JP2014123592A - Process of manufacturing printed wiring board and printed wiring board - Google Patents

Process of manufacturing printed wiring board and printed wiring board Download PDF

Info

Publication number
JP2014123592A
JP2014123592A JP2012277716A JP2012277716A JP2014123592A JP 2014123592 A JP2014123592 A JP 2014123592A JP 2012277716 A JP2012277716 A JP 2012277716A JP 2012277716 A JP2012277716 A JP 2012277716A JP 2014123592 A JP2014123592 A JP 2014123592A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
opening
conductor pattern
wiring board
printed wiring
pad portion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2012277716A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toru Furuta
徹 古田
Fumitaka Takagi
史貴 高木
Mariko Kimura
麻里子 木邨
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ibiden Co Ltd
Original Assignee
Ibiden Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ibiden Co Ltd filed Critical Ibiden Co Ltd
Priority to JP2012277716A priority Critical patent/JP2014123592A/en
Publication of JP2014123592A publication Critical patent/JP2014123592A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Structures For Mounting Electric Components On Printed Circuit Boards (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a printed wiring board having high connection reliability.SOLUTION: Neighboring opening 71fc for a pad and opening 71fo for a pad are displaced in an axial direction of a wiring part and are disposed so that an opening adjacent to an opening 1 does not exist in a direction perpendicular to the axial direction. Being disposed apart in terms of distance, a short circuit is hardly generated between the neighboring opening 71fc for a pad and opening 71fo for a pad, and connection reliability with an IC chip may be enhanced.

Description

本発明は、上面に半導体素子が実装されると共に、プリント配線板が搭載されるプリント配線板に関する。 The present invention relates to a printed wiring board on which a semiconductor element is mounted on an upper surface and a printed wiring board is mounted.

携帯通信端末に代表される小型の電子機器では、電子回路を構成する部品の実装スペースが限られる。このため、電子機器の処理回路や、制御回路等は、複数の回路パターンが積層形成される配線板と、この配線板に実装される電子部品によって構成されるのが一般的である。
この種の電子機器に対しては、高機能化、多機能化への要求がますます高まっており、電子機器に用いられる配線板を多層化する技術や、配線板の回路パターンを微細化する技術が種々提案されている。
In a small electronic device typified by a portable communication terminal, a mounting space for components constituting an electronic circuit is limited. For this reason, a processing circuit, a control circuit, and the like of an electronic device are generally configured by a wiring board on which a plurality of circuit patterns are formed and electronic components mounted on the wiring board.
For this type of electronic equipment, there is an ever-increasing demand for higher functionality and multi-functionality. Various techniques have been proposed.

特許文献1では、ソルダーレジスト層の開口から露出する導体の中央部に、幅の広いパッドが形成された配線板が開示されている。この配線板では、電子部品が実装される際に、電子部品のバンプを、導体に形成されたパッド上に容易に位置決めすることができる。   Patent Document 1 discloses a wiring board in which a wide pad is formed at the center of a conductor exposed from an opening of a solder resist layer. In this wiring board, when the electronic component is mounted, the bump of the electronic component can be easily positioned on the pad formed on the conductor.

特開2000−77471号JP 2000-77471 A

特許文献1では、配線板の導体パターンがファインであるため、アンダーフィル材によるコーティング処理の際に、液状のアンダーフィル材が電子部品と配線板との間に十分に行き渡らず、電子部品と配線板との間に充填されたアンダーフィル材にボイドが発生し、このボイド近傍では、例えば、リフロー時に溶融した錫(Sn)がボイド内で繋がり、導体パターン同士が短絡してしまうことが考えられる。   In Patent Document 1, since the conductor pattern of the wiring board is fine, the liquid underfill material does not spread sufficiently between the electronic component and the wiring board during the coating process with the underfill material, and the electronic component and the wiring A void is generated in the underfill material filled between the plates, and in the vicinity of the void, for example, tin (Sn) melted during reflow is connected in the void, and the conductor patterns may be short-circuited. .

本発明は、上述した課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、ICチップとの接続信頼性の高いプリント配線板、及び、その製造方法を提供することにある。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a printed wiring board having high connection reliability with an IC chip and a manufacturing method thereof.

本願発明のプリント配線板は、層間樹脂絶縁層と、該層間樹脂絶縁層上において、隣接して配置される第1導体パターンおよび第2導体パターンと、前記層間樹脂絶縁層上、前記第1導体パターン上および前記第2導体パターン上に設けられるソルダーレジスト層と、
前記ソルダーレジスト層に設けられ、前記第1導体パターンの一部を露出させる第1開口と、前記ソルダーレジスト層に設けられ、前記第2導体パターンの一部を露出させる第2開口と、を備えるプリント配線板であって、
前記第1導体パターンは、前記第1開口から露出される第1パッド部と、第1パッド部から延びる第1配線部とを備え、
前記第2導体パターンは、前記第2開口から露出される第2パッド部と、第2パッド部から延びる第2配線部とを備え、
前記第1パッド部の幅と第1配線部の幅は略同一であるとともに、
前記第2パッド部の幅と第2配線部の幅は略同一であり、
第1配線部の延びる方向に対して垂直方向に前記第1開口を投影した領域に前記第2開口が存在しないことを特徴とする。
The printed wiring board of the present invention includes an interlayer resin insulation layer, a first conductor pattern and a second conductor pattern that are arranged adjacent to each other on the interlayer resin insulation layer, the interlayer conductor insulation layer, and the first conductor. A solder resist layer provided on the pattern and on the second conductor pattern;
A first opening provided in the solder resist layer and exposing a part of the first conductor pattern; and a second opening provided in the solder resist layer and exposing a part of the second conductor pattern. A printed wiring board,
The first conductor pattern includes a first pad portion exposed from the first opening, and a first wiring portion extending from the first pad portion,
The second conductor pattern includes a second pad portion exposed from the second opening, and a second wiring portion extending from the second pad portion,
The width of the first pad portion and the width of the first wiring portion are substantially the same,
The width of the second pad part and the width of the second wiring part are substantially the same,
The second opening is not present in a region where the first opening is projected in a direction perpendicular to the direction in which the first wiring portion extends.

本願発明のプリント配線板の製造方法は:層間樹脂絶縁層を設けることと、該層間樹脂絶縁層上において、隣接して配置する第1導体パターンおよび第2導体パターンとを設けることと、前記層間樹脂絶縁層上、前記第1導体パターン上および前記第2導体パターン上にソルダーレジスト層設けることと、前記ソルダーレジスト層の内部に前記第1導体パターンの一部を露出させる第1開口を設けることと、前記ソルダーレジスト層の内部に前記第2導体パターンの一部を露出させる第2開口を設けることと、を備えるプリント配線板の製造方法であって、
前記第1導体パターンは、前記第1開口から露出される第1パッド部と、第1パッド部から延びる第1配線部とを備え、
前記第2導体パターンは、前記第2開口から露出される第2パッド部と、第2パッド部から延びる第2配線部とを備え、
前記第1パッド部の幅と第1配線部の幅は略同一であるとともに、
前記第2パッド部の幅と第2配線部の幅は略同一であり、
第1配線部の延びる方向に対して垂直方向に前記第1開口を投影した領域に前記第2開口を形成しないことを特徴とする。
The method for producing a printed wiring board of the present invention includes: providing an interlayer resin insulation layer; providing a first conductor pattern and a second conductor pattern adjacent to each other on the interlayer resin insulation layer; A solder resist layer is provided on the resin insulating layer, the first conductor pattern, and the second conductor pattern, and a first opening that exposes a part of the first conductor pattern is provided inside the solder resist layer. And providing a second opening that exposes a part of the second conductor pattern inside the solder resist layer, and a method of manufacturing a printed wiring board comprising:
The first conductor pattern includes a first pad portion exposed from the first opening, and a first wiring portion extending from the first pad portion,
The second conductor pattern includes a second pad portion exposed from the second opening, and a second wiring portion extending from the second pad portion,
The width of the first pad portion and the width of the first wiring portion are substantially the same,
The width of the second pad part and the width of the second wiring part are substantially the same,
The second opening is not formed in a region where the first opening is projected in a direction perpendicular to a direction in which the first wiring portion extends.

本願発明のプリント配線板においては、パッドの開口は、1の開口に隣接する開口が、導体パターンの延びの方向に対する垂線方向上に存在しないように設けられ、個々のパッドの開口は連通しない(開口が繋がらない)。そのため、アンダーフィル材を充填するとき、ボイドが発生しても、隣接するパッド間で短絡が生じ難く、ICチップとの接続信頼性を高めることができる。   In the printed wiring board of the present invention, the opening of the pad is provided so that the opening adjacent to one opening does not exist in the direction perpendicular to the extending direction of the conductor pattern, and the opening of each pad does not communicate ( Opening is not connected). Therefore, when filling the underfill material, even if a void is generated, a short circuit hardly occurs between adjacent pads, and the connection reliability with the IC chip can be improved.

