JP2014079708A

JP2014079708A - 両面塗布装置

Info

Publication number: JP2014079708A
Application number: JP2012229773A
Authority: JP
Inventors: Hirotsugu Kumazawa; 博嗣熊澤
Original assignee: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Current assignee: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Priority date: 2012-10-17
Filing date: 2012-10-17
Publication date: 2014-05-08

Abstract

【課題】基材に接触することなく、両面塗布を行うことができる両面塗布装置を提供する。
【解決手段】長板状の基材を所定方向に搬送する搬送部と、基材の一方の面に塗布材料を塗布する第１塗布部と、基材の他方の面に塗布材料を塗布する第２塗布部と、を備えた両面塗布装置に関する。第１塗布部は、基材を浮上させた状態に保持可能な第１浮上部と、第１浮上部によって浮上された基材の一方の面に塗布材料を塗布する第１塗布器とを有する。第２塗布部は、基材を浮上させた状態に保持可能な第２浮上部と、第２浮上部によって浮上された基材の他方の面に塗布材料を塗布する第２塗布器とを有する。
【選択図】図１

Description

本発明は、両面塗布装置に関する。

従来、長尺状の基材の両面に塗布液を塗布する装置として、外面に塗布液が供給されるローラで基材を挟持することで基材の両面塗布を行うものが知られている（例えば、特許文献１参照）。

特開２００２−２６３５４９号公報

ところで、上記従来技術に係る装置では、ローラが基材に当接した状態とされるため、基材とローラとの間で生じた剥離帯電により基材に異物が付着するおそれがあった。また、基材には、ローラに接触することで塗布時に所定の負荷が加わるめ、基材の材質によっては破損するおそれがあった。

本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであり、基材に接触することなく、両面塗布を行うことができる両面塗布装置を提供することを目的とする。

上記目的を達成するため、本発明の一態様に係る両面塗布装置は、長板状の基材を所定方向に搬送する搬送部と、前記基材の一方の面に塗布材料を塗布する第１塗布部と、前記基材の他方の面に前記塗布材料を塗布する第２塗布部と、を備え、前記第１塗布部は、前記基材を浮上させた状態に保持可能な第１浮上部と、前記第１浮上部によって浮上された前記基材の前記一方の面に前記塗布材料を塗布する第１塗布器とを有し、前記第２塗布部は、前記基材を浮上させた状態に保持可能な第２浮上部と、前記第２浮上部によって浮上された前記基材の前記他方の面に前記塗布材料を塗布する第２塗布器とを有することを特徴とする。

本発明の両面塗布装置によれば、第１塗布部及び第２塗布部により長板状の基材に接触することなく、両面に塗布材料を塗布することができる。また、非接触状態で塗布工程が完了するため、例えば、基材に剥離帯電が生じることがなく、静電気による異物の付着といった不具合の発生を抑制できる。また、非接触状態で塗布工程が完了するため、塗布時に基材に負荷がかかることがなく、材質によらず基材が破損するといった不具合の発生を抑制できる。よって、基材の材質によらず、該基材に両面塗布が可能な付加価値の高い塗布装置を提供できる。

また、上記両面塗布装置においては、前記基材に塗布された前記塗布材料を乾燥して塗布膜とする乾燥部をさらに備えることを特徴とする。
この構成によれば、塗布材料を乾燥させることができるので、基材の両面に所望の塗布膜を形成することができる。

また、上記両面塗布装置においては、前記乾燥部は、加熱風を吹き付けて前記基材を浮上させた状態で前記塗布材料を乾燥させることを特徴とする。
この構成によれば、浮上部及び塗布部がそれぞれ基材を挟持することで平面的に重なった状態に配置されるので、第１塗布部及び第２塗布部における設置スペースを小型化することができる。

また、上記両面塗布装置においては、前記第１塗布部及び前記第２塗布部において、前記第１浮上部及び前記第２浮上部は、それぞれ前記第１塗布器及び前記第２塗布器との間で前記基材を挟持するように配置されることを特徴とする。
この構成によれば、浮上部及び塗布器がそれぞれ基材を挟持することで平面的に重なった状態に配置されるので、第１塗布部及び第２塗布部における設置スペースを小型化することができる。

また、上記両面塗布装置においては、前記第１塗布器、前記基材に対して鉛直方向における上方に配置され、前記第２塗布器は、前記基材に対して前記鉛直方向における下方に配置されるのが好ましい。
この構成によれば、水平面に沿って搬送される基材の両面に塗布材料を塗布することができる。

