JP2014133906A - マスクの保持具 - Google Patents

Abstract

【課題】キャンローラに巻き付けられた基材に蒸着を行う場合に、基材に形状に応じて、マスクを適切な形状で保持できるようにする。
【解決手段】キャンローラに巻き付けられた基材に対して蒸着を行う際に使用されるマスクを保持するマスクの保持具であって、キャンローラの周面に対応してマスクを湾曲変形させて保持する保持部を備える。
【選択図】 図２

Description

本発明は、真空蒸着の際に使用されるマスクの保持具に関する。

従来、真空蒸着による有機ＥＬ素子の製造方法として、帯状の基材が所定の走行方向に沿って走行するように、基材を走行させる工程と、蒸着源から気化材料を吐出させて基材に蒸着させる工程とを備える製造方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。そして、斯かる製造方法によれば、帯状のシャドーマスクを帯状の基材に面合わせで密接させると共に、シャドーマスクを基材と一体的に走行させることにより、所望のパターンで気化材料を基材に蒸着させることができる。

特開２０００−１８３５００号公報

ところで、特許文献１に係る製造方法においては、シャドーマスクを送り出す送り出しローラや、シャドーマスクを巻き取る巻き取りローラや、シャドーマスクを支持する複数の支持ローラが設けられており、一般的に、装置が大型になるという問題を生じさせている。また、異なるパターンで気化材料を基材に蒸着させたい場合には、所定のシャドーマスクに交換（型替え）するために、複雑な作業が必要となるという問題を生じさせている。

この問題を解決するために、従来のシャドーマスクを使用せずに、小型化したマスクを使用することが考えられるが、この場合は、マスクが基材に重ねられる際に、基材から所定の距離だけ離れた位置でマスクを保持する保持具（ホルダ）が必要になる。

また、例えば、帯状の基材がキャンローラ（特許文献１における大径ガイドロール５ｂ）に巻き付けられた状態で蒸着を行う場合、基材は、キャンローラの周面の形状に応じて変形する。このことから、基材に適切な蒸着を行うために、基材の変形に応じて、マスクを適切な形状で保持することが必要になる。

本発明は、斯かる事情に鑑み、キャンローラに巻き付けられた基材に蒸着を行う場合に、基材の形状に応じて、マスクを適切な形状で保持する保持具を提供することを課題とする。

本発明は上記の課題を解決するためのものであって、キャンローラに巻き付けられた基材に対して蒸着を行う際に使用されるマスクを保持するマスクの保持具であって、キャンローラの周面に対応してマスクを湾曲変形させて保持する保持部を備えることを特徴とする。

かかる構成によれば、マスクは、保持具の保持部によって、キャンローラの周面の形状に対応して変形した状態で保持されることになる。すなわち、マスクは、キャンローラに巻き付けられて変形する基材の形状に合わせて変形することができ、これによって、基材に適切な蒸着を行うことができるようになる。

また、本発明に係るマスクの保持具によれば、前記保持部は、キャンローラの半径とほぼ等しい曲率半径を有して湾曲する保持面を有することが望ましい。

かかる構成によれば、保持面の曲率半径がキャンローラの半径とほぼ等しくなっているので、マスクは、この保持面に沿って変形することで、キャンローラに巻き付けられて変形する基材の形状に対応した形状になる。これにより、キャンローラに巻き付けられた基材に適切な蒸着を行うことができるようになる。

