JP2016054047A - 有機el素子の製造装置及び製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】基材と該基材が架け渡されるロールとの間の隙間に起因する基材の位置ずれを抑制可能な有機EL素子の製造装置等を提供する。【解決手段】帯状の基材に気化材料を蒸着するための蒸着源と、前記蒸着源によって前記基材に蒸着を行うべく、前記基材を螺旋状に巻回して送ることが可能な蒸着用ロール部とを備え、前記蒸着用ロール部は、円柱ロールと、複数対のテーパロールとを含み、前記円柱ロールから送られた前記基材が対をなすテーパロールに架け渡されて再び前記円柱ロールに送られ、且つ、順次その繰り返しにより、前記基材が螺旋状に巻回されて送られるようになっている、有機EL素子の製造装置。【選択図】 図2
Description
本発明は、有機EL(エレクトロルミネッセンス)素子の製造装置及び製造方法に関する。
近年、低消費電力を実現可能な次世代の発光素子として、有機EL素子が注目されている。有機EL素子は、陽極層と、陰極層と、陽極層と陰極層の間に設けられた発光層を含む有機層と、を有する。有機層は、例えば、陽極側に設けられる正孔輸送層と、陰極側に設けられる電子輸送層と、正孔輸送層と電子輸送層の間に設けられる発光層と、を有する。正孔輸送層は、発光層に正孔を注入する機能を有する。電子輸送層は、発光層に電子を注入する機能を有する。
この種の有機EL素子を製造する方法として、ロールプロセスによる真空蒸着法が知られている。この方法により有機EL素子を製造する製造装置としては、帯状の基材を所定の方向に沿って走行させる走行装置と、基材に接するキャンロールと、基材に向けて気化材料を吐出する複数の蒸着源と、キャンロールに接する基材を所定の位置において蒸着源から遮蔽する遮蔽装置(マスク装置)とを備えたものが提案されている(特許文献1参照)。
製造装置における走行装置は、帯状の基材を送る送り出しロールと、所定の蒸着が行われた基材を巻き取る巻き取りロールを有する。送り出しロールから送り出される基材には、真空室内の蒸着源による蒸着によって、陽極層、有機層、陰極層が形成される。
上記のような真空蒸着法によって有機層を形成する場合に、求められる層の厚さを実現するためには、蒸着時間をできるだけ長く確保する必要がある。このために、一方のロールの回転軸を他方のロールの回転軸に対して所定の角度で傾斜するように配置し、基材を双方のロールに一定の張力で架け渡しながら螺旋状に巻回させて搬送できる一対のロールが使用される(特許文献2参照)。双方のロールは、円柱状に形成されている。
上記のような一対のロールを使用して蒸着を行う場合、基材が螺旋状に搬送される際、螺旋状であるがゆえに、基材と、その接触しているロールとの間に、基材の幅方向の一方側が浮き上がる隙間が生じる。この隙間は、基材の位置ずれにつながる。また、この隙間を解消しようとして基材に過度の張力を与えると、基材に捻じれが生じ、この捻じれが、基材の位置ずれにつながる。このような位置ずれが生じると、所望の蒸着ができなくなるおそれがある。
このような事情に鑑み、本発明は、基材の位置ずれを抑制しつつ蒸着を行うことが可能な有機EL素子の製造装置及び製造方法を提供することを課題とする。
本発明に係る有機EL素子の製造装置は、
帯状の基材に気化材料を蒸着するための蒸着源と、
前記蒸着源によって前記基材に蒸着を行うべく、前記基材を螺旋状に巻回して送ることが可能な蒸着用ロール部とを備え、
前記蒸着用ロール部は、円柱状に形成された円柱ロールと、先端部に向かって径小となるテーパ状に形成された複数対のテーパロールとを含み、
前記円柱ロールから送られた前記基材が、対をなすテーパロールに架け渡されて再び前記円柱ロールに送られ、且つ、順次その繰り返しにより、前記基材が螺旋状に巻回されて送られるようになっており、
前記対をなすテーパロールは、前記先端部が互いに反対方向を向いており、
前記円柱ロールに対する前記基材の接触部分と非接触部分との境界線と、前記テーパロールに対する前記基材の接触部分と非接触部分との境界線であって前記円柱ロールに近い側の境界線とが同一平面上に位置するように、且つ、