本発明の第1実施形態に係るプリント配線板の製造方法を示す工程図。Process drawing which shows the manufacturing method of the printed wiring board which concerns on 1st Embodiment of this invention. 第1実施形態のプリント配線板の製造方法を示す工程図。Process drawing which shows the manufacturing method of the printed wiring board of 1st Embodiment. 第1実施形態のプリント配線板の製造方法を示す工程図。Process drawing which shows the manufacturing method of the printed wiring board of 1st Embodiment. 第1実施形態のプリント配線板の製造方法を示す工程図。Process drawing which shows the manufacturing method of the printed wiring board of 1st Embodiment. 第1実施形態のプリント配線板の断面図。Sectional drawing of the printed wiring board of 1st Embodiment. 第1実施形態のプリント配線板の断面図。Sectional drawing of the printed wiring board of 1st Embodiment. 第1実施形態に係るプリント配線板の製造工程中の平面図。The top view in the manufacturing process of the printed wiring board which concerns on 1st Embodiment. 第1実施形態に係るプリント配線板の製造工程中の平面図。The top view in the manufacturing process of the printed wiring board which concerns on 1st Embodiment. ICチップの底面図。The bottom view of an IC chip. 第1実施形態に係るプリント配線板の一部拡大断面図。The partial expanded sectional view of the printed wiring board concerning a 1st embodiment. 第1実施形態に係るプリント配線板の一部拡大断面図。The partial expanded sectional view of the printed wiring board concerning a 1st embodiment. 第1実施形態に係るプリント配線板の一部拡大断面図。The partial expanded sectional view of the printed wiring board concerning a 1st embodiment. 第1実施形態に係るプリント配線板の一部拡大断面図。The partial expanded sectional view of the printed wiring board concerning a 1st embodiment. 第1実施形態に係るプリント配線板のパッドの平面図。The top view of the pad of the printed wiring board which concerns on 1st Embodiment. 第2実施形態に係るプリント配線板の製造方法を示す工程図。Process drawing which shows the manufacturing method of the printed wiring board which concerns on 2nd Embodiment. 第2実施形態に係るプリント配線板の断面図。Sectional drawing of the printed wiring board which concerns on 2nd Embodiment. 第2実施形態に係るプリント配線板の平面図。The top view of the printed wiring board which concerns on 2nd Embodiment. 第3実施形態に係るプリント配線板のパッドの平面図。The top view of the pad of the printed wiring board which concerns on 3rd Embodiment. 第3実施形態の第2改変例に係るプリント配線板のパッドの平面図。The top view of the pad of the printed wiring board which concerns on the 2nd modification of 3rd Embodiment.

[第1実施形態]
図5に示されるように第1実施形態のプリント配線板10は、コア基板30を有する。そのコア基板は第1面Fとその第1面と反対側の第2面Sとを有する絶縁基板20zと絶縁基板の第1面F上に形成されている第1導体層34Fと絶縁基板の第2面上に形成されている第2導体層34Sを有する。コア基板はさらに第1導体層34Fと第2導体層34Sとを接続しているスルーホール導体36を有する。スルーホール導体36は絶縁基板を貫通している貫通孔31に形成されている。貫通孔31の形状やスルーホール導体36の形状は、コア基板の第1面Fと第2面Sのそれぞれの表面に開口を有するそれぞれの開口部が中心に向かってテーパし、中心部で接続する砂時計形状である。図5に示されているコア基板は例えば、US7786390に開示されている方法で製造される。コア基板の導体層は複数の導体回路やスルーホール導体36の周りに形成されているスルーホールランドを含む。プリント配線板及びコア基板の第1面と絶縁基板の第1面は同じ面であり、プリント配線板及びコア基板の第2面と絶縁基板の第2面は同じ面である。
[First embodiment]
As shown in FIG. 5, the printed wiring board 10 of the first embodiment has a core substrate 30. The core substrate includes an insulating substrate 20z having a first surface F and a second surface S opposite to the first surface, a first conductor layer 34F formed on the first surface F of the insulating substrate, and the insulating substrate. It has the 2nd conductor layer 34S formed on the 2nd surface. The core substrate further includes a through-hole conductor 36 that connects the first conductor layer 34F and the second conductor layer 34S. The through-hole conductor 36 is formed in the through hole 31 that penetrates the insulating substrate. The shape of the through-hole 31 and the shape of the through-hole conductor 36 are such that each opening having an opening on each surface of the first surface F and the second surface S of the core substrate is tapered toward the center and connected at the center. It is an hourglass shape. The core substrate shown in FIG. 5 is manufactured by a method disclosed in US77786390, for example. The conductor layer of the core substrate includes a plurality of conductor circuits and through-hole lands formed around the through-hole conductors 36. The first surface of the printed wiring board and core substrate and the first surface of the insulating substrate are the same surface, and the second surface of the printed wiring board and core substrate and the second surface of the insulating substrate are the same surface.

コア基板30の第1面Fと第1導体層34F上に層間樹脂絶縁層50Fが形成されている。この層間樹脂絶縁層50F上に導体パターン58Fおよび第1パッド部59cが形成されている。導体パターン58Fおよび第1パッド部59cと第1導体層34Fやスルーホール導体36は、層間樹脂絶縁層50Fを貫通するビア導体60Fで接続されている。層間樹脂絶縁層50F、導体パターン58F、第1パッド部59cとビア導体60Fで第1面側のビルドアップ層55Fが形成されている。   An interlayer resin insulation layer 50F is formed on the first surface F of the core substrate 30 and the first conductor layer 34F. Conductive pattern 58F and first pad portion 59c are formed on interlayer resin insulation layer 50F. The conductor pattern 58F and the first pad portion 59c are connected to the first conductor layer 34F and the through-hole conductor 36 by a via conductor 60F that penetrates the interlayer resin insulating layer 50F. A build-up layer 55F on the first surface side is formed by the interlayer resin insulating layer 50F, the conductor pattern 58F, the first pad portion 59c and the via conductor 60F.

コア基板30の第2面Sと第2導体層34S上に層間樹脂絶縁層50Sが形成されている。この層間樹脂絶縁層50S上に導体パターン58Sが形成されている。導体パターン58Sと第2導体層34Sやスルーホール導体36は、層間樹脂絶縁層50Sを貫通するビア導体60Sで接続されている。層間樹脂絶縁層50Sと導体パターン58Sとビア導体60Sで第2面側のビルドアップ層55Sが形成されている。   An interlayer resin insulation layer 50S is formed on the second surface S of the core substrate 30 and the second conductor layer 34S. Conductive pattern 58S is formed on interlayer resin insulation layer 50S. The conductor pattern 58S and the second conductor layer 34S and the through-hole conductor 36 are connected by a via conductor 60S that penetrates the interlayer resin insulating layer 50S. The interlayer resin insulation layer 50S, the conductor pattern 58S, and the via conductor 60S form a buildup layer 55S on the second surface side.

第1面側のビルドアップ層上にソルダーレジスト層70Fが形成され、第2面側のビルドアップ層上にソルダーレジスト層70Sが形成されている。第1面側のソルダーレジスト層70Fは、導体パターン58Fとビア導体(ビアランド)60Fの上面を露出する半田バンプ用の開口71Fと、半導体素子90実装用の凹部70TMと、凹部70TMの底面70FMの一部を開口し第1パッド部59cを露出させる第1開口71fcを有する。第2面側のソルダーレジスト層70Sは、導体パターン58Sやビア導体(ビアランド)60Sの上面を露出するバンプ用開口71Sを有する。   A solder resist layer 70F is formed on the build-up layer on the first surface side, and a solder resist layer 70S is formed on the build-up layer on the second surface side. The solder resist layer 70F on the first surface side includes a solder bump opening 71F that exposes the upper surface of the conductor pattern 58F and the via conductor (via land) 60F, a recess 70TM for mounting the semiconductor element 90, and a bottom surface 70FM of the recess 70TM. A first opening 71fc is formed to open a part and expose the first pad portion 59c. The solder resist layer 70S on the second surface side has bump openings 71S exposing the upper surfaces of the conductor pattern 58S and the via conductor (via land) 60S.

図5に断面が示されるプリント配線板の平面が図8(B)に示されている。プリント配線板10は、第1面側の層間樹脂絶縁層50F上に設けられ半導体素子90を実装するための第1パッド部59cおよび第2パッド部59oと、該第1パッド部59cおよび該第2パッド部59oの表面と側面の一部とを露出する第1開口71fcおよび第2開口71foおよび半導体素子90をその内部に収容する凹部70TMを備えるソルダーレジスト層70Fとを有する。第1開口71fcおよび第2開口71foは、半導体素子90のパッド92と接続するための第1パッド部59cおよび第2パッド部59oを露出させる開口であるため、半導体素子90を収容するための凹部70TMの内部に存在する。該第1パッド部59cおよび該第2パッド部59oの露出された表面と側面には半導体素子90のパッド92と接合するための半田めっき層77が形成されている(図5)。半導体素子90は、凹部70TMの内部に収容されるので、半導体素子90を固定するアンダーフィル材96がプリント配線板10の表面から流出しない。   The plane of the printed wiring board whose cross section is shown in FIG. 5 is shown in FIG. The printed wiring board 10 is provided on the interlayer resin insulating layer 50F on the first surface side, and includes a first pad portion 59c and a second pad portion 59o for mounting the semiconductor element 90, the first pad portion 59c and the first pad portion 59c. The first opening 71 fc and the second opening 71 fo exposing the surface and part of the side surface of the two-pad portion 59 o and a solder resist layer 70 F having a recess 70 TM for accommodating the semiconductor element 90 therein. The first opening 71 fc and the second opening 71 fo are openings that expose the first pad portion 59 c and the second pad portion 59 o for connection to the pads 92 of the semiconductor element 90, and therefore are recessed portions for accommodating the semiconductor element 90. It exists inside 70TM. Solder plating layers 77 for bonding to the pads 92 of the semiconductor element 90 are formed on the exposed surface and side surfaces of the first pad portion 59c and the second pad portion 59o (FIG. 5). Since the semiconductor element 90 is accommodated in the recess 70TM, the underfill material 96 for fixing the semiconductor element 90 does not flow out from the surface of the printed wiring board 10.