また、本発明に係るマスクの保持具によれば、前記マスクを保持面に固定する固定部材を備える構成を採用できる。

かかる構成によれば、マスクを所定位置に確実に固定して、最適な蒸着を行うことができるようになる。

本発明によれば、キャンローラに巻き付けられた基材に蒸着を行う場合に、基材に形状に応じて、マスクを適切な形状で保持することができる。

図１は、本発明のマスクの保持具を使用する有機ＥＬ素子製造装置の概要正面図を示す。 図２は、マスクの保持具の平面図である。 図３は、マスクの保持具の側面図である。 図４は、保持具における固定部材の平面図である。 図５は、マスクの一例を示す平面図である。 図６は、マスクの側面図である。図６（ａ）は保持具に保持されていない状態のマスクを示し、図６（ｂ）は、保持具に保持されて変形したマスクを示す。 図７は、有機ＥＬ素子製造装置の要部の正面図である。 図８は、有機ＥＬ素子製造装置の要部の正面図である。 図９は、有機ＥＬ素子製造装置の要部の側部断面図である。 図１０は、有機ＥＬ素子製造装置の要部の側部断面図である。 図１１は、有機ＥＬ素子の一例を示す幅方向の断面図である。

以下、本発明に係るマスクの保持具の一実施形態について、添付図面を参酌して説明する。本実施形態において、保持具は、有機ＥＬ素子の製造装置（以下、単に「製造装置」という）の一部品として使用される。以下の説明においては、保持具が装着された製造装置についての説明を行う中で、保持具の説明を適宜行うこととする。

図１に示すように、製造装置は、内部が真空である複数（図例では３つ）の真空室１と、帯状の基材８１が真空室１の内部を通過するように、基材８１を所定の方向（以下、「走行方向」ともいう）Ｘに沿って走行させる走行装置２と、基材８１の搬送経路の中途部に設けられるととともに、この基材８１が巻き付けられる複数のキャンローラ３と、基材８１に向けて気化材料を吐出する複数の蒸着源４と、キャンローラ３に一体に設けられるとともに、キャンローラ３に巻き付けられる基材８１を所定の位置において蒸着源４から遮蔽する遮蔽装置５とを備える。

各真空室１は、走行方向Ｘに沿って連設されている。また、各真空室１の内部が真空となるように、各真空室１には、真空ポンプ等の真空発生装置（図示していない）が接続されている。

走行装置２は、基材８１を送る送り出しローラ２１と、基材８１（詳しくは、気化材料を基材８１に蒸着して形成された有機ＥＬ素子８）を巻き取る巻き取りローラ２２と、送り出しローラ２１及び巻き取りローラ２２間に配置され、基材８１を支持する複数の支持ローラ２３とを備える。

送り出しローラ２１は、真空室１の内部で且つ上流側に配置されている。巻き取りローラ２２は、真空室１の内部で且つ下流側に配置されている。また、複数の支持ローラ２３は、真空室１の内部に配置されている。複数の支持ローラ２３には、基材８１が掛け渡されている。

各蒸着源４は、真空室１の内部に配置されていると共に、キャンローラ３の半径方向において、基材８１と対面するように配置されている。そして、上流側及び下流側の真空室１には、蒸着源４がそれぞれ１つ設けられていると共に、中間の真空室１には、３つの蒸着源４が走行方向Ｘに沿って並設されている。また、各蒸着源４は、加熱により気化させた気化材料を、基材８１に向けて吐出している。

図２〜図１０に示すように、遮蔽装置５は、マスク９を保持する保持具５１と、保持具５１の位置を切り替える切替機構５２を備える。

保持具５１は、金属（例えばステンレス鋼）によって板状に構成される。より具体的には、保持具５１は、平面視において、四角形状（長方形状）に構成される。図３に示すように、保持具５１における厚さ方向における一方側の面は、所定の曲率半径による湾曲面とされている。保持具５１の他方の面は、平坦面とされている。

図２〜図４に示すように、保持具５１は、マスク９を保持する保持部５３と、そのほぼ中央部に形成される開口部５４と、切替機構５２に取り付けられる取付部５５と、マスク９を保持部５３に固定するための固定部材５６と、固定部材５６を保持部５３に取り付けるための取付孔５７とを備える。

保持部５３は、保持具５１における一方の面に形成される凹部を有する。この凹部は、保持具５１の長手方向に沿って長尺状に構成されている。また、この凹部は、開口部５４の周囲を囲むように、平面視において、ほぼ四角形状に構成される。