前記対をなすテーパロールに対する前記基材の接触部分と非接触部分との境界線であって互いに近い側の境界線同士が同一平面上に位置するように配されて構成されている。
帯状の基材に気化材料を蒸着するための蒸着源と、
前記蒸着源によって前記基材に蒸着を行うべく、前記基材を螺旋状に巻回して送ることが可能な蒸着用ロール部とを備え、
前記蒸着用ロール部は、円柱状に形成された円柱ロールと、先端部に向かって径小となるテーパ状に形成された複数対のテーパロールとを含み、
前記円柱ロールから送られた前記基材が、対をなすテーパロールに架け渡されて再び前記円柱ロールに送られ、且つ、順次その繰り返しにより、前記基材が螺旋状に巻回されて送られるようになっており、
前記対をなすテーパロールは、前記先端部が互いに反対方向を向いており、
前記円柱ロールに対する前記基材の接触部分と非接触部分との境界線と、前記テーパロールに対する前記基材の接触部分と非接触部分との境界線であって前記円柱ロールに近い側の境界線とが同一平面上に位置するように、且つ、
前記対をなすテーパロールに対する前記基材の接触部分と非接触部分との境界線であって互いに近い側の境界線同士が同一平面上に位置するように配されて構成されている。
かかる構成によれば、蒸着用ロール部に備えられた円柱ロールにおいても、テーパロールにおいても、過度の張力を基材に与えなくても、基材の幅方向の一方側が浮き上がって隙間が生じることを抑制しつつ、これらロールに基材を架けることができる。これにより、基材の位置ずれを抑制することが可能となる。
また、このように基材の位置ずれを抑制しつつ、基材を螺旋状に送りながら、該基材に蒸着を行うことが可能になる。
従って、基材の位置ずれを抑制しつつ蒸着を行うことが可能となる。
また、このように基材の位置ずれを抑制しつつ、基材を螺旋状に送りながら、該基材に蒸着を行うことが可能になる。
従って、基材の位置ずれを抑制しつつ蒸着を行うことが可能となる。
また、上記構成の有機EL素子の製造装置においては、
前記複数対のテーパロールは、前記円柱ロールに沿って2列に整列されており、
各列の前記テーパロールは、前記先端部が同方向を向くように配され、
一方の列の前記テーパロールと他方の列の前記テーパロールとは、互いに前記先端部が反対方向を向くように配されていることが好ましい。
前記複数対のテーパロールは、前記円柱ロールに沿って2列に整列されており、
各列の前記テーパロールは、前記先端部が同方向を向くように配され、
一方の列の前記テーパロールと他方の列の前記テーパロールとは、互いに前記先端部が反対方向を向くように配されていることが好ましい。
かかる構成によれば、基材の位置ずれをより確実且つ簡易に抑制しつつ、蒸着を行うことが可能となる。
本発明に係る有機EL素子の製造方法は、
上記有機EL素子の製造装置を用い、前記蒸着用ロール部に前記基材を螺旋状に巻回して送りながら、前記蒸着源によって前記基材に気化材料を蒸着する蒸着工程を備える。
上記有機EL素子の製造装置を用い、前記蒸着用ロール部に前記基材を螺旋状に巻回して送りながら、前記蒸着源によって前記基材に気化材料を蒸着する蒸着工程を備える。
かかる構成によれば、基材の位置ずれを抑制しつつ蒸着を行うことが可能となる。
本発明によれば、基材の位置ずれを抑制しつつ蒸着を行うことが可能な有機EL素子の製造装置及び製造方法が提供される。
以下、本発明に係る有機EL素子の製造装置(以下、単に「製造装置」ともいう)における一実施形態について、図1〜図7を参酌して説明する。
本実施形態に係る製造装置1は、図1に示すように、内部が真空である複数(図例では3つ)の真空室3と、帯状の基材32が真空室3の内部を通過するように、基材32を水平方向(以下、「走行方向」ともいう)Xに沿って走行させる走行装置2と、気化材料を基材32に蒸着すべく、基材32に向けて気化材料を吐出する複数の蒸着源13と、蒸着源13とともに蒸着を行うべく、基材32が螺旋状に巻回される蒸着用ロール部4とを備える。
真空室3は、走行方向Xに沿って連設されている。また、各真空室3の内部が真空となるように、各真空室3には、真空ポンプ等の真空発生装置(図示せず)が接続されている。