層間樹脂絶縁層50F上に形成される導体パターン58Fには、隣接して配置される第1導体パターン58Ff1および第2導体パターンパターン58Ff2が含まれる。該第1導体パターン58Ff1と該第2導体パターン58Ff2は平行でかつ交互に配置され、プリント配線板の各辺に向かって垂直方向に配置されている(図7(A))。該第1導体パターン58Ff1と該第2導体パターン58Ff2は必ずしも平行でなくともよい。該層間樹脂絶縁層50F上、該第1導体パターン上および該第2導体パターン上には、ソルダーレジスト層70Fが設けられている。前記ソルダーレジスト層70Fには、該第1導体パターン58Ff1の一部を露出させる第1開口71fcと、該第2導体パターン58Ff2の一部を露出させる第2開口71foが形成されている。該第1導体パターン58Ff1は、前記第1開口71fcから露出される第1パッド部59cと該第1パッド部59cから延びる第1配線部59Ff1から構成され、該第2導体パターン58Ff2は、前記第2開口71foから露出される第2パッド部59oと該第2パッド部59oから延びる第2配線部59Ff2から構成される(図7(B))。前記第1パッド部59cの幅と前記第1配線部59Ff1の幅は略同一であるとともに、前記第2パッド部59oの幅と第2配線部59Ff2の幅は略同一であることが望ましい。パッド部の幅が大きくなると、IC実装時に隣の配線と短絡する可能性が高くなる。一方、パッド部の幅が小さくなると、表面に形成する半田量が少なくなり接続信頼性が低下する可能性がある。   The conductor pattern 58F formed on the interlayer resin insulation layer 50F includes a first conductor pattern 58Ff1 and a second conductor pattern pattern 58Ff2 which are disposed adjacent to each other. The first conductor pattern 58Ff1 and the second conductor pattern 58Ff2 are arranged in parallel and alternately, and are arranged in the vertical direction toward each side of the printed wiring board (FIG. 7A). The first conductor pattern 58Ff1 and the second conductor pattern 58Ff2 do not necessarily have to be parallel. A solder resist layer 70F is provided on the interlayer resin insulation layer 50F, the first conductor pattern, and the second conductor pattern. In the solder resist layer 70F, a first opening 71fc for exposing a part of the first conductor pattern 58Ff1 and a second opening 71fo for exposing a part of the second conductor pattern 58Ff2 are formed. The first conductor pattern 58Ff1 includes a first pad portion 59c exposed from the first opening 71fc and a first wiring portion 59Ff1 extending from the first pad portion 59c, and the second conductor pattern 58Ff2 The second pad portion 59o exposed from the two openings 71fo and the second wiring portion 59Ff2 extending from the second pad portion 59o are configured (FIG. 7B). Preferably, the width of the first pad portion 59c and the width of the first wiring portion 59Ff1 are substantially the same, and the width of the second pad portion 59o and the width of the second wiring portion 59Ff2 are substantially the same. If the width of the pad portion is increased, the possibility of short-circuiting with an adjacent wiring at the time of IC mounting increases. On the other hand, when the width of the pad portion is reduced, the amount of solder formed on the surface is reduced and connection reliability may be reduced.

前記第1配線部59Ff1の延びる方向に対して垂直方向に前記第1開口71fcを投影した領域に、前記第2開口71foは存在しないことが望ましい。すなわち、隣り合うパッドの開口は、横方向に隣接せず、軸方向に向かって変位するように距離的に離なされて配置される(図7(B)、図8(B)、図14)。そのため、複数の導体パターンがファインピッチに形成されても、前記第1開口71fcと前記第2開口71foが連通することがないので、アンダーフィル材を充填するときにボイドが発生しても、隣接する第1パッド部59cと第2パッド部59oの間で短絡が生じ難く、ICチップとの接続信頼性を高めることができる。   It is desirable that the second opening 71fo does not exist in a region where the first opening 71fc is projected in a direction perpendicular to the extending direction of the first wiring portion 59Ff1. That is, the openings of adjacent pads are not adjacent to each other in the lateral direction, but are spaced apart from each other so as to be displaced in the axial direction (FIGS. 7B, 8B, and 14). . Therefore, even if a plurality of conductor patterns are formed at a fine pitch, the first opening 71fc and the second opening 71fo do not communicate with each other. Short circuiting is unlikely to occur between the first pad portion 59c and the second pad portion 59o, and connection reliability with the IC chip can be improved.

図14にパッド部を拡大したプリント配線板の平面図を示す。前記第1開口71fcおよび前記第2開口71foは、前記第1導体パターンの延びの方向に垂直な方向の最大径をcμm、前記第1導体パターンの延びの方向における最大径をdμm、該開口により露出する第1導体パターンの幅をaμmと、該第1導体パターンとその一方に隣接する第2導体パターンとの間隔;b1μm、該第1導体パターンとその他方に隣接する第2導体パターンとの間隔;b2μm、としたとき、c<d かつ c<a+b1+b2の関係を満たすことが望ましい。1つの開口には、1つの導体パターンのみ存在するため、c<a+b1+b2の関係を満たす必要がある。1つの開口に複数の導体パターンが露出すると、アンダーフィル材の充填時に、導体間を連通するボイドが発生した場合、配線の短絡を引き起こすと推測される。   FIG. 14 shows a plan view of a printed wiring board with an enlarged pad portion. The first opening 71fc and the second opening 71fo have a maximum diameter in the direction perpendicular to the direction in which the first conductor pattern extends, c μm, and a maximum diameter in the direction in which the first conductor pattern extends, d μm. The width of the exposed first conductor pattern is a μm and the distance between the first conductor pattern and the second conductor pattern adjacent to one side; b1 μm; the first conductor pattern and the second conductor pattern adjacent to the other side When the interval is b2 μm, it is desirable to satisfy the relationship of c <d and c <a + b1 + b2. Since only one conductor pattern exists in one opening, it is necessary to satisfy the relationship c <a + b1 + b2. If a plurality of conductor patterns are exposed in one opening, it is presumed that when a void communicating between the conductors is generated when the underfill material is filled, a short circuit of the wiring is caused.

前記開口の形状は、c<dを満たす平面視略長方形あるいは楕円形で形状であることが望ましい。開口面積を大きく形成することで、ICチップとバンプとの接続信頼性が向上すると推測される。さらに、前記開口は、平面視略長方形であり4つの角が弧状形状であることが望ましい(図14)。アンダーフィル材を充填する時に、開口の角部におけるボイドの発生を抑制できると思われる。   The shape of the opening is preferably a substantially rectangular or elliptical shape in plan view that satisfies c <d. It is presumed that the connection reliability between the IC chip and the bump is improved by forming the large opening area. Further, it is desirable that the opening has a substantially rectangular shape in a plan view and has four corners in an arc shape (FIG. 14). It seems that when the underfill material is filled, the generation of voids at the corners of the opening can be suppressed.

前記第1開口71fcと、前記第2開口71foの最短距離;eは、20μm以上であることが望ましい。20μm未満の場合、前記第1開口71fcと、前記第2開口71foの間のソルダーレジスト層70Fと下層層間樹脂絶縁層50Fとの密着面積が小さくなるため、剥離を生じると推測される(図14)。   The shortest distance between the first opening 71fc and the second opening 71fo; e is preferably 20 μm or more. If the thickness is less than 20 μm, the adhesion area between the solder resist layer 70F and the lower interlayer resin insulation layer 50F between the first opening 71fc and the second opening 71fo is reduced, and it is assumed that peeling occurs (FIG. 14). ).

図18(A)は、前記第1開口71fcおよび前記第2開口71foが千鳥状に規則的に配置されていることが示されている。一方、図18(C)は、前記第1開口71fcおよび前記第2開口71foが不規則に配置されていることが示されている。前記第1開口71fcおよび前記第2開口71foが規則的あるいは不規則に配置されていたとしても、前記第1開口71fcおよび前記第2開口71foの最短距離は20μm以上離れるので、最近接の前記第1開口71fcおよび前記第2開口71foが連通したり、ソルダーレジスト層70Fと下層層間樹脂絶縁層50Fとが剥離することはない。千鳥状に露出される第1パッド部59cおよび第2パッド部59oに接続されるICチップは、図9中の底面図に示されるようにパッド92が千鳥状に配置されている。 FIG. 18A shows that the first openings 71fc and the second openings 71fo are regularly arranged in a staggered manner. On the other hand, FIG. 18C shows that the first openings 71fc and the second openings 71fo are irregularly arranged. Even if the first opening 71fc and the second opening 71fo are regularly or irregularly arranged, the shortest distance between the first opening 71fc and the second opening 71fo is 20 μm or more. The first opening 71fc and the second opening 71fo do not communicate with each other, and the solder resist layer 70F and the lower interlayer resin insulation layer 50F do not peel off. The IC chip connected to the first pad portion 59c and the second pad portion 59o exposed in a staggered pattern has pads 92 arranged in a staggered pattern as shown in the bottom view in FIG.

