JP2014065217A - ヘッドモジュールの検査方法及び装置 - Google Patents

Abstract

【課題】ヘッドモジュールのＤＣオフセット量を検出可能な検査方法及び装置を提供する。
【解決手段】記録紙１３とヘッドモジュール１２とを相対移動させながら、ヘッドモジュール１２により記録紙１３に複数の第１のラインパターン４１からなる第１次ストライプパターン４２を形成する。記録紙１３及びヘッドモジュール１２の一方を１８０°回転させる。記録紙１３とヘッドモジュール１２とを相対移動させながら、ヘッドモジュール１２により記録紙１３に複数の第２のラインパターン４４からなる第２次ストライプパターン４５を形成する。両ストライプパターン４２，４５のパターン間隔Ｓを検出した後、このパターン間隔Ｓに基づきＤＣオフセット量εを算出する。
【選択図】図８

Description

本発明は、ヘッドモジュールの検査を行うヘッドモジュールの検査方法及び装置に関する。

インクジェット記録装置の記録方式として、記録媒体の搬送方向と直交する記録媒体の幅方向に沿って長尺のラインヘッド（記録ヘッド）を設置して、記録媒体の搬送と共にラインヘッドによる１回の描画パスで画像を記録するライン方式が知られている。このライン方式で用いられるラインヘッドをシリコンウェハやガラス等で一体に形成することは、製造方法、歩留まり、発熱、コスト等の問題により現実的ではない。そのため、ライン方式では、ノズルが２次元配列されたヘッドモジュールを記録媒体の幅方向に並べて配置してなるラインヘッドを用いるのが通常である。

このような複数のヘッドモジュールで構成されるラインヘッドを用いて画像記録を行う際に、ヘッドモジュールの設計位置からの位置ずれが発生していると、記録画像の品質が低下するという問題が発生する。このため、ヘッドモジュールの位置ずれを検出するための様々な方法が提案されている。

特許文献１には、記録ヘッドアレイ（ラインヘッドに相当）の各ヘッドユニット（ヘッドモジュールに相当）に基準ノズル及び位置決めノズルを設け、これら両ノズルにより形成された印字パターンに基づきヘッドユニットのθずれを検出する方法が開示されている。

特許文献２には、アレイヘッド（ラインヘッドに相当）の各単位チップ（ヘッドモジュールに相当）の中の１つの基準チップと、他の単位チップとにより形成された印字パターンに基づき、各チップ間の水平方向・垂直方向（記録媒体の幅方向・搬送方向）の位置ずれを検出する方法が開示されている。

特許文献３には、ラインヘッドの複数のヘッドモジュールの中から選択された基準ヘッドモジュール及び調整ヘッドモジュールにより形成された傾き調整用パターンに基づき、基準ヘッドモジュールに対する調整ヘッドモジュールの位置ずれを検出する方法が開示されている。

特開２００７−７８８２号公報 特開２００２−１７８５０５号公報 特開２０１１−２５１４８０号公報

ところで、ヘッドモジュール上のノズルの位置と、このノズルにより記録される記録媒体上の記録位置とがノズル毎にランダムな方向及び量のオフセットをもつ場合に、このオフセットは印字パターンの間隔変動などを計測、統計処理することで容易に測定可能である。しかしながら、例えば１個のヘッドモジュール全体で一方向のオフセット（ＤＣオフセット）を有する場合（図３参照）には、各ノズルの位置に対して各記録位置が一方向に平行移動した形で印字パターンが形成されるので、印字パターンの間隔からオフセットの値を推定することが難しい。

このような一方向のオフセットを有するヘッドモジュールをラインヘッドに取り付けた場合には、このヘッドモジュールと他のヘッドモジュールとの繋ぎ部分で色ムラ、すじムラが発生するおそれがある。また、ヘッドモジュールは、ラインヘッドへの取り付け後の位置ずれを防止するためにラインヘッドに接着固定するのが通常である。従って、一方向のオフセットを有するヘッドモジュールがラインヘッドに接着固定されている場合に、色ムラやすじムラの発生を防止するためのヘッドモジュールの位置調整が困難となる。このため、ヘッドモジュールをラインヘッドに接着固定する前に、ヘッドモジュール単体で一方向のオフセットが発生しているか否かを検出する必要がある。

上記特許文献１では、基準ノズル及び位置決めノズルにより印字パターンを形成しているが、ヘッドモジュール全体で一方向のオフセットを有する場合には、上述の通り各ノズルの位置に対して各記録位置が一方向に平行移動した形で印字パターンが形成される。このため、オフセットの値を推定することが難しい。

また、上記特許文献２及び３の位置ずれ検出方法では、ヘッドモジュール単体での検出を行うことができず、ヘッドモジュールをラインヘッドに接着固定してから一方向のオフセットを検出するため、上述の通りヘッドモジュールの位置調整が困難となる。

本発明の目的は、ヘッドモジュール単体で一方向のオフセットを検出可能なヘッドモジュールの検査方法及び装置を提供することにある。

本発明の目的を達成するためのヘッドモジュールの検査方法は、記録素子が複数配列されたヘッドモジュールと、記録媒体とを第１の方向に相対移動させながらヘッドモジュールにより記録媒体に第１のラインパターンを形成する第１のラインパターン形成ステップと、第１のラインパターン形成ステップ後に、ヘッドモジュール及び記録媒体のいずれか一方を、記録媒体の記録面に対して垂直な回転軸を中心として１８０°回転させる回転ステップと、回転ステップ後に、ヘッドモジュールと記録媒体とを第１の方向に相対移動させながらヘッドモジュールにより記録媒体に第２のラインパターンを形成する第２のラインパターン形成ステップと、記録媒体に形成された第１のラインパターンと第２のラインパターンとの間のパターン間隔を検出する検出ステップと、検出ステップの検出結果に基づき、ヘッドモジュールにおける複数の記録素子の位置に対する、複数の記録素子による記録媒体上の記録位置の第１の方向に対して垂直な第２の方向のずれ量を算出する算出ステップと、を有する。

本発明によれば、ヘッドモジュールをラインヘッドに取り付ける前の状態においてずれ量を算出することができる。

回転軸は、記録素子の中心を貫通する軸であることが好ましい。ずれ量を求める領域内の記録素子を貫通する回転軸を中心として記録媒体またはヘッドモジュールを回転させることにより、この領域におけるずれ量を高精度に求めることができる。

第２のラインパターン形成ステップでは、第１のラインパターンの形成に用いた記録素子と同じ記録素子を用いて第２のラインパターンを形成することが好ましい。これにより、パターン間隔からずれ量を求めることができる。

