JP2014082800A - 弾性波装置、実装体および携帯電話端末装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 弾性波装置10は、回路基板1と、回路基板1に実装される弾性波素子2とを備える。そして、回路基板1において、回路基板内層11Bに形成されるインダクタパターン121は、平面透視したときに、回路基板裏面11Cに形成される第1接地パターン114aを直線的に横切る横断部121aを有する。
【選択図】 図2
Description
含む。
図1は、本発明の実施の一形態である弾性波装置10の構成を示す図である。図1(a)は弾性波装置10の斜視図を示し、図1(b)は弾性波装置10に組込まれた回路のブロック図を示す。弾性波装置10は、回路基板1と、第1フィルタ21と第2フィルタ22とを有する弾性波素子2とから主に構成されている。
ある。また、第2フィルタ22は、アンテナ端子112と第1平衡信号端子113aおよび第2平衡信号端子113bとの間に配置される、縦結合共振子型SAWフィルタである。
パターン131gは、第2フィルタ22に接続されている。
直列共振子に直列接続される。このようにラダー型SAWフィルタの直列腕の共振子に対し所定のインダクタンス値を有するインダクタパターンを接続させることによって通過帯域外のインピーダンスを無限大にすることができ、帯域外減衰量を大きくすることができる。
<第1実施形態>
本発明の第1実施形態に係る弾性波装置の製造方法は、回路基板作製工程と、実装工程とを含み、前述した弾性波装置10を製造する方法である。
本発明の第2実施形態に係る弾性波装置の製造方法は、回路基板作製工程と、実装工程とを含み、前述した弾性波装置10を製造する方法である。回路基板作製工程は、誘電体シート作製工程と、第1シート作製工程と、積層工程とを含む。誘電体シート作製工程では、前述の第1実施形態と同様にして、誘電体からなるグリーンシートを作製する。
以下、本発明の実施形態についての実施例を示す。なお、これらの実施例はあくまで本発明の実施形態の一例示であって、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例1は、図2に示した回路基板1を備える弾性波装置10である。
LiTaO3からなる圧電基板を用意し、その主面上にTi薄膜層を形成し、その上にAl−Cu薄膜層を形成した。次に、レジスト塗布装置により、Ti/Al−Cu積層膜の上にフォトレジストを塗布した。そして、縮小投影露光機(ステッパ)により、共振子や信号線、接地線、パッド電極等となるフォトレジストパターンを形成した。その後、現像装置により、不要部分のフォトレジストをアルカリ現像液で溶解させた。
製した。すなわち、CVD(Chemical Vapor Deposition)装置により、圧電基板の主面
上に電極パターンおよびSiO2膜を形成した。そして、フォトリソグラフィによってフォトレジストのパターニングを行い、RIE装置等でフリップチップ用電極部のSiO2膜のエッチングを行った。
前述した本発明の第1実施形態に係る弾性波装置の製造方法に従って、平面透視したときに、接地パターンの平行な2辺を横切って接地パターンからはみ出すように形成された横断部を有するインダクタパターンが内部に形成された、積層構造の回路基板1を得た。回路基板1の寸法は、長辺が2.5mm、短辺が2.0mmである。第1接地パターン114aの寸法は、長辺が900μm、短辺が400μmである。インダクタパターンの線幅は、75μmである。
弾性波素子を回路基板にフリップチップ実装し、実施例1の弾性波装置を得た。
回路基板の構成が異なること以外は、実施例1と同様にして比較例1の弾性波装置を得た。比較例1の弾性波装置に備えられる回路基板は、図8および図9に示す回路基板30である。図8は、比較例に係る弾性波装置における回路基板のパターン配置およびビア配置を示す図である。また、図9は、比較例に係る弾性波装置における回路基板の各層のパターン配置およびビア配置を示す図である。
実施例1および比較例1の弾性波装置について、周波数特性を評価した。図6は、実施例に係る弾性波装置の周波数特性を示すグラフである。図7は、比較例に係る弾性波装置の周波数特性を示すグラフである。図6および図7のグラフにおける横軸は周波数(MHz)を、縦軸は減衰量(dB)を表している。
ション特性と、インダクタパターンが接地パターンに対してY方向一方側に位置ずれして形成された状態時の透過特性およびアイソレーション特性を示している。図6(b)および図7(b)には、前記基準状態時の透過特性およびアイソレーション特性と、インダクタパターンが接地パターンに対してY方向他方側に位置ずれして形成された状態時の透過特性およびアイソレーション特性を示している。
2 弾性波素子
10 弾性波装置
114a 第1接地パターン
121,221,321 インダクタパターン
121a 横断部
221a 第1横断部
221b 第2横断部
Claims (13)
- 第1の面と前記第1の面に対向する第2の面とを有する回路基板と、
前記第1の面に実装される弾性波素子と、を備え、
前記回路基板は、
前記第2の面に配置された矩形状の接地パターンと、
前記回路基板において前記第1の面および前記第2の面の間に位置する面、または前記第1の面に配置され、且つ平面透視したときに前記接地パターンを直線的に横切る横断部を有するインダクタパターンと、を含む弾性波装置。 - 前記弾性波素子は並列共振子および直列共振子を有するラダー型フィルタ部を含み、
前記インダクタパターンが前記並列共振子に電気的に接続されている請求項1に記載の弾性波装置。 - 前記弾性波素子は並列共振子および直列共振子を有するラダー型フィルタ部を含み、
前記インダクタパターンが前記直列共振子に電気的に接続されている請求項1に記載の弾性波装置。 - 前記横断部は、前記接地パターンの長辺および短辺を横切る請求項1〜3のいずれかに記載の弾性波装置。
- 前記横断部は、前記接地パターンを2か所で横切っている請求項4に記載の弾性波装置。
- 前記横断部は、前記接地パターンの2つの長辺を横切る請求項1〜3のいずれかに記載の弾性波装置。
- 前記横断部は、前記長辺において、前記短辺よりも中心側に配置されている請求項6に記載の弾性波装置。
- 前記インダクタパターンは、平面透視したときに、前記接地パターンからはみ出した部分に折れ曲がった屈曲部を有し、
該屈曲部は、前記接地パターンから50μm以上離れている請求項1〜6のいずれかに記載の弾性波装置。 - 前記弾性波素子は、前記回路基板にフリップチップ実装されている請求項1〜8のいずれかに記載の弾性波装置。
- 前記回路基板は、誘電体層を複数積層させた基板である請求項1〜9のいずれかに記載の弾性波装置。
- 前記回路基板上に配置された、前記弾性波素子を覆う封止樹脂体をさらに有する請求項1〜10のいずれかに記載の弾性波装置。
- 実装基板と、
前記実装基板に実装された、請求項1〜11のいずれかに記載の弾性波装置とを備えた実装体。 - 前記実装体を備え、
前記弾性波装置は、送信信号が通過する送信フィルタと、受信信号が通過する受信フィル
タとを有する請求項12に記載の携帯電話端末装置。
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Citations (3)
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JP2003163570A (ja) * | 2001-11-26 | 2003-06-06 | Fujitsu Media Device Kk | 分波器及びこれを用いた電子装置 |
JP2006049432A (ja) * | 2004-08-02 | 2006-02-16 | Murata Mfg Co Ltd | 積層型電子部品 |
WO2009028683A1 (ja) * | 2007-08-30 | 2009-03-05 | Kyocera Corporation | 電子部品 |
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