前記第1開口71fcおよび前記第2開口71foのそれぞれの底部には、それぞれ、前記第1導体パターン58Ff1および前記第2導体パターン58Ff2のみ露出し、それぞれ第1パッド部59cおよび第2パッド部59oを形成することが望ましい。すなわち、1つの開口には1つの導体パターンしか露出しないことが望ましい。1つの開口に複数の導体パターンが露出すると、アンダーフィル材の充填時に、導体間を連通するボイドが発生した場合、配線の短絡を引き起こすと推測される(図7(B)、図8(B)、図14)。   Only the first conductor pattern 58Ff1 and the second conductor pattern 58Ff2 are exposed at the bottoms of the first opening 71fc and the second opening 71fo, respectively, and the first pad portion 59c and the second pad portion 59o are respectively provided. It is desirable to form. That is, it is desirable that only one conductor pattern is exposed in one opening. If a plurality of conductor patterns are exposed in one opening, it is presumed that when a void communicating between the conductors is generated when the underfill material is filled, a short circuit of the wiring is caused (FIGS. 7B and 8B). ), FIG. 14).

図12は、パッド部の断面を示している。前記開口の開口径;cは、前記第1パッド部59cおよび前記第2パッド部59oの幅;aより大きいことが望ましい。前記第1パッド部59cおよび前記第2パッド部59oは、導体パターンの表面だけでなく側面の一部あるいは全部が露出するため、パッド表面に形成する半田めっき量を多くでき接続信頼性を向上できる。一方、前記開口の開口径;cが前記第1パッド部59cおよび前記第2パッド部59oの幅;aより小さい場合、パッド部の露出面積は小さいため、パッド表面に形成する半田めっき量が少なくなり、ICチップとバンプとの接続信頼性が低下すると推測される。   FIG. 12 shows a cross section of the pad portion. The opening diameter c of the opening is preferably larger than the width of the first pad portion 59c and the second pad portion 59o; Since the first pad portion 59c and the second pad portion 59o expose not only the surface of the conductor pattern but also part or all of the side surfaces, the amount of solder plating formed on the pad surface can be increased and the connection reliability can be improved. . On the other hand, when the opening diameter; c is smaller than the widths of the first pad portion 59c and the second pad portion 59o; the exposed area of the pad portion is small, the amount of solder plating formed on the pad surface is small. Therefore, it is presumed that the connection reliability between the IC chip and the bump is lowered.

前記第1開口71fcおよび前記第2開口71foのそれぞれの底部は、前記第1導体パターン58Ff1および前記第2導体パターン58Ff2の表面と側面の一部が露出するパッドと、ソルダーレジスト層70Fから形成されることが望ましい。図12は、図8(B)X-Xの断面図である。前記第1開口71fcに露出する第1パッド59cは、該第1パッド59cの表面と側面の一部が露出し周囲がソルダーレジスト層70Fで充填されている。そのため、アンダーフィル材を充填した時にボイドが発生しても、ボイドに起因する配線の短絡は抑制されると思われる(図13)。
前記第1開口71fcおよび前記第2開口71foのそれぞれの底部は、前記第1導体パターン58Ff1および前記第1導体パターン58Ff1のそれぞれの表面とそれぞれの側面のすべてが露出することからなるパッドと、前記層間樹脂絶縁層50Fの表面から形成されてもよい。図15(A)(B),図16において、第1パッド部59cは、該第1パッド59cの表面と側面のすべてが露出している。パッドの露出面積が大きいので表面に形成する半田量を多くすることが可能となり、ICチップの端子と確実な接続が達成されると思われる。アンダーフィル材を充填した時に前記第1開口部71fcにボイドが発生しても、ボイドに起因する配線の短絡は抑制されると思われる。
The bottom of each of the first opening 71fc and the second opening 71fo is formed from a pad exposing a part of the surface and side surfaces of the first conductor pattern 58Ff1 and the second conductor pattern 58Ff2, and a solder resist layer 70F. It is desirable. FIG. 12 is a cross-sectional view of FIG. The first pad 59c exposed to the first opening 71fc is partially exposed on the surface and side surfaces of the first pad 59c and is filled with a solder resist layer 70F. Therefore, even if a void is generated when the underfill material is filled, it is considered that a short circuit of the wiring due to the void is suppressed (FIG. 13).
Respective bottom portions of the first opening 71fc and the second opening 71fo are pads formed by exposing all surfaces and side surfaces of the first conductor pattern 58Ff1 and the first conductor pattern 58Ff1, respectively. It may be formed from the surface of interlayer resin insulation layer 50F. In FIGS. 15A, 15B, and 16, the first pad portion 59c has the entire surface and side surfaces of the first pad 59c exposed. Since the exposed area of the pad is large, it is possible to increase the amount of solder formed on the surface, and it seems that reliable connection with the terminals of the IC chip is achieved. Even if a void is generated in the first opening 71fc when the underfill material is filled, it is considered that a short circuit of the wiring due to the void is suppressed.

図19において、信号用導体パターン58Ffs上には1つの開口部71sのみが存在している。前記信号用導体パターン58Ffs上には1つの開口部71sのみが存在することが望ましい。一方、電源用導体パターン58Ffp上およびグランド用導体パターン58Ffe上にはそれぞれ複数の開口部71eおよび開口部71pが存在している。前記グランド用導体パターン58Ffe上および前記電源用導体パターン58Ffp上には複数の開口部を形成してもよい。1つの導体パターンにおいて複数のパッドによりICチップのバンプと接続できるので、配線設計の自由度が大きくなると思われる。ただし、1つの導体パターン上に複数のパッドを形成する場合、該パッドは同一のネットであることが望ましい。   In FIG. 19, only one opening 71s exists on the signal conductor pattern 58Ffs. It is desirable that only one opening 71s exists on the signal conductor pattern 58Ffs. On the other hand, a plurality of openings 71e and openings 71p exist on the power supply conductor pattern 58Ffp and the ground conductor pattern 58Ffe, respectively. A plurality of openings may be formed on the ground conductor pattern 58Ffe and the power supply conductor pattern 58Ffp. Since a single conductor pattern can be connected to bumps of an IC chip by a plurality of pads, it is considered that the degree of freedom in wiring design is increased. However, when a plurality of pads are formed on one conductor pattern, the pads are preferably the same net.

前記第1パッド部59cおよび前記第2パッド部59oの露出部分は、Snめっき、Ni/Auめっき、Ni/Pd/Auめっき、Pd/Agめっき、OSP膜から成る群から選択される少なくとも1種から被覆されることが望ましい。OSP(Organic Solderability Preservative)膜により、半田実装されるまでの前記第1パッド部59cおよび前記第2パッド部59oの露出部分の酸化等を防止することが可能なる。そして、半田を実装した際に、OSP層は除去され、電気接続性を阻害しない。   The exposed portions of the first pad portion 59c and the second pad portion 59o are at least one selected from the group consisting of Sn plating, Ni / Au plating, Ni / Pd / Au plating, Pd / Ag plating, and OSP film. It is desirable to coat from. An OSP (Organic Solderability Preservative) film can prevent oxidation of exposed portions of the first pad portion 59c and the second pad portion 59o until solder mounting. When the solder is mounted, the OSP layer is removed and does not hinder the electrical connectivity.

[第1実施形態のプリント配線板の製造方法]
第1実施形態のプリント配線板10の製造方法が図1〜図4に示される。
(1)第1面Fとその第1面と反対側の第2面Sを有する絶縁基板20zとその両面に積層されている銅箔22、22からなる両面銅張積層板20が準備される(図1(A))。両面銅張積層板として住友ベークライト社製のELC4785TH−Gを用いることができる。
[Method for Manufacturing Printed Wiring Board of First Embodiment]
The manufacturing method of the printed wiring board 10 of 1st Embodiment is shown by FIGS.
(1) A double-sided copper-clad laminate 20 comprising a first surface F and an insulating substrate 20z having a second surface S opposite to the first surface and copper foils 22 and 22 laminated on both sides is prepared. (FIG. 1 (A)). ELC4785TH-G manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd. can be used as the double-sided copper-clad laminate.

絶縁基板20zは樹脂と補強材で形成されていて、その補強材として例えばガラスクロス、アラミド繊維、ガラス繊維などが挙げられる。樹脂としてエポキシ樹脂、BT(ビスマレイミドトリアジン)樹脂などが挙げられる。   The insulating substrate 20z is formed of a resin and a reinforcing material, and examples of the reinforcing material include glass cloth, aramid fiber, and glass fiber. Examples of the resin include an epoxy resin and a BT (bismaleimide triazine) resin.

(2)両面銅張積層板が加工され、スルーホール導体36、第1導体層34F、第2導体層34Sを備えるコア基板30が完成する(図1(B))。コア基板30の第1面と絶縁基板20zの第1面は同じ面であり、コア基板30の第2面と絶縁基板20zの第2面は同じ面である。コア基板30はUS7786390に開示されている方法で製造される。 (2) The double-sided copper-clad laminate is processed to complete the core substrate 30 including the through-hole conductor 36, the first conductor layer 34F, and the second conductor layer 34S (FIG. 1B). The first surface of the core substrate 30 and the first surface of the insulating substrate 20z are the same surface, and the second surface of the core substrate 30 and the second surface of the insulating substrate 20z are the same surface. The core substrate 30 is manufactured by the method disclosed in US77786390.

(3)コア基板30の第1面F上及び第2面S上に、無機繊維とシリカなどの無機粒子とエポキシ等の熱硬化性樹脂を含むプリプレグと銅箔48が順に積層される。その後、加熱プレスでプリプレグから層間樹脂絶縁層50Fと層間樹脂絶縁層50Sが形成され、銅箔48が層間樹脂絶縁層に接着される(図1(C))。ここでは、無機繊維を備える層間樹脂絶縁層が積層されたが、心材を備えない層間樹脂絶縁層を用いることもできる。 (3) On the first surface F and the second surface S of the core substrate 30, a prepreg containing inorganic fibers, inorganic particles such as silica, and a thermosetting resin such as epoxy, and a copper foil 48 are sequentially laminated. Thereafter, the interlayer resin insulation layer 50F and the interlayer resin insulation layer 50S are formed from the prepreg by heating press, and the copper foil 48 is bonded to the interlayer resin insulation layer (FIG. 1C). Here, an interlayer resin insulation layer including inorganic fibers is laminated, but an interlayer resin insulation layer not including a core material can also be used.