第１のラインパターン形成ステップでは、第２の方向に一定ピッチで配置された記録素子により第１のラインパターンを形成し、回転ステップでは、第１のラインパターンの形成に用いられた記録素子のいずれかの中心を貫通する軸を回転軸とし、算出ステップは、検出ステップで検出されたパターン間隔に１／２を乗算して得た値をずれ量とすることが好ましい。これにより、パターン間隔からずれ量を簡単に求めることができる。

第１のラインパターン形成ステップでは、第２の方向に一定ピッチで配置された第１の記録素子により第１のラインパターンを形成し、第２のラインパターン形成ステップでは、第１の記録素子とは異なる第２の記録素子であって、第２の方向に第１の記録素子と同一ピッチで配置されており、かつ第１の記録素子との間の第２の方向の素子間隔が既知である第２の記録素子により第２のラインパターンを形成し、算出ステップでは、検出ステップの検出結果と、素子間隔とに基づいてずれ量を算出することが好ましい。これにより、ずれ量が非常に小さい場合でもパターン間隔を求めることができる。

回転ステップでは、第１の記録素子のいずれかの中心を貫通する軸を回転軸とし、第１のラインパターンと第２のラインパターンとは第２の方向に交互に形成されており、ずれ量をεとし、素子間隔をＷとし、第１及び第２のラインパターンの一方とその両隣に位置する他方との間のパターン間隔のうち間隔が広い方をＳとしたときに、ε、Ｗ、Ｓは式Ｓ＝２ε＋Ｗを満たし、算出ステップでは、式にＷ、Ｓを代入してεを算出することが好ましい。これにより、ずれ量が非常に小さい場合でもパターン間隔を求めることができる。

回転ステップと第２のラインパターン形成ステップとの間に、ヘッドモジュール及び記録媒体のいずれか一方を第２の方向に移動させる移動ステップを有することが好ましい。これにより、パターン間隔を広げられるので、ずれ量が非常に小さい場合でもパターン間隔を求めることができる。

算出ステップ後に、ずれ量の算出結果を、ヘッドモジュールを識別可能な状態で記憶部に記憶させる記憶ステップを有することが好ましい。これにより、個々のヘッドモジュールのずれ量を確認することができる。

記録素子は、液滴の吐出を行うノズルであることが好ましい。

また、本発明のヘッドモジュールの検査装置は、記録素子が複数配列されたヘッドモジュールと、記録媒体とを第１の方向に相対移動させる相対移動手段と、相対移動手段を制御してヘッドモジュールと記録媒体とを第１の方向に相対移動させながら、ヘッドモジュールを制御して記録媒体に第１のラインパターンを形成させる第１の記録制御手段と、第１のラインパターンの形成後に、ヘッドモジュール及び記録媒体のいずれか一方を、記録媒体の記録面に対して垂直な回転軸を中心として１８０°回転させる回転手段と、一方が１８０°回転された後に、相対移動手段を制御してヘッドモジュールと記録媒体とを第１の方向に相対移動させながら、ヘッドモジュールを制御して記録媒体に第２のラインパターンを形成させる第２の記録制御手段と、記録媒体に形成された第１のラインパターンと第２のラインパターンとの間のパターン間隔を検出する検出手段と、検出手段の検出結果に基づき、ヘッドモジュールにおける複数の記録素子の位置に対する、複数の記録素子による記録媒体上の記録位置の第１の方向に対して垂直な第２の方向のずれ量を算出する算出手段と、を備える。

本発明のヘッドモジュールの検査方法及び装置は、記録媒体を１８０°回転させる前後においてそれぞれ第１及び第２のラインパターンを形成して、両ラインパターンのパターン間隔を検出することにより、ヘッドモジュールの全体あるいは一部の領域で、複数の記録素子の位置に対する記録媒体上の記録位置が一方向に位置ずれ（オフセット）していた場合でもずれ量を求めることができる。

ヘッドモジュール検査装置の概略図である。 ヘッドモジュールの底面図及び側面図である。 ＤＣオフセット量を説明するための説明図である。 ヘッドモジュール検査装置の電気構成を示すブロック図である。 テストパターン形成処理の流れを示すフローチャートである。 第１次ストライプパターン形成処理を説明するための説明図である。 記録紙の回転を説明するための説明図である。 第２次ストライプパターン形成処理を説明するための説明図である。 ヘッドモジュールの検査処理の流れを示すフローチャートである。 ヘッドモジュールアライメントを説明するための説明図である。 記録紙アライメントを説明するための説明図である。 第１次ストライプパターン形成処理を説明するための説明図である。 記録紙の回転を説明するための説明図である。 第２次ストライプパターン形成処理を説明するための説明図である。 テストパターンの読取処理を説明するための説明図である。 ヘッドモジュールの位置調整を説明するための説明図である。 第２実施形態における、記録紙のＸ方向の移動を説明するための説明図である。 第２実施形態のヘッドモジュールの検査処理の流れを示すフローチャートである。 第３実施形態のＡ群選択ノズル及びＢ群選択ノズルを説明するための説明図である。 第３実施形態のヘッドモジュールの検査処理の流れを示すフローチャートである。 第３実施形態の記録紙の回転を説明するための説明図である。 第３実施形態の第２次ストライプパターン形成処理を説明するための説明図である。 ＤＣオフセットが発生しない場合のテストパターンを説明するための説明図である。 記録紙の代わりにヘッドモジュールを回転させる他実施形態を説明するための説明図である。

［第１実施形態のヘッドモジュール検査装置］
図１に示すように、本発明のヘッドモジュールの検査装置に相当するヘッドモジュール検査装置（以下、単に検査装置と略す）１０は、ヘッドモジュール１２における本発明の第２の方向にずれ量に相当するＤＣオフセット量ε（図３参照）を検査する。

図２に示すように、ヘッドモジュール１２は、記録紙（記録媒体）１３の幅方向に対して平行なＸ方向（主走査方向ともいう、本発明の第２の方向）に長く延びたラインヘッド（記録ヘッド）１４に取り付けられる。ラインヘッド１４は、Ｘ方向に並べて配置された複数のヘッドモジュール１２と、各ヘッドモジュール１２を保持する枠体１４ａとを備えている。なお、各ヘッドモジュール１２は、Ｘ方向に沿って千鳥状に配置されていてもよい。

ヘッドモジュール１２は、液滴（インク滴ともいう）を吐出する複数のノズル（記録素子）ＮをＸ方向に対して一定の角度を有する斜め方向に沿って配列してなるノズル列を有しており、このノズル列がＸ方向に複数配列されてなるマトリクス型のヘッドである。なお、図面の煩雑化を防止するために、図中では一部のノズルＮを間引いて図示している（図３以降も同様）。

ヘッドモジュール１２の各ノズルＮは、各々のＸ方向位置が互いに異なるように配列されている。従って、各ノズルＮは、Ｘ方向（主走査方向）について実質的に一定のピッチで直線状に配列されたものと等価的に取り扱うことができる。