この凹部の底面５８は、所定の曲率半径による円弧状の湾曲面となっている。この底面５８の曲率半径は、保持具５１の一方の面の曲率半径とほぼ等しくなっている。この底面５８は、マスク９が保持具５１に取り付けられたときに、マスク９が所定の形状に変形した状態を維持しつつ、このマスク９を保持する保持面である。

開口部５４は、保持具５１の厚さ方向に貫通して形成されている。蒸着源４からの気化材料を、マスク９を通じて基材８１に向けて通過させるためのものである。開口部５４は、平面視においてほぼ四角形状に構成される。

取付部５５は、四角形状の保持具５１の一辺（長辺）から突出する板状の部分である。取付部５５は、厚さ方向に貫通する孔５９を有する。この孔５９には、ボルト等の固定具が挿通される。

図４に示すように、固定部材５６は、金属によって長方形状の薄板状に構成される。この構成により、固定部材５６は、可撓性を有し、保持具５１に取り付けられたときに、保持具５１の形状に対応して弾性変形可能である。また、固定部材５６は、厚さ方向に貫通する複数（図例では５つ）の孔６０を有する。

図２、図３に示すように、取付孔５７は、保持具５１の厚さ方向に貫通して形成されている。本実施形態における取付孔５７の数は、固定部材５６に形成される孔６０の数と同じである。

図５に示すように、マスク９は、所定の金属によって長方形状の薄板状に構成される。この構成により、マスク９は、可撓性を有し、保持具５１に取り付けられたときに所定の形状に弾性変形可能である。また、マスク９は、蒸着源４からの気化材料を通過させるための開口部１０を有する。なお、マスク９は、可撓性を有しない薄膜状のものその他の種々の形状のものであってもよい。

図６（ａ）に示すように、マスク９は、保持具５１に取り付けられていない場合には、平板状のままであるが、保持具５１に取り付けられた場合には、保持部５３の保持面（底面）５８に接触した状態で、所定の形状に弾性変形する。すなわち、マスク９は、図６（ｂ）に示すように、保持部５３の保持面５８の曲率半径に応じて、側面視円弧状に弾性変形する。この際の、マスク９の曲率半径は、キャンローラ３の半径とほぼ等しくなることが望ましい。本実施形態では、キャンローラ３の半径は約３００ｍｍであり、これに対応して、保持面５８の曲率半径は、約３００ｍｍとされている。したがって、保持面５８によって弾性変形した際のマスク９の曲率半径は、約３００ｍｍとなる。キャンローラ３の半径及びマスク９の曲率半径は、３００ｍｍに限定されず、６００ｍｍ、９００ｍｍその他の最適な寸法に設定され得る。

マスク９は、以下のようにして、保持具５１に取り付けられる。まず、マスク９をある程度弾性変形させておき、保持部５３としての凹部に入れる。このとき、マスク９の長手方向における端部は、凹部の長手方向における端部６１に当接する。このとき、マスク９の一方の面が凹部の底部に形成される保持面５８に接触した状態になる。これにより、マスク９は所定の曲率半径による円弧形状に湾曲した状態になる。

次に、固定部材５６を、保持具５１において湾曲状に形成されている一方の面に取り付ける。具体的には、固定部材５６に形成されている孔６０を保持具５１に形成されている取付孔５７に一致させ、ボルトを両者に挿通し、このボルトにナットを嵌めて締結する。このとき、固定部材５６は、保持具５１の一方の面の湾曲形状に応じて弾性変形することになる。また、固定部材５６の一部６２が、保持部５３としての凹部の縁部６３を越えてマスク９の一部と重なり合う。ただし、この固定部材５６の一部６２は、マスク９の開口部１０と重ならないように位置決めされる。これにより、固定部材５６は、保持具５１の保持部５３から外れないように、マスク９を固定する。以上によって、マスク９の保持具５１への取り付けが完了する。