走行装置2は、基材32を送る送り出しロール5と、基材32を巻き取る巻き取りロール6とを備える。送り出しロール5は、真空室3の外部で且つ上流側に配置されている。巻き取りロール6は、真空室3の外部で且つ下流側に配置されている。
各蒸着源13は、真空室3の内部に配置されていると共に、基材32と上下方向(鉛直方向)で対面するように配置されている。具体的には、各蒸着源13は、蒸着用ロール部4の下方に配置されている。また、各蒸着源13は、加熱により気化させた気化材料を、基材32に向けて吐出している。具体的には、各蒸着源13は、気化材料を、上方向に向けて吐出している。
蒸着用ロール部4は各真空室3内に配置されている。図2〜図5に示すように、蒸着用ロール部4は、円柱状に形成された1つの円柱ロール(第1のロール)9と、先端部に向かってテーパ状に形成された複数対のテーパロール(第2のロール)11とを備える。
円柱ロール9は、円柱状に形成されている。より具体的には、円柱ロール9は、一端部9aから他端部9bまで円形断面の直径が一定に形成されている。円柱ロール9は、真空室3内に所定位置に回転可能に支持されている。円柱ロール9の回転軸R1は水平方向に沿うように設定されている。
テーパロール11は、一端部11aから他端部(先端部)11bに向かって径小となるテーパ状に形成されている、すなわち、先端部11bに向かって円形断面のサイズが小さくなるように形成されている(図6参照)。より具体的には、テーパロール11は、先端部11bに向かって、円形断面の直径が小さくなるように形成されている。テーパロール11は、複数対形成されている。各テーパロール11の一端部(先端部とは反対の側の端部)11aの直径は、円柱ロール9の直径よりも小さく設定されている。各テーパロール11は、同じ形状、同じ大きさに設定されている。
テーパロール11が、円柱ロール9よりも小さいことにより、製造装置1を小型化することができる。
対をなすテーパロール11は、先端部11bが互いに反対方向を向いているように配されている。各テーパロール11は、真空室3内に上記の所定位置に回転可能に支持されている。
テーパロール11が、円柱ロール9よりも小さいことにより、製造装置1を小型化することができる。
対をなすテーパロール11は、先端部11bが互いに反対方向を向いているように配されている。各テーパロール11は、真空室3内に上記の所定位置に回転可能に支持されている。
蒸着用ロール部4は、円柱ロール9から送られた基材32が対をなすテーパロール11の双方に架け渡されて再び円柱ロール9に送られるように構成されている。さらに、蒸着ロール部4は、円柱ロール9に送られた基材32が、再び次の対をなすテーパロール11の双方に架け渡されて、再び円柱ロール9に送られるように構成されている。このように、基材32が円柱ロール9と対をなすテーパロール11とに順次架け渡されて、螺旋状に巻回されて送られるようになっている。円柱ロール9においては、一端部9aから他端部9bに向かって基材32が複数列に巻き付けられている。円柱ロール9及びテーパロール11には、基材32の一方の面(同じ側の面)が接触するようになっている。
図2〜図5に示すように、対をなすテーパロール11は、円柱ロール9に対する基材32の接触部分と非接触部分との境界線W1と、テーパロール11に対する基材32の接触部分と非接触部分との境界線であって、円柱ロール9に近い側の境界線W2とが同一平面上に位置するように配されている。具体的には、本実施形態では、対をなすテーパロール11は、上記境界線W1と境界線W2(互いに対向する境界線W1と境界線W2)とが平行であるように配されている。また、互いに対向する境界線W1と境界線W2は、いずれも第1の回転軸R1と平行に配されている。また、隣接する境界線W1同士、及び、隣接する境界線W2同士は、同一平面上に配されている。