また、ヘッドモジュール１２のノズルＮが設けられているノズル面上には、アライメントマーク１５が形成されている。このアライメントマーク１５は、ノズル面に各ノズルＮを形成する際の基準位置として用いられるとともに、検査装置１０にセットされたヘッドモジュール１２の位置決めに用いられる。

図３（Ａ），（Ｂ）に示すように、ＤＣオフセット量εは、ヘッドモジュール１２の各ノズルＮの位置と、各ノズルＮにより記録される記録紙１３上の記録位置とがヘッドモジュール１２の全体あるいは一部の領域で一方向のオフセット（以下、ＤＣオフセットという）を有する場合のオフセット量である。なお、図中ではヘッドモジュール１２の各ノズル位置を、ＤＣオフセットが発生してない場合における記録紙１３上の記録位置で図示している（二点鎖線で表示）。

このようなＤＣオフセットは、ヘッドモジュール１２の全ノズルＮあるいは一部の領域内のノズルＮが斜め方向に液滴を吐出する不良ノズルとなる場合に発生する（図３（Ａ）参照）。また、ＤＣオフセットは、ヘッドモジュール１２の全ノズルＮあるいは一部の領域のノズルＮのインク吐出口がＸ方向に位置ずれしている場合にも発生する（図３（Ｂ）参照）。

＜ヘッドモジュール検査装置の構成＞
図１に戻って検査装置１０は、透明ステージ１８と、ステージ駆動機構１９と、ヘッドモジュール保持部２０、位置合わせ用カメラ２１と、パターン読取用カメラ２２と、パーソナルコンピュータ（以下、単にＰＣと略す）２３とを備える。この検査装置１０は、記録紙１３に後述するテストパターン（第１及び第２のラインパターン、図８参照）２４を形成した後、このテストパターン２４の読取結果に基づいてＤＣオフセット量εを算出する。

透明ステージ１８は、ステージ駆動機構１９と共に本発明の相対移動手段、及び回転手段を構成するものである。この透明ステージ１８は、その上面に記録紙１３を支持する。また、透明ステージ１８は、ステージ駆動機構１９によりＸ方向、Ｙ方向に移動自在に支持されるとともに、記録紙１３の記録面に対して垂直な回転軸Ｃを中心として回転自在に支持されている。

ステージ駆動機構１９は、ＰＣ２３からの指令に基づき、透明ステージ１８をＸ方向、Ｙ方向に移動または回転軸Ｃを中心として回転させる。これにより、ヘッドモジュール１２と記録紙１３とをＹ方向に相対移動させることができる。また、記録紙１３のＸ方向位置及びＹ方向位置を調整し、さらに任意の回転軸Ｃを中心として記録紙１３を１８０°回転させることができる。

ヘッドモジュール保持部２０は、透明ステージ１８の上面に対向する位置でヘッドモジュール１２を保持する。また、ヘッドモジュール保持部２０は、ＰＣ２３からの指令に基づきＸ方向、Ｙ方向に移動可能であるので、ヘッドモジュール１２のＸ方向位置及びＹ方向位置を調整することができる。なお、ヘッドモジュール保持部２０を任意の回転軸Ｃを中心して回転可能、すなわち、ヘッドモジュール１２の位置を回転調整可能にしてもよい。

位置合わせ用カメラ２１は、ヘッドモジュール１２の下方でかつ透明ステージ１８の下面に対向する位置に配置されている。位置合わせ用カメラ２１は、透明ステージ１８上に記録紙１３がセットされる前には、この透明ステージ１８を通してヘッドモジュール１２のノズル面（特にアライメントマーク１５）を撮像して、この撮像により得られたノズル面画像データ２６をＰＣ２３へ出力する。

また、位置合わせ用カメラ２１は、透明ステージ１８上に記録紙１３がセットされた後には、透明ステージ１８を通して記録紙１３の下面（記録面と反対側の面）、特にこの下面に記録された位置決め用のアライメントマーク２７を撮像する。この撮像により得られた記録紙画像データ２８をＰＣ２３へ出力される。

パターン読取用カメラ２２は、後述のＤＣオフセット量算出部４０とともに、本発明の検出手段を構成するものである。このパターン読取用カメラ２２は、記録紙１３の記録面に記録されたテストパターン２４を撮像して、この撮像により得られたパターン画像データ２９をＰＣ２３へ出力する。

＜ＰＣの構成＞
図４に示すように、ＰＣ２３は、ＣＰＵ３１と、ストレージ３２と、メモリ３３と、操作部３４とを備えている。ＣＰＵ３１は、ストレージ３２に格納されたプログラムをメモリ３３へロードして、このプログラムに従った処理を実行することにより、ＰＣ２３の各部を制御する。また、ＣＰＵ３１は、図示しない通信インタフェースを介して検査装置１０の各部と接続しており、これら各部の動作を統括的に制御する。

ストレージ３２は、例えばハードディスクや不揮発メモリであり、各種のプログラムやデータを格納している。メモリ３３は、ＣＰＵ３１が処理を実行するためのワークメモリである。操作部３４は、マウスやキーボードなどの周知の入力機器である。

ＣＰＵ３１は、ＤＣオフセット量εの検査プログラムに従った処理を実行することにより、ヘッド制御部３６、搬送制御部３７、位置合わせ制御部３８、テストパターン形成制御部（第１の記録制御手段、第２の記録制御手段）３９、及びＤＣオフセット量算出部（検出手段、算出手段）４０として機能する。

ヘッド制御部３６は、ヘッドモジュール１２の各ノズルＮに対応するアクチュエータ（インクジェットヘッドの周知の圧電アクチュエータ）の駆動を制御することにより、各ノズルＮからのインクの吐出を制御する。記録紙１３のＹ方向の搬送に同期してヘッドモジュール１２の各ノズルＮからインクを吐出させることにより、記録紙１３の記録面上にノズルＮ毎のラインパターンが形成される。

搬送制御部３７は、ステージ駆動機構１９の駆動を制御することにより、透明ステージ１８をＸ方向やＹ方向に移動、または任意の回転軸Ｃを中心として回転させる。

位置合わせ制御部３８は、位置合わせ用カメラ２１から入力されたノズル面画像データ２６を解析してアライメントマーク１５の位置を検出することで、ヘッドモジュール１２の予め定められた基準位置からの位置ずれ量を検出する。次いで、位置合わせ制御部３８は、位置ずれ量検出結果からヘッドモジュール１２の位置ずれを補正する位置補正量を求めた後、この位置補正量に基づきヘッドモジュール保持部２０を駆動する。これにより、ヘッドモジュール１２が基準位置にセットされる。