マスク９が保持具５１に保持されて状態において、マスク９の開口部１０は、保持具５１の開口部５４と重なった状態になる。これにより、マスク９は、開口部１０を通じて蒸着源４からの気化材料を通過させることができる。一方、保持具５１の開口部５４は、マスク９の開口部１０と重なる部分のみが気化材料を通過させることができる。

図７〜図１０に示すように、切替機構５２は、保持具５１を遮蔽位置と遮蔽解除位置とに位置変更可能に構成される。ここで、「遮蔽位置」とは、保持具５１が蒸着源４及び基材８１間に配置されて基材８１を遮蔽する位置をいう。また、「遮蔽解除位置」とは、保持具５１が蒸着源４及び基材８１間から退避して基材８１を遮蔽するのを解除する位置をいう。保持具５１が遮蔽位置にある場合、保持具５１は、マスク９を基材８１から離れた位置で保持することができる。マスク９と基材８１との離間間隔は約１ｍｍ程度であることが望ましい。また、本明細書において、「遮蔽」とは、蒸着源４からの気化材料がマスク９の開口部１０を通過することを許容するとともに、マスク９において開口部１０を除く部分が蒸着源４からの気化材料の通過を阻止することをいう。

切替機構５２は、キャンローラ３に固定される本体部６４を備える。また、切替機構５２は、キャンローラ３の駆動軸１１に平行な軸で回転するように本体部６４に固定される第１回転体６５と、第１回転体６５の軸と直交する方向に沿って配置される軸で回転するように本体部６４に固定され、かつ、第１回転体６５の駆動を受ける第２回転体６６とを備える。

第１回転体６５及び第２回転体６６の内部には、磁性体（又は磁石）がそれぞれ設けられている。これにより、第１回転体６５が回転するのに伴って、第２回転体６６の磁性体が第１回転体６５の磁性体から磁力を受けるため、第２回転体６６が回転する。なお、第１回転体６５と第２回転体６６とは、離間して配置されている。

また、切替機構５２は、第１回転体６５に連結される第１リンク体６７と、第２回転体６６に連結される一対の第２リンク体６８と、保持具５１を支持する支持部材（以下、「第１支持部材」という）６９と、第１支持部材６９をスライド可能に支持する支持部材（以下、「第２支持部材」という）７０とを備える。さらに、切替機構５２は、第１リンク体６７に回転可能に取り付けられるカムフォロア７１と、カムフォロア７１に摺接されるカム７２とを備える。

第１リンク体６７は、長尺状の板部材からなる。第１リンク体６７の一端部は、第１回転体６５に連結されている。第１リンク体６７の他端部には、カムフォロア７１が取り付けられている。第１リンク体６７は、カムフォロア７１をカム７２に係合させるとともに、カムフォロア７１の動きに対応して所定の回動を行うことで、第１回転体６５を回転又は回動させるためのものである。

第２リンク体６８は、第１回転体６５の回転に応じて第２回転体６６が回転したときに、この回転に応じて回動することで、第１支持部材６９を第２支持部材７０に対してスライドさせるためのものである。第２リンク体６８は、長尺状の板部材からなる。第２リンク体６８の一端部は、第２回転体６６の軸に固定されている。第２リンク体６８の他端部側の部分には、厚さ方向に貫通するほぼ四角形状の開口部７３が形成されている。

第１支持部材６９は、保持具５１を着脱自在に支持する支持部７４と、第２リンク体６８に連結される連結部７５と、第２支持部材７０に係合する係合部７６とを備える。

支持部７４は、図９、図１０に示すように、その上端部に保持具５１の取付部５５が重ねられるように構成される。支持部７４は、保持具５１の取付部５５に形成される孔５９に対応するねじ孔（図示せず）を有する。保持具５１は、このねじ孔に取付部５５の孔５９を一致させるとともに、これらにねじ部材を入れて締め付けることによって、支持部７４に固定される。