(4)次に、CO2ガスレーザにて層間樹脂絶縁層50F,50Sにそれぞれビア導体用の開口51F,51Sが形成される(図1(D))。 (4) Next, via conductor openings 51F and 51S are formed in the interlayer resin insulation layers 50F and 50S by a CO2 gas laser, respectively (FIG. 1D).

(5)銅箔48上と開口51F、51Sの内壁に無電解銅めっき層52,52が形成される(図2(A))。 (5) Electroless copper plating layers 52 and 52 are formed on the copper foil 48 and on the inner walls of the openings 51F and 51S (FIG. 2A).

(6)無電解銅めっき層52上にめっきレジスト54が形成される(図2(B))。 (6) A plating resist 54 is formed on the electroless copper plating layer 52 (FIG. 2B).

(7)めっきレジスト54から露出する無電解銅めっき層52上に、電解銅めっき層56が形成される(図2(C))。 (7) An electrolytic copper plating layer 56 is formed on the electroless copper plating layer 52 exposed from the plating resist 54 (FIG. 2C).

(8)めっきレジスト54が除去される。電解銅めっき層56間の無電解銅めっき層52と銅箔48がエッチングで除去されることで、層厚が18μmの第1導体パターン58Ff1、第2導体パターン58Ff2、導体パターン58F,58S及びビア導体60F,60Sが形成される(図2(D))。第1導体パターン58Ff1と第2導体パターン58Ff2はそれぞれパターン幅が15μmで、2つのパターンは25μmの等間隔で交互に存在するように形成される(図7(A))。ビア導体60F、60Sは、ビアランド60FR、60SRを備える。第1面側と第2面側のビルドアップ層55F、55Sが形成される。図2(D)のプリント配線板の平面図が図7(A)中に示される。図2(D)は、図7(A)のX1−X1断面に相当する。第1導体パターン58Ff1および第2導体パターン58Ff2の一部は、後工程で被覆されるソルダーレジスト層70Fから露出され、第1パッド部59c,第2パッド部59o、第1配線部59Ff1および第2配線部59Ff2を構成する。 (8) The plating resist 54 is removed. By removing the electroless copper plating layer 52 and the copper foil 48 between the electrolytic copper plating layers 56 by etching, the first conductor pattern 58Ff1, the second conductor pattern 58Ff2, the conductor patterns 58F, 58S and the vias having a layer thickness of 18 μm are formed. Conductors 60F and 60S are formed (FIG. 2D). The first conductor pattern 58Ff1 and the second conductor pattern 58Ff2 each have a pattern width of 15 μm, and the two patterns are alternately formed at equal intervals of 25 μm (FIG. 7A). The via conductors 60F and 60S include via lands 60FR and 60SR. Build-up layers 55F and 55S on the first surface side and the second surface side are formed. A plan view of the printed wiring board of FIG. 2D is shown in FIG. FIG. 2D corresponds to the X1-X1 cross section in FIG. A part of the first conductor pattern 58Ff1 and the second conductor pattern 58Ff2 is exposed from the solder resist layer 70F to be coated in a later process, and the first pad portion 59c, the second pad portion 59o, the first wiring portion 59Ff1, and the second conductor pattern 58Ff2 are exposed. The wiring portion 59Ff2 is configured.

(9)第1面F側のビルドアップ層上に第1面F側のソルダーレジスト組成物70Fが形成され、第2面S側のビルドアップ層上に第2面S側のソルダーレジスト組成物70Sが形成される(図3(A))。ソルダーレジスト組成物70Fは、例えば、特開2011−71406号に開示されている多段化可能なエポキシ系樹脂から成る。 (9) The solder resist composition 70F on the first surface F side is formed on the buildup layer on the first surface F side, and the solder resist composition on the second surface S side is formed on the buildup layer on the second surface S side. 70S is formed (FIG. 3A). The solder resist composition 70F is made of, for example, an epoxy resin that can be multistaged and disclosed in JP2011-71406A.

(10)第1露光用マスク80がソルダーレジスト組成物70F上に載置され、露光が行われる(図3(B))。該第1露光用マスクには非硬化箇所に対応する黒点80aが設けられている(図3(B))。第1露光用マスクを使用した露光により、プリント配線板10の周縁部のビア導体60Fとビアランド60FRを被覆するソルダーレジスト層70Fが枠形状に硬化するとともに、メモリー実装基板との接続用パッド上部は露光されずに未硬化になる(図3(B))。図示しないが、同様に第2面側のソルダーレジスト組成物70Sが硬化される。なお、露光は、露光マスクを使用せず光源を走査して未硬化ソルダーレジスト組成物を照射する露光方法を用いてもよい。 (10) The first exposure mask 80 is placed on the solder resist composition 70F, and exposure is performed (FIG. 3B). The first exposure mask is provided with black spots 80a corresponding to uncured portions (FIG. 3B). By the exposure using the first exposure mask, the solder resist layer 70F covering the via conductor 60F and the via land 60FR at the peripheral edge of the printed wiring board 10 is cured into a frame shape, and the upper portion of the pad for connection with the memory mounting board is It becomes uncured without being exposed (FIG. 3B). Although not shown, the solder resist composition 70S on the second surface side is similarly cured. In addition, you may use the exposure method which scans a light source and does not use an exposure mask and irradiates an unhardened soldering resist composition for exposure.

(11)前工程の露光により硬化されず未硬化状態のソルダーレジスト組成物70F、70Sが、エッチング液によりエッチングされる第1の開口工程が行われる。このとき、第1面F側において、凹部70TMおよび凹部底面70FM、開口71F、および露光により硬化された部位の最上面70FTが形成される(図3(C))。凹部70TMおよび、開口71Fの開口部の深さは、エッチング時間により調整される。エッチング液としては、例えば、特開2011−71406号に開示されている物が用いられる。 (11) A first opening step is performed in which the uncured solder resist compositions 70F and 70S that are not cured by the exposure in the previous step are etched by the etchant. At this time, the concave surface 70TM, the concave bottom surface 70FM, the opening 71F, and the uppermost surface 70FT of the portion cured by exposure are formed on the first surface F side (FIG. 3C). The depth of the recess 70TM and the opening of the opening 71F is adjusted by the etching time. As the etching solution, for example, the one disclosed in JP2011-71406A is used.

(12)第2露光用マスク82がソルダーレジスト組成物70F上に載置され、露光が行われる。該第2露光用マスクには非硬化箇所に対応する黒点82aが設けられている(図3(D))。第2露光用マスクの黒点82aの位置は、開口71F上部と、第1開口71fc部および第2開口71fo部を図7(B)のように千鳥状に配置するための開口予定位置の上部に対応する。第2露光用マスクを使用した露光により、開口71F部、および第1開口71fc部と第2開口71fo部以外の凹部底面70FMのソルダーレジスト組成物70Fが、硬化される。即ち、第1配線部59Ff1、第2配線部59Ff2の上部のソルダーレジスト組成物70Fが硬化される。 (12) The second exposure mask 82 is placed on the solder resist composition 70F, and exposure is performed. The second exposure mask is provided with black spots 82a corresponding to uncured portions (FIG. 3D). The positions of the black spots 82a of the second exposure mask are above the opening 71F and above the planned opening position for arranging the first opening 71fc and the second opening 71fo in a staggered manner as shown in FIG. 7B. Correspond. By the exposure using the second exposure mask, the solder resist composition 70F of the recess bottom surface 70FM other than the opening 71F and the first opening 71fc and the second opening 71fo is cured. That is, the solder resist composition 70F above the first wiring portion 59Ff1 and the second wiring portion 59Ff2 is cured.

実施形態1では、第1導体パターン58Ff1と第2導体パターン58Ff2はそれぞれパターン幅が15μmで、2つのパターンは25μmの等間隔で交互に存在するように形成される。前記第1開口71fcおよび前記第2開口71foは、第1導体パターン58Ff1および第2導体パターン58Ff2の延びの方向に垂直な方向の径;c:40μm、延びの方向における径;d:60μmに形成されている。開口形状は、平面視略長方形であり4つの角が弧状形状である。さらに、前記第1開口71fcおよび前記第2開口71foの最短距離eは、30μmである。前記最短距離は、20μm以上が好ましい。20μm未満であると、層間樹脂絶縁層50Fとソルダーレジスト層70Fとの密着面積が小さく、応力による剥離が生じる可能性がある。   In the first embodiment, the first conductor pattern 58Ff1 and the second conductor pattern 58Ff2 are formed so that the pattern width is 15 μm and the two patterns are alternately present at equal intervals of 25 μm. The first opening 71fc and the second opening 71fo are formed to have a diameter in a direction perpendicular to the extending direction of the first conductor pattern 58Ff1 and the second conductor pattern 58Ff2; c: 40 μm, a diameter in the extending direction; d: 60 μm Has been. The opening shape is substantially rectangular in plan view, and the four corners are arc-shaped. Further, the shortest distance e between the first opening 71fc and the second opening 71fo is 30 μm. The shortest distance is preferably 20 μm or more. If the thickness is less than 20 μm, the adhesion area between the interlayer resin insulation layer 50F and the solder resist layer 70F is small, and peeling due to stress may occur.