対をなすテーパロール11が、互いに対向する境界線W1と境界線W2とが同一平面上に位置するように配されていることによって、円柱ロール9と接触している領域では、過度の張力を与えなくても、基材32は、円柱ロール9に隙間なく接触する。また、円柱ロール9とこれに隣接するテーパロール11との間の領域では、基材32は、捻じれることなく同一平面上に配される。また、対をなすテーパロール11が、互いに対向する境界線W1と境界線W2とが平行であるように配されていることによって、円柱ロール9と接触している領域では、より確実に基材32が円柱ロール9に隙間なく接触し、円柱ロール9とこれに隣接するテーパロール11との間の領域では、より確実に基材32が捻じれることなく同一平面上に配される。
図2〜図5に示すように、対をなすテーパロール11は、該対をなすテーパロール11に対する基材32の接触部分と非接触部分との境界線であって互いに近い側の境界線W3同士が同一平面上に位置するように配されている。具体的には、本実施形態では、対をなすテーパロール11は、上記境界線W3同士(互いに対向する境界線W3同士)が平行であるように配されている。また、各境界線W3が、いずれも同一平面上に配されている。
対をなすテーパロール11が、互いに対向する境界線W3同士が同一平面上に位置するように配されていることによって、各テーパロール11と接触している領域では、過度の張力を与えなくても、基材32は、テーパロール11に隙間なく接触する。また、対をなすテーパロール11間の領域では、基材32は、捻じれることなく同一平面上に配される。また、対をなすテーパロール11が、互いに対向する境界線W3同士が平行であるように配されていることによって、各テーパロール11と接触している領域では、より確実に基材32がテーパロール11に隙間なく接触し、テーパロール11間の領域では、より確実に基材32が捻じれることなく同一平面上に配される。
また、本実施形態では、複数対のテーパロール11は、円柱ロール9に沿って2列に整列されている。各列のテーパロール11は、先端部11bが同方向を向くように配されている。一方の列のテーパロール11と他方の列のテーパロール11とは、互いに先端部11bが反対方向を向いているように配されている。
このように、互いに対向する境界線W1と境界線W2とが同一平面上に位置し、且つ、互いに対向する境界線W3同士が同一平面上に位置するように、複数対のテーパロール11の回転軸R2が、円柱ロール9の回転軸R1に対して傾斜して配されている。具体的には、互いに対向する境界線W1と境界線W2とが平行となり、且つ、互いに対向する境界線W3同士が平行となるように、複数対のテーパロール11の回転軸R2が、円柱ロール9の回転軸R1に対して傾斜して配されている。
本実施形態の有機EL素子の製造装置1によって製造される有機EL素子31は、図7に示すように、基材32の一方側の面に蒸着源13からの気化材料が蒸着されて形成される陽極層33と、陽極層33の上から気化材料が蒸着されて形成される有機層34と、有機層34の上から気化材料が蒸着されて形成される陰極層35とを備える。
陽極層33は、例えば、インジウム−亜鉛酸化物(IZO)、インジウム−錫酸化物(ITO)等の透明導電材や、金、銀、アルミニウム等の金属で形成されている。
有機層34は、陽極層33の上に配置される正孔輸送層38と、正孔輸送層38の上に配置される有機EL層39と、有機EL層39の上に配置される電子輸送層40とを備える。そして、有機層34は、陽極層33と陰極層35とが接触するのを防止するように、陽極層33及び陰極層35間に配置されている。
正孔輸送層38は、例えば、銅フタロシアニン(CuPc)、4,4'−ビス[N−4−(N,N−ジ−m−トリルアミノ)フェニル]−N−フェニルアミノ]ビフェニル(DNTPD)等で形成されている。また、有機EL層39は、例えば、トリス(8−ハイドロキシキノリン)アルミニウム(Alq3)、イリジウム錯体(Ir(ppy)3)をドープした4,4'−N,N'−ジカルバゾニルビフェニル(CBP)等で形成されている。さらに、電子輸送層40は、例えば、フッ化リチウム(LiF)、フッ化セシウム(CsF)、酸化リチウム(Li2O)等で形成されている。
陰極層35は、例えば、アルミニウム、銀、マグネシウム銀の合金、アルカリ金属、アルカリ土類金属を含む合金等で形成されている。