また、上記両面塗布装置においては、前記第１塗布器は、水平面に沿う方向に搬送される前記基材に前記塗布材料を塗布し、前記第２塗布器は、前記水平面と交差する方向に搬送される前記基材に前記塗布材料を塗布することを特徴とする。
この構成によれば、水平面に沿う方向及び水平面に交差する方向に搬送される基材の両面に対し、塗布材料を塗布することができる。

また、上記両面塗布装置においては、前記第１塗布器はスリットノズルから構成され、
前記第２塗布器はバーコーター又はスリットノズルから構成されることを特徴とする。
この構成によれば、例えば、第１塗布部はスリットノズルにより基材の上面側に塗布材料を塗布し、第２塗布部はバーコーター又はスリットノズルにより基材の下面側に塗布材料を塗布する構成を実現できる。

また、上記両面塗布装置においては、前記搬送部は、前記基材を所定方向に送り出す送出ローラと、前記基材に接触することなく該基材の搬送方向を前記所定方向と異なる方向に変える変更ローラと、前記基材を巻き取る巻取ローラと、を含むことを特徴とする。
この構成によれば、長板状の基材の搬送方向を変更することができるので、基材における搬送経路を見掛け上の大きさを小さくすることができ、装置全体を小型化することができる。また、長板状の基材が巻取ローラに巻き取られるため、塗布後の基材を容易に回収することができる。

また、上記両面塗布装置においては、前記変更ローラは、前記第１浮上部及び前記第２浮上部の一方として機能することを特徴とする。
この構成によれば、変更ローラが第１浮上部及び前記第２浮上部の一方として機能するので、装置全体の部品点数を少なくすることができ、低コスト化を実現できる。

また、上記両面装置においては、前記第１塗布部及び前記第２塗布部により前記塗布材料が両面に塗布された前記基材を所定の長さ毎に切断する切断部をさらに備えることを特徴とする。
この構成によれば、例えば、基材として長尺のフィルムを用いた場合において、フィルムを所定の長さ毎に切断することができる。

本発明によれば、基材に接触することなく、両面塗布を行うことができる。

両面塗布装置の側面図である。（ａ）は第１塗布部の構成を示す斜視図、（ｂ）は側面図である。第１塗布部の要部構成を示す側面図である。中継ローラの構成を示す側面図である。変形例に係る塗布装置の概略構成を示す図である。他の変形例に係る塗布装置の概略構成を示す図である。他の変形例に係る塗布装置の概略構成を示す図である。他の変形例に係る塗布装置の概略構成を示す図である。他の変形例に係る塗布装置の概略構成を示す図である。

以下、図面を参照して、本発明の両面塗布装置に係る一実施形態について説明する。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。水平面内における基材の搬送方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。本実施形態に係る両面塗布装置は、例えばロール・ツー・ロールプロセスに対応した超薄型の基材１０の両面にレジスト材料を塗布する塗布装置に関するものである。

図１は本実施形態に係る両面塗布装置（以下、塗布装置と称す）１の側面図である。図１に示すように、本実施形態に係る塗布装置１は、搬送部２と、塗布部３と、乾燥部４とを備えている。この塗布装置１は、搬送部２によって基材１０を搬送しつつ塗布部３によって当該基材１０の両面に塗布材料１００を塗布する。

なお、塗布材料１００としては、レジストの他、基材１０の材質に応じて、例えば、薬剤、接着剤等といったように種々のものを採用することが可能である。本実施形態では、塗布材料１００としてレジスト材料を用いた。

基材１０は、例えば厚みが３０μｍ以上の厚さのガラス基板から構成され、ロール状に巻回されたロール体Ｒから搬送部２によって巻き解かれることで所定方向に搬送される。なお、基材１０の材質としては、ガラス基板に限定されることはなく、ＰＥＴ等の樹脂フィルムや金属等を用いてもよい。

搬送部２は、送出ローラ２０と、巻取ローラ２１と、中継ローラ（変更ローラ）２２と、を有する。送出ローラ２０は、ロール体Ｒを保持するとともに所定方向に回転することで該ロール体Ｒから巻き解いた基材１０を所定方向（＋Ｘ方向）に送り出すためのローラである。また、巻取ローラ２１は、送出ローラ２０から送り出されて、塗布部３によってレジストが塗布された基材１０を巻き取るためのローラである。

なお、搬送部２は、送出ローラ２０、巻取ローラ２１、及び中継ローラ２２の回転速度を一致させるようにしている。これによれば、中継ローラ２２により搬送される部分と、上記送出ローラ２０及び巻取ローラ２１により搬送される部分との間に搬送速度差が生じないため、基材１０には上記搬送速度差による弛みや引張による負荷が生じることが防止される。よって、搬送部２は、基材１０を安定した速度で所定方向に搬送することができる。