前記第1開口71fcおよび前記第2開口71foのそれぞれに露出する第1パッド部と第2パッド部は、表面部と配線の両側面の一部が露出するようにエッチング液のエッチング時間を調整することで開口されている(図4(A))。表面と両側面の一部が露出することで露出部の表面に形成するSnめっきを多く析出させることが可能となる。ここで、第1実施形態のプリント配線板では、導体パターンの延びの方向に垂直な方向の最大径;cμm、前記導体パターンの延びの方向における最大径;d、該開口により露出する導体パターンの幅;aμmと、該第1導体パターンとその一方に隣接する第2導体パターンとの間隔;b1μm、該第1導体パターンとその他方に隣接する第2導体パターンとの間隔;b2μm、としたとき、c<d かつ c<a+b1+b2 の関係を満たす。   The first pad portion and the second pad portion exposed in the first opening 71fc and the second opening 71fo, respectively, adjust the etching time of the etching solution so that the surface portion and part of both side surfaces of the wiring are exposed. (FIG. 4 (A)). By exposing a part of the surface and both side surfaces, it becomes possible to deposit a lot of Sn plating formed on the surface of the exposed portion. Here, in the printed wiring board of the first embodiment, the maximum diameter in the direction perpendicular to the direction in which the conductor pattern extends; c μm, the maximum diameter in the direction in which the conductor pattern extends; d, the conductor pattern exposed through the opening. Width: a μm and the distance between the first conductor pattern and the second conductor pattern adjacent to one side; b1 μm, the distance between the first conductor pattern and the second conductor pattern adjacent to the other side; b2 μm , C <d and c <a + b1 + b2.

(13)前工程の露光により硬化されず未硬化状態のソルダーレジスト組成物70Fが、エッチング液によりエッチングされる第2の開口工程が行われる(図4(A))。このとき、第1面側において、露光により硬化された凹部底面70FM、第1開口71fc、第2開口71fo(図示せず)が形成され、第1パッド部59c、第2パッド部59o(図示せず)の表面と側面の一部が露出される。このとき、第1パッド部59c、第2パッド部59o(図示せず)の表面および側面の全面を露出すると同時に、層間樹脂絶縁層50Fの表面を露出してもよい(図15、16)。同時に、最上面70FTに半田バンプ用の開口71Fが形成されパッド71FOが露出され、第2面側のソルダーレジスト層70Sに開口71Sが形成されパッド71SOが露出される(図4(A))。そして、ソルダーレジスト組成物が加熱硬化されソルダーレジスト層70F、70Sが形成される。図4(A)のプリント配線板の平面図が図7(B)中に示される。図4(A)は、図7(B)のX2−X2断面に相当する。これにより、凹部70TM、第1開口71fc、第2開口71fo(図示せず)、最上面70FT、凹部底面70FMを有するソルダーレジスト層70Fが完成する。 (13) A second opening process is performed in which the uncured solder resist composition 70F that is not cured by the exposure in the previous process is etched by the etching solution (FIG. 4A). At this time, a concave bottom surface 70FM, a first opening 71fc, and a second opening 71fo (not shown) cured by exposure are formed on the first surface side, and a first pad portion 59c and a second pad portion 59o (not shown) are formed. )) And a part of the side surface are exposed. At this time, the surface of the first pad portion 59c and the second pad portion 59o (not shown) and the entire side surface may be exposed, and at the same time, the surface of the interlayer resin insulating layer 50F may be exposed (FIGS. 15 and 16). At the same time, openings 71F for solder bumps are formed on the uppermost surface 70FT to expose the pads 71FO, and openings 71S are formed in the solder resist layer 70S on the second surface side to expose the pads 71SO (FIG. 4A). Then, the solder resist composition is heated and cured to form solder resist layers 70F and 70S. A plan view of the printed wiring board of FIG. 4A is shown in FIG. 4A corresponds to the X2-X2 cross section of FIG. Thereby, the solder resist layer 70F having the recess 70TM, the first opening 71fc, the second opening 71fo (not shown), the uppermost surface 70FT, and the recess bottom surface 70FM is completed.

(14)パッド71FO、パッド71SOの露出部にニッケルめっき層72が形成され、さらにニッケルめっき層72上に金めっき層74が形成される(図4(B))。ニッケル−金層(Ni/Au)の代わりに、Snめっき、ニッケル−パラジウム−金層(Ni/Pd/Au)、Pd/Agめっき、OSP(Organic Solderability Preservative)膜が形成されてもよい。 (14) A nickel plating layer 72 is formed on the exposed portions of the pad 71FO and the pad 71SO, and a gold plating layer 74 is formed on the nickel plating layer 72 (FIG. 4B). Instead of the nickel-gold layer (Ni / Au), Sn plating, nickel-palladium-gold layer (Ni / Pd / Au), Pd / Ag plating, OSP (Organic Solderability Preservative) film may be formed.

(15)パッド部59c、59o(図示せず)の表面に半田めっき77が形成される(図4)。半田めっき77は、Snめっきが選択される。半田めっき77は、Snめっき、ニッケル−金層(Ni/Au)、ニッケル−パラジウム−金層(Ni/Pd/Au)、OSP膜が形成されてもよい。 (15) Solder plating 77 is formed on the surfaces of the pad portions 59c and 59o (not shown) (FIG. 4). As the solder plating 77, Sn plating is selected. As the solder plating 77, Sn plating, nickel-gold layer (Ni / Au), nickel-palladium-gold layer (Ni / Pd / Au), and OSP film may be formed.

(16)ソルダーレジスト層70Fのパッド71FO、ソルダーレジスト層70Sのパッド71SOに半田ボールが搭載され、リフローにより半田バンプ76F、76Sが形成され、プリント配線板が完成する(図5)。 (16) Solder balls are mounted on the pads 71FO of the solder resist layer 70F and the pads 71SO of the solder resist layer 70S, and solder bumps 76F and 76S are formed by reflow to complete the printed wiring board (FIG. 5).

第1パッド部59cおよび第2パッド部59oを介して半導体素子90が実装される。図12(B)に示すように半導体素子90の下面には導体ポスト92が形成されており、該導体ポスト92の先端には半田94が設けられている。 The semiconductor element 90 is mounted via the first pad portion 59c and the second pad portion 59o. As shown in FIG. 12B, a conductor post 92 is formed on the lower surface of the semiconductor element 90, and solder 94 is provided at the tip of the conductor post 92.

図12(C)及び図12(C)中のY1−Y1断面を拡大した図10(B)に示すように、導体ポスト92と第1パッド部59cおよび第2パッド部59o(図示せず)とが半田めっき77及び半田94を介して接続され、半導体素子90が実装される。   As shown in FIG. 10B in which the Y1-Y1 cross section in FIGS. 12C and 12C is enlarged, a conductor post 92, a first pad portion 59c, and a second pad portion 59o (not shown). Are connected via the solder plating 77 and the solder 94, and the semiconductor element 90 is mounted.

図6に示すように、半導体素子90とソルダーレジスト層70Fとの間にアンダーフィル材96が充填される。第1実施形態では、第1パッド部59cと第2パッド部59o(図示せず)が、千鳥状に配置(図7(B),図8(B))しているので、アンダーフィル材96を充填した時に、ボイドが発生しても、ボイドに起因する配線の短絡は抑制されると思われる。   As shown in FIG. 6, an underfill material 96 is filled between the semiconductor element 90 and the solder resist layer 70F. In the first embodiment, the first pad portion 59c and the second pad portion 59o (not shown) are arranged in a staggered manner (FIGS. 7B and 8B), and therefore the underfill material 96 Even if voids occur when filling the wire, it is considered that the short circuit of the wiring due to the voids is suppressed.

プリント配線板110が半田バンプ76Fを介して搭載される。そして、半田バンプ76Sを介してプリント配線板10がマザーボード120に搭載される(図6)。図6の平面図を図8(A)に示す。図6は、図8(A)のX3−X3断面に相当する。   The printed wiring board 110 is mounted via the solder bumps 76F. Then, the printed wiring board 10 is mounted on the mother board 120 via the solder bumps 76S (FIG. 6). A plan view of FIG. 6 is shown in FIG. 6 corresponds to the X3-X3 cross section in FIG.

[第2実施形態]
図16は第2実施形態に係るプリント配線板の断面図であり、図17は該プリント配線板の平面図である。
第2実施形態のプリント配線板では、ソルダーレジスト層70Fに形成される第1開口71fcおよび第2開口71foは、ソルダーレジスト層70Fを貫通し、第1層間樹脂絶縁層50Fの表面の一部を露出している。第1開口71fcおよび第2開口71foは、第1実施形態と同様に千鳥状に配置されている。
[Second Embodiment]
FIG. 16 is a cross-sectional view of a printed wiring board according to the second embodiment, and FIG. 17 is a plan view of the printed wiring board.
In the printed wiring board of the second embodiment, the first opening 71fc and the second opening 71fo formed in the solder resist layer 70F penetrate through the solder resist layer 70F and part of the surface of the first interlayer resin insulation layer 50F. Exposed. The first openings 71fc and the second openings 71fo are arranged in a staggered manner as in the first embodiment.

