JP2014085285A

JP2014085285A - Sampling device

Info

Publication number: JP2014085285A
Application number: JP2012236280A
Authority: JP
Inventors: Kazumasa Onogi; 和了小野木; Akiko Baba; 晶子馬場; Hiroyuki Otsuki; 洋之大月; Shoji Ide; 省司井出
Original assignee: Shimadzu Corp
Current assignee: Shimadzu Corp
Priority date: 2012-10-26
Filing date: 2012-10-26
Publication date: 2014-05-12
Anticipated expiration: 2032-10-26
Also published as: JP5954114B2

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve cleaning efficiency of a piercer for carrying out boring of a cap of a specimen container.SOLUTION: A piercer cleaning port 26 is provided at a position different from a sampling position on the locus of a piercer 8. The piercer cleaning port 26 is cylindrically shaped and has an opening for inserting the piercer 8 on the upper surface and a cleaning space 32 for accommodating the piercer 8 inserted from the opening. The inner wall surface of the piercer cleaning port 26 is provided with an air ejection opening 42 for ejecting air and a cleaning liquid discharge port 44 for discharging water as a cleaning liquid. The air ejection opening 42 is provided at four equal places on the circumference along the inner wall surface of the cleaning space 32. The cleaning liquid discharge port 44 is provided at a position different from the air ejection opening 42, that is, at the four equal places on the circumference along the inner wall surface of the cleaning space 32.

Description

本発明は、試料容器に収容された試料をプローブにより吸入して所定の位置に分注する動作を自動的に行なうサンプリング装置に関するものである。 The present invention relates to a sampling device that automatically performs an operation of sucking a sample contained in a sample container with a probe and dispensing the sample at a predetermined position.

試料の分析を自動的に実行する自動分析装置には、試料をプローブにより採取するサンプリング装置が設けられている。サンプリング装置は、分析者が試料として血液などの試料を入れた試料容器を所定の場所に設置しておくと、その試料容器が所定の吸入位置に搬送され、試料吸入用のプローブがその吸入位置で試料容器内の試料を吸入し、別の場所に設けられた分注位置に試料を分注するという動作を自動的に実行する装置である。 An automatic analyzer that automatically performs analysis of a sample is provided with a sampling device that collects the sample with a probe. The sampling device is configured such that when an analyst places a sample container containing a sample such as blood as a sample in a predetermined place, the sample container is transported to a predetermined inhalation position, and a probe for inhaling the sample is in the inhalation position. Thus, the device automatically inhales the sample in the sample container and dispenses the sample to a dispensing position provided at another location.

試料容器に収容された試料の乾燥を防止するために、サンプリング装置に設置される試料容器の上面は弾性部材などからなるキャップにより封止されていることが一般的である。そのため、従来の一般的なサンプリング装置は、プローブで試料容器内の試料を吸入する際は、プローブを試料容器の上方から下降させて上面のキャップを貫通することでプローブの先端を試料容器内に挿入するようになっていた。しかし、プローブでキャップを貫通する際に生じたキャップの屑がプローブ先端の吸入・吐出口に入って詰まることがあった。 In order to prevent the sample contained in the sample container from drying, the upper surface of the sample container installed in the sampling device is generally sealed with a cap made of an elastic member or the like. For this reason, when a sample in a sample container is inhaled by a probe, the conventional general sampling apparatus lowers the probe from above the sample container and penetrates the top cap so that the tip of the probe enters the sample container. It was supposed to be inserted. However, cap debris generated when penetrating the cap with the probe may enter the suction / discharge port at the tip of the probe and become clogged.

キャップの削り屑がプローブの吸入・吐出口に詰まることを防止するために、プローブ先端部の側面に吸入・吐出口を設けることもあるが、そうすると試料容器に収容されている試料の全てをプローブで吸入することができなくなり、試料のデッドボリュームが大きくなるという問題があった。また、プローブ先端部の側面に吸入・吐出口を設けると水切れも悪くなり、最小分注量が大きくなるという問題もあった。 In order to prevent capping chips from clogging the probe suction / discharge port, a suction / discharge port may be provided on the side of the probe tip, but if this is done, all of the sample contained in the sample container will be probed. Inability to inhale with this increases the dead volume of the sample. In addition, when the suction / discharge port is provided on the side surface of the probe tip, there is a problem that water drainage is worsened and the minimum dispensing amount is increased.

そこで、試料の吸入・吐出を行なうためのプローブとは別に、試料容器のキャップを貫通して穿孔するためのピアサを装置に設けることが提案され、実施されている（特許文献１参照。）。一般的なピアサは先端の尖った円筒形状の部材であり、キャップに対して上方から下降することでキャップを貫通し、その貫通部分にプローブが通過することのできる大きさの孔を形成するものである。 Therefore, it has been proposed and implemented to provide a piercer for penetrating through the cap of the sample container separately from the probe for inhaling and discharging the sample (see Patent Document 1). A general piercer is a cylindrical member with a pointed tip that descends from the top of the cap to penetrate the cap and form a hole of a size that allows the probe to pass through the penetrating portion. It is.

ピアサを備えたサンプリング装置は、サンプリングの対象となっている試料容器が所定のサンプリング位置に配置されると、まずピアサが試料容器の上方から下降し、試料容器の上面を封止しているキャップを貫通したところで停止する。その後、プローブがキャップを貫通したピアサの上方から下降し、筒状のピアサの内側を通ってキャップに形成された孔を通過して試料容器内に進入し、プローブの先端から試料容器内の試料を吸入する。 The sampling device provided with the piercer is a cap that seals the upper surface of the sample container by first lowering the piercer from above the sample container when the sample container to be sampled is arranged at a predetermined sampling position. Stop when it passes through. Thereafter, the probe descends from above the piercer penetrating the cap, passes through the inside of the cylindrical piercer, passes through the hole formed in the cap, enters the sample container, and the sample in the sample container from the tip of the probe Inhale.

試料容器として真空採血管を用いて採血を行なった場合、血液を吸入したプローブを採血管のキャップから引き抜くと、キャップ上に若干量の血液が残ることがある。この採血管に対してピアサによる穿孔動作を行なうと、ピアサに血液が付着する。また、再検などで一度穿孔を行なった採血管に対して再び穿孔を行なうと、ピアサの内面や外面に血液だけでなくゴムキャップの細かい削りカスが付着して汚れてしまう。このようなピアサの汚れによって試料間の汚染が生じることを防止するため、ピアサの洗浄を行なうことができるようになっていることが好ましい。 When blood collection is performed using a vacuum blood collection tube as a sample container, a slight amount of blood may remain on the cap when the probe that has sucked the blood is pulled out from the cap of the blood collection tube. When a piercing operation is performed on the blood collection tube by the piercer, blood adheres to the piercer. Further, if the blood collection tube once punctured by re-examination or the like is punctured again, not only blood but also fine shavings of the rubber cap adhere to the inner surface and outer surface of the piercer and become dirty. In order to prevent contamination between samples due to such contamination of the piercer, it is preferable that the piercer can be cleaned.

特表平３−５０１１６８号公報Japanese National Patent Publication No. 3-501168 特表２００８−５４２６８９号公報Japanese translation of PCT publication No. 2008-542689 特開２００５−１２７８９６号公報JP 2005-127896 A

ピアサの外面を洗浄する方法が特許文献２に開示されている。特許文献２に開示されている方法は、洗浄液をスプレーする機構を装置に設け、スプレー状の洗浄液をピアサの外周面に対して吹き付ける方法であるが、この方法では、ピアサの外面の汚れを完全に除去するために大量の洗浄液をピアサに対して吹き付ける必要があり、洗浄液の消費量が多く使用後の洗浄液を溜めておく容器がすぐに一杯になるという問題がある。 Patent Document 2 discloses a method for cleaning the outer surface of a piercer. The method disclosed in Patent Document 2 is a method in which a mechanism for spraying the cleaning liquid is provided in the apparatus and sprayed cleaning liquid is sprayed on the outer peripheral surface of the piercer. In this method, dirt on the outer surface of the piercer is completely removed. Therefore, it is necessary to spray a large amount of cleaning liquid on the piercer, and there is a problem that the consumption of the cleaning liquid is large and the container for storing the cleaning liquid after use is quickly filled.

また、特許文献３には、ピアサの内側の空間を密閉空間にしてピアサの一端側から他端側へ洗浄液を流すことができるように構成し、プローブをピアサの内側に入れた状態でピアサの内側の空間において洗浄液を流通させることで、ピアサの内面とプローブの外周面とを同時に洗浄する方法が開示されている。しかし、この方法では、ピアサの内側から洗浄液の漏れがないようにピアサの内側の空間を密閉する機構に高いシール性が必要である。また、この方法でピアサの外周面を洗浄するためには、ピアサの外形よりも大きい内径を有するチャンバを用い、そのチャンバ内にピアサを収容した状態で内部において洗浄液を流通させなければならない。そうすると、チャンバ内の密閉空間を維持するための高いシール性とそのような大きな空間内の洗浄液を吸引する大きな吸引力を発生させる機構が必要となり、装置のコストが高くなる。 In Patent Document 3, the inner space of the piercer is set as a sealed space so that the cleaning liquid can flow from one end side to the other end side of the piercer. A method of simultaneously cleaning the inner surface of the piercer and the outer peripheral surface of the probe by circulating a cleaning liquid in the inner space is disclosed. However, in this method, a high sealing performance is required for the mechanism that seals the space inside the piercer so that the cleaning liquid does not leak from the inside of the piercer. Further, in order to clean the outer peripheral surface of the piercer by this method, a chamber having an inner diameter larger than the outer shape of the piercer must be used, and the cleaning liquid must be circulated inside the piercer in a state where the piercer is accommodated in the chamber. In this case, a high sealing performance for maintaining the sealed space in the chamber and a mechanism for generating a large suction force for sucking the cleaning liquid in such a large space are required, which increases the cost of the apparatus.