連結部７５は、図７、図８に示すように、上方又はキャンローラ３の半径方向外方に向かって突出する一対の突起部である。連結部７５は、図９、図１０に示すように、第２リンク体６８に係合する係合軸部７７を有する。係合軸部７７は、第２リンク体６８に形成されるほぼ四角形状の開口部７３に入れられている。係合軸部７７の直径は、第２リンク体６８の開口部７３よりも小さくなっている。係合軸部７７は、保持具５１が遮蔽位置及び遮蔽解除位置にある場合には、第２リンク体６８の開口部７３の縁部に接触していないが、第２リンク体６８によって第１支持部材６９が移動している場合には、開口部７３の縁部に接触するように構成される。

係合部７６は、図９、図１０に示すように、第１支持部材６９の下端部に設けられている。この係合部７６は、第１支持部材６９が第２支持部材７０に支持されつつ、所定の方向に移動できるようにするためのものである。係合部７６は、第１支持部材６９がキャンローラ３に対して接近離反できるように、第２支持部材７０と係合する。

第２支持部材７０は、本体部６４の上端部に固定されている。この第２支持部材７０は、第１支持部材６９の係合部７６が係合する係合溝７８を有する。係合溝７８は、キャンローラ３の回転軸の軸心方向に沿って長く形成されている。係合溝７８は、第１支持部材６９の係合部７６を、長手方向に沿ってスライドさせることができる。

カム７２は、図７、図８に示すように、ほぼ円形の板状に構成される。カム７２は、キャンローラ３を駆動するための駆動軸１１と同心状に配置されている。しかしながら、カム７２は、駆動軸１１及びキャンローラ３とともに回転することはなく、真空室１において保持されている。

カム７２は、保持具５１を遮蔽解除位置に維持するための第１領域７２ａと、保持具５１を遮蔽解除位置から遮蔽位置に移動させるための第２領域７２ｂと、保持具５１を遮蔽位置において維持するための第３領域７２ｃと、保持具５１を遮蔽位置から遮蔽解除位置への移動させるための第４領域７２ｄを備える。

第１領域７２ａは、円板状のカム７２の外周面に所定の曲率半径で側面視円弧状のカム面を有する。第２領域７２ｂは、所定の傾斜角度で傾斜する側面視直線状のカム面を有する。この第２領域７２ｂは、その一端部が円弧状の第１領域７２ａの一端部に繋がっている。

第３領域７２ｃは、所定の曲率半径による側面視円弧状のカム面を有する。第３領域７２ｃの曲率半径は、第１領域７２ａの曲率半径よりも小さく設定されている。第３領域７２ｃは、その一端部が第２領域７２ｂの他端部に繋がっている。

第４領域７２ｄは、所定の傾斜角度で傾斜する側面視直線状のカム面を有する。この第４領域７２ｄの傾斜の方向は、第２領域７２ｂの傾斜の方向とは逆に設定されている。この第４領域７２ｄは、一端部が第３領域７２ｃの他端部に繋がっている。また、この第４領域７２ｄは、その他端部が第１領域７２ａの他端部に繋がっている。

カムフォロア７１は、カム７２の第１領域７２ａから第４領域７２ｄへと順に移動するように構成される。

なお、切替機構５２においては、付勢装置（図示していない）により、カムフォロア７１がカム７２の各領域（第１領域７２ａ〜第４領域７２ｄ）に接触した状態を維持するように付勢されている。

本実施形態に係る遮蔽装置５の動作について説明する。この説明は、製造装置の上流側に位置する真空室１内のキャンローラ３及び遮蔽装置５の１つを参照する。

まず、基材８１は、送り出しローラ２１から巻き取りローラ２２に向かって搬送される。このとき、基材８１は、真空室１内に設けられるキャンローラ３に接して搬送される。キャンローラ３に設けられている遮蔽装置５は、保持具５１を遮蔽解除位置から遮蔽位置へと移動させ、基材８１の所定部位を蒸着源４から遮蔽する。