図15は、第2実施形態のプリント配線板の製造工程が示される。
図1〜図3に示された第1実施形態のプリント配線板と同様に製造され、ソルダーレジスト層70Fに、第1層間樹脂絶縁層50Fの表面に至る第1開口71fcおよび第2開口71foが形成される(図15(A))。以降の製造工程は、第1実施形態と同様である。第2実施形態のプリント配線板は、前記第1開口71fcおよび前記第2開口71foの露光・現像工程で、それぞれの底部にソルダーレジスト組成物70Fを残さずに除去するので、実施形態1のように前記第1開口71fcおよび前記第2開口71foの底部のソルダーレジスト組成物70Fを硬化する工程を省くことができる。また、第1パッド部および第2パッド部の両側面のすべてが露出されるので、該第1パッド部および該第2パッド部の表面にめっき層を多く形成することが可能となり信頼性の高い実装が可能となる。
FIG. 15 shows a manufacturing process of the printed wiring board according to the second embodiment.
The first opening 71fc and the second opening 71fo that are manufactured in the same manner as the printed wiring board of the first embodiment shown in FIGS. 1 to 3 and reach the surface of the first interlayer resin insulation layer 50F are formed in the solder resist layer 70F. It is formed (FIG. 15A). The subsequent manufacturing process is the same as that of the first embodiment. Since the printed wiring board of the second embodiment removes without leaving the solder resist composition 70F at the bottom in the exposure / development process of the first opening 71fc and the second opening 71fo, as in the first embodiment. The step of curing the solder resist composition 70F at the bottom of the first opening 71fc and the second opening 71fo can be omitted. Further, since both side surfaces of the first pad portion and the second pad portion are all exposed, it is possible to form a large number of plating layers on the surfaces of the first pad portion and the second pad portion, and the reliability is high. Implementation is possible.

[第3実施形態]
図18(B)に第3実施形態の係るソルダーレジスト層70Fに形成されるパッド用開口を示す。第1、第2実施形態では、図18(A)に示すように、2段の千鳥状に第1パッド部59cおよび第2パッド部59oが配置された。これに対して、第3実施形態では、3段にパッド用開口が第1配線部59Ff1および第2配線部59Ff2に沿って変位している。
[Third embodiment]
FIG. 18B shows pad openings formed in the solder resist layer 70F according to the third embodiment. In the first and second embodiments, as shown in FIG. 18A, the first pad portion 59c and the second pad portion 59o are arranged in a two-stage zigzag pattern. In contrast, in the third embodiment, the pad openings are displaced along the first wiring portion 59Ff1 and the second wiring portion 59Ff2 in three stages.

[第3実施形態の第1改変例]
図18(C)に第3実施形態の第1改変例に係るソルダーレジスト層70Fに形成されるパッド用開口を示す。第3実施形態の第1改変例では、パッド用開口が第1配線部59Ff1および第2配線部59Ff2に沿ってランダムに変位される。
[First Modification of Third Embodiment]
FIG. 18C shows pad openings formed in the solder resist layer 70F according to the first modification of the third embodiment. In the first modified example of the third embodiment, the pad opening is randomly displaced along the first wiring portion 59Ff1 and the second wiring portion 59Ff2.

図19は、第3実施形態の第2改変例に係るソルダーレジスト層70Fに形成されるパッド用開口を示す。第3実施形態では、信号用の配線部58Ffsと、アース用の配線部58Ffeと、電源用の配線部58Ffpとが設けられている。信号用の配線部58Ffsには、1つのパッド用開口71sが設けられる。アース用の配線部58Ffeと、電源用の配線部58Ffpには、1以上のパッド用開口71e、71pが設けられる。   FIG. 19 shows a pad opening formed in the solder resist layer (70F) according to the second modification of the third embodiment. In the third embodiment, a signal wiring portion 58Ffs, a ground wiring portion 58Ffe, and a power supply wiring portion 58Ffp are provided. One pad opening 71s is provided in the signal wiring portion 58Ffs. One or more pad openings 71e and 71p are provided in the ground wiring portion 58Ffe and the power supply wiring portion 58Ffp.

上述した実施形態では、本発明の構成をビルドアップ多層基板に適用する例を例示したが、本発明の構成は種々のプリント配線板に応用可能である。 In the above-described embodiment, an example in which the configuration of the present invention is applied to a build-up multilayer board is illustrated, but the configuration of the present invention can be applied to various printed wiring boards.

30 コア基板
50F 第1層間樹脂絶縁層
50S 第2層間樹脂絶縁層
58F 第1導体パターン
58Ff パッドパタン
59c、59o パッド
70F ソルダーレジスト層
70TM 凹部
71fc、71foパッド用開口
71F 開口
76F 半田バンプ
77 半田
90 半導体素子
30 core substrate 50F first interlayer resin insulation layer 50S second interlayer resin insulation layer 58F first conductor pattern 58Ff pad pattern 59c, 59o pad 70F solder resist layer 70TM recess 71fc, 71fo pad opening 71F opening 76F solder bump 77 solder 90 semiconductor element

Claims (20)