そこで、本発明は、試料容器のキャップの穿孔を行なうピアサの洗浄効率を向上させることを目的とするものである。 In view of the above, an object of the present invention is to improve the cleaning efficiency of a piercer that perforates a cap of a sample container.

本発明にかかるサンプリング装置の第１の態様は、鉛直向きに配置され液の吸入と吐出を行なうプローブと、内側を前記プローブが通過することのできる筒状の部材であって、その先端が尖端形状となっており試料の収容された試料容器の上面を封止するキャップを先端により穿孔するピアサと、プローブを水平面内方向と上下方向へ駆動するプローブ駆動機構と、ピアサを水平面内方向と上下方向へ駆動するピアサ駆動機構と、ピアサが移動可能な位置であってピアサが試料容器の上面のキャップの穿孔動作を実行する位置とは別の位置に設けられたピアサ洗浄ポートであって、上面に開口をもちその開口から挿入されたピアサを洗浄する洗浄空間を有するとともにその洗浄空間の下方に洗浄液を排出する洗浄液排出流路が接続されているピアサ洗浄ポートと、ピアサ洗浄ポートに設けられ、洗浄空間内に挿入されたピアサに対し洗浄空間の内壁面に沿った円周上に均等に配置された複数の洗浄液吐出口から同時に洗浄液を吐出することによりピアサの外周面に洗浄液からなる膜を周方向に形成する洗浄液吐出機構と、プローブ駆動機構、ピアサ駆動機構及び洗浄液吐出機構の動作を制御する制御部であって、ピアサを洗浄空間内に配置して洗浄液吐出機構から洗浄液を吐出させるピアサ外面洗浄動作を実行するためのピアサ外面洗浄手段を備えた制御部と、を備えているものである。 A first aspect of the sampling device according to the present invention is a probe that is arranged in a vertical direction and sucks and discharges liquid, and a cylindrical member through which the probe can pass, the tip of which is a pointed tip. A piercer that has a shape and pierces a cap that seals the upper surface of the sample container containing the sample with a tip, a probe drive mechanism that drives the probe in a horizontal plane direction and a vertical direction, and a piercer in a horizontal plane direction and a vertical direction A piercer drive mechanism for driving in a direction, and a piercer cleaning port provided at a position different from a position where the piercer can move and the piercer performs a drilling operation of a cap on the upper surface of the sample container. A cleaning space for cleaning the piercer inserted through the opening and a cleaning liquid discharge channel for discharging the cleaning liquid is connected below the cleaning space. The cleaning liquid is simultaneously discharged from a plurality of cleaning liquid discharge ports provided at the assembly cleaning port and the piercer cleaning port and evenly arranged on the circumference along the inner wall surface of the cleaning space with respect to the piercer inserted into the cleaning space. A cleaning liquid discharge mechanism that forms a film made of a cleaning liquid on the outer peripheral surface of the piercer in the circumferential direction, and a control unit that controls the operation of the probe drive mechanism, the piercer drive mechanism, and the cleaning liquid discharge mechanism. And a controller having a piercer outer surface cleaning means for performing a piercer outer surface cleaning operation for disposing and discharging the cleaning liquid from the cleaning liquid discharge mechanism.

本発明にかかるサンプリング装置の第２の態様は、鉛直向きに配置され液の吸入と吐出を行なうプローブと、内側をプローブが通過することのできる筒状の部材であって、その先端が尖端形状となっており試料の収容された試料容器の上面を封止するキャップを先端により穿孔するピアサと、プローブを水平面内方向と上下方向へ駆動するプローブ駆動機構と、プローブ駆動機構とは別の機構として設けられピアサを水平面内方向と上下方向へ駆動するピアサ駆動機構と、ピアサの上方に位置してピアサの内側へ洗浄液を吐出することが可能なピアサ洗浄ノズルと、ピアサ洗浄ノズルから吐出される洗浄液を排出するための洗浄液排出ポートと、プローブ駆動機構、ピアサ駆動機構及びピアサ洗浄ノズルの動作を制御する制御部であって、ピアサを洗浄液排出ポート内に配置させるとともにピアサ洗浄ノズルをピアサの上方に配置させた状態で、ピアサの内側に向かってピアサ洗浄ノズルから洗浄液を吐出させるピアサ内面洗浄動作を実行するためのピアサ内面洗浄手段を有する制御部と、を備えたものである。 A second aspect of the sampling device according to the present invention includes a probe that is arranged in a vertical direction and that sucks and discharges liquid, and a cylindrical member that allows the probe to pass through the inside, and the tip of the probe is pointed. A piercer that perforates a cap that seals the upper surface of a sample container containing a sample with a tip, a probe drive mechanism that drives the probe in the horizontal plane direction and the vertical direction, and a mechanism that is different from the probe drive mechanism A piercer driving mechanism that drives the piercer in a horizontal plane direction and a vertical direction, a piercer cleaning nozzle that is located above the piercer and that can discharge cleaning liquid to the inside of the piercer, and is discharged from the piercer cleaning nozzle A controller that controls the operation of the cleaning liquid discharge port for discharging the cleaning liquid and the probe driving mechanism, the piercer driving mechanism, and the piercer cleaning nozzle. Cleaning the piercer inner surface for performing a piercer inner surface cleaning operation for discharging the cleaning liquid from the piercer cleaning nozzle toward the inside of the piercer while the piercer is disposed in the cleaning liquid discharge port and the piercer cleaning nozzle is disposed above the piercer. And a control unit having means.

本発明者らは、洗浄方法によるピアサの外周面の洗浄効率の違いを実験により検証した結果、ピアサの外周面に洗浄液の膜を周方向に形成することで最も効率よくピアサの外周面を洗浄することができ、スプレー状の洗浄液を単にピアサに吹き付けて洗浄する場合に比べて少ない洗浄液で高い洗浄効果が得られることを見出した。本発明の第１の態様はかかる知見に基づいてなされたものである。 As a result of experimentally verifying the difference in cleaning efficiency of the outer peripheral surface of the piercer by the cleaning method, the present inventors cleaned the outer peripheral surface of the piercer most efficiently by forming a cleaning liquid film on the outer peripheral surface of the piercer in the circumferential direction. It has been found that a high cleaning effect can be obtained with a small amount of cleaning liquid as compared with a case where cleaning is performed by simply spraying the piercer with a spray-like cleaning liquid. The first aspect of the present invention has been made based on such findings.

本発明のサンプリング装置の第１の態様は、ピアサを洗浄する洗浄空間を有するピアサ洗浄ポートを備え、ピアサ洗浄ポートには、洗浄空間内に挿入されたピアサに対し洗浄空間の内壁面に沿った円周上に均等に配置された複数の洗浄液吐出口から同時に洗浄液を吐出することによりピアサの外周面に洗浄液からなる膜を周方向に形成する洗浄液吐出機構が設けられ、プローブ駆動機構、ピアサ駆動機構及び洗浄液吐出機構の動作を制御する制御部には、ピアサを洗浄空間内に配置して洗浄液吐出機構から洗浄液を吐出させるピアサ外面洗浄手段が設けられているので、単にスプレー状の洗浄液をピアサに吹き付けて洗浄する場合に比べて少量の洗浄液で効率よくピアサの外周面の洗浄を行なうことができる。 A first aspect of the sampling device of the present invention includes a piercer cleaning port having a cleaning space for cleaning a piercer, and the piercer cleaning port extends along the inner wall surface of the cleaning space with respect to the piercer inserted into the cleaning space. A cleaning liquid discharge mechanism for forming a film made of the cleaning liquid in the circumferential direction on the outer peripheral surface of the piercer by simultaneously discharging the cleaning liquid from a plurality of cleaning liquid discharge ports arranged uniformly on the circumference is provided. The controller that controls the operation of the mechanism and the cleaning liquid discharge mechanism is provided with piercer outer surface cleaning means for disposing the piercer in the cleaning space and discharging the cleaning liquid from the cleaning liquid discharge mechanism. The outer peripheral surface of the piercer can be efficiently cleaned with a small amount of cleaning liquid as compared with the case of cleaning by spraying onto the piercer.

また、プローブがピアサの内側を通って試料容器内に挿入される方式では、プローブの外周面に付着した試料がピアサの内面に付着することがある。しかし、ピアサとプローブの駆動機構が共通化されてピアサとプローブが同軸上に配置されている装置では、特許文献３に開示されている方法によって内面を洗浄することは可能であるが、そのためには、ピアサの内側の空間を高いシール性をもって封止する機構と、ピアサ内に供給された洗浄液を強い吸引力で吸引する機構が必要であった。 Further, in the method in which the probe is inserted into the sample container through the inside of the piercer, the sample attached to the outer peripheral surface of the probe may adhere to the inner surface of the piercer. However, in an apparatus in which the drive mechanism of the piercer and the probe is made common and the piercer and the probe are coaxially arranged, the inner surface can be cleaned by the method disclosed in Patent Document 3, but for that purpose Required a mechanism for sealing the space inside the piercer with high sealing performance and a mechanism for sucking the cleaning liquid supplied into the piercer with a strong suction force.

本発明のサンプリング装置の第２の態様によれば、ピアサ駆動機構がプローブ駆動機構とは別の機構となっており、ピアサの上方に位置してピアサの内側へ洗浄液を吐出することが可能なピアサ洗浄ノズルと、ピアサ洗浄ノズルから吐出される洗浄液を排出するための洗浄液排出ポートを備えているので、ピアサを洗浄液排出ポート内に配置させるとともにピアサ洗浄ノズルをピアサの上方に配置させた状態で、ピアサの内側に向かってピアサ洗浄ノズルから洗浄液を吐出させることでピアサの内面の洗浄を行なうことができる。そして、このサンプリング装置の動作を制御する制御部が上記のピアサ内面洗浄動作を実行するためのピアサ内面洗浄手段を備えているので、必要に応じて装置が自動的にピアサの内面の洗浄を実行し、ピアサの内面に付着した試料によるコンタミネーション等の問題が防止される。 According to the second aspect of the sampling device of the present invention, the piercer drive mechanism is a mechanism different from the probe drive mechanism, and can be located above the piercer and discharge the cleaning liquid to the inside of the piercer. Since the piercer cleaning nozzle and the cleaning liquid discharge port for discharging the cleaning liquid discharged from the piercer cleaning nozzle are provided, the piercer is disposed in the cleaning liquid discharge port and the piercer cleaning nozzle is disposed above the piercer. The inner surface of the piercer can be cleaned by discharging the cleaning liquid from the piercer cleaning nozzle toward the inside of the piercer. And since the control part which controls operation | movement of this sampling apparatus is equipped with the piercer inner surface washing | cleaning means for performing said piercer inner surface washing | cleaning operation | movement, the apparatus automatically performs the inner surface washing | cleaning of a piercer as needed. In addition, problems such as contamination due to the sample adhering to the inner surface of the piercer are prevented.