中継ローラ２２は、送出ローラ２０及び巻取ローラ２１間で基材１０の搬送を中継するものである。また、中継ローラ２２は、送出ローラ２０による基材１０の搬送方向（＋Ｘ方向）とは異なる反対方向（−Ｘ方向）に変更する機能も有する。中継ローラ２２は、後述するように非接触状態で基材１０の搬送方向を変更する。

塗布部３は、第１塗布部３０と、第２塗布部４０とを含む。第１塗布部３０は、浮上させた状態の基材１０の表面（一方の面）１０ａに塗布材料１００を塗布するためのものである。第２塗布部４０は、浮上させた状態の基材１０の裏面（他方の面）１０ｂに塗布材料１００を塗布するためのものである。

第１塗布部３０は、第１浮上部３１と、第１塗布器３２とを有する。第１浮上部３１は、上記搬送部２によって所定方向に搬送される基材１０を浮上させた状態に保持可能とするものである。第１塗布器３２は、第１浮上部３１によって浮上された基材１０の表面１０ａに塗布材料１００を塗布するものである。

第１塗布部３０において、第１浮上部３１及び第１塗布器３２は、基材１０を挟持するように配置されている。この構成によれば、第１浮上部３１及び第１塗布器３２が平面的に重なった状態に配置されるので、第１塗布部３０における設置スペースを小型化することができる。

第２塗布部４０は、第２浮上部４１と、第２塗布器４２とを有する。第２浮上部４１は、上記搬送部２によって所定方向に搬送される基材１０を浮上させた状態に保持可能とするものであり、上記第１浮上部３１と同じ構成を有する。第２塗布器４２は、第２浮上部４１によって浮上された基材１０の裏面１０ｂに塗布材料１００を塗布するものである。

また、第２塗布部４０において、第２浮上部４１及び第２塗布器４２は、基材１０を挟持するように配置されている。この構成によれば、第２浮上部４１及び第２塗布器４２が平面的に重なった状態に配置されるので、第２塗布部４０における設置スペースを小型化することができる。

上記第１浮上部３１及び第２浮上部４１は、同一の機構を有するものである。また、上記第１塗布器３２及び第２塗布器４２は、塗布材料１００を塗布する部材（スリットノズル又はバーコーター）が異なるものの、全体の構成は互いに共通している。

そこで、以下の説明では、第１塗布部３０の構成を例に挙げて説明し、第２塗布部４０の詳細な構成については省略するものとする。
図２は第１塗布部３０の構成を示す図であり、同図（ａ）は斜視図であり、同図（ｂ）は側面図である。図３は第１塗布部３０の要部構成を示す側面図である。
図２（ａ）に示すように、第１浮上部３１は、処理ステージ３９と、複数のエア噴出口３３ａ及びエア吸引口３３ｂと、を有する。処理ステージ３９は、搬送部２に搬送される基材１０に対して、塗布材料１００の塗布処理を行うための基材処理領域３３を有する。上記複数のエア噴出口３３ａ及びエア吸引口３３ｂは、基材処理領域３３に形成されている。エア噴出口３３ａは、基材処理領域３３上にエアを噴出するための開口であり、Ｙ方向に沿って複数配列されている。エア吸引口３３ｂは、基材処理領域３３上のエアを吸引するための開口であり、Ｙ方向に沿って複数配列されている。エア噴出口３３ａ及びエア吸引口３３ｂの開口列は、それぞれ基材処理領域３３のＸ方向に沿って交互に配置されている。

これらエア噴出口３３ａ及びエア吸引口３３ｂは、処理ステージ３９を貫通するように設けられている。また、処理ステージ３９の内部には、エア噴出口３３ａ及びエア吸引口３３ｂを通過するエアの圧力に抵抗を与えるための図示しない溝が複数設けられている。この複数の溝は、ステージ内部においてエア噴出口３３ａ及びエア吸引口３３ｂに接続されている。

処理ステージ３９においては、エア噴出口３３ａとともにエア吸引口３３ｂが密に設けられている。これにより、第１浮上部３１は、基材１０の浮上量を高精度で調節できるようになっており、基材１０の浮上量が例えば１００μｍ以下、好ましくは５０μｍ以下となるように制御することが可能になっている。具体的に本実施形態では、基材１０の浮上量を３０μｍに設定した。また、処理ステージ３９には、ステージ表面と基材１０との間の距離を検出可能な検出部（不図示）が設けられている。

このような構成に基づき、第１浮上部３１は、図３に示すように、搬送部２によって所定方向（Ｘ方向）に搬送される基材１０の裏面１０ｂに対し、複数のエア噴出口３３ａを介してエアを吹き出すとともに、エア吸引口３３ｂを介してエアを吸引することで、基材１０（裏面１０ｂ）に接触することなく、該基材１０を保持することが可能となっている。第１浮上部３１は、上述のように基材１０の浮上量を一定に保持することができる。