遮蔽装置５は、キャンローラ３とともにその駆動軸１１回りに回転（公転）している。保持具５１は、カムフォロア７１が、カム７２の第１領域７２ａから第２領域７２ｂへと移動したとき、遮断解除位置（図１０参照）から遮蔽位置（図９参照）へと移動し始める。カムフォロア７１が第２領域７２ｂに沿って第３領域７２ｃへと移動すると、第１リンク体６７が第１回転体６５の回転軸まわりに回動する。これに連動して、第１回転体６５が回転する。さらに第１回転体６５の回転に連動して、第２回転体６６が回転する。このとき、第２回転体６６の動きに連動して、第２リンク体６８が第２回転体６６の回転軸回りに回動する。このとき、第２リンク体６８の開口部７３の縁部が第１支持部材６９の係合軸部７７に接触する。さらに、第２リンク体６８は、その回動により、第１支持部材６９を第２支持部材７０の係合溝７８に沿ってキャンローラ３に向かうように移動させる。これによって、保持具５１は、遮蔽解除位置から遮蔽位置へと移動する。

カムフォロア７１が第２領域７２ｂから第３領域７２ｃに移動し、この第３領域７２ｃに沿って移動する間、第１リンク体６７は回動せず、したがって、保持具５１は、遮蔽位置に位置した状態を維持している。このとき、保持具５１及び保持具５１に保持されるマスク９は、図１０に示すように、基材８１と蒸着源４との間で、基材８１に重なるように配置される。この状態において、保持具５１に保持されるマスク９は、保持面５８によって、円弧状に湾曲している。マスク９の曲率半径が、キャンローラ３の半径と同じに設定されていることから、マスク９は、キャンローラ３に巻き付けられて変形する基材８１の湾曲形状とほぼ同じ湾曲形状になる。すなわち、マスク９と基材８１とは、ほぼ平行に配置されることになる。これにより、基材８１には、マスク９の開口部１０を通過する気化材料が均一に蒸着されることになる。

次に、カムフォロア７１が第３領域７２ｃから第４領域７２ｄへと移動したとき、この保持具５１は、遮蔽位置から遮蔽解除位置へと退避し始める。カムフォロア７１は、第４領域７２ｄに沿って移動することで、第１リンク体６７を第１回転体６５の回転軸回りに回動させる。このとき、第１リンク体６７は、カムフォロア７１が第２領域７２ｂを移動するときの回動の方向とは逆の方向に回動する。この第１リンク体６７の回動に連動して、第１回転体６５、第２回転体６６が回転し、さらに、第２リンク体６８が回動する。これにより、保持具５１は、遮蔽位置から遮蔽解除位置へと移動する。

その後、カムフォロア７１は、第４領域７２ｄから第１領域７２ａへと移動する。カムフォロア７１が第１領域７２ａに沿って移動する間、第１リンク体６７は回動せず、したがって、保持具５１は、遮蔽解除位置に位置した状態のままである。

図１１は、製造装置によって製造される有機ＥＬ素子８の一例を示す。有機ＥＬ素子８は、基材８１の一方側の面に蒸着源４からの気化材料が蒸着されて形成される下部電極層８２と、下部電極層８２の上から気化材料が蒸着されて形成される有機層８３と、有機層８３の上から気化材料が蒸着されて形成される上部電極層８４とを備える。そして、有機ＥＬ素子８は、基材８１の幅方向に亘って気化材料が蒸着されていない部位、即ち、各層８２，８３，８４が設けられていない部位を備えている。

基材８１は、導電性を有する導電層８１ａと、絶縁性を有する絶縁層８１ｂとを備える。そして、導電層８１ａは、金属基板で構成されており、例えば、ステンレス、銅、ニッケル等の金属で形成されている。また、絶縁層８１ｂは、導電層８１ａの一方側の面全体を覆うように配置され、例えば、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等の光硬化性樹脂や、薄ガラス等で形成されている。