サンプリング装置の一実施例を示す平面図である。It is a top view which shows one Example of a sampling device. 同実施例のピアサ洗浄機構のピアサの洗浄動作前の状態を示す側面断面図である。It is side surface sectional drawing which shows the state before the cleaning operation | movement of the piercer of the piercer cleaning mechanism of the Example. 同実施例のピアサ洗浄機構のピアサの洗浄動作時の状態を示す側面断面図である。It is side surface sectional drawing which shows the state at the time of the washing | cleaning operation | movement of the piercer of the piercer washing | cleaning mechanism of the Example. 同実施例のピアサ洗浄ポートの構造を示す図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は（Ａ）のＸ−Ｘ位置における断面図、（Ｃ）は（Ａ）のＹ−Ｙ位置における断面図である。It is a figure which shows the structure of the piercer washing | cleaning port of the Example, (A) is a top view, (B) is sectional drawing in the XX position of (A), (C) is the YY position of (A). FIG. 同実施例の制御系統を概略的に示すブロック図である。It is a block diagram which shows roughly the control system of the Example. 同実施例のサンプリング動作を説明するためのフローチャートである。It is a flowchart for demonstrating the sampling operation | movement of the Example. 同実施例のピアサ洗浄動作を説明するためのフローチャートである。It is a flowchart for demonstrating the piercer washing | cleaning operation | movement of the Example.

本発明にかかるサンプリング装置の第１の態様において、ピアサ外面洗浄動作は、ピアサの外周面に洗浄液からなる膜を周方向に形成しながら膜の形成範囲がピアサの外周面の洗浄範囲を網羅するようにピアサを上下方向へ移動させるものであることが好ましい。
ピアサの周囲を囲う洗浄空間の内壁面がピアサに接近している場合、ピアサの外周面に周囲から洗浄液を吐出することによって洗浄液の膜を形成しても、洗浄液の一部が洗浄空間の内壁面側へ移動して途中から膜をなさなくなることがある。そのため、ピアサを一定位置で停止させた状態で洗浄液吐出機構から洗浄液を吐出させるだけでは、ピアサの外周面の洗浄が不十分となり得る。そこで、ピアサの外周面に洗浄液からなる膜を周方向に形成しながら膜の形成範囲がピアサの外周面の洗浄範囲を網羅するようにピアサを上下方向へ移動させることで、ピアサの外周面の洗浄が不十分となることを防止できる。 In the first aspect of the sampling apparatus according to the present invention, the piercer outer surface cleaning operation forms a film made of a cleaning liquid on the outer peripheral surface of the piercer in the circumferential direction, and the film formation range covers the cleaning range of the outer peripheral surface of the piercer. Thus, it is preferable that the piercer is moved in the vertical direction.
When the inner wall surface of the cleaning space surrounding the piercer is close to the piercer, even if a cleaning liquid film is formed on the outer peripheral surface of the piercer by discharging the cleaning liquid from the periphery, a part of the cleaning liquid remains in the cleaning space. It may move to the wall surface side and stop forming a film from the middle. Therefore, the cleaning of the outer peripheral surface of the piercer can be insufficient only by discharging the cleaning liquid from the cleaning liquid discharge mechanism while the piercer is stopped at a fixed position. Therefore, by moving the piercer up and down so that the film formation range covers the outer peripheral surface of the piercer while forming a film made of a cleaning solution in the peripheral direction on the outer peripheral surface of the piercer, Insufficient cleaning can be prevented.

本発明にかかるサンプリング装置の第１の態様においては、洗浄液吐出機構は洗浄液吐出口から洗浄液を斜め下方向へ吐出するように構成されていることが好ましい。そうすれば、ピアサの外周面の周方向に洗浄液からなる膜が形成されやすくなり、ピアサの外周面の洗浄力が向上する。 In the first aspect of the sampling apparatus according to the present invention, the cleaning liquid discharge mechanism is preferably configured to discharge the cleaning liquid obliquely downward from the cleaning liquid discharge port. If it does so, it will become easy to form the film | membrane which consists of washing | cleaning liquid in the circumferential direction of the outer peripheral surface of a piercer, and the cleaning power of the outer peripheral surface of a piercer will improve.

本発明にかかるサンプリング装置の第１の態様においては、ピアサ洗浄ポートはその洗浄空間に収容されたピアサに対してその周囲からエアーを吹き付けるエアー噴出機構をさらに備え、制御部は、エアー噴出機構からピアサに対してエアーを吹き付けるピアサ外面乾燥動作を実行するためのピアサ外面乾燥手段をさらに備えていることが好ましい。そうすれば、ピアサ洗浄ポート内で洗浄された後のピアサの乾燥を自動的に行なうことができる。 In the first aspect of the sampling device according to the present invention, the piercer cleaning port further includes an air ejection mechanism that blows air from the periphery to the piercer accommodated in the cleaning space, and the control unit is configured to operate from the air ejection mechanism. It is preferable to further include a piercer outer surface drying means for performing a piercer outer surface drying operation for blowing air to the piercer. Then, the piercer can be automatically dried after being washed in the piercer washing port.

上記エアー噴出機構はピアサに対してエアーを斜め下方向へ吹き付けるように構成されていることが好ましい。そうすれば、ピアサの外周面に付着した洗浄液を効率よく洗浄液排出流路側へ吹き飛ばすことができ、ピアサの外周面の乾燥効率を向上させることができる。 It is preferable that the air ejection mechanism is configured to blow air toward the piercer obliquely downward. If it does so, the washing | cleaning liquid adhering to the outer peripheral surface of a piercer can be efficiently blown off to the washing | cleaning-liquid discharge flow path side, and the drying efficiency of the outer peripheral surface of a piercer can be improved.

本発明にかかるサンプリング装置の第２の態様においては、ピアサ洗浄ノズルは洗浄液とは別のタイミングでエアーを噴出することが可能であり、制御部は、ピアサを洗浄液排出ポート内に配置するとともにピアサ洗浄ノズルをピアサの上方に配置した状態で、ピアサ洗浄ノズルからエアーを噴出するピアサ内面乾燥動作を実行するためのピアサ内面乾燥手段をさらに備えていることが好ましい。そうすれば、ピアサの内面の洗浄を実行した後、そのままの状態でピアサの内面の乾燥を実行することができる。 In the second aspect of the sampling device according to the present invention, the piercer cleaning nozzle can eject air at a timing different from that of the cleaning liquid, and the control unit arranges the piercer in the cleaning liquid discharge port and It is preferable to further include a piercer inner surface drying means for performing a piercer inner surface drying operation for ejecting air from the piercer cleaning nozzle in a state where the cleaning nozzle is disposed above the piercer. Then, after cleaning the inner surface of the piercer, the inner surface of the piercer can be dried as it is.

さらに、本発明にかかるサンプリング装置の第２の態様において、ピアサが移動可能な位置であってピアサが試料容器の上面のキャップの穿孔動作を実行する位置とは別の位置に、上面に開口をもちその開口から挿入されたピアサを洗浄する洗浄空間を有するピアサ洗浄ポートが洗浄液排出ポートとして設けられ、ピアサ洗浄ポートは、洗浄空間内に挿入されたピアサに対しその周囲の複数の位置から同時に洗浄液を吐出する洗浄液吐出機構が設けられており、制御部は、ピアサを洗浄空間内に配置し、洗浄液吐出機構から洗浄液を吐出してピアサの外周面に洗浄液からなる膜を周方向に形成するピアサ外面洗浄動作を実行するためのピアサ外面洗浄手段をさらに備えていることが好ましい。そうすれば、ピアサをピアサ洗浄ポート内に挿入した状態で、ピアサの内面と外周面の両方を同時に洗浄することも可能となり、ピアサの洗浄効率をさらに向上させることができる。
既述のように、特許文献２に開示された構成によりピアサの外周面を洗浄することができ、特許文献３に開示された構成によってピアサの内面を洗浄することができるが、これらいずれの構成を採用しても、ピアサの外周面と内面の両方を同時に洗浄することは不可能である。 Furthermore, in the second aspect of the sampling apparatus according to the present invention, the opening is opened at a position different from the position where the piercer can move and the piercer performs a drilling operation of the cap on the upper surface of the sample container. A piercer cleaning port having a cleaning space for cleaning the piercer inserted from the opening is provided as a cleaning liquid discharge port. The piercer cleaning port is configured to simultaneously wash cleaning liquid from a plurality of positions around the piercer inserted into the cleaning space. A cleaning liquid discharge mechanism is provided, and the control unit arranges the piercer in the cleaning space, discharges the cleaning liquid from the cleaning liquid discharge mechanism, and forms a film made of the cleaning liquid on the outer peripheral surface of the piercer in the circumferential direction. It is preferable to further include a piercer outer surface cleaning means for performing an outer surface cleaning operation. Then, both the inner surface and the outer peripheral surface of the piercer can be cleaned at the same time while the piercer is inserted into the piercer cleaning port, and the cleaning efficiency of the piercer can be further improved.
As described above, the outer peripheral surface of the piercer can be cleaned by the configuration disclosed in Patent Document 2, and the inner surface of the piercer can be cleaned by the configuration disclosed in Patent Document 3, but any of these configurations can be used. However, it is impossible to clean both the outer peripheral surface and the inner surface of the piercer at the same time.