また、位置合わせ制御部３８は、位置合わせ用カメラ２１から入力された記録紙画像データ２８を解析してアライメントマーク２７の位置を検出することで、記録紙１３の予め定められた基準位置からの位置ずれ量を検出する。次いで、位置合わせ制御部３８は、ずれ量検出結果から記録紙１３の位置ずれを補正する位置補正量を求めた後、この位置補正量を搬送制御部３７に出力する。これにより、搬送制御部３７が位置補正量に基づきステージ駆動機構１９を駆動して透明ステージ１８を移動させることで、記録紙１３が基準位置にセットされる。

テストパターン形成制御部３９は、ヘッド制御部３６及び搬送制御部３７を制御して、ＤＣオフセット量εの検出に用いられるテストパターン２４の形成処理を実行する。以下、テストパターン形成処理について説明する。

＜テストパターン形成処理＞
図５及び図６に示すように、テストパターン形成制御部３９は、搬送制御部３７に対してＹ方向搬送指令を発する。この指令を受けて搬送制御部３７は、ステージ駆動機構１９を駆動して透明ステージ１８をＹ方向に移動させる。これにより、ヘッドモジュール１２に対して記録紙１３がＹ方向に相対的に移動される。

記録紙１３の移動開始後、テストパターン形成制御部３９は、ヘッド制御部３６に対して第１次ストライプパターン形成指令を発する。この指令を受けてヘッド制御部３６は、ヘッドモジュール１２の全ノズルＮのうちで予め選択されたノズルＮ（以下、選択ノズルＮという）より液滴を吐出させる。この選択ノズルＮの選択方法は特に限定されないが、本実施形態では、選択ノズルＮがノズルＮの複数ピッチ分の間隔で等間隔（すなわち、一定ピッチ）となるように選択されている（例えば図６中に図示されているノズル）。

記録紙１３のＹ方向の搬送に同期して各選択ノズルＮからインクを吐出させることで、記録紙１３の記録面上に選択ノズルＮ毎の第１のラインパターン４１がＸ方向に間隔をあけて複数記録される。これにより、複数の第１のラインパターン４１により構成される第１次ストライプパターン４２が記録面上に形成される（ステップＳ１、第１のラインパターン形成ステップ）。

図５及び図７において、テストパターン形成制御部３９は、第１次ストライプパターン４２の形成後に搬送制御部３７に対して回転指令を発する。この回転指令を受けて搬送制御部３７は、ステージ駆動機構１９を駆動して、選択ノズルＮの１つを貫通する回転軸Ｃを中心として透明ステージ１８を１８０°回転させる。本実施形態では、ヘッドモジュール１２が予め基準位置に位置決めされているので、個々の選択ノズルＮの位置は既知であり、回転軸Ｃを任意の選択ノズルＮを貫通する位置に設定することができる。また、ここでいう「１８０°」には、１８０°の近傍の角度、すなわち略１８０°も含まれる。これにより、記録紙１３が１８０°回転される（ステップＳ２、回転ステップ）。

図５及び図８において、テストパターン形成制御部３９は、記録紙１３の回転後に、搬送制御部３７に対してＹ方向搬送指令を発する。この指令を受けて搬送制御部３７は、ステージ駆動機構１９を駆動して透明ステージ１８をＹ方向に移動させることより、記録紙１３をＹ方向に移動させる。この際の透明ステージ１８の移動方向（図８中の上・下方向）は特に限定はされないが、本実施形態では第１次ストライプパターン４２がヘッドモジュール１２に近づく方向側に移動させる。

次いで、テストパターン形成制御部３９は、第１次ストライプパターン４２がヘッドモジュール１２の近傍まで移動したときに、ヘッド制御部３６に対して第２次ストライプパターン形成指令を発する。この指令を受けてヘッド制御部３６は、先の第１次ストライプパターン４２の形成に用いた選択ノズルＮより液滴を吐出させる。

記録紙１３のＹ方向の搬送に同期して各選択ノズルＮからインクを吐出させることで、記録紙１３の記録面上に選択ノズルＮ毎の第２のラインパターン４４がＸ方向に間隔をあけて複数記録される。これにより、複数の第２のラインパターン４４により構成される第２次ストライプパターン４５が記録面上に形成される（ステップＳ３、第２のラインパターン形成ステップ）。以上で、第１次ストライプパターン４２及び第２次ストライプパターン４５を含むテストパターン２４が記録紙１３の記録面上に形成される。

＜ＤＣオフセット量εの算出＞
図４及び図８において、ＤＣオフセット量算出部４０は、本発明の検出手段及び算出手段に相当するものであり、パターン読取用カメラ２２から入力されたパターン画像データ２９を解析してＤＣオフセット量εを算出する。本実施形態では、回転軸Ｃを中心として記録紙１３を１８０°回転させる前後でそれぞれ第１次及び第２次ストライプパターン４２，４５を形成しているので、ＤＣオフセットが発生している場合の両ストライプパターン４２，４５のＸ方向のパターン間隔Ｓは「Ｓ＝２ε」となる。このため、ＤＣオフセット量算出部４０は、パターン画像データ２９を解析して両ストライプパターン４２，４５のパターン間隔Ｓを検出し、このパターン間隔Ｓに１／２を乗算することでＤＣオフセット量εを算出する。また、第１次ストライプパターン４２に対する第２次ストライプパターン４５のずれ方向からＤＣオフセット方向も判別することができる。

ここで、第１次及び第２ストライプパターン４２，４５のパターン間隔Ｓは、第１のラインパターン４１と、これに対応する第２のラインパターン４４とのパターン間隔Ｓとして求められる。例えば、Ｘ方向の一方から他方に向かって第１番目の第１及び第２のラインパターン４１，４４のパターン間隔Ｓ、第２番目の第１及び第２のラインパターン４１，４４のパターン間隔Ｓ、・・・第Ｑ（Ｑは選択ノズルＮの総数）番目の第１及び第２のラインパターン４１，４４のパターン間隔Ｓから求められる。なお、これら第１番目から第Ｑ番目のパターン間隔Ｓ（あるいはこれらの中の複数個）の代表値、例えば各パターン間隔Ｓの平均値を両ストライプパターン４２，４５のパターン間隔Ｓとして検出し、このパターン間隔Ｓに基づき算出されたＤＣオフセット量εをヘッドモジュール１２の全体のＤＣオフセット量εとして求めてもよい。さらに、第１番目から第Ｑ番目のパターン間隔Ｓ（あるいはこれらの中の複数個）から算出された複数のＤＣオフセット量εの平均値をヘッドモジュール１２の全体のＤＣオフセット量εとして求めてもよい。

