JP2014110384A - インプリント装置、インプリント方法およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016051861A (ja) * | 2014-09-01 | 2016-04-11 | 大日本印刷株式会社 | インプリント装置、基準マーク基板、アライメント方法 |
| KR20200121741A (ko) * | 2019-04-16 | 2020-10-26 | 캐논 가부시끼가이샤 | 임프린트 장치 및 물품의 제조 방법 |
| US20230069081A1 (en) * | 2021-08-30 | 2023-03-02 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Method and system for adjusting the gap between a wafer and a top plate in a thin-film deposition process |
| WO2025094561A1 (ja) * | 2023-11-01 | 2025-05-08 | キヤノン株式会社 | 調整方法、インプリント方法、物品製造方法、およびインプリント装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010080714A (ja) * | 2008-09-26 | 2010-04-08 | Canon Inc | 押印装置および物品の製造方法 |
| JP2012089575A (ja) * | 2010-10-15 | 2012-05-10 | Canon Inc | リソグラフィ装置及び物品の製造方法 |
| JP2012178470A (ja) * | 2011-02-25 | 2012-09-13 | Canon Inc | インプリント装置及びデバイスの製造方法 |
-
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Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010080714A (ja) * | 2008-09-26 | 2010-04-08 | Canon Inc | 押印装置および物品の製造方法 |
| JP2012089575A (ja) * | 2010-10-15 | 2012-05-10 | Canon Inc | リソグラフィ装置及び物品の製造方法 |
| JP2012178470A (ja) * | 2011-02-25 | 2012-09-13 | Canon Inc | インプリント装置及びデバイスの製造方法 |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016051861A (ja) * | 2014-09-01 | 2016-04-11 | 大日本印刷株式会社 | インプリント装置、基準マーク基板、アライメント方法 |
| KR20200121741A (ko) * | 2019-04-16 | 2020-10-26 | 캐논 가부시끼가이샤 | 임프린트 장치 및 물품의 제조 방법 |
| JP2020177978A (ja) * | 2019-04-16 | 2020-10-29 | キヤノン株式会社 | インプリント装置及び物品の製造方法 |
| US11422461B2 (en) * | 2019-04-16 | 2022-08-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprint apparatus and method of manufacturing article |
| US20220342299A1 (en) * | 2019-04-16 | 2022-10-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprint apparatus and method of manufacturing article |
| JP7286391B2 (ja) | 2019-04-16 | 2023-06-05 | キヤノン株式会社 | インプリント装置及び物品の製造方法 |
| US11880132B2 (en) * | 2019-04-16 | 2024-01-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprint apparatus and method of manufacturing article |
| KR102766213B1 (ko) * | 2019-04-16 | 2025-02-12 | 캐논 가부시끼가이샤 | 임프린트 장치 및 물품의 제조 방법 |
| US20230069081A1 (en) * | 2021-08-30 | 2023-03-02 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Method and system for adjusting the gap between a wafer and a top plate in a thin-film deposition process |
| US12266579B2 (en) * | 2021-08-30 | 2025-04-01 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Method and system for adjusting the gap between a wafer and a top plate in a thin-film deposition process |
| WO2025094561A1 (ja) * | 2023-11-01 | 2025-05-08 | キヤノン株式会社 | 調整方法、インプリント方法、物品製造方法、およびインプリント装置 |
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