上記の場合も、本発明の第１の態様と同様に、ピアサ外面洗浄動作は、ピアサの外周面に洗浄液からなる膜を周方向に形成しながら膜の形成範囲がピアサの外周面の洗浄範囲を網羅するようにピアサを上下方向へ移動させるものであることが好ましい。 Also in the above case, as in the first aspect of the present invention, the outer surface cleaning operation of the piercer is performed by forming a film made of a cleaning liquid in the circumferential direction on the outer peripheral surface of the piercer while the film formation range is the cleaning range of the outer peripheral surface of the piercer. It is preferable to move the piercer in the vertical direction so as to cover the above.

また、ピアサ洗浄ポートはその洗浄空間に収容されたピアサに対してその周囲からエアーを吹き付けるエアー噴出機構をさらに備え、制御部は、ピアサを洗浄液排出ポート内に配置するとともにピアサ洗浄ノズルをピアサの上方に配置した状態で、エアー噴出機構からピアサに対してエアーを吹き付けるピアサ外面乾燥動作を実行するためのピアサ外面乾燥手段をさらに備えていることが好ましい。そうすれば、ピアサ洗浄ポート内で洗浄された後のピアサの乾燥を自動的に行なうことができる。 The piercer cleaning port further includes an air ejection mechanism that blows air from the periphery to the piercer accommodated in the cleaning space, and the control unit arranges the piercer in the cleaning liquid discharge port, and the piercer cleaning nozzle is connected to the piercer cleaning port. It is preferable to further include a piercer outer surface drying means for performing a piercer outer surface drying operation in which air is blown from the air blowing mechanism to the piercer in a state of being disposed above. Then, the piercer can be automatically dried after being washed in the piercer washing port.

さらに、ピアサの洗浄が実行される際のピアサ内面洗浄動作、ピアサ外面洗浄動作、ピアサ内面乾燥動作及びピアサ外面乾燥動作の各動作の実行されるタイミングを保持する洗浄シーケンス保持部をさらに備え、その洗浄シーケンス保持部は、ピアサ内面洗浄動作及びピアサ外面洗浄動作を実行した後でピアサ内面乾燥動作を実行し、ピアサ内面乾燥動作の実行中にピアサ外面乾燥動作を実行するように構成された洗浄シーケンスを保持していることが好ましい。先にピアサ洗浄ノズルからピアサの内側に向かって下方にエアーを噴出することで、ピアサの内面に付着していた洗浄液がピアサの下方へ落下する。ピアサ内面の洗浄液が落下することによってピアサの下方にベンチュリ効果による陰圧が発生し、そのタイミングでピアサの周囲からピアサの外周面に向かってエアーを吹き付けると、ピアサの周囲の洗浄液やエアーが陰圧となっているピアサの下方へ吸引される。これにより、ピアサの周囲への洗浄液の飛散を防止しながらピアサの外周面を効率よく乾燥することができる。 Furthermore, a cleaning sequence holding unit that holds the timing of each operation of the piercer inner surface cleaning operation, the piercer outer surface cleaning operation, the piercer inner surface drying operation, and the piercer outer surface drying operation when the piercer cleaning is executed, The cleaning sequence holding unit is configured to perform the piercer inner surface drying operation after executing the piercer inner surface cleaning operation and the piercer outer surface cleaning operation, and perform the piercer outer surface drying operation during the execution of the piercer inner surface drying operation. Is preferably maintained. By first ejecting air downward from the piercer cleaning nozzle toward the inside of the piercer, the cleaning liquid adhering to the inner surface of the piercer falls down to the piercer. When the cleaning liquid on the inner surface of the piercer falls, negative pressure due to the venturi effect is generated below the piercer. When air is blown from the periphery of the piercer toward the outer peripheral surface of the piercer, the cleaning liquid or air around the piercer is negatively affected. It is sucked down the piercer that is under pressure. Thereby, the outer peripheral surface of the piercer can be efficiently dried while preventing the cleaning liquid from splashing around the piercer.

以下、図面を参照しながら本発明のサンプリング装置の一実施例について説明する。まず、図１を用いてサンプリング装置の全体の構成について説明する。図１は上からみた平面図であるので、紙面の面内方向が水平方向、紙面垂直方向が上下方向である。
試料の吸入と吐出を行なうプローブ４がその先端を下向きにしてプローブ駆動機構としてのプローブアーム２の先端部に装着されている。プローブアーム２は水平面内において回転駆動することによってプローブ４を水平面内方向において移動させ、また、プローブ４を上下方向へ移動させることができる。プローブ４は円弧状の軌道を描くように水平面内において駆動される。プローブ４の軌道上であって後述するピアサ８の軌道上の位置（図示の位置）がサンプリング位置として設定されている。サンプリング位置はピアサ８による試料容器のキャップの穿孔動作とプローブ４による試料採取が行なわれる位置である。 Hereinafter, an embodiment of a sampling apparatus of the present invention will be described with reference to the drawings. First, the overall configuration of the sampling apparatus will be described with reference to FIG. Since FIG. 1 is a plan view seen from above, the in-plane direction of the paper surface is the horizontal direction, and the vertical direction of the paper surface is the vertical direction.
A probe 4 that sucks and discharges a sample is mounted on the tip of a probe arm 2 as a probe driving mechanism with its tip facing downward. The probe arm 2 can be rotated in the horizontal plane to move the probe 4 in the horizontal plane direction, and can move the probe 4 in the vertical direction. The probe 4 is driven in a horizontal plane so as to draw an arcuate trajectory. A position on the trajectory of the probe 4 and on the trajectory of the piercer 8 described later (position shown in the figure) is set as a sampling position. The sampling position is a position where a piercing operation of the cap of the sample container by the piercer 8 and sampling by the probe 4 are performed.

プローブアーム２とは別の位置にプローブアーム２よりも低い高さで水平方向へ延びたピアサアーム６が設けられている。ピアサアーム６は基端側の駆動軸１０を中心に水平面内において回転駆動される。ピアサアーム６の先端部にピアサ８がその先端部を下向きにした状態で保持されている。ピアサ８はプローブ４の外径よりも大きい内径をもつ円筒部材であり、先端部が尖端形状となっている。 A piercer arm 6 extending in the horizontal direction at a lower height than the probe arm 2 is provided at a position different from the probe arm 2. The piercer arm 6 is driven to rotate in a horizontal plane around the drive shaft 10 on the base end side. A piercer 8 is held at the tip of the piercer arm 6 with the tip facing downward. The piercer 8 is a cylindrical member having an inner diameter larger than the outer diameter of the probe 4, and the tip portion has a pointed shape.

ピアサ８はピアサ駆動機構としてのピアサアーム６によって水平面内方向において円弧を描くように駆動されるとともに、上下方向へ移動することができる。ピアサ８の水平面内方向における軌道はプローブ４の水平面内方向における軌道上に設定されたサンプリング位置を通るように設定されている。サンプリング位置に搬送されてきた試料容器の上面のキャップをピアサ８で貫通して穿孔し、その後、キャップを貫通したピアサ８の上方からプローブ４を下降させてピアサ４の内側を通過させることで、試料容器内にプローブ４を挿入することができる。 The piercer 8 is driven to draw an arc in the horizontal plane direction by a piercer arm 6 as a piercer drive mechanism, and can move in the vertical direction. The trajectory in the horizontal plane direction of the piercer 8 is set so as to pass through the sampling position set on the trajectory in the horizontal plane direction of the probe 4. By piercing the cap on the upper surface of the sample container that has been transported to the sampling position with the piercer 8, and then lowering the probe 4 from above the piercer 8 that has passed through the cap and passing inside the piercer 4, The probe 4 can be inserted into the sample container.

プローブ４により採取すべき試料を収容した試料容器２０は、一定本数（この実施例では５本）ごとにサンプルラック１８によって一列に保持され、サンプルラック１８はサンプルトレイ１６に設置される。サンプルトレイ１６はコンベア１２のベルト１４上に配置されており、一方向へ搬送されるようになっている。サンプルトレイ１６に設置されているサンプルラック１８を保持してコンベア１２の搬送方向とは垂直な方向へ取り出すハンドラ２２が設けられている。ハンドラ２２はコンベア１２によって所定の位置に搬送されたサンプルラック１８を保持し、そのサンプルラック１８に保持されている試料容器２０のうち任意の試料容器２０をサンプリング位置に移動させることができる。 Sample containers 20 containing samples to be collected by the probe 4 are held in a row by a sample rack 18 every fixed number (five in this embodiment), and the sample rack 18 is installed on the sample tray 16. The sample tray 16 is disposed on the belt 14 of the conveyor 12 and is conveyed in one direction. A handler 22 that holds the sample rack 18 installed on the sample tray 16 and takes it out in a direction perpendicular to the conveying direction of the conveyor 12 is provided. The handler 22 holds the sample rack 18 conveyed to a predetermined position by the conveyor 12 and can move any sample container 20 among the sample containers 20 held in the sample rack 18 to the sampling position.

ピアサ８の軌道上であってサンプリング位置とは異なる位置にピアサ洗浄ポート２６が設けられている。ピアサ洗浄ノズル３０を先端部で保持する注水アーム２８が設けられている。注水アーム２８はピアサ８の上端よりも高い位置（紙面垂直方向の手前側）においてピアサ洗浄ノズル３０をそのノズル口が下向きになるように保持しており、ピアサ洗浄ノズル３０をピアサ洗浄ポート２６上の位置へ配置することができる。ピアサ洗浄ポート２６及びピアサ洗浄ノズル３０については後述する。 A piercer cleaning port 26 is provided at a position different from the sampling position on the track of the piercer 8. A water injection arm 28 is provided to hold the piercer cleaning nozzle 30 at the tip. The water injection arm 28 holds the piercer cleaning nozzle 30 at a position higher than the upper end of the piercer 8 (front side in the direction perpendicular to the paper surface) so that the nozzle opening faces downward, and the piercer cleaning nozzle 30 is placed on the piercer cleaning port 26. It can be arranged at the position. The piercer cleaning port 26 and the piercer cleaning nozzle 30 will be described later.