図１に戻って、ＤＣオフセット量εの算出結果（オフセット方向を含む）は、ヘッドモジュール１２を識別可能な識別情報ＩＤと関連付けた状態で、ストレージ３２内のＤＣオフセット量記憶部（記憶部）４７に記憶される。なお、識別情報ＩＤとは、例えばヘッドモジュール１２の品名、製造番号等である。ＤＣオフセット量記憶部４７に記憶されたデータを参照することで、個々のヘッドモジュール１２のＤＣオフセット量εを確認することができる。

＜第１実施形態のヘッドモジュール検査装置の作用＞
次に、図９に示すフローチャートを用いて上記構成の検査装置１０の作用について説明を行う。検査対象となるヘッドモジュール１２をヘッドモジュール保持部２０にセットした後、操作部３４を操作してＤＣオフセット量εの検査プログラムを起動する。

図１０に示すように、検査プログラムが起動すると、ＣＰＵ３１から位置合わせ用カメラ２１に対して撮像指令が出力される。この指令を受けて位置合わせ用カメラ２１は、透明ステージ１８を通してヘッドモジュール１２のノズル面を撮像してノズル面画像データ２６を生成し、このノズル面画像データ２６を位置合わせ制御部３８へ出力する。

位置合わせ制御部３８は、ノズル面画像データ２６を解析して、アライメントマーク１５の位置に基づきヘッドモジュール１２の基準位置からのずれ量を算出した後、ヘッドモジュール１２の位置補正量を求める。次いで、位置合わせ制御部３８は、ヘッドモジュール１２の位置補正量に基づきヘッドモジュール保持部２０を駆動して、ヘッドモジュール１２を基準位置にセットする。これにより、ヘッドモジュール１２のアライメント調整が完了する（ステップＳ５）。

ヘッドモジュール１２のアライメント調整後、ＣＰＵ３１はＰＣ２３のモニタ等に記録紙１３のセットを促すメッセージを表示させる。

図１１に示すように、記録紙１３が透明ステージ１８上にセットされた後、操作部３４にてアライメント開始操作がなされると、ＣＰＵ３１から位置合わせ用カメラ２１に対して撮像指令が出力される。この指令を受けて位置合わせ用カメラ２１は、透明ステージ１８を通して記録紙１３の下面を撮像して記録紙画像データ２８を生成し、この記録紙画像データ２８を位置合わせ制御部３８へ出力する。

位置合わせ制御部３８は、記録紙画像データ２８を解析して、アライメントマーク２７の位置に基づき記録紙１３の基準位置からのずれ量を算出した後、この記録紙１３の位置補正量を求めて搬送制御部３７へ出力する。この位置補正量に基づき、搬送制御部３７はステージ駆動機構１９を駆動して、記録紙１３が基準位置にセットされるように透明ステージ１８を移動させる。これにより、記録紙１３のアライメント調整が完了する（ステップＳ６）。

記録紙１３のアライメント調整の完了後、テストパターン形成制御部３９は、前述の図５から図８に示したテストパターン形成処理を実行させる（ステップＳ７）。図１２に示すように、テストパターン形成制御部３９は、搬送制御部３７を介してステージ駆動機構１９を駆動して透明ステージ１８をＹ方向に移動させるとともに、ヘッド制御部３６を制御して選択ノズルＮから液滴を吐出させる。これにより、記録紙１３の記録面上に複数の第１のラインパターン４１からなる第１次ストライプパターン４２が形成される（図６参照）。

次いで、図１３に示すように、テストパターン形成制御部３９は、搬送制御部３７を介してステージ駆動機構１９を駆動することにより、選択ノズルＮの１つを貫通する回転軸Ｃを中心として透明ステージ１８を１８０°回転させる（図７参照）。

図１４に示すように、透明ステージ１８の回転後にテストパターン形成制御部３９は、搬送制御部３７を介してステージ駆動機構１９を駆動して透明ステージ１８をＹ方向に移動させるとともに、ヘッド制御部３６を制御して選択ノズルＮから液滴を吐出させる。これにより、記録紙１３の記録面上でかつ第１次ストライプパターン４２の近傍に、複数の第２のラインパターン４４からなる第２次ストライプパターン４５が形成される（図８参照）。以上で、記録紙１３の記録面上にテストパターン２４が形成される。

図１５に示すように、搬送制御部３７は、テストパターン２４の形成後にステージ駆動機構１９を駆動して、テストパターン２４がパターン読取用カメラ２２に対向する位置にセットされるように透明ステージ１８をＹ方向に移動させる。この移動後に、ＣＰＵ３１からパターン読取用カメラ２２に対して撮像指令が出力される。この指令を受けてパターン読取用カメラ２２は、記録紙１３の記録面に形成されたテストパターン２４を撮像してパターン画像データ２９を生成し、このパターン画像データ２９をＤＣオフセット量算出部４０へ出力する。

ＤＣオフセット量算出部４０は、パターン読取用カメラ２２から入力されたパターン画像データ２９を解析して、両ストライプパターン４２，４５のパターン間隔Ｓを検出する（ステップＳ８、検出ステップ）。次いで、ＤＣオフセット量算出部４０は、パターン間隔Ｓに１／２を乗算してＤＣオフセット量εを算出する（ステップＳ９、算出ステップ）。また、第１次ストライプパターン４２に対する第２次ストライプパターン４５のずれ方向からＤＣオフセット方向が判別される。ＤＣオフセット方向の判別結果を含むＤＣオフセット量εは、ヘッドモジュール１２の識別情報ＩＤと関連付けた状態でＤＣオフセット量記憶部４７に記憶される（ステップＳ１０、記憶ステップ）。以上でヘッドモジュール１２のＤＣオフセット量εの検査が全て完了する。なお、他のヘッドモジュール１２の検査を行う場合には、上述の各処理が繰り返し実行される。

＜作用効果＞
このように本発明では、記録紙１３にそれぞれ第１次及び第２次ストライプパターン４２、４５を形成した後、そのパターン間隔Ｓを検出することで、ラインヘッド１４に取付前のヘッドモジュール１２のＤＣオフセット量εを算出することができる。これにより、図１６に示すように、ヘッドモジュール１２をラインヘッド１４に取り付ける（例えば接着固定）する際に、このヘッドモジュール１２をＤＣオフセット量ε分だけずらしてラインヘッド１４に取り付けることができる。その結果、図３に示したようにヘッドモジュール１２の繋ぎ部分での色ムラやすじムラの発生が防止される。また、ラインヘッド１４への取付後のヘッドモジュール１２の位置調整を行う必要が無くなる。

［第２実施形態のヘッドモジュール検査装置］
次に、図１７及び図１８を用いて本発明の第２実施形態の検査装置５０について説明を行う。上記第１実施形態では、記録紙１３を１８０°回転させる前後でそれぞれ第１次及び第２次ストライプパターン４２、４５を形成している。この際に、ヘッドモジュール１２のＤＣオフセット量εが非常に小さいと、両ストライプパターン４２、４５の干渉により、パターン間隔Ｓが小さくなり過ぎて計測不能になるおそれがある。

