社リコー | 光偏向器、光走査装置、画像形成装置、画像投影装置及びヘッドアップディスプレイ |
DE102016107153A1 (de) * | 2016-04-18 | 2017-10-19 | Sick Ag | Optoelektronischer Sensor |
JP2020160312A (ja) * | 2019-03-27 | 2020-10-01 | セイコーエプソン株式会社 | 光スキャナー、三次元計測装置およびロボットシステム |
WO2022209404A1 (ja) * | 2021-03-30 | 2022-10-06 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 駆動素子 |
Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002214560A (ja) * | 2001-01-22 | 2002-07-31 | Olympus Optical Co Ltd | アクチュエーター |
JP2004106197A (ja) * | 2002-09-13 | 2004-04-08 | Hitachi Koki Co Ltd | インクジェットヘッド |
JP2007017678A (ja) * | 2005-07-07 | 2007-01-25 | Micro Precision Kk | 静電駆動型光偏向素子 |
JP2008516282A (ja) * | 2004-10-05 | 2008-05-15 | ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル.ピー. | 微小電気機械システムにおけるアモルファス屈曲部 |
JP2009192379A (ja) * | 2008-02-14 | 2009-08-27 | Seiko Instruments Inc | 加速度センサ及び加速度センサの製造方法 |
JP2010149173A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-08 | Olympus Corp | 遠心鋳造装置および遠心鋳造方法 |
JP2011018026A (ja) * | 2009-06-09 | 2011-01-27 | Ricoh Co Ltd | 光偏向器、光走査装置、画像形成装置及び画像投影装置 |
JP2011181828A (ja) * | 2010-03-03 | 2011-09-15 | Fujifilm Corp | 圧電体膜とその製造方法、圧電素子および液体吐出装置 |
JP2012113146A (ja) * | 2010-11-25 | 2012-06-14 | Canon Electronics Inc | 振動素子、光走査装置、アクチュエータ装置、映像投影装置及び画像形成装置 |
JP2012157802A (ja) * | 2011-01-31 | 2012-08-23 | Optoelectronics Co Ltd | 振動アクチュエータ、光走査装置、光学的情報読取装置及び振動アクチュエータの製造方法 |
JP2012208352A (ja) * | 2011-03-30 | 2012-10-25 | Fujifilm Corp | ミラー駆動装置及び方法 |
JP2012210668A (ja) * | 2011-03-30 | 2012-11-01 | Tohoku Univ | マイクロアクチュエータ |
-
2013
- 2013-01-09 JP JP2013002040A patent/JP6018926B2/ja active Active
Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002214560A (ja) * | 2001-01-22 | 2002-07-31 | Olympus Optical Co Ltd | アクチュエーター |
JP2004106197A (ja) * | 2002-09-13 | 2004-04-08 | Hitachi Koki Co Ltd | インクジェットヘッド |
JP2008516282A (ja) * | 2004-10-05 | 2008-05-15 | ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル.ピー. | 微小電気機械システムにおけるアモルファス屈曲部 |
JP2007017678A (ja) * | 2005-07-07 | 2007-01-25 | Micro Precision Kk | 静電駆動型光偏向素子 |
JP2009192379A (ja) * | 2008-02-14 | 2009-08-27 | Seiko Instruments Inc | 加速度センサ及び加速度センサの製造方法 |
JP2010149173A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-08 | Olympus Corp | 遠心鋳造装置および遠心鋳造方法 |
JP2011018026A (ja) * | 2009-06-09 | 2011-01-27 | Ricoh Co Ltd | 光偏向器、光走査装置、画像形成装置及び画像投影装置 |
JP2011181828A (ja) * | 2010-03-03 | 2011-09-15 | Fujifilm Corp | 圧電体膜とその製造方法、圧電素子および液体吐出装置 |
JP2012113146A (ja) * | 2010-11-25 | 2012-06-14 | Canon Electronics Inc | 振動素子、光走査装置、アクチュエータ装置、映像投影装置及び画像形成装置 |
JP2012157802A (ja) * | 2011-01-31 | 2012-08-23 | Optoelectronics Co Ltd | 振動アクチュエータ、光走査装置、光学的情報読取装置及び振動アクチュエータの製造方法 |
JP2012208352A (ja) * | 2011-03-30 | 2012-10-25 | Fujifilm Corp | ミラー駆動装置及び方法 |
JP2012210668A (ja) * | 2011-03-30 | 2012-11-01 | Tohoku Univ | マイクロアクチュエータ |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016033651A (ja) * | 2014-07-29 | 2016-03-10 | 株式会社リコー | 光偏向器、光走査装置、画像形成装置、画像投影装置及びヘッドアップディスプレイ |
DE102016107153A1 (de) * | 2016-04-18 | 2017-10-19 | Sick Ag | Optoelektronischer Sensor |
DE102016107153B4 (de) | 2016-04-18 | 2018-10-18 | Sick Ag | Optoelektronischer Sensor |
JP2020160312A (ja) * | 2019-03-27 | 2020-10-01 | セイコーエプソン株式会社 | 光スキャナー、三次元計測装置およびロボットシステム |
JP7263878B2 (ja) | 2019-03-27 | 2023-04-25 | セイコーエプソン株式会社 | 光スキャナー、三次元計測装置およびロボットシステム |
WO2022209404A1 (ja) * | 2021-03-30 | 2022-10-06 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 駆動素子 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6018926B2 (ja) | 2016-11-02 |
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