このサンプリング装置はサンプルトレイ１６に設置された試料容器２０とは別にサンプリングすべき試料容器を設置するための検体設置部２４が設けられている。検体設置部２４では上面が開放された状態の試料容器がプローブ４の軌道上の位置に配置される。これらの試料容器のサンプリングが実行される際は、プローブ４が検体設置部２４に設置されている試料容器の位置まで移動してサンプリングが行なわれる。 This sampling apparatus is provided with a specimen installation unit 24 for installing a sample container to be sampled separately from the sample container 20 installed on the sample tray 16. In the specimen setting unit 24, the sample container having an open upper surface is arranged at a position on the orbit of the probe 4. When sampling of these sample containers is executed, the probe 4 is moved to the position of the sample container installed in the sample installation unit 24 and sampling is performed.

このサンプリング装置のサンプリング動作の一例を図６を用いて説明する。
まず、サンプリングすべき試料容器２０をコンベア１２及びハンドラ２２によって所定のサンプリング位置まで搬送する。サンプリング位置まで搬送した試料容器２０上の位置にピアサ８を配置してそこから下降させ、ピアサ８の先端で試料容器２０のキャップを貫通させることでキャップの穿孔を行なう。プローブ４をピアサ８上の位置に配置してそこから下降させることで、ピアサ８を介して試料容器２０内にプローブ４を挿入し、プローブ４の先端から試料を吸入して採取する。 An example of the sampling operation of this sampling apparatus will be described with reference to FIG.
First, the sample container 20 to be sampled is conveyed to a predetermined sampling position by the conveyor 12 and the handler 22. The piercer 8 is disposed at a position on the sample container 20 transported to the sampling position and lowered from the position, and the cap of the sample container 20 is penetrated by the tip of the piercer 8 to perforate the cap. By placing the probe 4 at a position on the piercer 8 and lowering it, the probe 4 is inserted into the sample container 20 via the piercer 8, and the sample is sucked and collected from the tip of the probe 4.

試料を採取したプローブ４を試料容器２０から引き抜き、別の位置に設けられている分析容器（図示は省略）の位置に移動させて試料をその分析容器に分注する。その後、プローブ４及びピアサ８をそれぞれ所定の洗浄ポートへ移動させて洗浄を行なう。ピアサ８の洗浄はピアサ洗浄ポート２６において行なう。ピアサ８の洗浄については後で詳述する。次にサンプリングすべき試料容器がある場合は次の試料容器について上記の動作を繰り返し実行する。 The probe 4 from which the sample is collected is pulled out of the sample container 20 and moved to a position of an analysis container (not shown) provided at another position, and the sample is dispensed into the analysis container. Thereafter, the probe 4 and the piercer 8 are respectively moved to predetermined cleaning ports for cleaning. The piercer 8 is cleaned at the piercer cleaning port 26. The cleaning of the piercer 8 will be described in detail later. If there is a sample container to be sampled next, the above operation is repeated for the next sample container.

ピアサ洗浄ポート２６及びピアサ洗浄ノズル３０からなるピアサ洗浄機構について説明する。まず、図４を用いてピアサ洗浄ポート２６の構造を説明する。
ピアサ洗浄ポート２６は円筒形状であり、上面にピアサ８を挿入するための開口を有し、その開口から挿入されたピアサ８を収容するための洗浄空間３２を有する。ピアサ洗浄ポート２６の下部には洗浄液排出流路となるチューブ３４（図２、図３を参照）が接続されており、洗浄空間３２がチューブ３４に通じている。洗浄空間３２は上端から下端まで均一な内径を有する流路となっており、その内径はピアサ８の外形よりも少し大きい程度である。例えば、ピアサ８の外径が４ｍｍ程度である場合には、洗浄空間３２の内径は８ｍｍ程度である。 A piercer cleaning mechanism including the piercer cleaning port 26 and the piercer cleaning nozzle 30 will be described. First, the structure of the piercer cleaning port 26 will be described with reference to FIG.
The piercer cleaning port 26 has a cylindrical shape, has an opening for inserting the piercer 8 on the upper surface, and has a cleaning space 32 for receiving the piercer 8 inserted from the opening. A tube 34 (see FIGS. 2 and 3) serving as a cleaning liquid discharge channel is connected to the lower portion of the piercer cleaning port 26, and the cleaning space 32 communicates with the tube 34. The cleaning space 32 is a flow path having a uniform inner diameter from the upper end to the lower end, and the inner diameter is slightly larger than the outer shape of the piercer 8. For example, when the outer diameter of the piercer 8 is about 4 mm, the inner diameter of the cleaning space 32 is about 8 mm.

ピアサ洗浄ポート２６の内壁面にはエアーを噴出するエアー噴出口４２と洗浄液としての水を吐出する洗浄液吐出口４４が設けられている。エアー噴出口４２は洗浄空間３２の内壁面に沿った円周上の均等な４箇所に設けられている。洗浄液吐出口４４はエアー噴出口４２とは異なる位置であって洗浄空間３２の内壁面に沿った円周上の均等な４箇所に設けられている。エアー噴出口４２と洗浄液吐出口４４は洗浄空間３２の内壁面の同じ円周上に等間隔に配列されている。 On the inner wall surface of the piercer cleaning port 26, there are provided an air outlet 42 for ejecting air and a cleaning liquid discharge port 44 for discharging water as a cleaning liquid. The air jets 42 are provided at four equal positions on the circumference along the inner wall surface of the cleaning space 32. The cleaning liquid discharge ports 44 are provided at four equal positions on the circumference along the inner wall surface of the cleaning space 32 at different positions from the air jet ports 42. The air jets 42 and the cleaning liquid discharge ports 44 are arranged at equal intervals on the same circumference of the inner wall surface of the cleaning space 32.

ピアサ洗浄ポート２６は水平面内において円形をなす２つの円形流路５０及び５８を内部流路として備えている。円形流路５０は円形流路５８の同一平面内であって円形流路５８の内側に形成されている。エアー噴出口４２は流路５２を介して円形流路５０に通じ、洗浄液吐出口４４は流路６０を介して円形流路５８に通じている。 The piercer washing port 26 includes two circular flow paths 50 and 58 that form a circle in the horizontal plane as internal flow paths. The circular channel 50 is formed in the same plane of the circular channel 58 and inside the circular channel 58. The air outlet 42 communicates with the circular flow path 50 via the flow path 52, and the cleaning liquid discharge port 44 communicates with the circular flow path 58 via the flow path 60.

ピアサ洗浄ポート２６の外側側面にエアー供給管を差し込んで内部の流路に接続するためのエアー供給ポート４６と洗浄液供給管を差し込んで内部流路に接続するための洗浄液供給ポート５４が設けられている。エアー供給ポート４６は円形流路５０に接続された流路４８に通じ、洗浄液供給ポート５４は円形流路５８に接続された流路５６に通じている。かかる構造により、エアー供給ポート４６に接続されたエアー供給管からエアーを供給することで、エアーが流路４８、円形流路５０及び流路５２を通って４箇所のエアー噴出口４２から噴出される。同様に、洗浄液供給ポート５４に接続された洗浄液供給管から水が供給されることで、水が流路５６、円形流路５８及び流路６０を通って４箇所の洗浄液吐出口４４から吐出される。 An air supply port 46 for inserting an air supply pipe into the outer side surface of the piercer cleaning port 26 and connecting it to the internal flow path and a cleaning liquid supply port 54 for inserting the cleaning liquid supply pipe and connecting to the internal flow path are provided. Yes. The air supply port 46 communicates with a flow path 48 connected to the circular flow path 50, and the cleaning liquid supply port 54 communicates with a flow path 56 connected to the circular flow path 58. With this structure, when air is supplied from the air supply pipe connected to the air supply port 46, the air is ejected from the four air outlets 42 through the channel 48, the circular channel 50 and the channel 52. The Similarly, when water is supplied from the cleaning liquid supply pipe connected to the cleaning liquid supply port 54, water is discharged from the four cleaning liquid discharge ports 44 through the flow path 56, the circular flow path 58 and the flow path 60. The

この実施例では、洗浄空間３２の内径は上端から下端まで均一になっているが、洗浄空間３２の形状はこれに限定されるものではなく、エアー噴出口４２の下側において下方へいくにしたがって徐々に断面積が大きくなっていてもよいし、洗浄空間３２内に挿入されるピアサ８の先端よりも下側に位置する部分の断面積がそれよりも上側の断面積より大きくなっていてもよい。 In this embodiment, the inner diameter of the cleaning space 32 is uniform from the upper end to the lower end, but the shape of the cleaning space 32 is not limited to this, and as it goes downward on the lower side of the air ejection port 42. The cross-sectional area may gradually increase, or the cross-sectional area of the portion located below the tip of the piercer 8 inserted into the cleaning space 32 may be larger than the cross-sectional area above it. Good.

ピアサ８の洗浄は上記のピアサ洗浄ポート２６内の洗浄空間３２において実行される。ピアサ８の洗浄が実行される際は、図２に示されているように、ピアサ８がピアサ洗浄ポート２６上の位置に配置され、さらにその上方にピアサ洗浄ノズル３０が配置される。ピアサ洗浄ノズル３０は注水アーム２８の基端を支持しているノズル駆動軸３６が上下動することによって上下方向へ駆動され、それによってピアサ洗浄ノズル３０の先端部３０ａがピアサ８の上端部に着脱される。ピアサ洗浄ノズル３０の基端側にはエアー供給管３８と洗浄液供給管４０が接続されており、ピアサ洗浄ノズル３０の先端３０ａからエアー及び洗浄液のいずれか一方を鉛直下向きに吐出することができる。 The piercer 8 is cleaned in the cleaning space 32 in the piercer cleaning port 26 described above. When the cleaning of the piercer 8 is performed, as shown in FIG. 2, the piercer 8 is disposed at a position on the piercer cleaning port 26, and the piercer cleaning nozzle 30 is further disposed thereon. The piercer cleaning nozzle 30 is driven in the vertical direction by moving the nozzle drive shaft 36 supporting the base end of the water injection arm 28 up and down, whereby the tip 30 a of the piercer cleaning nozzle 30 is attached to and detached from the upper end of the piercer 8. Is done. An air supply pipe 38 and a cleaning liquid supply pipe 40 are connected to the base end side of the piercer cleaning nozzle 30, and either one of air and cleaning liquid can be discharged vertically downward from the tip 30 a of the piercer cleaning nozzle 30.