基材32は、導電性を有する導電層36と、絶縁性を有する絶縁層37とを備える。そして、導電層36は、金属基板で構成されており、例えば、ステンレス、銅、ニッケル等の金属で形成されている。また、絶縁層37は、導電層36の一方側の面全体を覆うように配置され、例えば、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等の光硬化性樹脂や、薄ガラス等で形成されている。
次に、本実施形態に係る有機EL素子31の製造方法について説明する。
有機EL素子31を製造するには、走行装置2を駆動することにより、基材32を送り出しロール5から巻き取りロール6に向けて走行させる。基材32は、図1に示すように、走行方向Xにおける上流側の真空室3の内部、中央の真空室3の内部、下流側の真空室3の内部の順に搬送される。基材32は、各真空室3内に配置される蒸着用ロール部4に対して螺旋状に巻回されている。すなわち、基材32は、蒸着用ロール部4の円柱ロール9及び対をなすテーパロール11に順次架け渡されている。
上流側の真空室3では、内部に配置されている蒸着源13及び蒸着用ロール部4によって、基材32に陽極層33が形成される。その後、基材32は中央の真空室3に移る。基材32には、この真空室3内の蒸着源13及び蒸着用ロール部4によって、有機層34が陽極層33に重なるように形成される。次に、基材32は、下流側の真空室3に移る。基材32には、この真空室3内の蒸着源13及び蒸着用ロール部4によって、陰極層35が有機層34に重なるように形成される。各真空室3では、具体的には、蒸着用ロール部4によって送られて、円柱ロール9と蒸着源13との間を通過する際に、蒸着源13によって気化材料が基材32に蒸着される。
このように、蒸着源13及び蒸着用ロール部4による蒸着工程を行うことにより、基材32に有機EL素子31が形成される。
以上の通り、本実施形態に係る有機EL素子31の製造装置1及び製造方法は、対をなすテーパロール11が、互いに対向する境界線W1と境界線W2とが同一平面上に位置するように、且つ、互いに対向する境界線W3同士が同一平面上に位置するように配されている。
これにより、上記蒸着用ロール部4に備えられた円柱ロール9においても、テーパロール11においても、過度の張力を基材32に与えなくても、基材32の幅方向の一方側が浮き上がって隙間が生じることを抑制しつつ、これらロール(円柱ロール9、テーパロール11)に基材32を架けることができる。これにより、基材32の位置ずれを抑制することが可能となる。
また、このように基材32の位置ずれを抑制しつつ、基材32を螺旋状に送りながら、該基材32に蒸着を行うことが可能になる。
従って、基材32の位置ずれを抑制しつつ蒸着を行うことが可能となる。
これにより、上記蒸着用ロール部4に備えられた円柱ロール9においても、テーパロール11においても、過度の張力を基材32に与えなくても、基材32の幅方向の一方側が浮き上がって隙間が生じることを抑制しつつ、これらロール(円柱ロール9、テーパロール11)に基材32を架けることができる。これにより、基材32の位置ずれを抑制することが可能となる。
また、このように基材32の位置ずれを抑制しつつ、基材32を螺旋状に送りながら、該基材32に蒸着を行うことが可能になる。
従って、基材32の位置ずれを抑制しつつ蒸着を行うことが可能となる。
また、本実施形態では、対をなすテーパロール11が、互いに対向する境界線W1と境界線W2とが平行であり、且つ、互いに対向する境界線W3同士が平行であるように配されている。
これにより、円柱ロール9においても、テーパロール11においても、過度の張力を基材32に与えなくても、基材32の幅方向の一方側が浮き上がって隙間が生じることを、より確実に抑制しつつ、これらロール(円柱ロール9、テーパロール11)に基材32を架けることができる。これにより、基材32の位置ずれをより確実に抑制することが可能となる。
また、このように基材32の位置ずれを抑制しつつ、基材32を螺旋状に送りながら、該基材32に蒸着を行うことが可能になる。
従って、基材32の位置ずれをより確実に抑制しつつ、蒸着を行うことが可能となる。