第１塗布器３２は、門型フレーム３４と、該門型フレーム３４に保持されて基材１０に塗布材料１００を供給する供給部材３５とを有している。門型フレーム３４は、支柱部材３４ａと、架橋部材３４ｂとを有しており、処理ステージ３９をＹ方向に跨ぐように設けられている。具体的に支柱部材３４ａは処理ステージ３９の基材処理領域３３の外側に１つずつ固定されている。各支柱部材３４ａは、上端部の高さ位置が揃うように設けられている。架橋部材３４ｂは、各支柱部材３４ａの上端部の間に架橋されており、当該支柱部材３４ａに対して昇降可能となっている。

なお、門型フレーム３４（各支柱部材３４ａ）は、不図示の移動機構によりＸ方向に沿って処理ステージ３９に対して移動可能とされていてもよい。この場合において、例えば、処理ステージ３９の基材処理領域３３の外側の領域に供給部材３５のメンテナンス管理を行う管理部（不図示）を設けておけば、門型フレーム３４に保持された供給部材３５を管理部に移動させることで供給部材３５のメンテナンスを行うことが可能となる。

第１塗布部３０において、供給部材３５は、一方向が長手の長尺状のスリットノズルＮｚから構成されており、門型フレーム３４の架橋部材３４ｂの−Ｚ方向側の面に設けられている。スリットノズルＮｚのうち−Ｚ方向の先端には、図２（ｂ）に示したように、自身の長手方向に沿ってスリット状の開口部３５ａが設けられており、当該開口部３５ａからレジストが吐出されるようになっている。スリットノズルＮｚは、開口部３５ａの長手方向がＹ方向に平行になると共に、当該開口部３５ａが処理ステージ３９に対向するように配置されている。

開口部３５ａの長手方向の寸法は搬送される基材１０のＹ方向の寸法と同程度に設定されており、基材１０の幅方向の全域に亘って塗布材料１００を塗布することが可能となっている。スリットノズルＮｚの内部には塗布材料１００を開口部３５ａに流通させる図示しない流通路が設けられており、この流通路には図示しない塗布材料供給源が接続されている。この塗布材料供給源は例えば図示しないポンプを有しており、当該ポンプで塗布材料１００を開口部３５ａへと押し出すことで開口部３５ａから塗布材料１００が吐出されるようになっている。

このような構成に基づき、第１塗布部３０は、基材１０を浮上させることで該基材１０の表面１０ａ及び裏面１０ｂのいずれにも接触することなく、第１塗布器３２（スリットノズルＮｚ）から塗布材料１００を良好に塗布することが可能とされている。ここで、上述のように基材１０は、表面１０ａが高い平面度を有した状態とされている。そのため、第１塗布器３２は基材１０上に均一な膜厚で塗布材料１００を塗布することが可能となっている。

一方、第２塗布部４０の第２浮上部４１は、処理ステージ３９と、複数のエア噴出口３３ａ及びエア吸引口３３ｂと、を有する。第２塗布部４０の第２塗布器４２は、門型フレーム３４と、該門型フレーム３４に保持される供給部材３５とを有している。第２塗布部４０は、第１塗布部３０に対し、上記供給部材３５がバーコーターＢＣから構成される点のみが相違している。バーコーターＢＣは、例えば、軸部材の外周面に所定の径を有するワイヤー部材が巻回されることで構成され、基材１０の裏面１０ｂに均一な膜厚の塗布材料１００を塗り拡げることが可能である。供給部材３５には、バーコーターＢＣと基材１０の裏面１０ｂとの間に塗布材料１００を供給する図示しない塗布材料供給源が接続されている。

このような構成に基づき、第２塗布部４０は、基材１０を浮上させることで該基材１０の表面１０ａ及び裏面１０ｂのいずれにも接触することなく、第２塗布器４２（バーコーターＢＣ）から塗布材料１００を良好に塗布することが可能とされている。ここで、第２浮上部４１は、基材１０が自重で垂れ下がらない程度の力で基材１０の表面１０ａを吸引する。そのため、基材１０は、裏面１０ｂが高い平面度を有した状態とされ、第２塗布器４２は基材１０上に均一な膜厚で塗布材料１００を塗布することが可能となっている。

なお、第１塗布部３０における第１浮上部３１は、塗布材料１００が塗布される前の基材１０の裏面１０ｂに対してエアを吹き付けている。一方、第２塗布部４０における第２浮上部４１は、塗布材料１００が塗布された後の基材１０の表面１０ａに対してエアを吹き付けている。そのため、浮上させる対象となる基材１０の重量が塗布材料１００の分だけ変化している。そこで、本実施形態では、第２浮上部４１における上記エア噴出口３３ａ及びエア吸引口３３ｂの配置や数を適宜調整することで第１塗布部３０から第２塗布部４０に基材１０が受け渡された際に該基材１０に付与する浮上力を一定に保持するようにしている。