下部電極層８２は、少なくとも一部が有機層８３及び上部電極層８４に覆われておらず、露出するように配置されている。そして、下部電極層８２は、本実施形態において、陽極層としており、例えば、インジウム−亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、インジウム−錫酸化物（ＩＴＯ）等の透明導電材や、金、銀、アルミニウム等の金属で形成されている。

有機層８３は、下部電極層８２の上に配置される正孔注入層８３ａと、正孔注入層８３ａの上に配置される有機ＥＬ層８３ｂと、有機ＥＬ層８３ｂの上に配置される電子注入層８３ｃとを備える。そして、有機層８３は、下部電極層８２と上部電極層８４とが接触するのを防止するように、下部電極層８２及び上部電極層８４間に配置されている。

上部電極層８４は、本実施形態において、陰極層としている。そして、上部電極層８４は、例えば、アルミニウム、銀、マグネシウム銀の合金、アルカリ金属、アルカリ土類金属を含む合金等で形成されている。

したがって、上流側の真空室１に配置される蒸着源４は、下部電極層８２を形成する気化材料を吐出し、中間の真空室１に配置される蒸着源４は、上流側から、正孔注入層８３ａを形成する気化材料、有機ＥＬ層８３ｂを形成する気化材料、電子注入層８３ｃを形成する気化材料をそれぞれ吐出し、さらに、下流側の真空室１に配置される蒸着源４は、上部電極層８４を形成する気化材料を吐出している。

以上説明したように、本発明に係る保持具５１によれば、マスク９は、保持部５３によって、キャンローラ３の周面の形状に対応して変形した状態で保持されることになる。これにより、キャンローラ３に巻き付けられた基材８１に適切な蒸着を行うことができるようになる。

また、保持部５３の保持面５８の曲率半径を、キャンローラ３の半径とほぼ等しくすることによって、マスク９は、この保持面に沿って変形されることで、キャンローラ３に巻き付けられて変形する基材８１の形状に対応した形状になる。これにより、キャンローラ３に巻き付けられた基材８１に適切な蒸着を行うことができるようになる。

また、固定部材５６によって、マスク９を所定位置に確実に固定することで、最適な蒸着を行うことができるようになる。

なお、本発明に係る保持具は、上記実施形態の構成に限定されるものではない。また、本発明に係る保持具は、上記した作用効果に限定されるものでもない。本発明に係る保持具は、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。

１…真空室、２…走行装置、３…キャンローラ、４…蒸着源、５…遮蔽装置、８…有機ＥＬ素子、９…マスク、１０…開口部、１１…駆動軸、２１…送り出しローラ、２２…巻き取りローラ、２３…支持ローラ、５１…保持具、５２…切替機構、５３…保持部、５４…開口部、５５…取付部、５６…固定部材、５７…取付孔、５８…保持面、５９…取付部の孔、６０…固定部材の孔、６１…凹部の端部、６２…固定部材の一部、６３…凹部の縁部、６４…本体部、６５…第１回転体、６６…第２回転体、６７…第１リンク体、６８…第２リンク体、６９…第１支持部材、７０…第２支持部材、７１…カムフォロア、７２…カム、７３…開口部、７４…支持部、７５…連結部、７６…係合部、７７…係合軸部、７８…係合溝、８１…基材、８１ａ…導電層、８１…絶縁層、８２…下部電極層、８３…有機層、８３ａ…正孔注入層、８３ｂ…有機ＥＬ層、８３ｃ…電子注入層、８４…上部電極層、Ｘ…走行方向

Claims (3)

1. キャンローラに巻き付けられた基材に対して蒸着を行う際に使用されるマスクを保持するマスクの保持具であって、
   キャンローラの周面に対応してマスクを湾曲変形させて保持する保持部を備えることを特徴とするマスクの保持具。
2. 前記保持部は、キャンローラの半径とほぼ等しい曲率半径を有して湾曲する保持面を有する請求項１に記載のマスクの保持具。
3. 前記マスクを保持面に固定する固定部材を備える請求項２に記載のマスクの保持具。

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