ピアサ洗浄ノズル３０の内径はピアサ８の内径よりも大きくなっている。ピアサ洗浄ノズル３０の先端３０ａをピアサ８の上端に密着させた状態で洗浄液を吐出することで、ピアサ８の内面に付着した汚れを洗浄液によって下方へ押し流すことができる。なお、ピアサ洗浄ノズル３０の先端３０ａをピアサ８の上端に密着させることで、ピアサ洗浄ノズル３０の内側の流路とピアサ８の内側の流路はシールがなされ、ピアサ洗浄ノズル３０からの洗浄液やエアーが外部へ漏れないようになっている。 The inner diameter of the piercer cleaning nozzle 30 is larger than the inner diameter of the piercer 8. By discharging the cleaning liquid while the tip 30a of the piercer cleaning nozzle 30 is in close contact with the upper end of the piercer 8, the dirt adhering to the inner surface of the piercer 8 can be pushed downward by the cleaning liquid. The tip 30a of the piercer cleaning nozzle 30 is brought into close contact with the upper end of the piercer 8, whereby the flow path inside the piercer cleaning nozzle 30 and the flow path inside the piercer 8 are sealed, and the cleaning liquid from the piercer cleaning nozzle 30 Air does not leak outside.

ピアサ洗浄ポート２６はピアサ８の外周面を洗浄するためのものであり、ピアサ洗浄ノズル３０はピアサ８の内面を洗浄するためのものであるが、ピアサ洗浄ポート２６はピアサ洗浄ノズル３０から吐出された洗浄液を排出するための洗浄液排出ポートとしての役割を兼ねている。図３に示されているように、ピアサ８をピアサ洗浄ポート２６の洗浄空間３２に挿入して洗浄空間３２の内壁面の洗浄液吐出口４４から洗浄液としての水をピアサ８に吹き付けることで、ピアサ８の外周面が洗浄され、ピアサ８に吹き付けられた水はチューブ３４から排出される。また、ピアサ８が洗浄空間３２に挿入されている状態でピアサ８の上端にピアサ洗浄ノズル３０の先端３０ａを密着させて洗浄液としての水を吐出することで、ピアサ８の内面が洗浄され、ピアサ８の内側を通った水はチューブ３４から排出される。 The piercer cleaning port 26 is for cleaning the outer peripheral surface of the piercer 8, and the piercer cleaning nozzle 30 is for cleaning the inner surface of the piercer 8, but the piercer cleaning port 26 is discharged from the piercer cleaning nozzle 30. It also serves as a cleaning liquid discharge port for discharging the cleaning liquid. As shown in FIG. 3, the piercer 8 is inserted into the cleaning space 32 of the piercer cleaning port 26 and water as a cleaning liquid is sprayed from the cleaning liquid discharge port 44 on the inner wall surface of the cleaning space 32 to the piercer 8. 8 is cleaned, and the water sprayed on the piercer 8 is discharged from the tube 34. In addition, when the piercer 8 is inserted into the cleaning space 32, the tip 30 a of the piercer cleaning nozzle 30 is brought into close contact with the upper end of the piercer 8 and water as a cleaning liquid is discharged, thereby cleaning the inner surface of the piercer 8. The water that has passed through the inside of 8 is discharged from the tube 34.

ここで、洗浄液排出用のチューブ３４は、ピアサ８の内面や外周面の洗浄によって洗い流される試料容器２０のキャップの屑（例えば外径が０．１〜２ｍｍ程度）に対して十分に大きい内径（例えば８〜１２ｍｍ）を有するものである。チューブ３４の洗浄空間３２側の端部には、洗浄によって洗い流されるキャップの屑を取るためのフィルタ等が設けられておらず、洗浄によって洗い流されたキャップの屑は洗浄液とともにチューブ３４を通って所定の廃液タンクに貯留される。これにより、チューブ３４においてキャップの屑の詰まりが生じず、時間の経過とともに洗浄効率や乾燥効率が低下するという問題は生じない。 Here, the cleaning liquid discharge tube 34 has a sufficiently large inner diameter (for example, an outer diameter of about 0.1 to 2 mm) of the cap of the sample container 20 that is washed away by cleaning the inner surface and the outer peripheral surface of the piercer 8. For example, 8 to 12 mm). The end of the tube 34 on the side of the cleaning space 32 is not provided with a filter or the like for removing cap debris that is washed away by washing. Stored in the waste liquid tank. Thereby, clogging of cap debris does not occur in the tube 34, and the problem that the cleaning efficiency and the drying efficiency decrease with the passage of time does not occur.

ここで、流路５２はエアー噴出口４２から斜め下方向に向かってエアーが噴出されるように、円形流路５０からのエアーをエアー噴出口４２よりも高い位置からエアー噴出口４２へ導くような形状となっている。これにより、エアー噴出口４２から噴出されるエアーによるピアサ８の外周面の乾燥効率を向上させることができる。エアー噴出口４２から噴出されるエアーが洗浄空間３２の内壁面となす角度は例えば６０°である。 Here, the flow path 52 guides the air from the circular flow path 50 to a position higher than the air outlet 42 to the air outlet 42 so that air is jetted obliquely downward from the air outlet 42. It has become a shape. Thereby, the drying efficiency of the outer peripheral surface of the piercer 8 by the air ejected from the air ejection port 42 can be improved. The angle formed by the air ejected from the air ejection port 42 and the inner wall surface of the cleaning space 32 is, for example, 60 °.

同様に、流路６０は洗浄液吐出口４４から斜め下方向に向かって洗浄液が吐出されるように、円形流路５８からの洗浄液を洗浄液吐出口４４よりも高い位置から洗浄液吐出口４４へ導くような形状となっている。これにより、ピアサ８の外周面に洗浄液の膜が形成されやすくなり、ピアサ８の外周面の洗浄効率が向上する。洗浄液吐出口４４から吐出される洗浄液が洗浄空間３２の内壁面となす角度は例えば６０°である。 Similarly, the flow path 60 guides the cleaning liquid from the circular flow path 58 from a position higher than the cleaning liquid discharge opening 44 to the cleaning liquid discharge opening 44 so that the cleaning liquid is discharged obliquely downward from the cleaning liquid discharge opening 44. It has become a shape. As a result, a cleaning liquid film is easily formed on the outer peripheral surface of the piercer 8, and the cleaning efficiency of the outer peripheral surface of the piercer 8 is improved. The angle formed by the cleaning liquid discharged from the cleaning liquid discharge port 44 and the inner wall surface of the cleaning space 32 is, for example, 60 °.

この実施例の制御系統について図５を用いて説明する。
サンプリング装置の動作は制御部６２によって制御される。制御部６２は、プローブ駆動機構（プローブアーム）２、ピアサ駆動機構（ピアサアーム）６、コンベア１２やハンドラ２２などの試料搬送機構及びピアサ洗浄ノズル３０（注水アーム２８を含む）の動作を制御し、種々の動作を実行する。 The control system of this embodiment will be described with reference to FIG.
The operation of the sampling device is controlled by the control unit 62. The control unit 62 controls the operation of the probe drive mechanism (probe arm) 2, the piercer drive mechanism (piercer arm) 6, the sample transport mechanism such as the conveyor 12 and the handler 22, and the piercer cleaning nozzle 30 (including the water injection arm 28). Perform various operations.

制御部６２には、ピアサ８の洗浄を実行するために、ピアサ外面洗浄手段６４、ピアサ外面乾燥手段６６、ピアサ内面洗浄手段６８、ピアサ内面乾燥手段７０及び洗浄シーケンス設定手段７２を備えている。ピアサ外面洗浄手段６４はピアサ８の外周面を洗浄するピアサ外面洗浄動作を実行するように構成されたものであり、ピアサ外面乾燥手段６６は洗浄後のピアサ８の外面を乾燥させるピアサ外面乾燥動作を実行するように構成されたものである。また、ピアサ内面洗浄手段６８はピアサ８の内面を洗浄するピアサ内面洗浄動作を実行するように構成されたものであり、ピアサ内面乾燥手段７０は洗浄後のピアサ８の内面を乾燥させるピアサ内面乾燥動作を実行するように構成されたものである。 The control unit 62 includes a piercer outer surface cleaning unit 64, a piercer outer surface drying unit 66, a piercer inner surface cleaning unit 68, a piercer inner surface drying unit 70, and a cleaning sequence setting unit 72 in order to perform cleaning of the piercer 8. The piercer outer surface cleaning means 64 is configured to execute a piercer outer surface cleaning operation for cleaning the outer peripheral surface of the piercer 8, and the piercer outer surface drying means 66 is a piercer outer surface drying operation for drying the outer surface of the piercer 8 after cleaning. Is configured to execute. Further, the piercer inner surface cleaning means 68 is configured to execute a piercer inner surface cleaning operation for cleaning the inner surface of the piercer 8, and the piercer inner surface drying means 70 is a piercer inner surface drying for drying the inner surface of the piercer 8 after cleaning. It is configured to perform an operation.