また、第２浮上部４１の浮上対象である基材１０は、塗布材料１００の分だけ厚みが変化している。そのため、第２塗布部４０の第２浮上部４１は、第１塗布部３０側から搬送された基材１０の表面１０ａ側を保持する際、基材１０の表面１０ａのＺ方向の位置を変化させないように＋Ｚ方向にシフトした位置に配置されている。この構成に基づき、本実施形態においては、第１塗布部３０から第２塗布部４０側に搬送された際、基材１０のＺ方向における位置が変化しないので、表面１０ａに塗布されて乾燥していない状態の塗布材料１００が変形するのを防止している。

図４は中継ローラ２２の構成を示す側面図である。図４に示すように、中継ローラ２２は、円筒部材２３と、該円筒部材２３を回転駆動する駆動部２４と、を主体に構成される。円筒部材２３の外周面２５には、複数のエア噴出口２５ａ及びエア吸引口２５ｂが形成されている。エア噴出口２５ａは、円筒部材２３の外周面２５上にエアを噴出するための開口である。エア吸引口２５ｂは、円筒部材２３の外周面２５上のエアを吸引するための開口である。これらエア噴出口２５ａ及びエア吸引口２５ｂは、外周面２５を貫通するように設けられている。

円筒部材２３の内部には、エア噴出口２５ａにエアを供給するエア供給部（不図示）に接続される接続配管（不図示）が設けられている。円筒部材２３の内部には、エア吸引口２５ｂを介してエアを吸引する吸引ポンプ（不図示）に接続される接続配管（不図示）が設けられている。

このような構成に基づき、中継ローラ２２は、図４に示すように、搬送部２によって所定方向（Ｘ方向）に搬送される基材１０の裏面１０ｂに対し、複数のエア噴出口２５ａを介してエアを吹き出すことで基材１０を浮上させることで所定距離だけ離間した状態に保持することができる。また、中継ローラ２２は、基材１０の裏面１０ｂの周辺の雰囲気を複数のエア吸引口２５ｂを介して吸引することで該基材１０の裏面１０ｂを引き寄せることができる。従って、上述した第１浮上部３１及び第２浮上部４１と同様、基材１０（裏面１０ｂ）に接触することなく、該基材１０を保持することが可能となっている。

エア噴出口２５ａ及びエア吸引口２５ｂは、外周面２５に密に配置されている。これにより、中継ローラ２２は、基材１０の浮上量を高精度で調節できるようになっており、基材１０の浮上量が例えば１００μｍ以下、好ましくは５０μｍ以下となるように制御することができる。具体的に本実施形態では、基材１０の浮上量を３０μｍに設定した。

駆動部２４は、図４に示すように時計回り方向に沿って中継ローラ２２を回転させる。ここで、基材１０は、中継ローラ２２の外周面２５に所定距離だけ離間した状態で吸引された状態とされている。そのため、基材１０は、中継ローラ２２の外周面２５の移動方向に沿って搬送方向が変化する。これにより、基材１０の搬送方向は、中継ローラ２２の上流側におけるＸ方向から中継ローラ２２の下流側における−Ｘ方向へと１８０°反対方向に変更される。すなわち、中継ローラ２２を経由した基材１０は、裏面１０ｂを上面に向け、表面１０ａを下面に向けた状態で搬送されることとなる。

中継ローラ２２により搬送方向が変更された基材１０は乾燥部４に到達する。乾燥部４は、図１に示すように本体部４ａと、本体部４ａ内に収容されたヒータ１１と、第１乾燥ローラ１２と、第２乾燥ローラ１３とを有する。ヒータ１１は、例えば、裏面１０ｂ側から基材１０に輻射熱を与えることで該基材１０に塗布されている塗布材料１００を乾燥して硬化させる。第１乾燥ローラ１２及び第２乾燥ローラ１３は、上記中継ローラ２２と概ね同一の構成を有する。具体的に第１乾燥ローラ１２及び第２乾燥ローラ１３は、外周面に不図示のエア噴出口及びエア吸引口が設けられており、基材１０を浮上させることで所定距離だけ離間した状態に保持することができる。第１乾燥ローラ１２及び第２乾燥ローラ１３は、エア噴出口から温風（加熱風）を吹き出す点が中継ローラ２２の構成と相違している。この構成に基づき、第１乾燥ローラ１２及び第２乾燥ローラ１３は、基材１０の表面１０ａに温風を噴出することで該表面１０ａに接触することなく、塗布材料１００を乾燥させることができる。