層間樹脂絶縁層と、
該層間樹脂絶縁層上において、隣接して配置される第1導体パターンおよび第2導体パターンと、
前記層間樹脂絶縁層上、前記第1導体パターン上および前記第2導体パターン上に設けられるソルダーレジスト層と、
前記ソルダーレジスト層に設けられ、前記第1導体パターンの一部を露出させる第1開口と、
前記ソルダーレジスト層に設けられ、前記第2導体パターンの一部を露出させる第2開口と、を備えるプリント配線板であって、
前記第1導体パターンは、前記第1開口から露出される第1パッド部と、第1パッド部から延びる第1配線部とを備え、
前記第2導体パターンは、前記第2開口から露出される第2パッド部と、第2パッド部から延びる第2配線部とを備え、
前記第1パッド部の幅と第1配線部の幅は略同一であるとともに、
前記第2パッド部の幅と第2配線部の幅は略同一であり、
第1配線部の延びる方向に対して垂直方向に前記第1開口を投影した領域に前記第2開口が存在しないことを特徴とするプリント配線板。
An interlayer resin insulation layer;
On the interlayer resin insulation layer, a first conductor pattern and a second conductor pattern arranged adjacent to each other;
A solder resist layer provided on the interlayer resin insulation layer, on the first conductor pattern and on the second conductor pattern;
A first opening provided in the solder resist layer and exposing a part of the first conductor pattern;
A printed wiring board provided in the solder resist layer and having a second opening exposing a part of the second conductor pattern,
The first conductor pattern includes a first pad portion exposed from the first opening, and a first wiring portion extending from the first pad portion,
The second conductor pattern includes a second pad portion exposed from the second opening, and a second wiring portion extending from the second pad portion,
The width of the first pad portion and the width of the first wiring portion are substantially the same,
The width of the second pad part and the width of the second wiring part are substantially the same,
The printed wiring board, wherein the second opening does not exist in a region where the first opening is projected in a direction perpendicular to a direction in which the first wiring portion extends.
請求項1のプリント配線板であって、
前記第1開口の底部には、前記第1導体パターンのみが露出されている。
The printed wiring board according to claim 1,
Only the first conductor pattern is exposed at the bottom of the first opening.
請求項1のプリント配線板であって、
前記第1開口の径は、前記第1パッド部の幅よりも大きい。
The printed wiring board according to claim 1,
The diameter of the first opening is larger than the width of the first pad portion.
請求項1また請求項2のプリント配線板であって、
前記第1導体パターンの延びの方向に垂直な方向の最大径;cμm、前記第1導体パターンの延びの方向における最大径;d、該開口により露出する前記第1導体パターンの幅;aμmと、該第1導体パターンとその一方に隣接する第2導体パターンとの間隔;b1μm、該第1導体パターンとその他方に隣接する第2導体パターンとの間隔;b2μm、としたとき、
c<d かつ c<a+b1+b2
の関係を満たす。
The printed wiring board according to claim 1 or claim 2,
A maximum diameter in a direction perpendicular to the direction of extension of the first conductor pattern; c μm, a maximum diameter in a direction of extension of the first conductor pattern; d, a width of the first conductor pattern exposed by the opening; When the distance between the first conductor pattern and the second conductor pattern adjacent to one side is b1 μm, the distance between the first conductor pattern and the second conductor pattern adjacent to the other side is b2 μm,
c <d and c <a + b1 + b2
Satisfy the relationship.
請求項1のプリント配線板であって、
前記開口は、平面視略長方形あるいは楕円形である。
The printed wiring board according to claim 1,
The opening is substantially rectangular or elliptical in plan view.
請求項4のプリント配線板であって、
前記開口は、平面視略長方形であり4つの角が弧状形状である。
The printed wiring board according to claim 4,
The opening has a substantially rectangular shape in plan view and has four corners in an arc shape.
請求項1のプリント配線板であって、
前記開口1と前記開口2との距離は20μm以上である。
The printed wiring board according to claim 1,
The distance between the opening 1 and the opening 2 is 20 μm or more.
請求項1のプリント配線板であって、
前記第1開口は複数存在する。
The printed wiring board according to claim 1,
There are a plurality of the first openings.
請求項7のプリント配線板であって、
前記第1導体パターンは、電源用導体あるいはグランド用導体である。
The printed wiring board according to claim 7,
The first conductor pattern is a power supply conductor or a ground conductor.
請求項1のプリント配線板であって、
前記第1開口は1つのみ存在する。
The printed wiring board according to claim 1,
There is only one first opening.
請求項9のプリント配線板であって、
前記第1導体パターンは、信号用導体である。
The printed wiring board according to claim 9,
The first conductor pattern is a signal conductor.
請求項1のプリント配線板であって、
前記第1開口の底部は、前記第1導体パターンの表面と側面の一部が露出することからなるパッドと、ソルダーレジスト層から形成される。
The printed wiring board according to claim 1,
The bottom of the first opening is formed of a pad formed by exposing a part of the surface and side surfaces of the first conductor pattern, and a solder resist layer.
請求項1のプリント配線板であって、
前記第1開口の底部は、前記第1導体パターンの表面と側面のすべてが露出することからなるパッドと、前記層間樹脂絶縁層の表面から形成される。
The printed wiring board according to claim 1,
The bottom of the first opening is formed from a pad formed by exposing all of the surface and side surfaces of the first conductor pattern and the surface of the interlayer resin insulation layer.
請求項1のプリント配線板であって、
前記第1パッド部の露出部分は、Snめっき、Ni/Auめっき、Ni/Pd/Auめっき、Pd/Agめっき、OSP膜から成る群から選択される少なくとも1種から被覆される。
The printed wiring board according to claim 1,
The exposed portion of the first pad portion is covered with at least one selected from the group consisting of Sn plating, Ni / Au plating, Ni / Pd / Au plating, Pd / Ag plating, and OSP film.
層間樹脂絶縁層を設けることと、
該層間樹脂絶縁層上において、隣接して配置する第1導体パターンおよび第2導体パターンとを設けることと、
前記層間樹脂絶縁層上、前記第1導体パターン上および前記第2導体パターン上にソルダーレジスト層設けることと、
前記ソルダーレジスト層の内部に前記第1導体パターンの一部を露出させる第1開口を設けることと、
前記ソルダーレジスト層の内部に前記第2導体パターンの一部を露出させる第2開口を設けることと、
を備えるプリント配線板の製造方法であって、
前記第1導体パターンは、前記第1開口から露出される第1パッド部と、第1パッド部から延びる第1配線部とを備え、
前記第2導体パターンは、前記第2開口から露出される第2パッド部と、第2パッド部から延びる第2配線部とを備え、
前記第1パッド部の幅と第1配線部の幅は略同一であるとともに、
前記第2パッド部の幅と第2配線部の幅は略同一であり、
第1配線部の延びる方向に対して垂直方向に前記第1開口を投影した領域に前記第2開口を形成しないことを特徴とする。
Providing an interlayer resin insulation layer;
Providing the first conductor pattern and the second conductor pattern disposed adjacent to each other on the interlayer resin insulation layer;
Providing a solder resist layer on the interlayer resin insulation layer, on the first conductor pattern and on the second conductor pattern;
Providing a first opening for exposing a part of the first conductor pattern inside the solder resist layer;
Providing a second opening exposing a part of the second conductor pattern inside the solder resist layer;
A printed wiring board manufacturing method comprising:
The first conductor pattern includes a first pad portion exposed from the first opening, and a first wiring portion extending from the first pad portion,
The second conductor pattern includes a second pad portion exposed from the second opening, and a second wiring portion extending from the second pad portion,
The width of the first pad portion and the width of the first wiring portion are substantially the same,
The width of the second pad part and the width of the second wiring part are substantially the same,
The second opening is not formed in a region where the first opening is projected in a direction perpendicular to a direction in which the first wiring portion extends.
請求項14のプリント配線板の製造方法であって、
前記第1開口を設ける際、前記第1導体パターンの表面および側面の少なくとも一部を露出させる。
A method for producing a printed wiring board according to claim 14,
When providing the first opening, at least a part of the surface and the side surface of the first conductor pattern is exposed.
請求項14のプリント配線板の製造方法であって、
前記第1開口を設ける際、前記第1導体パターンの表面および側面の一部のみを露出させるとともに、前記層間絶縁層の表面を露出させない。
A method for producing a printed wiring board according to claim 14,
When providing the first opening, only the surface and part of the side surface of the first conductor pattern are exposed, and the surface of the interlayer insulating layer is not exposed.
請求項14のプリント配線板の製造方法であって、
前記開口のソルダーレジスト層を露光し硬化させる。
A method for producing a printed wiring board according to claim 14,
The solder resist layer in the opening is exposed and cured.
請求項14のプリント配線板の製造方法であって、
前記第1開口を設ける際、前記層間絶縁層の表面を露出する。
A method for producing a printed wiring board according to claim 14,
When providing the first opening, the surface of the interlayer insulating layer is exposed.
請求項14のプリント配線板の製造方法であって、
前記第1開口から露出される前記第1パッド部の表面を、Snめっき、Ni/Auめっき、Ni/Pd/Auめっき、Pd/Agめっき、OSP膜から成る群から選択される少なくとも1種により被覆する。
A method for producing a printed wiring board according to claim 14,
The surface of the first pad portion exposed from the first opening is at least one selected from the group consisting of Sn plating, Ni / Au plating, Ni / Pd / Au plating, Pd / Ag plating, and OSP film. Cover.
JP2012277716A 2012-12-20 2012-12-20 Process of manufacturing printed wiring board and printed wiring board Pending JP2014123592A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012277716A JP2014123592A (en) 2012-12-20 2012-12-20 Process of manufacturing printed wiring board and printed wiring board

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012277716A JP2014123592A (en) 2012-12-20 2012-12-20 Process of manufacturing printed wiring board and printed wiring board

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2014123592A true JP2014123592A (en) 2014-07-03

Family

ID=51403878

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012277716A Pending JP2014123592A (en) 2012-12-20 2012-12-20 Process of manufacturing printed wiring board and printed wiring board

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2014123592A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021019166A (en) * 2019-07-24 2021-02-15 京セラ株式会社 Wiring board and electronic component packaging structure using the same
US11482502B2 (en) 2020-02-07 2022-10-25 Kioxia Corporation Semiconductor device and semiconductor device manufacturing method

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58182430U (en) * 1982-05-29 1983-12-05 ソニー株式会社 Flat package integrated circuit mounting equipment
JPS6112267U (en) * 1984-06-25 1986-01-24 松下電工株式会社 printed wiring board
JPH02260596A (en) * 1989-03-31 1990-10-23 Sharp Corp Method of mounting integrated circuit chip
JP2009043845A (en) * 2007-08-07 2009-02-26 Kyocer Slc Technologies Corp Wiring board
JP2009141274A (en) * 2007-12-10 2009-06-25 Dainippon Printing Co Ltd Semiconductor device and manufacturing method thereof, and substrate for semiconductor device and manufacturing method thereof
JP2011192692A (en) * 2010-03-12 2011-09-29 Mitsubishi Paper Mills Ltd Method of forming solder resist pattern
JP2012235166A (en) * 2012-08-23 2012-11-29 Shinko Electric Ind Co Ltd Wiring board and manufacturing method of the same

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58182430U (en) * 1982-05-29 1983-12-05 ソニー株式会社 Flat package integrated circuit mounting equipment
JPS6112267U (en) * 1984-06-25 1986-01-24 松下電工株式会社 printed wiring board
JPH02260596A (en) * 1989-03-31 1990-10-23 Sharp Corp Method of mounting integrated circuit chip
JP2009043845A (en) * 2007-08-07 2009-02-26 Kyocer Slc Technologies Corp Wiring board
JP2009141274A (en) * 2007-12-10 2009-06-25 Dainippon Printing Co Ltd Semiconductor device and manufacturing method thereof, and substrate for semiconductor device and manufacturing method thereof
JP2011192692A (en) * 2010-03-12 2011-09-29 Mitsubishi Paper Mills Ltd Method of forming solder resist pattern
JP2012235166A (en) * 2012-08-23 2012-11-29 Shinko Electric Ind Co Ltd Wiring board and manufacturing method of the same

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021019166A (en) * 2019-07-24 2021-02-15 京セラ株式会社 Wiring board and electronic component packaging structure using the same
JP7352328B2 (en) 2019-07-24 2023-09-28 京セラ株式会社 Wiring board and electronic component mounting structure using the same
US11482502B2 (en) 2020-02-07 2022-10-25 Kioxia Corporation Semiconductor device and semiconductor device manufacturing method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4619223B2 (en) Semiconductor package and manufacturing method thereof
US9627308B2 (en) Wiring substrate
JP5886617B2 (en) Wiring substrate, manufacturing method thereof, and semiconductor package
US9917025B2 (en) Printed wiring board and method for manufacturing printed wiring board
KR102072846B1 (en) Embedded package and method for manufacturing the same
US9793200B2 (en) Printed wiring board
JP5410580B1 (en) Wiring board
KR101811923B1 (en) Circuit board
JP2015106615A (en) Printed wiring board and method for manufacturing printed wiring board
JP5547615B2 (en) WIRING BOARD, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND WIRING BOARD MANUFACTURING METHOD
TWI543676B (en) Printed circuit board and method of manufacturing the same
JP6550260B2 (en) Wiring board and method of manufacturing wiring board
JP2016063130A (en) Printed wiring board and semiconductor package
JP2017084997A (en) Printed wiring board and method of manufacturing the same
JP2014072372A (en) Printed wiring board manufacturing method and printed wiring board
KR20150064976A (en) Printed circuit board and manufacturing method thereof
KR101713458B1 (en) Wiring board and method for manufacturing same
US20120152606A1 (en) Printed wiring board
US20100236822A1 (en) Wiring board and method for manufacturing the same
JP6699043B2 (en) Printed circuit board, manufacturing method thereof, and electronic component module
KR20150065029A (en) Printed circuit board, manufacturing method thereof and semiconductor package
JP2014123592A (en) Process of manufacturing printed wiring board and printed wiring board
JP2014096469A (en) Wiring board
JP4365515B2 (en) Manufacturing method of semiconductor module
JP2004327743A (en) Wiring board with solder bump and its producing process

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20151209

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20161019

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20161025

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20170418