洗浄シーケンス設定手段７２はそのサンプリング装置の操作者が任意にピアサ８の洗浄における各動作の順序を設定するためのものであり、設定された洗浄シーケンスは洗浄シーケンス保持部７４に保持される。洗浄シーケンス保持部７４には操作者により設定された洗浄シーケンスのほか、予め洗浄シーケンスが保持されている。制御部６２は洗浄シーケンス保持部７４に保持されている洗浄シーケンスにしたがって、各動作がそのシーケンスの順に実行されるようにプローブ駆動機構２、ピアサ駆動機構６、試料搬送機構１２，２２及びピアサ洗浄ノズル３０の動作を制御する。 The cleaning sequence setting means 72 is for the operator of the sampling device to arbitrarily set the order of each operation in the cleaning of the piercer 8, and the set cleaning sequence is held in the cleaning sequence holding unit 74. In addition to the cleaning sequence set by the operator, the cleaning sequence holding unit 74 holds a cleaning sequence in advance. The control unit 62 performs the probe drive mechanism 2, the piercer drive mechanism 6, the sample transport mechanisms 12, 22 and the piercer cleaning so that each operation is executed in the order of the sequence according to the cleaning sequence held in the cleaning sequence holding unit 74. The operation of the nozzle 30 is controlled.

制御部６２はこのサンプリング装置に設けられた専用のコンピュータ又はこのサンプリング装置に接続された汎用のパーソナルコンピュータによって実現される。洗浄シーケンス保持部７４は制御部６２とは別体として図示されているが、実際には、制御部６２を実現する専用のコンピュータに設けられた記憶装置又は汎用のパーソナルコンピュータに設けられた記憶装置によって実現される。 The control unit 62 is realized by a dedicated computer provided in the sampling device or a general-purpose personal computer connected to the sampling device. Although the cleaning sequence holding unit 74 is illustrated separately from the control unit 62, in practice, a storage device provided in a dedicated computer that implements the control unit 62 or a storage device provided in a general-purpose personal computer It is realized by.

上記のピアサ外面洗浄動作は、ピアサ８を洗浄空間３２に挿入し、洗浄空間３２の内壁面に設けられた４箇所の洗浄液吐出口４４から水を均等に吐出してピアサ８の外周面の周方向に水の膜を形成しながら、ピアサ８をゆっくり下降させ又は上昇させる動作である。ピアサ８の外周面の周方向に水の膜を形成することで、単にピアサ８に向かって水を吹き付ける場合に比べて少ない水量で洗浄ムラをなくすことができる。ピアサ８とその周囲の壁面が近い場合、ピアサ８の外周面を伝う水がピアサ８の周囲の壁面側へ移動して途中で膜をなさなくなることから、ピアサ８の外周面の周方向に水の膜が形成される範囲は、水が吹き付けられる部分付近の一部に限られる。そのため、ピアサ８の外周面の必要な範囲がすべて洗浄されるように、洗浄液吐出口４４から水を均等に吹き付けながらピアサ８を下降させ又は上昇させてピアサ８の洗浄が必要な部分を網羅する。 In the above piercer outer surface cleaning operation, the piercer 8 is inserted into the cleaning space 32, and water is evenly discharged from the four cleaning liquid discharge ports 44 provided on the inner wall surface of the cleaning space 32, so that the peripheral surface of the piercer 8 is This is an operation of slowly lowering or raising the piercer 8 while forming a water film in the direction. By forming a water film in the circumferential direction of the outer peripheral surface of the piercer 8, cleaning unevenness can be eliminated with a smaller amount of water than when water is simply sprayed toward the piercer 8. When the piercer 8 and the surrounding wall surface are close, the water traveling on the outer peripheral surface of the piercer 8 moves to the peripheral wall surface side of the piercer 8 and no longer forms a film on the way. The range in which the film is formed is limited to a portion near the portion where water is sprayed. Therefore, the piercer 8 is lowered or raised while spraying water uniformly from the cleaning liquid discharge port 44 so as to clean the entire necessary range of the outer peripheral surface of the piercer 8 to cover the portion where the piercer 8 needs to be cleaned. .

ピアサ外面乾燥動作は、ピアサ外面洗浄動作の後で、ピアサ８を洗浄空間３２に挿入した状態でエアー噴出口４２からピアサ８に向かって斜め下方向にエアーを吹き付けることで、ピアサ８の外周面の水を下方へ吹き飛ばす動作である。この動作は、ピアサ８の外周面の洗浄された部分の最上部がエアーの吹き付けられる位置又はそれよりも下側の位置にくるようにピアサ８を洗浄空間３２内に挿入した状態で実行する。なお、このピアサ外面乾燥動作中は必ずしもピアサ８が停止している必要はなく、ピアサ８にエアーを吹き付けながらピアサ８をゆっくりと上昇させるようにしてもよい。 In the piercer outer surface drying operation, after the piercer outer surface cleaning operation, air is blown obliquely downward from the air outlet 42 toward the piercer 8 with the piercer 8 being inserted into the cleaning space 32, so that the outer peripheral surface of the piercer 8. This is an operation to blow off the water in the downward direction. This operation is performed in a state where the piercer 8 is inserted into the cleaning space 32 so that the uppermost portion of the cleaned portion of the outer peripheral surface of the piercer 8 is at a position where air is blown or a position below the position. Note that the piercer 8 does not necessarily need to be stopped during the piercer outer surface drying operation, and the piercer 8 may be slowly raised while blowing air to the piercer 8.

ピアサ内面洗浄動作は、ピアサ８をピアサ洗浄ポート２６に挿入し、ピアサ洗浄ノズル３０の先端３０ａをピアサ８の上端に密着させた状態で、ピアサ洗浄ノズル３０から洗浄液としての水を吐出する動作である。ピアサ内面乾燥動作は、ピアサ内面洗浄動作の終了後にピアサ洗浄ノズル３０からエアーを噴出することで、ピアサ８の内面に付着した水を下方へ吹き飛ばして乾燥させる動作である。 The piercer inner surface cleaning operation is an operation of discharging water as a cleaning liquid from the piercer cleaning nozzle 30 in a state where the piercer 8 is inserted into the piercer cleaning port 26 and the tip 30a of the piercer cleaning nozzle 30 is in close contact with the upper end of the piercer 8. is there. The piercer inner surface drying operation is an operation in which air adhering to the inner surface of the piercer 8 is blown down and dried by ejecting air from the piercer cleaning nozzle 30 after completion of the piercer inner surface cleaning operation.

ピアサ８の洗浄シーケンスの好ましい一例について図７を用いて説明する。
図３に示されるように、ピアサ８をピアサ洗浄ポート２６上の位置に配置し、ピアサ洗浄ノズル３０をピアサ８上の位置に配置する。ピアサ洗浄ポート２６の洗浄液吐出口４４から水を吐出させ、ピアサ８をピアサ洗浄ポート２６の洗浄空間３２に挿入し、下降させる。このとき、ピアサ８の外周面には洗浄液である水の膜が形成される。 A preferred example of the cleaning sequence of the piercer 8 will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 3, the piercer 8 is arranged at a position on the piercer washing port 26, and the piercer washing nozzle 30 is arranged at a position on the piercer 8. Water is discharged from the cleaning liquid discharge port 44 of the piercer cleaning port 26, and the piercer 8 is inserted into the cleaning space 32 of the piercer cleaning port 26 and lowered. At this time, a film of water as a cleaning liquid is formed on the outer peripheral surface of the piercer 8.

ピアサ８外周面の洗浄を要する箇所がすべて洗浄される所定位置までピアサ８を下降させたところでピアサ８を停止させ、洗浄液吐出口４４からの水の吐出を終了する。次に、ピアサ洗浄ノズル３０を下降させてその先端３０ａをピアサ８の上端に密着させてピアサ洗浄ノズル３０から洗浄液としての水を吐出させることで、ピアサ８の内面を洗浄する。ピアサ８の内面の洗浄が終了した後、先にピアサ洗浄ノズル３０からエアーを噴出させてから一定時間（例えば０．４秒）経過後にピアサ洗浄ノズル３０からエアーを噴出させたままエアー吐出口４２からピアサ８の外周面に向かってエアーを一定時間（例えば０．０５秒）噴出させる。 The piercer 8 is stopped when the piercer 8 is lowered to a predetermined position at which all the outer peripheral surface of the piercer 8 needs to be cleaned, and the discharge of water from the cleaning liquid discharge port 44 is ended. Next, the inner surface of the piercer 8 is cleaned by lowering the piercer cleaning nozzle 30 and bringing its tip 30 a into close contact with the upper end of the piercer 8 and discharging water as a cleaning liquid from the piercer cleaning nozzle 30. After the cleaning of the inner surface of the piercer 8 is completed, the air discharge port 42 with the air being blown out from the piercer washing nozzle 30 after a lapse of a certain time (for example, 0.4 seconds) after the air is blown out from the piercer washing nozzle 30 first. Then, air is ejected from the piercer 8 toward the outer peripheral surface of the piercer 8 for a predetermined time (for example, 0.05 seconds).

上記の洗浄シーケンスにおいて、ピアサ８の外周面の洗浄とピアサ８の内面の洗浄はいずれを先に実行してもよいし、同時に実行してもよい。ピアサ洗浄ノズル３０から鉛直方向にエアーを噴出することで、ピアサ８の下方の位置では、ピアサ８の先端からピアサ８よりも大きい内径を有するピアサ洗浄ポート２６へエアーが噴出されることによってベンチュリ効果が生じ、ピアサ８の下方に陰圧の領域が生じる。そのタイミングでピアサ８の周囲からピアサ８の外周面に向かってエアーを吹き付けると、ピアサ８の周囲の洗浄液やエアーが陰圧となっているピアサの下方へ吸引される。これにより、ピアサ８の周囲への洗浄液の飛散を防止しながらピアサ８の外周面を効率よく乾燥することができる。
また、ピアサ８の先端から噴出されるエアーに液体が混じっていると、ベンチュリ効果が大きくなる。これを利用し、ピアサ８の内面に付着していた洗浄液がピアサ８の下方へ落下した直後のタイミングでピアサ８の周囲からピアサ８の外周面に向かってエアーを吹き付けることで、ピアサ８の外周面の乾燥効果と洗浄液の飛散を防止する効果をさらに高めることができる。 In the above-described cleaning sequence, either the cleaning of the outer peripheral surface of the piercer 8 or the cleaning of the inner surface of the piercer 8 may be performed first or simultaneously. By venting air in the vertical direction from the piercer cleaning nozzle 30, at a position below the piercer 8, air is ejected from the tip of the piercer 8 to the piercer cleaning port 26 having an inner diameter larger than that of the piercer 8. And a negative pressure region is generated below the piercer 8. When air is blown from the periphery of the piercer 8 toward the outer peripheral surface of the piercer 8 at that timing, the cleaning liquid and the air around the piercer 8 are sucked below the piercer having a negative pressure. Thereby, the outer peripheral surface of the piercer 8 can be efficiently dried while preventing the cleaning liquid from splashing around the piercer 8.
Further, if the liquid is mixed in the air ejected from the tip of the piercer 8, the venturi effect is increased. By utilizing this, air is blown from the periphery of the piercer 8 toward the outer peripheral surface of the piercer 8 at the timing immediately after the cleaning liquid adhering to the inner surface of the piercer 8 falls below the piercer 8. It is possible to further enhance the effect of preventing the drying of the surface and the scattering of the cleaning liquid.