続いて、本実施形態に係る塗布装置１の動作について説明する。
まず、塗布装置１は搬送部２を駆動する。搬送部２は、巻取ローラ２１を反時計回り（図１参照）に回転させることでロール体Ｒから巻き解いた基材１０を塗布部３に向けて搬送する。塗布装置１は、まず第１塗布部３０を駆動し、基材１０の表面１０ａに塗布材料１００を塗布する。第１塗布部３０において、基材１０は、第１浮上部３１により所定量だけ浮上した状態で第１塗布器３２のスリットノズルＮｚから塗布材料１００が塗布される。このように第１塗布部３０は基材１０の裏面１０ｂに接触することなく、該基材１０の表面１０ａに塗布材料１００を塗布することができる。

第１塗布部３０により塗布材料１００が塗布された基材１０は、搬送部２により第２塗布部４０へと搬送される。塗布装置１は、続けて第２塗布部４０を駆動し、基材１０の裏面１０ｂに塗布材料１００を塗布する。第２塗布部４０において、基材１０は、第２浮上部４１により所定量だけ浮上した状態で第２塗布器４２のバーコーターＢＣから塗布材料１００が塗布される。

本実施形態においては、上述したように第２浮上部４１が第１塗布部３０側から搬送された基材１０の表面１０ａのＺ方向の位置を変化させないように配置されているため、表面１０ａに塗布されて乾燥していない状態の塗布材料１００が変形することで膜質が劣化するといった不具合の発生を防止することができる。

続いて、第２塗布部４０により塗布材料１００が塗布された基材１０は、中継ローラ２２により搬送方向が１８０°反転されて乾燥部４へと搬送される。このように本実施形態においては、中継ローラ２２が基材１０の搬送方向を１８０°変更するので、基材１０における搬送経路を見掛け上の大きさが小さくなるため、塗布装置１自体を小型化することができる。

続いて、中継ローラ２２を経由した基材１０は、搬送部２により乾燥部４へと搬送される。塗布装置１は、続けて乾燥部４を駆動し、基材１０の表面１０ａ及び裏面１０ｂに塗布材料１００を乾燥させる。乾燥部４は、表面１０ａの塗布材料１００をヒータ１１により乾燥させ、裏面１０ｂの塗布材料１００を第１乾燥ローラ１２及び第２乾燥ローラ１３により乾燥させる。第１乾燥ローラ１２及び第２乾燥ローラ１３は、基材１０の表面１０ａに温風を噴出することで塗布材料１００を乾燥させる。
乾燥部４で塗布材料１００が乾燥されることで塗布膜が両面に形成された基材１０は、時計回りに回転する巻取ローラ２１により巻き取られる。これにより、長板状の基材１０が巻取ローラ２１に巻き取られるため、塗布後の基材１０を容易に回収することができる。

以上述べたように本実施形態によれば、基材１０に接触することなく、水平面（ＸＹ平面）に沿って搬送される基材１０の両面（表面１０ａ及び裏面１０ｂ）に塗布材料１００を塗布できるので、塗布材料１００に搬送跡が生じることがなく、品質の高い塗布膜を得ることができる。また、搬送部２、中継ローラ２２、乾燥部４（第１乾燥ローラ１２及び第２乾燥ローラ１３）を経由する際、いずれにおいても基材１０への接触がないため、本実施形態のように例えば基材１０としてロール状のガラス基板を用いた場合であっても、基材１０に負荷が加わることで破損するといった不具合の発生を防止できる。すなわち、基材１０の材質によらず、基材１０の両面塗布が可能な付加価値の高い塗布装置１を提供することができる。

なお、本発明は、上述した実施形態に限定されることはなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲内において適宜変更が可能である。例えば、上記実施形態では、水平面（ＸＹ平面）内で搬送される基材１０の両面に塗布材料１００を塗布する場合を例に挙げたが、水平面と交差する方向に沿って搬送される基材１０に塗布材料１００を塗布する構成としてもよい。

図５は変形例に係る塗布装置の概略構成を示す図である。図５においては、第２塗布部４０が水平面と交差する方向（例えば、水平面から下方に３０°傾いた方向）に搬送される基材１０の裏面１０ｂに対して塗布材料１００を塗布する。本変形例によれば、水平面に沿う方向及び水平面に交差する方向に搬送される基材１０の両面に対し、該基材１０に接触することなく、塗布材料を塗布することができる。

また、図５においては、第２塗布部４０が水平面と交差する方向に搬送される基材１０の裏面１０ｂに対して塗布材料１００を塗布する場合を例に挙げたが、第１塗布部３０が水平面と交差する方向に搬送される基材１０の表面１０ａに塗布材料１００を塗布し、第２塗布部４０が水平方向に搬送される基材１０の裏面１０ｂに塗布材料１００を塗布する構成であっても構わない。