これにより、円柱ロール9においても、テーパロール11においても、過度の張力を基材32に与えなくても、基材32の幅方向の一方側が浮き上がって隙間が生じることを、より確実に抑制しつつ、これらロール(円柱ロール9、テーパロール11)に基材32を架けることができる。これにより、基材32の位置ずれをより確実に抑制することが可能となる。
また、このように基材32の位置ずれを抑制しつつ、基材32を螺旋状に送りながら、該基材32に蒸着を行うことが可能になる。
従って、基材32の位置ずれをより確実に抑制しつつ、蒸着を行うことが可能となる。
また、本実施形態では、複数対のテーパロール11は、円柱ロール9に沿って2列に整列されており、各列のテーパロール11は、先端部11bが同方向を向くように配され、一方の列のテーパロール11と他方の列のテーパロール11とは、互いに先端部11bが反対方向を向くように配されている。基材32の位置ずれをより確実且つ簡易に抑制しつつ、蒸着を行うことが可能となる。
なお、本発明に係る有機EL素子31の製造装置1及び製造方法は、上記した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。
例えば、上記の実施形態において、蒸着用ロール部4が、2列に整列された複数対のテーパロール11を備える態様を例示したが、複数対のテーパロール11の態様は、これに限定されない。
また、例えば、上記実施形態では、互いに対向する境界線W1とW2とが平行であり、互いに対向する境界線W3同士が平行である態様を示す。しかし、その他、互いに対向する境界線W1と境界線W2とが同一平面上において互いに傾斜している態様や、互いに対向する境界線W3同士が同一平面上において互いに傾斜している態様を採用してもよい。
また、例えば、上記実施形態では、互いに対向する境界線W1とW2とが平行であり、互いに対向する境界線W3同士が平行である態様を示す。しかし、その他、互いに対向する境界線W1と境界線W2とが同一平面上において互いに傾斜している態様や、互いに対向する境界線W3同士が同一平面上において互いに傾斜している態様を採用してもよい。
1:製造装置、2:走行装置、3:真空室、4:蒸着用ロール部、5:送り出しロール、6:巻き取りロール、9:円柱ロール、11:テーパロール、13:蒸着源、31:有機EL素子、32:基材、33:陽極層、34:有機層、35:陰極層、36:導電層、37:絶縁層、38:正孔輸送層、39:有機EL層、40:電子輸送層
Claims (3)
- 帯状の基材に気化材料を蒸着するための蒸着源と、
前記蒸着源によって前記基材に蒸着を行うべく、前記基材を螺旋状に巻回して送ることが可能な蒸着用ロール部とを備え、
前記蒸着用ロール部は、円柱状に形成された円柱ロールと、先端部に向かって径小となるテーパ状に形成された複数対のテーパロールとを含み、
前記円柱ロールから送られた前記基材が、対をなすテーパロールに架け渡されて再び前記円柱ロールに送られ、且つ、順次その繰り返しにより、前記基材が螺旋状に巻回されて送られるようになっており、
前記対をなすテーパロールは、前記先端部が互いに反対方向を向いており、
前記円柱ロールに対する前記基材の接触部分と非接触部分との境界線と、前記テーパロールに対する前記基材の接触部分と非接触部分との境界線であって前記円柱ロールに近い側の境界線とが同一平面上に位置するように、且つ、
前記対をなすテーパロールに対する前記基材の接触部分と非接触部分との境界線であって互いに近い側の境界線同士が同一平面上に位置するように配されて構成されている、有機EL素子の製造装置。 - 前記複数対のテーパロールは、前記円柱ロールに沿って2列に整列されており、
各列の前記テーパロールは、前記先端部が同方向を向くように配され、
一方の列の前記テーパロールと他方の列の前記テーパロールとは、互いに前記先端部が反対方向を向くように配されている、請求項1に記載の有機EL素子の製造装置。 - 請求項1または2に記載の有機EL素子の製造装置を用い、前記蒸着用ロール部に前記基材を螺旋状に巻回して送りながら、前記蒸着源によって前記基材に気化材料を蒸着する蒸着工程を備えた、有機EL素子の製造方法。
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