そこで、検査装置５０では記録紙１３を１８０°回転させた後（ステップＳ２）に、この記録紙１３をＸ方向に移動させる（ステップＳ２−１、移動ステップ）。なお、検査装置５０は、第１実施形態の検査装置１０と基本的には同じ構成であるので、上記第１実施形態と機能・構成上同一のものについては、同一符号を付してその説明は省略する。

第２実施形態のテストパターン形成制御部３９は、記録紙１３が１８０°回転された後、搬送制御部３７を介してステージ駆動機構１９を駆動して、透明ステージ１８をＸ方向に距離ｄだけ移動させる。この距離ｄの大きさは特に限定はされず、実験やシミュレーション等で最適な値を決定すればよい。

透明ステージ１８（記録紙１３）の移動方向は、パターン間隔Ｓが広くなる方向、すなわち、ＤＣオフセットの方向とは反対方向に設定される。このＤＣオフセットの方向を判別するためには、例えば、第１実施形態の同様の第１次及び第２次ストライプパターン４２，４５の形成と、テストパターン２４の読み取りとを予め実行する。これにより、パターン間隔Ｓが計測不能であっても、第１次ストライプパターン４２に対して第２次ストライプパターン４５が±Ｘ方向のいずれの方向にずれているかを判別して、この判別結果に基づいてＤＣオフセットの方向を判別することができる。

記録紙１３をＸ方向でかつＤＣオフセットの方向とは反対方向に距離ｄだけ移動させることにより、両ストライプパターン４２，４５のパターン間隔Ｓを２εから２ε＋ｄに広げることができる。ここで距離ｄの大きさは既知であるので、ＤＣオフセット量算出部４０は、パターン間隔Ｓ（＝２ε＋ｄ）からＤＣオフセット量εを算出することができる。

このように本発明の第２実施形態では、記録紙１３を１８０°回転させた後に、記録紙１３をＸ方向に移動させてパターン間隔Ｓを広げているので、ＤＣオフセット量εが非常に小さい場合でもパターン間隔Ｓを求めることができる。その結果、ＤＣオフセット量εを算出することができる。

なお、上記第２実施形態では、記録紙１３をＸ方向に移動させる前に予めＤＣオフセットの方向を判別しているが、例えば、記録紙１３を±Ｘ方向にそれぞれ移動させて第２次ストライプパターン４５の形成を２回行ってもよい。この場合に、第１次ストライプパターン４２と、２つの第２次ストライプパターン４５との間のパターン間隔Ｓがそれぞれ求められるが、パターン間隔Ｓの広い方がＳ＝２ε＋ｄを満たす。従って、間隔が広い方のパターン間隔Ｓに基づきＤＣオフセット量εを算出することができる。

また、上記第２実施形態では、記録紙１３をＸ方向に移動させているが、ヘッドモジュール１２をＸ方向（ＤＣオフセットの方向）に移動させることによりパターン間隔Ｓを広げてもよい。さらに、記録紙１３とヘッドモジュール１２とをそれぞれ±Ｘ方向に移動させてもよい。

［第３実施形態のヘッドモジュール検査装置］
次に、図１９を用いて本発明の第３実施形態の検査装置５５について説明を行う。上記各実施形態では、第１次及び第２次ストライプパターン４２，４５をそれぞれ同一の選択ノズルＮを用いて形成するが、検査装置５５では第１次及び第２次ストライプパターン４２ａ，４５ａ（図２２参照）をそれぞれ異なるノズルＮを用いて形成する。なお、検査装置５５は、第１実施形態の検査装置１０と基本的には同じ構成であるので、上記第１実施形態と機能・構成上同一のものについては同一符号を付してその説明は省略する。

検査装置５５では、全ノズルＮのうちでＸ方向の同一列内にピッチＰで配置されたノズルＮをＡ群選択ノズルＮ（Ａ）として選択し、このＡ群選択ノズルＮ（Ａ）により第１次ストライプパターン４２ａを形成する。また、検査装置５５では、全ノズルＮのうちでＡ群選択ノズルＮ（Ａ）と異なるＸ方向の列内で同一のピッチＰで配置されたノズルＮをＢ群選択ノズルＮ（Ｂ）として選択し、このＢ群選択ノズルＮ（Ｂ）により第２次ストライプパターン４５ａを形成する。なお、Ａ群選択ノズルＮ（Ａ）は本発明の第１の記録素子に相当し、Ｂ群選択ノズルＮ（Ｂ）は本発明の第２の記録素子に相当する。

Ａ群選択ノズルＮ（Ａ）の各ノズルＮと、Ｂ群選択ノズルＮ（Ｂ）の各ノズルＮとの間のＸ方向のノズル間隔（素子間隔）Ｗは既知であり、本実施形態ではＷ＝Ｐ／２となるようにＢ群選択ノズルＮ（Ｂ）が選択されている。なお、ノズル間隔Ｗは、Ｗ＝Ｐ／２に限定されるものではなく適宜変更可能である。

＜第３実施形態の検査装置の作用＞
図２０に示すフローチャートを用いて上記構成の検査装置５５の作用について説明を行う。なお、ステップＳ５及びステップＳ６は上記第１実施形態と同じであるので、ここでは説明を省略する。ステップＳ６の終了後に、テストパターン形成制御部３９はテストパターン形成処理を実行させる（ステップＳ７−１）。

図１９に示したように、テストパターン形成制御部３９は、搬送制御部３７を介してステージ駆動機構１９を駆動して透明ステージ１８をＹ方向に移動させるとともに、ヘッド制御部３６を制御してＡ群選択ノズルＮ（Ａ）から液滴を吐出させる。これにより、記録紙１３の記録面上に複数の第１のラインパターン４１からなる第１次ストライプパターン４２ａが形成される（ステップＳ１１、第１のラインパターン形成ステップ）。

次いで、図２１に示すように、テストパターン形成制御部３９は、搬送制御部３７を介してステージ駆動機構１９を駆動して、Ａ群選択ノズルＮ（Ａ）の１つを貫通する回転軸Ｃを中心として透明ステージ１８を１８０°回転させる（ステップＳ１２、回転ステップ）。これにより、記録紙１３が１８０°回転される。