また、中継ローラ２２と同様のローラを設けることで、第１塗布部３０を通った基材１０の搬送方向を１８０°折り返し、第２塗布部４０が基材１０の裏面１０ｂに塗布材料１００を塗布する構成であっても構わない。この場合、第２塗布部４０においても、基材１０の裏面１０ｂに対して上側から塗布材料１００を塗布することが可能となるため、第２塗布器４２として、バーコーターＢＣに代えて第１塗布器３２と同様のスリットノズルを用いることができる。よって、部品を共通化することができ、塗布装置１のコスト低減を図ることができる。

本発明の塗布装置の塗布対象である水平面と交差する方向とは、例えば基材が垂直方向（Ｚ方向）に搬送される場合を含む概念である。図６、７は他の変形例に係る塗布装置の概略構成を示す図である。

図６に示すように、本変形例に係る第２塗布部１４０は、第２浮上部１４１が中継ローラ２２の外周面２５により構成されている。また、第２塗布部１４０の第２塗布器１４２は、先端を水平面に沿わせるとともに中継ローラ２２の中央部に対向させるように配置されている。すなわち、第２塗布器１４２は、中継ローラ２２によって垂直方向に搬送される基材１０の裏面１０ｂに対して塗布材料１００を塗布する。このように本変形例によれば、垂直方向に搬送される基材１０に接触することなく、塗布材料１００を良好に塗布することができる。

また、上記実施形態では、第１塗布部３０及び第２塗布部４０がそれぞれ水平方向に搬送される基材１０に対して塗布を行う場合を例に挙げたが、図７に示すように、第２塗布部４０にて垂直方向に搬送される基材１０に塗布材料１００を塗布するようにしても構わない。これによれば、垂直方向に搬送される基材１０に接触することなく、塗布材料１００を良好に塗布することができる。

また、上記実施形態では、乾燥部４において、基材１０上の塗布材料を乾燥させる手段として、温風を吹き出す第１乾燥ローラ１２及び第２乾燥ローラ１３を例示したが、一般的に用いられるホットプレートや、赤外線ヒーター等を用いるようにしても構わない。また、基材１０の搬送方法としては、第１乾燥ローラ１２及び第２乾燥ローラ１３に代えて、図８に示すように温風を噴出可能な浮上ステージ１４を用いてもよい。これによれば、基材１０を温調した状態で浮上保持することができる。

また、上記実施形態では、塗布膜が両面に形成された長尺状の基材１０が巻取ローラ２１に巻き取られる場合を例示したが、塗布膜が両面に形成された基材１０を所定の長さ毎に切断した後に回収するようにしてもよい。

図９は本変形例に係る両面塗布装置１０１の概略構成を示す図である。なお、図９においては上記実施形態と同一の部材及び構成については同じ符号を付し、その詳細な説明については省略若しくは簡略化するものとする。

図９に示すように、本変形例に係る両面塗布装置１０１は、搬送部１０２と、塗布部３と、乾燥部４と、切断部５と、基材回収部６とを備えている。搬送部１０２は、基材１０の両端部を保持した状態で該基材１０をＸ方向に沿って搬送する。すなわち、本変形例においては、基材１０の搬送経路が直線状とされている。なお、本変形例においては、搬送部１０２により保持される基材１０の両端部には塗布材料が塗布されないものとする。

搬送部１０２は、基材１０の両端部を保持する保持部１０２ａと、該保持部１０２ａを駆動する駆動部１０２ｂとを含む。駆動部１０２ｂは、例えばチェーン１０２ｃを回転駆動させるためのものであり、複数の保持部１０２ａがチェーン１０２ｃに所定間隔毎に取り付けられている。このような構成に基づき、搬送部１０２は、回転駆動するチェーン１０２ｃとともに支持部１０２ａを＋Ｘ方向に移動させることで該支持部１０２ａが支持する基材１０を送出ローラ２０（ロール体Ｒ）から巻き解いて下流側に搬送することが可能となっている。なお、搬送部１０２は、基材１０の両端部を保持するため、図９においては図示を省略するものの、基材１０の幅方向（Ｙ方向）における両側にそれぞれ設けられている。

切断部５は、基材１０の搬送方向における塗布部３の下流側に配置されている。切断部５は、例えばカッター部材から構成され、両面に塗布膜が形成された長尺状の基材１０を切断するためのものである。
切断部５ａに切断された基材１０は、上記搬送部１０２により基材回収部６に搬送される。基材回収部６は、切断部５により所定の長さに切断された基材１０を回収するためのものであり、例えばスタッカー等から構成される。