かかる洗浄シーケンスにより、洗浄液の流量や吹き付けるエアーの風量にもよるが、例えばピアサ８の外周面と内面の洗浄を同時に０．５秒程度で行ない、０．５秒程度待機した後でピアサ８の外周面と内面の乾燥を０．５秒程度で行なうといった迅速な洗浄動作が可能となる。 By this cleaning sequence, depending on the flow rate of the cleaning liquid and the amount of air to be blown, for example, the outer peripheral surface and the inner surface of the piercer 8 are simultaneously cleaned in about 0.5 seconds, and after waiting for about 0.5 seconds, the piercer 8 A quick cleaning operation in which the outer peripheral surface and the inner surface are dried in about 0.5 seconds becomes possible.

２プローブアーム
４プローブ
６ピアサアーム
８ピアサ
１０ピアサ駆動軸
１２コンベア
１４コンベアベルト
１６サンプルトレイ
１８サンプルラック
２０試料容器
２２ハンドラ
２４検体設置部
２６ピアサ洗浄ポート
２８注水アーム
３０ピアサ洗浄ノズル
３２ピアサ洗浄ポートの洗浄空間
３４チューブ（洗浄液排出流路）
３６注水アーム駆動軸
３８エアー供給管
４０洗浄液供給管
４２エアー噴出口
４４洗浄液吐出口
４６エアー供給ポート
４８，５０，５２，５６，５８，６０ピアサ洗浄ポートの内部流路
５４洗浄液供給ポート
６２制御部
６４ピアサ外面洗浄手段
６６ピアサ外面乾燥手段
６８ピアサ内面洗浄手段
７０ピアサ内面乾燥手段
７２洗浄シーケンス設定手段
７４洗浄シーケンス保持部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 2 Probe arm 4 Probe 6 Piercer arm 8 Piercer 10 Piercer drive shaft 12 Conveyor 14 Conveyor belt 16 Sample tray 18 Sample rack 20 Sample container 22 Handler 24 Sample installation part 26 Piercer washing port 28 Injection water arm 30 Piercer washing nozzle 32 Washing of the piercer washing port Space 34 Tube (cleaning liquid discharge flow path)
36 Water injection arm drive shaft 38 Air supply pipe 40 Cleaning liquid supply pipe 42 Air jet outlet 44 Cleaning liquid discharge port 46 Air supply port 48, 50, 52, 56, 58, 60 Internal flow path of piercer cleaning port 54 Cleaning liquid supply port 62 Controller 64 Piercer outer surface cleaning means 66 Piercer outer surface drying means 68 Piercer inner surface cleaning means 70 Piercer inner surface drying means 72 Cleaning sequence setting means 74 Cleaning sequence holding unit

Claims

A probe arranged in a vertical direction to suck and discharge liquid;
A piercer that is a cylindrical member through which the probe can pass inside, the tip of which has a pointed shape and a cap that seals the upper surface of the sample container in which the sample is stored,
A probe driving mechanism for driving the probe in a horizontal plane direction and a vertical direction;
A piercer drive mechanism for driving the piercer in a horizontal plane direction and a vertical direction;
A piercer cleaning port provided at a position where the piercer is movable and at a position different from a position where the piercer performs a perforating operation of a cap on the upper surface of the sample container, and has an opening on the upper surface. A piercer cleaning port having a cleaning space for cleaning the piercer inserted from the opening and connected to a cleaning liquid discharge channel for discharging the cleaning liquid below the cleaning space;
A cleaning liquid is simultaneously discharged from a plurality of cleaning liquid discharge ports provided at the piercer cleaning port and evenly arranged on the circumference along the inner wall surface of the cleaning space with respect to the piercer inserted into the cleaning space. A cleaning liquid discharge mechanism for forming a film made of a cleaning liquid in the circumferential direction on the outer peripheral surface of the piercer,
A control unit that controls operations of the probe driving mechanism, the piercer driving mechanism, and the cleaning liquid discharge mechanism, and performs a piercer outer surface cleaning operation in which the piercer is disposed in the cleaning space and the cleaning liquid is discharged from the cleaning liquid discharge mechanism. A control unit having a piercer outer surface cleaning means for performing the sampling.

The outer surface cleaning operation of the piercer moves the piercer in the vertical direction so that the film forming range covers the cleaning range of the outer peripheral surface of the piercer while forming a film made of a cleaning liquid on the outer peripheral surface of the piercer in the circumferential direction. The sampling apparatus according to claim 1, wherein

The sampling apparatus according to claim 1, wherein the cleaning liquid discharge mechanism is configured to discharge the cleaning liquid obliquely downward from the cleaning liquid discharge port.

The piercer cleaning port further includes an air ejection mechanism that blows air from the periphery of the piercer accommodated in the cleaning space;
The sampling according to any one of claims 1 to 3, wherein the control unit further includes a piercer outer surface drying unit for performing a piercer outer surface drying operation for blowing air from the air ejection mechanism to the piercer. apparatus.

The sampling apparatus according to claim 4, wherein the air ejection mechanism is configured to blow air obliquely downward with respect to the piercer.

A probe arranged in a vertical direction to suck and discharge liquid;
A piercer that is a cylindrical member through which the probe can pass inside, the tip of which has a pointed shape and a cap that seals the upper surface of the sample container in which the sample is stored,
A probe driving mechanism for driving the probe in a horizontal plane direction and a vertical direction;
A piercer drive mechanism that is provided as a mechanism different from the probe drive mechanism and drives the piercer in a horizontal plane direction and a vertical direction;
A piercer cleaning nozzle located above the piercer and capable of discharging a cleaning liquid to the inside of the piercer;
A cleaning liquid discharge port for discharging the cleaning liquid discharged from the piercer cleaning nozzle;
A control unit that controls operations of the probe driving mechanism, the piercer driving mechanism, and the piercer cleaning nozzle, wherein the piercer is disposed in the cleaning liquid discharge port and the piercer cleaning nozzle is disposed above the piercer. And a control unit having a piercer inner surface cleaning means for performing a piercer inner surface cleaning operation for discharging a cleaning liquid from the piercer cleaning nozzle toward the inside of the piercer in a state.

The piercer cleaning nozzle can eject air at a timing different from the cleaning liquid,
The controller is configured to perform a piercer inner surface drying operation for ejecting air from the piercer cleaning nozzle in a state where the piercer is disposed in the cleaning liquid discharge port and the piercer cleaning nozzle is disposed above the piercer. The sampling apparatus according to claim 6, further comprising a piercer inner surface drying means.

A cleaning port provided at a position different from a position where the piercer can move and the piercer performs a drilling operation of a cap on the upper surface of the sample container;
The cleaning port has an opening on the upper surface and has a cleaning space for cleaning the piercer inserted from the opening, and a cleaning liquid discharge channel for discharging the cleaning liquid is connected below the cleaning space to connect the cleaning liquid discharge port. Doubles as
A cleaning liquid is simultaneously discharged from a plurality of cleaning liquid discharge ports provided at the piercer cleaning port and evenly arranged on the circumference along the inner wall surface of the cleaning space with respect to the piercer inserted into the cleaning space. Is provided with a cleaning liquid discharge mechanism for forming a film made of a cleaning liquid in the circumferential direction on the outer peripheral surface of the piercer,
The said control part is further equipped with the piercer outer surface washing | cleaning means for performing the piercer outer surface washing | cleaning operation which arrange | positions the said piercer in the said washing | cleaning space, and discharges a washing | cleaning liquid from the said washing | cleaning liquid discharge mechanism. Sampling device.

The outer surface cleaning operation of the piercer moves the piercer in the vertical direction so that the film forming range covers the cleaning range of the outer peripheral surface of the piercer while forming a film made of a cleaning liquid on the outer peripheral surface of the piercer in the circumferential direction. The sampling apparatus according to claim 8, wherein

The sampling apparatus according to claim 8 or 9, wherein the cleaning liquid discharge mechanism is configured to discharge the cleaning liquid obliquely downward from the cleaning liquid discharge port.

The piercer cleaning port further includes an air ejection mechanism that blows air from the periphery of the piercer accommodated in the cleaning space;
The control unit performs a piercer outer surface drying operation of blowing air from the air ejection mechanism to the piercer in a state where the piercer is disposed in the cleaning liquid discharge port and the piercer cleaning nozzle is disposed above the piercer. 11. The sampling device according to any one of claims 8 to 10, further comprising piercer outer surface drying means for performing.

The sampling apparatus according to claim 11, wherein the air ejection mechanism is configured to blow air obliquely downward with respect to the piercer.

A cleaning sequence holding unit that holds timings at which the piercer inner surface cleaning operation, the piercer outer surface cleaning operation, the piercer inner surface drying operation, and the piercer outer surface drying operation are executed when the piercer cleaning is executed; Prepared,
The cleaning sequence holding unit is configured to perform a piercer inner surface drying operation after performing a piercer inner surface cleaning operation and a piercer outer surface cleaning operation, and perform a piercer outer surface drying operation during execution of the piercer inner surface drying operation. The sampling device according to claim 11 or 12, wherein the sequence is held.