図２２に示すように、記録紙１３の回転後にテストパターン形成制御部３９は、搬送制御部３７を介してステージ駆動機構１９を駆動して透明ステージ１８をＹ方向に移動させるとともに、ヘッド制御部３６を制御してＢ群選択ノズルＮ（Ｂ）から液滴を吐出させる。これにより、記録紙１３の記録面上でかつ第１次ストライプパターン４２ａの近傍に、複数の第２のラインパターン４４からなる第２次ストライプパターン４５ａが形成される（ステップＳ１３、第２のラインパターン形成ステップ）。以上で、記録紙１３の記録面上に第１次ストライプパターン４２ａと第２次ストライプパターン４５ａとを含むテストパターン２４ａが形成される。

以下、第１実施形態と同様に、パターン読取用カメラ２２によるテストパターン２４ａの撮像が行われてパターン画像データ２９が生成された後、ＤＣオフセット量算出部４０によるパターン画像データ２９の解析が行われる。

ＤＣオフセット量算出部４０は、パターン読取用カメラ２２から入力されたパターン画像データ２９を解析してＤＣオフセット量εを算出する。ここで、Ａ群選択ノズルＮ（Ａ）とＢ群選択ノズルＮ（Ｂ）との位置関係は固定であり、Ａ群選択ノズルＮ（Ａ）による第１次ストライプパターン４２ａの形成後に記録紙１３を１８０°回転させた状態でＢ群選択ノズルＮ（Ｂ）による第２次ストライプパターン４５ａの形成を行っている。このため、Ａ群選択ノズルＮ（Ａ）にＤＣオフセットが発生している場合には、例えば第１のラインパターン４１と、その両隣に位置する第２のラインパターン４４との間のパターン間隔Ｓのうちの一方がＷ（＝Ｐ／２）よりも２ε分だけ広がる。また、逆にパターン間隔Ｓの他方がＷ（＝Ｐ／２）よりも２ε分だけ狭くなる。

一方、図２３に示すように、Ａ群選択ノズルＮ（Ａ）にＤＣオフセットが発生していない場合には、第１のラインパターン４１と、その両隣に位置する第２のラインパターン４４との間のパターン間隔Ｓが共に「Ｓ＝Ｗ＝Ｐ／２」となる。

図２０及び図２２に戻って、ＤＣオフセット量算出部４０は、パターン画像データ２９を解析して、個々の第１のラインパターン４１と、その両隣に位置する第２のラインパターン４４との間のパターン間隔Ｓをそれぞれ検出する（ステップＳ８）。なお、個々の第２のラインパターン４４と、その両隣に位置する第１のラインパターン４１との間のパターン間隔Ｓをそれぞれ検出してもよい。

この際に、ＤＣオフセット量算出部４０が検出したパターン間隔Ｓのうち間隔が広い方のパターン間隔Ｓは、前述したように「Ｓ＝２ε＋Ｗ＝２ε＋Ｐ／２」（以下式（１）という）を満たす。このため、ＤＣオフセット量算出部４０は、先に検出した「Ｓ」（例えば複数のパターン間隔Ｓの代表値（平均値等））と、既知の「Ｗ＝Ｐ／２」を式（１）に代入することにより、ＤＣオフセット量εを算出する（ステップＳ９）。また、第１次ストライプパターン４２ａに対する第２次ストライプパターン４５のずれ方向からＤＣオフセット方向が判別される。

なお、Ｂ群選択ノズルＮ（Ｂ）のＤＣオフセット量εについても同様にして求められるので、以下同様にして複数群の選択ノズルのＤＣオフセット量εを求めることにより、例えば各ＤＣオフセット量εの代表値（平均値等）をヘッドモジュール１２のＤＣオフセット量εとして算出してもよい。ＤＣオフセット方向の判別結果を含むＤＣオフセット量εは、識別情報ＩＤと関連付けた状態でＤＣオフセット量記憶部４７に記憶される（ステップＳ１０）。

このように第３実施形態では、Ａ群選択ノズルＮ（Ａ）と同一ピッチでかつノズル間隔Ｗが既知のＢ群選択ノズルＮ（Ｂ）により形成された第２次ストライプパターン４５ａ（第２のラインパターン４４）を用いることで、上記各実施形態と同様にＤＣオフセット量εを算出することができる。特に第１次及び第２次ストライプパターン４２ａ，４５ａをそれぞれ異なるノズルＮを用いて形成するので、ＤＣオフセット量εが非常に小さい場合でもあっても第２実施形態のように記録紙１３（またはヘッドモジュール１２）をＸ方向に移動させることなく、ＤＣオフセット量εを算出することができる。

［その他］
上記第１実施形態では、図７及び図８に示したように、第１次ストライプパターン４２が形成された記録紙１３を１８０°回転させた後に第２次ストライプパターン４５の形成を行っている。これに対して図２４に示すように、第１次ストライプパターン４２の形成後に選択ノズルＮの１つを貫通する回転軸Ｃを中心としてヘッドモジュール１２を１８０°回転させた後、このヘッドモジュール１２の選択ノズルＮにより第２次ストライプパターン４５を形成してもよい。この場合も第１実施形態と同様に、第１次及び第２次ストライプパターン４２，４５のパターン間隔ＳからＤＣオフセット量εを算出することができる。なお、上記第２及び第３実施形態についても同様に記録紙１３の代わりにヘッドモジュール１２を１８０°回転させてもよい。

上記各実施形態では、ヘッドモジュール１２の全体のＤＣオフセット量を求めているが、ヘッドモジュール１２の一部の領域（例えば、中央部、端部）のＤＣオフセット量εや、複数領域のそれぞれのＤＣオフセット量εについても同様にして求めることができる。この場合には、ＤＣオフセット量εを求める領域内の選択ノズルＮを貫通する回転軸Ｃを中心として記録紙１３またはヘッドモジュール１２を１８０°回転させた後に、第２次ストライプパターン４５、４５ａを形成する。これにより、上記領域におけるＤＣオフセット量εを高精度に求めることができる。

なお、この際には、ＤＣオフセット量εを求める領域のＸ方向の中心（ほぼ中心を含む）に位置する選択ノズルＮを貫通する軸を、回転軸Ｃとして設定することが好ましい。また、ヘッドモジュール１２の全体のＤＣオフセット量を求める際には、ヘッドモジュール１２のＸ方向の中心（ほぼ中心を含む）に位置する選択ノズルＮを貫通する軸を、回転軸Ｃとして設定することが好ましい。これにより、第１次及び第２次ストライプパターン４２，４５のパターン間隔Ｓが大きくなり過ぎることが防止される。

上記各実施形態では、本発明の第１の方向に相当するＹ方向、及び第２の方向に相当するＸ方向としてそれぞれ副走査方向、主走査方向を例に挙げて説明を行ったが、これらの方向は適宜設定してもよい。