続いて、本変形例に係る塗布装置１０１の動作について説明する。
まず、塗布装置１０１は搬送部１０２を駆動する。搬送部１０２は、駆動部１０２ｂを反時計回り（図９参照）に回転させることで基材１０の両端部を保持する保持部１０２ａとともに基材１０を＋Ｘ方向に移動させる。これにより、基材１０がロール体Ｒから巻き解かれて塗布部３に向けて搬送される。

塗布装置１０１は、上記実施形態と同様、第１塗布部３０及び第２塗布部４０を駆動し、基材１０の両面に塗布材料１００（図３参照）を塗布することができる。搬送部１０２は、両面に塗布材料１００が塗布された基材１０を乾燥部４に搬送し、塗布材料１００を乾燥させることができる。

続いて、搬送部１０２は、両面に塗布膜が形成された基材１０を切断部５に搬送する。切断部５は、長尺状の基材１０を所定の長さ毎に切断する。所定の長さに切断された基材１０は、搬送部１０２に搬送されることで基材回収部６に回収される。

以上述べたように本変形例によれば、上記実施形態と同様に、基材１０に接触することなく、水平面（ＸＹ平面）に沿って搬送される基材１０の両面（表面１０ａ及び裏面１０ｂ）に塗布材料１００を塗布できるので、塗布材料１００に搬送跡が生じることがなく、品質の高い塗布膜を得ることができる。それに加えて、長尺状の基材１０を所定の長さ毎に切断することができる。

１…塗布装置、２…搬送部、３…塗布部、４…乾燥部、１０…基材、１０ａ…表面（一方の面）、１０ｂ…裏面（他方の面）、２０…送出ローラ、２１…巻取ローラ、２２…中継ローラ（変更ローラ）、３０…第１塗布部、３１…第１浮上部、３２…第１塗布器、４０…第２塗布部、４１…第２浮上部、４２…第２塗布器、ＢＣ…バーコーター、Ｎｚ…スリットノズル、１００…塗布材料、１４０…第２塗布部、１４１…第２浮上部、１４２…第２塗布器

Claims

長板状の基材を所定方向に搬送する搬送部と、
前記基材の一方の面に塗布材料を塗布する第１塗布部と、
前記基材の他方の面に前記塗布材料を塗布する第２塗布部と、
を備え、
前記第１塗布部は、前記基材を浮上させた状態に保持可能な第１浮上部と、前記第１浮上部によって浮上された前記基材の前記一方の面に前記塗布材料を塗布する第１塗布器とを有し、
前記第２塗布部は、前記基材を浮上させた状態に保持可能な第２浮上部と、前記第２浮上部によって浮上された前記基材の前記他方の面に前記塗布材料を塗布する第２塗布器とを有する
両面塗布装置。
前記基材に塗布された前記塗布材料を乾燥して塗布膜とする乾燥部をさらに備える
請求項１に記載の両面塗布装置。
前記乾燥部は、加熱風を吹き付けて前記基材を浮上させた状態で前記塗布材料を乾燥させる
請求項２に記載の両面塗布装置。
前記第１塗布部及び前記第２塗布部において、前記第１浮上部及び前記第２浮上部は、それぞれ前記第１塗布器及び前記第２塗布器との間で前記基材を挟持するように配置される
請求項１〜３のいずれか一項に記載の両面塗布装置。
前記第１塗布器、前記基材に対して鉛直方向における上方に配置され、前記第２塗布器は、前記基材に対して前記鉛直方向における下方に配置される
請求項４に記載の両面塗布装置。
前記第１塗布器は、水平面に沿う方向に搬送される前記基材に前記塗布材料を塗布し、
前記第２塗布器は、前記水平面と交差する方向に搬送される前記基材に前記塗布材料を塗布する
請求項１〜５のいずれか一項に記載の両面塗布装置。
前記第１塗布器はスリットノズルから構成され、
前記第２塗布器はバーコーター又はスリットノズルから構成される
請求項５又は６に記載の両面塗布装置。
前記搬送部は、前記基材を所定方向に送り出す送出ローラと、前記基材に接触することなく該基材の搬送方向を前記所定方向と異なる方向に変える変更ローラと、前記基材を巻き取る巻取ローラと、を含む
請求項１〜７のいずれか一項に記載の両面塗布装置。
前記変更ローラは、前記第１浮上部及び前記第２浮上部の一方として機能する
請求項８に記載の両面塗布装置。
前記第１塗布部及び前記第２塗布部により前記塗布材料が両面に塗布された前記基材を所定の長さ毎に切断する切断部をさらに備える
請求項１〜７のいずれか一項に記載の両面塗布装置。