上記各実施形態では、ＰＣ２３を用いてＤＣオフセット量εの算出を行っているが、ＰＣ以外の各種演算装置を用いてＤＣオフセット量εの算出を行ってもよい。

上記各実施形態では、グラフィック印刷用のインクジェット装置のラインヘッド（記録ヘッド）に取り付けられるヘッドモジュールのＤＣオフセットの検査への適用を例に説明したが、本発明の適用範囲はこの例に限定されない。例えば、電子回路の配線パターンを描画する配線描画装置、各種デバイスの製造装置、吐出用の機能性液体として樹脂液を用いるレジスト印刷装置、カラーフィルター製造装置、マテリアルデポジション用の材料を用いて微細構造物を形成する微細構造物形成装置など、液状機能性材料を用いて様々な形状やパターンを描画するインクジェット装置のラインヘッドに取り付けられるヘッドモジュールのＤＣオフセットの検査にも本発明を適用することができる。

上記各実施形態では、本発明の記録素子としてノズルＮを例に説明したが、サーマル素子、ＬＥＤ素子等の各種の記録素子を有するヘッドモジュールのＤＣオフセットの検査に本発明を適用することができる。

１０…ヘッドモジュール検査装置，１２…ヘッドモジュール，１８…透明ステージ，１９…ステージ駆動機構，２２…パターン読取用カメラ，２４…テストパターン，３６…ヘッド制御部，３７…搬送制御部，３９…テストパターン形成制御部，４０…ＤＣオフセット量算出部，４１…第１のラインパターン，４２…第１次ストライプパターン，４４…第２のラインパターン，４５…第２次ストライプパターン

Claims (10)

1. 記録素子が複数配列されたヘッドモジュールと、記録媒体とを第１の方向に相対移動させながら前記ヘッドモジュールにより前記記録媒体に第１のラインパターンを形成する第１のラインパターン形成ステップと、
   前記第１のラインパターン形成ステップ後に、前記ヘッドモジュール及び前記記録媒体のいずれか一方を、当該記録媒体の記録面に対して垂直な回転軸を中心として１８０°回転させる回転ステップと、
   前記回転ステップ後に、前記ヘッドモジュールと前記記録媒体とを前記第１の方向に相対移動させながら前記ヘッドモジュールにより前記記録媒体に第２のラインパターンを形成する第２のラインパターン形成ステップと、
   前記記録媒体に形成された前記第１のラインパターンと前記第２のラインパターンとの間のパターン間隔を検出する検出ステップと、
   前記検出ステップの検出結果に基づき、前記ヘッドモジュールにおける複数の前記記録素子の位置に対する、複数の前記記録素子による前記記録媒体上の記録位置の前記第１の方向に対して垂直な第２の方向のずれ量を算出する算出ステップと、
   を有するヘッドモジュールの検査方法。
2. 前記回転軸は、前記記録素子の中心を貫通する軸である請求項１記載のヘッドモジュールの検査方法。
3. 前記第２のラインパターン形成ステップでは、前記第１のラインパターンの形成に用いた前記記録素子と同じ記録素子を用いて前記第２のラインパターンを形成する請求項１または２記載のヘッドモジュールの検査方法。
4. 前記第１のラインパターン形成ステップでは、前記第２の方向に一定ピッチで配置された前記記録素子により前記第１のラインパターンを形成し、
   前記回転ステップでは、前記第１のラインパターンの形成に用いられた前記記録素子のいずれかの中心を貫通する軸を前記回転軸とし、
   前記算出ステップは、前記検出ステップで検出された前記パターン間隔に１／２を乗算して得た値を前記ずれ量とする請求項３記載のヘッドモジュールの検査方法。
5. 前記第１のラインパターン形成ステップでは、前記第２の方向に一定ピッチで配置された第１の記録素子により前記第１のラインパターンを形成し、
   前記第２のラインパターン形成ステップでは、前記第１の記録素子とは異なる第２の記録素子であって、前記第２の方向に前記第１の記録素子と同一ピッチで配置されており、かつ前記第１の記録素子との間の前記第２の方向の素子間隔が既知である第２の記録素子により前記第２のラインパターンを形成し、
   前記算出ステップでは、前記検出ステップの検出結果と、前記素子間隔とに基づいて前記ずれ量を算出する請求項１または２記載のヘッドモジュールの検査方法。
6. 前記回転ステップでは、前記第１の記録素子のいずれかの中心を貫通する軸を前記回転軸とし、
   前記第１のラインパターンと前記第２のラインパターンとは前記第２の方向に交互に形成されており、
   前記ずれ量をεとし、前記素子間隔をＷとし、前記第１及び第２のラインパターンの一方とその両隣に位置する他方との間のパターン間隔のうち間隔が広い方をＳとしたときに、前記ε、Ｗ、Ｓは式Ｓ＝２ε＋Ｗを満たし、
   前記算出ステップでは、前記式に前記Ｗ、Ｓを代入して前記εを算出する請求項５記載のヘッドモジュールの検査方法。
7. 前記回転ステップと前記第２のラインパターン形成ステップとの間に、前記ヘッドモジュール及び前記記録媒体のいずれか一方を前記第２の方向に移動させる移動ステップを有する請求項１から６のいずれか１項記載のヘッドモジュールの検査方法。
8. 前記算出ステップ後に、前記ずれ量の算出結果を、前記ヘッドモジュールを識別可能な状態で記憶部に記憶させる記憶ステップを有する請求項１から７のいずれか１項記載のヘッドモジュールの検査方法。
9. 前記記録素子は、液滴の吐出を行うノズルである請求項１から８のいずれか１項記載のヘッドモジュールの検査方法。
10. 記録素子が複数配列されたヘッドモジュールと、記録媒体とを第１の方向に相対移動させる相対移動手段と、
    前記相対移動手段を制御して前記ヘッドモジュールと前記記録媒体とを前記第１の方向に相対移動させながら、前記ヘッドモジュールを制御して前記記録媒体に第１のラインパターンを形成させる第１の記録制御手段と、
    前記第１のラインパターンの形成後に、前記ヘッドモジュール及び前記記録媒体のいずれか一方を、当該記録媒体の記録面に対して垂直な回転軸を中心として１８０°回転させる回転手段と、
    前記一方が１８０°回転された後に、前記相対移動手段を制御して前記ヘッドモジュールと前記記録媒体とを前記第１の方向に相対移動させながら、前記ヘッドモジュールを制御して前記記録媒体に第２のラインパターンを形成させる第２の記録制御手段と、
    前記記録媒体に形成された前記第１のラインパターンと前記第２のラインパターンとの間のパターン間隔を検出する検出手段と、
    前記検出手段の検出結果に基づき、前記ヘッドモジュールにおける複数の前記記録素子の位置に対する、複数の前記記録素子による前記記録媒体上の記録位置の前記第１の方向に対して垂直な第２の方向のずれ量を算出する算出手段と、
    を備えるヘッドモジュールの検査装置。

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